离子溅射碳蒸发一体化镀膜仪

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离子溅射碳蒸发一体化镀膜仪相关的厂商

  • 400-860-5168转3241
    载德半导体技术有限公司是专业的半导体及微电子领域仪器设备供应商,载德所代理的仪器设备广泛用于高校、研究所、半导体高新企业。载德半导体技术有限公司目前代理的主要产品包括: - 霍尔效应测试仪(Hall Effect Measurement System); - 快速退火炉(RTP); - 回流焊炉,真空烧结炉(Reflow Solder System); - 探针台(Probe Station),低温探针台(Cryogenic Probe Station); - 贴片机(Die Bonder),划片机(Scriber),球焊机/锲焊机(Wire Bonder); - 原子层沉积系统(ALD),等离子增强原子层沉积设备(PEALD); - 磁控溅射镀膜机(Sputter),电子束蒸发镀膜机(E-beam Evaporator),热蒸发镀膜机(Thermal Evaporator),脉冲激光沉积系统(PLD) - 低压化学气相沉积系统(LPCVD),等离子增强化学气相沉积系统(PECVD),快速热化学气相沉积系统(RTCVD); - 反应离子刻蚀机(RIE),ICP刻蚀机,等离子体刻蚀机; - 加热台、热板、烤胶台 (Hot Chuck / Hot Plate); - 扫描开尔文探针系统(Kelvin Probe),光反射膜厚仪(Reflectometer); 等等...
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  • 郑州成越科学仪器有限公司位于郑州高新技术开发区艺达科技新城,是一家专业从事材料制备设备和材料制备原料代理的高科技公司。重点专注于磁控溅射镀膜系统、热蒸发镀膜,高速旋涂机、静电纺丝机、等离子清洗机、等离子镀膜机、CVD石墨烯制备设备、氧化锆生物陶瓷烧结、纳米材料制备、电池材料制备、陶瓷材料的微波烧结、稀有金属的区域提纯等研究发展方向,立志做先进材料制备技术及设备和原料的提供商。 郑州成越科学仪器有限公司的“研发团队”凭借自身在热处理技术方面的专业知识和丰富的实践经验,先后研发出了多款先进材料制备设备。主要产品有:磁控溅射镀膜系统、热蒸发镀膜,高速旋涂机、静电纺丝机、等离子清洗机、等离子镀膜机、微波烧结炉、真空管式炉、箱式电阻炉、高频感应炉、氧化锆烧结炉、荧光粉烧结炉、晶体退火炉、电池材料烧结炉、旋转管式炉、立式管式炉、CVD管式炉等;其他的产品还有:等离子清洗机、真空手套箱、真空干燥箱、环境模拟测试柜、行星球磨机、高纯石英管、99刚玉管、真空法兰等。 郑州成越科学仪器有限公司 近年来,在社会各界的关心支持下,公司不断发展壮大,与国内外多所高校和科研单位建立起了合作关系;公司还聘请了多位国内外重点高校的教授,博导为公司常年的技术顾问,他们时刻与国内外学术界保持交流,出国访问,并亲临一线指导产品的生产和研发,使我公司的产品不断完善,并紧跟世界研究热点,推出相关的新产品。产品远销欧美、日韩等国家,并在国内外市场获得业界一致好评。 如果您正在被国货的产品质量所困扰,选择我们将改变您对国货的某些观念;如果您正在为自己的实验方案的实施而茫然,选择我们将有专业的技术团队为您量身定做!如果您正在为故障设备的售后无人理会而发愁,选择我们一切的问题将由我们负责到底。 欢迎来到成越科学仪器,我们有国内最敬业的工程师团队竭诚为您服务!
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  • 400-860-5168转0805
    北京博远微纳科技有限公司(Vision Precision Instruments)又名北京意力博通技术发展有限公司 创立于2002年,是中国区第一家专注于研发、生产、销售溅射仪及扫描电镜的高新技术企业。公司集溅射仪,镀膜仪,扫描电镜,维护改造四位一体,拥有一支专业的工程师团队,并将溅射仪、镀膜仪系列产品的质量和性能提高到国际一流的水准。秉着为客户创造价值为核心理念,把客户的需求作为我们研发的起点。在过去的10多年间,博远微纳单在中国区已销售、服务超过1000位商业客户,累积销售近千台溅射仪、镀膜仪和扫描电镜等配套服务。 自主开发或合作开发的产品有: 1、小型离子溅射仪(喷金仪) 2、热蒸发镀膜机 3、扫描电子显微镜图像系统改造 4、扫描电声显微镜 5、溅射蒸碳仪 主要提供以下服务: 生产研发溅射仪,蒸碳仪。 维修或改造所有类型任何品牌的扫描电子显微镜(SEM)、数字图像和Si(Li)探测器。提供国产化能谱仪及改造X射线能谱仪等。
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离子溅射碳蒸发一体化镀膜仪相关的仪器

  • 瑞士Safematic CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪紧凑型、模块化和智能化CCU-010为一款结构紧凑、全自动型的离子溅射和/或蒸发镀碳设备,使用非常简便。采用独特的插入式设计,通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后,可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。特点和优点✬ 高性能离子溅射、蒸发镀碳和等离子处理✬ 专有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜,无需用户干预✬ 独特的即插即用溅射和蒸碳镀膜模块✬ 一流的真空性能和快速抽真空✬ 结构紧凑、可靠且易于维修✬ 双位置膜厚监控装置,可兼容不同尺寸的样品✬ 主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间巧妙的真空设计CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪专为SEM和EDX的常规高质量溅射镀膜和镀碳而设计。模块化的设计可将低真空单元后续很轻松地升级为高真空单元。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。SP-010 & SP-011溅射模块两种溅射模块一旦插入CCU-010 LV镀膜主体单元,即可使用。SP-010和SP-011溅射模块具有有效的主动冷却功能,连续喷涂时间长,非常适合需要较厚膜的应用。 可选多种溅射靶材,适合SEM等导电薄膜应用。SP-010溅射装置的磁控组件旨在优化靶材使用。这使其成为电子显微镜中精细颗粒贵金属镀膜的理想工具。对于极细颗粒尺寸镀膜,推荐使用涡轮泵抽真空的CCU-010 HV版本。SP-011溅射装置的磁控组件用于大功率溅射和宽范围材料的镀膜。对那些比常规EM应用要求镀膜速率更高、膜层要求更厚的薄膜应用时,推荐使用该溅射头。CT-010碳蒸发模块紧凑的插入式碳蒸发模块为镀碳树立了新标杆。将该头插入CCU-010 LV镀膜主体后,即可立即使用,适合SEM等需要高质量碳膜应用的场合。CT-010使用欧洲专有的、独特且技术领先的碳绳供给系统,可以进行多达数十次涂层的镀膜,而无需更换碳源。除了易于使用外,自动供给系统还允许在一个镀膜循环内可控地沉积几乎任何厚度的碳膜。易于选择的镀膜模式可保障镀膜安全,从对温度敏感的样品进行温和的蒸镀薄膜到中厚膜层的高功率闪蒸镀碳。整合脉冲蒸发、自动启动挡板后除气及膜厚监控的智能电源控制提供了精确的膜层厚度,并可避免火花引起的表面不均匀。GD-010辉光放电模块可选的GD-010辉光放电系统可快速安装,通过空气、氩气或其它专用气体进行表面处理,例如,使碳膜亲水。本机可按顺序进行碳镀膜和辉光放电处理,无需破真空或更换处理头,极大地简化了操作过程。本单元安装到CT-010,与所有样品台兼容。HS-010真空储存箱HS-010真空储存箱可在真空条件下存放备用镀膜头、备用行星台或旋转台、所有溅射靶材和碳附件,使它们处于清洁状态。通过集成的真空管路与镀膜主体单元连接,利用CCU-010抽真空系统对储物箱抽真空。可选地,用户也可用外接真空泵替代。舒适的手动锁定装置和放气阀允许对储物箱进行独立的抽真空和放气控制。额外的标准真空腔室可有效地避免蒸碳和溅射金属之间的交叉污染。ET-010等离子刻蚀单元在对样品进行镀膜之前或镀膜之后,可以对样品进行等离子刻蚀处理。使用该附件,可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜前清洁样品,增加薄膜的附着力。也可在样品镀碳后进行等离子处理,从而对碳膜表面进行改性。Coating-LAB软件使用基于PC的Coating-LAB软件,可查看包括图表信息在内的处理数据。数据包括压力、电流、电压、镀膜速率和膜厚,镀膜速率为实时曲线。便捷的软件升级和参数设置让此智能工具更为完美。RC-010手套箱应用的远程控制软件◎基于window的远程控制软件◎创建和调用配方◎实时图表,包含导出功能(Excel、png等)◎自动连接到设备可选多种样品台CCU-010提供一个直径不小于60mm的样品台,该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它专用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。CCU-010 LV普通真空镀膜仪版本作为真空镀膜系统的基础单元,专为 SEM 和 EDX 的常规高质量溅射和/或碳镀膜而设计。客户可选择:CCU-010 LV磁控离子溅射镀膜仪;CCU-010 LV热蒸发镀碳仪;CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪;CCU-010 LV手套箱专用镀膜仪
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  • 等离子溅射和蒸发二合一镀膜仪配备了直流溅射靶和热蒸发组件,不但可以用于等离子溅射方式镀金属膜,也可以用蒸发的方式得到碳或者其他金属单质的薄膜。仪器元件高度集成化,在同一个腔体内即实现了两种镀膜功能;本镀膜仪采用304不锈钢腔体作真空腔体,镀膜过程完全可见。仪器标配双极旋片真空泵,能够快速达到1.0E-3Pa的真空度,极限真空度1.0E-5Pa,可满足大多数蒸发镀膜实验和二极溅射实验所需的真空环境。本仪器体积小,节省空间,能够置于试验台上使用,一机多用,性价比突出,非常适合各大高校及研究机构选用。离子溅射和蒸发二合一镀膜仪适用范围:扫描电镜样品表面喷金、蒸金喷碳等操作,以及非导体材料试验电极的制作等。 离子溅射和蒸发二合一镀膜仪技术参数:供电电压AC220V,60Hz最大功率1200W样品台直径φ65mm;与蒸发源间距可调,调节范围60mm-100mm真空腔体材质:304不锈钢 O.Dφ168mm x I.Dφ160mm x 210mm最高温度1700℃热电偶B型热电偶真空计电子式真空计真空系统前级泵:浦发MVP030 无油泵 抽速30L/min次级泵:莱宝TURBOVAC 90iX 抽速90L/s真空接口KF40进气接口1/4卡套接头整机尺寸500x350x400mm
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  • n产品简介 HEX型PVD镀膜系统采用模块化的设计理念,一套系统可同时进行磁控溅射镀膜,热蒸发镀膜及电子束蒸发镀膜,并且可以兼容手套箱使用,特别适用于科研客户高质量镀膜应用。 n产品特性:- 模块化设计,可根据用户应用需求更换,真空腔体也可以模块化组合- 兼容磁控溅射,电子束蒸发,热蒸发多种沉积技术- 适用于科研用户- 可与手套箱集成- 占地面积小n主要指标:- 模块化设计,由快速可拆换的六块独立板面形成真空腔室 (盲板、可视窗口、溅射源窗口、QCM窗口)- 四种溅射源:磁控溅射;电子束蒸发源 、热蒸发、有机物蒸发源- 抽真空速度快 (20分钟内达到 5*10-6Torr)- 适用于6英寸及以下尺寸样品- 多种工作台可选,可选配 2-20 rpm旋转台、500℃加热台,水冷台、直流偏压等- 可集成膜厚测量功能,- 兼容手套箱系统- 可配备快速进样腔(选配)- 可配备原位监测选件:热成像,原位等离子体谱,石英晶振- 系统占地空间小,约1m2n主要应用- 化学催化- 电极薄膜制备- 金属半导体薄膜制备- 磁性薄膜制备- 微纳米器件- 光学器件PVD热源简介(1)FISSION磁控溅射源- 靶材尺寸:50mm(2”)- 最大靶材膜厚:6mm(1mm厚强磁体)- 直流电源:780W(600V,1.3A)- 射频电源:300W(13.56MHz)- 气体补偿:通过内置气罩- 冷却:水冷(最小0.5L/min)(2)TAU电子束蒸发器- 工艺腔热源数:4个- 工艺腔单个热源最大功率:250W- 蒸发材料:圆棒(最大直径4mm)或置于坩埚中- 是否支持同时蒸镀:支持- 冷却:水冷(最小0.5L/min)(3)ORCA有机材料沉积源- 坩埚容积:15cc- 温度范围:50-600℃- 热电偶:K型- 电源:直流- 冷却:水冷(最小0.5L/min)(4)TES舟型热蒸发源- 舟型载体容积:1cc-5cc- 温度范围:50℃-2200℃- 电源:直流(1.2kW)
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离子溅射碳蒸发一体化镀膜仪相关的资讯

  • 灵活多变的溅射、蒸发一体化台式设备——nanoPVD ST15A
    近年来,随着量子材料研究的兴起对薄膜制备方法的需求更加的多样化,而传统的薄膜制备设备往往只有一种薄膜制备功能,制备一个样品就需要先后在不同的设备中进行操作,并且容易对样品的性质造成破坏,也需要更多的科研经费投入。英国Moorfield Nanotechnology公司立足于多种成熟的薄膜制备设备,并长期收集用户的需求并对产品线进行不断的优化丰富,以满足各种个性化的实验需求。针对目前日趋多样化的需求,Moorfield Nanotechnology公司全新推出了台式高精度溅射与热蒸发系统——nanoPVD ST15A。该系统可以集成金属/绝缘体溅射、金属热蒸发、有机物蒸发功能,在同一台设备中可以实现多种制备手段的组合,将薄膜制备带入了新的高度。有别于传统台式系统仅用于制备电极等简单用途,nanoPVD ST15A系统是真正的学术研究级设备,可以制备多种高质量的薄膜样品。体统通过7英寸触摸屏控制,自动化程度高,各种制备方式可以自由切换。用户可以通过灵活的制备手段在在同一台设备中制备不同的薄膜或者是复合薄膜。nanoPVD ST15A外观图设备技术特点☛ 台式设备配置灵活☛ 磁控溅射、热蒸发、有机物蒸发☛ 三种制备手段可灵活组合☛ 可制备金属、有机物、电介质薄膜☛ 多达3个流量计控制过程气体☛ 高精度自动气压控制选件☛ 全自动触屏操作系统☛ 基片大至4英寸☛ 可选基片加热☛ 本底真空左:nanoPVD ST15A 双蒸发源与磁控溅射组合,右:系统的样品台与挡板 背景介绍Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司,成立25年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术,拥有雄厚的技术实力,推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。Moorfield公司近十年来与曼彻斯特大学诺奖技术团队紧密合作,推出的台式高精度薄膜制备与加工系列产品由于其体积小巧、性能优异、易于操作更是受到很多科研单位的赞誉。这些设备已经进入了欧洲多所科研院所的实验室,诸如曼彻斯特大学、剑桥大学、帝国理工学院、诺森比亚大学、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学、西班牙光子科学研究所、英国国家物理实验室等单位都是Moorfield Nanotechnology的用户和长期合作者。诸多的用户与合作者让产品的性能和设计理念得到了高速发展,并迈入全球化的进程。Quantum Design中国子公司与Moorfield Nanotechnology正式合作,作为中国的代理和战略合作伙伴,为中国用户提供高性能的设备与优质的服务。除了台式设备之外我们还提供多种大型设备和定制服务。目前国内已有包括清华大学、西湖大学、大连理工大学、广东工业大学、中科院等多个单位采购了不同型号的Moorfield高性能薄膜制备与加工设备。
  • 260万!东南大学计划采购磁控溅射镀膜仪
    一、项目基本情况项目编号:0664-2260SUMEC787D项目名称:东南大学微纳系统国际创新中心磁控溅射镀膜仪采购预算金额:260.0000000 万元(人民币)最高限价(如有):260.0000000 万元(人民币)采购需求:东南大学微纳系统国际创新中心采购磁控溅射镀膜仪 一套本项目接受进口产品。合同履行期限:合同签约后12个月到货安装调试合格。本项目( 不接受 )联合体投标。二、申请人的资格要求:1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定;2.落实政府采购政策需满足的资格要求:本项目若符合扶持福利企业、促进残疾人就业、支持中小微企业、支持监狱和戒毒企业等政策, 将落实相关政策。3.本项目的特定资格要求:(1)供应商必须是所投产品的制造商或代理商,若投标人不是投标产品制造商的,投标人必须具有下列授权文件之一(本条只适用于进口产品):a.供应商必须提供制造商出具的授权函正本; b.制造商的国内全资子公司出具的授权函正本; c.制造商对授权的区域代理商出具的授权函复印件及该区域代理商出具的授权函正本; d.投标人取得的产品代理证书复印件(正本备查)。4.拒绝下述供应商参加本次采购活动:(1)供应商单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商,不得参加同一合同项下的政府采购活动。(2)凡为采购项目提供整体设计、规范编制或者项目管理、监理、检测等服务的供应商,不得再参加本项目的采购活动。(3)供应商被“信用中国”网站(www.creditchina.gov.cn)、“中国政府采购网"(www.ccgp.gov.cn)列入失信被执行人、税收违法黑名单、政府采购严重违法失信行为记录名单。三、获取招标文件时间:2023年01月05日 至 2023年01月11日,每天上午9:00至11:00,下午14:00至17:00。(北京时间,法定节假日除外)地点:线上方式:在线获取售价:¥600.0 元,本公告包含的招标文件售价总和四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点提交投标文件截止时间:2023年01月29日 09点30分(北京时间)开标时间:2023年01月29日 09点30分(北京时间)地点:南京市长江路198号苏美达大厦辅楼303会议室,五、公告期限自本公告发布之日起5个工作日。六、其他补充事宜申请人的资格要求:1、满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定:(1)具有独立承担民事责任的能力(提供法人或者其他组织的营业执照,自然人的身份证明);(2)具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度(提供参加本次政府采购活动前半年内(至少一个月)的会计报表或者上一年度的财务审计报告,成立不足一年的提供开标前六个月内的银行资信证明原件。);(3)具有履行合同所必需的设备和专业技术能力(根据项目需求提供履行合同所必需的设备和专业技术能力的证明材料); (4)有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录(提供参加本次政府采购活动前半年内(至少一个月)依法缴纳税收和社会保障资金的相关材料);(5)参加政府采购活动前三年内,在经营活动中没有重大违法记录(提供参加本次政府采购活动前3年内在经营活动中没有重大违法记录的书面声明)(格式见后附件)。(6)法律、行政法规规定的其他条件。2、凭以下材料获取:(1)获取采购文件材料:1、营业执照【复印件加盖公章,扫描件】2、介绍信或者法定代表人授权书【原件加盖公章,扫描件,开具日期不得早于公告日期】3、委托代理人身份证【复印件加盖公章,扫描件】4、采购文件获取登记表word版【详见招标公告附件】(2)凡有意参加本次采购活动的供应商必须提供第(1)条规定证件登记并获取,不按规定获取的视为获取失败。3、我司提供了在线获取采购文件服务,操作流程如下:(1)、用微信关注我司公众号“苏美达达天下”。(2)、进入公众号-“在线服务”-“在线购标”。(3)、输入本项目的项目编号,举例:0664-2260SUMEC787D,点击查询。添加您所要获取的采购文件到购物车,输入投标单位名称、领购人信息以及发票信息,提交订单并确认微信支付,支付完成后将报名材料扫描件和登记表word版一并发至采购代理机构联系人:焦立阳,邮箱:jiaoly_work@163.com 即可,我们将会把采购文件电子版发送到领购人的邮箱。注意事项:(1)确保领购人邮箱真实准确无误,电子版采购文件将发送到此邮箱。(2)目前标书费发票支持开标现场领取或者顺丰到付。(3)“苏美达达天下”付款平台填写的投标单位名称必须与开票信息一致。如不一致投标人自行承担后果。请认真填写领购人信息及发票信息。(4)非采购代理机构或平台公司原因,发票一经开具不予退换。4、疫情防控期间注意事项(本项目采取在线流程):在线流程:因疫情原因,本项目进行线上开标,请供应商尽量提前准备投标文件,以便及时送达代理机构指定的地点。供应商按照不见面开标通知(附件1)的要求参加开标会议。如因投标文件未及时送至代理机构造成的后果由供应商自负。七、对本次招标提出询问,请按以下方式联系。1.采购人信息名称:东南大学地址:南京市玄武区四牌楼2号联系方式:技术咨询:微纳系统国际创新中心:贺老师 电话:025-83792632 分机号8806; 实验室与设备管理处:刘加彬 电话:025-83792693。2.采购代理机构信息名称:苏美达国际技术贸易有限公司地址:南京市长江路198号苏美达大厦联系方式:项目联系人:杨 扬、焦立阳 电话:025-84532455、025-845324523.项目联系方式项目联系人:杨 扬、焦立阳电话:025-84532455、025-84532452
  • 欧波同第三方检测|氩离子抛光技术在镀膜样品中的应用
    氩离子抛光技术是对样品表面或者截面进行抛光,得到表面光滑无损伤的样品,能够观察到样品内部真实结构。Gatan公司生产的精密刻蚀镀膜系统——PECS II 685(图1),是集抛光和镀膜于一体的氩离子抛光设备,它采用两个宽束氩离子束对样品表面进行抛光。685可以做普通的抛光方法无法解决的问题:a.氩气的工作氛围,可以有效保护容易氧化或者对水蒸气特别敏感的材料;b.样品台采用液氮制冷方式,可以有效的保护热敏感的样品,避免离子束热损伤;c.685自带的精确到纳米级别的镀膜功能,可以有效解决容易氧化且导电性特别不好材料的SEM/EDS/EBSD等的分析。下面我们通过两个案例来说明为什么氩离子抛光技术在镀膜领域的应用是无可替代的。图1 精密刻蚀镀膜系统PECS II 685 例1:光伏作为我国战略性新型产业,其发展牵动着我国的方方面面。光伏玻璃为目前光伏产业链上电池组件封装环节使用的必须辅助材料之一,整个光伏玻璃的发展与光伏产业的发展密切相关。所谓光伏玻璃是指在超白压延玻璃上镀一层减少反射的材料即减反膜,作用是减少或者消除透镜、棱镜、平面镜等光学表面的反射光,增加这些原件的透光量。因此对减反膜的研究显得尤为重要。图2是观察某公司生产的光伏玻璃上减反膜的厚度。图2(a)显示普通制样无法准确观察到减反膜厚度,而利用精密刻蚀镀膜系统PECS II 685制备的样品不仅可以准确测量膜的厚度还可以观察到其真实形貌:这是一种厚度约180 nm的具有多孔结构的膜,见图2(b)。 图2 普通制样及氩离子抛光制样观察减反膜(a普通制样;b PECS II 685制样)例2:以聚碳酸酯为基底,在上面包覆TiO2/SiO2交替膜共8层,每层膜厚度只有50 nm左右,普通制样根本无法观察到膜结构,更无法观察8层交替膜。我们同样使用PECS II 685进行制样,由于样品不导电且容易被氩离子束打伤,故同时利用PECS II 685的冷台、刻蚀、镀膜功能,在同一真空环境下对样品进行抛光和镀膜,利用蔡司的Sigma 300场发射扫描电镜清晰观察到8层TiO2/SiO2交替膜,见图3。 图3 PECS II 685制备TiO2/SiO2交替膜

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  • 智能一体化蒸馏仪有哪些用途

    智能一体化蒸馏仪有哪些用途

    [size=16px]  智能一体化蒸馏仪有哪些用途  智能一体化蒸馏仪有多种用途,可以用于制药、化工、石油、精细化工等领域。  可以分离液体混合物:智能一体化蒸馏仪是一种分离纯化设备,通过控制温度和压力,在不同沸点的组分之间实现分离。  可以提纯化合物:通过加热混合物并收集其蒸发和重新凝结的组分,可以去除杂质,得到较纯的化合物。  可以浓缩溶液:蒸馏过程中,蒸发的液体可以通过冷凝再回流至试剂瓶中,用于浓缩溶液,增加其浓度。  适用于实验室规模的生产:通常设计用于实验室规模的生产,可以处理适量的样品,并在实验室环境中进行操作和控制。  广泛应用于研究和开发领域:用于合成新化合物、研究溶剂系统、分析反应产物等。它提供了对混合物的分离和纯化的手段,有助于实验室中的科学实验和创新工作。  总之,智能一体化蒸馏仪是一种自动化的分离纯化设备,具有广泛的应用前景。[img=,690,690]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/11/202311061008019663_9219_6098850_3.jpg!w690x690.jpg[/img][/size]

  • 智能一体化蒸馏仪的主要组成部件和应用场景

    智能一体化蒸馏仪是一种集蒸馏、冷凝、分离和收集于一体的高效实验仪器。利用蒸馏原理,通过加热液体样品,使其蒸发,然后冷凝收集蒸馏出的纯净物质。主要基于蒸馏原理进行工作。液体样品经过加热,其中挥发性成分蒸发,形成气体,然后通过冷凝器冷凝为液体,最后被收集。这样就实现了对样品中纯净成分的分离和提取。 智能一体化蒸馏仪主要组成部件:      1.加热装置:用于加热液体样品,使其蒸发。通常采用电炉、加热板等。      2.冷凝器:用于将蒸发的气体冷却成液体。冷凝器通常采用冷却水循环系统,通过冷却水对气体进行冷却。      3.收集装置:用于收集冷凝后的液体。收集装置通常包括收集瓶、收集管等,可以根据需要进行选择和更换。      4.控制系统:用于控制仪器的运行,包括温度控制、压力控制等。      5.数据显示与处理系统:用于显示实验数据,如温度、压力等,以及进行数据处理和分析。      智能一体化蒸馏仪的应用:      1.化学研究:可用于有机合成反应中对反应物和产物的分离和提取,如有机溶剂的回收利用等。      2.分析测试:可用于对复杂样品的分离和提取,如环境样品、食品样品中的有机污染物的分析等。      3.生物制药:可用于对生物制药过程中的中间体和终产物的提取和纯化。      4.环境监测:可用于对水体、大气等环境样品中的挥发性有机物的分析和监测。      5.食品工业:可用于食品加工中对香料、酒精等的提取和分离。

离子溅射碳蒸发一体化镀膜仪相关的耗材

  • Eachwave 专业提供镀膜服务 磁控溅射镀膜 气相沉积镀膜 电子束蒸发镀膜 其他光谱配件
    上海屹持光电技术有限公司专业提供各种镀膜服务:典型实例 1,磁控溅射合金膜2,ICPPECVD 制备高厚低应力氧化硅薄膜3,沉积细胞定位电极4,磁控溅射的 制备的 Au/TiO2 连续 主要设备:1,磁控溅射镀膜系统2,磁控溅射镀膜机3,磁控溅射真空镀膜机4,电子束蒸发镀膜仪5,高密度等离子体增强化学气相沉积设备
  • 溅射镀膜仪专用靶材
    纯英国进口溅射镀膜仪专用靶材产地:英国品牌:Cressington类型:Au, Pt, Au/Pd, Pt/Pd, Cr, Ir, W, Ti, Ag, 高纯碳棒等现阶段由于国内用户辨别能力不足导致市场上非常多的厂家用国产靶材冒充进口靶材现象,而国产靶材由于杂质多(虽然宣称纯度优于4个9),质量次会导致镀膜效果不均匀,污染溅射头等问题,主要区别:1. 国产靶材包装为简单的塑料密封包装,而进口靶材为特制硬纸板保护加真空包装;2. 国产靶材没有产地信息或简单贴牌,而进口靶材有明显的产品信息和编号;
  • 一体化蒸馏仪冷凝管
    产品说明:川一仪器系列CYZL-6全自动一体化蒸馏仪是根据实验室蒸馏预处理操作规程,集恒温加热、蒸馏终点自动控制、冷却水循环于一体的新型智能蒸馏处理装置。该仪器广泛适用于环保、疾控、水产、供排水、高校、科研院所、厂矿企业等各类化学实验室需要蒸馏处理的场所,如挥发酚、氰化物、氨氮、凯氏氮油中水分等项目的蒸馏处理;食品检测领域中的二氧化硫残留量以及甲醛、酒精度等的蒸馏操作。技术参数:1、型号:CYZL-62、加热方式:电加热3、冷却方式:内置风冷式循环水装置,无需外接循环水,如对循环水温要求高,可以外接其他循环水装置4、显示方式:7英寸大液晶触摸屏4、加热单元:6个远红外陶瓷加热炉,可单孔单独控制;5、升温时间:8-20min6、蒸馏速度:12ml/min;7、时间控制:0-999min(可调)8、重量设定:0-250g (可根据客户要求设定)9、温度显示:室温-400度10、终点控制:自动侦测蒸馏终点功能,称重与时间双重控制,自动停止加热,控制精度±2ml11、防倒吸:设有防真空电磁阀,具有防倒吸功能;12、蒸馏瓶规格:500mlX6,13、额定电压/频率:220V/50HZ;14、外形尺寸:900*450*850mm
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