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无损检测用射线平板探测器

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无损检测用射线平板探测器相关的论坛

  • X射线荧光用的探测器与X射线辐射剂量检测用的探测器有什么区别

    http://b.hiphotos.baidu.com/baike/w%3D268/sign=27a70225acaf2eddd4f14eefb5110102/2cf5e0fe9925bc310dce7dbb5edf8db1cb137005.jpg请问图中半导体探测器是在什么行业中应用的呢,这个探测器可以进行元素分析吗,这个探测器与常用的Si-Pin SDD有什么区别。另外X射线荧光用的探测器与X射线辐射剂量检测用的探测器有什么区别?

  • X射线探测器保护

    各位大侠 小妹有一个困惑 X射线探测器的铍窗很容易就破损了 为了更好的保护他 我想应该用一种高透明 机械性能好的薄膜吧 大侠们能告推荐一下吗 或者有什么更好的办法

  • 双能、多能X射线探测器技术的实现

    [b]SANTIS 0804双能、多能混合光子计数X射线探测器[/b]目前市场有极少数量的双能X射线探测器,多能X射线探测器刚刚进入中国市场,下面是我推荐的一款多能探测器,请同行们指导,多提宝贵建议。[b][img]http://img1.17img.cn/17img/images/201801/uepic/6f25d67a-b728-49cd-88e9-f0780582d383.jpg[/img][/b] SANTIS 0804多能X射线探测器是由DECTRIS公司设计和生产的双能、多能混合光子计数(HPC)探测器。该探测器的无噪声、无暗电流和高计数能力给一切用户提供无与伦比的的成像效果 SANTIS 0804多能X射线探测器和传统探测器相比,SANTIS 0804图像质量更高、帧速率更高、探测能力更强。同时,SANTIS 0804可以实现双能和多能状态下的优质图像信息。 [b]测器技术参数:[/b][table=578][tr][td=1,1,125][b]版本[/b][/td][td=1,1,217][b]高分辨率(HR)[/b][/td][td=1,1,236][b]多能量(ME)[/b][/td][/tr][tr][td=1,1,125]传感器[/td][td=1,1,217]碘化铬 0.75 mm[/td][td=1,1,236]碘化铬 1.0 mm[/td][/tr][tr][td=1,1,125]有效面积[/td][td=1,1,217]8 x 4 cm[sup]2[/sup][/td][td=1,1,236]8 x 4 cm[sup]2[/sup][/td][/tr][tr][td=1,1,125]像素矩阵[/td][td=1,1,217]1030 x 514[/td][td=1,1,236]515 x 257[/td][/tr][tr][td=1,1,125]像素尺寸[/td][td=1,1,217]75 μ㎡[/td][td=1,1,236]150 μ㎡[/td][/tr][tr][td=1,1,125]MTF在1 IP /毫米[/td][td=1,1,217] 90%[/td][td=1,1,236] 90%[/td][/tr][tr][td=1,1,125]能量范围[/td][td=1,1,217]最大至 120 kVp[/td][td=1,1,236]最大至160 kVp[/td][/tr][tr][td=1,1,125]阈值能量的数量[/td][td=1,1,217]2[/td][td=1,1,236]4[/td][/tr][tr][td=1,1,125]能量分辨率[/td][td=1,1,217]1.9 at 22 keV (FWHM)[/td][td=1,1,236]1.9 at 22 keV (FWHM)[/td][/tr][tr][td=1,1,125]填充因子[/td][td=1,1,217]100%[/td][td=1,1,236]100%[/td][/tr][tr][td=1,1,125]动态范围[/td][td=1,1,217]32 bit[/td][td=1,1,236]32 bit[/td][/tr][tr][td=1,1,125]帧速率[/td][td=1,1,217]up to 40 Hz[/td][td=1,1,236]up to 40 Hz[/td][/tr][tr][td=1,1,125]最大输入计数率[/td][td=1,1,217]1.5 * 10[sup]9[/sup] photons/s/mm2[/td][td=1,1,236]0.4 * 10[sup]9[/sup] photons/s/ mm2[/td][/tr][tr][td=3,1,578]所有规格如有变更,恕不另行通知。[/td][/tr][/table]

  • X射线半导体探测器

    请问X射线荧光半导体探测器谁家的产品比较好,国内的国外的都可以,要常温,无需冷却的,可以探测铝,铜,铁元素的

  • X射线探测器和X射线光管求导购

    新手一枚,想做利用能散型X射线荧光光谱分析矿物中Al、Si含量大致范围,领导让买XRF探测器和X光管,让我选产品。看文献大家都用的是国外的,像Varian、COMET、牛津的光管,还有AmpTek、Moxtek的探测器。但是不知道实际价位和性能如何,实在不会选了。请问各位大神能不能给说明一下详细情况(价位、性价比)?我该怎么选?还有没有国内的比较好的品牌?另外多通道脉冲幅度分析器是不是都和XRF探测器集成在一起了?单买的话有什么合适的品牌?还有是不是探测器现在都是配有相应分析软件的啊?从来没接触过光学相关技术,实在头疼,小女子在此谢过各位了,拜托拜托~

  • EDS探测器收集X射线是一个一个收集的吗?

    最近在学习EDS,EDS原理是Si(Li)半导体检测器检测到不同能量的X射线,激发出不同数量(与XS射线能量成正比)的电子空穴对,经过前置放大器变成电流脉冲,再由主放大器转变成电压脉冲,经多道脉冲分析器成谱图(电压脉冲强度属于哪一通道,谱图横坐标能量就确定了,而有几个这样的电压脉冲,对应着谱图纵坐标的信号强度)。有个问题就是电子束打到样品上,瞬间产生的X射线肯定是各种能量的都有的,各种能量的X射线肯定一起到达探测器上的,他们怎么一个一个分别在检测器上产生电子空穴对的?(如果好多能量的X射线一起到探测器上,结果就有类似加峰的感觉)还有就是零峰的作用,好像上面的EDS谱图的获得和零峰没什么关系呀?为什么会有一个零峰呢?好像零峰又叫噪音峰,为啥呀?我看了一个fengyonghe专家的解释([font=Arial, Helvetica, sans-serif][size=16px][color=#333333]零峰(也称零选通脉冲、零开关),是能量为0eV附近的虚拟峰。用于监测能量刻度的起始点,谱仪的分辨率和活时间)但是还是不明白呀,就是能量为0 的位置为什么会有一个这么强的峰呢?[/color][/size][/font][font=Arial, Helvetica, sans-serif][size=16px][color=#333333][/color][/size][/font][font=Arial, Helvetica, sans-serif][size=16px][color=#333333]跪求各位大佬解答,感谢![/color][/size][/font]

  • 【原创大赛】X—射线无损探伤检测室的筹建过程

    【原创大赛】X—射线无损探伤检测室的筹建过程

    X—射线无损探伤检测室的筹建过程 ‘X—射线无损探伤’乍一听起来好像很专业、很神秘,其实几乎每一个人很早就都接触过X射线,就是医院的透视检查,从小学起每年的体检基本都要做这项检查,一直以来都是把它看做一个医学检查手段,从来也没想过把它用于产品监控、检测的手段,至少我在详细了解之它前是这么认为的(其实机场的安检仪就是X-射线探伤设备的一种,只是以前不知道罢了)。 我开始对X射线探伤感兴趣并对其进行研究是源于两年前(2010年),当时我们企业开发的新产品上应用了铸铝零件和一些铝合金焊接零件,由于产品特殊的安全性要求,需要对每个零件进行无损检测,作为公司的品质控制部门,必须要对这些新工艺、新材质零件的质量水平和稳定性,进行评估和控制,当时由于初涉此行业,信息和知识面都比较匮乏,也曾多次咨询一些第三方检测单位和科研院校,大部分的意见是采用磁粉探伤和超声波探伤,由于铝反射率的关系大都不推荐X射线探伤。但对磁粉探伤和超声波探伤深入了解后,发现都不适合我们的现场检验需求,(例如磁粉探伤检验速度慢,不适合全检的要求;超声波探伤适于较长的直焊口,对于带拐角的或不规则的焊口适应性差,并且测出的超声图谱需要专业人员 辨识,对操作人员素质及经验要求较高。)。当时有人提出一些自行车车架的焊接应该和我们的产品非常相近,其控制手段也必然能被我们借鉴,为此我又多次参观自行车车架生产厂,结果通过考察发现,绝大部分的车架生产厂的检测手段都是疲劳试验,这种检测手段只适合单个样品的抽检,并且不是无损检测。正在山穷水复之时,一个偶然的参观机会,我在一个生产汽车铸铝零件的工厂,看到了X-射线探伤设备,这台设备能够较为直观,并方便的检测零件的内部缺陷,这不正是我们需要的检测手段吗?至此对铸铝件及铝合金焊接的检测手段的研究终于回到了正轨。回顾这一段检测方法的探寻的历程,不能说前面给予我们指导和帮助的个人和机构的能力不佳,只是因为术业有专攻,前面的尝试和排查反而使我们更深入的了解了铸铝件和铝焊接件的质量特性,更清晰的让我知道了对于我们产品需要如何的检测手段。 既然确定了检测手段,又看到了其他企业在这方面运用,接下来就着手开始探伤检测设备的引进。原本想只要找探伤设备生产厂家,说明应用在什么方面,剩下的就等着采购部门去采购,我们等着设备验收就完事大吉了。谁承想这一深入沟通才知道,事情多着呢?下面就是我们设立探伤检测手段所要必须面对的问题:1. 探伤设备生产厂的选择,好几家呢,选哪个好呢?2. 设备选型,一大堆型号选择那个比较适合自己呢?3. 实验场地,这东西不同于其它设备,不仅要考虑设备使用环境,还得考虑X射线对周围环境的影 响。放哪儿好呢?4. 由于产品尺寸大小不一(大的1.5*2m框架;小的5*15cm的铸件),探伤设备提供的铅房只能满足 小件,如果要满足大工件检验,铅房面积至少得15m2,这么大的铅房,其价格又让我们望而却步。5. 跟设备厂商沟通后,得到结果是铅房可以自己建造,那建造铅房有什么要求呢?用什么标准呢?6. 房子要盖啥样的呢,对于施工又有什么样的要求呢?。。。。。。。。。。。 诸如此类的问题立即从脑海里跳了出来,懵了,该从哪儿下手啊??!!!淡定,不能乱!!还是得理智、周密的策划一下,万事开头难,只要迈出了第一步,接下来的事情也就会循序渐进、顺利成章的往下发展了,先走着。。。。第1步 还是得从筛选仪器厂商开始,现在搜集这些资料方便多了,百度一下哗啦出来一大堆,经过初步筛选我们选定两家进行联系咨询,一个是丹东的A厂家,一个是上海的C厂家,(为了避免广告嫌疑,用代号吧)经过联系对比,在考虑了两个厂家的产品种类、技术特长、价格范围、市场占有率、维修售后服务、易损件消耗、设备交期等信息后,我们最终决定选用综合优势略大的上海C厂家。第2步 厂家选定后,接下来我们与其进行实质性接触,请对方业务、技术等人员到我司进行实地考察,对如下问题进行充分沟通,2.1 被检测样品的外形、尺寸、材质及技术参数2.2 我们希望实现的检测项目及需要达到的检测精度2.3 检测设备需要实现的机械动作。(主要考虑检测人员劳动强度和检测工作效率)2.4 检测设备选型以及其对环境设施的要求。根据我们被测工件的厚度和材质类型我们本次选用的是 管电压最大160KV,穿透铝合金能力为100mm累积厚度。2.5 附属设备的配置要求(如计算机、打印机配置,显示器、监视器等)2.6 因被测样品尺寸的问题,需要我方自建铅房,那么对铅房选址(要考虑X射线对周围环境的影 响)、建筑设计要求(整体实验室动力、通风、温湿度控制、照明、等)进行详细沟通。2.7设备交期、整体报价、安装、调试等细节问题第[fon

  • 【分享】GB/T 23901-2009 《无损检测 射线照相底片像质》

    [size=3]GB/T 23901-2009 《无损检测 射线照相底片像质》共分为五部分:GB/T 23901.1-2009 无损检测 射线照相底片像质 第1部分:线型像质计像质指数的测定GB/T 23901.2-2009 无损检测 射线照相底片像质 第2部分:阶梯孔型像质计像质指数的测定GB/T 23901.3-2009 无损检测 射线照相底片像质 第3部分:黑色金属像质分类GB/T 23901.4-2009 无损检测 射线照相底片像质 第4部分:像质指数和像质表的试验评价GB/T 23901.5-2009 无损检测 射线照相底片像质 第5部分:双线型像质计图像不清晰度的测定[/size][b][b][size=3][/size][/b][/b]

  • 传统点/线探测技术和全二维面探测器技术的残余应力分析仪比较

    X射线是表面残余应力测定技术中为数不多的无损检测法之一,是根据材料或制品晶面间距的变化测定应力的,至今仍然是研究得最为广泛、深入、成熟的内应力测量方法,被广泛的应用于科学研究和工业生产的各领域。然而长期以来,大家使用的都是基于一维探测器的测量方法。Pulstec公司开发出世界首款基于全二维探测器技术的新一代X射线残余应力分析仪——μ-X360n,将利用X射线研究残余应力的测量速度和精度推到了一个全新的高度,设备推出不久便得到业界的广泛好评。 相较于传统的X射线残余应力测定仪,新一代μ-X360n具有以下优点: 更快:二维探测器一次性采集获取完整德拜环,单角度一次入射即可完成测量,全过程平均约90秒。 更精确:一次测量可获得500个数据点进行残余应力数据拟合,结果更精确。 更轻松:无需测角仪,单角度一次入射即可,复杂形状和狭窄空间的测量不再困难。 更方便:测量精度高,无需冷却水,野外工作无需外部供电。 更强大:具备区域应力分布测量成像(Mapping)功能,晶粒大小、材料织构、残余奥氏体分析等功能。应用领域: 1. 机械加工领域:测量机床、焊接、铸造、锻压、裂纹等构件的残余应力。 2. 冶金行业:测量热压、冷压、炼铁、炼钢、炼铸等工业生产构件的残余应力。 3. 各种零配件制造:测量电站汽轮机制造、发动机制造、油缸、压力容器、管道、陶瓷、装配、螺栓、弹簧、齿轮、轴承、轧辊、曲轴、活塞销、万向节、机轴、叶片、刀具等工业产品的残余应力。 4. 表面改性处理:测量渗氮、渗碳、碳氮共渗、淬火、硬化处理、喷丸、振动冲击、挤压、滚压、金刚石碾压、切削、磨削、车(铣)、机械抛光、电抛光等工艺处理后构件中的残余应力。 5. 民生基础建设领域: (1)海洋领域 :测量船舶、海洋、石油、化工、起重、运输、港口等领域设备和设施的残余应力 (2)能源领域:测量核工业、电力(水利水电、热电核电)、水利工程、天然气工程等领域的设备和设施的残余应力。 (3)基础建设工程领域:测量挖掘、桥梁、汽车、铁路、航空航天、交通、钢结构等工程领域所用材料、构件及其它相关设备设施的残余应力。 6. 国防军工领域:测量武器装备、重型装备等军工产品的残余应力。http://sciaps.gz01.bdysite.com/upload/201703/1490338019181409.jpg传统的点/线探测器技术 全二维面探测器技术——通过测量应力引起的衍射角偏移,从而算出应力大小。测量时需要多次(一般5-7次)改变X射线的入射角,并且调整一维探测器的位置找到相应入射角的衍射角——施加应力后,通过测角仪得到衍射角发生变化的角度,从而计算得到应力数据——单角度一次入射后,利用二维探测器获得完整德拜环。通过比较没有应力时的德拜环和有应力状态下的变形德拜环的差别来计算应力下晶面间距的变化以及对应的应力——施加应力后,分析单次入射前后德拜环的变化,即可获得全部残余应力信息http://sciaps.gz01.bdysite.com/upload/201703/1490338058206908.gif应用软件:http://sciaps.gz01.bdysite.com/upload/201703/1490338117148580.gif二维探测器获取完整德拜环,单角度入射,一次测量 全自动软件测量残余应力,半峰宽,残余奥氏体等数据内在定位标记和CCD相机方便样品定位,操作极其简单快捷快捷进入预设各种材料测量条件,一键执行测量

  • X射线辐射剂量探测

    各位老师: 我想买一个X射线辐射剂量探测的仪器,我的X射线能量在5keV~30keV,剂量不是很大,不知道现阶段有没有哪款探测器能够进行剂量监测的?望大家给点建议啊.先谢过了

  • 【转帖】什么是无损检测?

    无损检测技术发展过程经历了三个阶段:无损探伤阶段、无损检测阶段和无损评价阶段。第一阶段是无损探伤,主要是探测和发现缺陷,第二阶段是无损检测,不仅仅是探测缺陷,还包括探测试件的一些其他信息,例如结构、性质、状态等,并试图通过测试,掌握更多的信息,无损评价则是第三阶段,它不仅要求发现缺陷,探测试件的结构、性质、状态,还要求获取更全面,更准确的综合的信息,例如缺陷的形状、尺寸、位置、取向、内含物、缺陷部位的组织、残余应力等,结合成像技术、自动化技术、计算机数据分析和处理等技术,材料力学、断裂力学等知识综合应用,对试件或产品的质量和性能给出全面、准确的评价。 常用的无损检测方法有:射线检测,超声波检测,磁粉检测,渗透检测、涡流检测、声发射检测。为满足生产的需求,并伴随着现代科学技术的进展,无损检测的方法和种类日益繁多,除了上面提到的几种方法外,激光、红外、微波、液晶等技术都被应用于无损检测。无损检测技术的产生有现代科学技术发展的基础。例如,用于探测工业产品缺陷的x射线照相法是在德国物理学家伦琴发现X射线后才产生的,超声波检测是在两次大战中迅速发展的声纳技术和雷达技术的基础上开发出来的,磁粉检测建立在电磁学理论的基础上,而渗透检测得益于物理化学的进展等。 随着现代工业的发展,对产品质量和结构安全性,使用可靠性提出了越来越高的要求,由于无损检测技术具有不破坏试件,检测灵敏度高等优点,所以其应用日益广泛。目前,无损检测技术在国内许多行业和部门,例如机械、冶金、石油天然气、石化、化工、航空航天、船舶、铁道、电力、核工业、兵器、煤炭、有色金属、建筑等,都得到广泛应用。 应用无损检测技术优点有: 一、及时发现缺陷,提高产品质量 应用无损检测技术,可以探测到肉眼无法看到的试件内部的缺陷,在对试件表面质量进行检验时,通过无损检测方法可以探测出许多肉眼很难看见的细小缺陷。由于无损检测技术对缺陷检测的应用范围广,灵敏度高,检测结果可靠性好,因此在容器和其他产品制造的过程检验和最终质量检验中普遍采用。 采用破坏性检测,在检测完成的同时,试件也被破坏了,因此破坏性检测只能进行抽样检验。与破坏性检测不同,无损检测不需损坏试件就能完成检测过程 ,因此无损检测能够对产品进行百分之百检验或逐件检验。许多重要的材料、结构或产品,都必须保证万无一失,只有采用无损检测手段,才能为质量提供有效保证。 二、设备安全运行的有效保证 即使是设计和制造质量完全符合规范要求的容器,在经过一段时间使用后,也有可能发生破坏事故,这是由于苛刻的运行条件使设备状态发生变化,例如由于高温和应力的作用导致材料蠕变,由于温度、压力的波动产生交变应力,使设备的应力集中部位产生疲劳,由下腐蚀作用使壁厚减薄或材质劣化等等。上述因素有可能使设备中原来存在的,制造规范允许的小缺陷扩展开裂,或使设备中原来没有缺陷的地方产生样或那样的新生缺陷, 最终导致设备失效。为了保障使用安全,对在用锅炉压力容器,必须定期进行检验,及时发现缺陷,避免事故发生。 三、促进制造工艺的改进 在产品生产中,为了了解制造工艺足否适宜,必须事先进行工艺试验。在工艺试验中,经常对工艺试样进行无损检测,并根据检测结果改进制造工艺,最终确定理想的制造工艺。例如,为了确定焊接工艺规范,在焊接试验时对焊接试样进行射线照相。随后根据检测结果修正焊接参数,最终得到能够达到质量要求的焊接工艺。又如,在进行铸造工艺设计时,通过射线照相探测试件的缺陷发生情况,并据此改进浇口和冒口的位置,最终确定台适的铸造工艺。 四、节约资金,降低生产成本 在产品制造过程中进行无损检测,往往被认为要增加检测费用,从而使制造成本增加。可是如果在制造过程中间的适当环节正确地进行无损检测,就是防止以后的工序浪费,减少返工,降低废品率,从而降低制造成本。例如,在厚板焊接时,如果在焊接全部完成后再无损检测,发现超标缺陷需要返修,要花费许多工时或者很难修补。因此可以在焊至一半时先进行一次无损检测,确认没有超标缺陷后再继续焊接,这样虽然无损检测费用有所增加,但总的制造成本降低了。又如,对铸件进行机械加工,有时不允许机加上后的表面上出现夹渣、气孔、裂纹等缺陷,选择在机加工前对要进行加工的部位实施无损检测,对发现缺陷的部位就不再加工,从而降低了废品率,节省了机加工工时。 应用无损检测时,应注意的问题有: 1、与破坏性检测相配合 [col

  • 【分享】电离室探测器

    电离室ionization chamber  由处于不同电位的电极和限定在电极之间的气体组成,通过收集因辐射在气体中产生的电子或离子运动而产生的电讯号来定量测量电离辐射的探测器。  分为脉冲电离室和电流电离室,前者可记录单个辐射粒子的电离辐射,主要用于重带电粒子的能量和注量或注量率的测量,后者则用来记录大量辐射产生的平均效应,用于测量X射线,γ光子束,β射线和中子束的注量、注量率和剂量。  是一种核辐射探测元件。一般为圆柱形,电离室中间有一个柱状电极,它与外壳构成一个电容器。在电离室的两极加上电压,可以收集放射性射线作用产生的电离电流。根据电离电流的大小可以确定放射性活度。按照被测射线种类不同,电离室可分为α电离室、β电离室和γ电离室。[1]  一种最早的测量核辐射的气体电离探测器之一,早在191—1914年间,就用它成功地发现了宇宙线.最简单的电离室由两块平行板构成,一块接几百至几千伏正高压,一块通过电阻接地.当带电粒子经过时,使两板之间气体电离,正离子飞向阴极,电子飞向阳极.两板上产生感应电荷,在接地的电阻上就形成一脉冲信号.由于电子飞行速度比离子要大三个量级,电子将快速到达阳极,在到达前,由于是正反离子对共同贡献,脉冲上升,随着电子减少和离子被阴极吸收,脉冲慢慢下降,直到正离子被吸收.由此可见,电离室相当于简单的放电线路,不同的电离室就是选择不同的值iPiP设计出来的.如果离子收集时间为+(约为103C秒),电子的]收集时间为-(约为106+C秒),当取时,为离子脉冲H]iP]电离室,它收集了全部电子和离子,可以用它来测量带电粒子的能量.当取-<<+时为电子电离室,它比较快,可]iP]以用来测量带电粒子的强度.但由于它的脉冲辐度与离子对产生地点有关,不能直接用它来测能量.为了把电离室做得又快又能测能量,人们把它改进成屏栅电离室,可以在重离子物理中测量重带电粒子能量并鉴别粒子,也可改进为圆柱形脉冲电离室,既可测能量,又可作记数器.[编辑本段]正文  一、电离室工作原理  电离室是一种探测电离辐射的气体探测器。  气体探测器的原理是,当探测器受到射线照射时,射线与气体中的分子作用,产生由一个电子和一个正离子组成的离子对。这些离子向周围区域自由扩散。扩散过程中,电子和正离子可以复合重新形成中性分子。但是,若在构成气体探测器的收集极和高压极上加直流的极化电压V,形成电场,那么电子和正离子就会分别被拉向正负两极,并被收集。随着极化电压V逐渐增加,气体探测器的工作状态就会从复合区、饱和区、正比区、有限正比区、盖革区(G - M区)一直变化到连续放电区。  所谓电离室即工作在饱和区的气体探测器,因而饱和区又称电离室区。如图11-1所示,在该区内,如果选择了适当的极化电压,复合效应便可忽略,也没有碰撞放大产生,此时可认为射线产生的初始离子对N0恰好全部被收集,形成电离电流。该电离电流正比于N0,因而正比于射线强度。加速器的监测探测器一般均采用电离室。标准剂量计也用电离室作为测量元件。电离室的电流可以用一台灵敏度很高的静电计测量。  不难看出,电离室主要由收集极和高压极组成,收集极和高压极之间是气体。与其他气体探测器不同的是,电离室一般以一个大气压左右的空气为灵敏体积,该部分可以与外界完全连通,也可以处于封闭状态。其周围是由导电的空气等效材料或组织等效材料构成的电极,中心是收集电极,二极间加一定的极化电压形成电场。为了使收集到的电离离子全部形成电离电流,减少漏电损失,在收集极和高压极之间需要增加保护极。  当X射线、γ射线照射电离室,光子与电离室材料发生相互作用,主要在电离室室壁产生次级电子。次级电子使电离室内的空气电离,电离离子在电场的作用下向收集极运动,到达收集极的离子被收集,形成电离电流信号输出给测量单元。  二、电离室的主要性能  (一) 电离室的灵敏度  一般说来,电离室的灵敏度取决于电离室内的空[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/bp][color=#3333ff]气质[/color][/url]量。由于电离室内的气压近似为一个大气压,那么,也可以说其灵敏度正比于空气体积,因而这个体积又称“灵敏体积”,对于测量照射量(空气比释动能)的电离室,其电流服从下式的规律  或者写为:  式中  SC — 电离室的灵敏度(灵敏因子)  [url=https://insevent.instrument.com.cn/t/3p][color=#3333ff]IC[/color][/url] — 电离室的电离电流A  — 照射量率Ckg s(Akg)  V — 电离室的灵敏体积  a — 常数,与电离室的材料和空气密度有关,对于空气等效电离室α≈1.2×10   因此随着电离室体积增大,灵敏度增高。  (二) 电离室的能量响应  如上所述,电离室的响应(灵敏度)正比于空气比释动能率(照射量率),而不受其他影响,例如不应随能量的变化而变化,不应随温度的变化而变化等。但是由于电离室本身不能完全由空气制作,不能完全等同于空气,当辐射的能量改变后,电离室的响应(灵敏度)也随之改变,这种特性称之为能量响应。  对于剂量测量的电离室,能量响应是极为重要的性能参数:而对于剂量监测的电离室虽然也关心能量响应,但不是非常重要。  (三) 电子平衡  在加速器辐射和空气的相互作用中,加速器的光子不能直接引起电离,而是通过光电吸收、康普顿散射和电子对生成作用损失能量,产生次级电子。加速器的初级电子虽然引起电离,但是引起空气电离的主要还是次级电子。加速器光子或初级电子在与物质的作用中首先产生次级电子,而作为电离室,进入电离室空气空腔的次级电子主要在电离室的壁中产生的。由于壁的材料的密度比空气大得多,产生的电子也多,因此随着壁厚的增加,进入电离室空气灵敏体积的次级电子增加,当电离室壁厚增加到一定程度,电离室壁对次级电子的阻挡作用开始明显,并最终使得进入灵敏体积的次级电子和逃出灵敏体积的次级电子相等,我们便称这种状态为“电子平衡”,或称“电子建成”。广义的说,所谓电子平衡,是指进入测量体积元的次级电子能量等于离开该体积元的次级电子能量。当射线的能量高时,次级电子的能量也高,穿透的材料厚度增大,达到电子平衡的厚度也增大。  一般来说,只要包围收集体积空气的材料的厚度大于次级电子最大射程,电子平衡条件就可基本满足。我们稍微详细点分析。

  • 传统一维点,线探测器和全二维面探测器XRD残余应力仪比较

    [color=#333333]全二维面探测器残余应力仪与传统一维点,线探测器残余应力仪比较区别:[/color][color=#333333](1)传统一维点,线探测器残余应力仪——sin2Ψ 1)通过测量应力引起的衍射角偏移,从而算出应力大小。测量时需要多次(一般5-7次)变X射线的入射角,并且调整一维探测器的位置找到相应入射角的衍射角 2)施加应力后,通过测角仪得到衍射角发生变化的角度,从而计算得到应力数据(2)圆形全二维面探测器残余应力仪——基于cosα方法 1)单角度一次入射后,利用二维探测器获得完整德拜环。通过比较没有应力时的德拜环和有应力状态下的变形德拜环的差别来计算应力下晶面间距的变化以及对应的应力 2)施加应力后,分析单次入射前后德拜环的变化,即可获得全部残余应力信息 世界首款基于二维探测器和cosα分析方法的新一代X射线残余应力分析仪,将利用X射线研究残余应力的测量速度和精度推到了一个全新的高度,总体说来它比传统方法具有如下优点:1,圆形全二维面探测器残余应力仪优点: 更快: 二维探测器获取完整德拜环,单角度一次入射测量即可完成测量,全过程平均约90秒 更精确:一次测量最多可获得500个数据点,用于拟合计算应力。无应力铁粉残余应力测定的精度为±2MPa(欧美标准无应力铁粉残余应力测定的精度要求为正常±6.9MPa,最大±14MPa.) 更轻松:无需测角仪,单角度一次入射即可,复杂形状和狭窄空间的测量不再困难 更方便:测量精度高, 无需冷却水、野外工作无需外部供电 更强大:有区域应力分布测量成像(Mapping)功能,软件有晶粒大小、材料织构、残余奥氏体信息分析功能2,传统一维点,线探测器残余应力仪: 1,设备笨重,不适合检测比较大的工件或设备 2,需要测角仪,每次摄入,要多点d-sin2Ψ曝光模式,互相关法计算峰位移。增加仪器成本 3,需要水冷系统,冷却液温度过高或其它流动不畅通时机器不能工作,增加仪器使用成本。 4,操作复杂,必须专业长时间培训或有经验的人员才能操作。检测时间长,每次测量必须转角,人工误差大。 5,设备故障率高,不管是,测角仪,冷却系统或测角角度有一处故障,设备就不能正常工作。 6,价格昂贵,测角仪和冷却系统大大增加了设备成本,维修费用及高。[/color]

  • 【分享】正比计数管探测器

    正比计数器proportional counter  用气体作为工作物质,输出脉冲幅度与初始电离有正比关系的粒子探测器,可以用来计数单个粒子,并根据输出信号的脉冲高度来确定入射辐射的能量。这种探测器的结构大多采用圆柱形,中心是阳极细丝,圆柱筒外壳是阴极,工作气体一般是隋性气体和少量负电性气体的混合物。入射粒子与筒内气体原子碰撞使原子电离,产生电子和正离子。在电场作用下,电子向中心阳极丝运动,正离子以比电子慢得多的速度向阴极漂移。电子在阳极丝附近受强电场作用加速获得能量可使原子再电离。从阳极丝引出的输出脉冲幅度较大,且与初始电离成正比。正比计数器具有较好的能量分辨率和能量线性响应,探测效率高,寿命长,广泛应用于核物理和粒子物理实验。  1-50keV的X射线经常用正比计数器进行探测。要求是具有较薄的入射窗口,以获得较低的低能端探测下限,较大的观测面积,以及良好的气密性。常用的是铍窗正比计数器。当代X射线探测器多采用正比计数器阵列和装有多根阳极丝和阴极丝的多丝正比室,以获得更大的有效观测面积。  近年来制作的气体闪烁正比计数器,能量分辨率比一般气态正比计数器约高一倍。为了观测较弱的X射线源,需要高灵敏度的探测器,为此制作了大面积窗口正比计数器,如小型天文卫星-A携带的窗口面积为840厘米的铍窗正比计数器,采用的是正比计数器组合的方法。此外,确定X射线源的位置需要有高分辨率的探测器;而为了制造这种探测器,就相应地需要制作对测定位置灵敏度高的正比计数器。

  • 波长色散探测器之流气式正比计数器

    [size=18px]在平时工作中,身边总是有人在问波长色散分析仪的探测器用的是什么检测器?是什么原理?有的为啥还有需要气体的,搞的好麻烦,气体爆炸怎么办……今天我们就来聊聊[b]波长色散分析仪的检测器[/b]。波长色散的x荧光光谱仪由于要使用分光晶体,从而使得待测元素的分析仪谱线可以较好的分离,故通常使用分辨率不那么高的流气式正比计数器和NaI闪烁计数器作为光谱仪的探测器。主要说说流气式正比计数器[b]气体正比计数器又可以分为封闭式和流气式正比计数器[/b],由于封闭式正比例计数器分辨率太低,而且温差电冷能量探测器已经实用化,所以封闭式正比例计数器将会慢慢被淘汰。我们主要来说说流气式正比例计数器,一般情况下,流气式正比计数器为一个直径2cm住状体,中间有一根20-30μm的金属丝,用作前放信号和外部高压的接头,筒状体内部充入惰性气体和淬灭气体,通常为90%的氩气和10%的甲烷气体混合器,并在金属丝和柱壳间施加1400V~1800V的电压。当流气式正比计数器中的探测气体收到X射线的照射时,或产生大量的负电子和正电性氩离子组成的离子对。假设入射X射线的光子能量为E,产生离子对的有效电离能 为V,由入射X射线光子产生的平均离子对数n与入射X射线光子的能量成正比,与离子对的有效电离能成反比:n=E/V产生的电子在电压作用下会逐渐加速飞向样机金属丝,并引发进一步的氩原子电离,这一效应被称为电离增益,流气正比探测器的电离增益一般为6*10四次方。。。。经放大后的电流由电容收集,产生的脉冲电压与入射光子的能量成正比。在这里需要注意的是,脉冲高度和强度的区别。[b]脉冲高度:[/b]指由单个X射线产生的单个脉冲电压幅度。[b]X射线强度:[/b]指每秒钟测得的脉冲数。重点来了,[b]探测器的分辨率一般定义为峰高一半处所对应的谱峰宽度,简称谱峰半高宽。[/b]流气式正比计数器一般适用于较长波长的X射线探测,通常用于0.15~5nm波长的X射线探测,对于0.15以下的波长,探测的灵敏度很低,这也就是为什么目前很多的X荧光分析仪会设置有多个检测器的原因。希望这样的小知识普及能够让大家明白什么是流气式正比计数器,并且知道他的原理,这样见到这类型的分析仪就不会在这边面有疑问啦![/size]

  • 【求助】XRF探测器的问题

    最近因为实验室要买XRF做调研,顺便就了解了一下关键器件的一些知识,发现一个问题向大家请教一下。就是关于探测器和X射线管的Be窗的问题。探测器和射线管的Be有什么不一样吗?为什么探测器的那么薄?(很多厂家上面说的甚至有几个微米) 而射线管我看到最低的就是75微米。如果这些数据都是真实的话,那为什么不用做探测器的Be窗来做X射线管呢?是个新手,什么都不大懂,希望有大虾帮我解释一下。

  • 【分享】半导体探测器

    【分享】半导体探测器

    半导体探测器(semiconductor detector)是以半导体材料为探测介质的辐射探测器。最通用的半导体材料是锗和硅,其基本原理与气体电离室相类似。半导体探测器发现较晚,1949年麦凯(K.G.McKay)首次用α 射线照射PN结二极管观察到输出信号。5O年代初由于晶体管问世后,晶体管电子学的发展促进了半导体技术的发展。半导体探测器有两个电极,加有一定的偏压。当入射粒子进入半导体探测器的灵敏区时,即产生电子-空穴对。在两极加上电压后,电荷载流子就向两极作漂移运动﹐收集电极上会感应出电荷,从而在外电路形成信号脉冲。但在半导体探测器中,入射粒子产生一个电子-空穴对所需消耗的平均能量为气体电离室产生一个离子对所需消耗的十分之一左右,因此半导体探测器比闪烁计数器和气体电离探测器的能量分辨率好得多。半导体探测器的灵敏区应是接近理想的半导体材料,而实际上一般的半导体材料都有较高的杂质浓度,必须对杂质进行补偿或提高半导体单晶的纯度。通常使用的半导体探测器主要有结型、面垒型、锂漂移型和高纯锗等几种类型(下图由左至右)。金硅面垒型探测器1958年首次出现,锂漂移型探测器60年代初研制成功,同轴型高纯锗(HPGe)探测器和高阻硅探测器等主要用于能量测量和时间的探测器陆续投入使用,半导体探测器得到迅速的发展和广泛应用。[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/12/200912291643_192752_1615922_3.jpg[/img]

  • AMPTEK探测器如何使用?

    公司想做一台X射线荧光设备,用于检测铜元素,使用AMPTEK探测器,请问如何通过VC++调用AMPTEK探测器探测到的光谱数据?另外,光谱分析的算法是怎样的呢,可以使用matlab仿真吗?

  • 【分享】(德国)X射线实时成像检测系统检测金属铸件橡胶轮胎内部分层裂纹

    http://simg.instrument.com.cn/bbs/images/brow/em0816.gif X射线检测系统点激此处链接X射线实时成像系统:对于批量大、要求检测效率高的零件,是一种非常实用有效的检测手段,它具有动态观察、形态真实、检测效率高的特点,并可采用计算机图像处理装置对射线图像进行处理,使检测灵敏度进一步提高。 主要应用领域,金属铸件,塑料橡胶等。本系列产品对于不同形状和大小,钢、铝、陶瓷、复合材料或橡胶等不同材料的工件均可提供高质量的实时监测内部裂纹、分层等。 用于非金属、轻金属、铸造件、各种合金、压力容器等进行X射线无损检测。主要检测焊接缺陷(裂纹、气孔、夹渣、未溶合、未焊透等)以及腐蚀和装配缺陷。XRAY微焦点工作原理和发展:在伦琴先生发现X-Ray后的不久,他就认识到X-Ray可以用于材料检测。但直到上世纪70年代,X-Ray才开始被用于工业领域。由于当时电子产品的微小化以及对元部件可靠性要求的提高,人们极其关注在微米范围内的材料缺陷分析。如今微米焦点X-Ray检测已经稳定地被应用于无损害材料检测,并且通过不断的技术革新将在更广泛的工业领域中被使用.  基本原理 在微米焦点X-Ray检测的过程中,扇形的X-Ray穿过待检样品,然后在图像接收器(现在大多使用X-Ray图像增强器)上形成一个放大的X光图。该图像的质量主要由以下三点决定:放大率、分辨率及对比度。图像分辨率(清晰度)主要由X射线源的大小决定,微米焦点X-Ray放射管的射线源只有几个微米。图像的几何放大率由X光路的几何性质决定(图1),在实际应用中可达到1000至2500倍。 具体物体的微小部分在图片上的表现力主要是由该部分的本身属性在X光图上产生的对比度决定。对比度主要由物体内部的不同厚度,及不同材料(如印制线路板上的铜印制导线),对光线的不同程度吸收而引起的。举例来说,样品A和B拥有相同的厚度,如果A的原子序数较B大,则它对射线的吸收性能较B强。C与B的组成物质相同,若C比B薄,则其对射线的吸收性能比较弱。对比度除与X-ray本征特性有关外,在技术上的局限是由X射线探测器的性质决定的。对图像增强器而言,只有吸收差别达到至2%,才能在X光图中清晰地呈现出来。   X射线管当高速带电粒子突然被减速时,X-Ray就产生了。在简单的X射线管中,电子从热阴极中出来,通过一个电场,向阳极加速。在撞到阳极时停止,同时释放出X射线。碰撞区域的大小就是X射线源的大小,它以毫米为单位,在这种情况下我们只能得到很不清晰的画面。通过微焦点X射线管的使用,就能改变这种状况。电子通过阳极上的一个小孔进入磁电子透镜,该透镜中的磁场力使电子束聚焦在阴极靶上一个直径只有几微米的焦点上。通过这种方式X射线源变得很小,在高放大率的情况下能得到分辨率在微米范围内的清晰图像。新研制的纳米射线管通过多个透镜的使用分辨率将达到500nm。  X射线探测器 传统的X-Ray探测器是一个射线照相胶卷,它拥有良好的空间分辨率(在10μm内)和对比度(0.5%)和可以保存的检测结果等特点。它的缺点是曝光和冲洗都需要好几分钟的时间。针对这种情况,人们在图像增强器上装了拍摄被检测样品动感画面的影像链接,可是仍然只能得到比较粗糙的分辨率。在物体细节显微检测中,可以通过微焦点X光技术消除这个缺点。在足够大的几何放大率的情况下,图像清晰度只同X射线源的大小有关,因此最小的细节也能被清晰地拍摄下来。新研制的数码X射线探测器在理想状态下将两种图像接受方式合为一体:既能提供动态图像,又能拥有完美的对比度。   应用领域 如今微米X光技术主要应用于电子工业中的过程控制和缺陷分析。在元件组装中首先是隐藏焊点的检测,如:BGA封装中的气孔,浸润缺陷,焊桥,及其它的性质,如:焊料的多少,焊点的位移等。在半导体工业中,X光系统作为稳定的工具被应用于集成电路封装中内部连接的无损害检测。因此,在高分辨率的基础上可以检测到直径只有25微米的焊接连线上的最小坏点(图2),及芯片粘接上的气孔在温度降低时晶体的粘合反应等。在多层印制电路板的的制造中,各个板面的排列将被连续地监控。在这里X光系统能精确地测量特别是处于内层位置的结构及焊环宽度,是制造过程优化的基础。此外,如在层间电路金属连通过程中,通过该技术还可以在X光图上清晰地辨认短路及断路,确定它们的位置并作出分析.

  • 求助 GB/T 3323.1-2019 焊缝无损检测 射线检测 第1部分:X和伽玛射线的胶片技术

    [table][tr][td][url=https://std.samr.gov.cn/gb/search/gbDetailed?id=91890A0DA65580C6E05397BE0A0A065D][color=#0a5ca8]GB/T 3323.1-2019[/color] 焊缝无损检测 射线检测 第1部分:X和伽玛射线的胶片技术[/url][/td][/tr][/table]资料中心的GB/ 3323.1实际为.2部分。[table][tr][td][url=https://std.samr.gov.cn/gb/search/gbDetailed?id=91890A0DA65580C6E05397BE0A0A065D][color=#0a5ca8]GB/T 3323.1-2019[/color] 焊缝无损检测 射线检测 第1部分:X和伽玛射线的胶片技术[/url][/td][/tr][/table]

  • 五种常见的无损检测仪器的优缺点

    铸件晶粒粗大、透声性差,信噪比低,探伤会比较困难,它是利用具有高频声能的声束在铸件内部的传播中,碰到内部表面或缺陷时产生反射而发现缺陷。反射声能的大小是内表面或缺陷的指向性和性质以及这种反射体的声阻抗的函数,因此可以应用各种缺陷或内表面反射的声能来检测缺陷的存在位置、壁厚或者表面下缺陷的深度。  对于铸件的内部缺陷,常用无损检测方法是射线检测和超声检测。其中射线检测效果最好,它能够得到反映内部缺陷种类、形状、大小和分布情况的直观图像,但对于大厚度的大型铸件,超声检测是很有效的,可以比较精确地测出内部缺陷的位置、当量大小和分布情况。  1、 超声检测  超声检测也可用于检查内部缺陷,它是利用具有高频声能的声束在铸件内部的传播中,碰到内部表面或缺陷时产生反射而发现缺陷。反射声能的大小是内表面或缺陷的指向性和性质以及这种反射体的声阻抗的函数,因此可以应用各种缺陷或内表面反射的声能来检测缺陷的存在位置、壁厚或者表面下缺陷的深度。超声检测作为一种应用比较广泛的无损检测手段,其主要优势表现在:检测灵敏度高,可以探测细小的裂纹;具有大的穿透能力,可以探测厚截面铸件。超声波测厚仪http://www.dscr.com.cn/show.asp?id=374可以测量金属材质、管道、压力容器、板材(钢板、铝板)、塑料、铁管、PVC管、玻璃等其他特殊材料的厚度;也可以测量工件表面油漆层等带涂层的材料;广泛应用于制作业、金属加工业、化工业、商检业等检测领域。  2、射线检测  射线检测,一般用X射线或γ射线作为射线源,因此需要产生射线的设备和其他附属设施,当工件置于射线场照射时,射线的辐射强度就会受到铸件内部缺陷的影响。穿过铸件射出的辐射强度随着缺陷大小、性质的不同而有局部的变化,形成缺陷的射线图像,通过射线胶片予以显像记录,或者通过荧光屏予以实时检测观察,或者通过辐射计数仪检测。其中通过射线胶片显像记录的方法是最常用的方法,也就是通常所说的射线照相检测,射线照相所反映出来的缺陷图像是直观的,缺陷形状、大小、数量、平面位置和分布范围都能呈现出来,只是缺陷深度一般不能反映出来,需要采取特殊措施和计算才能确定。现在出现应用射线计算机层析照相方法,由于设备比较昂贵,使用成本高,目前还无法普及,但这种新技术代表了高清晰度射线检测技术未来发展的方向。此外,使用近似点源的微焦点X射线系统实际上也可消除较大焦点设备产生的模糊边缘,使图像轮廓清晰。使用数字图像系统可提高图像的信噪比,进一步提高图像清晰度。  铸件的表面检测可以利用液体渗透检测、涡流检测和磁粉检测  3、液体渗透检测  液体渗透检测用来检查铸件表面上的各种开口缺陷,如表面裂纹、表面针孔等肉眼难以发现的缺陷。常用的渗透检测是着色检测,它是将具有高渗透能力的有色(一般为红色)液体(渗透剂)浸湿或喷洒在铸件表面上,渗透剂渗入到开口缺陷里面,快速擦去表面渗透液层,再将易干的显示剂(也叫显像剂)喷洒到铸件表面上,待将残留在开口缺陷中的渗透剂吸出来后,显示剂就被染色,从而可以反映出缺陷的形状、大小和分布情况。需要指出的是,渗透检测的精确度随被检材料表面粗糙度增加而降低,即表面越光检测效果越好,磨床磨光的表面检测精确度最高,甚至可以检测出晶间裂纹。除着色检测外,荧光渗透检测也是常用的液体渗透检测方法,它需要配置紫外光灯进行照射观察,检测灵敏度比着色检测高。  4、涡流检测  涡流检测适用于检查表面以下一般不大于6~7MM深的缺陷。涡流检测分放置式线圈法和穿过式线圈法2种。:当试件被放在通有交变电流的线圈附近时,进入试件的交变磁场可在试件中感生出方向与激励磁场相垂直的、呈涡流状流动的电流(涡流),涡流会产生一与激励磁场方向相反的磁场,使线圈中的原磁场有部分减少,从而引起线圈阻抗的变化。如果铸件表面存在缺陷,则涡流的电特征会发生畸变,从而检测出缺陷的存在,涡流检测的主要缺点是不能直观显示探测出的缺陷大小和形状,一般只能确定出缺陷所在表面位置和深度,另外它对工件表面上小的开口缺陷的检出灵敏度不如渗透检测。  5、磁粉检测  磁粉检测适合于检测表面缺陷及表面以下数毫米深的缺陷,它需要直流(或交流)磁化设备和磁粉(或磁悬浮液)才能进行检测操作。磁化设备用来在铸件内外表面产生磁场,磁粉或磁悬浮液用来显示缺陷。当在铸件一定范围内产生磁场时,磁化区域内的缺陷就会产生漏磁场,当撒上磁粉或悬浮液时,磁粉被吸住,这样就可以显示出缺陷来。这样显示出的缺陷基本上都是横切磁力线的缺陷,对于平行于磁力线的长条型缺陷则显示不出来,为此,操作时需要不断改变磁化方向,以保证能够检查出未知方向的各个缺陷。

  • 【分享】日金星探测器未能进入预定轨道 与金星擦身而过

    中新网12月8日电 据日本共同社报道,关于为进入金星轨道进行了引擎反向喷射的日本“拂晓”号金星探测器,日本宇宙航空研究开发机构8日上午召开记者会宣布,探测器未能成功进入预定轨道。这是继火星探测器“希望”号之后,日本行星探测器进入轨道再次以失败告终。   日本宇航机构将成立以宇宙科学研究所所长为首的调查对策组调查具体原因。  日本宇航机构项目负责人中村正人透露,由于“拂晓”号的反向喷射在短时间内停止,因此已经与金星擦身而过。  若“拂晓”号完好无损,6年后将有机会再次接近金星,运作小组将研究届时能否再次尝试进入轨道。  “拂晓”号7日早晨进行反向喷射后,与地球的通信出现故障。

  • KETEK的X射线探测器求导购

    新手一枚导师想买XRF探测器,让我看看产品在看KETEK的产品,但是不知道其价位和参数怎么样请问这里有大神买过KETEK的探测器没?用起来怎么样?

  • 无损探伤检测技术

    X射线探伤是焊接质量控制的重要手段。随着计算机的飞速发展,X射线数字成像检测技术以应运而生并得到了广泛应用。它具有快速、直观和成本低廉等优点,可在一定范围内替代常规的射线胶片照相探伤方法。数字射线检测技术的原理是:X射线穿透被检材料后,通过射线接收转换装置,将不可见的X射线检测信息转换为数字信号,然后形成数字图像,再经计算机处理后,在显示器上显示出材料内部的缺陷大小和位置等信息。X射线数字成像技术在检测效率、经济效益、远程传送和方便使用等方面都比射线胶片照相法更胜一筹。数字射线检测的应用:我们公司引进的数字射线扫描探测系统包括射线源CP160B、成像板Xmaru1210P、图像采集卡及采集软件。其中成像能够降低所需辐射能量及曝光时间,面板无需橡胶片一样进行处理,几秒钟一幅图像由计算机进行数据采集、图像存储、实时成像,在两次照射期间,不必更换胶片、检测成本低,检测速度快。

  • 利用声学特性的无损检测技术___超声波检测技术

    利用声学特性的无损检测技术___超声波检测技术无损检测导论(2005年元月电子修订版)夏纪真 编著 第二章无损检测技术及其应用 无损检测技术的基础是物质的各种物理性质或它们的组合以及与物质相互作用的物理现象。迄今为止,包括在工业领域已获得实际应用的和已在实验室阶段获得成功的无损检测方法已达五、六十种甚至更多,随着工业生产与科学技术的发展,还将会出现更多的无损检测方法与种类。本书仅能就几个主要方面作简单扼要的介绍。除了对于工业上已经广泛应用的五大常规无损检测技术(超声波检测、磁粉检测、涡流检测、渗透检测和射线照相检测)给予一定的工艺介绍外,对其他方法仅作概念性介绍。若需对其中某项方法作深入了解时,应查阅相应方法的专业技术介绍资料。§2.1 利用声学特性的无损检测技术§2.1.1 超声波检测技术什么是超声波?超声波有什么特性?声波是指人耳能感受到的一种纵波,其频率范围为16Hz~2KHz。当声波的频率低于16Hz时就叫做次声波,高于2KHz则称为超声波。一般把频率在2KHz到25MHz范围的声波叫做超声波。它是由机械振动源在弹性介质中激发的一种机械振动波,其实质是以应力波的形式传递振动能量,其必要条件是要有振动源和能传递机械振动的弹性介质(实际上包括了几乎所有的气体、液体和固体),它能透入物体内部并可以在物体中传播。利用超声波在物体中的多种传播特性,例如反射与折射、衍射与散射、衰减、谐振以及声速等的变化,可以测知许多物体的尺寸、表面与内部缺陷、组织变化等等,因此是应用最广泛的一种重要的无损检测技术--超声检测技术。例如用于医疗上的超声诊断(如B超)、海洋学中的声纳、鱼群探测、海底形貌探测、海洋测深、地质构造探测、工业材料及制品上的缺陷探测、硬度测量、测厚、显微组织评价、混凝土构件检测、陶瓷土坯的湿度测定、气体介质特性分析、密度测定……等等。超声波具有如下特性:1)超声波可在气体、液体、固体、固熔体等介质中有效传播。2)超声波可传递很强的能量。3)超声波会产生反射、干涉、叠加和共振现象。4)超声波在液体介质中传播时,达到一定程度的声功率就可在液体中的物体界面上产生强烈的冲击(基于“空化现象”)--从而引出了“功率超声应用“技术--例如“超声波清洗”、“超声波钻孔”、“超声波去毛刺”(统称“超声波加工”)等。5)利用强功率超声波的振动作用,还可用于例如塑料等材料的“超声波焊接”。工业无损检测技术中应用的超声波检测(UltrasonicTesting,简称UT)是无损检测技术中发展最快、应用最广泛的无损检测技术,占有非常重要的地位。在超声波检测技术中用以产生和接收超声波的方法最主要利用的是某些晶体的压电效应,即压电晶体(例如石英晶体、钛酸钡及锆钛酸铅等压电陶瓷)在外力作用下发生变形时,将有电极化现象产生,即其电荷分布将发生变化(正压电效应),反之,当向压电晶体施加电荷时,压电晶体将会发生应变,亦即弹性变形(逆压电效应)。因此,利用压电晶体制成超声波换能器(探头),对其输入高频电脉冲,则探头将以相同频率产生超声波发射到被检物体中去,在接收超声波时,探头则产生相同频率的高频电信号用于检测显示。除了利用压电效应以外,在某些情况下也利用磁致伸缩效应(强磁材料在磁化时会发生变形的现象,可用作振源或用于应变测量),也有利用电动力学方法(例如本章后面叙述的电磁-声或涡流-声方法)。(3)耦合方法的确定-超声探头与被检工件之间存在空气时,超声波将被反射而无法进入被检工件,因此在它们之间需要使用耦合介质(耦合剂),视耦合方式的不同,可以分为:接触法-超声探头与工件检测面直接接触,其间以机油、变压器油、润滑脂、甘油、水玻璃(硅酸钠Na2SiO3)或者工业胶水、化学浆糊等作为耦合剂,或者是商品化的超声检测专用耦合剂。水浸法-超声探头与工件检测面之间有一定厚度的水层,水层厚度视工件厚度、材料声速以及检测要求而异,但是水质必须清洁、无气泡和杂质,对工件有润湿能力,其温度应与被检工件相同,否则会对超声检测造成较大干扰。接触法和水浸法是超声检测中最主要应用的两种耦合方式,此外还有水间隙法、喷水柱法、溢水法、地毯法、滚轮法等多种特殊的耦合方式。(4)检测条件的准备-选择适当的超声探伤仪、超声探头、参考标准试块(或者采用计算法时的计算程序或距离-波幅曲线、AVG或DGS曲线等),以及在检测前对仪器的校准(时基线校正、起始灵敏度设定等)。[/si

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