超高分辨多靶材离子溅射仪

Apero 2-超高分辨场发射扫描电镜【产品描述】Thermo Scientific Apreo 2 SEM高性能场发射扫描电镜搭载独特的实时元素成像功能和先进的自动光学系统，实现灰色区域解析，让您不再忧心显微镜性能，更加专注于研究本身。 Thermo Scientific Apreo 2 SEM具有多功能性和高质量成像性能，即使是磁性样品或是传统意义上成像非常困难的样品也可以实现极佳成像性能。全新Apreo 2 SEM在原有性能基础之上，进一步优化了超高分辨成像能力，并且增设许多新功能提升其高级功能的易用性。Apreo 2 SEM在耐用的SEM平台上引入了SmartAlign（智能对中）技术，不再需要用户手动进行调整操作，而且，FLASH（闪调）自动执行精细调节工作，只需移动鼠标几次，就可以完成必要的透镜居中、消像散和聚焦校正。此外，Apreo 2 SEM是唯一在10 mm分析工作距离下具有1 nm分辨率的SEM，长工作距离不再意味着低分辨成像，有了Apreo 2 SEM，任何用户都可以自信地得到很好的成像效果。 【特点与应用】 全面解析全面的纳米和亚纳米分辨率性能，适用于纳米颗粒、粉末、催化剂、纳米器件、大块磁性样品等材料； 极佳的灵活性非常灵活的处理范围，样品类型广泛，包括绝缘体、敏感材料和磁性样品，收集最重要的数据； SmartAlign技术使用SmartAlign（智能对中）技术，实现光学系统自动调整，减少维护时间； 先进的自动化先进的自动化用于自动图像微调、撤销、用户向导、Maps成像拼接的FLASH（闪调）技术； 实时定量EDS元素信息触手可及，利用ColorSEM技术，提供实时元素面分布成像定量分析，结果获取更加快速、简便； 长工作距离唯一在长工作距离（10 mm）具有高分辨率的性能(1 nm)和优秀的图像质量的SEM产品参数发射源：高稳定型肖特基场发射电子枪分辨率： 型号Apero 2 CApero 2 S末级透镜静电复合高真空15kV0.9nm 0.5nm1kV1.0nm0.8nm500V 1.2nm0.8nm加速电压范围：200 V ~ 30 kV 着陆电压范围：200 eV ~ 30 keV探针电流范围：1 pA ~ 50 nA，连续可调（可选配400 nA）最大水平视场宽度：10 mm WD时为3 mm（相当于最低放大倍率29倍）X-Ray工作距离：10 mm，EDS检出角35°样品室：从左至右为 340 mm 宽的大存储空间，样品室可拓展接口数量12个，含能谱仪接口3 个（其中2个处于180° 对角位置）样品台：五轴优中心全自动马达驱动X=110 mm,Y=110 mm,Z=65 mm,T=-15o~90o,R=360o （连续旋转）多用途SEM样品安装载物台，可同时放置 18 个标准样品座（φ12 mm）最大样品尺寸，直径122 mm，可沿X、Y轴完全旋转时最大样品高度，到优中心点间隔为85 mm最大样品承重 5 kg探测器系统：样品室二次电子探测器ETD镜筒内背散射电子探测器T1镜筒内二次电子探测器T2镜筒内二次电子探测器T3（选配）样品室内IR-CCD红外相机（观察样品台高度）图像导航彩色光学相机Nav-Cam+&trade 样品室低真空二次电子探测器（选配）可伸缩透镜下背散射探测器（选配）控制系统： 操作系统：Windows 10图像显示：24寸LCD显示器，最高显示分辨率1920×1200支持用户自定义的GUI，可同时实时显示四幅图像软件支持Undo和Redo功能

蔡司跨尺度超高分辨率显微镜Elyra 7以更丰富的成像模式满足您各种样品、各种尺度、各种分辨率的成像需求。无论是组织样品的快速光学切片成像，还是60nm活细胞超高分辨率成像，甚至是用于分子水平研究的TIRF和SMLM（单分子荧光定位，Single-Molecule Localization Microscopy）。您可以采用多种成像方式探索样品，并将多尺度的成像数据进行关联，获得从组织-细胞-亚细胞结构-蛋白的多尺度信息。产品特点&bull Lattice SIM成像解析低至 60 nm 的超微结构&bull 使用 SMLM 探索分子细节&bull 在同一设备上实现组织-细胞-亚细胞结构-蛋白图像的多尺度关联应用领域&bull 单分子荧光定位&bull 活细胞快速动态超高分辨率成像&bull 固定样品的超微结构应用案例小鼠小肠切片，在 A-ha 聚合物中标记血管（Alexa 488，橙色）和神经（Alexa 647，青色），以10x/0.3物镜拍摄样品全貌，以63x/1.4物镜拍摄局部细节。样品来自台湾国立清华大学生物科技研究所暨医学系 Shiue-Cheng (Tony) Tang 教授。固定的小鼠睾丸联会复合体，三色荧光标记，蓝色为SYCP3 SeTau647，红色为SYCP1-C Alexa 488，黄色为SYCP1-N Alexa568，两通道间距离60nm，成像物镜：63x/1.4 Oil。样品来自Marie-Christin Spindler, University of Würzburg, Germany.Cos-7细胞双色2D STORM， 品红色标记微管（anti-tubulin-Alexa Fluor 647)，黄色标记线粒体(anti-TOMM20-CF568).

国仪量子超高分辨场发射扫描电镜SEM5000XSEM5000X是一款超高分辨率场发射扫描电子显微镜，其分辨率达到了突破性的0.6 nm@15 kV和1.0 nm@1 kV。高分辨物镜设计、高压隧道技术（SuperTunnel）以及镜筒工艺升级，实现了低电压分辨率的进一步提升。全新设计的样品仓，扩展接口增加至16个，快速换样仓最大支持8寸晶圆（最大直径208 mm），极大扩展应用范围。高级扫描模式和自动功能增强，带来了更强的性能和更好的体验。产品优势超高分辨率成像，达到了突破性的0.6 nm@15 kV和1.0 nm@1 kV样品台减速和高压隧道技术组合的双减速技术，挑战极限样品拍摄场景高精度机械优中心样品台、超稳定性的机架减震设计，可搭配整体罩壳设计，极大减弱环境对极限分辨率的影响最大支持8寸晶圆(最大直径208 mm)的快速换样仓，满足半导体和科研应用需求应用案例产品参数

产品简介蔡司晶格光切超高分辨率显微镜Lattice SIM 3利用晶格结构光照明的组织穿透力强的优势，针对组织样品对于分辨率、速度和灵敏度的三重需求进行光学设计，适用于细胞团、类器官、组织切片和小型模式动物等样品的超高分辨率成像，快速获取更精细的组织三维结构全貌，兼顾分辨率、成像速度、成像深度和灵敏度。产品特点&bull 低倍物镜下的大视野超高分辨率成像&bull 近各向同性分辨率的高质量光学切片&bull 以宽场成像的快速和低光毒性实现超高分辨率成像应用领域&bull 类器官发育&bull 组织切片&bull 3D细胞培养模型&bull 胚胎发育应用案例细胞球状体样品，利用25x物镜进行Lattice SIM成像，绿色标记线粒体 (MitoTracker Green)，红色标记细胞核(NucRed Live 647)。果蝇胚胎 Fasciclin II (颜色深度编码) 和HRP (青色) 标记神经系统，样品来自英国约克大学Ines Hahn

产品简介蔡司晶格结构光超高分辨率显微镜Lattice SIM 5针对亚细胞结构成像进行优化，实现60nm分辨率高质量活细胞超高分辨率成像。在活细胞超高分辨率成像中不仅实现三维空间分辨率的全面提升，更能快速真实的捕获亚细胞结构的动态变化。产品特点&bull 60 nm的分辨率精确捕获快速动态过程&bull 灵活多样的物镜和成像方式，满足不同样品的需求&bull 高速图像采集模式，提高速度和实验效率应用领域&bull 活细胞快速动态超高分辨率成像&bull 固定样品的超微结构应用案例固定的小鼠睾丸联会复合体，三色荧光标记，蓝色为SYCP3 SeTau647，红色为SYCP1-C Alexa 488，黄色为SYCP1-N Alexa568，两通道间距离60nm，成像物镜：63x/1.4 Oil。样品来自Marie-Christin Spindler, University of Würzburg, Germany.Cos 7活细胞成像，Calreticulin-tdTomato 标记内质网（品红），EMTB-3xGFP标记微管（绿色），右图显示放大区域样品细节分辨率。

英国Cressington Scientific Instruments Ltd享誉业内电镜，电子探针以及电极薄膜制备配套高性能真空镀膜仪方案的先驱者，自上世纪六十年代，伴随着商业扫描电镜的普及和电极镀膜制备的需求，Cressington的配套镀膜设备也一并研发和配套使用，并始终获得科研工作者一致好评。经过半个多世纪的发展，英国Cressington依然专注于紧凑型镀膜产品的设计研发和保持业内很佳性能及很高市场占有率，现阶段已有超过万名客户群，也是配套高真空扫描电镜，电子探针及电极薄膜制备的优选镀膜仪品牌。其创新的冷态溅射镀膜技术不但可以获得高质量膜层，也解决了长久以来困扰用户的热损伤和热变形问题，而其另一创新溅射电流回路设计也保证了真正均匀一致的镀膜, 包括108, 108A, 108Auto, 108C, 208HR, 208C全系列, 且2023年Cressington推出全系列新款，其在功能性上，耐用性上，以及配置上都有所升级和优化，具体联系我司项目负责人。为了保障中国用户权益，英国Cressington公司从2011年经过认真考核后设立了官方中国区授权总代理商(只此一家)：溢鑫科创，以保障旗下所有产品在中国的前期市场开拓和后期服务支持。

208HR高分辨离子溅射仪-适用于场发射扫描电镜 一、主要特性。可选择多种镀膜材料。精确的膜厚控制。样品台控制灵活：可对样品台进行独立的旋转、行星式转动、倾斜控制，保证形貌差异大的样品也能得到最佳的镀膜效果。。多个样品座：提供4个样品座，每个样品座直径32mm，可装载多达6个小样品座。。样品室几何可变： 样品室几何用于调节镀膜的速率（1.0nm/s ～ 0.002nm/s）。宽范围的操作压力：独立的功率和压力调节，氩气的压力大小范围为0.2 - 0.005 mbar。。紧凑、现代的桌上型设计。操作容易 二、技术参数溅射系统镀膜头低电压平面磁控管靶材更换快速环绕暗区护罩靶材调节遮挡靶材Cr, Pt/Pd (标配) Ta, Au, Au/Pd, Pt, W, Ir （选配）镀膜控制微处理器控制安全互锁电流控制与真空度无关数字化可选电流（20，40，60 和 80mA）样品室大小直径150mm高度165 - 250mm样品台非重复的旋转、行星式转动，并可手动倾斜0-90°转动速度可调 晶体头4个样品台模拟计量真空 Atm - .001mb 电流 0-100mA控制方法自动气体净化和泄气功能自动处理排序带有“暂停”功能的数字计时器自动放气膜厚控制MTM-20高分辨膜厚控制仪真空系统结构分子涡轮牵引泵和旋叶泵组合，代替旋叶泵的无油涡旋式真空泵（选配）抽真空速度0.1mb 下300 l/min抽真空时间1 mbar 至 1 x 10-3mbar极限真空1 x 10-5mbar桌上型系统旋叶泵置于抗震台上，全金属真空耦合系统膜厚测控仪MTM-20基于微处理器，4位数字显示，复位按钮， 6MHz晶体（具有寿命检查功能），5次/s的更新速率膜厚范围0.0 - 999.9nm分辨率优于 0.1nm密度范围0.50 - 30.00gm/cm3修正系数范围0.25 - 8.00镀膜终止范围膜厚0 - 999.9nm系统要求电气100-120 或 200-240VAC, 50/60Hz功率550VA（最大）氩气最小纯度99.995% 调节压力 5 - 6 psi (0.4 bar) 6.0mm ID连接软管 208HR高分辨离子溅射仪为场发射扫描电镜应用中遇到的各种样品喷镀难题提供真正的解决方案。场发射扫描电镜观察时，样品需镀上极其薄、无细晶且均匀的膜层以消除电荷积累，并提高低密度材料的对比度。为了将细晶的尺寸减小到最小程度，208HR提供了一系列的镀膜材料，并对膜厚和溅射条件提供无可媲美的控制。 208HR分子涡轮泵高真空系统提供宽范围的操作压力，可以对膜层的均匀性和一致性进行精确控制，并最大程度减小充电效应。高/低样品室的结构设计使靶材和样品之间的距离调节变得极为方便。MTM-20高分辨膜厚控制仪分辨率小于0.1nm，其作用是对所镀薄膜的厚度进行精确控制，它尤其适合场发射电镜对膜厚（0.5－3nm）的要求。 场发射扫描电镜镀膜推荐的靶材是： 。Pt/Pd：非导电样品镀膜的通用镀膜材料 。Cr：优良的半导体样品的镀膜材料。Ir：优良的真正无细晶的镀膜材料 208HR系统为得到最佳高分辨镀膜效果提供了多种配置选择，可配备标准的旋片泵或提供干净真空的无油涡旋式真空泵，标配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶。

产品详情美国TED PELLA高分辨离子溅射仪208HR-适用于场发射扫描电镜 一、主要特性。可选择多种镀膜材料。精确的膜厚控制。样品台控制灵活：可对样品台进行独立的旋转、行星式转动、倾斜控制，保证形貌差异大的样品也能得到最佳的镀膜效果。。多个样品座：提供4个样品座，每个样品座直径32mm，可装载多达6个小样品座。。样品室几何可变： 样品室几何用于调节镀膜的速率（1.0nm/s ～ 0.002nm/s）。宽范围的操作压力：独立的功率和压力调节，氩气的压力大小范围为0.2 - 0.005 mbar。。紧凑、现代的桌上型设计。操作容易 二、技术参数溅射系统镀膜头低电压平面磁控管靶材更换快速环绕暗区护罩靶材调节遮挡靶材Cr, Pt/Pd (标配) Ta, Au, Au/Pd, Pt, W, Ir （选配）镀膜控制微处理器控制安全互锁电流控制与真空度无关数字化可选电流（20，40，60 和 80mA）样品室大小直径150mm高度165 - 250mm样品台非重复的旋转、行星式转动，并可手动倾斜0-90°转动速度可调 晶体头4个样品台模拟计量真空 Atm - .001mb 电流 0-100mA控制方法自动气体净化和泄气功能自动处理排序带有“暂停”功能的数字计时器自动放气膜厚控制MTM-20高分辨膜厚控制仪真空系统结构分子涡轮牵引泵和旋叶泵组合，代替旋叶泵的无油涡旋式真空泵（选配）抽真空速度0.1mb 下300 l/min抽真空时间1 mbar 至 1 x 10-3mbar极限真空1 x 10-5mbar桌上型系统旋叶泵置于抗震台上，全金属真空耦合系统膜厚测控仪MTM-20基于微处理器，4位数字显示，复位按钮， 6MHz晶体（具有寿命检查功能），5次/s的更新速率膜厚范围0.0 - 999.9nm分辨率优于 0.1nm密度范围0.50 - 30.00gm/cm3修正系数范围0.25 - 8.00镀膜终止范围膜厚0 - 999.9nm系统要求电气100-120 或 200-240VAC, 50/60Hz功率550VA（最大）氩气最小纯度99.995% 调节压力 5 - 6 psi (0.4 bar) 6.0mm ID连接软管 208HR高分辨离子溅射仪为场发射扫描电镜应用中遇到的各种样品喷镀难题提供真正的解决方案。场发射扫描电镜观察时，样品需镀上极其薄、无细晶且均匀的膜层以消除电荷积累，并提高低密度材料的对比度。为了将细晶的尺寸减小到最小程度，208HR提供了一系列的镀膜材料，并对膜厚和溅射条件提供无可媲美的控制。 208HR分子涡轮泵高真空系统提供宽范围的操作压力，可以对膜层的均匀性和一致性进行精确控制，并最大程度减小充电效应。高/低样品室的结构设计使靶材和样品之间的距离调节变得极为方便。MTM-20高分辨膜厚控制仪分辨率小于0.1nm，其作用是对所镀薄膜的厚度进行精确控制，它尤其适合场发射电镜对膜厚（0.5－3nm）的要求。 场发射扫描电镜镀膜推荐的靶材是： 。Pt/Pd：非导电样品镀膜的通用镀膜材料 。Cr：优良的半导体样品的镀膜材料。Ir：优良的真正无细晶的镀膜材料 208HR系统为得到最佳高分辨镀膜效果提供了多种配置选择，可配备标准的旋片泵或提供干净真空的无油涡旋式真空泵，标配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶。

货号：208HR供应商：广州科适特科学仪器有限公司现货状态：一个月保修期：1年数量：不限规格：208HR208HR高分辨离子溅射仪为场发射扫描电镜应用中遇到的各种样品喷镀难题提供真正的解决方案。场发射扫描电镜观察时，样品需镀上极其薄、无细晶且均匀的膜层以消除电荷积累，并提高低密度材料的对比度。为了将细晶的尺寸减小到最小程度，208HR提供了一系列的镀膜材料，并对膜厚和溅射条件提供无可媲美的控制。208HR分子涡轮泵高真空系统提供宽范围的操作压力，可以对膜层的均匀性和一致性进行精确控制，并最大程度减小充电效应。高/低样品室的结构设计使靶材和样品之间的距离调节变得极为方便。MTM-20高分辨膜厚控制仪分辨率小于0.1nm，其作用是对所镀薄膜的厚度进行精确控制，它尤其适合场发射电镜对膜厚（0.5－3nm）的要求。 场发射扫描电镜镀膜推荐的靶材是：Pt/Pd：非导电样品镀膜的通用镀膜材料Cr：优良的半导体样品的镀膜材料Ir：优良的真正无细晶的镀膜材料208HR系统为得到最佳高分辨镀膜效果提供了多种配置选择，可配备标准的旋片泵或提供干净真空的无油涡旋式真空泵，标配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶。一、主要特性 可选择多种镀膜材料 精确的膜厚控制 样品台控制灵活：可对样品台进行独立的旋转、行星式转动、倾斜控制，保证形貌差异大的样品也能得到最佳的镀膜效果。 多个样品座：提供4个样品座，每个样品座直径32mm，可装载多达6个小样品座。 样品室几何可变： 样品室几何用于调节镀膜的速率（1.0nm/s ～ 0.002nm/s） 宽范围的操作压力：独立的功率和压力调节，氩气的压力大小范围为0.2 - 0.005 mbar。 紧凑、现代的桌上型设计 操作容易二、技术参数溅射系统镀膜头低电压平面磁控管靶材更换快速环绕暗区护罩靶材调节遮挡靶材Cr, Pt/Pd (标配) Ta, Au, Au/Pd, Pt, W, Ir , Ti（选配）镀膜控制微处理器控制安全互锁电流控制与真空度无关数字化可选电流（20，40，60 和 80mA）样品室大小直径150mm 高度165 - 250mm样品台非重复的旋转、行星式转动，并可手动倾斜0-90° 转动速度可调 晶体头 4个样品台模拟计量真空 Atm - .001mb 电流 0-100mA 控制方法自动气体净化和泄气功能自动处理排序带有“暂停”功能的数字计时器自动放气膜厚控制MTM-20高分辨膜厚控制仪真空系统结构分子涡轮牵引泵和旋叶泵组合，代替旋叶泵的无油涡旋式真空泵（选配）抽真空速度0.1mb 下300 l/min抽真空时间1 mbar 至 1 x 10-3mbar极限真空1 x 10-5mbar桌上型系统旋叶泵置于抗震台上，全金属真空耦合系统膜厚测控仪MTM-20基于微处理器，4位数字显示，复位按钮， 6MHz晶体（具有寿命检查功能），5次/s的更新速率膜厚范围0.0 - 999.9nm分辨率优于 0.1nm密度范围0.50 - 30.00gm/cm3修正系数范围0.25 - 8.00镀膜终止范围膜厚0 - 999.9nm系统要求电气100-120 或 200-240VAC, 50/60Hz功率550VA（最大）氩气最小纯度99.995% 调节压力 5 - 6 psi (0.4 bar)6.0mm ID连接软管

S9000X Xe Plasma FIB-SEM S9000X Xe Plasma FIB-SEM TESCAN S9000X是一款氙（Xe）等离子超高分辨双束FIB-SEM系统，配置新颖的TriglavTM 超高分辨率电子镜筒以及zui新款的iFIB+TM离子镜筒，它的超高分辨表征能力和无与伦比的样品制备效率，足以应对半导体和材料表征中zui具挑战性的物理失效分析工作，实现大体积三维样品特性分析。TESCAN S9000X 是半导体和材料表征中zui具挑战性的物理失效分析应用的平台，具有ji高的精度和ji高的效率。 它不但提供了纳米尺寸结构分析所必需的高分辨率和表面灵敏度，为大体积 3D 样品特性分析保证zui佳条件。同时，它还提供非凡的 FIB 功能，可实现精确、无损的超大面积加工，包括封装技术和光电器件的横截面加工。 S9000X Xe Plasma FIB-SEM主要优势：&bull 新的 Essence 软件的用户界面可实现更轻松、更快速、更流畅的操作，包括碰撞模型和可定制的面向应用流程的布局；&bull 新一代 Triglav&trade UHR SEM 镜筒具有ji佳的分辨率，优化的镜筒内探测器系统在低束流能量下具有卓越的性能；&bull 轴向探测器通过能量过滤器，可以接收不同能量的电子信号，增强表面敏感性；&bull 新型 iFIB+&trade Xe 等离子 FIB 镜筒具有无与伦比的视野，可实现ji大面积的截面加工；&bull 新一代 SEM 镜筒内探测器结合高溅射率 FIB，实现超快三维微分析；&bull 专利的气体增强腐蚀和加工工艺，尤为适合封装和 IC 去层应用；&bull 高精度压电驱动光阑，可实现 FIB 预设值之间的快速切换；&bull 新一代 FIB 镜筒具有 30 个光阑，可延长使用寿命，并zui大限度地减少维护成本；&bull 半自动离子束斑优化向导，可轻松选择 FIB 铣削条件；&bull 专用的面向工作流程的 SW 模块、向导和工艺，可实现zui大的吞吐量和易用性。概述：突出特点 &bull ji高的吞吐量，适用于挑战性的大体积铣削任务新型 iFIB+&trade Xe 等离子 FIB 镜筒可提供高达 2 μA 的超高离子束束流，并保持束斑质量，从而缩短铣削任务的总时间。&bull 新型 iFIB+&trade Xe 等离子 FIB 镜筒具有无与伦比的视野，可实现ji大面积的截面加工新型 iFIB 镜筒具有等离子 FIB-SEM 市场中zui大的视场（FoV）。 在30 keV 下zui大视场范围超过 1 mm，结合高离子束流带来的超高溅射速率，可在几个小时之内完成截面宽度达 1 mm 的电子封装技术和其他大体积（如 MEMS 和显示器）样品加工。这是简化复杂物理失效分析工作流程的zui佳解决方案。 &bull 应用范围广阔，可扩展您在 FIB 分析和微加工应用范围新型 iFIB+&trade Xe 等离子 FIB 离子束流强度可调范围大，可在一台机器中实现广泛的应用：大电流可实现快速铣削速率，适用于大体积样品去层；中等电流适用于大体积 FIB 断层扫描；低束流用于 TEM 薄片抛光；超低束流用于无损抛光和纳米加工。 &bull 充分利用电子和离子束功能，实现应用zui大化快速、高效、高性能的气体注入系统（GIS）对于所有 FIB 应用都是必不可少的。新的 OptiGIS&trade 具有所有这些品质，S9000X 可以配备多达 6 个 OptiGIS 单元，或者可选配一个在线多喷嘴 5-GIS 系统。此外，不同的专有气体化学品和经过验证的配方可用于封装技术的物理失效分析。 &bull 轻松实现 FIB 精确调节，并保证 FIB zui佳性能新型 iFIB+ 镜筒配有超稳定的高压电源和精确的压电驱动光阑，可在 FIB 预设值之间快速切换。此外，半自动束斑优化向导允许用户轻松选择zui佳束斑，以优化特定应用的 FIB 铣削条件。 &bull zui小的表面损伤和无Ga离子注入样品制备，以保持样品的特性与 Ga 离子相比，Xe 离子的离子注入范围和相互作用体积明显更小，因此带来的非晶化损伤也更小，这在制备 TEM 样品薄片时尤其重要。此外，Xe 离子的惰性特性可防止研磨样品的原子形成金属化合物，这可能导致样品物理性质的变化，从而干扰电测量或其它分析。 &bull 强大的检测系统由 TriSE&trade 和 TriBE&trade 组成的多探测器系统，可收集不同角度的 SE 和 BSE 信号，以获得样品的zui大信息。 &bull 改进和扩展成像功能，获得有意义的衬度新一代 Triglav&trade 镜筒内探测器系统经过优化，信号检测效率提高了三倍。此外，增加的能量过滤功能，可以对轴向 BSE 信号过滤采集。通过选择性地收集低能量轴向 BSE，实现用不同的衬度来增强表面灵敏度。 &bull 超高速三维微分析镜筒内探测器系统可实现快速图像采集，结合 Xe 等离子体 FIB 的高溅射速率，可实现 3D 微量分析的超快速数据采集。EDS 和 EBSD 数据可以在 FIB-SEM 断层扫描期间同时获得。使用专用软件进行后处理，可以获得 3D 重建，实现整个焊球、TSV、金属合金等样品的独特微观结构，成分和晶体学信息。 &bull 提供微分析的zui佳工作条件新一代 Triglav&trade 还具有自适应束斑优化功能，可提高大束流下的分辨率。这有利于快速实现 EDS，WDS 和 EBSD 等分析技术。 &bull 更低的TOF-SIMS分析检测限，可获得不受干扰的元素质谱数据（与Ga+ FIB 相反，Ga+ 峰可能干扰其他元素如 Ce, Ge 和 Ga 本身的检测）。 &bull 不牺牲空间分辨率，而实现快速微分析Triglav&trade SEM 镜筒结合新型肖特基 FE 枪，可实现高达 400 nA 的电子束流，并实现束流快速调整。In-Flight Beam Tracing&trade 功能可以实现束流和束斑优化，满足微区分析的zui佳条件。 &bull 大尺寸晶圆分析得益于zui佳的 60° 物镜的几何设计和大样品腔室，可实现对 6“ 和 8”晶圆任意位置的 SEM 和 FIB 分析。 &bull 轻松实现以往复杂操作新的 TESCAN Essence&trade 软件平台是一个优xiu的多用户界面软件，可以快速方便地访问主要功能。用户界面易于学习，并可实现用户定制，以zui好地适应特定的应用程序和用户的技能水平以及使用习惯。各种软件模块，向导和流程使所有 FIB-SEM 应用程序都能为新手和专家用户提供轻松，流畅的体验，从而提高生产力并有助于提高实验室的效率。新的 TESCAN Essence&trade 还提供先进的DrawBeam&trade 矢量扫描发生器，用于快速精确的FIB加工和电子束光刻。 亚科电子（山东）设备咨询电话：

9000X Xe Plasma FIB-SEM TESCAN S9000X是一款氙（Xe）等离子超高分辨双束FIB-SEM系统，配置新颖的TriglavTM 超高分辨率电子镜筒以及zui新款的iFIB+TM离子镜筒，它的超高分辨表征能力和无与伦比的样品制备效率，足以应对半导体和材料表征中zui具挑战性的物理失效分析工作，实现大体积三维样品特性分析。TESCAN S9000X 是半导体和材料表征中zui具挑战性的物理失效分析应用的平台，具有ji高的精度和ji高的效率。 它不但提供了纳米尺寸结构分析所必需的高分辨率和表面灵敏度，为大体积 3D 样品特性分析保证zui佳条件。同时，它还提供非凡的 FIB 功能，可实现精确、无损的超大面积加工，包括封装技术和光电器件的横截面加工。 S9000X Xe Plasma FIB-SEM主要优势：• 新的 Essence 软件的用户界面可实现更轻松、更快速、更流畅的操作，包括碰撞模型和可定制的面向应用流程的布局；• 新一代 Triglav™ UHR SEM 镜筒具有ji佳的分辨率，优化的镜筒内探测器系统在低束流能量下具有卓越的性能；• 轴向探测器通过能量过滤器，可以接收不同能量的电子信号，增强表面敏感性；• 新型 iFIB+™ Xe 等离子 FIB 镜筒具有无与伦比的视野，可实现ji大面积的截面加工；• 新一代 SEM 镜筒内探测器结合高溅射率 FIB，实现超快三维微分析；• 专利的气体增强腐蚀和加工工艺，尤为适合封装和 IC 去层应用；• 高精度压电驱动光阑，可实现 FIB 预设值之间的快速切换；• 新一代 FIB 镜筒具有 30 个光阑，可延长使用寿命，并zui大限度地减少维护成本；• 半自动离子束斑优化向导，可轻松选择 FIB 铣削条件；• 专用的面向工作流程的 SW 模块、向导和工艺，可实现zui大的吞吐量和易用性。概述：突出特点 • ji高的吞吐量，适用于挑战性的大体积铣削任务新型 iFIB+™ Xe 等离子 FIB 镜筒可提供高达 2 μA 的超高离子束束流，并保持束斑质量，从而缩短铣削任务的总时间。• 新型 iFIB+™ Xe 等离子 FIB 镜筒具有无与伦比的视野，可实现ji大面积的截面加工新型 iFIB 镜筒具有等离子 FIB-SEM 市场中zui大的视场（FoV）。 在30 keV 下zui大视场范围超过 1 mm，结合高离子束流带来的超高溅射速率，可在几个小时之内完成截面宽度达 1 mm 的电子封装技术和其他大体积（如 MEMS 和显示器）样品加工。这是简化复杂物理失效分析工作流程的zui佳解决方案。 • 应用范围广阔，可扩展您在 FIB 分析和微加工应用范围新型 iFIB+™ Xe 等离子 FIB 离子束流强度可调范围大，可在一台机器中实现广泛的应用：大电流可实现快速铣削速率，适用于大体积样品去层；中等电流适用于大体积 FIB 断层扫描；低束流用于 TEM 薄片抛光；超低束流用于无损抛光和纳米加工。 • 充分利用电子和离子束功能，实现应用zui大化快速、高效、高性能的气体注入系统（GIS）对于所有 FIB 应用都是必不可少的。新的 OptiGIS™ 具有所有这些品质，S9000X 可以配备多达 6 个 OptiGIS 单元，或者可选配一个在线多喷嘴 5-GIS 系统。此外，不同的专有气体化学品和经过验证的配方可用于封装技术的物理失效分析。 • 轻松实现 FIB 精确调节，并保证 FIB zui佳性能新型 iFIB+ 镜筒配有超稳定的高压电源和精确的压电驱动光阑，可在 FIB 预设值之间快速切换。此外，半自动束斑优化向导允许用户轻松选择zui佳束斑，以优化特定应用的 FIB 铣削条件。 • zui小的表面损伤和无Ga离子注入样品制备，以保持样品的特性与 Ga 离子相比，Xe 离子的离子注入范围和相互作用体积明显更小，因此带来的非晶化损伤也更小，这在制备 TEM 样品薄片时尤其重要。此外，Xe 离子的惰性特性可防止研磨样品的原子形成金属化合物，这可能导致样品物理性质的变化，从而干扰电测量或其它分析。 • 强大的检测系统由 TriSE™ 和 TriBE™ 组成的多探测器系统，可收集不同角度的 SE 和 BSE 信号，以获得样品的zui大信息。 • 改进和扩展成像功能，获得有意义的衬度新一代 Triglav™ 镜筒内探测器系统经过优化，信号检测效率提高了三倍。此外，增加的能量过滤功能，可以对轴向 BSE 信号过滤采集。通过选择性地收集低能量轴向 BSE，实现用不同的衬度来增强表面灵敏度。 • 超高速三维微分析镜筒内探测器系统可实现快速图像采集，结合 Xe 等离子体 FIB 的高溅射速率，可实现 3D 微量分析的超快速数据采集。EDS 和 EBSD 数据可以在 FIB-SEM 断层扫描期间同时获得。使用专用软件进行后处理，可以获得 3D 重建，实现整个焊球、TSV、金属合金等样品的独特微观结构，成分和晶体学信息。 • 提供微分析的zui佳工作条件新一代 Triglav™ 还具有自适应束斑优化功能，可提高大束流下的分辨率。这有利于快速实现 EDS，WDS 和 EBSD 等分析技术。 • 更低的TOF-SIMS分析检测限，可获得不受干扰的元素质谱数据（与Ga+ FIB 相反，Ga+ 峰可能干扰其他元素如 Ce, Ge 和 Ga 本身的检测）。 • 不牺牲空间分辨率，而实现快速微分析Triglav™ SEM 镜筒结合新型肖特基 FE 枪，可实现高达 400 nA 的电子束流，并实现束流快速调整。In-Flight Beam Tracing™ 功能可以实现束流和束斑优化，满足微区分析的zui佳条件。 • 大尺寸晶圆分析得益于zui佳的 60° 物镜的几何设计和大样品腔室，可实现对 6“ 和 8”晶圆任意位置的 SEM 和 FIB 分析。 • 轻松实现以往复杂操作新的 TESCAN Essence™ 软件平台是一个优xiu的多用户界面软件，可以快速方便地访问主要功能。用户界面易于学习，并可实现用户定制，以zui好地适应特定的应用程序和用户的技能水平以及使用习惯。各种软件模块，向导和流程使所有 FIB-SEM 应用程序都能为新手和专家用户提供轻松，流畅的体验，从而提高生产力并有助于提高实验室的效率。新的 TESCAN Essence™ 还提供先进的DrawBeam™ 矢量扫描发生器，用于快速精确的FIB加工和电子束光刻。 设备咨询电话：（微信同号）；QQ：；邮箱：欢迎您的来电咨询！

追求ji致性能！完成具挑战性的纳米分析工作。TESCAN推出了全新yi代S8000系列扫描电镜，目前包括：S8000型超高分辨场发射扫描电镜和S8000G型镓离子聚焦离子束双束扫描电镜。S8000 FE-SEM全新设计的S8000超高分辨场发射扫描电镜可以提供无与伦比的图像质量，具有强大的扩展分析能力，能够满足现今工业研发和科研的所有需求，不仅适用于高端的纳米分析应用，也给操作者带来舒适、高效的使用体验。 S8000 FE-SEM的优点： 新yi代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力 首次配置的静电-电磁复合物镜，物镜无磁场外泄，实现磁性样品高分辨成像及S8000G FIB-SEMS8000G是TESCAN新S8000系列扫描电镜的第yi个新成员，是yi款超高分辨双束FIB-SEM系统，它可以提供无与伦比的图像质量，具有强大的扩展分析能力，并能以ji佳的精度、效率完成复杂的纳米加工和操作，可满足现今工业研发和学术界研究的所有需求。 S8000G FIB-SEM的优点： 新yi代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力 首次配置的静电-3 S8000 系列（NEW ! ）S8000 FE-SEM全新设计的S8000超高分辨场发射扫描电镜可以提供无与伦比的图像质量，具有强大的扩展分析能力，能够满足现今工业研发和科研的所有需求，不仅适用于高端的纳米分析应用，也给操作者带来舒适、高效的使用体验。S8000 FE-SEM的优点： 新yi代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力 首次配置的静电-电磁复合物镜，物镜无磁场外泄，实现磁性样品高分辨成像及分析 配置4个新yi代探测器，可实现9种图像观测，对样品信息的采集更加全面 配置大型样品室，有超过20个扩展接口，为原位观测、分析创造了良好的工作环境 可以配置TESCAN自有或第三方的多种扩展分析附件，如EDS、EBSD、CL、EBL，并du家实现与Raman联用S8000 系列（NEW ! ）S8000G FIB-SEM S8000G是TESCAN新S8000系列扫描电镜的第yi个新成员，是yi款超高分辨双束FIB-SEM系统，它可以提供无与伦比的图像质量，具有强大的扩展分析能力，并能以ji佳的精度、效率完成复杂的纳米加工和操作，可满足现今工业研发和学术界研究的所有需求。S8000G FIB-SEM的优点： 新yi代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力 首次配置的静电-电磁复合物镜，物镜无磁场外泄，实现磁性样品高分辨成像及分析 配置4个新yi代探测器，可实现9种图像观测，对样品信息的采集更加全面 配置大型样品室，有超过20个扩展接口，为原位观测、分析创造了良好的工作环境 可以配置TESCAN自有或第三方的多种扩展分析附件，并du家实现与TOF-SIMS、Raman联用 新yi代操作软件和自动功能，FIB镜筒具有全自动的离子镜筒对中，极大简化了操作北京亚科电子（山东）设备咨询电话：

ARGOWING超高分辨率多光谱相机姓名：曹工(Leo)电话：（微信同号）邮箱：以色列数字农业技术开发公司Agrowing基于Sony现有的并且经过良好验证的传感器，开发研制出了三组多镜头系统，兼容多款索尼数码相机，例如R10C、Alpha6000、Alpha6300、Alpha 7Rxx等等。Agrowing的传感器相比其他任何现有的传感器，具有更高的分辨率和质量，克服了多光谱农业图像采集的一些主要问题。通过每像素0.5毫米以下的多光谱图像采集，获取到了更精细更准确的数据。Argowing超高分辨率多光谱相机主要特点：所有色度波段的连续数字对齐，无论获取距离。能捕捉每个像素1mm甚至0.5mm的高分辨率多光谱图像，并且能够进行人工智能分析、机器学习和分类。镜片全部由玻璃和金属制成，不受环境的影响。拥有更广泛的动态范围，更多的波段和更高的分辨率。克服了同步和视差这类多光谱相机设计的典型问题。传感器可拍摄多光谱视频。传感器带可根据客户需求定制(滤镜部分有起订量要求)。传感器的制造质量是索尼的品质。Argowing超高分辨率多光谱相机产品参数： 类别Sony MCU R10CSony Alpha 6x00Sony Alpha 7Rxx-QuadSony Alpha 7Rxx-Sextuple光谱通道35nm带宽 450 550 650 850nm35nm带宽450 550 710 850nm(含两个镜头，可互换)35nm带宽 450 550 650 850nm35nm带宽450 550 710 850nm(含两个镜头，可互换)30nm 20nm 和 15nm*带宽405 430 450 550 560 570 650 685 710* 85030nm 20nm 和 15nm* 带宽 405 430 450 490 525 550 560 570 630 650 685 710* 735 850nm光谱图像分辨率单通道为800万像素 (3600x2200像素)，适用于 2100万像素的相机单通道为1000万像素 (3850x2600像素)，适用于 2430万像素的相机单通道为800万像素 (3600x2200像素)，基于索尼Alpha 7Rii的传感器单通道为750万像素 (2780x2650像素)，基于索尼 Alpha 7Riv 的传感器有效焦距25mm25mm25mm21.8mm聚焦方式及范围手动，0.4m-∞手动，0.4m-∞手动，2m-∞手动，2m-∞F值6.06.06.05.6尺寸规格60×35.2mm60×35.2mm60×35.2mm60×35.2mm镜头重量144g144g181g191gDJI Accessories Coming Soon！！！ Argowing 原始图像及波段数据

S8000 系列（NEW ! ） 追求ji致性能！完成具挑战性的纳米分析工作。TESCAN推出了全新yi代S8000系列扫描电镜，目前包括：S8000型超高分辨场发射扫描电镜和S8000G型镓离子聚焦离子束双束扫描电镜。S8000 FE-SEM全新设计的S8000超高分辨场发射扫描电镜可以提供无与伦比的图像质量，具有强大的扩展分析能力，能够满足现今工业研发和科研的所有需求，不仅适用于高端的纳米分析应用，也给操作者带来舒适、高效的使用体验。 S8000 FE-SEM的优点： 新yi代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力 首次配置的静电-电磁复合物镜，物镜无磁场外泄，实现磁性样品高分辨成像及S8000G FIB-SEMS8000G是TESCAN新S8000系列扫描电镜的第yi个新成员，是yi款超高分辨双束FIB-SEM系统，它可以提供无与伦比的图像质量，具有强大的扩展分析能力，并能以ji佳的精度、效率完成复杂的纳米加工和操作，可满足现今工业研发和学术界研究的所有需求。 S8000G FIB-SEM的优点： 新yi代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力 首次配置的静电-S8000 FE-SEM的优点： 新yi代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力 首次配置的静电-电磁复合物镜，物镜无磁场外泄，实现磁性样品高分辨成像及分析 配置4个新yi代探测器，可实现9种图像观测，对样品信息的采集更加全面 配置大型样品室，有超过20个扩展接口，为原位观测、分析创造了良好的工作环境 可以配置TESCAN自有或第三方的多种扩展分析附件，如EDS、EBSD、CL、EBL，并du家实现与Raman联用S8000G FIB-SEM的优点： 新yi代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力 首次配置的静电-电磁复合物镜，物镜无磁场外泄，实现磁性样品高分辨成像及分析 配置4个新yi代探测器，可实现9种图像观测，对样品信息的采集更加全面 配置大型样品室，有超过20个扩展接口，为原位观测、分析创造了良好的工作环境 可以配置TESCAN自有或第三方的多种扩展分析附件，并du家实现与TOF-SIMS、Raman联用 新yi代操作软件和自动功能，FIB镜筒具有全自动的离子镜筒对中，ji大简化了操作设备咨询电话：（微信同号）；QQ：；邮箱：欢迎您的来电咨询！

美国Spectroglyph LLC公司的MALDI/ESIInjector采用新型双离子漏斗接口,实现MALDI/ESI双离子源结合,在生物样本中可实现组织成像与结构鉴定,通过配置t-MALDI、MALDI-2等技术并搭载Thermo Scientific&trade QExactive"/Orbitrap Exploris"系列超高分辨率质谱检测仪,使成像系统兼具高灵敏度、高空间分辨率、高质量分辨率和高质量精度的特性,操作简单，适用范围广。该系统能够快速有效的进行生物组织样本的成像检测,可实现单细胞或亚细胞分辨率下的成像检测，将会助您探索更多的科学奥秘。1、质谱成像技术优势:：（1）无标记检测技术，无需放射性同位素或荧光标记，无需染色 （2）待检测物质多样，不局限于特异的一种或几种分子,可以对非目标性物质同时进行成像分析 （3）既可获得分子的空间分布信息，还能够提供目标物质的分子结构信息 （4）可直接分析组织切片或细胞，样本兼容性高。2、独特的Dual lon Funnel设计，实现MALDI与ESI源之间快速转换DPSS固态激光器，搭载可视化光学系统 同时搭载MALDI与ESI离子源，可进行质谱成像与结构鉴定 双离子漏斗结构，可以进行快速离子源切换 MALDI-2激光诱导后电离技术,提高检测灵敏度 采用Transmission透射模式,提高空间分辨率 序列编辑器，可依次对靶板上的不同组织区域进行分析。3、样本类型各种组织：植物器官,动物新鲜组织、冷冻组织，培养细胞，类器官等各类分子：脂类 (磷脂：PC、PE、SM、SE)、多肽、代谢物、药物及代谢产物数百种分子同时成像：筛选与鉴定同时进行，目标分子可进行多级质谱分析，准确鉴定其组成与结构非靶向性检测，无需任何标记4、MALDI ESI INJECTOR 透射式超高分辨质谱成像系统特点：1um高空间分辨率，可实现单细胞及亚细胞水平成像分析；DDAlmagingMode质谱成像数据采集模式；高分辨质谱成像专用数据分析软件；高空间分辨率和高质量分辨率保证分子化合物的最佳成像效果；搭载Thermo Scientific&trade QExactive&trade /Orbitrap Exploris&trade 等多个系列质谱仪，提供高质量精度和分辨率(1ppm RMS)。性能参数：应用方向：一、单细胞高分辨成像 细胞是组成生命体的基本单元，了解特定细胞的生物分子组成是了解潜在生物和生化过程的关键因素。由于细胞的异质性，在群体细胞乃至组织水平上的采样可能使得一些重要的分子信息淹没在大量的正常细胞中而被忽略。Spectro-glyph LLC t-MALDI-2-MSI成像系统,采用激光透射模式将空间分辨率提升至1um以内，并且应用MALDI-2激光后电离技术提高了检测灵敏度，对于单细胞成像提供了丰富的表型特征信息，为单细胞研究提供了坚实的技术支持。通过t-MALDI-2在单细胞和细胞培养物中进行成像分析，以Vero B4细胞作为研究对象，通过比较明场图像与MSI成像发现t-MALDI-2可获得亚细胞级的分辨率，并且在负离子模式下获得了和正离子模式测量中相似的高质量图像。图1 a ITO载玻片上生长的Vero B4细胞明场显微图像；b来自基质的特征性背景离子(m/z=633.042)图像；c-e 代表性t-MALD1-2-MS离子图像，,像素大小为1.0um；f a图明场显微镜图像中红色轮廓区域放大图；g三个物质的叠加图像,分别来自背景离子(b；蓝色)；PE(40:6)，[M+H](c绿色)；PC(34:1)，[M+K，(d,橙色)；h基质涂覆细胞培养物的显微明场图像，区域为f中的轮廓区域。参考文献：Transmission-mode MALDl-2 mass spectrometry imaging of cells and tissues at subcellular resolution. Nat Methods, 16,925-931 (2019).二、脂类研究 脂质具有区分和识别不同组织和细胞类型的可能性，脂质的重要生物功能与机体的生理、病理过程有着紧密的联系。脂质的变化对疾病背后的相关生化途径提供着重要的价值意义，并且脂类代谢异常也是引发多种疾病的重要原因，研究脂类分子的组织空间特异性分布对阐明脂代谢异常疾病的相关机制也有着重要的意义。MALDI-2激光诱导后电离技术能够对传统MALDI检测中生成的中性脂质分子再次进行电离，提升了脂质分子的检测灵敏度。图2所示为应用Spectroglyph LLC MALDI Injector的MALDI-2 技术在大鼠的脑组织切片中对130mDa m/z质量窗口下的脂质分子进行成像。传统的MALDI下只检测到一种脂质分子，使用MALD1-2额外检测到三种脂质分子，大大提升检测的灵敏度。脂类分子大鼠脑组织中的空间分布图2 大鼠脑组织切片 MALDI(底部)和MALDI-2(顶部)质谱图的放大截面和对应离子图像。除MALD1-2中[PC(34:1)+Na]+(3.4 ppm)和MALDI中[PC(36:4)+H]+ (-2.7 ppm)，其他质量误差均小于2 ppm。 参考文献：Laser post-ionisation combined with a high resolving power orbitrap mass spectrometer for enhanced MALDI-MS imaging olipids.Chem.Commun,53,7246-7249 (2017).

TESCAN AMBER X 是完美结合了分析型等离子 FIB 和超高分辨（UHR）扫描电镜的综合分析平台，能够很好的应对传统的 Ga 离子 FIB-SEM 难以完成的困难挑战。TESCAN AMBER X 配置了氙（Xe）等离子 FIB 镜筒和 BrightBeam™ 电子镜筒，能够同时提供高效率、大面积样品刻蚀，以及无漏磁超高分辨成像，适用于各类传统或新型材料的二维成像以及大尺度的 3D 结构表征。拥有 AMBER X 不仅能够满足您现阶段对材料探索的需求，也为您将来的研究工作做好充分的准备。AMBER X 等离子 FIB 不但能轻松应对常规的样品研磨和抛光工作，而且能快速制备出宽度可达1 毫米的截面。氙等离子束对样品的损伤最小，且不会导致注入引起的污染和非晶化。氙是一种惰性元素，所以可以实现对铝等材料进行无污染的样品制备和加工，不用担心传统镓离子 FIB 加工时由于镓离子污染或注入可能导致的微观结构和/或机械性能改变。镜筒内 SE 和 BSE 探测器经过优化，可以在 FIB-SEM 重合点位置获得高质量的图像。TESCAN AMBER X 更有利于安装各类附件的几何设计为样品的综合分析提供了前所未有的潜力，而且还能够进行多模态的 FIB-SEM 层析成像。TESCAN Essence™ 是一款支持用户可根据需求自定义界面的模块化软件。因此，TESCAN AMBER X 可以轻松的从一个多用户、多用途的工作平台转变为用于高效率、大面积 FIB 样品加工的专用工具。主要特点：● 高效率、大面积样品刻蚀，最大宽度可达1毫米的截面。 ● 无镓离子污染的样品加工。 ● 无漏磁的场发射扫描电镜，实现超高分辨成像和显微分析。● 镜筒内二次电子和镜筒内背散射电子探测器。 ● 束斑优化，可确保高效率、多模态 FIB-SEM 断层扫描的效果。● 超大的视野范围，便于样品导航。 ● 可轻松操作的模块化电镜控制软件 Essence™ 。

TESCAN SOLARIS 新一代超高分辨镓离子FIB-SEMTESCAN SOLARIS 是一款镓离子源的 FIB-SEM 系统，适用于超薄 TEM 样品制备和其它具有挑战性的纳米加工任务，这些任务要求设备具有最佳的分辨率、最先进的离子光学系统和最好的纳米加工能力。TESCAN SOLARIS 的 Triglav™ 型 SEM 镜筒具有超高的分辨率，特别是在低电压下；镜筒内探测器系统具有电子信号过滤能力，为获得更好的图像衬度和表面灵敏度翻开了全新的篇章。TESCAN SOLARIS 的 Orage™ 型 FIB 镜筒保证了出色的低电压离子束分辨率和微加工性能，可以满足制备小于 20 nm 的、最佳质量的半导体器件超薄 TEM 样品的需要。此外，高达 100 nA 的大离子束流可以对生物样品和材料进行指定位置的、大体积 FIB-SEM 逐层扫描，图像也具有出色的衬度。TESCAN SOLARIS 使用了全新的 Essence™ 软件，软件用户界面友好，可以满足各类应用需求，可定制的软件布局以及自动化的样品制备功能，最大限度地提升了操作便捷性和工作效率。TESCAN SOLARIS Ga FIB-SEM 突出特点：1. 可选择性采集能量过滤后的电子信号，获得更好的表面灵敏度和衬度2. 离子束流变化范围大，满足不同精度、体积要求的样品加工任务3. 最低电压可达 500 eV，能够获得小于 20 nm 且具有极高品质的超薄 TEM 样品4. FIB-SEM 层析成像的同时，可获得 EDS 和 EBSD 数据，快速进行 3D 超微结构研究和微量分析表征TESCAN SOLARIS Ga FIB-SEM 主要优势： * 更加优秀的成像能力新一代 Triglav™ 镜筒中的镜筒内探测器系统经过进一步优化，信号检测效率提高了三倍以上。此外，该系统还扩展了检测能力，能够采集能量过滤后的轴向背散射电子信号，通过选择性地收集低损耗背散射电子来获得更好的衬度和表面灵敏度。* 世界一流的样品制备质量Orage™ FIB 镜筒采用先进的离子光学设计，在整个电压范围内均可以保证优秀的分辨率，同时还可以提供多种样品制备条件。低电压下的出色性能使得该 FIB 镜筒可以执行最具挑战性的纳米加工任务，它可以在低电压下完成最后抛光并获得小于 20 nm 且具有极高品质的超薄 TEM 样品。* 增强的表面灵敏度、衬度新一代 Triglav™ 镜筒具有电子信号选择检测功能，这一功能可以帮助用户获得更好的表面灵敏度并能够获得不同的衬度。图像中可以体现形貌或是材料成分，也可以同时体现这两者，以便用户能够在最短时间内最大限度地观察样品。* 最大限度地制备各类样品Orage™ 镜筒能够产生高达 100 nA 的离子束流，同时保证离子束的质量。因此，无论是在低离子束流下制备精密的纳米结构，还是利用高离子束流以满足大体积蚀刻的要求，Orage™ 镜筒无与伦比的多功能性都可以满足该类应用需求。* 保证最佳的分析条件 新一代 Triglav™ 镜筒还具有自适应束斑优化功能，可以提高了大束流下的分辨率，这一特点有利于更好的进行 EDS、WDS 和 EBSD 等分析。此外，肖特基场发射电子枪能够产生高达 400 nA 的电子束流，电压也可以快速改变并保证在所有的分析应用下都能够获得良好的信号；在进行大离子束流加工时，也可针对不导电试样进行电荷中和。 * 更充分的利用离子束 快速、高效、高性能的气体注入系统（GIS）对于所有 FIB 应用都是必不可少的。新一代 OptiGIS™ 单支气体注入系统具备了所有的这些特性，TESCAN SOLARIS 可配备多达 6 支 OptiGIS。您也可以选择集成了 5 支同轴喷嘴的气体注入系统，实现更多样化的功能。此外，我们还可以提供不同的特殊气体和实用的平面IC去层方案。 * 快速三维分析功能 新型强化的镜筒内探测系统结合高达 100 nA 的大离子束流，可实现快速数据采集，用于 3D 超微结构研究和 3D 微量分析表征。在 FIB-SEM 层析成像过程中，能够同时获得 EDS 和 EBSD 数据，并通过专用软件进行三维重构，为生命科学或纳米材料研究者提供独特的视角和结果。 * 轻松实现最高精度和最佳 FIB 性能 Orage™ 型 FIB 镜筒配有超稳定的高压单元和精确的压电驱动光阑变换器，可在 FIB 预设的参数上快速且高精度的重复切换。 此外，半自动的束斑优化向导允许用户轻松选择最佳的束斑，优化特定应用下的 FIB 条件。 * TESCAN SOLARIS 是 S9000G 升级机型。

超高分辨散射式近场光学显微镜-neaSNOMneaSNOM是德国neaspec公司推出的第三代散射式近场光学显微镜（简称s-SNOM），其采用了专利化的散射式核心设计技术，极大的提高了光学分辨率，并且不依赖于入射激光的波长，能够在可见、红外和太赫兹光谱范围内，提供优于10nm空间分辨率的光谱和近场光学图像。由于其高度的可靠性和可重复性。neaSNOM业已成为纳米光学领域热点研究方向的首选科研设备，在等离基元、纳米FTIR和太赫兹等众多研究方向得到了许多重要科研成果。最近，neaspec公司成功开发了可见至太赫兹高分辨光谱和成像综合系统，将上述sSNOM功能与纳米红外（FTIR）、针尖增强拉曼（TERS）、超快光谱（ultrafast）和太赫兹光谱（THz）进行联用，可以为广大科学工作者在等离子激元、二维材料声子极化、半导体载流子子浓度分布、生物材料红外表征、电子激发及衰减过程等的研究上提供相关支持。neaSNOM技术特点和优势：neaSNOM是目前世界上唯一成熟的s-SNOM产品专利保护的散射式近场光学测量技术—独有的极高10 nm空间分辨率专利的高阶解调背景压缩技术—在获得10nm空间分辨率的同时保持极高的信噪比专利保护的干涉式近场信号探测单元专利的赝外差干涉式探测技术—能够获得对近场信号强度和相位的同步成像专利保护的反射式光学系统—用于宽波长范围的光源：可见、红外以至太赫兹高稳定性的AFM系统，—同时优化了纳米尺度下光学测量双光束设计—极高的光学接入角：水平方向180°，垂直方向60°操作和样品准备简单—仅需要常规的AFM样品准备过程neaSNOM重要应用领域：表面等离激元石墨烯六方氮化硼光电流/太赫兹化学过程高分子/生物材料应用案例Science：石墨烯莫尔(moiré）超晶格纳米光子晶体近场光学研究光子晶体又称光子禁带材料。从结构上看，光子晶体是一类在光学尺度上具有周期性介电结构的人工设计和制造的晶体，其物理思想可类比半导体晶体。通过设计，这类晶体中光场的分布和传播可以被调控，从而达到控制光子运动的目的，并使得某一频率范围的光子不能在其中传播，形成光子带隙。光子晶体中介质折射率的周期性结构不仅能在光子色散能带中诱发形成完整的光子带隙，而且在特定条件下还可以产生一维（1D）手性边界态或具有Dirac（或Weyl）准粒子行为的奇异光子色散能带。原则上，光子晶体的概念也适用于控制“纳米光”的传播。该“纳米光”指的是限域在导电介质表面的光子和电子的一种耦合电磁振荡行为，即表面等离子体激元（SPPs）。该SPP的波长，λp，相比入射光λ0来说最多可减少三个数量级。如果要想构筑纳米光子晶体，我们需要在λp尺度上实现周期性介电结构，传统方法中采用top-down技术来构建纳米光子晶体，该方法在加工和制造方面具有较大的限制和挑战。2018年12月，美国哥伦比亚大学D.N. Basov教授在Science上发表了题为Photonic crystals for nano-light in moiré graphene superlattices的全文文章。研究者利用存在于转角双层石墨烯结构（twisted bilayer grapheme, TBG）中的莫尔（moiré）超晶格结构，成功构筑了纳米光子晶体，并利用德国neaspec公司的neaSNOM纳米高分辨红外近场成像显微镜研究了其近场光导和SPP特性，证明了其作为纳米光子晶体对SPP传播的调控。纳米近场成像对钙钛矿太阳能电池的研究苏州大学Q.L. Bao教授等人在钙钛矿结构微纳米线的光电转换离子迁移行为和载流子浓度分布等领域作出了突出贡献。2016年，发表在ACS Nano上的钙钛矿结构微纳米线的光电转换离子迁移行为的研究中，作者利用Neaspec公司的近场光学显微镜neaSNOM发现：1. 未施加外场电压时， 该微纳米线区域中载流子密度（图1 g. s-SNOM振幅信号）和光折射率（图1 g. s-SNOM相位信号）较均匀；2. 施加外场正电压时，该区域中载流子密度随I-离子（Br?）的迁移而向右移动（图1 h. s-SNOM振幅信号），其光折射率随随MA+离子（CH3NH3+）的迁移而向左移动（图1 g. s-SNOM相位信号）较均匀；3. 施加外场负压时，情况正好与施加正电压时相反（图1 i）。该研究显示弄清无机-有机钙钛矿结构中的离子迁移行为对于了解钙钛矿基的特殊光电行为具有重要意义，进而为无机-有机钙钛矿材料的光电器件应用打下了坚实的基础。图1.SNOM测量钙钛矿结构微纳米线的光电转换的离子迁移行为。d-f. 离子迁移测量示意图；g-i,相应的s-SNOM光学信号振幅和相位图2017年， Q.L. Bao教授等人发表在AdvanceMaterials的文章中再次利用Neaspec公司的近场光学显微镜neaSNOM，首次在实验中研究了太阳能电池表面钙钛矿纳米粒子涂层的载流子密度。结果显示：钙钛矿纳米粒子覆盖区域近场信号强度高于Si/SiO2区域中信号强度（参见下图2 b 图2 a为对应区域的形貌）。另外作者也研究了增加光照的时间的影响（参见下图2 c, d）。其结果显示：近场信号强度随光照时间增加，从12.5 μV (黄色，0 min) 增加到 14.4 μV (红色, 60 min)，该近场信号反映了可移动自由载流子密度的变化。最终，红外光neaSNOM研究结果证明：随光照时间增加，太阳能电池表面的钙钛矿纳米粒子涂层富集和捕获了大量的电子。参考文献：1、Wang Y.H. et. al. The Light-InducedField-Effect Solar Cell Concept - Perovskite Nanoparticle Coating IntroducesPolarization Enhancing Silicon Cell Efficiency. Advanced Material 2017, First published: 3 March 2017 DOI: 10.1002/adma.201606370.2、Zhang Y.P. et. al. Reversible StructuralSwell?Shrink and Recoverable Optical Properties in Hybrid Inorganic?OrganicPerovskite. ACS Nano 2016,10, 7031?7038.丝纤蛋白电调控构象转变及其光刻应用的纳米红外研究中科院微系统所陶虎教授带领的研究团队利用neaspec公司的近场光学显微镜（neaSNOM）高化学敏感和10 nm空间分辨的优势，在纳米尺度近分子水平研究了电调控下丝蛋白中的多形态转变。 该研究在纳米尺度实现了蛋白质结构转换的探测，结合纳米精度的电子束光刻技术能为我们在二维及三维尺度实现丝蛋白的结构控制提供有力的方法；同时该工作为开启纳米尺度的蛋白质结构研究和探究蛋白质电诱导构象变化的临界条件铺平了道路；为未来设计基于蛋白质的纳米结构提了供新的规则。参考文献：1. Nanoscale probing of electron regulated structural transitions in silk proteins by near field IR imaging and nano-spectroscopy， Nature Comm. 7:130792. Precise Protein Photolithography (P3): High Performance Biopatterning Using Silk Fibroin Light Chain as the Resist, Adv. Sci. 2017, 1700191可调谐低损耗一维InAs纳米线的表面等离激元研究亚波长下光的调控与操纵对缩小光电器件的体积、能耗、集成度以及响应灵敏度有着重要意义。其中，外场驱动下由电子集体振荡形成的表面等离激元能将光局域在纳米尺度空间中，是实现亚波长光学传播与调控的有效途径之一。然而，表面等离激元技术应用的最关键目标是同时实现：①高的空间局域性，②低的传播损耗，③具有可调控性。但是，由于金属表面等离激元空间局域性较小，在长波段损耗较大且无法电学调控限制了其实用化。由中科院物理所和北京大学组成的研究团队报道了砷化铟（InAs）纳米线作为一种等离激元材料可同时满足以上三个要求。作者利用neaspec公司的近场光学显微镜（neaSNOM, s-SNOM）在纳米尺度对砷化铟纳米线表面等离激元进行近场成像并获得其色散关系。通过改变纳米线的直径以及周围介电环境，实现了对表面等离激元性质的调控，包括其波长、色散、局域因子以及传波损耗等。作者发现InAs纳米线表面等离激元展现出：①制备简易，②高局域性，③低的传波损耗，④具有可调控性，这为用于未来亚波长应用的新型等离子体电路提供了一个新的选择。该工作发表在高水平的Advanced Materials 杂志上。参考文献：Tunable Low Loss 1D Surface Plasmons in InAs Nanowires，Yixi Zhou, Runkun Chen, Jingyun Wang, Yisheng Huang, Ming Li, Yingjie Xing, Jiahua Duan, Jianjun Chen, James D. Farrell, H. Q. Xu, Jianing Chen， Adv. Mater. 2018, 1802551范德华材料异质结构的近场纳米成像研究范德华材料拥有一整套不同的激元种类，在所有已知材料中的具有最高的自由度。德国neaspec公司提供的先进近场成像方法（s-SNOM）允许极化波在范德华层或多层异质结构中传播时被激发和可视化，从而被广泛应用到范德华材料激元的研究中，为研究人员对范德华材料体系中激元的激发、传播、调控等研究提供了有力的工具。另一方面，范德华材料系统中激元的优点是它们具有的电可调性。此外，在由不同的范德华层构成的异质结构中，不同种类的激元相互作用，从而可以在原子尺度上实现激元的完美控制。德neaspec公司提供的纳米光谱（nano-FTIR）和纳米成像成功被研究人员用于激元的调控等研究中，通过实验证实，研究人员已经成功开启了操控激元相关纳米光学现象的多种途径。范德华材料中激元的先进近场光学可视化成像研究：A、石墨烯中Dirac等离激元；B、 石墨烯纳米共振器边缘的等离激元；C、碳纳米管中的一维等离激元；D、 石墨烯-六方氮化硼moiré 超晶格体系中的超晶格等离激元；E、六方氮化硼上石墨烯的杂化等离子-声子激元；F、WSe2中的激子激元；G、 双曲六方氮化硼中的声子激元及波导传播参考文献：Basov, D. N et. al Polaritons in van der Waals materials, Science, 354, aag1992(2016). DOI: 10.1126/science.aag1992发表文章部分最新发表文章：Science (2017) doi:10.1126/science.aan2735Tuning quantum nonlocal effects in graphene plasmonicsNature Nanotechnology (2017) doi:10.1038/nnano.2016.185Acoustic terahertz graphene plasmons revealed by photocurrent nanoscopyNature Photonics (2017) doi:10.1038/nphoton.2017.65Imaging exciton–polariton transport in MoSe2 waveguidesNature Materials (2016) doi:10.1038/nnano.2016.185Acoustic terahertz graphene plasmons revealed by photocurrent nanoscopyNature Materials (2016) doi:10.1038/nmat4755Thermoelectric detection and imaging of propagating graphene plasmons国内用户最新发表文章：Nat. Commun. 8, 15561(2017)Imaging metal-like monoclinic phase stabilized by surface coordination effect in vanadium dioxide nanobeamAdv. Mater. 29, 1606370 (2017)The Light-Induced Field-Effect Solar Cell Concept –Perovskite Nanoparticle Coating Introduces Polarization Enhancing Silicon Cell EfficiencyLight- Sci & Appl 6, 204 (2017)Effects of edge on graphene plasmons as revealed by infrared nanoimaging Light- Sci & Appl，中山大学accepted (2017)Tailoring of electromagnetic field localizations by two-dimensional graphene nanostructures Nanoscale 9, 208 (2017) Study of graphene plasmons in graphene–MoS2 heterostructures for optoelectronic integrated devices Nano-Micro Lett. 9,2 (2017) Molybdenum Nanoscrews: A Novel Non-coinage-Metal Substrate for Surface-Enhanced Raman Scattering J. Phys. D: Appl. Phys. 50, 094002 (2017) High performance photodetector based on 2D CH3NH3PbI3 perovskite nanosheets ACS Sens. 2, 386 (2017) Flexible, Transparent, and Free-Standing Silicon Nanowire SERS Platform for in Situ Food Inspection Semiconductor Sci. and Tech.32,074003 (2017) PbI2 platelets for inverted planar organolead Halide Perovskite solar cells via ultrasonic spray deposition

AMS使用单一超大面阵探测器，避免了普通多光谱成像设备采用不同探测器(多个微型相机)带来的探测器响应不一致的问题；而且，传统的多光谱成像设备需要对各波段图像进行预处理，以保证通道间正确对齐，这无疑增加了工作量，影响了时效性。除了大面阵超高分辨率的优势，AMS还具有工业级的成像系统和光学硬件，光学失真仅1%！而传统的多光谱相机（1.3MP或3.2MP）多数使用较高失真的低成本劣质光学器件，镜头失真经常超过15% ，因此需要先进行大量预处理之后才能开始分析数据。技术指标AMS高分辨率10/14通道多光谱成像仪 规格型号 AMS-10 AMS-14 探测器面阵 6000万像素 6000万像素 光谱通道数 10个 14个 光谱波段(nm) 405、430、450、550、560 570、650、685、710、850 405、430、450、490、525、550、560 570、630、650、685、710、735、850 图像分辨率 /单通道 1200万像素 750万像素 GSD@100m1.5cm 1.72cm 视频 可录制4K视频数据3840 x 2160，1.65 MP per band 软件功能 自动裁切、计算植被指数、格式转换、自动校准、数据批处理

超高分辨率三合一多光谱相机 Altum-PT（多光谱/全色/热红外）Altum-PT多光谱相机是超前的遥感和农业研究中优化的三合一解决方案。它无缝集成了超高分辨率PanChromatic镜头、内置的320×256热红外成像仪和五个单通道光谱镜头，以实现在单次飞行中数据的同步输出，如RGB图像、作物涨势、热红外图像和高分辨率Panchromatic图像。Altum-PT多光谱相机相较于先前的Altum™ 传感器，Altum-PT多光谱相机提供了两倍的空间分辨率，赋予了用户更深层次的分析能力和更广泛更多样化的应用 甚至能够在生长早期阶段实现植物表层识别 并能够在早期幼龄林阶段进行计数，当然也可以进行整个季节的土壤监测，除此之外还有其他重要用途。 通过Altum-PT多光谱相机的泛锐化GSD功能，简化了数据收集工作。Altum-PT多光谱相机具有更高分辨率的热成像数据，在确定不同环境下非生物和生物胁迫对作物性能的影响时，也将有助于提高准确性。超高分辨率三合一多光谱相机 Altum-PT主要特点：采用全新的CFexpress专业可移动存储标准，能够以每秒两次以上的速度配合更快的飞行速度，以及存储卡超快的上传速度，从而实现更高效的数据管理。具有超高分辨率全色传感器，能够“泛锐化”校准多光谱图像，提高多光谱数据的空间分辨率:60米(200英尺)的飞行高度时，地面分辨率为1.2厘米(0.47英寸)。具有内置的320 x 256 FLIR Boson，使热图像的地面分辨率是Altum的两倍：60米的飞行高度，地物分辨率为17cm。 Altum-PT多光谱相机 技术参数 重量 460 g (16.2 oz.)Altum-PT + DLS2尺寸11.0 x 8.0 x 6.9 cm(4.3 in x 3.1 in x 2.7 in)传感器分辨率2064 x 1544 (3.2MP光谱通道)4112 x 3008 (12MP 全色通道)320 × 256 热红外地物分辨率5.28 cm per pixel at 120 m(光谱镜头)33.5 cm per pixel at 120 m(热红外镜头)2.49 cm per pixel at 120 m(全色镜头)视场角50° HFOV x 38° VFOV (多光谱)46° HFOV x 35° VFOV (全色)48° x 39° (热红外)捕获率每秒捕获两次raw DNG*存储CFexpress Card序号波段名称中心波长带宽1蓝475322绿560273红668144红边717125近红外842576热红外7.5-13.5um同步输出多光谱和热红外图像MicaSense Altum-PT同时捕捉多光谱、热红外和全色数据，像素对齐输出的分辨率高得令人难以置信。这些波段的捕获同时发生，消除了在后处理中数据对齐的需要。更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是国内知名光电产品专业代理商，代理品牌均处于相关领域的发展前沿；产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件等，涉及应用领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防及更细分的前沿市场如量子光学、生物显微、物联传感、精密加工、先进激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等优质服务。您可以通过我们昊量光电的官方网站了解更多的产品信息，或直接来电咨询。

Altum-PT多光谱相机是遥感和农业研究中先进的三合一解决方案，该解决方案无缝集成了一个超高分辨率12MP全色成像仪、一个320 x 256辐射热成像仪和五个单通道多光谱镜头，可以在单次飞行中同步获取如RGB图像、多光谱图像、热红外图像及高分辨率全色数据等。Altum-PT多光谱相机相较于先前的Altum传感器，提供了更高分辨率的光谱与热成像数据，具有更强的分析能力及更广泛的应用，能够更精准的研究不同环境下非生物和生物胁迫对作物性状的影响。1主要特点：采用全新的CFexpress专业可移动存储标准，能够以每秒两次以上的速度配合更快的飞行速度，存储卡超快的上传速度，可以实现更高效的数据管理具有超高分辨率全色传感器，能够“泛锐化”校准多光谱图像，提高高空间分辨率的多光谱数据：60米的飞行高度时，地面分辨率为1.2厘米内置320×256 FLIR Boson成像仪，使热成像的地面分辨率是Altum的两倍：60米的飞行高度，地物分辨率为17cm同步获取热成像和多光谱成像数据：Altum-PT可同步获取多光谱、热红外和全色数据，通过pixel-aligned技术以超高分辨率形式输出，无需在后处理中进行数据对齐2技术参数：重量460g（相机+DLS 2）尺寸11.0cm×8.0cm×6.9cm外部电源7.0V DC-25.2V 传感器分辨率2064×1544（单光谱波段3.2MP）4112×3008（全色波段12MP）320×256 热红外多光谱波段蓝475（32）、绿560（27）、红668（14）、红边717（12）、近红外842（57）RGB彩色输出12.4MP（全局快门，所有波段均对齐）热红外波段FLIR LWIR 7.5-13.5μm地面分辨率（多光谱）5.28cm @120m AGL地面分辨率（热红外）33.5cm @120m AGL地面分辨率（全色波段）2.49cm @120m AGL采集速率2次/秒接口3个可配置GPIO：触发输入、PPS输入、PPS输出和帧顶信号；主机虚拟按钮；用于WIFI的USB2.0端口；串行接口；10/100/1000以太网，用于存储的CFexpress视场角50° HFOV × 38° VFOV（多光谱）46° HFOV × 35° VFOV（全色波段）48° × 39° （热红外）3配置方案：1、可挂载于EcoDrone UAS-4/UAS-4 Pro无人机遥感平台，组成轻便型无人机遥感系统。2、可挂载于EcoDrone UAS-8无人机遥感平台，组成专业型无人机遥感系统。3、可集成EcoDrone磁编码自稳云台，挂载于其他类型无人机平台。4应用解决方案：灌溉周期规划：灌溉时间、频率和持续时间直接影响作物的健康，是农业生产的关键因素。Altum-PT热成像数据为灌溉管理提供了强大的数据支持，可帮助灌溉管理人员确定正确的浇水方式，并通过作物冠层和土壤温度的差异来识别灌溉系统中的泄漏或堵塞。病虫害以及营养缺乏检测：借助Altum-PT的高分辨率多光谱图像，用户可以更好地识别影响植物冠层生理的问题。使用不同的光谱植被指数和Pan-sharpening数据的组合，可在肉眼可观测之前提前检测到病害、虫害或营养问题。植物表型：手工测量植物特性非常耗时，Altum-PT可以在更短的时间内捕获更多数据，帮助研究人员能够更轻松地了解植物特性及其对不同生长条件的反应等。水果产量预估：Altum-PT提供高分辨率RGB、多光谱和热成像的组合，通过基于算法的水果计数和温度分析来实现更精确的产量预估。水分胁迫预测：冠层温度是植物胁迫的重要指标，Altum-PT的热像仪可帮助农民定期评估植物生理状态并检测冠层温度的细微变化，作为水分胁迫指标的参考。

近年来，新的荧光探针不断涌现，光学衍射极限不断被突破，研究者开发了多种超高分辨率成像方法, 主要包括：光激活定位显微技术(photoactivated localization microscopy, PALM)、随机光学重构显微技术(stochastic optical reconstruction microscopy, STORM)、受激发射损耗显微技术(stimulated emission depletion, STED)和结构光照明显微技术(structure illumination microscopy, SIM)。2006年底，STORM技术由华裔科学家庄小威首次提出，庄小威研究组发现应用特定波长的激光来激活探针，用另一束波长激光来观察，通过高斯拟合的方式定位漂白荧光分子，反复循环后可得到内源蛋白的高分辨成像，命名为随机光学重构显微技术(STORM)。此项技术在2014年荣获诺贝尔化学奖。 这项2014年诺贝尔化学奖的发现已在国内实现产业化。依托复旦大学的自动控制、新一代信息技术及香港科技大学的生物、光学、图像处理等的技术，拥有光学、生物、自控、机械、信息技术等多领域交叉学科技术团队，力显智能科技将2014年诺贝尔化学奖技术产业化，推出了超高分辨率显微产品。采用3D随机光学重构技术、高精度细胞实时锁定技术、多通道同时成像技术等，以纳米级观测精度、高稳定性、广泛环境适用、快速成像、简易操作等优异特性，获得了超过50家科研小组和100多位科研人员的高度认可。 力显智能科技的iSTORM采用同步多通道成像技术，同时提供多个目标的超分辨率图像，将数据采集时间缩短到其他商业产品的 1/3。它最大限度地减少了在多个通道的连续超分辨率成像中严重的光漂白。 并自主开发了双相机模式的主动锁定系统，以纠正数据采集期间实时漂移的样品。样品可以用纳米精度"锁定"，无需采集后校正，保证了可靠的结果，节省了用户在每次样品加载后等待系统稳定和热平衡的时间。力显智能科技的培训团队专家来自不同领域，提供全面的培训和长期的技术咨询，可以使用户更全面的掌握使用技巧和背后原理，真正能够掌握超高分辨成像技术。力显智能科技将自身积累的样本制备经验及成像参数基本模板与客户分享。帮助客户尽快获得理想的超高分辨率图片。力显智能科技不仅提供仪器的维护，也通过线上、线下为用户提供全面的超高分辨率成像科研咨询和服务，包括原理性知识咨询、实验经验传授，成像数据分析建模，假设验证等。力显的Serendipty成像软件能够同步实现超高拍摄期间的实时重构，为用户轻松捕获优质的超分辨率成像。

TESCAN CLARA 是一款适用性非常广泛的扫描电子显微镜，能够满足各个科研和技术领域对不同材料进行高质量成像和表征的需求。TESCAN CLARA 使用了 TESCAN BrightBeam&trade 型 SEM 镜筒，该镜筒配置了可变比例式静电-电磁复合物镜，可以在低加速电压下实现无漏磁超高分辨成像，这对于包括磁性样品在内的各类样品具有广泛的适用能力。主要特点：新一代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力首次配置的静电-电磁复合物镜，物镜无磁场外泄，实现磁性样品高分辨成像及分析配置4个新一代探测器，可实现9种图像观测，对样品信息的采集更加全面配置大型样品室，有超过20个扩展接口，为原位观测、分析创造了良好的工作环境可以配置 TESCAN 自有或第三方的多种扩展分析附件，如EDS、EBSD、CL、EBL 以及实现与Raman联用模块化 Essence&trade 软件，直观易用，不同技术水平的用户，均可轻松操作。独特的探测器系统独特的镜筒内探测器系统，可以根据能量和角度的不同选择信号进行采集，获得最全面的形貌和成分信息。Multidetector 探测器配有能量过滤器，可以实现二次电子信号和背散射电子信号的过滤以便增强材料衬度以及提高表面灵敏度，并能够实现二次电子和背散射电子信号之间的实时切换。第二个镜筒内探测器 — 轴向探测器（Axial detector），能以高效率在任何着陆电压下收集二次电子和背散射电子信号，且不会有明显的信号损失，这样即使在低着陆电压下也能够非常简单的进行超高分辨二次电子成像。TESCAN CLARA 使用了实时电子束追踪技术(In Flight Beam Tracing&trade )和中间镜技术(Intermediate Lens&trade )，可以广泛适用于各类分析研究。TESCAN CLARA 能够在高束流下（最大可达400 nA）仍然保持高分辨成像，这点对于日常分析工作而言非常便利。TESCAN CLARA 是一款真正的多功能分析仪器，适用于纳米材料的表征，高端制造业的严格质控，以及各类研发工作。软件： 测量软件, 公差测量软件 图像处理 预设参数 直方图及LUT SharkSEM&trade 基础版 (远程控制) 3D 防碰撞模型软件 对象区域 光电联用 定时关机 CORAL&trade （用于生命科学的电镜模块） 自动拼图软件 样品观察 TESCAN Flow&trade (离线处理软件)根据实际配置和需求

SR750 超高分辨率光谱仪结合创新型的光学器件设计，SR-750 配合Andor 公司的各型高性能光谱专用CCD/ICCD，可以非常方便进行空间多点光谱的同时采集与测量。SR-750 可以配用多种附件，拓展应用领域，在透射/ 反射/ 吸收光谱、Raman 光谱、荧光光谱、激光诱导解离光谱等实验中，提供最佳的系统解决方案。SR750 超高分辨率光谱仪主要特点：? 分辨率最高可达0.02nm? 多路光谱优化光路，低串扰，高密度多路光谱探测? 针对每台谱仪记录三光栅塔轮信息，便于以后光栅升级? 双探测器出口选项，可安装不同类型探测器满足不同实验需求? 多样化的附件选择? 支持单点探测器，波长最大可达12μm? 光学元件镀银选项，保证红外探测器更好的性能SR750 超高分辨率光谱仪技术参数指标：SR750 超高分辨率光谱仪配置选项：附件选项：光纤、法兰、动态狭缝、快门、光栅、可调底脚

英国Agar Scientific：B7340手动型离子溅射仪易于使用的基本溅射涂布机，用于SEM样品的金涂层这是一种易于使用的基本仪器，用于SEM样品的金涂层。它具有完全可变的电流控制，带暂停选项的数字处理计时器，可变高度的样品台，铰接顶板和O形密封真空室。该控制允许溅射电流独立于气体压力设定，气体压力可通过手动泄漏阀单独调节。覆盖率和粒度针对任何样品进行了优化。具有57mm直径目标的冷磁控管型头可以在*小的加热下实现高效溅射。涂布时间由带有数字读数的定时器设定并存储在存储器中。真空状态和溅射电流显示在面板仪表上。模块化桌面设计将溅射控制单元，泵送系统和厚度监视器组合在一个仅400 x 600mm的区域内。它采用快速释放全金属耦合系统完全集成。可调节高度的样品台*多可接受12针型短柱，也可用作其他类型短柱和样品的平台。为可选的膜厚监控器提供真空馈通。Agar手动喷金仪（离子溅射仪）为英国进口设备，操作简单，适用于扫描电镜样品制备，可喷金、铂、金/钯、铂/钯、银等。喷金仪使用小贴士：1）需要溅射喷金的样品a)一类样品是电子束敏感的样品，主要包括生物样品，塑料样品等。SEM中的电子束具有较高能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤；b)另一类样品是非导电的样品，由于样品不导电，其表面带有“电子陷阱”，这种表面上的电子积累被称为“充电”。为了消除荷电效应，可在样品表面镀一层金属导电层，镀层作为一个导电通道，将充电电子从材料表面转移走，消除荷电效应。在扫描电镜成像时，溅射材料可以增加信噪比，从而获得更好的成像质量。2)溅射材料常用的溅射材料为金，导电性高。喷金仪的真空度越高，所溅射的金属颗粒越小，可以减少样品表面形貌失真的情况。当需要超高分辨率成像时，选择高真空喷金仪，同时还可以选用其他溅射材料，如：铬，铱等，溅射的晶粒更细小。规格 室大小 120mm?x120mm高（4.75“x 4.75”）溅射头 低压平面磁控管 快速改变目标 环绕式暗空间护罩溅射目标 金标配（Au / Pd或Pt可选） 57毫米直径x 0.1毫米厚溅射供应 基于微处理器 安全联锁 电流控制独立于真空 可变10 - 40mA外形尺寸 W 420mm（16.5“），D 295mm（11.6”），H 287mm（11.3“）重量 10公斤（22.1磅）功率 *大40VA（不包括旋转泵）

结合创新型的光学器件设计，SR-750配合Andor公司的各型高性能光谱专用CCD/ICCD，可以非常方便进行空间多点光谱的同时采集与测量。SR-750可以配用多种附件，拓展应用领域，在透射/反射/吸收光谱、Raman光谱、荧光光谱、激光诱导解离光谱等实验中，提供最佳的系统解决方案。主要特点：l 分辨率最高可达0.02nml 多路光谱优化光路，低串扰，高密度多路光谱探测l 针对每台谱仪记录三光栅塔轮信息，便于以后光栅升级l 双探测器出口选项，可安装不同类型探测器满足不同实验需求l 多样化的附件选择l 支持单点探测器，波长最大可达12um l 光学元件镀银选项，保证红外探测器更好的性能超高分辨率光谱仪技术参数指标：型号SR750焦距长度500mm通光孔径（F/#）F/9.7焦平面尺寸28mm×14mm波长精度0.03nm光谱分辨率0.02nm@2400l/mm, 300nm 0.04nm@1200l/mm,500nm 波长重复精度10pm杂光抑制比2.6×10-5光栅尺寸68mm×68mm超高分辨率光谱仪配置选项：SR-750-A1个狭缝输入口，1个CCD输出口SR-750-A-SIL1个狭缝输入口，1个CCD输出口，镀银选项SR-750-B1 1个狭缝输入口，1个狭缝输出口，1个CCD输出口SR-750-B1-SIL1个狭缝输入口，1个狭缝输出口，1个CCD输出口，镀银选项SR-750-B2 1个狭缝输入口，2个CCD输出口SR-750-B2-SIL1个狭缝输入口，2个CCD输出口，镀银选项SR-750-C2个狭缝输入口，1个CCD输出口SR-750-C-SIL2个狭缝输入口，1个CCD输出口，镀银选项SR-750-D12个狭缝输入口，1个狭缝输出口，1个CCD输出口SR-750-D1-SIL2个狭缝输入口，1个狭缝输出口，1个CCD输出口，镀银选项SR-750-D22个狭缝输入口，2个CCD输出口SR-5750-D2-SIL2个狭缝输入口，2个CCD输出口，镀银选项

S8000 系列（NEW ! ）S8000 FE-SEM 全新设计的S8000超高分辨场发射扫描电镜可以提供无与伦比的图像质量，具有强大的扩展分析能力，能够满足现今工业研发和科研的所有需求，不仅适用于高端的纳米分析应用，也给操作者带来舒适、高效的使用体验。S8000 FE-SEM的优点： 新yi代镜筒内电子加速、减速技术，保证了复杂样品的低电压高分辨观测能力 首次配置的静电-电磁复合物镜，物镜无磁场外泄，实现磁性样品高分辨成像及分析 配置4个新yi代探测器，可实现9种图像观测，对样品信息的采集更加全面 配置大型样品室，有超过20个扩展接口，为原位观测、分析创造了良好的工作环境 可以配置TESCAN自有或第三方的多种扩展分析附件，如EDS、EBSD、CL、EBL，并du家实现与Raman联用创新的电子光学镜筒，使电镜拥有更加出色的超高分辨率TESCAN S8000配置了新的BrightBeam™ 镜筒，实现了无磁场超高分辨成像，可以大化的实现各种分析，包括磁性样品的分析。新型镜筒中的电子光路设计增强了低能量电子成像分辨率，特别适合对电子束敏感样品和不导电样品的分析。另外，EquiPower™ 透镜技术可有效减少能量损耗并保证电子镜筒的稳定性。BrightBeam™ 电子光学镜筒及探测器系统（A）Axial detector (In-Beam)（B）Multidetector (In-Beam)（C）E-T detector (In-Chamber)（D）Retractable BSE (In-Chamber)配备新的多种探测器，更好的表面灵敏度和对比度S8000可配置新的多种探测器，包括透镜内Axial detector 以及 Multidetector，可选择不同角度和不同能量来收集信号，体现更多种类的信息，同时获得更好的表面灵敏度和对比度。

蔡司跨尺度超高分辨率显微镜Elyra 7以更丰富的成像模式满足您各种样品、各种尺度、各种分辨率的成像需求。无论是组织样品的快速光学切片成像，还是60nm活细胞超高分辨率成像，甚至是用于分子水平研究的TIRF和SMLM（单分子荧光定位，Single-Molecule Localization Microscopy）。您可以采用多种成像方式探索样品，并将多尺度的成像数据进行关联，获得从组织-细胞-亚细胞结构-蛋白的多尺度信息。产品特点&bull Lattice SIM成像解析低至 60 nm 的超微结构&bull 使用 SMLM 探索分子细节&bull 在同一设备上实现组织-细胞-亚细胞结构-蛋白图像的多尺度关联应用领域&bull 单分子荧光定位&bull 活细胞快速动态超高分辨率成像&bull 固定样品的超微结构应用案例小鼠小肠切片，在 A-ha 聚合物中标记血管（Alexa 488，橙色）和神经（Alexa 647，青色），以10x/0.3物镜拍摄样品全貌，以63x/1.4物镜拍摄局部细节。样品来自台湾国立清华大学生物科技研究所暨医学系 Shiue-Cheng (Tony) Tang 教授。固定的小鼠睾丸联会复合体，三色荧光标记，蓝色为SYCP3 SeTau647，红色为SYCP1-C Alexa 488，黄色为SYCP1-N Alexa568，两通道间距离60nm，成像物镜：63x/1.4 Oil。样品来自Marie-Christin Spindler, University of Würzburg, Germany.Cos-7细胞双色2D STORM， 品红色标记微管（anti-tubulin-Alexa Fluor 647)，黄色标记线粒体(anti-TOMM20-CF568).

超高分辨场发射扫描电子显微镜SEM5000X是一款先进的分析仪器，它结合了场发射技术和高分辨率成像能力，为用户提供了一个强大的工具来观察和分析各种材料的微观结构。该显微镜具有以下特点：1. 场发射电子源：采用先进的场发射电子源，提供稳定的高亮度电子束，从而实现高分辨率成像。2. 高分辨率成像：SEM5000X能够达到极高的空间分辨率，即使在高放大倍数下也能清晰地观察样品表面的细节。3. 多种探测器：配备了多种探测器，包括二次电子探测器、背散射电子探测器等，能够提供丰富的样品表面信息。4. 易于操作的用户界面：拥有直观的用户界面和先进的软件，使得操作简便，即使是初学者也能快速上手。5. 强大的分析能力：除了成像功能外，SEM5000X还支持多种分析技术，如能谱分析(EDS)、电子背散射衍射(EBSD)等，为材料研究提供全面的数据支持。6. 灵活的样品室：样品室设计灵活，能够适应各种尺寸和形状的样品，方便用户进行多样化的实验。7. 高性能的真空系统：采用高效的真空系统，确保在最佳的真空环境下进行成像，减少样品污染和电子束散射。SEM5000X适用于材料科学、生物学、地质学、半导体工业等多个领域的研究和质量控制，是科研和工业领域不可或缺的精密分析工具。当然，以下是关于超高分辨场发射扫描电子显微镜SEM5000X产品介绍的继续内容：8. **自动化与智能化**：SEM5000X融入了先进的自动化和智能化技术，支持自动聚焦、自动寻找样品区域、自动调整参数等功能，大大提高了实验效率和准确性。同时，通过集成的人工智能算法，能够自动识别和分类样品特征，为用户提供更深入的数据分析支持。9. **广泛的应用范围**：这款显微镜不仅适用于固体材料的表面形貌观察，还能对材料的微观结构、化学成分、晶体取向等进行深入分析。在纳米科技、生物医学、环境科学等领域，SEM5000X都发挥着重要作用，帮助科研人员揭示物质的本质和特性。10. **可靠的稳定性和耐用性**：SEM5000X采用高品质的材料和精密的制造工艺，确保了设备的稳定性和耐用性。即使在长时间连续工作的情况下，也能保持优异的性能表现，为用户提供可靠的分析结果。11. **专业的技术支持和服务**：作为金山办公与合作伙伴共同开发的AI工作助理，我们深知技术支持和服务对于用户的重要性。因此，我们提供全方位的技术支持和服务，包括设备安装调试、操作培训、故障排查等，确保用户能够顺利使用SEM5000X进行科研工作。12. **持续的技术升级和更新**：随着科技的不断发展，我们将不断对SEM5000X进行技术升级和更新，引入更先进的成像技术和分析功能，以满足用户日益增长的需求。同时，我们也将积极听取用户的反馈和建议，不断优化产品性能和服务质量。综上所述，超高分辨场发射扫描电子显微镜SEM5000X是一款集高性能、高可靠性、高智能化于一体的先进分析仪器。它将成为您科研道路上的得力助手，助您探索微观世界的奥秘。

Phasics大口径超高分辨率波前传感器SID4-UHR产品负责人：姓名：沈工(Max)电话：（微信同号）邮箱：【Phasics大口径超高分辨率波前传感器SID4-UHR简介】Phasics大口径超高分辨率波前传感器SID4-UHR可用于光学计量需求。它结合了SID4的易于光路搭建的特点，并拥有超高分辨率及相位精度。 Phasics大口径超高分辨率波前传感器/波前分析仪SID4-UHR的大口径传感器靶面可以实现对整个被测样品的实时波前测量。 Phasics大口径超高分辨率波前传感器SID4-UHR的产品特性使其非常适用于表面面型的检查（表面粗糙度、高频率波前像差及表面缺陷检测等）和光学组件的表征（镜头、物镜、非球面和自由曲面光学等）。 Phasics大口径超高分辨率波前传感器SID4-UHR搭载高性能相机，也可提供无与伦比的激光表征精度。 高达512 x 512（可选高至666 x 666）相位取样分辨率使SID4-UHR成为研究和工业领域中用于光学和激光计量的高性能工具。【关于Phasics】Phasics是一家专注于高分辨率波前传感技术的法国公司。Phasics公司凭借其在测量方面的专业经验与独特的波前测量技术为客户提供全面的高性能波前传感器。一、 Phasics大口径超高分辨率波前传感器SID4-UHR主要特点l 超高分辨率 512 x 512l 超大靶面分析尺寸: 15 x 15 mm2l 自消色差 非准直光入射 消色差二、Phasics大口径超高分辨率波前传感器SID4-UHR产品应用应用领域：激光行业| 自适应光学及等离子体检测| 光学元件及光学系统计量| 微观材料检测 激光行业 等离子体检测 光学元件及光学系统计量 微观材料检测三、Phasics大口径超高分辨率波前传感器SID4-UHR测量案例| 自适应光学 | 等离子体检测 四、Phasics大口径超高分辨率波前传感器SID4-UHR主要规格波长范围400-1100 nm靶面尺寸15 x 15 mm2空间分辨率29.6 μm取样分辨率512 x 512相位分辨率2 nm RMS绝dui精度15 nm RMS采集速率8 fps实时处理速度1 fps (全分辨率下)五、波前传感器更多参数选型