全自动三离子束抛光切割仪

离子研磨抛光仪是一台高质量的 sem 样品制备台式精密仪器，满足几乎所有应用材料的制备。离子研磨抛光仪是通过物理科学技术来加强样品表面特性。使用的是惰性气体中具有代表性的氩气，通过加速电压使其电离并撞击样品表面。在控制的范围内，通过这种动量转换的方式，氩离子去撞击样品表面从而达到无应力损伤的 sem 观察样品。1060 ion milling 台式离子研磨抛光仪先进的样品制备技术如今 sem 在快速研究和分析高端材料结构和性能方面被认为是一种非常理想的手段方式，fischione 1060 是一个优秀的样品制备工具，是一台具有目前最先进技术的离子研磨抛光系统，设计精巧，操作方便，性能稳定。1060 离子研磨抛光仪为 sem 呈现样品表面结构和分析样品特性提供了便利，是 sem 样品制备完美的工具，正不断用于制备高质量的 sem 样品，满足苛刻的成像及分析要求。专利的双离子束源fischione 1060 两束专利电磁聚焦离子束源可直接控制作用在样品表面的离子束斑点直径，操作者可以根据需求自己调节。两束离子束可以同时聚焦在样品表面，这样可以大大提高研磨抛光速度。1060 离子束源采用独特的专利电磁聚焦设计，这样的设计可以让离子束斑点直径可调，从而离子撞击的时候是直接撞击样品，且只可以撞击样品，同时样品溅出的材料不会沉积在样品夹具、样品仓或者样品表面上。离子研磨抛光仪有哪些应用sem 样品制备时常常需要研磨抛光。制样时即使再留意，常常一些不理想的形貌也会出现。随着 sem 技术的快速发展，即使一个微不足道的损伤也会限制样品表面的彻底观察分析。通过惰性气体离子研磨抛光解决样品表面之前的损伤是一个非常理想的方法。这是离子研磨的基本功能。块状样品事实上一些无机样品也受益于离子研磨抛光技术。当离子束低入射角度直接作用在样品上时，样品表面剩余的机械应力损伤，氧化层及残留物层均会被溅出，最终显现原始的形貌供 sem 观察和分析。ebsdebsd 是一项非常有用的技术，可以让 sem 获取更多晶体信息，因为通过 sem 获得的背散射电子信息能很好的反应材料晶体结构、晶向和晶体纹理。ebsd 对表面信息非常敏感，任何轻微的表面缺陷均能通过 ebsd 获得比较好的图案信息。因此通过离子研磨抛光来增强表面信息是非常有利的。为了让 ebsd 提高到更好的检测水平，离子研磨抛光能被用来去除精细样品材料的表面材料。使用二维的方法无法得到这一系列的技术产量切片技术。半导体截面观察在半导体行业的很多案例中，离子研磨抛光可以让失效分析快速的得到有用的信息。通常切割或者机械研磨样品会产生样品表面损伤，这些问题可以通过离子研磨抛光来解决，这也得力于多样化的样品夹具来优化了这些操作过程。使用飞纳台式电镜观察 1060 离子研磨抛光仪制样效果1060 离子研磨抛光仪标准版和专业版1060 离子研磨抛光仪技术参数离子束源两束电磁聚焦离子源加速电压范围： 100 ev - 6.0 kev，连续可调离子束流密度高达 10 ma/cm2可选择单束或者双束离子源工作独立控制两束离子束源加速电压 （仅专业版）样品台离子束入射角 0? 到 +10?最大样品尺寸：直径 25mm，高度 15mm样品高度自动感应360? 样品旋转样品往复摇摆，从 ±40? 到 ±60?真空系统两级真空系统：无油干泵和涡轮分子泵皮拉尼型真空计感应控制真空工作气体99.999% 纯度的氩气每离子束流速约 0.2 sccm，名义上所需压力为 15psi 采用自动气体流量控制技术，实现离子源气流的精密流量控制，含两个流量计气压源气动阀驱动氩气,液氮,或者干燥空气；所需压力要求名义上 60 psi样品照明用户可选的反射照明自动终止计时器设定自动加工终止用户界面标准版内置触摸屏，包含基本设备功能模块专业版?内置触摸屏，包含基本设备功能模块?基于电脑，加工流程可通过参数编程并实时显示操作状态?操作灯光指示器（选配）辅助光学显微镜可选配一个 7-45 倍的体视显微放在与真空系统内用于直接观察样品；或者选配一个具有 2,000 倍的显微成像系统，用于定点成像并显示在电脑显示屏上尺寸标准版69cm*38cm*74cm*51cm （宽*底端到设备外壳高*底端到显微镜高*深）专业版107cm*38cm*74cm*51cm （宽-含电脑显示器*底端到设备外壳高*底端到显微镜高*深）重量73 kg电源100/120/220/240 vac，50/60 hz，720 w

氩离子抛光技术是对样品表面或者截面进行抛光，得到表面光滑无损伤的样品，能够观察到样品内部真实结构。Gatan公司生产的精密刻蚀镀膜系统——PECS II 685（图1），是集抛光和镀膜于一体的氩离子抛光设备，它采用两个宽束氩离子束对样品表面进行抛光。685可以做普通的抛光方法无法解决的问题：a.氩气的工作氛围，可以有效保护容易氧化或者对水蒸气特别敏感的材料；b.样品台采用液氮制冷方式，可以有效的保护热敏感的样品，避免离子束热损伤；c.685自带的精确到纳米级别的镀膜功能，可以有效解决容易氧化且导电性特别不好材料的SEM/EDS/EBSD等的分析。下面我们通过两个案例来说明为什么氩离子抛光技术在镀膜领域的应用是无可替代的。图1 精密刻蚀镀膜系统PECS II 685 例1：光伏作为我国战略性新型产业，其发展牵动着我国的方方面面。光伏玻璃为目前光伏产业链上电池组件封装环节使用的必须辅助材料之一，整个光伏玻璃的发展与光伏产业的发展密切相关。所谓光伏玻璃是指在超白压延玻璃上镀一层减少反射的材料即减反膜，作用是减少或者消除透镜、棱镜、平面镜等光学表面的反射光，增加这些原件的透光量。因此对减反膜的研究显得尤为重要。图2是观察某公司生产的光伏玻璃上减反膜的厚度。图2（a）显示普通制样无法准确观察到减反膜厚度，而利用精密刻蚀镀膜系统PECS II 685制备的样品不仅可以准确测量膜的厚度还可以观察到其真实形貌：这是一种厚度约180 nm的具有多孔结构的膜，见图2(b)。 图2 普通制样及氩离子抛光制样观察减反膜（a普通制样；b PECS II 685制样）例2：以聚碳酸酯为基底，在上面包覆TiO2/SiO2交替膜共8层，每层膜厚度只有50 nm左右，普通制样根本无法观察到膜结构，更无法观察8层交替膜。我们同样使用PECS II 685进行制样，由于样品不导电且容易被氩离子束打伤，故同时利用PECS II 685的冷台、刻蚀、镀膜功能，在同一真空环境下对样品进行抛光和镀膜，利用蔡司的Sigma 300场发射扫描电镜清晰观察到8层TiO2/SiO2交替膜，见图3。 图3 PECS II 685制备TiO2/SiO2交替膜

在半导体硅片的制造过程中，抛光是一个至关重要的步骤，它使用高速旋转的低弹性材料抛光盘，如人造革或棉布，或低速旋转的软质弹性或粘弹性材料抛光盘，并添加抛光剂以获得光滑的表面。对于碳化硅（SiC）晶片而言，抛光不仅是研磨后的必经阶段，而且对于去除由研磨引起的表面损伤和硬粒至关重要，这些损伤和硬粒可能会在切割过程中导致晶片破损。抛光过程通常分为两个阶段：粗抛和精抛。化学机械抛光（CMP）是精抛阶段中最常使用的技术。粗抛主要针对晶片的双面进行，目的是提高抛光效率，并改善衬底表面的总厚度偏差（TTV）、弯曲度（BOW）和翘曲度（Warp），同时提升表面质量粗糙度（Ra）。CMP则专注于单面抛光，目的是消除碳化硅晶片表面的划痕，实现极高的表面光洁度。作为SiC单晶衬底加工的最后一步，CMP确保最终表面达到超光滑、无缺陷和无损伤的质量标准。随着碳化硅材料在半导体行业的应用日益广泛，对于高质量的SiC晶片的需求也在不断增长。高质量的抛光设备对于确保SiC晶片满足高性能电子器件的要求至关重要。国内SiC抛光设备厂商通过技术创新和工艺改进，已经能够提供与国际标准相媲美的抛光解决方案，这些解决方案不仅提高了生产效率，还确保了晶片的加工质量。本文将介绍国内在SiC抛光设备领域表现突出的厂商，让读者更全面地了解碳化硅材料的加工技术和产业链的发展情况。晶亦精微：深化 CMP 技术在第三代半导体材料领域的应用晶亦精微科技股份有限公司，作为北京烁科精微电子装备有限公司的延续，承载着推动科技成果转化的重要使命。公司自2019年成立以来，就专注于化学机械抛光（CMP）技术的研发与应用，特别是在第三代半导体材料领域的深耕。作为CMP技术的先行者，晶亦精微科技股份有限公司已经成功实现了8英寸CMP设备的境外批量销售，并推出了国内首款具有自主知识产权的8英寸CMP量产设备。此外，公司的12英寸CMP设备在28nm工艺节点的国际主流集成电路生产线上完成了工艺验证，标志着其技术已经达到了国际先进水平。晶亦精微科技股份有限公司紧跟第三代半导体材料的发展趋势，推出了适用于6英寸和8英寸晶圆的CMP设备，这些设备不仅兼容传统的硅材料，还能够满足碳化硅、氮化镓等第三代半导体材料的抛光需求。这一创新举措，为国内半导体产业的发展提供了强有力的设备支持。公司的6/8英寸CMP设备——Horizon-T，具备全自动干进干出的功能，工艺切换灵活，适用性广泛。该设备特别支持SiC、GaN等第三代半导体材料的平坦化工艺需求，已经在国内实现了批量销售，为半导体制造商提供了高效、可靠的抛光解决方案。众硅科技：聚焦CMP高端设备杭州众硅电子科技有限公司自2018年5月成立以来，专注于高端化学机械平坦化/抛光（CMP）设备及相关产品的开发与制造，其产品线覆盖了从6英寸到12英寸的多种规格尺寸的CMP设备。众硅科技的12英寸高端CMP设备被认定为国内首台（套）产品，技术水平在同类产品中达到国际领先地位。此外，公司研制的8英寸先进CMP设备已获得国际半导体行业的SEMI认证，并在多家知名集成电路制造企业的生产线中得到应用，证明了其设备的可靠性和先进性。针对碳化硅衬底的CMP设备TNTAS® ECMP，是众硅科技的重要创新成果。该设备采用了独特的碳化硅化学机械抛光工艺，区别于传统工艺，它无需使用强氧化剂，提供更为温和的工艺条件，同时保证了出色的抛光效果。TNTAS® ECMP作为全自动CMP设备，省略了封蜡和贴膜的步骤，这不仅提高了去除率和产能，还降低了综合运营成本（COO）。此外，该设备在化学尾液处理上更为简便和环保，符合当下对绿色生产的要求。苏州郝瑞特：从产品制造商向产品服务商转变苏州赫瑞特电子专用设备科技有限公司，前身为国营兰州风雷机械厂，拥有深厚的军工背景，自1969年成立以来，已经走过了超过四十年的发展历程。2010年6月，兰州赫瑞特集团投资转型，将其建设成为一家专注于研发、生产、销售切割、研磨、抛光等专用设备及提供整体解决方案的高科技企业。公司致力于技术创新体系的构建和技术成果的商业化，将科技成果有效转化为市场产品，以此创造客户价值并推动企业的持续发展。凭借四十多年的技术积累，苏州赫瑞特在电子专用设备领域奠定了坚实的产品创新与开发基础。其产品线涵盖研抛（包括双面和单面抛光）、切割（包括多线和单线切割）以及工控等三大类，通过不断的技术创新和突破，其产品已广泛应用于多个行业。特别值得一提的是，公司的X62 S50D-T抛光机，这是一款专为4-8英寸半导体硅片、碳化硅、蓝宝石、锗片、铌酸锂、钽酸锂、玻璃等片状硬脆材料设计的单面高精度抛光加工设备。该设备以其易于操作、高配置和低噪音等特点，满足了市场对于高精度抛光工艺的需求。晶盛机电：专注“先进材料、先进装备”浙江晶盛机电股份有限公司自2006年成立以来，一直专注于先进材料和先进装备的研发与制造。公司以硅、蓝宝石、碳化硅这三大主要半导体材料为核心，开发了一系列关键设备，并将业务范围拓展至化合物衬底材料领域，致力于为半导体和光伏行业提供具有全球竞争力的高端装备和优质服务。在第三代半导体材料领域，晶盛机电取得了显著成就，成功生长出行业领先的8英寸碳化硅晶体。公司还建立了6英寸碳化硅晶体的生长、切片、抛光环节的研发实验线，其产品已经通过了下游客户的验证。晶盛机电将持续加强技术创新和工艺积累，以实现大尺寸碳化硅晶体生长和加工技术的自主可控，进一步巩固其在行业中的领先地位。晶盛机电还研发了碳化硅、半导体硅、蓝宝石三大领域的研磨抛光设备，这些设备能够满足从6英寸到12英寸多规格的高质量研磨抛光需求。这些设备以其高产能、高精度和高稳定性的特点，满足了市场对高性能半导体材料加工设备的需求。特思迪：探索8英寸SiC衬底的磨抛加工工艺北京特思迪半导体设备有限公司，自2020年成立以来，便致力于半导体领域表面加工设备的研发、生产与销售。公司总部位于北京，产品线覆盖了减薄机、抛光机、CMP设备以及贴蜡、清洗、刷洗等机器，服务于半导体衬底材料、半导体器件、先进封装、MEMS等多个领域。在2023年，特思迪在碳化硅衬底行业的磨抛设备出货量实现了显著增长，同比增长达到87.5%。公司不仅加速了新产品的研发，还成功推出了8英寸碳化硅全自动减薄设备，以及新款双工位单面抛光机、全自动CMP后清洗机和金刚石抛光机等。这些新设备在功能和工艺指标上均达到了国际先进水平，展现了公司在技术创新上的雄厚实力。特思迪在技术创新和产品开发上的成就得益于其强大的研发能力。公司目前拥有100余项自主知识产权的专利申请及授权，其主要产品的核心部件已实现国产化，并已规模化量产化合物半导体专用的减薄和抛光设备。特思迪不断推进新品研发，其产品线得到了进一步的扩充和完善。在碳化硅衬底领域，公司推出的新款双工位单面抛光机，相较于传统单机，效率提升了100%。此外，公司自主研发的全自动CMP后清洗机，以及为满足市场对金刚石衬底加工需求而研发的金刚石抛光机，都标志着特思迪在高端半导体设备制造领域迈出了坚实的步伐。上海致领：8吋SiC晶片全自动抛光线推出上海致领半导体科技发展有限公司自2011年成立以来，专注于精密平面加工领域，提供全面的解决方案，包括设备、配件、辅材、工艺研发及服务。公司在半导体晶片化学机械抛光机领域取得了显著成就，其产品已获得Semi认证，并成功替代了国内头部芯片厂商的进口设备，展现了其在半导体设备国产化方面的重要贡献。2023年，上海致领完成了一项重要的技术突破，开发了HCP-1280R2-SIA重型化学机械抛光机，这是一款专为6寸和8寸碳化硅晶片设计的高效率、高精度抛光设备。该设备能够实现超过10PSI的抛光压力，配备了先进的压力头往复摆动功能和分区加压功能，这些特性使得HCP-1280R2-SIA能够提供卓越的产品精度，满足高精度抛光工艺的需求。上海致领的这一创新成果不仅提升了公司在半导体设备领域的技术实力，也为碳化硅晶片的加工提供了强有力的支持。随着碳化硅材料在半导体行业的应用日益广泛，上海致领的HCP-1280R2-SIA抛光机有望在提高生产效率和产品质量方面发挥重要作用。小结单晶碳化硅以其卓越的物理和化学性质，在半导体行业中扮演着越来越重要的角色。然而，正是这些特性也给碳化硅的加工带来了挑战。单晶碳化硅的莫氏硬度高达9.5，表明它具有极高的硬度，这使得加工过程需要更为先进的技术和设备。同时，碳化硅的化学稳定性意味着它在常温下不会与大多数化学物质发生反应，进一步增加了加工的复杂性。碳化硅的压缩强度远大于其弯曲强度，这一特性使得材料在加工时更易碎裂，特别是在抛光过程中。为了实现高质量的抛光效果，需要施加更大的压力，这就要求抛光设备具备更高的负载能力和更精确的压力控制功能。尽管碳化硅的加工存在诸多挑战，但随着第三代半导体技术的快速发展，国内外设备制造商正在积极寻求突破。目前，长晶设备的国产化已经取得了显著进展，但切磨抛等加工设备的国产化程度相对较低，这些领域仍然是国内设备厂商需要重点攻克的方向。为了减少对进口设备的依赖，国内厂商正在加大研发投入，推动技术创新，以期在切磨抛等关键加工设备上实现国产化。通过不断的技术积累和市场验证，国内设备制造商有望逐步提升产品的技术水平和市场竞争力，满足国内半导体产业对高性能加工设备的需求。

慕尼黑上海分析生化展（analytica China）是亚洲最大的分析和生化技术领域的国际性博览会，是业内领军企业全面展示最新技术、产品和解决方案的最佳平台。慕尼黑上海分析生化展（analytica China 2016）将于 2016 年 10 月 10 - 12 日在上海新国际博览中心 N1，N2，N3 馆举行。飞纳电镜携帕纳科台式 XRF 及台式离子研磨抛光仪 1060 在 N3.3205 展出，欢迎广大参加本次慕尼黑上海分析生化展的观众们前来参观，体验飞纳台式扫描电镜，帕纳科台式 XRF 及台式离子研磨抛光仪三款台式科学仪器带来的突破与惊喜。一、台式扫描电镜： 飞纳电镜来自于世界领先的扫描电镜制造商 Phenom-World，是快捷、出众、可靠的电镜成像分析设备，主要应用于材料科学，生命科学，工业制造，地球科学，电子，鉴定，教育等领域。飞纳台式扫描电镜自推出以来，深受广大高校老师和学生的欢迎。 飞纳电镜独特的集成化设计，体积小巧，主无需配备专业的实验室，提供在诸多领域中要求的高分辨率以及高质量分析成像。高性价比、操作简便、快速成像的飞纳台式扫描电镜成为工程师，技术员，研究员以及科教专家观测微米以及纳米结构的首选。飞纳电镜具有以下主要优点：1)15 秒抽真空，30 秒快速成像，无需喷金，可直接观测样品；2)独家配置光学导航，方便用户实时定位扫描样品的位置；全触控界面及自动马达样品台，操作便捷；3)是世界上唯一采用 CeB6 灯丝的台式扫描电镜，寿命长（1500 小时，是普通钨灯丝寿命的 20-30 倍）、亮度高、色差低，图像细腻；4)独有的防震设计，能够最大限度的减小外界环境对电镜的干扰，采用软件保护硬件模式，对于电镜起到很好的保护作用；5)功能多样化的样品杯及软件拓展功能；应用软件终生免费升级，国外工程师可 24 小时通过网络对电镜的性能进行监测和调试，后期维护简单。 二、台式X射线荧光光谱仪 作为元素成分分析的一种方法，帕纳科台式 XRF 在环保领域、食品领域、材料领域、化学化工等众多领域有着广泛的应用。XRF 是一种物理分析方法，相比于化学方法，XRF 无需强酸消解等样品前处理步骤，不会产生二次污染，操作简单，检出限可达到 ppm 级。 帕纳科作为飞利浦的分支机构，现已成为全球最大的 X 射线分析仪器生产厂家，是专业的 X 射线仪器制造商。帕纳科台式 XRF 继承了飞利浦节能高效的传统，采用最新一代硅漂移探测器，具有优越的性能。其主要特点如下： 1.提供快速简单精确的元素分析方法，一般 3 分钟即可得到检测结果；2.超高的分辨率（135eV）以及优秀的检出限（ppm 级到亚 ppm 级），可检测元素范围 C（6）－Am（95）；3.对样品状态的强大兼容性，可以测试规则、不规则样品、粉末样品、熔融样品以及液体样品等；4.超快学习上手性能，仅需简单培训即会操作使用；5.自主提供的独特的陶瓷光管，实现完美的仪器匹配和光管超长寿命；6.超小占地面积，占地面积不超过 0.2 平米；7.无损分析，无需强酸消解。在测定中不会引起化学状态的改变，同一试样可反复多次测量，重现性好。 三、台式离子研磨抛光仪：台式离子研磨抛光仪一台高质量的 SEM 样品制备台式精密仪器，满足几乎所有材料应用的样品制备。Fishione 具有目前最先进技术的离子研磨抛光系统，设计精巧，操作方便，性能稳定。可用于制备各种材料的高质量扫描电镜样品，满足苛刻的成像及分析所要求的样品制备。台式离子研磨抛光仪进行加工的材料来源种类十分广泛，包括由多元素组成的试样，以及具有不同机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。如焊缝焊缝截面、集成电路焊点、芯片 BGA 切片、多层薄膜截面、颗粒纤维断面、复合材料、陶瓷、金属及合金、岩石矿物及其他无机非金属等各种材料的 SEM 样品。台式离子研磨抛光仪具有以下特点：1、具有高能量双离子束源，可同时聚焦在样品表面，大大提高了研磨抛光速度；2、具有预真空锁，将真空舱体与外部环境隔离，保证样品转移过程中极佳的真空环境；3、可以对样品进行实时的原位观察；4、具有高度自动感应功能，同时可利用编程对样品进行重复定位、调节旋转速度和往复摆动角度。

离子束科技之约 | Technoorg Linda CEO András 来访复纳科技 Part 1 引言 2023 年 11 月 15 日，Technoorg Linda 首席执行官(CEO) András Szigethy 来访中国，与复纳科技团队进行了一场深入的交流会议。本次会议交流内容聚焦于产品培训、技术支持、市场推广、业务拓展等关键议题，使双方更好地理解了彼此的需求和期望，促进了双方合作关系的深化。 在本次面对面的交流会议中，András 为复纳科技团队提供了专业的产品培训和技术支持，有效地传递了产品信息和技术细节。他的到访不仅加速了团队对 Technoorg Linda 系列产品的理解，也为复纳科技在中国市场推广和业务拓展开辟了新的机遇。 Part 2 Technoorg Linda 与复纳科技 关于 Technoorg Linda Technoorg Linda 总部位于匈牙利布达佩斯， 由 D. Szigethy, Prof. Á . Barna, Prof. N. Kroo 和 Prof. A. M. Prohorov ( 1964 年获诺贝尔奖) 创建于 1990 年，是一家专注于科学实验室设备制造的领先企业。 Technoorg Linda 致力于研发和生产高性能的样品制备设备，为电子显微镜领域的科学家们提供优质的实验室支持和技术解决方案。其产品涵盖了 SEM/TEM/FIB 样品制备所需的关键设备，可用于样品准备、离子加工和表面精细。产品广泛应用于各种科学研究领域，帮助科研人员更好地理解和探索微观世界的奥秘。 关于复纳科技 复纳科技创立于 2012 年，一直致力帮助海外顶尖高科技仪器厂商在中国市场搭建完善的服务与售后体系，助力中国用户科研创新、工业升级。作为 Technoorg Linda 在中国市场的独家代理商，我们为客户提供全方位的产品培训、技术支持和售后服务。当前在国内市场专注于引进并推广 SEM/TEM/FIB 样品制备系列设备。其中，Gentle Mill 离子精修仪主要用于改善 FIB 处理后的样品，UniMill 离子减薄仪主要用于透射电镜(TEM)样品制备，SEMPrep2 离子研磨仪主要用于扫描电镜 (SEM)样品制备。 01.Gentle Mill 离子精修仪 Gentle Mill 离子精修仪专为最终抛光、精修和改善 FIB 处理后的样品而设计。非常适合要求样品无加工痕迹、表面几乎没有任何损坏的 XTEM、HRTEM 或 STEM 的用户。 1.1 产品介绍 FIB 系统主要用于制备 TEM 横截面样品薄片。与更传统的方法相比，FIB 的优点包括高通量、高精度、较少优先减薄和大的电子透明区域。然而，FIB 的主要缺点是能量相对较高的 Ga+ 离子会导致受损层（如非晶或注入），该层可能会延伸到材料中数十纳米。因此，FIB 制备的 TEM 样品不太适合高性能的 (S)TEM、HRTEM、HRSTEM 分析和高空间分辨率的 EELS 和 EDX 研究。 Gentle Mill 离子精修仪使用优异的独家热阴极低能离子枪做为离子束源。离子束的低角度、低能量保证了表面损伤和离子束诱导非晶化效应的最小化。非常适用于 FIB 样品的清洁和最终抛光，可无损去除薄片形成过程中 FIB 产生的受损层，也可进一步减小样品厚度。 1.2 离子枪参数低能离子枪（固定型）&bull 离子能量：100 eV - 2 keV，连续可调&bull 在 2 keV 离子能量和 30° 入射角下，c-Si 的研磨速率为 28 μm/h&bull 离子电流密度：最大 10 mA/cm2&bull 离子束流：7 - 80 μA，连续可调 1.3 应用案例 图注：C 面蓝宝石 FIB 薄片，Gentle Mill 的低能离子源有效消除所有非晶层和损坏层。 图注：左图为原始 FIB (30 kV) 处理薄片；右图为经过 Gentle Mill (300 eV) 处理的薄片。Si-SiGe 多层异质结构样品两侧均使用 Gentle Mill 处理 2 分钟，以去除 FIB 薄片制备产生的非晶层。在 FIB 薄片的边缘处可以看到非晶层厚度明显减少。 图注：GaSb/InAs 超晶格。使用 Gentle Mill 制备样品：在 2 keV 下减薄直至穿孔，然后在 1 keV 下修整，最后在 300 eV 下精修。 同时，第三代 Gentle Mill 采用简单便捷的图形界面，可进行全电脑控制。所有切削参数，包括离子枪设置、气流控制与其他 参数（如样品运动和倾斜角度、穿孔检测）的设置，都可以存储或以任意步骤进行预编程。这种全自动功能实现了在最少的人工干预下制备高质量的样品的功能。 02.Unimill 离子减薄仪 UniMill 离子减薄仪专为快速地制备具备高减薄率的、高质量的 TEM/XTEM 样品而设计。Unimill 既可以使用全新升级的超高能离子枪进行快速研磨，也可以使用专用的低能离子枪进行最终抛光和精修处理。 2.1 产品介绍 UniMill 离子减薄仪适用于研究新型材料或探索新型样品制备方法的用户，由于设备具有极高的研磨速率，也非常适合用于低溅射率的材料，如金刚石、蓝宝石等。通过低能离子枪轰击获得无人工痕迹样品，这为技术科学和材料研究领域探索合成材料和天然材料的真实纳米结构提供了独特的机会。 2.2 离子枪参数 超高能离子枪（可选）：&bull 离子束能量：高达 16 keV，连续可调&bull 离子束电流：高达 500 μA 高能离子枪（标配）：&bull 离子束能量：高达 10 keV，连续可调&bull 离子束电流：高达 300 μA 低能离子枪：&bull 离子束能量：100 eV - 2 keV，连续可调&bull 离子束电流：7 - 80 μA 2.3 应用案例001 GaN 平面视角样品的 TEM 图像。使用高能离子枪研磨后，样品通过 300 eV 的低能离子枪进行精细处理。 03. SEMPrep2 离子研磨仪 SEMPrep2 离子研磨仪可配备高能量、低能量两支离子枪,为传统 SEM 样品和 EBSD 样品的最终抛光和精细处理提供高质量解决方案。 3.1 产品介绍 离子研磨仪配备超高能量离子枪，可进行快速截面剖削，为半导体工业、材料科学、地质学或其他学科和工业应用提供优异的 SEM 样品剖面。同时，也可用于改善和精细处理机械抛光后的 SEM 样品，并为 EBSD 测量制备无损伤表面。最后，也可配备低能离子枪用于易脆易损伤样品表面更细微的温和处理。 3.2 离子枪参数 &bull 全新升级的超高能离子枪：加速电压高达 16 keV，加速电压连续可调。&bull 专用低能离子枪：100 eV 至 2 keV （可选配）。 3.3 应用案例 离子束截面剖削为 SEM/EBSD 成像和微量分析制备各种材料的高质量样品横截面。Sn-Ag 焊球的栅格阵列 (BGA) 金属线键合 离子束表面抛光制备用于电子背散射衍射(EBSD)研究和取向成像显微分析法(OIM)的样品。铜 镍 Part 3 联系我们 如果您想获取更多关于 Technoorg Linda SEM/TEM/FIB 样品制备的更多产品详情、应用案例或者寄样 DEMO，欢迎您识别下方二维码填写需求。

【活动】徕卡将参加慕尼黑上海光博会 欢迎莅临新国际展览中心 体验极致光学慕尼黑上海光博会为所有的光学行业及其应用领域的决策者提供了一个绝佳的交流平台。徕卡将参加该展览，等待您的到来！时间：2016年3月15-17日地点：上海新国际展览中心展位号：W3馆徕卡公司介绍徕卡公司是全球著名的光学制造商，产品涉及光学、材料科学、电子技术、生命科学、医疗卫生等领域。徕卡公司在新技术与产品的转化方面无论是速度、深度、广度均是同行业的佼佼者，尤其是材料显微镜的技术创新上始终占领主导地位。徕卡显微镜产品在中国同样拥有最广泛的用户，早期的“Leitz”品牌和现在的“Leica”商标产品深受用户青睐。徕卡公司在香港设立徕卡仪器有限公司，并在中国大陆设立徕卡显微系统(上海)贸易有限公司,负责中国大陆地区的销售事物，在北京、上海、广州、成都、沈阳直接设立办事处和维修中心，提供销售咨询和产品售后服务， 200多名员工随时为客户提供专业的服务。公司在上海设有保税仓库，及时快速地提供维修零备件，具有多年维修经验的资深工程师提供快速的反应和优良的售后服务。产品展示 DVM6 视频显微镜无论您从事的是质量保证，失效分析，研发还是取证的工作，LEICA DVM6视频显微镜都能提供快速，可靠和易用的解决方案。有了DVM6,任何人都能成为显微镜专家。易于使用16：1的变倍比，快速改变倍数，单手即可倾斜操作或者更换物镜出色的图像质量采用高分辨率1000万像素摄像头，发现更多细节智能自动化不同的测量工具，一键获得2D/3D测量报告LeicaDCM8白光共焦干涉显微镜真正的双核显微镜，结合了共聚焦和白光干涉两大功能，能非常精确地测量样品的3D表面状况，做出3D模型，精确测量得到三维尺寸，操作非常简单，只要执行3个步骤，花费3秒钟的时间，就能得到令人满意的3D图像。通过高清 (HD) 共聚焦显微技术实现最佳横向分辨率、斜率求解和成像通过高清干涉测量技术实现高达 0.1 nm 的最佳纵向分辨率通过明场和暗场显微镜方便地实现图像摄取四盏 RGB 高清彩色成像 LED，应用范围更广可使用三种方法测量厚薄不同的薄膜Leica DMS300/1000 数字显微镜配有一体化高端光学部件和高性能数码摄像头的数字显微镜系统。专注于优化工业数字化测量及检测任务。工作更轻松无论是否使用计算机，都可以轻松快速地检验，记录和存档您的工作成果。理想组合凭借编码型变倍和FlexAperture技术，以最佳观察效果呈现样品。 一目了然同样适合于测量，通过模块化Leica Application Suite （LAS）软件，可以做出各种分析和报告Leica DM8000M/12000M 正置材料显微镜高级智能数字式正置材料显微镜，适合晶圆、电子元器件、金属、陶瓷、高分子材料、电子元器件, 粉尘颗粒、等样品的观察分析，多种安全设计，保护晶圆，镜头及观察者。模块化设计，可实现反射观察、透反射观察配置复消色差光路，整体光路支持25 mm视野直径可选配UV光源，提高观察分辨率至亚微米结构，UV由大功率LED产生，具有UV和OUV功能12x12大样品台，可观察晶圆，LCD等大尺寸样品6孔位电动物镜转盘，配接32mm直径长工作距离工业物镜内置电动或手动调焦系统独有0.7X宏观物镜，具有宏观晶圆检查功能可实现明场、暗场、偏光、干涉和斜照明观察方式EM TXP精研一体机一款独特的可对目标区域进行精确定位的表面处理工具，特别适合于SEM，TEM及LM观察之前对样品进行定点切割、研磨、抛光等系列处理。特点：五合一：铣削、切割、研磨/抛光、冲钻、原位显微观察对微小目标区域进行精确定位和样品制备通过立体显微镜实现实时原位观察自动化样品处理过程控制微尺度制样利器！EM TIC 3X三离子束切割仪离子束侧面轰击样品，获得高质量无应力“切割”截面，以便于SEM观察，及EDX或EBSD等分析。适用于多层膜材料、软硬复合材料，金属、陶瓷、地质等各种材料。操作简单，不需要摸索条件即可获得理想的样品截面，使样品暴露内部细微结构信息。可选配旋转样品台，进行离子束抛光。特点：离子束切割，样品无需常规包埋，操作简便三离子束，制样区域大，效率高可容纳样品尺寸可达50x50x10mm触摸屏操作界面，易教易学几乎适用于各种类型样品，获得平整无应力的样品截面！

1纳米有多长?相当于一根头发丝直径的1/80000。亚纳米有多长?小于1纳米!1月中旬，国防科大精密工程创新团队自主研制的磁流变和离子束两种超精抛光装备，创造了光学零件加工的亚纳米精度，并通过国家权威部门验收。据专家介绍，这一成果使我国成为继美国、德国之后第3个掌握高精度光学零件制造加工技术的国家，并成为世界上唯一同时具有磁流变和离子束抛光装备研发能力的国家。 　　纳米精度被誉为超精密加工技术“皇冠上的明珠”。20世纪90年代，我国大多采用“手工+机械抛光”的传统加工技术，无法进行大口径、高精度、复杂面形的光学零件加工。国防科大精密工程创新团队在李圣怡教授率领下，经过20多年顽强拼搏，突破重重技术瓶颈，自主研制出磁流变、离子束两种超精抛光装备，创造出我国光学零件加工领域的亚纳米精度。 　　近3年来，该团队先后与中国科学院、中国航天科技集团等单位合作，推动我国空间光学、高端装备制造发展，自主研制出两大类7个型号的磁流变和离子束抛光机床，取得了显著经济效益和社会效益。该团队先后获得科技部重大科技专项颁发的“突出贡献奖”和“突出成果奖”。

仪器信息网讯 为推动北京及周边省市电子显微学的学术及技术水平，促进电子显微学工作者在材料科学、生命科学等领域的应用、发展和交流，2011年12月21日，一年一度新老朋友相互聚会的“北京市电子显微学年会” 在国家图书馆隆重召开。本次会议特别邀请了14名业内知名专家就电镜技术的最新进展及应用做了精彩报告，吸引了200余位来自各高校、科研院所、检测机构及生产厂家等单位的代表出席会议。 会议现场 北京市电镜学会理事长张德添教授主持会议 电子显微学新仪器、新技术层出不穷 科扬国际贸易(上海)有限公司刘凌玉女士 报告题目：Gatan公司最新扫描电镜配套设备 　　Gatan公司是一家电镜附件的专业生产厂商，其产品广泛用于增强和扩展电子显微镜的性能及应用方面。刘凌玉女士主要为大家介绍了公司693llion+离子束抛光装置和ALTO冷冻传输装置的性能特点。 　　693llion+采用聚焦离子束设计的离子枪，离子束加工速度可以达到每小时140µ m (硅，6KV)。其智能化样品台旋转控制，很好的减少了升温带来的样品表面凹凸效应，更有利于散热；ALTO冷冻传输装置利用快速冷却的方法，使得生物样品和化工样品急速冷却，不会产生结晶变型的情况，可以最大限度的保持高含水样品的原貌，而且不需浸泡在溶剂中，避免了化学固定。此装置操作简单，在聚合物、生命科学材料等领域有很好的应用价值。 布鲁克(中国)有限公司杜敏文先生 报告题目：EDS with SDD for TEM/STEM (no liquid nitrogen) 　　杜敏文先生介绍，布鲁克全球首创适用于TEM的SDD能谱探测器，采用与美国宇航局火星探测器及欧洲空间局同一型号的芯片，具有超高的分辨率(@MnKa 100,000cps)；异常优异的轻元素定性定量分析功能，测定元素范围从Be(4)到Am(95)；采用两级帕尔帖制冷，开机20秒即可使用，完全免维护。在医药及生命科学领域有很好的应用价值。 　　最后，杜敏文先生还谈到布鲁克引领技术潮流，“一直被模仿，从未被超越”。下一代能谱仪将和半导体背散射电子探测器一样，直接置于物镜极靴的正下方，这样就可以拥有更理想的检出角，不再受样品表面形貌的影响，即使不平整样品也可轻松实现能谱分析。 日立高新技术公司罗琴女士 报告题目：SU8000系列在环境材料方面的应用 　　罗琴女士首先介绍了日立最近推出的SU8000系列产品优异的性能：采用半内透镜设计物镜，具有超高分辨率技术(1.3nm/1.0KV)；信号探测系统范围广，可操作性强，便于用户操作；可根据用户需求提供不同的样品台、样品室以及信号探测系统，满足用户对超高分辨率显微镜的特定需要等。 　　随后，罗琴女士还介绍了SU8000系列产品SEM在环境材料解析方面的应用优势，SU8000系列产品可以进行电极表面的评价及隔离薄膜的构造分析，在太阳能电池、ITO膜、LED、催化剂等领域的评价中具有重要的应用价值。 钢铁研究总院李树强先生 报告题目：GL-69系列离子减薄仪的最新进展 　　离子减薄仪是电子显微镜的配套仪器，主要用于制备透射薄膜样品。钢铁研究总院从上世纪七十年代末开始研发离子减薄仪，先后研制了六代产品：GL-69、GL-69X、GL-69D、GL-6900、GL-6960和GL-696F，用户遍及国内二十多个省市及香港特区。 　　李树强先生介绍，GL-696F离子减薄仪是最新一代产品，具有0～10KV连续可调的离子束加速电压，离子束对样品的最小倾斜角可达2度(抛光试样台)。该仪器特别采用了“薄轴承”试样台，在减薄过程中对离子束无遮挡而且散热好，更换样品既方便又不损伤样品，这一特点特别有利于陶瓷等脆性样品的制备。另外，该款仪器还配备了GL-69/11型制冷样品台(室)等多种功能附件。 徕卡仪器有限公司童艳丽女士 报告题目：徕卡电镜制样技术新产品简介 　　童艳丽女士在报告中主要介绍了2011年徕卡公司新推出的全自动临界点干燥仪、自增压快速冷冻仪及离子束切割仪三款仪器的技术特点。 　　EM CPD300全自动临界点干燥仪中填充版可以起到缓冲作用，可以保护样品结构，减少CO2消耗量及样品处理时间。废气分离收集瓶可以实现废气分离，既安全又环保；EM SPF自增压快速冷冻仪采用独特的U型管设计，不需要冷冻保护，样品保存在真实环境中，适用于细胞、细菌、酵母等悬浮样品；EM TIC 3X徕卡三离子束切割系统不同于传统的样品抛光技术，样品位置固定，不需要做偏转运动，三个离子束从三个方向同时轰击样品，切割宽度大于4mm，适用于任何材料样品，可以获得高质量平整表面。 蔡司光学仪器（上海）国际贸易有限公司唐圣明教授 报告题目：蔡司GEMINI技术(非交叉束) 聚焦离子束(FIB) 　　唐圣明教授介绍，蔡司公司拥有一条包括扫描电子显微镜、氦离子显微镜、透射电子显微镜等多款仪器在内的显微镜生产线。蔡司电镜(中国)自2008年进入中国，经过4年的迅速发展，市场占有量稳居第4位。目前，第一台CZ的聚焦离子束系统(AURIGA)已在中科院上海光机所投入使用，其优良性能得到了用户的青睐。 　　其中，聚焦离子束系统(CrossBeam)中的GEMINI场发射扫描电镜采用GEMINI透镜，由于其物镜为静电透镜，因此物镜外不存在磁场(或极小磁场)，消除了电子束和离子束之间的电磁干扰，从而可以实现边刻蚀边观察的实时观察功能。而普通的FIB-SEM双束装置的二个光柱体之间存在着电磁干扰，不能实现SEM和FIB扫描的相互独立，也不能达到同步的目的。 FEI公司韩伟先生 报告题目：FEI电镜产品的最新进展 　　韩伟先生介绍到，Nova NanoSEM x50系列产品采用独一无二的低真空模式，可以高分辨表征和分析极易污染和不导电的样品；集成的16位图形发生器，可以提供新的原型制备解决方案；采用“浸入式”透镜和“无磁场”透镜双物镜技术，应用具有环形信息过滤功能的定向背散射电子探头，是先进的超高分辨表征和分析的完美结合。 　　另外，该系列产品还拥有高精度样品台和直观的样品导航，操作灵活简便，能满足纳米尺度的表征、分析和原型制备的需求，可以提供高真空条件下更高分辨、更高质量成像和分析的高级解决方案。 牛津仪器（上海）有限公司孟丽君女士 报告题目：Aztec-牛津仪器新一代材料微观分析平台 　　孟丽君女士在报告中首先谈到了牛津仪器能谱仪的市场概况，牛津SDD电制冷能谱国内安装总数已经超过450台，其中使用最新Aztec软件的能谱仪已经销售74台。 　　Aztec软件集最新的探头硬件系统，多任务软件管理系统，以及几十年的微观分析技术为一体，集成为功能最强大的微区表征系统。专利的Tru-QTM EDS引擎可以带给用户专家级的分析结果；Tru-lTM EBSD引擎可以确保数据的准确性；采用了跨越式的创新技术，智能化更高，可以实时快速的显示分析结果。最后，孟丽君女士还谈到，牛津仪器建立了上海演示培训实验室，特聘请显微分析技术顾问，每月定期召开小班用户培训会，为用户进行深入培训。 电子显微学仪器应用价值越来越大、应用范围越来越广 北京大学俞大鹏教授 报告题目：半导体纳米线材料：挑战尺寸极限，发现新现象 　　北京大学物理学院电镜实验室配备Tecnai F30、Tecnai F20、Tecnai T20场发射透射电镜，Hitachi 9000NAR高分辨透射电镜，DB 235 FIB聚焦离子束系统，Nano SEM430场发射扫描电镜等多款先进的仪器。 　　俞大鹏教授在报告中首先介绍了课题组在SiO2、Ga2O3、ZnO等纳米线方面的研究成果，指出如何规模化制备纳米线具有很重要的科学意义，其中，电镜作为这项研究的必备仪器，其技术的进步对研究的进展起到非常重要的推动作用。随后，俞大鹏教授着重介绍了纳米腔中的表面等离激元模式(SPP)的形成机理及应用的最新进展。其中，ZnO等纳米线与金属SPP耦合可以对光起到很好的增强作用，这一点在纳米激光器的研究方面有非常重要的应用价值，产业化前景很好。 中国文化遗产研究员沈大娲博士 报告题目：扫描电镜在文物保护中的应用 　　中国文化遗产研究院的历史可以追溯到1935年的旧都文物整理委员会，其文物修复与培训中心实验室拥有扫描电镜-能谱、X射线衍射等多款先进的分析仪器。报告中沈大娲博士首先为大家介绍了文物保护研究的内容，让大家对文物保护研究有了一个初步的了解。 　　随后，报告从金属文物的腐蚀产物分析、无机非金属文物微观形貌及成分分析、有机物文物病害分析及复合材料材质文物表征四个方面介绍了文物保护中材料学的研究范围，图文并茂的向大家展示了利用电镜技术进行的古代金属铸币、文庙彩绘颜料、南海沉船、骨雕饰品及文物中留存微生物样品的电镜分析图片，让大家了解电镜在文物研究中重要作用的同时，感叹中国文物的博大精深。 军事医学科学院周涛博士 报告题目：炎症调控分子CUEDC2与乳腺癌内分泌治疗的耐药性——成像新技术及应用 　　周涛博士就职的国家生物医学分析中心是国家重大科研任务技术依托基地，其实验室可以完成质谱分析、核磁共振分析、电子显微分析等多种分析测试。周涛博士的研究课题主要是基于细胞观测平台进行的肿瘤分析。 　　在报告中，周涛博士主要给大家介绍了两种用于肿瘤分析的新技术。转盘共聚焦技术采用最新的CCD技术：EMCCD，大幅提高CCD高速成像时的信噪比，进而提高CCD的灵敏度。该项技术在活细胞观察方面具有灵敏度高，成像速度快，光毒性低，光漂白弱等优势；全切片数字扫描成像系统可以实现整张切片的数据保存，并且可以建立数字切片数据库，实现病理资源数字化、网络化。 中国计量科学研究院高思田教授 报告题目：电子显微技术放法在我国计量科学研究中的应用与前景展望 　　微纳米技术可以深入理解测量中的复杂微观和化学机制，保证测量结果的准确性，并且可以显著延伸许多现有常规测量方法的极限。纳米几何结构测量参数包括台阶高度、线间隔、线宽等，测量仪器主要是基于光学、电子束、扫描探针三种原理，设备包括扫描电镜、扫描探针显微镜等。 　　高思田教授介绍，计量型扫描电镜标准测量装置可以用于扫描电镜的线宽和线间距标准物质的校准，实现量值传递和量值溯源，可为透射电镜提供有效的量值溯源途径。此外，高思田教授还谈到，目前计量型SEM已经得到科技部科技支撑项目的支持，基于模型的计算方法以及线宽线间隔标准物质得到科技部纳米重大专项的支持，预计3-4年后，扫描电镜的量值溯源问题能够得到彻底的解决。 清华大学张丽娜博士 报告题目：超顺排碳纳米管在电子显微表征及其他领域的应用 　　张丽娜博士从普通的碳纳米管阵列与超顺排碳纳米管阵列的区别讲起，介绍了超顺排碳纳米管的性质、形成机理及应用。超顺排碳纳米管阵列可以抽出连续线和薄膜，其中超顺排碳纳米管网状薄膜具有高的机械强度、良好的导电性、大的比表面积、好的可伸缩性，是纳米材料的良好载体和天然合成模板。 　　超顺排碳纳米管经过十几年的研究，在实际应用中的价值越来越重要。超顺排碳纳米管微栅具有非常多的边沿-碳管壁、强吸附性等特点，可以获得无基底衬度噪声干扰的清晰高分辨图像；超顺排碳纳米管薄膜扬声器利用热量和声波之间可控的热声效应能产生悦耳的音乐 此外，超顺排碳纳米管触摸屏抗敲击、可毛笔书写、整合性高，目前已经在手机产业中得到了很好的应用。 北京市神经外科研究所孙异临主任 报告题目：电子显微镜在神经系统疾病诊断和研究中的应用 　　孙异临主任是多年来一直致力于肿瘤方面的研究。报告中，孙异临主任以不同肿瘤的电镜照片为例，给大家介绍了电镜在肿瘤研究中的重要作用，根据电镜条件下细胞的不同形态可以判断肿瘤细胞的类型及病理状况，例如根据电子显微镜观察结果可以将垂体腺瘤分成生长激素GH腺瘤、泌乳激素PRL腺瘤、GR/PRL混合腺瘤、TSH腺瘤、ACTH激素腺瘤、无功能腺瘤等。 　　此外，孙异临主任生还谈到了脑肿瘤病因学研究方面的内容，其中特别提到了有关手机辐射对脑组织的影响。虽然手机能否引发脑瘤还依然是个悬案，但是，手机的辐射在日常生活中处处都在。比如手机电话拨出而未接通时，辐射较强，所以建议大家看到接通提示再将手机放到耳边。另外，尽可能不要在车内打手机，因为车厢为金属外壳，手机电磁波会在车内反射。 会议同期举行小型仪器展 　　会议同期还举行了小型仪器展，科扬、FEI、日本电子、日立、岛津、牛津、钢铁研究院、徕卡、蔡司、中镜科仪、中兴百瑞等公司展出了最新的仪器，并与与会代表进行了深入的沟通和交流。

Technoorg Linda Co. Ltd. 1990 年创立于匈牙利布达佩斯。专注于高质量的样品制备设备和相关解决方案的开发与制造。多年来一直在材料科学、电子显微镜和光学领域提供创新的产品和服务。为了满足客户的质量要求，Technoorg Linda 自 2004 年起实施了符合 ISO 9001 标准要求的质量管理体系。近期，Technoorg Linda 公司首席执行官 András Szigethy 接受了匈牙利知名杂志《Innotéka》的采访： András Szigethy： 卡塔琳卡里科（Katalin Karikó）（2023 年诺贝尔生理学或医学奖获得者）和费伦茨克劳斯（Ferenc Krausz）（2023 年诺贝尔物理学奖获得者）的成功使匈牙利自然科学研究名声大噪。然而，除了学术上的成功，我们很少听说匈牙利的科技公司代表着很高的标准，并决定了特定行业的发展步伐。但是，在电子显微镜样品制备领域，Technoorg Linda 的离子束样品制备产品 30 多年来一直被认为是该领域质量较高的设备。热敏样品的制备“如今，必须在纳米范围内寻找进一步发展高科技的潜力，这决定了设备技术的范围。”András Szigethy 解释道。研究人员需要基于全新的想法来确定发展方向。这十年的标志性产业不仅对人民福祉和环境发展产生影响，而且对国家和各大洲的基本战略也具有决定性影响。这些领域包括半导体制造和电池行业。Technoorg Linda 公司的目标是寻找并解决这些行业中出现的问题，提供方案。其专业领域是在不影响原始状态的情况下，探索待研究的材料和原子结构。András Szigethy， Technoorg Linda 首席执行官我们怀着无尽的兴奋展望未来 —— 首席执行官继续说道。近年来，Technoorg Linda 作为样品制备的解决方案，成功实现了离子束技术出现在一个未知的新领域。成功的关键是有针对性的开发 —— 考虑到扫描电镜（SEM）和透射电镜（TEM）的市场需求。电池隔膜横截面图像及其阳极或阴极的处理绝非易事（图1）。在保证材料质量的前提下，这类样品的微观结构无法通过传统的样品制备方法（切割、抛光）检测到。作为高孔隙率有机聚合物薄膜样品，具有绝缘性能，同时也是热敏感样品，无法使用高热切割方法。高温会熔化样品，阻碍研究人员对样品真实结构的观察。因此，电池行业需要新的解决方案。图1.将多晶三元材料通过离子研磨仪切割后，可以观察到颗粒内部的真实情况。（来源：Technoorg Linda）凭借 30 多年的专业经验，Technoorg Linda 开发了用于扫描电子显微镜样品无损加工工艺。通过 Ar 离子束的能量在材料表面进行微观改性，从而实现高精度、高效率，无机械损伤的样品表面处理。除此之外，设备甚至不使用冷却，从而形成了完全独特的解决方案，技术远远领先。图2电池隔膜横截面扫描电子显微镜图像。具有两种不同微观结构的聚烯烃相，可以清晰地观察到明显差异（来源：Technoorg Linda）Technoorg Linda 战略“自公司成立以来，我们一直在寻找挑战，我们不断学习、创新，从而扩大 Technoorg Linda 在这一特定领域的专业知识和经验。毕竟，如果没有正确制备样品，就不可能获得高精度、高分辨率的显微图像。对我们来说，这些行业：比如芯片或电池制造，代表着进步；我们不是要追赶，而是要走在他们前面，为他们提供新的机会。我们的团队很幸运地继承了上一代人的职业道德和公司政策，注重团队精神、前瞻性思维和积极寻找挑战。我们的目标是让 Technoorg Linda 这个名字成为高品质、易学且高效的样品制备的代名词。”“Technoorg Linda 产品为所有需要了解材料真实结构的研究人员提供了完整的工作流程和样品制备解决方案，无论是地质、冶金还是陶瓷领域。例如，从聚焦离子束 (FIB) 制成的薄片中去除镓、多孔样品无尘制备、对水或氧敏感样品表面的处理和后续的运输以及处理多层样品表面的横截面。得益于这种思维方式，我们的产品可以在世界许多大学、研究中心和工业实验室中找到。”复纳科学仪器（上海）有限公司作为Technoorg Linda 在中国的合作伙伴，我们为客户提供全方位的产品培训、技术支持和售后服务。当前在国内市场专注于引进并推广 SEM/TEM/FIB 样品制备系列设备。其中，SEMPrep2 离子研磨仪主要用于扫描电镜（SEM）样品制备，UniMill 离子减薄仪主要用于透射电镜（TEM）样品制备，Gentle Mill 离子精修仪主要用于改善 FIB 处理后的样品。

新品发布 | TESCAN新一代镓离子 FIB-SEM双束电镜技术革新、完美升级！AMBER 2 在 2024 年显微镜及显微分析年会暨博览会（M&M）上首次亮相，带来了用于 TEM 样品制备的新工具。更清晰 | 更高效 | 更灵活新消息，新消息！科学仪器新消息！备受赞誉的 AMBER 平台升级啦！ TESCAN AMBER 2，即 TESCAN 镓离子双束电镜平台第四代产品，即将在今年的M&M 2024博览会上揭晓。与 AMBER 2 同时推出的还有两项新的集成创新工具：AURA Gentle离子束系统，将镓离子FIB在TEM制样中引起的损伤降到最低；以及 TEM AutoPrep Pro&trade 人工智能软件技术，对TEM样品制备过程进行了全面优化，实现完全自动化。AMBER 2简介TEM/STEM 制样 完全自动化拓展纳米原型设计最初在 2019 年推出的 TESCAN AMBER，凭借其超高分辨扫描电镜和先进的 Ga+ FIB，在材料纳米表征方面树立了新的标准。AMBER 2 在这一基础上，通过提升自动化和易用性构建，确保了样品制备和三维分析的精确和高效。AMBER 2完全自动化功能简化了操作，降低使用难度；使常规制样亦能通宵运转，显著提高了实验室的生产力。探测系统也进行了升级，增强了材料表面表征的能力，并扩展了如电子束光刻等原型设计应用的能力。新增&强化&bull AI 驱动 和 丰富材料库确保了AMBER 2 对各种材料制样的可靠性和完全自动化能力。&bull 新一代 BrightBeam&trade 扫描电镜镜筒此外，新一代 BrightBeam&trade 扫描电镜镜筒集成了电子束闸，能有效控制电子束光刻进行纳米原型设计。AMBER 2 还是从微米级到纳米级的 FIB-SEM 表征的绝佳起点。主要特点&bull 完全自动化：让用户省心，让效率最大。&bull 直观界面：对初学者和高级用户的操作都非常友好。&bull 通宵运作：夜间执行自动化任务，提高实验室生产力。&bull 精确的样品制备：在样品制备和成像中保持高分辨率和准确性。&bull 优化的原型设计：扩展了原型设计功能。扫码了解更多详情两项新工具的发布：除了 AMBER 2，TESCAN 还推出了 AURA Gentle 离子束镜筒技术 和 TEM AutoPrep Pro&trade 人工智能软件技术。TESCAN AURA Gentle 离子束镜筒技术AURA Gentle 离子束镜筒技术为 TEM 制样树立了新的基准。AURA Gentle 离子束镜筒通过集成成熟的氩离子束技术，能够在典型的低能量下运行，例如低至 200 eV。这样就尽可能地减少了非晶体化损伤，并保持了样品的晶体结构，这对于高分辨率 STEM/TEM 成像至关重要。它与 TESCAN FIB-SEM 无缝集成，提供超薄样品制备的优越质量和效率。扫码了解更多详情TESCAN TEM AutoPrep Pro&trade 人工智能TEM制样自动化软件技术TEM AutoPrep Pro&trade 技术利用 AI 和 TESCAN Essence&trade 软件来实现自动化 TEM 制样，适应各种材料并实现无人值守操作。该系统通过在夜间运行时自动执行铣削、提取、修整和抛光等任务，提升生产力，确保高质量的 TEM 薄片，几乎不需要培训或交互。扫码了解更多详情参加发布会@ 2024M&MTESCAN AMBER 2 的正式发布将在美国俄亥俄州克利夫兰（Cleveland, Ohio）2024 M&M 显微镜及显微分析年会暨博览会上。如果你在展会现场，一定不要错过，来看看这个先进系统工作的机会。你可以预订演示、参加演讲并参与讨论，了解 AMBER 2 如何通过新工具为你的研究带来变化。来吧！规划行程，准备探索 TESCAN AMBER 2 带来的纳米表征的未来。我们迫不及待地想看看这项新技术将如何推进材料研究，并使你的实验室工作比以往任何时候都更高效。9 月系列网络研讨会，即将开始！为了让你熟悉 TESCAN 丰富的产品组合中的新技术，我们正在准备关于 AURA Gentle 离子束镜筒技术和TEM AutoPrep Pro&trade 人工智能软件技术的新一轮网络研讨会。敬请期待更多！

在材料科学领域，无论教学、科研还是质量控制，金相分析是比较普遍的检测手段之一。随着现代科技的发展，对材料的需求种类越来越丰富，标准越来越高，相应的出现了一些难于制备的材料。这些材料在样品制备过程中，会出现如划痕多、塑变、浮凸、彗星拖尾、倒圆和嵌入等缺陷。这些问题，有些是可以通过合理选配金相抛光布，来解决的。可脉小编将工作中总结的一些经验分享给大家。通常情况下，在粗抛光和中等抛光过程中问题不大，基本上可以将切割产生的变形层，研磨产生的较大划痕去掉，重点是精抛阶段，如果抛光剂和抛光布不匹配，不仅影响抛光剂的性能发挥，可能还会造成抛光剂的浪费。无论从技术和经济效益上都不理想。如何选择精细抛光的金相抛光布呢？请大家看下面的表格，看懂了它，金相样品精细抛光，金相抛光布选配便触手可及！表格所列的这些金相抛光布，均来自美国QMAXIS品牌，应用于精细抛光。由人造纤维编织布、无纺布、植绒布、耐化学腐蚀合成材料等高品质的抛光织物制成，长绒、短绒、无绒等不同编织属性，配合金刚石、氧化铝、氧化硅等3μm及以下的精细抛光液使用。我们一起来看表格，从左至右：首列：应用工艺——精抛，指的就是精细抛光工艺阶段。第2列：产品描述，这一栏，每一种抛光布的材质，编织工艺，能配合的抛光剂种类和粒度，以及适合抛光的材料都做了简明扼要的说明。根据这一栏的说明，就可以给所制备的样品选配恰当的金相抛光布种类了。第3列：背衬，分为带背胶和磁性背衬两种，带背胶的是不干胶，可将塑料膜揭去后，背胶的一面直接贴敷在铁盘上进行应用，磁背衬不同于背胶的特点是粘贴和揭去更方便，更容易更换和清理铁盘表面。这一项可依据个人的习惯来选择。第4列：包装规格，有10片/包、5片/包，依据用量确定购买数量。第5-7列：5列是直径8in（203mm）的抛光布型号，6列是直径10in（254mm）的抛光布型号，7列是直径12in（305mm）的抛光布型号，可依据所使用的金相抛光机的磨盘直径选配合适的型号。美国QMAXIS金相抛光布，用于精细抛光的共有四种材质，按照表格从上到下顺序，依次为人造纤维长绒的，天鹅绒短绒的，软的带长绒的，耐化学腐蚀合成织物的。这些抛光布的特点是质地柔软，不卷边、不掉毛、不染色。根据不同材料、抛光剂种类来合理匹配，就可以分发挥抛光剂的磨削性能，从而获得理想的抛光效果。看懂了表格，明白了这些方法，金相样品精细抛光，金相抛光布选配便触手可及！你学会了吗？如有疑问，欢迎联系可脉检测工程师，获得更详细的解决方案。

工业纯钛是非常软的易延展的金属，金相样品制备非常困难，在样品研磨和抛光过程中，容易生成机械孪晶，塑性变形、研磨颗粒嵌入、划痕去除不完全等缺陷。使用手动研磨抛光方法制备时，更容易出现样品表面不平整，导致无法呈现真实微观组织。因此，欲快速方便制备组织清晰、无划痕、无变形、无嵌入的钛金相样品，不仅需要成熟的技术，也需要选择好每一步制备所使用的耗材。我们实验室，在抛光步骤中所选用的两种金相抛光布，配合金刚石抛光液使用，对工业纯钛样品抛光，效果一直都非常稳定，现分享给朋友们，愿能给做金相的朋友一些帮助。当然，我们使用的是自动磨抛机研磨抛光样品，通常采用四步法来制备，分别选用了美国QMAXIS（可脉）的SatinCloth 金相抛光布和MicroMet 金相抛光布。► SatinCloth 金相抛光布配合3µm 金刚石悬浮液，采用抛光冷却润滑液冷却► MicroMet 金相抛光布配合1µm 金刚石悬浮液，采用抛光冷却润滑液冷却具体制备方法如下：切割：精密切割机/砂轮切割机，QMAXIS 切割有色金属的金刚石切割片和砂轮切割片镶嵌：热压镶嵌机METPRESS A，PhenoPowder 酚醛树脂磨抛：自动研磨抛光机METPOL-A，P240和P1200金刚石磨盘，3μm和1μm金刚石悬浮液，SatinCloth和MicroMet 金相抛光布。小贴士：因工业纯钛研磨抛光的速率较低，在精细抛光步骤中应添加侵蚀抛光剂，以获得理想的抛光效果。如果对样品制备的要求较高时，可在精细抛光时使用振动抛光，以去除样品表面浅表层的内应力。 经验证明工业纯钛样品制备，用QMAXIS的这两种金相抛光布，效果很稳定！关于所选用的SatinCloth 金相抛光布和MicroMet 金相抛光布的详细信息和其他方面的应用，可联系可脉检测的应用工程师咨询，这里不做介绍了，他们更专业。

由于煤、石油、天然气等资源不可再生的特点使得开发可持续性能源成为当务之急。1991年日本索尼公司推出的锂离子电池让世界看到绿色能源电池新契机，其高比能量和高比功能密度已被广泛应用在电动汽车、国防工业、便携式电子设备等领域中。石墨因比容量高、结构稳定、成本低等特点已广泛用作商业负极材料，因此正极材料成为制约锂离子电池发展的重要因素。在众多的正极材料中，三元正极材料镍钴锰Li（Ni1-x-yCoxMny）O2由于其导电性能优良、成本低廉、环境友好等特点成为具有商业应用价值的电池材料。而正极材料能继承前驱体的形貌和结构特点，所以前驱体的结构、制备工艺对正极材料的性能有着至关重要的影响。因此对三元前驱体材料Ni1-x-yCoxMny(OH)2形貌及结构的研究显得尤为重要。为了更好的观察三元前驱体材料Ni1-x-yCoxMny(OH)2的内部结构，我们使用美国GATAN Ilion II 697精密刻蚀仪（图1）对材料进行刻蚀。Ilion II 配备两支无损、能量范围大的（100V-8KV）聚焦离子枪，样品制备时，高低电压的结合可极大提高抛光的速度和质量。同时聚焦离子枪的设计，可以保证低电压下，快速获得高质量的样品表面。 图1 GATAN Ilion II 697精密刻蚀镀膜仪 我们利用Ilion II 697精密刻蚀镀膜仪并配备蔡司Sigma 500场发射电子显微镜实现对三元前驱体材料的制备及观察。697所制备的粉末样品数量足够多，且表面平整度好，不仅可以看到其内部的孔隙大小、结构情况，还可以看到晶粒的大小和分布情况等。如图2(a)可看出材料整体制备平整、完好无损伤，2(b)可清晰观察到材料内部纳米级别孔隙；图2(c)(d)为另一种结构的前驱体材料，孔隙较小且可观察到晶粒。正所谓“工欲善其事，必先利其器”，选择合适的实验仪器和实验方法能让您的科研达到事半功倍的效果。图2 三元前驱体材料刨面结构

近年来随着5G通讯技术以及新能源汽车行业已成为当前投资热点，而5G基站和电动汽车都使用了功率半导体器件，开发出符合市场要求的功率半导体器件成了半导体行业的又一重要方向。以硅作为衬底的传统的半导体芯片因为材料本身的局限性已难满足要求，以碳化硅、氮化镓为代表的宽禁带第三代半导体材料具有击穿电场高、热导率高、电子饱和速率高、抗辐射能力强等优势，因此采用第三代半导体材料制备的半导体器件不仅能在更高的温度下稳定运行，适用于高电压、高频率场景，还能以较少的电能消耗，获得更高的运行能力。第三代半导体材料虽然具有很多优点，但是其加工难度也是极大的。以碳化硅为例，其硬度世界排名第三，莫氏硬度为13，仅次于钻石(15)和碳化硼(14)；而且其化学稳定性高，几乎不与任何强酸或强碱发生反应。晶体碳化硅还需要通过机械加工整形、切片、研磨、抛光等化学机械抛光和清洗等工艺，才能成为器件制造前的衬底材料。化学机械抛光（CMP）化学机械抛光（或化学机械平坦化）通常是使用专用抛光机在晶圆表面用抛光垫不断地旋转抛光并在过程中添加抛光液磨料以获得平坦光滑的衬底表面的工艺。为了获得均匀平坦的晶圆衬底，厚度监测作为常用的评价手段之一。但是第三代半导体材料由于硬度高，化学机械抛光的效率比较低，部分材料抛光过程的厚度变化甚至低于数十纳米常规的位移计等监测手段已经无法达到要求，而因为材料的特殊性一般也不会使用接触式或者破坏式的测量手段。大塚电子的SF-3系列膜厚计通过光干涉法原理，对晶圆界面之间干涉光信号进行计算从而获得晶圆的厚度信息。SF-3膜厚计 光干涉法由于采用了光学测量原理，SF-3系列膜厚计具有极高的频率5KHZ，因而可以对晶圆厚度进行在线实时监控；同时具有高精度以及可以有效避免晶圆翘曲对结果的影响。晶圆厚度实测CMP抛光液CMP抛光液作为化学机械抛光的辅助耗材，起到研磨腐蚀等作用，近年来CMP抛光液的国产化程度正在逐步提高。CMP抛光液的主要成分包括水、研磨颗粒（二氧化硅、金刚石、氧化铈、氧化锆）、氧化剂、分散剂等。不同的工艺步骤和不同的产品对CMP抛光液产品有不同的要求，通过对CMP抛光液的粒径监测、zeta电位监测可以评价CMP抛光液是否符合工艺要求以及在存储运输过程当中的稳定性。大塚电子ELSZ-neo系列纳米粒度zeta电位仪对抛光液的粒径和zeta电位检测均有大量应用。 ELSZ-neo以下考察了CMP抛光液在不同PH值的zeta电位，并记录了不同磨料的等电点（zeta电位为零），根据抛光液的粒径和zeta电位可以选择最优的PH值从而获得稳定的产品。晶圆清洗在晶圆的研磨和化学机械抛光处理以后，需要对晶圆进行清洗以避免污染物的附着。一些晶圆的颗粒污染物数量要求少于10个，然而由于静电作用力，颗粒污染物与晶圆在特定的PH值环境下容易吸附，颗粒污染物通常来源于抛光液当中研磨颗粒的残留。因此，评价晶圆表面和颗粒污染物的电性对于清洗工艺有重要作用。Zeta电位（Zeta potential）作为衡量固体电性或液体的稳定性的主要指标，通常使用电泳光散射法进行测量，然而在测量固体表面zeta电位时必须要充分考虑电渗作用的影响。（１）样品池内的粒子的电泳以负电荷的粒子为例，理想状态下粒子无论在cell 的什么位置，都以相同的速度向正电极侧电气泳动。（２）样品池内的电渗流通常cell（材质：石英）带有负电荷。所以，正电荷的离子、离子聚集在cell壁面附近，施加电场的话，壁面附近 正离子会往负极方向移动。Cell中心部为了补偿这个流动，产生相反方向的对流，这种现象叫做电渗流。（３）样品池内可观测粒子的电泳粒子分散在溶媒中，cell内粒子电气泳动的外观是算上这个电渗的抛物线状的流动。为此、cell内电气浸透流的速度为零的位置，即在静止面进行测定可以得出真正粒子的电泳速度，从而得出真实的泽塔电位值。大塚电子的ELSZ系列纳米粒度zeta电位仪使用了森岡本电渗校正专利，充分考虑了材料的电渗对电泳速度的影响。另外专用的平板样品池可选用电荷为0的涂层，并且使用中性的观测粒子，在不同PH值下测量不必考虑观测粒子电性带来的影响。大尺寸的平板样品池，可适用不同规格的晶圆测量实测应用时，通常会对晶圆表面和CMP抛光液的zeta电位同时进行测量。以下图为例，分别测量了硅晶圆（蓝色）和污染物粒子（红色）的zeta电位，在PH=4~8.5之间，晶圆表面与污染粒子的电性相反，因而污染粒子会依附在晶圆表面难以去除。总结大塚电子自1970年以来一直专业研究光学检测技术，秉承「多様性」「独創性」「世界化」的理念，大塚的光散射以及光干涉制品一直在包括FPD行业、半导体行业、新材料行业等专业领域占据领先地位。凭借对光学技术的深耕，大塚将继续为过国内客户提供专业的设备以及服务。

2023年6月29日，半导体和电子行业年度盛会SEMICON China 2023在上海新国际博览中心隆重举行。展会现场，牛津仪器携第三代半导体抛光、刻蚀、检测等系列解决方案亮相展会。展会期间，仪器信息网就参会感受、解决方案、行业发展趋势等话题采访了牛津仪器等离子技术部制程技术与业务拓展经理黄承扬。以下是现场采访视频：

p style=" text-align: center " strong style=" text-align: center " 具有快速、可切换的离子源的新型双束电镜 /strong /p p style=" text-align: center " strong 可实现创新研究和增强样品制备 /strong /p p 　　聚焦离子束(FIB)光源与扫描电子显微镜(SEM)相结合，由于其独特的生成各种结构的能力，无论是通过切割还是离子束诱导沉积(IBID)，都引起了人们的极大兴趣。通过SEM观察。直到最近，只有镓(Ga+)和氙(Xe+)FIB / SEM仪器可商购。由于其光斑尺寸小和电流密度高，Ga+FIB可为样品制备和纳米原型制作提供良好的结果。Xe+等离子体FIB(PFIB)具有更高的最大电流，可实现高通量切割，适用于大体积表征，同时还可消除Ga+污染样品。但是，在一些情况下，两种离子源都不是理想的选择。 /p p style=" text-align: center" img style=" max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 399px " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/201907/uepic/ff3d817a-c92b-4900-976e-52634d33d3fe.jpg" title=" 1.jpg" alt=" 1.jpg" width=" 400" height=" 399" border=" 0" vspace=" 0" / /p p 　 span style=" color: rgb(0, 176, 240) " 　图1.用Helios Hydra UX DualBeam制备的高质量GaAs薄片的HR S / TEM图像，使用Ar FIB进行最终抛光。 /span /p p 　　为了扩展FIB应用领域的视野，赛默飞推出了新的Thermo Scientific Helios Hydra DualBeam。这种先进的仪器具有新一代PFIB光源，支持多种离子作为主光源。Helios Hydra与氙一起提供三种额外的离子种类：氩，氧和氮。单个离子源，提供多种离子，可在10分钟或更短的时间内在各个光源之间进行独特、轻松的切换。这为各种应用案例提供了显着的优势 例如，先进的TEM样品制备，其中采用氩束的最终抛光可以显着改善成像结果。这项新技术还将使科学家能够对离子 - 物质相互作用进行基础和应用研究，例如氮离子束硅藻与硅相互作用。 /p p 　　& quot 为科学家在一台仪器中轻松选择四种不同离子源的整合能力,将扩大和优化跨长度尺度研究材料性能的应用空间,& quot 赛默飞世尔科技-材料和结构分析总裁Mike Shafer说，& quot 我们新的 Helios Hydra DualBeam 系统提供了所需的灵活性,可以更好地分析样品、改进结果并开发新的和增强的材料。” /p p style=" text-align: center" img style=" max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 435px " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/201907/uepic/355e5007-ce56-4bf5-8d90-ac0a6b27a17c.jpg" title=" 2.jpg" alt=" 2.jpg" width=" 400" height=" 435" border=" 0" vspace=" 0" / /p p 　　 span style=" color: rgb(0, 176, 240) " 图2.使用Helios Hydra CX DualBeam采用O+聚焦离子束和AS& amp V4软件进行自动连续切片的汽车机油滤清器壳体(聚合物/玻璃纤维复合材料)的三维重构。HFW(水平宽度)为350μm。 /span /p p 　　Helios Hydra 双束电镜允许材料科学研究人员发现和设计新材料并分析其性能和结构。凭借其氧离子束,非常适合用于切割碳基材料,如电池正极中使用的石墨,它可以帮助研究人员开发更安全、更轻、更高效的储能设备。 /p p 　　这是第一款商业化的，允许快速、简便地离子束切换的仪器。以前，应用不同的离子束需要研究人员在仪器之间转移样品,或进行冗长而复杂的源交换。例如,独立的专用宽束氩离子抛光机目前是高质量透射电子显微镜(TEM)样品制备工作流程的典型部件。使用 Helios Hydra DualBeam 电镜,在初始切割后,可直接将聚焦的氩离子应用于样品抛光,从而大大减少了样品的转移和处理时间。切换时间为 10 分钟或更短,研究人员还可以在一个小节内将所有 4 束光束应用于样品,以确定哪种离子最适合其预期用途。这种灵活性扩展了FIB在探索电子-样品相互作用方面的潜在应用。 /p p 　　 strong Helios Hydra 双束电镜的正式生产将于 2019 年 9 月开始。 /strong /p p br/ /p

概 述欧波同材料分析研究中心分析测试业务于年初正式上线，受到业内广泛关注。近期中心收到很多客户的咨询，询问一些特殊样品的制样方法或解决方案。我们根据客户咨询和反馈，整理了相关的案例分享给大家，希望能给大家点思路。一、微纳米颗粒 （针对200μm以下样品） 应用范围：微纳米材料内部结构分析例 如：锂电池阳极材料、微纳米颗粒颗粒类的样品多数利用扫描电镜检测形貌、粒度统计、能谱并做一些长度测量，但是一旦涉及内部结构观察普通制样方式很难达到要求。制样方式缺点研钵研磨/刀片压碎只能看到断面的情况，而且成功率不高，电镜观察需要费时寻找镶嵌包埋需要机械抛光，容易脱落；耗时；需考虑镶嵌料对样品影响举例来讲，图1是客户要求观察颗粒表面和断面形貌，研钵研磨后，结果并不理想，视野内可见大量碎裂颗粒，且断面情况各异更无法进行测量等工作。图 1图2是用Gatan Ilion II设备抛光后结果，可见视野内颗粒全部切开，截面平整，易于观察测量；图3为局部放大，颗粒内部结构一览无余。图 2图 3二、多层复合材料/镀层/高分子薄膜应用范围：分层材料、薄膜或其他柔性材料例 如：锂电池隔膜、镀层等多层复合材料其实在我们生活中应用极为广泛，比如各种触摸屏。这类材料主要看截面分层情况，但是由于其柔性大，普通方式比如剪切、液氮脆断等都会导致分层扭曲、断面不齐整等问题，影响后续用电镜进行分层测量。举个例子-样品为电池极板（图4、图5）：图4是剪刀剪切后的电镜结果，可以看到由于剪切力的影响，层次不够分明，无法进行精确测量，无法提供有效的信息。图 4图5为Gatan Ilion II抛光后结果，层次清晰，可进行精确测量。图 5三、电子元器件图 7红框1局部放大，可见有10层结构

设备型号：MECATECH 250 SPI设备名称：自动研磨抛光机 设备简介： 自动研磨抛光机,适用于包括大面积和高硬度材料等各类样品的自动化研磨抛光。内置制备方法数据库，可保存多达100种不同材料制备方法。满足对制样结果一致性和可重现性的要求。 技术参数： 1）底盘： 电机功率：750 瓦。 底盘转速：20-700 转/分钟。 底盘转向：顺时针或逆时针。 扭矩补尝：变频电机自动补偿。 工作盘尺寸：200-250 毫米。 工作模式：研发模式(R&D) – 所有参数可调； 程序模式(Program) – 只允许按预定参数工作。 2）自动工作头： 结构：齿轮箱传动。 电机功率：180 瓦。 工作头转速：20-150 转/分钟。 工作头转向：顺时针或逆时针。 压力模式：单点力。 样品数量：单点力时1-4个。 样品压力：1-200牛，设备启停时自动减小。 自动给液：200毫升蠕动泵滴液器2只，流量流速可控。 功能特点：1.电机变频器，充分保证转速/扭矩恒定，满足对大尺寸/高硬度样品的制备。2.7英寸宽大液晶LCD触摸屏装置于设备前端。方便设置转速/转向/水阀开关/工作时间等所有参数。3.分级管理软件功能，通过密码保护使实验室主管对制样工艺参数实现统一管理，以保证各类材料制备结果的一致性和重现性。研发模式与程序模式可供选择：A. 研发模式 — 可对所有制备参数调整及设定。适用于教育、研发等具有材料多样性的使用环境。B. 程序模式 — 按照数据库预先存储的参数进行制备。适用于生产、质量控制等固定材料使用环境。4.自带蠕动泵驱动200 毫升滴液器，可程控抛光液/润滑液自动喷洒数量和频率；另可模块化联接DISTRITECH 5.1自动分液系统，以全面排除人为因素干扰，提高制备结果的一致性和可重现性，并降低样品制备成本。5.底盘结构：带倾斜角度底盘，方便液体流出；抬高主轴轴承位置，防止液体流入；附带防溅环；结构简单，方便维修。6.可移除式高分子材料承托碗，防污防锈，易于清洗，并方便维修/保养。7.可通过内置网络模块或USB接口导入/导出制备方法。8.磨盘甩干功能，步骤结束后甩干砂纸/磨盘/抛光布，方便储存。9.自动工作头180度旋转，方便内侧样品装夹。10.安全装置：一侧紧急停车按钮；工作状态时，工作头自动位置锁定；全面符合安全标准。创新点：全新设计外观，运行时更加稳定。大功率变频马达给工作头和工作盘充足动力 PRESI普锐斯-自动研磨抛光机-MECATECH 250 SPI

p style=" text-align: center " img src=" https://img1.17img.cn/17img/images/201908/uepic/94c59ab4-b437-4f62-92f9-ae26a382d0da.jpg" title=" 001.jpg" alt=" 001.jpg" width=" 500" height=" 250" border=" 0" vspace=" 0" style=" text-align: center max-width: 100% max-height: 100% width: 500px height: 250px " / /p p 　　聚焦离子束(FIB)光源与扫描电子显微镜(SEM)相结合，由于其独特的生成各种结构的能力，无论是通过切割还是离子束诱导沉积(IBID)，都引起了人们的极大兴趣。通过SEM观察。直到最近，只有镓(Ga +)和氙(Xe +)FIB / SEM仪器可商购。由于其光斑尺寸小和电流密度高，Ga + FIB可为样品制备和纳米原型制作提供良好的结果。Xe +等离子体FIB(PFIB)具有更高的最大电流，可实现高通量切割，适用于大体积表征，同时还可消除Ga +污染样品。但是，在一些情况下，两种离子源都不是理想的选择。 /p p style=" text-align: center" img style=" max-width: 100% max-height: 100% width: 300px height: 299px " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/201908/uepic/58f259f0-038b-4bd3-9e82-95b5382b4679.jpg" title=" 002.jpg" alt=" 002.jpg" width=" 300" height=" 299" border=" 0" vspace=" 0" / /p p style=" text-align: center " strong 图1.用Helios Hydra UX DualBeam制备的高质量GaAs薄片的HR S / TEM图像，使用Ar FIB进行最终抛光。 /strong /p p 　　为了扩展FIB应用领域的视野，赛默飞推出了新的Thermo Scientific Helios Hydra DualBeam。这种先进的仪器具有新一代PFIB光源，支持多种离子作为主光源。Helios Hydra与氙一起提供三种额外的离子种类：氩，氧和氮。单个离子源，提供多种离子，可在10分钟或更短的时间内在各个光源之间进行独特、轻松的切换。这为各种应用案例提供了显着的优势 例如，先进的TEM样品制备，其中采用氩束的最终抛光可以显着改善成像结果。这项新技术还将使科学家能够对离子 - 物质相互作用进行基础和应用研究，例如氮离子束硅藻与硅相互作用。 /p p 　　& quot 为科学家在一台仪器中轻松选择四种不同离子源的整合能力,将扩大和优化跨长度尺度研究材料性能的应用空间,& quot 赛默飞世尔科技-材料和结构分析总裁Mike Shafer说，& quot 我们新的 Helios Hydra DualBeam 系统提供了所需的灵活性,可以更好地分析样品、改进结果并开发新的和增强的材料。” /p p style=" text-align: center" img style=" max-width: 100% max-height: 100% width: 300px height: 326px " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/201908/uepic/c117ffc6-bd94-4bbb-92d6-0aa93a46826c.jpg" title=" 003.jpg" alt=" 003.jpg" width=" 300" height=" 326" border=" 0" vspace=" 0" / /p p style=" text-align: center " strong 图2.使用Helios Hydra CX DualBeam采用O +聚焦离子束和AS& amp V4软件进行自动连续切片的汽车机油滤清器壳体(聚合物/玻璃纤维复合材料)的三维重构。HFW(水平宽度)为350μm。 /strong /p p 　　Helios Hydra 双束电镜允许材料科学研究人员发现和设计新材料并分析其性能和结构。凭借其氧离子束,非常适合用于切割碳基材料,如电池正极中使用的石墨,它可以帮助研究人员开发更安全、更轻、更高效的储能设备。 /p p 　　据介绍，这是第一款商业化的，允许快速、简便地进行离子束切换的仪器。以前，应用不同的离子束需要研究人员在仪器之间转移样品,或进行冗长而复杂的源交换。例如,独立的专用宽束氩离子抛光机目前是高质量透射电子显微镜(TEM)样品制备工作流程的典型部件。使用 Helios Hydra DualBeam 电镜,在初始切割后,可直接将聚焦的氩离子应用于样品抛光,从而大大减少了样品的转移和处理时间。切换时间为 10 分钟或更短,研究人员还可以在一个小节内将所有 4 束光束应用于样品,以确定哪种离子最适合其预期用途。这种灵活性扩展了FIB在探索电子-样品相互作用方面的潜在应用。 /p p 　　据悉， a href=" https://www.instrument.com.cn/netshow/SH100537/C18181.htm" target=" _blank" strong Helios Hydra 双束电镜 /strong /a 的正式生产将于 2019 年 9 月开始。 /p p 　　更多详情请点击： a href=" https://www.instrument.com.cn/netshow/SH100537/C18181.htm" _src=" https://www.instrument.com.cn/netshow/SH100537/C18181.htm" https://www.instrument.com.cn/netshow/SH100537/C18181.htm /a & nbsp /p p & nbsp & nbsp & nbsp & nbsp /p

仪器信息网讯 2014年12月23日，为推动北京及周边省市电子显微学的学术及技术水平的提高，促进电子显微学工作者在材料科学、生命科学等领域的应用、发展和交流，由北京市电镜学会、北京理化分析测试技术学会主办的&ldquo 2014年度北京市电子显微学年会&rdquo 在北京格林豪泰酒店举行。 会议现场 　　在北京市电镜学会的精心组织下，本次会议报告内容精彩纷呈，除了电镜技术的最新进展介绍、电镜技术的应用探究、电镜人才培养、以及电镜实验室运行模式的探讨，本次会议还特别邀请了电镜仪器、能谱仪器供应商，以及电镜样品制备设备供应商介绍了最新的电镜及相关仪器技术的最新进展。其中FEI、日立、日本电子、蔡司、泰思肯等主要的电镜供应商悉数到场。 蔡司公司秦艳 　　蔡司公司秦艳介绍了蔡司的光学显微镜(LM)与电子显微镜(SEM/FIB-SEM)的联动解决方案，以及X射线显微镜与双束FIB联用方案。据介绍，通过在光镜观察中，利用一体化软件，标记感兴趣区域，然后利用关联显微镜样品台，将样品从光学显微镜快速传送至蔡司的电子显微镜平台，再用一体化软件调取标记的区域进行观察，获取样品的形貌和成分信息，从而实现光学显微镜和电子显微镜联用。而X射线显微镜与双束FIB联用，则可以观察样品的深层次信息，获取三维图像信息。 天美中国高敞 　　天美中国高敞介绍了日立今年最新推出的SU5000热场发射扫描电镜。SU5000采用新的用户操作界面&ldquo EM Wizard&rdquo ，据介绍EM Wizard具有两种模式：&ldquo Standard mode&rdquo 具有高度自动化功能、操作简便，使用户无需专业技能即可得到符合需求的样品图片 &ldquo Advanced mode&rdquo 则使技能熟练的用户能像过去一样自由的设定所有参数。另外，SU5000强大的电子光学系统使着陆电压可低至100V，而大型样品室和大束流则增强了其扩展能力。该仪器获得了日本&ldquo GOOD DESIGN AWARD&rdquo 奖项。 日本电子朱明芬 　　日本电子朱明芬介绍了日本电子最新推出的JSM-IT300，该仪器的一个特点是可以进行直观的触摸屏操作，如同操作智能手机那样高效获取数据 全新设计的抽真空系统，可实现样品室开放在大气中的抽真空时间小于3分钟 另外采用专利的可变焦聚光镜系统，实现在束流发生变化时，第二级聚光镜中束流的汇聚点几乎不发生变化察，用对称安装的两个探测器减少样品表面凹凸的阴影效应。 泰思肯焦汇胜 　　泰思肯成立于1991年，总部位于捷克布尔诺。其VEGA系列扫描电镜目前在国内的销量已超过250台。2014年7月，牛津仪器原纳米分析部中国区销售经理冯骏加入泰思肯担任中国区总经理。报告中泰思肯焦汇胜介绍了泰思肯独有的氙等离子双束系统，该系统最大刻蚀速度是镓离子源聚焦离子束的50多倍，而且对样品损伤小。另外，利用泰思肯的SEM/FIB与TOF-SIMS集成技术，可以实现深度分布、轻元素探测、同位素测定。还有利用SEM-Raman联用装置可进行共聚焦纵向观察，纵向分辨率小于2微米。 FEI潘锡江 　　FEI潘锡江介绍了大容量三维成像技术在生命科学中的应用。据介绍，大容量三维重构技术从1997年问世，近年来随着电镜技术及自动化技术的发展，从2005年开始发展越来越快，该技术在神经生物学、细胞间相互作用、组织功能研究等领域发挥着重要作用。今年9月，FEI推出了用于大容量三维成像分析的扫描电镜Teneo VS&trade 。Teneo平台紧密集成了FEI最新一代具有VolumeScope功能的扫描电镜、室内显微切片机、专有的全自动分析软件、显著改善Z轴分辨率的大容量平台。 韩国酷赛姆公司葛庆华 　　韩国酷赛姆公司葛庆华介绍了酷赛姆EM-30台式电镜及EM-30AX能谱一体化台式电镜的特点。据介绍EM-30的分辨率可达8.0nm@30kV(SE)，加速电压1kV-30kV，1kV步长，多档可选 除标配SE外，用户可选配BSE及EDS。而ED-30AX的能谱分析系统则是与赛默飞合作开发。 阿美特克丁昊冬 　　EDAX是全球成立最早的X射线能谱仪制造商，是目前全球唯一能够同时提供EDS、WDS、EBSD、UXRF四元整体X射线微观分析仪器的制造商,现隶属于阿美特克集团。丁昊冬在报告中介绍了EDAX扫描电镜和透射电镜用能谱仪、升级版Hikari XP EBSD探测相机、专门为EDAX的EDS、EBSD研制的原位加热和拉伸技术，以及透射EBSD系统(t-EBSD)。 牛津仪器杨小鹏 　　牛津仪器纳米分析部杨小鹏介绍了牛津最新分析平台AZtec的自动化功能及应用。AZtec分析平台很好的解决了用户在微观分析当中遇到的精度差、操作繁琐、速度慢等问题。其自动化算法提高了定量的精度和准确度，自动化参数设置中的EDS/EBSD采集参数设置和Autolock防止漂移降低了操作的难度，提高易用性 自动化运行的多任务设计、LAM大面积分布功能，AZtecFeature特征分布提高了工作效率。 Gatan中国区销售经理雷运涛 　　Gatan中国区销售经理雷运涛介绍了Gatan推出的OneView相机及最新样品制备技术。OneView相机是一款1600万像素CMOS TEM数码相机，能够同时实现高质量和高速成像 并可以提供每秒25帧4kx4k&ldquo 实时&rdquo 视频。OneView相机具有实时样品漂移校正、动态范围扩展，以及多种图像纪录模式的强大功能。另外OneView相机还具有特别为原位电子显微学实验而设计的&ldquo in-situ&rdquo 选项，以及&ldquo 回看&rdquo 技术，使用户不必再为错过纪录原位反应的起点而烦恼。另外，雷运涛还介绍了Gatan推出的精密刻蚀镀膜仪PECSll，该仪器可同时实现离子刻蚀和精密镀膜，超大面积可以直接放置标准金相样品。 徕卡中国LNT应用部程路 　　徕卡中国LNT应用部程路介绍了徕卡的各类电镜制样仪器，包括超薄切片系统、冷冻固定、冷冻蚀刻及断裂、冷冻传输系统、真空镀膜仪、临界点干燥仪、定点加工和离子束抛光减薄仪器等。据介绍，徕卡的高压冷冻仪在2100Bar高压下，30ms内冷冻固定样品，冷冻速率超过15000摄氏度每秒。样品内的液态水不经过结晶过程冷冻成玻璃态，厚度可达200微米。 相关新闻：2014年北京市电子显微学年会举行

【校园行】欧波同2016年“校园行”设备巡展走进郑州大学 2016年4月11日至22日，欧波同有限公司踏入郑州大学，开展为期十一天的显微镜分析系统解决方案巡展“校园行”活动。本次活动，旨在为在校大学生提供一个沟通和交流的平台，帮助学生们更好的认识显微镜，学习显微分析技术，通过常态化的校园行活动服务高校师生，提升大学生材料分析能力。 郑州大学是一所涵盖理学、工学、医学、文学、历史学、哲学、法学、经济学、管理学、教育学、农学等11大学科门类的综合性大学，是河南省唯一的国家“211工程”重点建设高校，是河南省人民政府与国家教育部共建高校。 活动现场，欧波同有限公司技术工程师通过公司视频，企业宣讲，技术讲解与互动问答等环节，向广大师生介绍了欧波同的发展概况及颇具特色的显微分析解决方案等，使现场师生们对欧波同有了更深层次的了解。巡展活动特设立体验中心，学生们在技术工程师的指导下将有代表性的样品放置在蔡司显微镜上进行观察，针对在材料显微分析过程中所遇到的问题进行探讨，拉近了彼此的距离。 本次校园行活动，欧波同为师生们带来了氩离子束抛光系统及离子溅射仪。其中，美国Gatan公司的氩离子束抛光系统深受老师和同学们的关注。美国Gatan公司的氩离子束抛光系统是一款用于样品的截面制备及平面抛光的桌面型制样设备，该设备便于使用者对样品在SEM及其他设备上的进行检测分析，如焊缝截面，集成电路焊点，多层薄截面，颗粒、纤维断面，复合材料、陶瓷、金属及合金、矿物及其他无机非金属等各种材料的SEM、EBSD样品。 历经多年的精耕细作，欧波同已经得到广大用户的一致认可，并获得良好的口碑。欧波同将再接再厉，继续为学院师生提供高品质产品和高效率服务，提升了在校学生对显微分析技术的认识，缩短了学生与国际尖端仪器的距离。2016年，欧波同“校园行”设备巡展系列活动还将走进全国更多高等院校，带领大家感受显微镜不一样的魅力，敬请期待！

仪器信息网讯 2012年8月29日，在北京国际材料工艺设备、科学仪器展(CIAMITE 2012)召开之际，卡尔蔡司举行了AURIGA COMPACT聚焦离子束电镜系统新品全球首发仪式。来自科研院所高校150多位专家学者参加了此次新品发布会。 　　 卡尔蔡司AURIGA COMPACT发布会现场 卡尔蔡司负责人与嘉宾共同启动新品发布仪式 　　聚焦离子束(Focused Ion beam, FIB)系统是利用电镜将液态金属离子源产生的离子聚焦成尺寸非常小的离子束，在电场的作用下离子束与样品产生物理碰撞，来达到切割(蚀刻)样品的目的。聚焦离子束电镜是指在离子束切割的同时利用电子束观察影像，同时也可配备能谱进行样品表面的元素分析。离子束显微镜也可以为透射电镜制作厚度达十几纳米的样品薄片。 　　卡尔• 蔡司新推出的AURIGA系列聚焦离子束显微镜是由电子束系统(SEM)和离子束系统(FIB)组成，具备高分辨率成像功能。AURIGA系列包含AURIGA Compact、AURIGA、AURIGA 60、AURIGA Laser四款产品。此次发布的AURIGA Compact FIB-SEM系统可以对材料实现高分辨三维纳米尺度成像和精确的材料加工及纳米组装。 　　AURIGA Compact GEMINI透镜设计可以在FIB切割的同时同步高分辨成像，样品的倾斜不会影响电子光学性能。AURIGA Compact具有的稳定性和效率，足以支持自动采集成百上千的EBSD剖面图谱。CrossBeam工作站的ASP系统支持自动制备TEM样品和进行断面切割。卡尔蔡司独有的X2技术，可以制备面积较大薄片样品，厚度小于10nm。 　　 卡尔蔡司中国区总裁兼CEO Maximilian Foerst先生 　　卡尔蔡司中国区总裁兼CEO Maximilian Foerst先生在致辞中表示，这次活动对于卡尔蔡司非常重要，这是卡尔蔡司首次在中国举行新产品全球首发仪式，同时也证明了中国的客户和市场对于卡尔蔡司非常重要。去年，卡尔蔡司集团的收入超过了42亿欧元，其中卡尔蔡司中国公司的收入超过15亿人民币，并且建立了拥有超过30位研发人员的研发中心。随后Maximilian Foerst介绍了卡尔蔡司集团以及卡尔蔡司中国公司的总体发展情况。 　　 北京科技大学新金属材料国家重点实验室主任吕昭平教授 　　卡尔蔡司全球首台AURIGA® Compact FIB-SEM系统落户北京科技大学新金属材料国家重点实验室，实验室主任吕昭平教授在致辞中表示，研究材料有四个重要因素：材料制备、组织结构、性能和服役，材料学研究的主要内容是将这些方面联系起来 而组织结构是研究的核心。材料科学的发展与分析手段息息相关，得益于像卡尔蔡司这样的公司在显微分析手段和关键技术上的突破。 　　在新品发布会期间，卡尔蔡司显微镜中国区副总裁张育薪先生接受了仪器信息网简短采访。 　　 卡尔蔡司显微镜中国区副总裁张育薪先生 　　仪器信息网：请您谈谈，电子显微最近有哪些技术发展趋势? 　　张育薪：近期电子显微技术发展趋势都是围绕“追求自动化、更高分辨率、操作简单以及软件界面更清楚，为客户节省更多的时间”。此次发布的针对常规用户的AURIGA Compact，在这方面都有很好的体现，同时为客户带来3D测试效果。这些方面，基本上已经体现了目前电镜追求的发展方向。 　　仪器信息网：请您谈谈国内电镜市场情况，近几年哪些领域对于电镜需求比较大? 　　张育薪：近期，中国政府推出了十二五战略发展规划，涉及到新能源、新材料、制药等，很多方面都会用到电镜，所以国内的市场不是简单的销售市场，而是全方位的大市场。整个纳米技术的发展对电镜市场有很大推动作用。就市场规模而言，每年都有变化，我个人估计2011年国内电镜市场规模在20亿人民币左右，其中约60%左右是扫描电镜。 　　仪器信息网：相对于其他的电镜厂商，卡尔蔡司的技术优势体现在哪些方面? 　　张育薪：卡尔蔡司是全球唯一一家同时拥有光镜和电镜及相关显微镜技术的公司，我们能够给客户提供一个完整的解决方案，一次性达到客户的要求。很多需要电镜的用户大多数需要光镜来进行筛选，光镜用户也有不断提高分辨率的要求，这两类产品互为补充。 　　Instrument：电镜产品的价格一直居高不下，随着配件不同，价格变化非常大，您是如何看待这方面的问题? 　　张育薪：大部分电镜产品是与科研有密切的关系，这样的高端设备都是一台一台的生产，很难像民品那样集成化、规模化生产，这是其价格高的主要原因。另外，越是高端的产品，对于售后支持依赖性越强，客户在购买产品的时候，都应该把这些考虑进去，没有完善的售后，再好的产品也很难发挥应有的作用，我们对于价格的理解是客户得到的应该是包括各种服务在内的“完整产品”，而不只报价上的数字。 　　 AURIGA COMPACT聚焦离子束系统

金相抛光布是金相实验室常用好耗材之一，金相工程师都特别熟悉，尼龙的、无纺布的，真丝的，羊毛的......等各种材质；表面看有无绒的，短绒的，长绒的，带孔的等等。金相抛光布之所以有这么多种类，是与其不同的应用相对应的。分辨一款金相抛光布的质量优劣，除了用眼看，用手摸，还可以通过实验来验证。可脉检测的金相抛光布，种类全、型号多，为了给那些还没有使用过的用户展示QMAXIS金相抛光布的真实清晰的细节，每一款都用显微镜拍下来，一起看一下有多清晰！QMAXIS的金相抛光布共分三大类，分别为粗抛光、中等抛光和精细抛光。我们逐一看看到底有多清晰！ 粗抛光金相抛光布共三种材质，分别如下：►PlanCloth 金相抛光布，尼龙无纺布，无绒►PerfoCloth 金相抛光布，硬的合成化纤无纺布，带孔►NylonCloth 金相抛光布，尼龙织物，无绒PlanCloth 金相抛光布显微镜下看PlanCloth 金相抛光布，这种尼龙无纺布材质的抛光布经纬线编织细密、均匀，没有瑕疵，无绒，质地清晰可见。它是用于铁基、热喷涂涂层和硬的材料的粗抛光，配合15µm-3µm的金刚石抛光液使用。PerfoCloth 金相抛光布显微镜下看PerfoCloth金相抛光布，这种硬的合成化纤无纺布材质均匀、致密，布满排列整齐的小孔，质地清晰可见。它是用于陶瓷、碳化物、岩相、硬质合金、玻璃和金属等材料的粗抛光的，配合9µm及以下的金刚石抛光液使用。NylonCloth 金相抛光布显微镜下看NylonCloth 金相抛光布，这种斜纹编织的尼龙织物细密、均匀，找不到任何瑕疵，无绒，质地清晰可见。它是用于铁基、烧结碳化物和铸铁等材料的粗抛光，配合15µm-3µm的金刚石抛光液使用。中等抛光金相抛光布共三种材质，分别如下：►DuraCloth 金相抛光布，硬的合成压缩无纺布，无绒►SatinCloth 金相抛光布，人工合成丝和天然丝，无绒►SilkCloth 金相抛光布，纯丝，无绒DuraCloth 金相抛光布显微镜下看DuraCloth 金相抛光布，这种硬的合成压缩无纺布表面非常平整，不规则纹理但很均匀，无绒，质地清晰可见。它是用于黑色金属、有色金属、电子封装、印刷电路板、热喷涂涂层、铸铁、陶瓷、矿物、复合材料和塑料等材料的中等抛光，配合9µm及以下的金刚石抛光液使用。SatinCloth 金相抛光布显微镜下看SatinCloth 金相抛光布，这种由人工合成丝和真丝编织的材质，纹理细密，均匀，无绒，质地清晰可见。它是用于金属、岩相、陶瓷和涂层等材料的中等抛光，配合3µm及以下的金刚石抛光液使用。SilkCloth 金相抛光布显微镜下看SilkCloth 金相抛光布，这种由纯丝紧密编织的材质，有重磅真丝的质感，无绒，质地清晰可见。它是用于金属、微电子、涂层和岩相等材料的中等抛光，配合9µm-3µm金刚石抛光液和氧化铝抛光液使用。当然，这款抛光布非常适合配合抛光膏及液体抛光蜡使用，效果更好。 精细抛光金相抛光布共四种材质，分别如下：►MicroMet 金相抛光布，人造纤维与棉背衬编织，短绒►VelCloth 金相抛光布，软的人造天鹅绒，短绒►FlocCloth 金相抛光布，软的织物，长绒►ChemoCloth 金相抛光布，耐化学腐蚀合成织物，无绒MicroMet 金相抛光布显微镜下看MicroMet 金相抛光布，这种由人造纤维与棉背衬编织的合成织物，基底有一定的硬度，表面柔软细密，短绒，质地清晰可见。它是可以用于所有材料的精细抛光的，配合1µm及以下的金刚石抛光液和氧化铝抛光液使用。VelCloth 金相抛光布显微镜下看VelCloth 金相抛光布，这种由软的人造天鹅绒材料制成，绵软细密，短绒，质地清晰可见。它是用于软的金属和电子封装等材料的精细抛光，配合1µm及以下的金刚石抛光液、氧化铝抛光液和氧化硅抛光液使用。FlocCloth 金相抛光布显微镜下看FlocCloth 金相抛光布，这种由软的长绒织物制成，非常细、软，质地清晰可见。它是用于金属和烧结碳化物等材料的精细抛光的，配合3µm及以下的金刚石抛光液和氧化铝抛光液使用。如果配合氧化铝抛光粉使用，则可用于所有材料的精细抛光。此外，这款抛光布很适合手动抛光和未镶嵌试样的精细抛光。ChemoCloth 金相抛光布显微镜下看ChemoCloth 金相抛光布，这种由耐化学腐蚀合成织物制成的抛光布，表面非常细密，看似绒毛的纹理，实际上是织物表面密布的微小凸起，实际是无绒的，质地清晰可见。它是用于钛合金、不锈钢、铅/锡焊料、电子封装、软的有色金属和塑料等材料的精细抛光，配合1µm及以下的金刚石抛光液、氧化铝抛光液和氧化硅抛光液使用。以上就是QMAXIS金相抛光布在显微镜下的形貌，显微镜下看金相抛光布，就是这么清晰！能由里至外感受到产品的良好质量。无论您所制备的试样是什么材质，也无论哪一个抛光工序，总有可以满足技术需要的一款可选。手动、自动抛光都能用，不挑机器、不挑人，联系可脉检测工程师帮您选型，并为您提供快捷制样解决方案，赶紧联系吧。

1月9日，国晶（嘉兴）半导体有限公司（以下简称“国晶半导体”）举行全自动12英寸半导体大硅片生产线量产新闻发布会，宣布打通了全自动生产线，公司的12英寸抛光片处于国内领先水平。（国晶半导体董事长陆仁军讲解项目进展）需要强调的是，国晶半导体建成全自动12英寸半导体硅片生产线，意味着柘中股份转型半导体材料业务迈出一大步。目前，柘中股份持有国晶半导体44.44%股权，并合计持有其58.69%的表决权。全自动大硅片生产线建成一辆辆天车在天花板上来回穿梭，配合各类机台有条不紊地递送着大硅片，自动完成倒角、抛光等一系列步骤。这是记者在国晶半导体看到的大硅片生产流程。（国晶半导体的长晶车间）“国晶半导体在成立之初，就确立了对标全球最先进半导体大硅片厂商的目标，立志组建全球顶尖的专家技术团队，造全球领先的大尺寸硅片。”在发布会上，国晶半导体董事长陆仁军介绍，国晶半导体主要研发、生产、销售集成电路核心半导体材料12英寸大硅片及满足28纳米以下制程标准的抛光片和外延片。需要提及的一个产业背景是，全球对集成电路的需求持续增长，半导体硅片尤其是12英寸大硅片供不应求，产能缺口持续增长。SEMI（国际半导体产业协会）统计，2020年全球晶圆制造材料市场总额达349亿美元，其中硅片和硅基材料的销售额占比达到36.64%约为128亿美元。SEMI预测，全球半导体制造商将在2022年前开建29座高产能晶圆厂，绝大部分为12英寸晶圆厂，这将持续提升12英寸硅片的需求。但在供给端，全球半导体硅片市场垄断在日本信越、日本三菱住友SUMCO、环球晶圆、德国Siltronic、韩国SKSiltron等五大供应商手里，合计占据了全球超过90%的市场份额。“不管是从存量市场看，还是从增量市场展望，国内半导体厂商包括大硅片厂商都迎来巨大的发展前景。”陆仁军介绍，目前，国内外晶圆厂持续处于满负荷运转，且产品不断涨价。产能方面，国晶半导体规划产能为年产12英寸半导体硅片480万片。该项目分为两期实施，其中一期规划建设月产能15万片，二期规划建设月产能30万片。转型半导体业务迈出一大步国晶半导体建成全自动12英寸半导体硅片生产线，意味着柘中股份转型半导体材料业务迈出一大步。柘中股份2021年9月27日公告，为布局集成电路上游产业，促进公司产业结构转型升级，公司拟出资8.16亿元，认购中晶半导体8亿元新增注册资本。本次增资完成后，中晶半导体注册资本增至18亿元，柘中股份持有中晶半导体44.44%股份；同时，康峰投资将其持有的中晶半导体14.25%股权对应表决权无条件委托给柘中股份；最终，柘中股份合计持有中晶半导体58.69%表决权，成为其控股股东。2021年11月24日，柘中股份披露，公司控股子公司中晶（嘉兴）半导体有限公司改名为国晶（嘉兴）半导体有限公司。柘中股份表示，公司根据现金流安排和国晶半导体目前经营情况及未来发展，在国晶半导体尚未投产前增资入股，有利于在避免承担国晶半导体设立初期投资风险的前提下，锁定投资低价，降低上市公司投资成本。本次投资后，柘中股份主营业务将涉及半导体材料行业。陆仁军介绍，国晶半导体12英寸硅片生产线是嘉兴市着力引进的项目，也是南湖区重大集成电路项目。为提升技术及硅片品质，国晶半导体成立了晶体生长实验室、物理、化学以及应用实验室，并争取2022年跻身为国家一流实验室；届时将填补南湖区在集成电路产业核心原材料方面的空白，并带动长三角地区大硅片相关辅助材料、设备投资及相关配套产业发展。柘中股份已经与其客户建立起广泛的业务合作。据悉，包括中芯国际、华虹宏力等国内晶圆厂，广泛采购柘中股份的电力系统相关设备。近年来，柘中股份也深度参与了多个国内晶圆厂的建设任务。

近期，位于美国西弗吉尼亚州的(West Virginia University，简称WVU)的共享研究设施（SRF）正在准备升级电子显微镜设施（EMF）内的扫描电子显微镜，并提交了2023财年的联邦资金申请（CDS）。西弗吉尼亚大学共享研究设施首先对现有和潜在用户进行初步调查并确定了新系统中的预期功能，之后分别邀请了TESCAN、ZEISS、Hitachi、Thermal Fisher Scientific五家不同的扫描电镜制造商在未来几周内展示其产品和能力，以帮助决定当前和未来研究需求的最佳组合。五大扫描电镜制造商的演示将现场进行，用户也可以通过网络观看。新系统中的预期功能如下：1.聚焦离子束——最好是等离子体聚焦离子束2.用于烧蚀的激光束3.处理生物样本的能力4.能够应用温度、电和机械刺激进行原位成像/表征5.EDS和EBSD分析厂商演示的暂定日期和时间如下：对于采购高校而言，能够在全面了解各大厂商的相关技术的同时，更具有针对性的解决采购需求，对于仪器厂商也是一次展示硬实力的机会，并且通过现场演示和在线直播的形式变相营销了自己的技术和品牌，此类电镜采购模式十分值得国内在电镜采购中效仿借鉴。美国西弗吉尼亚大学共享研究设施目前的电镜配置清单：仪器类型仪器型号仪器用途仪器规格扫描电子显微镜（SEM）JEOL JSM-7600F SEM用途：纳米级精密复杂图形的结构表征和电子束光刻加速电压为0.1（柔和光束模式）至30 KV放大倍数范围从25到1000000大样本室（直径不超过200mm）位于洁净室环境内，允许开发各种工艺日立S-4700扫描电镜目的：结构表征从0.5到30 KV的加速电压放大倍数范围从30到500000用于广泛样品和分析的多种支架EDAX团队EDS元素分析能力和相位映射能力透射电子显微镜（TEM）JEOL JEM-2100 TEM用途：对材料、纳米技术、生物科学等不同领域的大量样本进行结构分析。高分辨率和快速数据采集元素分析能力Gatan OneView数码相机，以4k x 4k分辨率对图像样本进行对齐、搜索、聚焦和标记样品制备Baltec二氧化碳临界点干燥器CPD30用途：扫描电镜样品制备用于SEM样品制备的CO2临界点干燥器，通过乙醇与液态二氧化碳交换使样品脱水。它的特点是：多种样品类型的多个支架用户对整个过程的完全控制适用于生物样品或MEMs设备徕卡冷冻超薄切片机UC7 RT用途：电子显微镜样品制备TEM、SEM、AFM和LM检查用切片的简易制备具有高再现性的自动薄切和超薄切辅助设备：玻璃刀制造机三个独立的LED光源，提供出色的照明效果新用户或有经验的用户操作简单Denton台式V型溅射和碳涂覆机用途：电子显微镜样品制备用于SEM样品制备的金/钯靶用于TEM样品制备的碳蒸发系统可根据要求/需要使用其他靶材自动运行模式减少了用户操作的需要新用户或有经验的用户操作简单Allied High Tech多重抛光系统用途：用于电子显微镜样品的研磨和抛光半自动抛光系统TEM/SEM样品的免提抛光多个支架以平行或横截面方向制备TEM样品8英寸压板，用于金刚石研磨膜或其他变速旋转和振荡显示抛光材料量的指示器（微米）辅助设备：光学显微镜Axio，用于验证抛光表面辅助设备：慢速锯 Allied High Tech，在抛光前缩小大样本尺寸Fischione 1050 TEM磨机用途：透射电镜样品制备全自动控制两个独立可调的离子源电子显微镜样品快速研磨的高能操作铣削参数的简单设置生物样品制备实验室生物材料的制备：电子扫描显微镜

网络会议大会介绍2022年7月26-29日，仪器信息网与中国电子显微镜学会将联合主办“第八届电子显微学网络会议(iCEM 2022)”。iCEM 2022将围绕当下电子显微学研究及应用热点，邀请业界知名电子显微学专家线上分享精彩报告。会议预告电子显微学技术及应用进展专场报告日期：7月26日上午 9：30-10：00报告题目：日立聚焦离子束（三束）应用报告人简介：日立科学仪器产品经理 张希文2012年8月加入日立高新技术（上海）国际贸易有限公司北京分公司，担任日立电子显微镜售后服务技术支持工作，并于同年赴日本工厂进行为期半年的生产技术培训；2013年回国后继续担任日立电镜售后服务技术支持工作，并同时担任日立电镜产品售前技术支持工作。2016年开始负责日立聚焦离子束的技术支持工作，并负责日立聚焦离子束在中国的推广工作。2021年公司整合，继续在日立科学仪器（北京）有限公司负责日立聚焦离子束的技术支持工作。END公司介绍：日立科学仪器（北京）有限公司是世界500强日立集团旗下日立高新技术有限公司在北京设立的全资子公司。本公司秉承日立集团的使命、价值观和愿景，始终追寻“简化客户的高科技工艺”的企业理念,通过与客户的协同创新，积极为教育、科研、工业等领域的客户需求提供专业和优质的解决方案。 我们的主要产品包括：各类电子显微镜、原子力显微镜等表面科学仪器和前处理设备，以及各类色谱、光谱、电化学等分析仪器。为了更好地服务于中国广大的日立客户，公司目前在北京、上海、广州、西安、成都、武汉、沈阳等十几个主要城市设立有分公司、办事处或联络处等分支机构，直接为客户提供快速便捷的、专业优质的各类相关技术咨询、应用支持和售后技术服务，从而协助我们的客户实现其目标，共创美好未来。

日前，国防科技大学精密工程创新团队在国内首次研制出拥有自主知识产权的磁流变、离子束两种超精抛光装备，该装备目前已经通过国家重大科技专项验收。这也使我国成为继美、德之后，第3个掌握高精度光学零件制造加工技术的国家，也是目前世界上唯一同时具有磁流变和离子束抛光装备研发能力的国家。 　　据了解，超精密加工是以高精度为目标的先进制造技术。西方发达国家将其视为战略资源，严格限制其出口。该校精密工程创新团队在带头人李圣怡教授的率领下，经过20多年的自主创新，突破了大型光学零件高精度、高效率、无损伤和低成本的技术瓶颈，创造了我国光学零件加工亚纳米的“中国精度”奇迹。

这里是TESCAN电镜学堂第6期，将继续为大家连载《扫描电子显微镜及微区分析技术》(本书简介请至文末查看)，帮助广大电镜工作者深入了解电镜相关技术的原理、结构以及最新发展状况，将电镜在材料研究中发挥出更加优秀的性能！样品制备对扫描电镜观察来说也至关重要，样品如果制备不好可能会对观察效果有重大影响。通常希望观察的样品有尽可能好的导电性，否则会引起荷电现象，导致电镜无法进行正常观察；另外样品还需要有较好的导热性，否则轰击点位置温度升高，使得试样中的低熔点组分挥发，形成辐照损伤，影响真实的形貌观察。如果要进行EDS/WDS/EPMA定量检测，还需要样品表面尽可能平整。第一节 常规样品制备样品制备主要包括取样、清洗、粘样、镀膜处理几个步骤。§1. 取样在进行扫描电镜实验时，在可能的条件下，试样应该尽量小，试样有代表性即可。特别在分析不导电试样时，小试样能改善导电性和导热性能。另外，大试样放入样品室会有较多气体放出，特别是多孔材料，不但影响真空度，还大幅度增加抽真空的时间，可能也会引入更多的污染。因此对于多孔材料在放入电镜前，可以在不损伤样品的前提下，对样品进行一定的热处理，比如电吹风吹，红外灯烘烤，或者放入烘箱低温加热一段时间，将其空隙的气体排出，以减小进入电镜后的抽真空时间。对于薄膜截面来说最好能够进行切割、镶嵌、抛光等处理。在镶嵌时最好能将试样一分为二，将要观察的膜面朝里然后对粘，然后再进行镶嵌、抛光处理。这样做的好处是避免在抛光过程中因为膜面和镶嵌料之间的力学性能有一定的差异，而引起薄膜的脱落或者出现裂纹和缝隙，如图4-1。对粘后的膜面两面力学性能一样，会改善此种情况。 图4-1 单膜面力学性能不对称引起的损伤对于比较软的样品在制截面时，一般不要用剪刀直接剪断，直接剪断的截面经过了剪切的拉扯，质量较差。可以考虑用锋利的刀片切断，比如手术刀片等。或者在将试样浸泡在液氮中进行冷冻脆断。在冷冻脆断前可以先切一个小缺口，这样冻硬的样品可以顺着切口用较小的力就可发生断裂。有条件的话可以考虑用截面离子束抛光或者FIB抛光。对于粉末样品来说，取样要少量，否则粉末堆叠在一起会影响导电性和稳定性。粉末样品团聚严重的话，可以考虑将粉末混合在易挥发溶剂中（如纯水、乙醇、正己烷、环己烷等），配成一定浓度的悬浊液，用超声分散，然后取小滴滴在试样座或者硅片、铜（铝）导电胶带上。此时不要使用碳导电胶带，因为碳导电胶带不够致密，会使得样品嵌入在空隙中影响观察。等待溶剂挥发干燥后，粉体靠表面吸附力粘附在基底上，如图4-2。 图4-2 粉末超声分散制样不过值得注意的是溶剂的选择，溶剂不能对要观察的试样有影响，否则会改变试样的初始形貌而使得图像失真。如图4-3，高分子球样品在用水稀释分散后仍为球形，而用无水乙醇分散后，形貌发生了变化。 图4-3 水（左）和乙醇（右）稀释分散对形貌的影响§2. 清洗试样尽可能保证新鲜，避免沾染油污。特别是不要直接用手直接接触试样，以免沾染油脂。清洁不仅仅是针对试样的要求，同样还包括了样品台。样品台要做到经常用无水乙醇进行清洗。§3. 粘样试样的粘贴应该尽量保持平稳、牢固，并尽可能减少接触电阻，以增加导电性和导热性。特别是对于底面不平整的试样，最好用银胶进行粘贴，让银胶填满缝隙以保证平稳。如果要进行EBSD测试，最好也用银胶。EBSD采集要经过70度的倾转，重力力矩较大，而导电胶带有一定的弹性，可能会因为重力缘故而逐步拉伸，导致样品漂移。此外，平时大多数试样都是采用碳导电胶带进行粘贴，不过如果要进行极限分辨率的观察，最好也用银胶，以进一步增加导电性。我们粘贴样品的目的是使得样品要观察的表面要能和样品台底座之间具有导电通路，而不是仅仅认为表面导电就好。样品表面导电性再好，如果没有导电通路和样品台联通的话，仍然会有荷电。特别是对于不规则样品，更要注意粘贴时候的导电通路。如图4-4，左边与中间的表面并未和样品台导通，属于不合理的粘贴，而右边形成了通路，是合理的粘贴方式。 图4-4 合理（右）与不合理（左、中）的粘贴对于很多规则样品，比如块体或者薄片样品，也存在很多不合理的粘贴方式。很多人认为试样有一定的导电性，就将试样直接粘在导电胶带上，如图4-5左。样品表面和样品台之间依然会出现没有通路的情况，有时即使样品导电性好，可能也会因为有较大的接触电阻使得图像有微弱的荷电或者在大束流工作下有图像漂移。而图4-5右，则是开始将导电胶带故意留一段长度，将多余的长度反粘到试样表面去。这样使得不管样品体内导电性如何，表面都能通过导电胶带形成通路。而且即使样品整个体内都有较好的导电性，连接到表面的导电胶带相当于一个并联电路，并联电路的总电阻总是小于任何一个支路的电阻，所以无论试样的导电性任何，都应习惯性的将一段导电胶带连接到表面，以进一步减小接触电阻，增强导电性。 图4-5 将导电胶带延伸到试样表面的粘贴 对于粉末试样的粘贴，也是要少量，避免粉末的堆叠影响导电性和导热性。粉体可以取少量直接撒在试样座的双面碳导电胶上，用表面平的物体，例如玻璃板或导电胶带的蜡纸面压紧，然后用洗耳球吹去粘结不牢固的颗粒，如图4-6左。如果粉末量很少，无法用棉签或药勺进行取样，也可将碳导电胶带直接去粘贴粉末，如图4-6右。 图4-6 粉末试样的粘贴方法§4. 镀膜对于导电性不好的试样，我们通常可以选择镀膜处理。通常情况我们选择镀金Au膜，如果对分辨率有较高的要求，可以选择镀铂Pt、铬Cr、铱Ir。如果要对样品进行严格的EDS定量分析，则不能镀金属膜，因为金属膜对X射线有较强的吸收，对定量有较大影响，此时可选用蒸镀碳膜。现在的镀膜设备一般都能精确控制膜厚，通常镀5nm的薄膜就足够改善导电性，对于有些特殊结构的试样，比如海绵或泡沫状，表面不致密，即使镀较厚的导电层，也难以形成通路。所以我们镀膜尽量控制在10nm以下，如果镀10nm的导电膜仍没有改善导电性，继续增加镀膜也没有意义。一般镀金的话在10万倍左右就能看见金颗粒，镀铂的话可能需要放大到20万倍才能看见铂颗粒，而镀铬或者铱则需要放大到接近30万倍。所以对于导电性不好的试样来说，可以根据需要选择不同的镀膜。镀膜之后，由金属膜代替试样来发射二次电子，而一般镀的金、铂都有较高的二次电子激发率，在镀膜之后还能增强信号强度和衬度，提升图片质量。只要镀膜不会掩盖试样的真实细节，完全可以进行镀膜处理，而不用纠结于一定要不镀膜进行观察，除非有特别不能镀膜的要求。当然，对于要求倍数特别高或者严格测量的一些观察要求，则要谨慎镀膜处理。毕竟在高倍数下，镀膜会掩盖一定的形貌，或者使测量产生偏差。如图4-7，左边是镀金处理的PS球在SEM下的测量结果，右边是TEM直接拍摄的结果，可以发现SEM的测量结果大约在195nm左右，而TEM的测量结果在185nm左右，这就是因为给PS球镀了5nm金而引起直径扩大了10nm左右。 图4-7 PS球在SEM下镀膜观察和TEM直接观察的对比除了不导电样品需要镀膜，对于一些导热性不佳的试样，有时也需要镀膜。电子束轰击试样时，很多能量转变成热能，使得轰击点温度升高，升高温度表达式为ΔT(K) = 4.8 × VI / kd其中，V为加速电压、I为束流、d为电子束直径，k为试样热导率。对于导热性差的试样，k较低，ΔT有时能接近1000K，很容易对试样造成损伤。比如有时候对高分子样品进行观察时，会发现样品在不断的变化，其实是样品受到电子束轰击造成了辐照损伤损伤，如图4-8。而经过镀膜后，可以提高热导率，降低升温程度，避免样品受到电子束辐照损伤。 图4-8 电子束辐照损伤【福利时间】每期文章末尾小编都会留1个题目，大家可以在留言区回答问题，小编会在答对的朋友中选出点赞数最高的两位送出本书的印刷版。【奖品公布】上期获奖的这位童鞋，请后台私信小编邮寄地址，我们会在收到您的信息并核实后即刻寄出奖品。 【本期问题】如果要对样品进行严格的EDS定量分析，可以镀金属膜吗，为什么？（快关注“TESCAN公司”微信公众号去留言区回答问题领取奖品吧→）简介《扫描电子显微镜及微区分析技术》是由业内资深的技术专家李威老师（原上海交通大学扫描电镜专家，现任TESCAN技术专家）、焦汇胜博士（英国伯明翰大学材料科学博士，现任TESCAN技术专家）、李香庭教授（电子探针领域专家，兼任全国微束分析标委会委员、上海电镜学会理事）编著，并于2015年由东北师范大学出版社出版发行。本书编者都是非常资深的电镜工作者，在科研领域工作多年，李香庭教授在电子探针领域有几十年的工作经验，对扫描电子显微镜、能谱和波谱分析都有很深的造诣，本教材从实战的角度出发编写，希望能够帮助到广大电镜工作者，特别是广泛的TESCAN客户。这里插播一条重要消息：TESCAN服务热线 400-821-5286 开通“应用”和“维修”两条专线啦！按照语音提示呼入帮你更快找到想要找的人 ↓ 往期课程，请关注“TESCAN公司”微信公众号查看： 电镜学堂丨扫描电子显微镜的基本原理(一) - 电子与试样的相互作用电镜学堂丨扫描电子显微镜的基本原理(二) - 像衬度形成原理电镜学堂丨扫描电子显微镜的基本原理(三) - 荷电效应电镜学堂丨扫描电子显微镜的结构(一) - 电子光学系统电镜学堂丨扫描电子显微镜的结构(二) - 探测器系统

当前， 我国在半导体领域面临着被“卡脖子”的问题。为了尽快发展国内半导体产业，鼓励自主创新，及早摆脱对进口的依赖，国家陆续出台免税、补贴多项政策大力支持国内半导体产业发展。中国的半导体产业近年来保持着20%以上的高速增长率，据估计2021年国内市场将达到677亿美元。科学仪器在半导体研发中起到关键作用，半导体的纯度、杂质、性能检测都离不开科学仪器，因此越来越多的科学仪器厂商对于半导体领域愈发重视。伴随着政策的支持、资本的注入，国内半导体市场必将成为最具发展潜力的产业之一；随着半导体研发项目的增加及产量的提升，对于科学仪器的需求必将增大，这将直接拉动科学仪器企业半导体领域的仪器销量和业绩，成为备受瞩目的盈利增长点。仪器信息网综合科学仪器在硅材料、光掩模、光刻材料、电子气体、工艺化学品、抛光材料、靶材、封装材料等领域的应用整理了一份仪器清单，近200类仪器或将在伴随着未来半导体行业发展的“黄金十年”而大展拳脚。（以下仪器可能存在并列或包含关系，未进行区分）序号仪器1高频红外碳硫分析仪2高阻仪3高速老化试验箱4高温试验箱5高效液相色谱6高压离子色谱系统7高低温湿热交变试验箱8高低温冲击试验箱9高低温交变湿热试验箱10飞行时间二次离子质谱仪11颗粒仪12频谱分析仪13顶空-气相色谱-质谱联用仪14顶空-气相色谱15非金属膜厚仪16阿贝闪点仪17阳离子色谱仪18针/锥入度仪19金相显微镜20金属膜厚仪21酸开封机22透射电子显微镜23透光率/雾度测定仪24辉光放电质谱仪25超高温差热分析仪26超纯水机27超景深显微系统28超声扫描显微镜29表面缺陷检测系统30表面张力仪31色谱仪32自动研磨机33自动电位滴定仪34自动滴定仪35能量色散型X射线荧光分析仪36聚焦离子束扫描电子显微镜37聚焦离子束场发射扫描电子显微镜38聚焦离子束39耐压测试仪40网络分析仪41维氏硬度计42纳米粒度仪43红外光谱仪44紫外老化箱45紫外/可见分光光度计46精密研磨机47精密切割机48粘着力测试仪49粘度计50等离子聚焦离子束51空气粒子计数器52离子色谱仪53离子研磨仪54磷检区熔炉55磨损测试系统56硝酸提纯仪57研磨机58矢量网络分析仪59矢量信号发生器60直读光谱仪61盐雾试验箱62界面材料热阻及热传导系数测量系统63电热鼓风干燥箱64电感耦合等离子质谱仪65电感耦合等离子发射光谱仪66电感耦合等离子光谱仪67电导率仪68电子天平69电子分析天平70电化学工作站71电位滴定仪72热风回流焊73热重分析仪74热机械分析仪75热常数分析仪76热导气相色谱77热导检测器气相色谱仪78热导分析仪79激光粒度仪80激光粒子计数器81激光散射粒径分布分析仪82激光开封机83激光导热仪84漏电起痕测试仪85温度循环试验箱86混合气体试验箱87液相色谱质谱联用仪88液相色谱仪89液体颗粒计数仪90液体颗粒仪91液体粒子传感器92流变仪93水氧分析仪94水分析仪95水分仪96氧氮氢分析仪97氧弹燃烧离子色谱仪98氧化物膜厚仪99氧分仪100氦离子化气相色谱仪101氦气氟油加压检漏装置102氦检漏仪103氢火焰离子化气相色谱仪104氙灯老化机105气相色谱仪106气相色谱-质谱联用仪107气相色用仪108气体分析仪109显微红外分析仪110数字式硅晶体少子寿命测试仪111放电氦离子化气相色谱仪112摆锤冲击试验机113接触角测量仪114拉力剪切仪115扫描电镜-电子背散射衍射116扫描电镜117扩展电阻测试仪118手动磨抛机119感应偶合等离子质谱仪120恒温恒湿箱121总有机碳检测仪122快速高低温湿热交变试验箱123微量水分仪124微量氧分析仪125微波消解仪126微机控制万能（拉力）试验机127微控数显电加热板128微探针台129影像仪130库伦法卡尔费休水分仪131库仑法卡氏水分测定仪132库仑水分滴定仪133差示扫描量热仪134少子寿命分析仪135导电型号测试仪136密度仪137多参数测量仪138多功能颗粒计数仪139塑料摆锤冲击试验机140场发射扫描电镜141四探针阻抗仪142台阶仪143台式BSE扫描电子显微镜144可编程晶体管曲线图示仪145可焊性测试仪146原子力显微镜147单面抛光机148半导体参数测试仪149动态热机械分析仪150凝胶渗透色谱151冷热冲击试验箱152冷场扫描电镜153关键尺寸扫描电子显微镜154全自动色度测试仪155光学金相显微镜156光学膜厚仪157傅立叶变换近红外光谱仪158傅立叶变换红外光谱仪159低温试验箱160低温傅立叶变换红外光谱仪161二维X射线检测仪162两探针电阻率测试仪163三重四极杆ICPMS164三维立体成像X射线显微镜165三维光学轮廓仪166三坐标测量机167万能试验机168万能推拉力试验机169α-粒子计数器170X射线检测仪171X光电子能谱仪172TOC仪173纳米粒度仪174PH计175EMI扫描台176单面抛光机177CNC视像测量系统(三次元)1788寸化学机械研磨机台1793D立体显微镜18012寸晶圆缺陷检测机18112寸化学机械研磨机台182三参数测定仪可预见的是，以上仪器必将在未来的半导体领域大有可为，同时仪器厂商对于半导体板块的竞争和细分市场争夺也必将更加激烈。

我们都知道在实验室进行金相磨抛时，想要得到一个自己满意，客户认可的样品，需要使用到多种金相磨抛耗材，在金相磨抛机上经过多次磨抛才能完成。所以，毫不夸张的说，选择什么样的金相磨抛耗材就决定了你可以收获到什么样的样品。 可脉小编今天就为大家带来金相磨抛过程中不可或缺的一款耗材，一款可以让你轻松高效且满意的磨抛耗材。它就是来自美国QMAXIS原装进口的金相抛光液，是用于高品质的金相制样抛光的，微米级、纳米级的金相抛光液。 美国QMAXIS金相抛光液，分为金刚石研磨抛光液和氧化铝/氧化硅抛光悬浮液。详情介绍如下： 金刚石抛光液：为金相制样研磨、抛光工序常用的微米级的金刚石抛光剂，手工抛光、自动抛光均适用。有单晶、多晶；水基、油基；浓缩型，常规型等多种型号可供大家选择，无毒环保，基本可以满足各种材料的研磨抛光需求。 氧化铝/氧化硅抛光悬浮液：为高品质纳米级氧化物抛光材料，包括氧化铝、氧化硅、硅-铝混悬浮液，是各种材料的抛光理想抛光剂，可以精致地再现材料微观结构。 美国QMAXIS的原装进口金相抛光液不光好用，性价比也很高。而且种类多，型号全，真正做到了可以满足各种材料的金相抛光所需。所以，有需要金相抛光液的小伙伴们赶紧来可脉检测选购吧！