兆声大基片湿法去胶系统

盛美半导体设备（上海）股份有限公司(以下简称盛美上海)（科创板股票代码：688082），一家为半导体前道和先进晶圆级封装（WLP）应用提供晶圆工艺解决方案的领先供应商，今推出了支持化合物半导体制造的综合设备系列。公司的150-200 毫米兼容系统将前道集成电路湿法系列产品、后道先进晶圆级封装湿法系列产品进行拓展，可支持化合物半导体领域的应用，包括砷化镓 (GaAs)、氮化镓 (GaN) 和碳化硅 (SiC) 等工艺。化合物半导体湿法工艺产品线包括涂胶设备、显影设备、光阻去胶设备、湿法蚀刻设备、清洗设备和金属电镀设备，并自动兼容平边或缺口晶圆。“随着不同市场的需求增长，化合物半导体行业正在迅猛发展。” 盛美上海董事长王晖博士表示，“通过对这个行业的调研，我们意识到，应利用现有的前道集成电路湿法和后道先进晶圆级封装湿法系列产品中重要的专业知识和技术，来提供满足化合物半导体技术要求的高性价比、高性能产品。我们认为，化合物半导体设备市场为 盛美上海提供了重要的增长机会，因为 GaAs、GaN 和 SiC 器件正成为未来电动汽车、5G 通信系统和人工智能解决方案日益不可或缺的一部分。”盛美上海的化合物半导体设备系列Ultra C 碳化硅清洗设备：盛美上海的Ultra C碳化硅清洗设备采用硫酸双氧水混合物 (SPM) 进行表面氧化，并采用氢氟酸 (HF) 去除残留物，进行碳化硅晶圆的清洗。该设备还集成盛美上海的SAPS 和 Megasonix™ 技术实现更全面更深层次的清洗。Ultra C 碳化硅清洗设备可提供行业领先的清洁度，达到每片晶圆颗粒≤10ea0.3um，金属含量＜ 1E10atoms/cm3水平。该设备每小时可清洗超过 70 片晶圆，将于 2022 年下半年上市。Ultra C 湿法刻蚀设备：可为砷化镓和磷化铟镓 (InGaP) 工艺提供＜2% 的均匀度，＜ 10% 的共面度及＜ 3% 的重复度。Ultra C 湿法刻蚀设备可提供行业领先的化学温度控制、刻蚀均匀性。该设备将于 2022 年第三季度交付给某重要客户，并由其进行测试。Ultra ECP GIII 1309 设备：盛美上海的Ultra ECP GIII 1309 设备集成了预湿和后清洗腔，支持用于铜、镍和锡银的铜柱和焊料，以及重分布层 (RDL) 和凸点下金属化 (UBM) 工艺。设备实现了晶圆内和模内小于3%的均匀度和小于2% 的重复度。该设备已于 2021 年中交付给客户，并满足客户技术要求。Ultra ECP GIII 1108 设备：Ultra ECP GIII 1108 设备提供金凸块、薄膜和深通孔工艺，集成预湿和后清洗腔。设备采用盛美上海久经考验的栅板技术进行深孔电镀，以提高阶梯覆盖率。它可达到晶圆内和模内＜ 3%的均匀度和＜ 2% 的重复度。腔体和工艺槽体经过专门设计，可避免金电镀液的氧化，且工艺槽体具有氮气吹扫功能，可减少氧化。该设备已于去年年底交货给关键客户。Ultra C ct 涂胶设备：盛美上海的Ultra C ct 涂胶设备采用二次旋转涂胶技术，可实现均匀涂胶。设备拥有行业领先的优势，包括精确涂胶控制、自动清洗功能、冷热板模块以及每个腔体的独立过程控制功能。Ultra C dv 显影设备：在化合物半导体工艺中，盛美上海的Ultra C dv 显影设备可进行曝光后烘烤、显影和硬烤的关键步骤。设备利用盛美上海的先进技术，可按要求实现+/-0.03 LPM的流量和 +/-0.5 摄氏度的温度控制。Ultra C s刷洗设备：Ultra C s 刷洗设备以盛美上海先进的湿法清洗技术为基础，实现优秀的污染物去除效果。该设备通过氮气雾化二流体清洗或高压清洗实现高性能，以更有效地清洗小颗粒。此外，设备还可兼容盛美上海专有的兆声波清洗技术，以确保优良的颗粒去除效率（PRE），且不会损坏精细的图形结构。Ultra C pr 湿法去胶设备：盛美上海的Ultra C pr湿法去胶设备利用槽式浸泡和单片工艺，确保高效地进行化合物半导体去胶。该设备最近由一家全球领先的整合元件制造商（IDM）订购，用于去除光刻胶，这进一步验证了盛美上海的技术优势。Ultra SFP无应力抛光设备：Ultra SFP 为传统的化学机械抛光在硅通孔 (TSV) 工艺和扇出型晶圆级封装 (FOWLP)应用提供了一种环保替代方案。在 TSV 应用中，盛美上海的无应力抛光 (SFP) 系统可通过运用专有的电抛光技术去除低至 0.2µm 的铜覆盖层，再使用传统的 CMP 进一步去除剩余铜至阻挡层，并通过湿法刻蚀去除阻挡层，从而显著降低耗材成本。对于 FOWLP，相同的工艺可以克服由厚铜层应力引起的晶圆翘曲，并应用于RDL中铜覆盖层并平坦化 。

近日，中国电科45所（以下简称45所）研制的双8英寸全线自动化湿法整线设备进入国内主流FAB厂。该整线设备满足8英寸90nm～130nm工艺节点，适用于8～12英寸BCD芯片工艺中的湿化学制程。晶圆尺寸与工艺线宽代表湿法设备的工艺水准，45所研制的整线设备具备了8寸主流FAB厂湿法设备运行标准，自动化程度高，系统集成度高，覆盖了8英寸BCD芯片工艺中的湿化学工艺制程，实现了全自动湿法去胶、湿法腐蚀、湿法金属刻蚀、RCA清洗、Marangoni干燥等工艺。设备是半导体产业的基石，据SEMI统计，2021年全球半导体制造设备销售额创历史新高，达到1026亿美元，同比增长了44%。在全球芯片扩产潮的推动下，晶圆厂的设备支出将继续提升，预计全球市场2022年将达到1175亿美元，2023年将增至1208亿美元。旺盛的市场需求，为本土半导体设备企业带来了发展契机。中电科电子装备集团有限公司董事长、党委书记景璀表示，基于半导体设备行业“技术密集、人才密集、资金密集，回报周期长”的特点，国内先进的设备企业已经形成“研发先行，产业跟进，金融支撑”的发展模式，并具备以下三个特点：一是半导体设备行业集中度高。据中国电子专用设备工业协会统计，国内前十家半导体设备公司销售收入占国产设备企业销售收入总额的80%。设备龙头企业与制造领军企业在工艺与设备开发方面深度合作，不断强化龙头企业地位。二是国产半导体设备细分品种不断丰富，逐步步入产业化替代阶段。例如，北京烁科中科信公司目前已实现中束流、大束流、高能及第三代半导体等特种应用全系列离子注入机自主创新发展，工艺段覆盖至28nm。三是资本市场对半导体设备科技创新和产业化的支撑力度日益增强。2019年以来，多家企业借助科创板迅速实现IPO上市，募集资金，加速科研投入，产业化进一步提速。

爱美人士除了日常洁肤和护肤步骤外，不少人也会定期做皮肤深层清洁。如果有暗疮问题，还会选购一些去角质产品，去清除面上死皮和黑头粉刺，希望可以改善暗疮印。近年市面上涌现各式各样的去角质棉片，怎样才能购买到适合自己肤质和需要的产品？看完这篇，学会看成分选购产品。◆ 留神成分 细阅说明以往较常见的去角质护肤品主要透过物理性方法去除皮肤表面角质，例如以磨砂粒子在皮肤上搓揉，用物理方式去除角质或提供较表层的清洁作用，帮助清洁毛孔，可以令皮肤看起来有即时洁净和光亮的效果；部分亦会以化学成分分解角质，软化及去除皮肤表面的角质细胞，亦有部分产品结合物理和化学两种方式去除皮肤表面的角质。1. 磨砂粒子/物理性去角质成分较常用的磨砂粒子或研磨剂有矽石、植物种子粉末或硬壳粉末、矽藻土、海盐、糖、浮石、石英、微晶纤维素、米糠等。2. 常见的化学性去角质成分及其特性以往的去角质产品较常使用传统果酸作为重要的有效成分；而近年市面见到的产品则较多采用或结合相对较温和的果酸成分、多羟基酸、β-羟基酸和脂羟基酸等。【传统果酸：又称α-羟基酸alpha-hydroxy acids，AHAs】属水溶性，由于大部分成分萃取自某些水果，故此被统称为果酸，有去角质的作用。分子量较细小的果酸（如乙醇酸），对皮肤的刺激程度较高。【多羟基酸：poly-hydroxy acids，PHAs】属较新式的果酸，分子量较传统果酸大，故引致刺激反应的机会较低，具保湿效能及抗氧化功能，较适合敏感肤质、玫瑰痤疮和湿疹患者使用。【β-羟基酸：beta-hydroxy acids，BHAs】属脂溶性，较果酸更易渗入皮脂腺，于改善暗疮问题的效果较理想。【脂羟基酸：lipo-hydroxy acids，LHAs】分子量较传统水杨酸大，可以减低对使用者带来的刺激，较适合敏感肤质、玫瑰痤疮和湿疹患者使用。3. 慎用去角质棉片近年市面涌现多款去角质棉片，消委会在去年购买了28款去角质焕肤或爽肤棉片（下文简称为「去角质棉片」）产品。24款为免冲洗式去角质棉片，其中21款只需要取出包装被沾有美容液的棉片，用后毋须冲洗；另有3款为内含2个步骤的护理套装，按次序使用后亦毋须冲洗；余下4款则在擦拭皮肤后须用清水冲洗。消委会检视了这些去角质棉片的标签资料，并对其成分进行分析，帮助消费者留意其中的细节，方便评估和挑选合适的产品。◆ 2款标示含有较高浓度的乙醇酸 未必适合自行使用样本中有17款标示添加了AHAs成分，包括较多样本使用的为乙醇酸、乳酸和苹果酸等。当中乙醇酸是分子量最细小的AHAs成分，皮肤渗透率高，理论上能较有效去除皮肤角质，但对皮肤的刺激性亦相对较高；而乳酸和苹果酸都具保湿功能，刺激性乙醇酸低。有2款源自美国的样本所标示的乙醇酸含量分别为10%和20%。若参考美国化妆品成分分析委员会（CIR）的建议，家用护肤品中乙醇酸、乳酸及其化合物总量应相等于10%或以下（pH≥3.5），才适合供消费者安全地自行使用。而内地的《化妆品安全技术规范》则规定，AHAs及其化合物总量的最大允许使用浓度为6%（pH≥3.5）。此外，AHAs产品的酸碱度是影响其刺激程度的重要因素。酸碱度愈低，虽然可能增加去角质的程度，但刺激皮肤的机会亦会愈高。调查发现，只有少数样本包装或其他官方网页有说明有效成分的浓度或产品的酸碱度。◆ 使用方法及时间各有不同 消费者宜细阅说明本次调查亦发现不同样本在使用频率、敷面及冲洗前驻留时间、是否需要冲洗等用法上差异甚大。样本中，逾8成样本说明棉片可以每日使用，当中10款建议每日使用1次，9款说明可以每日用2次，更有个别样本说明每日使用1至3次。另外，有13款产品说明可当作面膜使用，而当中11款建议的敷面时间亦有明显差异，由最短1分钟至最长10分钟不等，但亦有5款样本说明不适合作敷面用途。在4款冲洗式样本中，有2款分别建议让美容液驻留在脸上2至3分钟和20分钟，当中1款更指在使用3星期后，可视乎皮肤耐受程度而考虑敷一整晚，其余2款则未有说明冲洗前的驻留时间。慎用产品!!焕肤去角质Q&AQ：需要定期去除角质层吗？A：并不是每一个人都有需要定期使用去角质产品。皮肤角质更生周期的长短因人而异，随着年龄增长，更生速度会逐渐减慢。若过度频密去除角质，可能会令皮肤角质受损，削弱皮肤的天然保湿能力，反而可能衍生皮肤干燥的问题，令皮肤泛红、有灼热感受，甚至增加皮肤受外物刺激，引致皮肤发炎的机会。Q：如何应肤质选购去角质产品？A：有皮肤科专科医生指，去角质产品主要分物理性、化学性或将两者结合，适当使用可令皮肤变得有光泽和平滑。若是第一次使用新产品，消费者应按个人面部肤质、皮肤问题、喜好和需要作选择。建议先在局部范围试用产品，确保质地容易推展，不会令皮肤感到严重刺痛，亦不会引致刺激或过敏问题。皮肤干燥、容易有过敏反应和暗疮问题的人士，选用化学去角质成分浓度较低的产品。而物理性去角质成分较易造成刺激或令暗疮情况恶化。Q：去除角质或焕肤后，如何保养肌肤？A：进行去角质或焕肤护理程序后，建议尽快为皮肤作保湿护理。皮肤在去除角质后，可能较容易受阳光日晒影响，故此外出时必须作足够的防晒措施，涂抹可以同时抵御紫外线UVA和UVB的防晒乳霜，并且避免曝晒。使用注意事项&bull 如正服用治疗暗疮的药物，或曾接受入侵性美容，应向医护人员查询是否适合使用去角质或焕肤产品。&bull 避免同时混合使用多种去角质产品。&bull 用后尽快为皮肤作保湿护理，并在外出时作足够的防晒措施，避免曝晒。&bull 谨记按产品说明使用去角质产品，留意使用次数和驻留时间，以及在擦拭时注意力度，避免因过度擦拭而刺激皮肤。&bull 部分成分有机会对眼睛造成刺激或损害，使用产品时要避开眼睛，在靠近眼周的部位（例如鼻头和额前等位置）使用产品时应加倍小心。&bull 若皮肤曾经对化学去角质成分有刺激反应，建议在正式使用产品前，先在小范围使用；如用后有持续刺痛或严重刺激反应，应立即停用并求医。编辑视角：近年来，去角质棉片因其便捷的使用方式和立竿见影的效果，成为众多爱美人士的护肤新宠。然而，面对市场上琳琅满目的产品，消费者往往难以选择适合自己的去角质棉片，甚至在使用过程中出现肌肤问题。那么在选择去角质棉片时，需要关注去角质棉片的种类和成分；同时要根据肤质、皮肤问题进行选购，避免盲目跟风造成肌肤损伤；最后注意去角质棉片的使用方法和注意事项，避免过度去角质造成肌肤损伤。选择适合自己的产品，正确使用，呵护肌肤健康。