在线量产型磁控溅射系统

【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H，高强度不锈钢结构（可选150mm x 165mm）样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台，高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩溅射靶材金（标配），铂，金/钯，铂/钯, 银等靶材尺寸直径57mm x 0.1mm 厚度溅射控制系统微处理器控制，远程电流/电压感应；最大电流40mA，程序化数字控制；提供真空安全联锁装置，配有过流保护；模拟计量真空 Atm - 0.001mb 电流: 0 – 50mA控制方式自动气体换气和放气功能，带有“暂停”控制的数字定时器（0－300s）机械泵2L/s工作媒介气体氩气，纯度最低99.9%工作电压220V, 50/60HZ膜厚监控仪（选配）通过6MHz石英晶体进行原位监控，显示纳米级厚度，可精确到0.1nm适用配套Zeiss, JEOL, Hitachi, FEI, Tescan, Phenom等扫描电镜 【产品详情】Agar 全自动喷金仪（离子溅射仪）为英国进口设备，操作简单，适用于扫描电镜样品制备，可喷金、铂、金/钯、铂/钯、银等。喷金仪使用小贴士：1）需要溅射喷金的样品a)第一类样品是电子束敏感的样品，主要包括生物样品，塑料样品等。SEM中的电子束具有较高能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤；b)另一类样品是非导电的样品，由于样品不导电，其表面带有“电子陷阱”，这种表面上的电子积累被称为“充电”。为了消除荷电效应，可在样品表面镀一层金属导电层，镀层作为一个导电通道，将充电电子从材料表面转移走，消除荷电效应。在扫描电镜成像时，溅射材料可以增加信噪比，从而获得更好的成像质量。2)溅射材料常用的溅射材料为金，导电性高。喷金仪的真空度越高，所溅射的金属颗粒越小，可以减少样品表面形貌失真的情况。当需要超高分辨率成像时，首选高真空喷金仪，同时还可以选用其他溅射材料，如：铬，铱等，溅射的晶粒更细小。此外，如果需要做EDS能谱分析的话，建议选择喷碳仪，因碳的X射线峰不会与其他元素的峰值发生冲突。产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌铬靶直径57mm x 3.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：铬靶产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌钯靶直径57mm x 0.1mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：钯靶产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌铂靶直径57mm x 0.1mm厚度直径57mm x 0.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620铂靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：铂靶产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌银靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：银靶产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌金靶直径57mm x 0.1mm厚度直径57mm x 0.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外), JEOL型号JFC-1200, JFC-1300, JFC-1400, JFC-1600, JFC-2300HRPolaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620金靶直径54mm x 0.1mm厚度直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：金靶产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌镍靶直径57mm x 0.1mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620镍靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：镍靶产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌铂钯靶直径57mm x 0.1mm厚度直径57mm x 0.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620铂钯靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：铂钯靶产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【技术参数】产品名称规格适用离子溅射仪品牌金/钯靶直径57mm x 0.1mm厚度直径57mm x 0.2mm厚度Agar Scientific所有型号Cressington所有型号(308系列除外)Polaron/Quorum/Bio-Rad/VG-E5000,E5200,E5400,SC502,SC7610,SC7620金/钯靶直径54mm x 0.2mm厚度Bal-Tec/Leica SCD005, SCD050, MED010, MED020【产品详情】离子溅射仪专用高纯高密度溅射靶材：金/钯靶产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

【产品详情】PfeifferP3号油可有效改善真空泵性能，适用于离子溅射仪及喷碳仪设备所配备的真空泵，尤其是Agar所有型号的离子溅射仪及喷碳仪的真空泵。【产品参数】技术参数Pfeiffer P320℃蒸汽压/mbar6.6×10-515℃的比重0.8725℃的粘度210 cs40℃的粘度94 cs流动点-15℃闪点264℃极限压力1×10-3mbar产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

离子溅射仪是对透射电镜及扫描电镜及样品进行离子刻蚀和涂复导电层的设备，主要用于对生物、有机物及金属样品溅射一层均匀而致密的金属膜供扫描电镜观察，亦可对各种样品进行离子刻蚀以及对透射电镜支持膜作亲水处理，以获得理想的实验表面。仪器操作简单方便，是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。型号：MSP-10

Quorum 耗材，靶材，载物台等附件Quorum提供了一系列消耗品和备件。溅射靶材Quorum为我们当前的Q系列（S和ES版本）和SC7620溅射镀膜机以及以前使用Emscope，Emitech，Polaron，Bio-Rad，Fisons Instruments和Thermo VG品牌制造的型号提供金属溅射靶材。包括E7400-314A TargetGold 0.2 mm, E7400-31C Target Platinum 0.2 mm, E7400-314IR Target Iridium 0.3 mm, SC500-314A Target Gold 60 mm x 0.1 mm thick, SC500-314E Target Silver 60 mm x 0.1 mm thick, SC502-314A Target Gold 57 mm x 0.1 mm, 更多溅射靶点请咨询大连力迪流体控制技术有限公司碳耗材：碳棒和碳纤维供应品有多种尺寸和纯度可供选择，通常用于将碳蒸发到样品上，用于 X 射线微量分析或透射电子显微镜 （TEM）分析。

溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，较之较早的镀膜方式有多方面的优势相当明显，作为一项已经发展的较为成熟的技术，磁控溅射已经被应用于许多领域，根据客户要求定做各种规格的金属，合金陶瓷等离子溅射的靶材。

为了能更好的对FIB和离子溅射仪的 离子枪的参数进行测试，推出了FIB 和离子溅射仪标样。

山西工地扬尘PM10在线监测系统是一款实时对空气的颗粒物浓度（PM2.5、PM10）、噪声、温度、湿度、风速、风向的在线监测系统。该系统主要应用于：各建筑施工现场、道路的环境、旅游景区、码头、大型广场等现场实时数据的在线监测，通过物联网以及云计算技术，实现了实时、远程、自动监控颗粒物浓度以及现场数据通过网络传输，并能通过摄像头抓拍，所得数据均能通过无线网络及时传递到数据平台便于管控，并通过集中远程数据管理平台、大数据分析、生成质量趋势图，是城市环保、建筑、交通、市政等部门对大气污染控制评价的重要依据。实现动态显示和分析城市扬尘污染的时空变化，与环境管理及城市建设管理相结合，实现统计分析、模型计算、报表分析、规划管理及其他业务处理等的可视化、自动化、网络化管理，具有适用性广、测量速度快、准确性高、可在线实时测量等特点，相当于给工地装上了一个监测“天眼”。监控中心的监测系统对回传数据进行快速处理，对PM2.5、PM10超过预定数值的建筑工地进行实时报警，真正实现了对在建工地的精准监测、精准管理、精准监督。特点：1、人机交互界面，美观大方，信息量大、接线少、数据查看设定操作方便。2、具有扬尘预警、超标提醒、图像抓拍功能。全天候全自动持续不间断工作。3、同时支持RS485、GPRS、wifi等传输方式，可将数据信息传输至指定的环境监测网，实现数据的远程控制和传输 可通过智能手机接收查看当前实时数据，并设定参数 4、系统采用先进的环境监测技术、自动控制和网络信息传输技术，实现噪声自动监测的网络化、自动化和信息化。5、实时的在线扬尘监测，具有手/自动控制降尘治理设备以及声光报警功能，当PM值达到设定上限时自动启动一处或者多处(雾炮)喷淋系统的开启，对现场环境进行雾化喷淋降尘措施，当PM值达到设定下限值时自动关闭喷淋系统。6、支持多种尺寸彩色液晶和LED户外显示屏等实时显示数据。(户外显示屏可根据客户需求定制)预留多组数据接口，可接数据采集设备和大屏显示设备。7、实现数据的存储管理，对监测点的数据图形展示，曲线分析，超限超标报警统计等，为监管部门提供决策依据。8、可根据现场除尘和施工用水要求，实现智能化恒流喷淋以及恒压供水的功能，系统由智能控制器自动控制，操作便捷、智能降尘、节省人工。9、具有短路、过流、过压、过热、过载等多种保护功能，系统运行如有故障，会自动停止工作并报警输出，具有自检，故障判断，故障记忆，故障提示等功能。10、具有手动、自动切换功能，可保证设备在控制系统失灵的情况下安全连续运行。具有分时喷淋功能，用户可根据情况自行设定，定时喷淋。11、具有“互联网+建筑扬尘治理”管理平台，为用户提供实时、有效的扬尘治理数据。

皮秒可调谐光参量产生器（Picosecond Tunable Optical Parametric Generator）LT-2215-OPGLT-2215-OPG是新型的皮秒参量产生器，它是专为扩展Nd:YAG皮秒激光器LS-2151的应用而设计的。LT-2215-OPG内置3次谐波生发器(355 nm)，可提供425-2300 nm的可调谐范围，LS-2151的在3次谐波时也如此。LT-2215-OPG有类型II OPG和内置高功率OPA段，它可通过手动控制(型号LT-2215-OPG)或PC控制(型号LT-2215-OPG-PC)来递送。规格：LT-2215-OPG调谐范围, nm信号波(SW)425-710惰轮波(IW)710-2300抽运辐射交换效率, %抽运辐射交换效率, %1215 Hz, SW10脉冲重复率, Hz15典型线宽δλ, nm1.5偏振SW及IWSW-线性水平, IW-线性垂直TH (355nm)输出, mJ20尺寸长x宽x高, mm630 x 265 x 120

偏振控制器允许转换任何输入偏振到任何所需的输出极化。该设备结合了紧凑的尺寸和易使用的标准体光学系统低成本、低损耗和低背反射。控制器通过施加压力与可调节的夹钳。光纤上的压力会导致内部的双折射纤芯，使光纤充当分数波片。改变压力会改变快慢之间的延迟极化分量。夹具是可旋转的，允许一个改变施加应力的方向。这允许要实现的任何输出极化。这个过程很简单而且快的。输出极化超过 30dB 可以常规在几秒钟内实现。光纤偏振控制器与单模光纤一起工作任何波长。控制器不适用于多模或保偏（PM）光纤。用于多模和保偏光纤筱晓仍然提供其标准系列的偏振旋转器和分析仪（请参阅偏振旋转器/控制器/分析仪数据表）。所有光纤偏振控制器均提供三个版本。这在线偏振控制器可以插入到客户的自己的单模光纤。我们现在提供该装置的微型尺寸外壳，适用于空间至关重要的应用。可以使用与任何波长的单模光纤。在线版本是设计用于仅 250 微米和 400 微米夹套纤维。其次，还提供了适配器版本。这个版本是可用于任何尺寸的电缆或光纤，并且您可以选择连接器。最后，连接器插座式控制器是可用，使用以母头端接的一小段光纤插座。如需更多信息，请联系筱晓。工作波长400-2200nm技术参数产品特点• 无内在损失• 无背反射• 紧凑的尺寸 - 新：微型外壳• 使用方便• 波长不敏感• 低成本• 400–2200 nm 波长范围产品应用• 单模到保偏 (PM) 光纤发射• 偏振相关损耗 (PDL) 测量• 发射到极化敏感设备• 光纤干涉仪• OCT 系统技术参数型号：FPC-100-mini参数指标波长400-2200nm光纤直径250-400um改变方式应力改变实验测试：测试条件波长1300/1550nm温度22℃输入9/125/900输出9/125/900实验测试结果插入损耗＜0.14dB输出功率（mW)N/A重复性Passed耦合效率(%)N/A后向反射(回波损耗）（dB)N/A消光比（dB)37应力测试（dB)N/APDL(dB)N/A

密封装置主要用于在真空腔室上垂直安装圆柱型元器件，安装孔径为19.2mm。主要特点1、可用于高真空腔室，如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪。2、安装孔径可根据用户要求改制。技术参数安装孔径：19.2mm

SBC-12 小型离子溅射仪主要用于扫描电子显微镜样品镀导电膜（金膜），仪器操作简单方便，是配合中 小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。真空检测：皮氏计；真空保护：20Pa配有微量充气阀调节工作真 空；工作室工作媒介气体：空气或氩气，配有氩气专用进气口和微量充气调节。

45° AOI 超快啁啾反射镜具有高反射率和负群延迟色散 (GDD)非常适用于在 45° AOI 时进行散射补偿和光束压缩专为飞秒激光（包括 Ti:sapphire）而设计45° AOI 超快啁啾反射镜专为在光束传播过程中以 45° 入射角对超快光束进行压缩或散射补偿而设计。这些超快反射镜采用已进行优化的多层磁控溅射镀膜，可在 725 到 1000nm 波长范围内提供负群延迟色散 (GDD) 和高反射率。此外，它们采用的激光等级基片具有很高的表面质量，可最大限度减少光散射，同时具有很低的不规则度，因此反射的超快脉冲可以保持其光学功率和强度。45° AOI 超快啁啾反射镜非常适用于在光束传输过程中对飞秒激光（例如 Ti:sapphire）的超快脉冲进行脉冲压缩和散射补偿。若您的应用需要具有自定义角度、尺寸或设计波长的超快啁啾反射镜，请与我们联系。通用规格设计波长 DWL (nm):800入射角 (°):45波长范围 (nm):725 - 1000DWL时的反射 (%) :99.8厚度 (mm):6.35 ±0.2镀膜类型:Dielectric基底:Fused Silica涂层规格:Ravg99.8% @ 725 - 1000nm (P-Polarization)GDD Specification:-70fs2@ 725 - 1000nm (P-Polarization)有效孔径 (%):80后表面:Commercial Polish涂层:Ultrafast Chirped (725-1000nm)表面质量:10-5Irregularity (P-V) @ 632.8nm:λ/10典型应用:Pulse Compression @ 45° of Ti:sapphire Ultrafast LasersWedge (arcmin):产品信息Dia. (mm)产品编码12.70#12-42025.40#12-421技术数据

美国 Chroma滤光片Chroma专门从事高精度光学镀膜，致力于生产精确波谱控制，高信噪比，陡斜率的滤光片，波谱范围从紫外到近红外包括带通，多波段带通，长通，短通，陷波，二向色镜等。目前是Nikon, Zeiss, Leica和Olympus的主要供货商，同时也是许多其他生物类仪器，医疗仪器，药物研究，机器视觉，天文和激光类仪器厂家的供货商。滤光片分类1）激发滤光片 (Excitation Filter)2）发射滤光片 (EmissionFilter)3）二向色镜 (DichroicMirror)应用1、荧光应用Chroma磁控溅射镀膜滤光片具有高透过高阻挡，零漂移的特点。能够得到准确真实的图像。磁控溅射镀膜 VS 软镀膜Chroma FISH滤光片根据不同染料谱图进行优化，实现最佳的对比度这度，颜色区分和图像配准。2、激光应用Chroma用于TIRF的UltraFlat™ 向色镜(厚度≥2mm)，结合Chroma专利产品TIRF滤块盒，能够保证产生理想的渐逝场，不会激发渐逝场外之外的荧光分子。Chroma的UltraFlat™ 二向色镜能够最小化激光经反射后产生的波前扭曲。3、拉曼应用 RET532/4x (EX) 、RT532rdc (BS)、RET537lp (EM)● 窄带激发片● 斜率更陡的二向色镜● 斜率更陡的长通发射滤光● 低波数Raman信号检测(110-170 cm~1) UV, 488 nm, 532 nm, 785 nm等激光。4、机器视觉● 磁控溅射镀膜● 高透过(≥95%)● 高阻当(OD6)● 陡斜率● 尺寸：2-200 mm 圆形，方形及不规则尺寸 ● 波谱范围 (200-3500mm)● 接受客户定制

产品简介：密封装置主要用于在真空腔室上垂直安装圆柱型元器件，安装孔径为19.2mm。产品型号　密封装置主要特点 1、可用于高真空腔室，如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪。 2、安装孔径可根据用户要求改制。技术参数　安装孔径：19.2mm

产品说明：该离子溅射镀膜机是对透射电镜及扫描电镜及样品进行离子刻蚀和涂复导电层的设备，主要用于对生物、有机物及金属样品溅射一层均匀而致密的金属膜供扫描电镜观察，亦可对各种样品进行离子刻蚀以及对透射电镜支持膜作亲水处理，以获得理想的实验表面。仪器操作简单方便，是配合中小型扫描电子显微镜制样必备的仪器。真空保护：20Pa配有微量充气阀调节工作真空工作室工作媒介气体：空气或氩气，配有氩气专用进气口和微量充气调节

HR直角回射器材质UVFS尺寸公差+0.0/-0.2 mm通光孔径80%90度角公差±30 arcsec塔差表面质量20-10 S-D表面平整度保护性倒角超短脉冲背反射任务需要群延时管理。由于这个原因，普通的后向反射棱镜是不适用的，因为它引入了相当大的群延迟色散，使脉冲的时间形状失真。直角后向反射镜的空心结构，由两个HR涂层反射镜组成，总反射率高于99.6％。此外，HR涂层的群延迟色散（GDD）优化为1）空心配置2）反射率 99.6％每表面3） 镜子沉积在UVFS基材上4） 可忽略的脉冲分散Altechna在标准，定制或客户提供的光学器件上提供各种高性能光学镀膜。我们的涂料覆盖从深紫外（193纳米）到远红外（25微米）的波长范围，涂层的zui大部分是在波长范围内最常见的266纳米到2微米的激光和照明光源。我们根据个人要求提供一套标准和定制涂料：?防反射涂层?高反射涂层?分束器涂层?部分反射涂层?偏光片涂层?过滤涂料?超快GDD补偿涂层?Gires-Tournois干涉镜（GTI）?可变反射镜?金属涂层在Altechna，我们的目标是以zui高的标准为不断增长的光子市场提供高损伤阈值，高质量涂层。每个涂层都是特殊的，多年来在光电领域，我们了解到灵活性是满足客户高要求的关键，因此我们的涂层采用不同的技术，分别选择不同的涂层。这里是我们在Altechna提供的涂层技术列表：?电子束蒸发?离子辅助沉积?离子束溅射?磁控溅射每种技术都是不同的，并根据光谱灵敏度，损伤阈值，硬度，表面质量等的要求使用。电子束蒸发离子辅助沉积离子束溅射磁控管溅射沉积速率10 ?/sec~10 ?/sec~3 ?/sec1-6 ?/sec每次涂布面积3000 cm23000 cm2500 cm22000 cm2导热系数LowMediumHighHigh涂层温度范围200 - 300°C20 - 100°C20 - 150°C20-100°C层数1-50~50200Up to 200密度和孔隙度PorousDenseNear bulkNear bulk粘连/耐久性LowGoodExcellentExcellent湿度敏感性YesYes, smallNoNo老化影响YesYes, smallNoNo内在应力~ 100MPaFew 100MPaFew 100 MPaAOI, deg半孔径尺寸，毫米设计波长，nmGDD, fs^2材质反射Rs / Rp / Ravg，％产品ID4524 x 19343-355UVFS99,7 /99 /99,41-HRR-2-4020-[1B145]4524 x 191520 - 1580UVFS99,7 /99,2 /99,41-HRR-2-4020-[1V145]4524 x 19515 - 532UVFS99,7 /99,3 /99,51-HRR-2-4020-[1E145]4524 x 19380 - 420UVFS99,5 /98 /991-HRR-2-4020-[1C145]4524 x 19760 - 840UVFS99,7 /99,2 /99,41-HRR-2-4020-[1K145]4524 x 191020 - 1090UVFS99,7 /99,3 /99,51-HRR-2-4020-[1R145]定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用，请与我们联系，以便定制解决方案。

双AR涂层窗口片(DAR)直径公差+0/-0.1 mm厚度公差±0.1 mm通光孔径90%表面质量20-10 S-D表面厚度保护性倒角测量反射率RRavg涂层附着力和耐用性Per MIL-C-675A激光损伤阈值报告www.altechna.com/lidt通常这些涂层用于多频激光输出系统（例如倍频）。该涂层在两个不同的波长下提供非常高的透射率。下面显示了适用于1064nm和532nm输出的普通激光系统的AR涂层的典型波长和反射曲线。离子束溅射（IBS）或电子束蒸发（带/不带离子辅助涂层技术）提供涂层。这些涂料被设计用于增加广谱的透射率Altechna计量实验室应用以下产品检验：目视检查 - 根据MIL 13830和ISO 10110标准进行表面质量评估尺寸 - 测量几何尺寸，如直径，厚度等透射率（分光光度计，激光）*反射（分光光度计，激光）平坦度（干涉仪）波前畸变（干涉仪）平行度（测角仪，干涉仪）*（...）使用的设备Altechna在标准，定制或客户提供的光学器件上提供各种高性能光学镀膜。我们的涂料覆盖从深紫外（193纳米）到远红外（25微米）的波长范围，涂层的zui大部分是在波长范围内最常见的266纳米到2微米的激光和照明光源。我们根据个人要求提供一套标准和定制涂料：?防反射涂层?高反射涂层?分束器涂层?部分反射涂层?偏光片涂层?过滤涂料?超快GDD补偿涂层?Gires-Tournois干涉镜（GTI）?可变反射镜?金属涂层在Altechna，我们的目标是以zui高的标准为不断增长的光子市场提供高损伤阈值，高质量涂层。每个涂层都是特殊的，多年来在光电领域，我们了解到灵活性是满足客户高要求的关键，因此我们的涂层采用不同的技术，分别选择不同的涂层。这里是我们在Altechna提供的涂层技术列表：?电子束蒸发?离子辅助沉积?离子束溅射?磁控溅射每种技术都是不同的，并根据光谱灵敏度，损伤阈值，硬度，表面质量等的要求使用。电子束蒸发离子辅助沉积离子束溅射磁控管溅射沉积速率10 ?/sec~10 ?/sec~3 ?/sec1-6 ?/sec每次涂布面积3000 cm23000 cm2500 cm22000 cm2导热系数LowMediumHighHigh涂层温度范围200 - 300°C20 - 100°C20 - 150°C20-100°C层数1-50~50200Up to 200密度和孔隙度PorousDenseNear bulkNear bulk粘连/耐久性LowGoodExcellentExcellent湿度敏感性YesYes, smallNoNo老化影响YesYes, smallNoNo内在应力~ 100MPaFew 100MPaFew 100 MPa定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用，请与我们联系，以便定制解决方案。

产品简介：不锈钢弯头共2个接口，两接口为90°垂直且共面分布，主要用于连接真空腔室与相关配件。产品型号　不锈钢弯头主要特点 1、可用于高真空腔室，如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪。 2、接口可根据用户要求改制。技术参数　接口：2个KF40 接口

微流控芯片光刻机系统配件专业为微流控芯片制作而设计，用于刻画制作微结构表面。微流控芯片光刻机采用多功能一体化设计理念，一台光刻机具有六个传统单一的表面刻划机器的功能，而且不需要无尘环境，用户安装使用不再需要单独建设超净间，从而大大提高用户的使用经济性和方便性。微流控芯片光刻机全自动化和可编程操作，适合几乎所有常用材料，可以根据用户的芯片衬底基片尺寸，形状和厚度进行调节。微流控芯片光刻机是一种无掩模光刻系统，具有两个易操作的软件，用户可以创建个人微结构图案，从单个微通道到复杂的微观结构都可以创建。微流控芯片光刻机具有技术突破性设计和灵活性优势，非常适合加工微纳结构用于MEMS，BioMEMS，微流控系统，传感器，光学元件，MicroPatterning微图案化，实验室单芯片，CMOS传感器和所有其他需要微结构的应用。这款无掩模光刻系统可以快速而轻松地做出许多种微图案结构，从最简单到非常复杂的都可以。它的写入磁头装备有一个激光二极管（波长405纳米- 50毫瓦），光学扫描器和F-θ透镜（405纳米）。激光束根据设定微结构图案而运动。为了方便使用，较好的再现性和较高的质量，焦距是可以根据基片厚度进行调节的。图像采集期间可以使用控制面板调节焦距。几个基片厚度都可以使用。编程参数被保存以供以后使用，修改或其他用户使用。编号名称MSUP基于无掩模光刻系统和湿法刻蚀技术的微结构化表面的单位生产。

不锈钢弯头共2个接口，两接口为90°垂直且共面分布，主要用于连接真空腔室与相关配件。主要特点1、可用于高真空腔室，如磁控溅射仪、蒸发镀膜仪。2、接口可根据用户要求改制。技术参数接口：2个KF40 接口

这些德国制造的PVD高纯溅射靶材是全球领先的超高纯度PVD镀膜材料，完全在德国生产，拥有世界一流的产品性能，非常适合PVD溅射靶材和PVD镀膜使用。PVD溅射靶材具有全球最为齐全的种类。Tribological Coatings and FilmsDescription:Targets for the components and tools in mechanical engineering and instrumentation.Example:Cr 99.95% WC 99.5%.Precision OpticsDescription:Targets for lasers, lightings and filters.Example:Ta 99.95%.Transparent Conductive Oxide (TCO) TargetsDescription:ITO, ZnO, SnO2 and ZnO: Al based targets for the photovoltaic, low E-glass and flat panel display industries.Example:ZnO 99.9% (TCO)Reflective MaterialsDescription:Reflective targets for solar applications.Example:Aluminum 6061.Thin Film Battery TargetsDescription:Lithium based targets for solid-state rechargeable batteries.Example:LiCoO2 99.9%Semiconductor TargetsDescription:High k-dielectric, Hafnium, Tantalum and Barium Titanate based targets for thin film capacitors.Example:Barium Titanate 99.9%.Storage MediaDescription:High density Ru targets for perpendicular storageCustom TargetsDescription:Compositions and shapes tailored for your needs.Materials ListingAAg99.99Al99.99 99.999AlN99.9Al2O399.99Al/Cu99.99 99.999Al/Si99.99 99.999Al/Si/Cu99.99 99.999Au99.99 99.999BBaFe12O1999.9BaF299.9BaMnO399.9(Ba,Sr)TiO399.9BaTa2O699.9BaTiO399.9BaZrO399.9Bi99.9 99.999Bi2O399.99Ba4Ti3O1299.9BN99.9CCa99CaF299.95CaTiO399.9CdTe99.995Ce99.9CeO299.9 99.99Cr99.9 99.95 99.99Cr2O399.8CrSiO299.5Co99.95CoO99.5Cu99.997Cu/Ga70/30at.%99.99CuO99.9DDyFeO399.9Dy2O399.9EEr2O399.9FFe99.95Fe2O399.9GGd2O399.9GaN99.99Ge99.999HHfO299.95I-KIn99.99 99.999In2O399.99In2O3/SnO290/10wt%99.99In/Sn99.99Ir99.8 99.9LLa99.9LaAlO399.9LiCoO299.9LiNbO399.9Li3PO499.9MMg99.98MgAl2O499.9MgB299.5MgFe2O499.9MgF299.9MgO99.95Mn99.9Mo99.9 99.95MoS299N-ONd99.9Nd2O399.9Ni99.95 99.98 99.99Ni/Cr99.95Ni/Cr/B99.95Ni/Cr/Si99.95Ni/Fe99.95Ni/V99.9Nb99.95Nb2O599.9P-QPb99.999Pb(Zr,Ti)O399.9Pd99.95Pt99.9 99.99Pr99.9Pr2O399.9RRe99.9Rh99.8Ru99.9RuO299.9SSe99.999Si99.999SiC99.5Si3N499.9SiO99.9SiO299.99Si/Cr99.99Sn99.99SrFe12O1999.9SrRuO399.9SrTiO399.9 99.99T-UTaC99.5Ti99.95 99.995TiB299.5TiC99.5TiN99.5TiO99.9TiO299.9TiSi299.5Ti/Al99.9TiW99,95 99,995VV99.7 99.9VC99.5VN99.5V2O599.9W-XW99.95WC99.5W/Ti99.95YYb2O399.9Y2O399.99ZZn99.99ZnO/Al2O3,98/2wt.%99.9 99.99 99.999ZnO99.9 99.99 99.999ZnS99.99ZnSn99.9Zn/Al99.99Zr99.2ZrB299.9ZrO2+3,8,or10mol.%Y2O399.9

Gateway™ 6次反射ATR系统特点：高级6次反射ATR系统可替换的ZnSe, Ge及Si晶体高光通量可清洗一系列可更换顶板Benchmark™ 底座系统Gateway™ ATR 系统Specac公司Gateway™ ATR系统是一款经济的多反射水平ATR附件。高性能的光学设计，防反射ZnSe包裹晶体设计保证了极高的通量及样品灵敏度。坚固的设计、简单的光路系统确保Specac公司的Benchmark™ 底座系统可匹配任何型号的仪器。标准的双重顶板设计提供最丰富的配件选择，额外的功能展现了样品处理灵活性及系统的可升级能力。对于需升温至200°C的样品，可提供电加热的45度角ZnSe晶体顶板及温度控制器P/N GS11155。流通池顶板P/N GS11166的开放式设计易于液体样品均匀的进样。应用?水溶液?粘稠/稀液体?膏体及凝胶?高分子膜?精细粉末?QC检测?温度敏感样品?反应动力学?教育Gateway™ ATR顶板附件订购信息GS11165 Gateway™ ATR系统包括光学元件、Benchmark底座、ZnSe流通型/平顶板、样品夹及清洗波纹管。其它选项GS11132防挥发罩GS28000 RS232连接包GS28001 USB连接包GS28002 RS485连接包配件和耗材S10707清洗波纹管深度可达到样品室内的Benchmark ATR光通路。GS11129 GS11130、GS11139及GS11155顶板的垫片替换包GS11167流通型顶板GS 11166的全氟醚橡胶垫片GS11152流通型顶板硅管GS11133 ZnSe平顶板GS11145顶板的ZnSe晶体替换件(平顶板S11133除外)GS11146顶板的Si晶体替换件(平顶板GS11133除外)GS11147顶板的Ge晶体替换件(平顶板GS11133除外)GS11150 550ml顶板用全氟醚橡胶垫片GS11166流通型顶板用全氟醚橡胶垫片GS11170 Gateway™ 光学元件GS11171样品夹(其他晶体材料请咨询)顶板选择：GS11133 用于固体或薄膜的平顶板多种晶体可选GS11166 用于液体或胶体的流通型顶板晶体可更换 多种晶体可选GS11116流通型顶板压力可控容积550μl晶体可更换多种晶体可选反应可监控GS11118热稳定性顶板反应动力学容积550μl可加热至90°C晶体可更换不锈钢顶板，全氟醚橡胶隔板GS11139水浴流通型顶板可加热至90°C热循环溶液控温GS11155电加热流通型顶板电加热控温器可加热至200°C(220V/110V)