全息纳米光刻图案化平台

HOLITH界面光刻技术----“纳米压印友好伴侣” HOLITH界面光刻装置使用两束干涉激光在光界面上形成周 期性光栅和点/孔图案。 HOLITH纳米成像系统具有新型力 学，光学和电学设计，可在200nm-2μm的周期性范围内于4 英寸晶片上做出纳米结构图案，图案最小形貌可低50nm。 最先进的HOLITH专利技术可使用户仅通过简单的鼠标点击操 作便能作出100nm以下尺寸的高品质高均一性线性光栅和 2D/3D图像。在HOLITH界面光刻装置中无需使用遮罩和模 具。 优势： 无遮罩过程：低成本、多功能、可伸缩 计算机系程序自动化光学结构和排列控制 简单操作，无需光学培训 相比遮罩定位器系统成本更低 200nm范围内具有高分辨率 最低特征尺寸小于50nm 无需遮罩及模具 可以制作大面积2D/3D纳米压印模具（4/6英寸） 可以操作不平整晶片 周期精度：+-2.5% All-fiber-optic setup replacing free- space optical components Special optical fiber delivers light from laser Fiber-optic beam splitter splits the laser beam into two coherent beams Output port of the fiber performs spatial filtering Close-loop feedback control stabilizing interference pattern 低成本、不受环境因素干扰，使自动化成为可能：自由改变入射角度调整模式周期。 Holith 纳米图案化结构 应用：能源 太阳能电池抗反射结构 太阳能电池光子操纵 LEDs灯管中的光提取 图案化蓝宝石基板(PSS) 光学器件 1-D和2-D光栅光谱 大范围等离子体结构 光子晶体 超颖表面 高对比度光栅过滤器和反射器 亚波长和衍射光学器件计量光栅结构化的颜色材 料 超疏水/亲水表面 诱导自组装 表面增强拉曼荧光 生物医学传感器纳米装配纳米压印磨具装配先进纳米装配过程开发

纳米压印光刻（NIL）EVG是纳米压印光刻（NIL）设备和集成工艺的市场领先供应商。 EVG从15年前的研究方法中率先并掌握了NIL，并实现了从2英寸化合物半导体晶圆到300 mm晶圆甚至大面积面板的各种尺寸基板的批量生产。 NIL是产生纳米尺度分辨率图案的最有前途且最具成本效益的工艺，可用于生物MEMS，微流体，电子学以及最近各种衍射光学元件的各种商业应用。 UV-NIL /SmartNIL系统EV Group为基于紫外线的纳米压印光刻（UV-NIL）提供完整的产品线，包括不同的单步压印系统，大面积压印机以及用于高效母版制作的分步重复系统。EV Group为基于紫外线的纳米压印光刻（UV-NIL）提供完整的产品线，包括不同的单步压印系统，大面积压印机以及用于高效母版制作的分步重复系统。除了柔软的UV-NIL，EVG还提供其专有的SmartNIL技术以及多种用途的聚合物印模技术。高效，强大的SmartNIL工艺可提供高图案保真度，高度均匀的图案层和最少的残留层，并具有易于调整的晶圆尺寸和产量。 EVG的SmartNIL兑现了纳米压印的长期承诺，即纳米压印是一种用于大规模生产微米和纳米级结构的高性能，低成本和具有批量生产能力的技术。选择您的UV-NIL /SmartNIL系统 EVG610 UV-纳米压印光刻系统具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从小件到最大150毫米 EVG620NT SmartNILUV纳米压印光刻系统具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统，采用EVG专有的SmartNIL技术，最大可达100 mm EVG6200NT SmartNILUV纳米压印光刻系统具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统，采用EVG专有的SmartNIL技术（最大150毫米）。 EVG720 自动化的SmartNILUV纳米压印系统具有EVG专有的SmartNIL技术的自动全场UV纳米压印解决方案最大可达150毫米。 EVG7200 自动化SmartNILUV纳米压印光刻系统具有EVG专有的SmartNIL技术的自动全场UV纳米压印解决方案最大200毫米 EVG7200LA 自动化的大面积SmartNILUV纳米压印光刻系统大面积无与伦比的共形纳米压印光刻技术。 HERCULESNIL 完全集成的SmartNILUV-NIL系统完全集成的纳米压印光刻解决方案，用于大规模生产，具有EVG专有的SmartNIL压印技术。 EVG770 分步重复纳米压印光刻系统分步重复纳米压印光刻技术，可实现高效的母版制作。 IQAligner 自动化紫外线纳米压印光刻系统高精度UV压印系统，用于晶圆级透镜成型和堆叠。热压花系统EVGroup的一系列高精度热压花系统基于该公司市场领先的晶圆键合技术。热压印是一种具有很高复制精度的经济高效且灵活的制造技术。EV Group的一系列高精度热压花系统基于该公司市场领先的晶圆键合技术。 出色的压力和温度控制以及大面积的均匀性可实现高精度的压印。 热压印是一种经济高效且灵活的制造技术，对于尺寸低至50 nm的特征，其复制精度非常高。 该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高纵横比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。 压模与基板对齐的组合可将热压纹与预处理的基板结构对齐。 EVG510HE 热压花系统高度灵活的热压花系统，用于研发和小批量生产。 EVG520HE 热压花系统经过通用生产验证的热压花系统可以满足最高要求。

n 荷兰SCIL公司简介 荷兰SCIL公司是全球知名的纳米压印设备供应商，是荷兰飞利浦公司投资的高科技公司之一，并与SUSS，Fraunhofer，AMO，AMOLF合作，共同开发了专利的“SCIL基底保形压印”技术，真正意义上实现了纳米压印技术的工业wafer级量产，已经被国际上很多知名fab厂采用。 “SCIL基底保形压印光刻”是一种经济高效、稳健、高产量的工艺，可在多种材料上实现纳米分辨率图案。SCIL可实现在达 300 毫米的晶圆区域上提供经过验证的高质量压印。它可用于制作特征尺寸小于 10 nm 和套刻对齐精度小于 1 μm 的图案。 荷兰SCIL公司同时开发了专利的无机玻璃纳米压印光刻胶，可直接作为功能层使用，可直接省去2个工艺步骤，大大降低了生产成本。 荷兰SCIL公司目前可提供2” 至 12”晶圆手动研发工具到全自动系统的全方位解决方案，并可以帮助客户优化设备、耗材和流程，以实现大批量生产。 n SCIL 技术特色 即使在非平坦和弯曲的表面上也可以保证保形接触印刷（专利的模板复制技术）。独特的 SCIL 压印工艺可确保＜10 nm 分辨率、低图案变形和无颗粒损坏印模。套刻对齐精度： 1 μmSol-gel的优异蚀刻特性可得到极高的蚀刻率。Sol-gel的的热稳定性、光学透明度和（UV）稳定性使其适合作为功能层。使用热Sol-gel大大增加了母版寿命。总体而言，SCIL可将最高的压印质量和产量与高吞吐量和低总体拥有成本相结合。 n FabSCIL全自动产线纳米压印系统简介 FabSCIL全自动纳米压印系统集成了两套压印单元，可用于两种不同结构的纳米压印，尺寸为 200 和 300 毫米晶圆，并具有自动模具装载和定位功能。它旨在与负责晶圆处理、对准、旋涂、烘烤、冷却和其他工艺制程。 n 应用纳米图案化是众多纳米光子应用的关键工艺步骤。下面提到的应用程序只是一个选择。其他应用包括：增强现实和虚拟现实 (AR/VR) 光学MicroLEDMEMS和传感器

n 荷兰SCIL公司简介 荷兰SCIL公司是全球知名的纳米压印设备供应商，是荷兰飞利浦公司投资的高科技公司之一，并与SUSS，Fraunhofer，AMO，AMOLF合作，共同开发了专利的“SCIL基底保形压印”技术，真正意义上实现了纳米压印技术的工业wafer级量产，已经被国际上很多知名fab厂采用。 “SCIL基底保形压印光刻”是一种经济高效、稳健、高产量的工艺，可在多种材料上实现纳米分辨率图案。SCIL可实现在达 300 毫米的晶圆区域上提供经过验证的高质量压印。它可用于制作特征尺寸小于 10 nm 和套刻对齐精度小于1 μm 的图案。 荷兰SCIL公司同时开发了专利的无机玻璃纳米压印光刻胶，可直接作为功能层使用，可直接省去2个工艺步骤，大大降低了生产成本。 SCIL 目前可提供2” 至 12”晶圆手动研发工具到全自动系统的全方位解决方案，并可以帮助客户优化设备、耗材和流程，以实现大批量生产。n SCIL 技术特色 - 即使在非平坦和弯曲的表面上也可以保证保形接触印刷（专利的模板复制技术）。 - 独特的 SCIL 压印工艺可确保＜10 nm 分辨率、低图案变形和无颗粒损坏印模。 - 套刻对齐精度： 1 μm - -gel的优异蚀刻特性可得到极高的蚀刻率。 - Sol-gel的的热稳定性、光学透明度和（UV）稳定性使其适合作为功能层。 - 使用热Sol-gel大大增加了母版寿命。 - 总体而言，SCIL可将最高的压印质量和产量与高吞吐量和低总体拥有成本相结合。 n AutoSCIL型全自动纳米压印系统简介 AutoSCIL型全自动纳米压印系统包括所有基本工艺步骤：晶片处理、预对准、旋涂、SCIL 压印、烘烤和冷却。 n 技术参数 产能30 - 60 wafers/小时（取决于wafer尺寸，材料，pattern尺寸等因素）晶圆尺寸2” up to 8” (or 200 mm)Wafer thickness0.3 - 2.5 mm晶圆搬运Cassette-to-cassette,带robot光刻胶类型Thermal sol-gelUV sol-gelUV organic光刻胶涂层集成了旋涂仪压印技术低力软模基底保形纳米压印技术后处理烘烤与冷却尺寸(WxLxH)1.9 x 1.6 x 2.2 m套刻精度 1μm n 应用 纳米图案化是众多纳米光子应用的关键工艺步骤。下面提到的应用程序只是一个选择。其他应用包括： - 增强现实和虚拟现实 (AR/VR) 光学 - MicroLED - MEMS和传感器

n 荷兰SCIL公司简介 荷兰SCIL公司是全球知名的纳米压印设备供应商，是荷兰飞利浦公司投资的高科技公司之一，并与SUSS，Fraunhofer，AMO，AMOLF合作，开发了专利的“SCIL基底保形压印”技术，真正意义上实现了纳米压印技术的工业wafer级量产，已经被国际上很多知名fab厂采用。 “SCIL基底保形压印光刻”是一种经济高效、稳健、高产量的工艺，可在多种材料上实现纳米分辨率图案。SCIL可实现在达 300 毫米的晶圆区域上提供经过验证的高质量压印。它可用于制作特征尺寸小于 10 nm 和套刻对齐精度小于 1 μm 的图案。 荷兰SCIL公司同时开发了专利的无机玻璃纳米压印光刻胶，可直接作为功能层使用，可直接省去2个工艺步骤，大大降低了生产成本。 SCIL 目前可提供2” 至 12”晶圆手动研发工具到全自动系统的全方位解决方案，并可以帮助客户优化设备、耗材和流程，以实现大批量生产。n SCIL 技术特色 - 即使在非平坦和弯曲的表面上也可以保证保形接触印刷（专利的模板复制技术）。 - 独特的 SCIL 压印工艺可确保＜10 nm 分辨率、低图案变形和无颗粒损坏印模。 - 套刻对齐精度： 1 μm - Sol-gel的优异蚀刻特性可得到极高的蚀刻率。 - Sol-gel的的热稳定性、光学透明度和（UV）稳定性使其适合作为功能层。 - 使用热Sol-gel大大增加了母版寿命。 - 总体而言，SCIL可将最高的压印质量和产量与高吞吐量和低总体拥有成本相结合。 n LabSCIL型科研级纳米压印系统简介 LabSCIL专为有兴趣开发 SCIL 流程和应用程序的大学、研究所和公司的研发实验室开发，对于对可用于小批量试生产的工具感兴趣的公司，LabSCIL将是理想的选择。 n 技术参数 操作手动放片，纳米压印是全自动的晶圆尺寸最大8”，向下兼容晶圆厚度0.3 - 2.5 mm晶圆搬运托盘手动加载光刻胶类型Thermal sol-gelUV sol-gelUV organic压印技术低力软模基底保形纳米压印尺寸(WxLxH)1.8 x 1.4 x 2.2 m套刻精度 1μm n 应用 纳米图案化是众多纳米光子应用的关键工艺步骤。下面提到的应用程序只是一个选择。其他应用包括： - 增强现实和虚拟现实 (AR/VR) 光学 - MicroLED - MEMS和3D传感

DALI是由Aresis、CENN Nano center 和 LPKF 联合研发的高精度无掩膜纳米光刻机，是一款性能稳定，操作简单，对环境要求低，界面友好，零维护的桌面型高精度激光直写设备。其采用的是AOD声光调制器来控制激光进行高精度光刻，可以实现优于80nm平滑的边缘结构，100-150nm最小结构间距，最高400nm套刻精度，是实验室级微纳加工与器件制作不二选择。DALI凭借优异的性能，目前已广泛应用到微电子、微器件、纳米光学、材料科学、自旋电子学等研究领域。先进的AOD技术，定位分辨率优于0.1nmA. 可以获得任意平滑、锐利的结构边缘B. 可高分辨调整特征结构间的距离C. 可以实现亚微米级精细结构的构建主要特点：# 最小特征结构小于1μm# 针对I-line光刻胶进行优化（SU-8，AZ，……）# 超快与超高精度定位，光斑定位分辨率＜1nm# 可构建高深宽比结构（可达10:1）# 12nm-1μm光斑间距调节以获得超高平滑度# 100-150nm最小结构间距# 最高400nm套刻精度# 适用于从CAD设计到各种结构的快捷构建# 具备非平表面直写能力产品优势1. 超稳定，长寿命375nm激光器相对于其它各种光源，在精密光学仪器应用中，激光光源在光束质量，稳定性，耐用性等方面具有无与伦比的优越性。DaLI无掩膜纳米光刻机采用最优的激光光源，以保证超一流的性能和用户体验。2. 广泛的适应性DaLI无掩膜纳米光刻机广泛适用于各种I-line光刻胶，AZ系列正胶，SU-8系列负胶等，在各种厚胶与薄胶应用中有着出色的表现。3. 非平表面直写功能4. 整机恒温系统，保证最佳的性能DaLI无掩膜纳米光刻机采用了超越光刻技术极限的亚纳米级AOD激光操控技术，光斑定位精度可达0.1nm。为充分发挥AOD技术的优势，我们建立了整机恒温系统，控温精度可达±0.1℃，将设备所有部件和温差形变和热漂移降到最低，从而实现真正的高精度光刻。5. 准确的图形结构6. 工作范围与曝光拼接大光斑直写工具单个工作区域 为 900μm X 900μm；小光斑直写工具单个工作区域为 300μm X 300μm工作区域100mm X 100mm 工作区域间的平滑过渡机制（软拼接与硬拼接）；DaLI的软拼接可以将曝光扫描线延伸到临近区域，并梯度降低激光强度（红线）。在临近区域，激光强度梯度增加（蓝线），从而获得干净均一的拼接图案7. 用户友好的操作软件DaLI控制软件通过USB接口与设备快速通讯，可以对设计图中的区块和每一个微结构的曝光参数进行设置，对图形设计的预览和快速栅格化，对样品的观察、准直、调平等。该软件具备图形设计和展示功能，可选用多种绘图工具，支持对 dxf, gerber, bm 等格式文件的导入与修改。8. 更好的深宽比

百及纳米ParcanNano 探针电子束光刻机P-SPL21 简介： 公司以全球首家专利的针尖技术为核心竞争力，技术源自于德国伊尔默瑙工业大学，致力于主动式针尖技术在微纳米结构制备和表征方面的研发，及其相关设备的产业化。 公司研制一套基于扫描针尖低能电子场发射的原理、采用压阻式微纳米针尖和多维纳米定位与测量技术、在半导体器件材料表面制造尺寸小于5纳米线宽结构的高性能微纳加工系统。可在大气环境下，高经济效益、快速直写5纳米以下结构和制备纳米级器件。该系统的闭环回路可实现使用同一扫描探针对纳米结构的成像、定位、检测和操纵。 技术特点：。场发射低能电子束。大幅降低电子束背底散射。几乎消除电子束临近效应。光刻5纳米以下单线宽结构。光刻结构间距小于2纳米。接近原子级分辨的套刻精度。线写速度高达 300 μm/s。大气环境下可实现正负光刻。正光刻流程无需显影步骤。无需调制电子束聚光。大范围分步重复工艺。Mix & Match 混合光刻模式。针尖曝光与结构成像实时进行。真空原位观测光刻图案 功能指标

NX-2600整片基板带对准可多层次纳米压印加高分辨率光刻系统经过了大量的实时实地验证，质量可靠，性能优越稳定。具备全部压印模式：热固化、紫外固化和压印。基于独特专利保护的Nanonex气垫软压技术（ACP），不论模版或基板背面粗糙程度如何，或是模版或基板表面波浪和弧形结构，NX-2600均可对其校正补偿从而获得无与伦比的压印均匀性， ACP消除了基板与模版之间侧向偏移，有效地延长了模版使用寿命。通过微小热容设计可获得快速的热压印周期，最终得到快速的工艺循环。 主要特点：所有形式的纳米压印l 热塑化l 紫外固化l 热压与紫外压印同时进行l 热固化 气垫软压技术(ACP)l Nanonex专利技术l 完美的整片基板纳米压印均匀性l 高通量 低于10nm分辨率 亚1微米正面对准精度 背面对准可选项 快速工艺循环时间（小于60秒） 灵活性l 4″, 6″, or 8″压印面积可选l 各种尺寸及不规则形状模板与基板均可压印l 方便用户操作 基于超过12年、15代产品开发经验的自动化压印操作 Nanonex压印系统经过大量实时实地验证，质量可靠，性能优越稳定 全自动纳米压印 纳米压印系统参数 热塑压印模块 l 温度范围0～250℃l 加热速度300℃/分钟 l 制冷速度150℃/分钟 l 压力范围0 ～ 3.8 MPa（550 psi） 紫外固化模块 l 200W窄带紫外光源 l 365纳米或395纳米波长可选 l 全自动化控制 对准模块 l X, Y, Z, Theta平台 l 分场光学和CCD相机 基板装载 l 标配纳米压印系统可装载4″基板 l 6″和8″基板可选 l 各种尺寸及不规则形状模板及基板均可压印 l 独特专利保护ACP技术可最大限度保护基板和模板，特别对于象磷化铟（InP）等极易碎模板和基板给予最大限度保护。 光刻 l 标配5”模板，标配4”直径基板 l 其他尺寸可以提供 l 500瓦紫外水银灯光源 应用领域：纳米电子和光电子、显示器、数据存储介质、先进材料、生物科技、纳米流道等

请选择合适的型号NX-B100多功能整片基板纳米压印系统（热压印）zui大75毫米直径压印面积 热压印加热速度200℃/分钟 制冷速度60℃/分钟NX-B200多功能整片基板纳米压印系统（热压印和紫外压印）zui大75毫米直径压印面积 热压印和紫外压印加热速度200℃/分钟 制冷速度60℃/分钟58mW/cm2紫外LED光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制NX-1000多功能整片基板纳米压印系统（热压印）标配4英寸,6或8英寸压印面积可选 热压印 加热速度300℃/分钟 制冷速度150℃/分钟NX-2000多功能整片基板纳米压印系统（热压印和紫外压印）标配4英寸,6或8英寸压印面积可选 热压印和紫外压印加热速度300℃/分钟 制冷速度150℃/分钟200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制NX-2500多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印系统标配4英寸,6或8英寸压印面积可选热压印和紫外压印加热速度300℃/分钟 制冷速度150℃/分钟200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制带对准功能（亚1微米对准精度） 多层次的纳米压印对准模块 1μm 3σ对准准确率 X, Y, Z, Theta平台分场光学和CCD相机NX-2600多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印和高分辨率光刻系统可选背面对准标配4英寸,6或8英寸压印面积可选热压印和紫外压印加热速度300℃/分钟 制冷速度150℃/分钟200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制带对准功能（亚1微米对准精度） 多层次的纳米压印对准模块 1μm 3σ对准准确率 X, Y, Z, Theta平台分场光学和CCD相机标配5”模板,标配4”直径基板 ? 其他尺寸可以提供500瓦紫外水银灯光源

EVG620 NTSmart NIL UV Nanoimprint Lithography SystemEVG620NT SmartNILUV纳米压印光刻系统 具有UV纳米压印功能的通用掩模对准系统，采用EVG专有的SmartNIL技术，最大可达100 mm 技术数据EVG620 NT以其灵活性和可靠性而著称，以最小的占位面积提供了最新的掩模对准技术。操作员友好型软件，最短的掩模和模具更换时间以及有效的全球服务支持使它们成为任何研发环境（半自动批量生产）的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，以及背面对准选项。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对齐和纳米压印光刻。此外，半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。 SmartNIL是行业领先的NIL技术，可对小于40 nm *的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。 SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现无与伦比的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。 EVG的SmartNIL兑现了纳米压印技术的长期前景，纳米压印技术是一种用于大规模生产微米级和纳米级结构的低成本，高产量的替代光刻技术。*分辨率取决于过程和模板 特征顶侧和底侧对齐能力高精度对准台自动楔形补偿序列电动和配方控制的曝光间隙支持最新的UV-LED技术最小化系统占地面积和设施要求分步流程指导远程技术支持多用户概念（无限数量的用户帐户和配方，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）敏捷处理和转换重组台式或带防震花岗岩台的单机版附加功能：键对齐、红外对准、SmartNIL 、μ接触印刷 技术数据晶圆直径（基板尺寸）标准光刻：最大150毫米的碎片柔软的UV-NIL：最大150毫米的碎片SmartNIL：长达100毫米解析度≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）支持流程：柔软的UV-NIL和SmartNIL曝光源：汞光源或紫外线LED光源 对准软NIL：≤±0.5 μmSmartNIL：≤±3 μm自动分离柔紫外线NIL：不支持SmartNIL：受支持工作印章制作柔软的UV-NIL：外部SmartNIL：受支持EVG6200 NTSmartNIL UV Nanoimprint Lithography SystemEVG6200NT SmartNIL UV纳米压印光刻系统 具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统，采用EVG专有的SmartNIL技术，最大可达150 mm 技术数据这些系统以其自动化的灵活性和可靠性而著称，以最小的占地面积提供了最新的掩模对准技术。操作员友好型软件，最短的掩模和工具更换时间以及高效的全球服务和支持使它们成为任何研发环境（半自动批量生产）的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并且可以选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对齐和纳米压印光刻。此外，半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。SmartNIL是行业领先的NIL技术，可对小于40 nm *的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。 SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现无与伦比的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。 EVG的SmartNIL兑现了纳米压印技术的长期前景，纳米压印技术是一种用于大规模生产微米级和纳米级结构的低成本，高产量的替代光刻技术。

3D纳米结构高速直写机 — —纳米光刻与微米光刻兼顾的联合图形化工艺方案 NanoFrazor光刻技术，衍生于IBM Research研发的热扫描探针光刻技术——快速、地控制纳米针的移动及温度，利用热针实现对热敏抗刻蚀剂的快速刻写，从而为纳米制造提供了许多新颖的、特的可能性。NanoFrazor Explore以高的速度、精度和可靠性运行，在目前所有扫描探针光刻技术中属于速度快、应用广泛的一种。NanoFrazor Explore配备了先进的硬件和软件，以合适的方式控制可加热的NanoFrazor悬臂梁，以便进行书写和成像，实现基于闭环光刻技术的各种高精度图案化工艺。2019年，Explore增配了激光直写模块，有效加快了特征线宽在微米或亚微米水平的图形的加工速度，成为纳米光刻与微米光刻兼顾的联合图形化工艺方案。由此，在针对同一抗刻蚀层的图案化工艺中，实现了纳米刻写与微米刻写的无缝衔接。从而可以根据不同的图案特征线宽，采用不同精度的刻写技术，兼顾精度与速度。 主要特点：★ 利用加热针直接刻写图案，分辨率优于15 nm；★ 利用激光热挥发实现图案化，分辨率优于1 μm；★ 高速直写 10 mm/s★ 高速原位AFM轮廓成像；★ 样品尺寸100×100 mm2；★ 闭环光刻；★ 灰度曝光，分辨率及精度达到2 nm；★ 利用原位AFM实现的对准，从而实现无掩膜套刻及写场拼接；★ 的隔音及隔振性能；★ 无需洁净间，亦无特殊的实验室环境要求闭环光刻NanoFrazor光刻系统是基于热扫描探针光刻技术，其核心部件是一种可加热的、非常锐的针，利用此针可以直接进行复杂纳米结构的刻写并且同时探测刻写所得结构的形貌。加热的针通过热作用，直接挥发局部的抗刻蚀剂，从而实现对各类高分辨纳米结构的制备。此外，NanoFrazor的光刻技术能够与各类标准的图形转移方案（如lift-off、刻蚀）兼容，从而实现各类材料的图形化制备。“闭环光刻”技术确保图形化工艺的高度纳米光刻与微米光刻兼顾的图形化工艺方案自2019年开始，NanoFrazor Explore增配了激光直写模块，由此在保障纳米分辨率图案刻写精度的同时，大大提升了NanoFrazor Explore对微米分辨率图形的刻写速度。激光刻写基于激光的热作用，以亚微米精度，快速、直接地挥发抗刻蚀剂，从而实现大面积的图案化工艺（例如微纳结构的引线或焊点图形制备）。热探针直写对于纳米结构或纳米器件关键部分的高精度、高分辨率刻写。刻写所得结构的测量、观测、对准由于抗刻蚀剂直接挥发，无须湿法显影操作即可实现抗刻蚀剂的图案化。在图案化过程中，同一根探针能够原位、高速的对图案化抗刻蚀剂进行AFM成像和测试。微米尺度及纳米尺度的哈佛大学校徽，对PPA刻蚀剂的刻蚀深度为30 nm，图像由NanoFrazor Explore的探针进行AFM成像获得。(Courtesy of Harvard CNS)3D灰度纳米光刻★ 可在针扫描的每个位置对图案化工艺的深度进行设定（即每个像素点的灰度值）★ 闭环光刻技术能够实现很高的灰度刻写精度（经论证，对大于16个灰阶的结构进行图案化工艺，灰度刻写的误差小于1纳米）用于TEM的电子光学系统的三维相盘，由PPA中的微结构转移至SiN薄膜获得(Courtesy of EPFL and KIT)刻写在PPA中的多全息图的局部（图片由Explore的探针在刻写同时进行AFM成像获得）；小图展示的是转移至Si中的全息图局部的SEM图像（Courtesy of Sun Yat-Sen University）无掩膜套刻与拼接★ 通过原位AFM功能实现高精度的无掩膜套刻及拼接（经论证，精度优于10 nm）；★ 埋在抗刻蚀剂PPA下的图案结构（如纳米片、纳米线等）可用作“天然的”对准标记写场的自动关联拼接；由金的lift-off工艺获得的）反射全息图包含1×108个像素点，每个写场为边长50 μm的正方形，写场间的拼接由AFM相关技术实现利用无掩膜光刻在单根纳米线上制备金属电：（a）由Explore的AFM成像功能探测到的纳米线轮廓及位置信息（绿线标出）与拟制备的电结构布局图（粉色区域）；（b）lift-off工艺后获得的带有金属电的单根纳米线的SEM图像高分辨率★ 锐的针，为了高分辨率的实现（经论证，在PPA抗刻蚀剂中能够实现的半节距优于10纳米）★ 无须针对临近效应的修正由PPA抗刻蚀剂转移至硅基衬底的鳍型结构和沟槽结构(Courtesy of IBM Research and imec) 其他特性能★ 低损伤：制备过程中没有引入带电粒子束流，基于敏感材料的微纳器件能够获得更好器件特性★ 纳米尺度的材料转换：多种材料的直接热诱导修饰（相变、化学反应… … ）新型号：NanoFrazor Scholar — 小面积直写■ 3D纳米直写能力 高直写精度 (XY: 高可达20nm, Z: 3nm) 高速直写 0.5 mm/s■ 无需显影，实时观察直写效果 形貌感知灵敏度0.1nm 样品无需标记识别，多结构套刻，对准精度 50 nm ■ 无临近效应 高分辨，高密度纳米结构 ■ 无电子/离子损伤 高性能二维材料器件■ 区域热加工和化学反应 多元化纳米结构改性■ 小样品台 30mm X 30mm应用案例三维光子分子（3D PHOTONIC MOLECULES）(Courtesy of IBM Research Zurich, publication in 2018)单电子器件Courtesy of IBM Research Zurich, publication in 2018基于二维原子晶体的器件(Courtesy of Prof. Elisa Riedo, NYU)基于准一维纳米材料的纳米器件(Courtesy of S. Karg & A. Knoll, IBM Research – Zurich)基于布朗马达的纳米器件，可用于纳米颗粒分类(Courtesy of IBM Research, Publications in Science and PRL 2018) 国内外客户已发表的文献● Wolf (JVST B 2015) Sub20nm Liftoff and Si Etch and InAs nanowire contacts● Garcia (Nat Nano 2014) Advanced scanning probe lithography● Rawlings (IEEE Nano 2014) Nanometer accurate markerless pattern overlay using thermal Scanning Probe Lithography● Holzner (SPIE EMLC 2013) Thermal Probe Nanolithography● Cheong (Nanoletters 2013) Thermal Probe Maskless Lithography for 27.5 nm Half-Pitch Si Technology● Fei Ding (PhysRevB 2013) Vertical microcavities with high Q and strong lateral mode confinement● Carrol (Langmuir 2013) Fabricating Nanoscale Chemical Gradients with ThermoChemical NanoLithography● Paul (Nanotechnology 2012) Field stitching in thermal probe lithography by means of surface roughness correlation● Kim (Advance Mat 2011) Direct Fabrication of Arbitrary-Shaped Ferroelectric Nanostructures on Plastic, Glass, and Silicon Substrates● Holzner (APL 2011) High density multi-level recording for archival data preservation● Holzner (Nanoletters 2011) Directed placement of gold nanorods using a removable template● Paul (Nanotechnology 2011) Rapid turnaround scanning probe nanolithography● Wang (Adv Funct Mat 2010) Thermochemical Nanolithography of Multifunctional Nanotemplates for Assembling Nano-Objects● Wei and King (Science 2010)Nanoscale Tunable Reduction of Graphene Oxide for Graphene Electronics● Pires (Science 2010) Nanoscale 3DPatterning of Molecular Resists by Scanning Probes● Knoll (Adv Materials 2010) Probe-Based 3-D Nanolithography Using SAD Polymers● Fenwick (Nat Nano 2009) Thermochemical nanopatterning of organic semiconductors● Lee (Nanoletters 2009) Maskless Nanoscale Writing of Nanoparticle-Polymer Composites and Nanoparticle Assemblies using Thermal Nanoprobes● Nelson (APL 2006) Direct deposition of continuous metal nanostructures by thermal dip-pe

PicoMaster ATE-200无掩模激光直写光刻机●250纳米分辨率（375纳米激光源）●300纳米分辨率（405纳米激光源）●4095灰阶●业界最具实力的成套全息设计软件●最大230x230毫米基板尺寸 PicoMaster 200 是一款具有超高精度组件的多功能紫外激光写入器，专为用户提供在感光层中创建最高自由度的微结构而设计。系统的光栅化工作原理，搭配上高速扫描以及可调螺距步进激光头，确保了整个曝光制程在感光层表面准确而稳定地完成。PicoMaster 200 广泛应用于半导体光刻，LED芯片，微流控芯片，微纳结构，灰度光刻 ，三维加工全息影像等多个领域。系统优点：√ 系统支持高达4095级的灰度、纯二进制模式；√ 系统对准精度最高小于250纳米，线宽均匀性小于50纳米；√ 系统最大支持9英寸基版，400毫米/秒扫描速度，200x200毫米曝光面积；√ 系统采取全封闭结构设计，必需的部件、控制架构和真空泵都在外壳内，便于快速安装；√ 统连接到空气温度调节器机组开始供应空调空气时，内置堆式过滤器将产生干净的交叉气流； √ 系统运动平台由机械缓振系统支撑，它将过滤掉绝大多数的噪音振动，以确保工作时的振动最小激光直写：√ 系统使用405纳米（可升级375纳米）激光源在感光层上曝光，不需订购或制作掩模，图案可随用户设计而改变；√ 系统不使用掩模版，只需在基版上涂胶后用紫外激光聚焦进行曝光，激光在靶区被连续地调制到规定的剂量； √ 光刻胶在激光照射下会改变其化学结构，曝光后很容易溶解在显影剂中，只需暴露部分区域就可以形成目标的图案。 无掩模激光直写系统性能规格：

研发型Desktop纳米压印光刻设备UniPrinterUniPrinter是一种专门为大学、科研院所和企业产品研发所设计，操作简单、功能强大的台面型纳米压印光刻设备。可实现4英寸以下基底面积上高精度（优于10nm * ）、高深宽比（优于10比1 * ）纳米结构压印，适合用作紫外纳米压印光刻工艺开发，器件原型快速验证，纳米压印材料测试等研发。它沿用天仁微纳量产型纳米压印设备的工艺与材料体系，在UniPrinter上开发的工艺可以无障碍转移到天仁微纳其它量产设备上进行生产。UniPrinter纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED等应用领域的研发。主要功能● 沿用天仁微纳量产型纳米压印设备的工艺与材料体系，开发的工艺可以无障碍转移到量产设备上进行生产● 直径100mm以下面积高精度、高深宽比纳米压印● 设备内自动复制柔性复合工作模具● 自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程无需人工干预● 标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强300mW/cm2 ），完美支持各种纳米压印材料● 随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构等工艺流程，帮助客户零门槛达到高质量的纳米压印水平设备照片相关参数兼容基底尺寸直径≤100mm支持基底材料硅片、玻璃、石英、塑料、金属等纳米压印技术适合高精度、高深宽比纳米结构压印压印精度优于10纳米*结构深宽比优于10比1*残余层控制可小于10nm*紫外固化光源紫外LED（365nm）面光源，光强300mW/cm2自动压印支持自动脱模支持自动工作模具复制支持上下片方式手动上下片如想了解更多产品信息，可通过仪器信息网和我们取得联系 400-860-5168转6144

多功能台式　微米和纳米加工制造仪 适合各式纳米材料及薄膜的表面粗糙度或表面形貌量测。● 无需抽真空及快速的量测取得量测图像。● 直觉性的操作接口。● 一键扫描的快速功能。ACST为科研人员和教育工作者带来了一种先进的、多功能的台式微米和纳米制造的仪器，可以作为研究和教育工具。不仅帮助科研人员拓展他们现有的工作向不同的领域发展，而且还可以帮助教育工作者打夯实基础，教育学生掌握工业用的微米和纳米加工制造技术。COSMOS nanoFAB是一个加工制造仪器，这对我们培养纳米科学家的教育计划至关重要，也为学生在日益增长的微制造和纳米技术领域提供丰富的就业机会。 COSMOS nanoFAB采用了一种非常成熟的设计，充分考虑到其性能、成本和多样性。模块化设计理念允许在不同的技术中使用通用型的机械元件/电子元件，从而保证了使用方便和成本低廉。该仪器完全有能力成为快速j加工或新研究的实验验证工具。在教育领域，COSMOS nanoFAB可应用于表面化学、材料科学、工业应用、电子元件和半导体器件制造、生物分子固化和生物传感应用等领域的教学和应用。可被应用于高解析影像和测量需求，特别是具备次奈米级的 Z 轴分辨率。其低噪声和开回路设计于一体的扫描仪可以快速地针对样本进行扫描。独特光像散式的光路模块提供业界最小的雷射光点，让用户可运用于更小且快速的AFM 探针，COSMOS nanoFAB提供了在纳米和微米加工制造技术方面的功能，这并且在业界得到了很好的认可：★ 紫外线光刻: 通过一系列的实验，学生们学习了紫外线光刻技术的概念；半导体行业的基本技术★ 微接触印刷（μCP）： 学生们了解这一传统简易的技术，使用有机、无机和生物材料进行纳米/微米的图案加工。★ 纳米压印加工技术（NIL）： 学生操作和实践纳米压印加工技术。业内专家认为，作为半导体行业未来的市场需求，纳米 压印加工技术（NIL）是最具前景的一项技术。 总之，COSMOS nanoFAB可以应用的领域包括：● 表面化学● 材料科学● 工业应用● 半导体器件的电子元件制造● 生物固定和生物传感应用● 直觉式的数据撷取软件 PSX 可提供用户在最基本教育训练下，即可直接操作。值得一提的是，一键扫描功能可自动地设定参数与进行扫描，用户同样能够快速获得高质量的扫描结果。PSX 内建的扫描库管理功能有效地简化扫描数据的整理，以方便用户删除或输出扫描图文件。● 永效性的光路校准系统---雷射点实时维持在四象限二极管中心，不须另外校正。● 一键扫描- 藉由智能预测算法，即可轻松点击按键便可进行全自动扫频、下针、做力图曲线、以及扫描样品等相关流程。 应用案例和模块信息介绍-微接触印刷（μCP）: 描述：微接触印刷(μCP)是一种非光刻技术，也是“软刻蚀技术”的前身。μCP是一种常有吸引力的、可以应用于生物技术领域的、用于微米和纳米图案/结构制备的技术。它使用弹性印章，通过将各种分子（从有机分子到大的生物物质）点印到固体基底上，以生成二维的微米和纳米结构。这项技术包括两个主要步骤：印章的制作及印刷，如图所示。包被靶标分子的弹性印章通过预施加的控制来接触基底表面，从而将靶标分子转移到基底上。不同的大小和形状的几何图形可以生成各种各样的印章，例如可以使用大的平面印章或滚动印章(类似于油漆辊)在平面和非平面表面上点印，从而轻松地对很大的区域进行图案制备。印章是由弹性体聚合物制成，如聚二甲基硅氧烷(PDMS)，聚氨酯，聚酰亚胺和树脂等等。 应用：微接触印刷是一个从下而上的加工技术,由于简单方便，高通量和成本低廉，现广泛应用于多个领域，如光学、MEMS、高密度分子电路、微流体、微阵列和生物传感器点印寡核苷酸、固定细胞来研究细胞-细胞和细胞-基底表面的相互作用、生成肽阵列研究免疫实验和生物传感器实验的蛋白质和生物配体。 我们客户还可以探索如何在大尺寸和纳米尺度上点印计算机芯片或者如何制作生物传感器。例如，在实验室里，可以使用大尺寸和纳米尺度的印章，用光刻技术制作纳米印章模板和聚合物。印章将被包被有机小分子与黄金等贵金属，然后点印在黄金薄膜的基底上，随后的是金的湿蚀刻，没有被有机分子保护的区域将被蚀刻。在这样的一个实验中，印章上的结构将被复制到基底上。 应用案例和模块信息介绍-光刻技术: 光刻技术是当今世界上最成功的精密加工技术之一。自1959年发明以来，它就是最有价值和最有利润的行业，最初是开发出来用于微电子工业（集成电路平面技术），现在也被用来制造微型器件（硅晶体平面的三维结构材料刻蚀)。从那以后，这个行业一直在广泛需求中不断发展，包括单个电路元件和整合的半导体材料，基本上所有的集成电路是用光刻技术制造的。光刻工艺概述如图所示，预先设计的图案是从光掩模（例如用电子束光刻法）传送到靶标的硅基底。该程序包括以下常用的步骤: 1、在硅片层基底上包被一层薄薄的紫外线敏感的聚合物抗蚀剂（光刻胶）（图2a，图2b）。 2、随后紫外光透过有图案的印章（图2c）进行照射，只有部分抗蚀剂暴露在紫外线下，这引起了抗蚀溶解度的变化。然后将印章放置于离样品尽可能近的地方但是不接触，如图2c所示。由于光衍射，辐射面积会增大一些，大于印章对应的开口区域（这将导致分辨率降低）。这种光刻蚀程序只能用于创建尺寸小于辐射波长的图案和器件。因此，半导体工业也开始使用更短波长的光线来做辐射。 3、紫外线曝光后，将样品浸入显影剂中，以便从显影剂中除去光刻胶暴露在光线下的地方（图2d）。 4. 硅晶片上的抗蚀图案随后被用来从裸片上蚀刻材料（将硅晶片暴露于蚀刻剂）（图2e）或沉积电路设计需要的其他材料。最后光刻胶完全脱离硅晶片（图2）。 在这四个步骤之后，抗蚀剂（光刻胶）上的图案特征被转移到硅晶片的基底上（步骤f）。整个过程可以按电路设计要求重复多次。 用途：光刻蚀是一种从上而下的制作工艺，选择光刻蚀工艺是因为它可以产生小到几十纳米的图案，并提供精确的控制形状，大小，并且制备成本非常低。 光刻技术被广泛应用于从微电子到生命科学的各个行业，在可预见的未来，它还将是微处理器、存储器和其他微电子设备信息技术的基础。此外，它还用于许多设备的制造业和小型化，从而带来了高性能、可移植性、节约时间、节省成本、节省试剂、提高生产通量、改善功耗、提高检测限度以及新功能的开发。 应用案例和模块信息介绍-纳米压印加工技术（NIL）: 描述：纳米压印加工技术（NIL）是基于一种与传统微加工有着根本区别的原理，该技术具有高通量，小于10纳米分辨率和低成本的优点，是目前其他现有刻蚀方法无法达到的。在压印过程中，图案被热敏或紫外光复制到抗蚀剂中，然后被转移到下面的基底上。在热敏纳米压印加工技术（NIL）(T-NIL)工艺中，将表面具有纳米结构的模具压入基底上铸造的薄层抗蚀剂中。抗蚀剂是一种热敏塑料，由于粘度低，在玻璃化温度（Tg）以上时容易变形。当抗蚀剂冷却到Tg以下时，模具被移除，模具的图案被复制在抗蚀剂中。在光固化纳米压印加工技术（UV- NIL）中，将模具在室温下，压入顶层的UV光刻胶中，然后紫外照射交联抗蚀剂，最后模具复制品转移到底层的抗蚀剂和基底上。 在这两个过程中，模具表面都涂上了钝化层，以防止在分离过程中抗蚀剂粘在模具上。在图案转移过程中，利用反应离子刻蚀~RIE等各向异性刻蚀工艺去除压缩区域的残余抗蚀剂，将压印中产生的厚度对比图案转移到整个抗蚀剂中。 应用：为了加快纳米结构的研究和商业化，必须有一个高通量和低成本的纳米加工技术，来实现尺寸、形状和间距完全自由化的设计。这就是为什么纳米压印会快速发展，并且它已经扩展到许多学科，如微电子学、生物学、化学、医学和信息存储。还有希望应用于光学器件、磁存储器、微电子机械系统、生物技术、微波器件的三D打印、生物技术中使用的微流控通道、存储器VRAM的环形结构、无源光学元件等。

PicoMaster 200无掩模激光直写光刻机●250纳米分辨率（375纳米激光源）●300纳米分辨率（405纳米激光源）●4095灰阶●业界最具实力的成套全息设计软件●最大230x230毫米基板尺寸 PicoMaster 200 是一款具有超高精度组件的多功能紫外激光写入器，专为用户提供在感光层中创建最高自由度的微结构而设计。系统的光栅化工作原理，搭配上高速扫描以及可调螺距步进激光头，确保了整个曝光制程在感光层表面准确而稳定地完成。PicoMaster 200 广泛应用于半导体光刻，LED芯片，微流控芯片，微纳结构，灰度光刻 ，三维加工全息影像等多个领域。系统优点：√ 系统支持高达4095级的灰度、纯二进制模式；√ 系统对准精度最高小于250纳米，线宽均匀性小于50纳米；√ 系统最大支持9英寸基版，400毫米/秒扫描速度，200x200毫米曝光面积；√ 系统采取全封闭结构设计，必需的部件、控制架构和真空泵都在外壳内，便于快速安装；√ 统连接到空气温度调节器机组开始供应空调空气时，内置堆式过滤器将产生干净的交叉气流； √ 系统运动平台由机械缓振系统支撑，它将过滤掉绝大多数的噪音振动，以确保工作时的振动最小激光直写：√ 系统使用405纳米（可升级375纳米）激光源在感光层上曝光，不需订购或制作掩模，图案可随用户设计而改变；√ 系统不使用掩模版，只需在基版上涂胶后用紫外激光聚焦进行曝光，激光在靶区被连续地调制到规定的剂量； √ 光刻胶在激光照射下会改变其化学结构，曝光后很容易溶解在显影剂中，只需暴露部分区域就可以形成目标的图案。

Super Lithography 3D 纳米光刻系统提供纳米级高精度的无掩膜光刻和纳米级3D 微纳结构打印，配合定制的软件系统，可以智能完成高精度无掩膜光刻的制造和其它纳米级 3D 器件的激光直写光刻。

双光子聚合激光直写3D纳米光刻机MicroFAB-3D双光子聚合3D纳米光刻机是一款超紧凑、超高分辨率交钥匙型3D打印机。双光子聚合3D纳米光刻机基于双光子聚合(TPP)激光直写技术，兼容多种高分子材料，包括生物材料。MicroFAB-3D 3D纳米光刻机帮助您以亚微米的分辨率生产出前所未有的复杂的微部件，MicroFAB-3D的zui小特征尺寸可低至0.2um宽，为微流体、微光学、细胞培养、微机器人或元材料领域开辟了新的前景。MicroFAB-3D具有开放性和适应性，可以满足您的个性需求。双光子聚合激光直写3D纳米光刻机关键特性：较高的直写精度和分辨率(可达0.2um)（已有客户使用此设备实现低至67nm分辨率的结构）直写速度快兼容任何CAD模型和文件兼容广泛的聚合物，以及生物材料紧凑的设计适用于层流架适用于无菌、无尘室以及工业环境双光子聚合激光直写3D纳米光刻机核心优势：新的TPP切片工具复杂的3D结构下高直写速度三维微零件无形状限制适用于微部件、微流体、超材料、细胞培养、微机器人、微力学、组织工程、表面结构或任何你可能拥有的微制造理念的技术。双光子聚合激光直写3D纳米光刻机规格指标：双光子聚合激光直写3D纳米光刻机适用材料：我们为我们的双光子聚合激光直写3D纳米光刻机提供了10种zhuanli光刻胶，这些树脂的各种性能允许您探索许多应用领域。我们的系统可与各种商业上可用的光刻胶兼容，如Ormocomp, SU8, FormLabs树脂，NOA-line树脂，甚至水凝胶或蛋白质等。这些光刻胶可能是生物兼容的，甚至已被认证实现微型医疗设备。如果您想使用定制的、自制的聚合物，我们也可以帮助您调整系统以适应您的工艺。关于昊量光电昊量光电 您的光电超市！上海昊量光电设备有限公司致 力于引 进国 外创 新性的光电技术与可 靠产品！与来自美国、欧洲、日本等众多知 名光电产品制造商建立了紧 密的合作关系。代理品牌均处于相关领域的发展前 沿，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精 密光学元件等，所涉足的领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国 防及前沿的细分市场比如为量 子光学、生物显微、物联传感、精 密加工、激光制造等。我们的技术支持团队可以为国内前 沿科研与工业领域提 供完 整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等优 质服务，助力中国智 造与中国创 造! 为客户提供适合的产品和提 供完 善的服务是我们始终秉承的理念！

R2P纳米压印系统又名桌面式微纳米结构复制机，可以说是"The most cost-effective holographic printing technology available today 现阶段最有效的全息印刷技术工艺". 印刷电子技术受限于线宽精度的要求无法实现复杂微米及亚微米结构，而使用高精度R2R/R2P纳米压印技术可获得小到亚微米甚至几十纳米结构，这样可以很好的应用于对于结构有高精度要求的应用领域，如显示如裸眼3D,全息成像，AR眼睛等，太阳能领域，光照领域，及其他如微流控和防伪标签等,在工艺上节省时间成本的基础上，更好的开拓了微纳米结构产业化的新机遇。技术优势在于： • 全欧洲知名的R2P专利压印技术• 可快速复制超清晰均匀的微纳结构• 适用于几乎任何表面–柔性或固体、透明或不透明• 优异的光学固化引擎和易于操作的独特设计• 适用于20纳米至100微米的特征尺寸• 全系列优化的压印及模板制作材料• 超过30000次超长寿命聚合物印刷模板典型应用包括：• 光学验证防伪的衍射结构• 衍射光学元件• 增强光伏器件光电转换率的微纳米结构• 增强LEDs光电性能的微纳米结构• 光波导• 光导纤维• 微流控器件• 超亲水或超疏水功能层表面• 促进或阻止细胞生长的表面结构• 等离子体超材料结构• 生物化学微阵列• 光固化树脂材料性能测试验证• NIL蚀刻掩膜版图案制作

NanoFrazor Scholar适合科研领域的中小型实验净房与纳米加工的学术研究领域 Thermal Scanning Probe Lithography Toolwith In-situ Imaging and Grayscale Patterning Capabilities适合科研领域的中小型实验净房与纳米加工的学术研究领域原位成像和灰度光刻模块的热探针光刻解决方案NanoFrazor Scholar特别适合纳米加工研究的学术单位，用于在1D/2D 材料，例如量子点和纳米数组上制作量子器件的纳米结构，其独特的功能使能够应用任何新材料。例如，灰度光子学设备、纳米流道结构或用于细胞生长的仿生基质等进阶应用；通过加热探针对材料进行局部改性，例如化学反应和物理相变。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来*的综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过50几个国家、700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

LS-1720产品描述 LS-1720的尺寸为20 x 17 x 8.5mm，行程范围为12mm。概观运动行程[mm]12尺寸[mm]20 x 17 x 8.5重量[g]13力特性最大推力[N]2.5最大负载[N]20最大升力[N]1定位性能最大速度[mm/s]5开环定位分辨率[nm]1选配材质标配为铝底座；可选配钢座（-ST）、钛基（-TI）；均黑色阳极氧化（-BK）真空兼容 (1E-6 mbar)-HV高真空兼容 (1E-11 mbar)可根据要求定制无磁可根据要求定制* 所有技术规格参数均为近似值，由于产品持续研发，我们保留更改技术规格的权利，恕不另行通知。Nators是一家高性能纳米定位平台及解决方案的专业提供商，可满足各种对精密运动定位要求严苛的应用场合，如光学、显微、精密组装以及纳米级表征分析等，同时提供 纳米定位，压电纳米定位，纳米定位平台，压电纳米定位平台，大行程压电纳米定位平台，多轴定位平台，压电陶瓷，压电控制器，压电陶瓷控制器，压电惯性运动定位器，预装配叠堆运动平台

LS-1730产品描述 LS-1730的尺寸为30 x 17 x 8.5mm，行程范围为21mm。概观运动行程[mm]21尺寸[mm]30 x 17 x 8.5重量[g]21力特性最大推力[N]2.5最大负载[N]20最大升力[N]1定位性能最大速度[mm/s]5开环定位分辨率[nm]1选配材质标配为铝底座；可选配钢座（-ST）、钛基（-TI）；均黑色阳极氧化（-BK）真空兼容 (1E-6 mbar)-HV高真空兼容 (1E-11 mbar)可根据要求定制无磁可根据要求定制* 所有技术规格参数均为近似值，由于产品持续研发，我们保留更改技术规格的权利，恕不另行通知。Nators是一家高性能纳米定位平台及解决方案的专业提供商，可满足各种对精密运动定位要求严苛的应用场合，如光学、显微、精密组装以及纳米级表征分析等，同时提供 纳米定位，压电纳米定位，纳米定位平台，压电纳米定位平台，大行程压电纳米定位平台，多轴定位平台，压电陶瓷，压电控制器，压电陶瓷控制器，压电惯性运动定位器，预装配叠堆运动平台

LS-1740产品描述 LS-1740的尺寸为40 x 17 x 8.5mm，行程范围为26mm。概观运动行程[mm]26尺寸[mm]40 x 17 x 8.5重量[g]26力特性最大推力[N]2.5最大负载[N]20最大升力[N]1定位性能最大速度[mm/s]5开环定位分辨率[nm]1选配材质标配为铝底座；可选配钢座（-ST）、钛基（-TI）；均黑色阳极氧化（-BK）真空兼容 (1E-6 mbar)-HV高真空兼容 (1E-11 mbar)可根据要求定制无磁可根据要求定制* 所有技术规格参数均为近似值，由于产品持续研发，我们保留更改技术规格的权利，恕不另行通知。Nators是一家高性能纳米定位平台及解决方案的专业提供商，可满足各种对精密运动定位要求严苛的应用场合，如光学、显微、精密组装以及纳米级表征分析等，同时提供 纳米定位，压电纳米定位，纳米定位平台，压电纳米定位平台，大行程压电纳米定位平台，多轴定位平台，压电陶瓷，压电控制器，压电陶瓷控制器，压电惯性运动定位器，预装配叠堆运动平台

l纳米团簇束流沉积系统由纳米团簇源、质量选择器、沉积系统构成。 l可以用于基于纳米粒子的器件加工，可在结构、化学组分、封装等不同环节上对纳米结构单元进行操纵。l可用于纳米粒子膜的大规模工业化制备。l工艺过程高效、快速和低成本。v创新的镀膜、沉积设备 v新型的纳米颗粒制备设备 纳米粒子源通过气相聚集过程及差分束流系统形成纳米团簇束流，由质量选择器进行筛选，然后在高真空下以声速（低能）或被加速（高能）沉积于基底上。1、纳米团簇束流沉积系统——纳米团簇源l纳米粒子的平均直径：0.5～35nm（1 ～ 106个）可调。 l纳米粒子的尺寸分布（FWHM）：2～5nm。 l可选用多靶套件。 l可选用粒子弯头，实现多种团簇沉积或取样。 l相比传统磁控溅射系统，节约大约50%氩气。 l靶材可以是金属（包括碱金属、贵金属和特高熔点金属，例如：锇、钨）、非金属（常温常压下固态非金属单质和化合物）、半导体（例如硅、锗）、能在真空存在的固态有机材料等。2、纳米团簇束流沉积系统——质量选择器l基于德国科学家的时间飞行法对小团簇进行原子数级的质量选择，可以从“白”束流中分选出pA-nA流量的单原子数组分束流，质量选择精度为0.5 ～2%。 l1-200单原子可控。l尺寸选择精度：亚纳米级。 l通量：1010/s ～ 1011/s(1-10nA)。l选择后束流原子数在1 ～10000之间，选择精度优于20，可达200。3、纳米团簇束流沉积系统——沉积系统l纳米薄膜沉积速度可监控，并在0.05 ～2nm/s连续可调。 l标准纳米束流直径：0.5 ～25mm可调，可选配样品X-Y扫描器，制备150×150mm以上样品。 l可实现加速动能为1 ～40keV的荷能纳米粒子沉积。 l系统背景真空度可达10-9Torr。 l控制沉积速度（声速）并配合控温台（选配）实现沉积过程不升温。 l可选配快速降温组件，实现退火，得到一些特殊相。 l可用于制备纳米颗粒。

NanoFrazor Explore具有激光直写和灰度光刻功能的热探针光刻解决方案 Hermal Scanning Probe Lithography Tool With a Hybrid Direct Laser Sublimation and Grayscale Patterning Capability具有激光直写和灰度光刻功能的热探针光刻解决方案NanoFrazor Explore是最经济实惠热探针光刻工具，用于1D/2D材料，例如量子点、量子器件的纳米结构，其独特的功能使能够应用任何新材料。例如，灰度光子学设备、纳米流道结构或用于细胞生长的仿生基质等进阶应用；通过加热探针对材料进行局部改性，例如化学反应和物理相变。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来*的综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过50几个国家、700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

、产品简介—国内首台教学型数字全息显微镜 苏州海兹思纳米科技有限公司研发的数字全息显微镜，以全息技术为理论基础，采用全息干涉技术、显微技术和数字图像处理技术相结合，可实现对微观物体三维形貌的高分辨率观察和动态测量。产品的应用范围：1）显微光学元件和面形测量；2）MEMS显微器件的面形或变形测量；3）空间微粒和核径迹检测；4）生物样本和活体细胞的研究与观察；5）物质参数测量(如泊松比、热膨胀系数、杨氏模量)；6）生物芯片测量；7）激光加工过程监控；8）聚合物粒子生长检测；9) 医疗诊断。二、产品的优势： 1）与国外产品比较：同类产品稳定性相近，但具有高性价比优势。现阶段国外市场，仅仅有瑞士Lyncee Tec SA数字全息显微镜系列产品销售，由于处于垄断地位，其售价超过160万元，价格过高。而本项目产品在技术性能上与国外产品相近，但在生产成本和销售价格上远低于国外产品，适合发展经济型和普及性的生物全息显微镜。 2）与国内产品比较：目前国内没有此类产品，应该说我们所研发的项目产品是国内首家。因此具备先天的优势。本项目研究成果技术已成熟，具备市场推广条件，随着本项目的数字全息显微镜产业化，将填补国内的技术空白。三、教学型生物全息显微镜第一阶段（已完成、开始试销）：已研发出适合中学和大学教学用的教学型数字全息显微镜，目前该产品已经成功研制出样机。 样机的主要参数指标为： 1.视场范围：4mm； 2.垂直测量范围：可达500nm（取决于样品）； 3.纵向分辨率：10nm；横向分辨率：5um； 4.撷取影像速率：4fps (512×512像素)；1fps (1024×1024像素)； 5.抓图时间：小于2us 6.最大样品尺寸：200mm×200mm第二阶段（研发进入后期阶段） 适合于大学、科研院所科研用以及工业用的工业型数字全息显微镜，仪器参数指标为： 1.视场范围：4mm； 2.垂直测量范围：可达500nm（取决于样品）； 3.纵向分辨率：10nm；横向分辨率：400nm； 4.撷取影像速率：15fps (512×512像素)；4fps (1024×1024像素)； 5.抓图时间：小于2us 6.最大样品尺寸：200mm×200mm

高精度紫外纳米压印光刻设备200mmGL8 CLIV Gen2GL8 CLIV Gen2是天仁微纳新型全幅高精度紫外纳米压印设备，标配天仁微纳CLIV（Contact Litho in Vacuum）压印技术，可实现200mm基底面积上高精度（优于10nm ）、高深宽比（优于10比1 ）纳米结构复制量产。GL8 CLIV Gen2 & GL12 CLIV Gen2 2inch/100/150/200mm & 2inch/100/150/200/300mm是天仁微纳新型全幅高精度紫外纳米压印设备，可实现200/300mm基底面积上高精度（优于10nm ）、高深宽比（优于10比1 ）纳米结构复制量产。该设备支持自动复制柔性复合工作模具，工作模具具有精度高，寿命长等特点，可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。保证了大面积纳米压印过程中结构精度与高深宽比结构的完整填充，同时保证了大面积结构压印均匀性。GL8/12 CLIV纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的量产。主要功能● 经过量产验证的200mm大面积、高精度、高深宽比纳米压印● CLIV技术，确保压印结构精度与结构填充完整性● 设备内自动复制柔性复合工作模具，降低大面积纳米压印模具使用成本● 自动对位、自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程无需人工干预● 标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强1000mW/cm2 ），水冷冷却，特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，完美支持各种商用纳米压印材料● 标配设备内部洁净环境与除静电装置● 随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构等工艺流程，帮助客户零门槛达到高质量的纳米压印水平设备照片相关参数兼容基底尺寸2inch、100mm、150mm、200mm特殊尺寸可定制支持基底材料硅片、玻璃、石英、塑料、金属等上下片方式手动上下片晶圆预对位机械夹持预对位，可选装光学巡边预对位纳米压印技术CLIV技术，适合高精度、高深宽比纳米结构压印压印精度优于10纳米*结构深宽比优于10比1*残余层控制可小于10nm*紫外固化光源紫外LED（365nm）面光源，光强1000mW/cm2，水冷冷却（2000mW/cm2类型光源可选配）设备内部环境控制标配，外部环境class 100，内部环境优于Class 10*自动压印支持自动脱模支持自动工作模具复制支持模具基底对位功能自动对位（选配）如想了解更多产品信息，可通过仪器信息网和我们取得联系 400-860-5168转6144

荷兰SCIL公司简介 荷兰SCIL公司是知名的纳米压印设备供应商，是荷兰飞利浦公司投资的高科技公司之一，“SCIL基底保形压印光刻”技术，结合了小面积硬压与大面积软压的优势，真正意义上实现了12寸晶圆高质量无基底损伤保形的纳米压印，已成功用于12寸量产线，已经被国际上很多知名fab厂采用。 “SCIL基底保形压印光刻”是一种经济高效、稳健、高产量的工艺，可在多种材料上实现纳米分辨率图案。SCIL可实现在达 300 毫米的晶圆区域上提供经过验证的高质量压印。它可用于制作特征尺寸小于 10 nm 和套刻对齐精度小于 1 μm 的图案。 荷兰SCIL公司同时开发了的无机玻璃纳米压印光刻胶，可直接作为功能层使用，可直接省去2个工艺步骤，大大降低了生产成本。 SCIL 目前可提供2” 至 12”晶圆手动研发工具到全自动系统的全方位解决方案，并可以帮助客户优化设备、耗材和流程，以实现大批量生产。SCIL 技术特色 - 即使在非平坦和弯曲的表面上也可以保证保形接触印刷（模板复制技术）。 - 独特的 SCIL 压印工艺可确保＜10 nm 分辨率、低图案变形和无颗粒损坏印模。 - 套刻对齐精度： 1 μm - Sol-gel的优异蚀刻特性可得到极高的蚀刻率。 - Sol-gel的的热稳定性、光学透明度和（UV）稳定性使其适合作为功能层。 - 使用热Sol-gel大大增加了母版寿命。 - 总体而言，SCIL可将超高的压印质量和产量与高吞吐量和低总体拥有成本相结合。 LabSCIL型科研级纳米压印系统简介 LabSCIL专为有兴趣开发 SCIL 流程和应用程序的大学、研究所和公司的研发实验室开发，对于对可用于小批量试生产的工具感兴趣的公司，LabSCIL将是理想的选择。技术参数操作手动放片，纳米压印是全自动的晶圆尺寸最大8”，向下兼容晶圆厚度0.3 - 2.5 mm晶圆搬运托盘手动加载光刻胶类型Thermal sol-gelUV sol-gelUV organic压印技术低力软模基底保形纳米压印尺寸(WxLxH)1.8 x 1.4 x 2.2 m套刻精度 1μm应用 纳米图案化是众多纳米光子应用的关键工艺步骤。下面提到的应用程序只是一个选择。其他应用包括： - 增强现实和虚拟现实 (AR/VR) 光学 - MicroLED - MEMS和3D传感

电子束光刻机（多功能超高精度电子束光刻机P21）依托垄断性专利技术，百及纳米推出国际领先的超高精度大面积写场电子束光刻机 P21 系列。 百及纳米首次开发了新一代电子束光刻机的电子束闭环控制新原理。百及超高精度电子束光刻机 P21 是第一款新一代电子束光刻机的代表，在著名电子束光刻机制造商德国 Raith 公司的成熟机型上 升级而成。该系列主要包括 P21-2，P21-4 和 P21-6 三个型号，区别主要在于样品尺寸（2，4，6 英寸晶圆）及扩展使用功能。P21 不仅完整地保留了原电子束光刻机的整体功能，且集多项国际领先的关 键指标于一身，包括： &bull 国际上首次开发的新颖电子束闭环控制系统，能够实现电子束的原位检测与校正 &bull 国际领先的写场拼接精度≤2 nm &bull 电子束光刻的长期稳定性。精确校正电子束的空间漂移，将其位置稳定性提高到≤10 nm/h； 有利于通过提高电子束光刻时间实现大尺寸图形的曝光需求。 百及纳米的 P21 系列以常规电子束光刻机为载体，通过独家专利技术对其进行功能及性能指标的大幅提升。P21 光刻机组件均为德国原装制造，以高品质、高性能满足客户的科研高端需求，实现新 一代超高精度电子束光刻功能。

LS系列直线定位平台提供数十厘米的运动行程，定位分辨率优于1纳米。基于粘滑惯性驱动、交叉滚子导轨传动，使得该系列产品具有结构紧凑同时可提供高刚度和高导向精度。该系列定位平台掉电时可自锁且无能量损耗，使其可成为一劳永逸的应用的理想选择。此外，我们还提供可在高真空、超高真空和非磁性环境下工作的专用版本。LS-1780产品描述 LS-1780的尺寸为80 x 17 x 10mm，行程范围为51mm。概观运动行程[mm]51尺寸[mm]80 x 17 x 10重量[g]51力特性推力[N]2负载[N]10升力[N]1定位性能开环速度[mm/s]5开环定位分辨率[nm]1闭环速度[mm/s]1闭环定位分辨率[nm]5选配材质标配为铝底座；可选配钢座（-ST）、钛基（-TI）；均黑色阳极氧化（-BK）真空兼容 (1E-6 mbar)-HV高真空兼容 (1E-11 mbar)可根据要求定制无磁可根据要求定制* 所有技术规格参数均为近似值，由于产品持续研发，我们保留更改技术规格的权利，恕不另行通知。Nators是一家高性能纳米定位平台及解决方案的专业提供商，可满足各种对精密运动定位要求严苛的应用场合，如光学、显微、精密组装以及纳米级表征分析等，同时提供压电纳米定位台，纳米定位台，压电平移台，压电平台，大行程压电纳米定位平台，多轴纳米定位平台，压电控制器，纳米平台控制器，定位平台驱动器等精密定位产品。

LS-1750产品描述 LS-1750的尺寸为50 x 17 x 8.5mm，行程范围为31mm。概观运动行程[mm]31尺寸[mm]50 x 17 x 8.5重量[g]32力特性最大推力[N]2.5最大负载[N]20最大升力[N]1定位性能最大速度[mm/s]5开环定位分辨率[nm]1选配材质标配为铝底座；可选配钢座（-ST）、钛基（-TI）；均黑色阳极氧化（-BK）真空兼容 (1E-6 mbar)-HV高真空兼容 (1E-11 mbar)可根据要求定制无磁可根据要求定制* 所有技术规格参数均为近似值，由于产品持续研发，我们保留更改技术规格的权利，恕不另行通知。Nators是一家高性能纳米定位平台及解决方案的专业提供商，可满足各种对精密运动定位要求严苛的应用场合，如光学、显微、精密组装以及纳米级表征分析等，同时提供 纳米定位，压电纳米定位，纳米定位平台，压电纳米定位平台，大行程压电纳米定位平台，多轴定位平台，压电陶瓷，压电控制器，压电陶瓷控制器，压电惯性运动定位器，预装配叠堆运动平台