全息纳米光刻图案化平台

纳米位移平台,真空纳米位移台由中国领先的进口光学精密仪器旗舰型服务商-孚光精仪进口销售,先后为北京大学,中科院上海光机所,中国工程物理研究院,航天3院,哈工大,南开,山东大学等单位提供优质进口的纳米位移平台,真空纳米位移台,纳米位移台.这款纳米位移平台是美国进口的高速高精度真空纳米位移台,它采用先进技术设计, 具有单轴或精密的双轴配置两种选择, 适合高真空环境和非磁性定位应用.美国进口高精度低价格系列纳米定位台，采用了陶瓷伺服电机驱动，非常适合要求精度达到纳米或压纳米的高精度和高重复精度的应用，例如：精密生命科学仪器、显微成像、纳米准直、微纳加工、光学精确定位等。X-TRIM 系列纳米位移台特色 10nm分辨率非接触线性编码系统双驱动任选:线性伺服或压电驱动高密度滚珠传导增加稳定性超紧凑的单轴或双轴纳米位移台紧凑型封装可真空使用超强工作能力，大吞吐量采用无铁芯直接驱动直线电机,驱动轴位于纳米位移台的中心线, 这种设计消除了非中心驱动导致的偏航,空回等问题.纳米位移台集成了一个高分辨率(12.5nm)非接触式线性编码器,它为闭环的伺服系统工作操作提供了精密反馈, 它的标准配置就可以提供纳米精度的定位.纳米位移平台使用能够了精密的滚珠导向系统确保了位移平台高精度性能和严格的轨迹控制。纳米位移平台也适合OEM使用,它具有较低抛面和较小尺寸，采用模块化设计，用户可堆叠使用创建多轴多部件系统。这款纳米位移平台使用了非接触式直接驱动技术，提供坚固，精确，高速的定位，满足高频率大工作量的需要。纳米定位平台使用了先进的无铁直线电机直接确定技术，确保最优异的纳米级定位性能。这款纳米定位台提供了高速度，高精度，高分辨率，高性能的卓越表现。它与传统的丝杠驱动或压电驱动相比，具有更大的工作效率和吞吐量。参数行程(mm): 25和50mm(单轴或双轴)驱动系统: 无铁芯直线电机或陶瓷伺服电机最大加速度: 由负载决定最大速度: 200mm/s (无负载时)最大推力: 24N最大负载: 2Kg精度: +/-1um/25mmTTL分辨率: 1-100nm/脉冲构造材料: 铝合金主体, 灰色氧化镀膜重复精度: 5倍精度XT 25XT 50XT 2525XT 5050Travel Length (mm)25 mm50 mm25 x 25 mm50x 50 mmTrajectory ControlAccuracyLinear Encoder± 1.0 &mu m± 2.0 &mu m± 2.0 &mu m± 4.0 &mu mStraightness/Flatness± 1.0 &mu m± 1.0 &mu m± 2.0 &mu m± 2.0 &mu mYaw/Pitch/Roll5 arc-sec5 arc-sec10 arc-sec10 arc-sec2 axis systemOrthogonalityStandard GradeNANA5 arc-sec5 arc-secHigh PrecisionNANA2 arc-sec2 arc-secExtra High PrecisionNANA1 arc-sec1 arc-sec

LightSmyth提供了大量的纳米加工单晶硅衬底，为工业和学术机构提供了一个低成本的纳米光子学研究入口。基底可用于光学、光子学、生物学、化学、物理学（如中子散射）、聚合物研究、纳米印迹、微流体学等领域。如果需要，基板可以涂上金属或介质涂层。大多数地表特征具有略微梯形的横截面轮廓，具有直线平行的台地和沟渠。晶格状结构也可用。提供了许多特征尺寸和沟槽深度。基板的扫描电镜图像可以在装运前拍摄，以验证准确的轮廓。产品特点Nanopatterned Silicon StampsII-VI offers a large variety of nanomachined single crystal silicon substrates providing a low-cost entry into nanophotonics research for industry and academic institutions. The substrates may be used in a variety of applications in optics, photonics, biology, chemistry, physics (e.g. neutron scattering), polymer research, nanoimprinting, microfluidics and others. If desired, the substrates can be coated with metallic or dielectric coating. Most of the surface features have slightly trapezoidal cross-section profiles with straight parallel mesas and trenches. Lattice-like structures are available as well. A number of feature sizes and trench depth is available. SEM images of the substrates may be taken prior to shipment to verify the exact profile.Dimensions shown in the table represent target value. Period has accuracy better than 0.5% while groove depth and the width of line and space may differ from the target values by 15%. SEM are given for illustration purposes. If more precise dimensional information is required, we may provide an SEM of the specific piece of nanostamp you order as an optional service通用参数(LightSmyth Nanopatterned Silicon Stamps 纳米图案硅片)描述数据基材宽度高度误差标准公差±0.2 mm净孔径（CA）距基板边缘0.5 mm（图案可延伸至基板边缘）基底厚度0.675 ± 0.050 mmCA的表面质量P／N以“p”结尾：划痕/挖：最大划痕宽度，最大最大直径。可提供高达20/10的规格CA的表面质量P/N以“-S”结尾：由于表面质量而打折的等级。至少有80%的可用面积。可能出现80/100划痕/挖痕/颗粒和不规则基底形状CA外表面质量无要求Material材料单晶硅，反应离子刻蚀2D NanostampsPart Number周期Period(nm)晶体类型Lattice Type槽深Groove Depth(nm)特征宽度Feature Width(nm)Size(mm)S2D-18B2-0808-350-P600Rect Post3502758.0 x 8.3S2D-18B3-0808-350-P700Rect Post3503508.0 x 8.3S2D-18C2-0808-350-P600Hex Post3502408.0 x 8.3S2D-18C3-0808-150-P700Hex Post1502908.0 x 8.3S2D-18C3-0808-350-P700Hex Post3502908.0 x 8.3S2D-18D3-0808-350-P700Hex Hole3502008.0 x 8.3S2D-24B2-0808-150-P600Rect Post 1501958.0 x 8.3S2D-24B2-0808-350-P600Rect Post 3501958.0 x 8.3S2D-24B3-0808-150-P700Rect Post 1502608.0 x 8.3S2D-24B3-0808-350-P700Rect Post 3502608.0 x 8.3S2D-24C2-0808-150-P600Hex Post1501658.0 x 8.3S2D-24C2-0808-350-P600Hex Post3501658.0 x 8.3S2D-24C3-0808-150-P700Hex Post1502208.0 x 8.3S2D-24D2-0808-150-P600Hex Hole1501808.0 x 8.3S2D-24D2-0808-350-P600Hex Hole3501808.0 x 8.3S2D-24D3-0808-150-P700Hex Hole1502908.0 x 8.3S2D-24D3-0808-350-P700Hex Hole3502908.0 x 8.3

微流控芯片光刻机系统配件专业为微流控芯片制作而设计，用于刻画制作微结构表面。微流控芯片光刻机采用多功能一体化设计理念，一台光刻机具有六个传统单一的表面刻划机器的功能，而且不需要无尘环境，用户安装使用不再需要单独建设超净间，从而大大提高用户的使用经济性和方便性。微流控芯片光刻机全自动化和可编程操作，适合几乎所有常用材料，可以根据用户的芯片衬底基片尺寸，形状和厚度进行调节。微流控芯片光刻机是一种无掩模光刻系统，具有两个易操作的软件，用户可以创建个人微结构图案，从单个微通道到复杂的微观结构都可以创建。微流控芯片光刻机具有技术突破性设计和灵活性优势，非常适合加工微纳结构用于MEMS，BioMEMS，微流控系统，传感器，光学元件，MicroPatterning微图案化，实验室单芯片，CMOS传感器和所有其他需要微结构的应用。这款无掩模光刻系统可以快速而轻松地做出许多种微图案结构，从最简单到非常复杂的都可以。它的写入磁头装备有一个激光二极管（波长405纳米- 50毫瓦），光学扫描器和F-θ透镜（405纳米）。激光束根据设定微结构图案而运动。为了方便使用，较好的再现性和较高的质量，焦距是可以根据基片厚度进行调节的。图像采集期间可以使用控制面板调节焦距。几个基片厚度都可以使用。编程参数被保存以供以后使用，修改或其他用户使用。编号名称MSUP基于无掩模光刻系统和湿法刻蚀技术的微结构化表面的单位生产。

纳米升降台,纳米升降平台由中国领先的进口光学精密仪器旗舰型服务商-孚光精仪进口销售,精通光学，服务科学，先后为北京大学,中科院上海光机所,中国工程物理研究院,航天3院,哈工大,南开,山东大学等单位提供优质进口的纳米升降台,纳米升降平台,精密升降台。这款纳米升降台是美国进口的短行程的精密升降台,Elevator Stage,纳米升降平台特别适合竖直的Z轴应用，它具有极佳的上下定位功能，超高分辨率，超高重复精度和机械稳定性。产品特色：这款纳米升降台采用高密度交叉滚珠导向系统用于竖直导向，确保最大的稳定性。单立柱式的X滚珠导向系统提供了适度的高刚性，使得这款纳米定位台具有极小的滞后和相当大的承载能力。纳米升降台应用：这款纳米定位台比较适合对Z轴垂直升降精度较高要求的应用。比如，光学成像系统中焦平面的准直，半导体测试，视频测量等。纳米升降台参数行程：4mm驱动系统：无刷伺服-丝杆驱动最大速度：20mm/s最大负载；10kgTTL分辨率：100nm, 50nm, 25nm, 12.5nm, 10nm, 1nm重复精度：5x分辨率

上海屹持光电技术有限公司专业提供各种微纳结构加工服务典型案例： FIB加工微纳结构 紫外光刻微纳结构单晶硅反应离子刻蚀图片 ICP刻蚀微纳结构纳米压印点线图微流控细胞打印EBL 刻写微纳阵列FIB用于器件电极沉积激光直写图案激光直写器件微纳结构加工主要设备1，电子束曝光系统；2，聚焦离子束/ 扫描电子显微镜双束系统；3，双面对准接触式紫外光刻机；4，单面对准紫外光刻机；5，金属高密度等离子体刻蚀机；6，硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机；7，反应等离子体刻蚀机；8，纳米压印机。

秒激光直写光刻系统配件是专业为微纳结构的激光蚀刻而设计的激光直写光刻机，基于多光子聚合技术，适合市场上的各种光刻胶，能够以纳米精度和分辨率微纳加工各种三维结构。秒激光直写光刻系统配件特点激光光刻机3D模型制备直写光刻机直接激光刻划 激光光刻机整套系统到货即可使用激光光刻机提供100nm-10um的分辨率直写光刻机超小尺寸 激光光刻机3D模型的制备 这套三维光刻机由激光微加工系统软件控制，简单的3D模型通过这种软件即可生成，对于比较复杂的3D模型，用户可以通过Autodesk, AutoCAD等软件制作，然后导入到三维光刻机的软件中，这个软件支持.stl, dxf等格式的文件用于3D结构的制造。 激光光刻机激光直接读写 这套激光光刻机由飞秒激光光源，精密的3轴定位台和扫描镜组成。首先，待刻录的图形通过激光光刻机精密的激光聚焦系统直接从CAD设计中导入到光刻胶上。聚合物的双光子或多光子吸收用于形成高质量表面的3D结构。，这套激光蚀刻机提供纳米尺度分辨率和对聚合物的广泛选择，从而可以适合微纳光学,微流体,MEMS,功能表面制作等各种应用. 与CAD设计等同的3D结构形成后，未固化的光刻胶剩余物由有机溶剂洗掉,这样只留下蚀刻的微纳结构呈现在基板上。 激光光刻机后续工序： 在所需的微纳结构形成后，它被浸入到几种不同的溶剂中，以除去蚀刻过程中留下的液态聚合物。激光光刻机全部过程都是自动化的，重要参数可以根据要求而设定：浸入时间,温度等.对于特殊的样品或加工对象，可以使用紫外光或干燥机处理。秒激光直写光刻系统配件应用 ?激光光刻机用于纳米光子器件（三维光子晶体） ? 三维光刻机用于微流控芯片 ? 三维光刻机用于微光学（光学端面微结构制作） ? 激光光刻机制作机微机械 ?激光蚀刻机制作微型光机电系统 ? 激光光刻机,三维光刻机用于生物医学

微纳米图形的制作已成为半导体器件、微机电系统和纳米科学等研究中的基本手段。但传统设备昂贵、庞大，NanoPattern图形发生器可以利用电子束/离子束/探针具有容易控制和分辨率高的特点方便地获得微纳米图形。而且不像普通光刻机需要先制作掩膜，并且有更高的分辨率和灵活性。NanoPattern图形发生器可利用扫描电镜/聚焦离子束/扫描透射电镜的外接扫描口、束流测量装置和二次电子检测输出等而使其升级获得微纳米图形制作的功能并且不损失电镜原来的任何功能。结合扫描电镜/聚焦离子束/扫描透射电镜上的其他功能如电子

微图案化Micropatterning光刻是我们专业为科研客户加工制作微结构和微流控芯片而提供的一种订制化加工服务。我们根据微图案微结构使用相应的加工技术，如无掩模光刻（几个不同的光刻胶上的结构），在玻璃基板蚀刻并金属涂层沉积（铬蚀刻），湿法刻蚀等。无掩模光刻基板表面准备之后，旋涂光致抗蚀剂，得到一层均匀厚度。镀膜光致抗蚀剂晶片，然后进行“预烘烤”（软烘焙）除去过量的溶剂，准备将光致抗蚀剂暴露于激光束。光致抗蚀剂暴露于激光束下得到图案轨迹（无掩模光刻系统）。最后一步是暴露的光致抗蚀剂的开发。第二加热步骤（硬烘焙）是为了将图案稳定在基板表面。例子：微接触打印PDMS模具。请联系我们告知您的图案尺寸（光阻层高度和通道宽度）。玻璃湿法刻蚀以下的光刻工艺，液体（“湿”）化学剂可用于去除不受光致抗蚀剂保护区域的玻璃基板上的最上层：这是在湿蚀刻工艺。例子：微流控芯片的微通道制造请联系我们告知您的结构大小（微通道的宽度和深度）。金属层湿法刻蚀铬层（举例）可使用气相沉积技术来沉积。微观结构可以通过在金属层湿蚀刻产生。支持深化学腐蚀。例子：光模式和目标的生产。请联系我们告知金属类型，沉积层厚度和微通道的宽度。编号名称LC-22x22玻璃基板光刻.定制微型图案WEC-22x22玻璃湿法蚀刻。根据您的图样定制微观结构CEC-22x22铬蚀刻。玻璃基板。微观结构是根据您的图样

二氧化钛纳米捕获柱使用 Thermo Scientific™ 二氧化钛纳米捕获柱有助于对磷肽进行富集。订货信息：Nano-Trap ColumnsNano Trap Column, 100 μm i.d. x 1 cm, TiO2, 5 μm, Set of 2164205Nano Trap Column, 100 μm i.d. x 1 cm, TiO2, 5 μm, Set of 2164205Nano Trap Column, 200 μm i.d. x 1 cm, TiO2, 5 μm, Set of 2164215Nano Trap Column, 200 μm i.d. x 2 cm, TiO2, 5 μm, Set of 2164206Nano Trap Column, 100 μm i.d. x 1 cm, TiO2, 5 μm, Set of 2164205Nano Trap Column, 200 μm i.d. x 2 cm, TiO2, 5 μm, Set of 2164206Acclaim PepMap100 Nano Trap Column, C18, 5 μm, 100 A, 100 μm i.d. x 1 cm, Set of 2164197Acclaim PepMap100 Nano Trap Column, C18, 5 μm, 100 A, 100 μm i.d. x 2 cm, Set of 2164199Acclaim PepMap100 Nano Trap Column, C18, 5 μm, 100 A, 200 μm i.d. x 1 cm, Set of 2164212Acclaim PepMap100 Nano Trap Column, C18, 5 μm, 100 A, 200 μm i.d. x 2 cm, Set of 2164213The Titanium-Dioxide Nano-Trap columns support the enrichment of phosphopeptides. They are available in 100 μm and 200 μm i.d. format, and are packed with 5 μm particle size. In addition, a combination of Titanium-Dioxide and Acclaim PepMap100 C18 is also available. TIO2 Nano Precolumns SpecificationsI.D.100-μm200-μmStationary PhaseTIO2 5-μmTIO2 5-μmTIO2 5-μmTIO2 5-μmBed Length1 cm1 cm2 cm2 cm1 cm / 1 cm1 cm / 1 cmColumnFused-silicaFused-silica

高端炭基材料高剪切乳化机，环保水性纳米碳材高速乳化机，碳纳米管材料高剪切乳化机，碳纳米管浆液高剪切乳化机混合机，碳纳米复合母胶高剪切乳化机，液体黄金复合母胶高剪切乳化机混合机设备，超导电纳米碳材高速自吸粉混合机乳化机，炭黑高速自吸粉混合机设备 碳纳米管是一维的纳米材料，在工程材料域，碳管以其优异的物理机械性能成为聚合材料理想的填料。具有优异的力学性能、导电、导热性能，因而被认为是聚合物基复合材料理想的力学强化和功能改性材料，采用碳纳米管制成的复合材料表现出良好强度、弹性和抗疲劳性，碳纳米管也逐渐用于橡胶制品、轮胎、塑料等工业中。 但是，碳纳米管的呈纳米纤维状，自身易团聚和缠结，且碳纳米管表面为规整的石墨晶片结构，表面惰性大，与聚合物基体亲和性差，导致碳纳米管在橡胶基质中的分散性差，而且成本也高，这些限制了碳纳米管在橡胶中的规模化应用。 在橡胶工业中，将碳纳米管填充到各种橡胶基体以提高橡胶基体的性能成为研究高端橡胶产品的理想共混复合材料之一，但碳纳米管自身有着很高的表面自由能，易发生团聚现象，碳纳米管与基体间的相互作用是另一个难题，碳管表面没有任何反应官能图，碳管的惰性使其与聚合物基体间化学界面作用弱，碳纳米管对聚合物基体的改善效果难达到预期，因此制备出尺寸均匀，分散好，性能稳定的碳纳米管及其复合材料是拓展其应用域的需要。 目，在碳管的分散性及其复合材料研究中已经取得许多进展。常用的方法中是将采用表面活性剂对碳管表面改性，将其悬浮液与胶乳复合制得复合母胶，该技术在一定程度解决了碳纳米管的分散，但由于表面活性剂中其它基团的加入会降低复合母胶的性能；因此需要提供一种避免活性剂的加入影响碳纳米管与聚合物间结合的技术方案。 针对现阶段技术中存在的问题，在碳纳米管分散均匀的基础上在其表面引入羧基、羟基等官能团，避免偶联剂的加入影响碳纳米管与胶乳之间的结合。一种高分散碳纳米复合母胶的制备方法，包括以下步骤：1、将碳纳米管在分散液中剪切，制得短切碳纳米管悬浮液；2、通入氧化气体对短切碳管悬浮液氧化，制得短切碳纳米管氧化液；3、将补强材料加入短切碳纳米管氧化液，制得碳纳米管浆液；4、在碳纳米管浆液中加入偶联剂，制得复合浆液；5、将天然橡胶胶乳分散于复合浆液中，制得碳纳米管-天然橡胶复合材料；6、将碳纳米管-天然橡胶复合材料凝固、干燥制得高分散碳纳米复合母胶。 上海依肯根据市场技术需求结合多年来积累的成功案例经验特别推出ERS2000系列高剪切乳化机（混合机），ERS2000在线式高速高剪切乳化机，主要用于微乳液及超细悬浮液的生产。由于工作腔体内三组乳化分散头(定子+转子)同时工作，乳液经过高剪切后，液滴更细腻，粒径分布更窄，因而生成的混合液稳定性更好。三组乳化分散头均易于更换，适合不同的工艺应用。该系列中不同型号的机器都有相同的线速度和剪切率，非常易于扩大规模化生产。 上海依肯ERS2000系列高剪切乳化机（混合机）设备参数选型表：型号 标准流量L/H输出转速rpm标准线速度m/s马达功率KW进口尺寸出口尺寸ERS 2000/4300-100014000442.2DN25DN15ERS 2000/5300010500447.5DN40DN32ERS 2000/10800073004415DN50DN50ERS 2000/202000049004437DN80DN65ERS 2000/304000028504455DN150DN125ERS 2000/407000020004490DN150DN125高端炭基材料高剪切乳化机，环保水性纳米碳材高速乳化机，碳纳米管材料高剪切乳化机，碳纳米复合母胶高剪切乳化机，液体黄金复合母胶高剪切乳化机混合机设备，超导电纳米碳材高速自吸粉混合机乳化机，炭黑高速自吸粉混合机设备。。。需要了解更多详情请致电上海依肯机械设备有限公司 销售工程师 徐蒙蒙 182-0189-1183，公司有样机可以免费为客户进行测试验证实验。

纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒LIGHTSMYTH屹持光电提供各种纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒，为工业和科研提供低成本的纳米光子学研究。基板可用于光学、生物学、化学、物理学（例如中子散射）、聚合物研究、纳米压印、微流体等各种应用。如果需要，可以用金属或介电涂层涂覆基底。大多数表面特征具有略微梯形的横截面轮廓，具有直平行台面和沟槽。也可以使用格状结构。提供多种特征尺寸和沟槽深度。可以在发货之前拍摄基板的SEM图像以验证确切的轮廓。表中显示的尺寸代表目标值。周期的精度优于0.5％，而沟槽深度和线和空间的宽度可能与目标值相差15％。SEM用于说明目的。可定制更精确尺寸信息。纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒LIGHTSMYTH规格描述值基材宽度和高度公差标准公差±0.2 mm通光孔径（CA）距基板边缘0.5 mm（图案可延伸至基板边缘）基材厚度0.675±0.050mmCA表面质量P / N “-P”：60/40，最高20/10CA表面质量P / N “-S”：80/100CA外表面质量无要求材料单晶硅，反应离子蚀刻1、线性纳米棒（线+间隔）P/N周期（nm）凹槽深度（nm）工作周期1线宽度2（nm尺寸3（mm）SNS-C72-1212-50-P1395050％69.512.5×12.5×0.7SNS-C72-2525-50-P1395050％69.525×25×0.75SNS-C36-1212-110-P27811050％13912.5×12.5×0.7SNS-C24-1212-110-P416.611050％20812.5×12.5×0.7SNS-C20-0808-150-D45-P50015044％2208×8.3×0.7SNS-C20-0808-350-D45-P50035044％2208×8.3×0.7SNS-C20-0808-150-D60-P50015060％3008×8.3×0.7SNS-C20-0808-350-D60-P50035060％3008×8.3×0.7SNS-C18-2009-110-D50-P555.511050％27820×9×0.7SNS-C18-2009-140-D50-P555.514050％27820×9×0.7SNS-C18-2009-110-D29-P555.511029％15820×9×0.7SNS-C18-2009-140-D29-P555.514029％15820×9×0.7SNS-C16.7-0808-150-D45-P60015043％2608×8.3×0.7SNS-C16.7-0808-350-D45-P60035043％2608×8.3×0.7SNS-C16.7-0808-150-D55-P60015055％3308×8.3×0.7SNS-C16.7-0808-350-D55-P60035055％3308×8.3×0.7SNS-C16.5-2912-190-P60619050％30329×12×0.7SNS-C16.5-2912-190-S460619050％30329×12×0.7SNS-C16.5-2924-190-P60619050％30329×24.2×0.75SNS-C14.8-2410-170-P67517032％21824×10×0.7SNS-C14.8-2430-170-P67517032％21824×30.4×0.75SNS-C14.3-0808-150-D45-P70015047％3308×8.3×0.7SNS-C14.3-0808-350-D45-P70035047％3308×8.3×0.7SNS-C14.3-0808-150-D55-P70015055％3758×8.3×0.7SNS-C14.3-0808-150-D55-P70015055％3758×8.3×0.7SNS-C12-1212-200-P833.320050％41612.5×12.5×0.7SNS-C12-2525-200-P833.320050％41625×25×0.75SNS-C11.7-1212-200-P85520050％42812.5×12.5×0.7SNS-C11.7-2525-200-P85520050％42825×25×0.75纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒LIGHTSMYTH1 占空比表示线（台面）宽度与周期的比率。2 表示台面的宽度值。3 第二维对应于凹槽长度。4 以“-S”结尾的是“科研”等级。它至少有80％的可用面积。可能存在高达80/100表面质量值。5 可提供更大的自定义尺寸2、2D纳米图案（矩形和六边形网格）P/N周期（nm）格子类型凹槽深度特征宽度（nm）尺寸（mm）S2D-24B3-0808-150-P700矩形1502608×8.3×0.7S2D-24B3-0808-350-P700矩形3502608×8.3×0.7S2D-18B3-0808-150-P700矩形1503508×8.3×0.7S2D-18B3-0808-350-P700矩形3503508×8.3×0.7S2D-24C2-0808-150-P600六角1501658×8.3×0.7S2D-24C2-0808-350-P600六角3501658×8.3×0.7S2D-18C2-0808-150-P600六角1502408×8.3×0.7S2D-18C2-0808-350-P600六角3502408×8.3×0.7S2D-24C3-0808-150-P700六角1502208×8.3×0.7S2D-24C3-0808-350-P700六角3502208×8.3×0.7S2D-18C3-0808-150-P700六角1502908×8.3×0.7S2D-18C3-0808-350-P700六角3502908×8.3×0.7S2D-24D2-0808-150-P600六角孔1501808×8.3×0.7S2D-24D2-0808-350-P600六角孔3501808×8.3×0.7S2D-18D3-0808-150-P700六角孔1502008×8.3×0.7S2D-18D3-0808-350-P700六角孔3502008×8.3×0.7S2D-24D3-0808-150-P700六角孔1502908×8.3×0.7S2D-24D3-0808-350-P700六角孔3502908×8.3×0.7rect posthex posthex hole相关产品：脉冲压缩透射光栅高功率光束组合光谱衍射光栅光通信透射衍射光栅纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒

Kleindiek纳米操纵仪配件是为外部电子显微学制备样品而设计的超精密样品拾取装卸系统，它在纳米尺度灵活微操纵样品。Kleindiek纳米操纵仪配件安装安装有一根微夹钳，一个四轴辅台，在表面有一个允许快速接近的小型CCD摄像头。Kleindiek纳米操纵仪是由安装在一个超小型平台上的一个四轴辅台构成。在辅台上安装了一个微夹钳，促进提取。操作该辅台将预切样品放置在微夹钳下。在这之后，微夹钳夹住样品并轻轻地固定住样品，固定要足够牢固，只要使辅台向旁边下落，就可以将样品从大量材料提取出。一旦分离，在TEM网格上，将样品与SEM兼容胶水接触，并且用离子束固化。Kleindiek纳米操纵仪配件规格：取样室兼容平台上的辅台最大样品尺寸：30mm行程：X和Y =10mm行程：Z轴为3mm行程：R =360°（无限）速度：可达1mm/秒分辨率：笛卡尔运动没有反弹或翻转是大多数SEM和FIB工具的简单取样室装置几乎不受震动影响微夹钳运输和组装微型物体的高分辨率夹持器抓握区域：（5至10 μm）分辨率：20nm夹持力：5至5000μN（变量）最大跨度范围：20?40 μmSemCam样品表层的小相机允许快速接近包括显示器和LED照明

纳米颗粒分析仪配件用于观测和分析液体中的微小颗粒的布朗运动速率与尺寸分布相关，采用纳米颗粒跟踪分析（NTA）技术，通过激光散射装置（纳米观测）与超显微镜ultra-microscope和NTA软件的相结合，生成纳米颗粒图像，是全球领先的纳米粒度分析仪。纳米颗粒分析仪配件 纳米观测原理纳米颗粒分析仪使用纳米透视Nano-Insight 激光散射模块，可以通过顶眼超显微镜观测到液体中的纳米粒子。采用不同激光散射颗粒在矩阵中表现为模糊点。模糊点根据其各自的布朗运动而移动。液体中有不同的布朗运动粒子。小粒子比大粒子受到相邻粒子的影响更少。因此，在超显微图像中，较大的粒子有大的模糊外观。 NTA能够追踪粒子的相应路径。纳米观测模块纳米观测模块的设计，可以使其安装在超显微镜，顶眼纳米的底板。可以通过Mishell软件来控制该模块。Mishell软件控制着纳米观测模块以及照相机。根据应用决定在纳米观测模块装备一个或多个激光器。激光器以一种特殊的方式排列。左侧图片上展示的是纳米观测图。较小的粒子比较大的粒子移动更快。我们用摄像机同时跟踪每个粒子。顶眼超显微镜顶眼超显微镜将进入模糊点的散射光可视化。用适当的时间分辨跟踪，模糊云可被分配并与各自的粒径相关。粒子的布朗运动图像是唯一的。下面将给出例子。每个模糊点代表单个粒子。NTA 软件上图展示的是NTA分析的典型图像。散射激光被捕获到模糊点，要根据时间函数跟踪模糊点。我们跟踪每个模糊点。跟踪每个粒子的方法，得到的技术结果是高分辨率。我们正在寻找与图像相关的量，当我们知道相关的量后，我们就可以极其精确地确定各种粒子的浓度。该技术将会带起许多可能的应用。例如，可能也可以使用荧光激光器。使用荧光激光器，可以瞄准复杂的基质里的一个粒子。该技术带来的好处是，用户可以在视觉上检查并且通过观察相应图像验证所有可能的应用。MiNan是Mishell® 内的一个模块- 扩展图像分析软件包，被认为是市场上最先进的图像分析软件。MiNan是一个子程序，可以进行Morphious纳米粒子分析的全部描述。MiNan是自带Morphious纳米系统的软件，研发用于纳米粒子的可视化以及纳米粒子的大小、形状（形态）和浓度的测量。每个粒子是一个个体，但通过观测扩散同时被分析。这种一个粒子后接一个粒子的方法产生高分辨率的结果，即粒子的尺寸分布和浓度分辨率高，同时视觉验证让用户对数据有了额外的信心。当荧光模式检测标记粒子时，粒子尺寸和浓度，蛋白质聚集和粘度都可以被分析。纳米颗粒分析仪配件应用?在制药或复合产业研发药物?用于病毒筛查?用于开发纳米生物标记物或毒物筛查?用于蛋白质聚集的动力学模型研究?用于通过膜泡的表征研究疾病?用于促进纳米复合材料的发展纳米颗粒分析仪配件特色?在同一时间多粒子高通量表征?实时视觉展示粒子，允许用户评估试验，无需额外复杂性?方便和易于使用的软件，允许用户通过宏设置任何实验?添加像高通量自动采样器，泵或加热和制冷配件?自适应模块化系统构建任何复杂的应用程序，操作轻松舒适?超级高效和购买成本低?该系统提供高分辨率的粒度特性来研究复杂的多分散矩阵?激光波长可选择?通过给过滤器添加电动轮，得到自适应荧光分析纳米颗粒分析仪配件参数?尺寸10 nm - 2000 nm*?浓度 106 - 109 粒子/ mL?荧光检测纳米颗粒分析仪配件规格温度范围15-40 °C电源230V AC/115V AC, 50/60 Hz摄像机USB3 CMOS分辨率：1936x1216 161帧/秒，像素尺寸5.86μm：颜色校准模块功耗18W激光波长405nm（紫色），488nm（蓝），532nm（绿），642nm（红色）尺寸范围从10 nm到2000 nm (取决于材料)焦点电脑控制电动调焦个人计算机SDD亿康II SDSSDHII-120G-G25HDD西数蓝WD10EZEX1 TB|主板千兆字节GA-Z97X-UD3H|内存金士顿骇客神条怒黑| HX318C10FBK2/1616 GB DDR3-RAM处理器英特尔® 酷睿™ i7 i7-4790K四核4×4.0 GHz显卡 PNY VCQK2200-PB 4GB电源 酷冷至尊G750M 750w机箱 酷冷至尊黑软件Windows® ＆（或更高）.由Mishell® 供电Mishell是Microptik BV公司的注册商标。Windows是微软公司的注册商标。MiNan尖端程序在Mishell下运行，以充分体现由Morphious纳米获得的纳米粒子尺寸（长×宽×高）20 x 18 x 30 cm重量10.5 kg

更快更成熟的培养细胞和组织纳米仿生拓扑结构培养皿建构培养细胞和组织，以提高生理相关性。 与在常规培养皿中培养的细胞相比，在纳米仿生培养皿中培养的细胞表现出增强的结构和表型发育。纳米仿生地形诱导细胞骨架重组和细胞对齐。 NanoSurface仿生培养皿沿用标准的应用于高质量成像的1.5号玻璃底。单皿 35mm Ø dish (20mm Ø pattern area)6孔板 35mm Ø wells (20mm Ø pattern area)24孔板 20mm Ø wells (full well area patterned)96孔板 5mm Ø wells (full well area patterned)No. 1.5 玻片NanoSurface纳米仿生拓扑培养皿快速建构和成熟以下众多细胞类型。骨骼肌细胞平滑肌细胞内皮细胞人类胚胎干细胞诱导多功能干细胞间充质干细胞成纤维细胞上皮细胞癌细胞如果没有仿生表面形貌，心肌细胞在常规培养表面上呈现随机取向，紊乱的收缩模式和不成熟的功能表型。仿生纳米级表面形貌模仿天然细胞外基质的对齐结构。纳米表面拓扑图案培养表面提供模拟天然细胞外基质的排列结构的细胞微环境，促进细胞结构和功能发育原生心肌的基础基质具有对齐的结构 (标尺 10 µ m)。

更快更成熟的培养细胞和组织纳米仿生拓扑结构培养皿建构培养细胞和组织，以提高生理相关性。 与在常规培养皿中培养的细胞相比，在纳米仿生培养皿中培养的细胞表现出增强的结构和表型发育。纳米仿生地形诱导细胞骨架重组和细胞对齐。 NanoSurface仿生培养皿沿用标准的应用于高质量成像的1.5号玻璃底。单皿 35mm Ø dish (20mm Ø pattern area)6孔板 35mm Ø wells (20mm Ø pattern area)24孔板 20mm Ø wells (full well area patterned)96孔板 5mm Ø wells (full well area patterned)No. 1.5 玻片NanoSurface纳米仿生拓扑培养皿快速建构和成熟以下众多细胞类型。骨骼肌细胞平滑肌细胞内皮细胞人类胚胎干细胞诱导多功能干细胞间充质干细胞成纤维细胞上皮细胞癌细胞如果没有仿生表面形貌，心肌细胞在常规培养表面上呈现随机取向，紊乱的收缩模式和不成熟的功能表型。仿生纳米级表面形貌模仿天然细胞外基质的对齐结构。纳米表面拓扑图案培养表面提供模拟天然细胞外基质的排列结构的细胞微环境，促进细胞结构和功能发育原生心肌的基础基质具有对齐的结构 (标尺 10 µ m)。

多功能纳米压痕仪配件通过扫描材料表面实现对材料力学性能的纳米尺度的高精度测量，精确给出硬度，弹性模量，杨氏模量等材料力学性能。多功能纳米压痕仪配件特色最高位移测量能力可达300mkm, 最高负载科大100mN。实现静态压痕和动态压痕测量以及sclerometry测量具备原子力显微镜和纳米硬度测量仪的功能采用模块化设计，可广泛集成原子力显微镜，光学显微镜，激光干涉仪器等尖端材料表面测量仪器，为用户提供综合性材料微观力学测试方案。多功能纳米压痕仪配件选型4D紧凑型多功能纳米压痕仪4D紧凑型是全球结构最为紧凑小巧的纳米硬度测试仪，它采用纳米压痕法测量材料硬度和弹性模量（杨氏模量），负载高达2N,广泛用于材料力学性能测量研究。也非常适合大学或研究单位的纳米压痕仪测量硬度的教学或演示教学。4D标准型多功能纳米压痕仪4D标准型具有测量材料硬度，弹性模量和其它力学性能的功能。它采用静态和动态纳米压痕技术以及sclerometry方法测量材料性能。并且可以接触式或半接触式地测量材料表面形貌，采用光学显微镜高精度地对压头和样品进行精确互动性定位。多功能纳米压痕仪4D标准型还可以接入另外的传感器或测量模块，实现对材料表面进行其它测量。4D+增强型多功能纳米压痕仪4D+增强型配置是全球功能最多的多功能纳米硬度测量仪器。它具有纳米压痕仪和原子力显微镜的功能，具备了所有的物理和力学性能测量能力。它具有原子力显微镜测量模块，能够以纳米级分辨率研究压痕后留下的表面痕迹和图像，并能够全自动测量，可以批量处理分析测量结果。

瑞士Lyncee Tec SA www.lynceetec.com 瑞士Lyncee Tec SA公司的数字全息显微镜&ldquo DHM（Digital Holographic Microscopy）是划时代性的高科技技术产品，科学史上第一次, 数字全息显微镜可以直接观测到纳米尺度的分辨率,即时得到样品三维型貌,并且是无接触式的无损测量。 DHM 1000 Family将波长630nm的半导体激光分成照射到试料的光和参照光两部分来使用。共包括两大品种，一种是试料反射光与参照光进行干涉的&ldquo 技术参数： 测量原理： 反射式数字全相术干涉显微镜 （R1000系列） 或 穿透式数字全相术干涉显微镜（T1000 系列） 取像型式： 强化与量化的相位对比影像 光源： 单波长雷射光源 样品台： 手动3 轴, x, y, z 各可位移25毫米 选配：较大位移的样品台 选配：软件自动控制的2轴或3轴样品台 照相机： 1392 x 1040 像素, 8 bits 可选物镜： 1.25x, 2.5x, 5x, 10x, 20x, 50x, 63x, 100x 选配：长工作距离物镜, 油浸渍物镜 物镜安装： 单物镜安装, 双物镜的滑动块或四物镜的转盘安置 计算机： 应为DHM配置含最新的Pentium? 处理器和视窗XP 专业版个人电脑为佳, 显示则需19寸, 1280 x 1024 像素的显示屏 软件： Lyncee Tec专利的&ldquo 袋熊"经典软件, 是利用C++ 和 .NET技术,专为在视窗XP?的3维表面成型, 曲面测量, 步进高度与粗度测量写成的. 选配工作模式： 垂直扫描与频闪观测模式 性能 垂直的分辨率（＊） 瞬间：0.2° （在空气中0.2奈米） 空间：0.6° （在空气中0.6奈米） 垂直数字聚焦范围 视区50倍深度（取决于物镜） 垂直测量范围： 对平滑样品, 取决於测量区域的深度 340 奈米 （用选配的垂直扫描模式, 范围可以测得更高） 横向的分辨率 （＊＊）: 取决于物镜： 用油浸渍的物镜（1.4 NA）, 最低可测到300奈米， 可视区域： 取决于物镜可达到4.40毫米 横向取样： 1024 x 1024 像素 （全像照相） 撷取影像速率 实时影像：15 fps （512 x 512 像素）, 4 fps （1024 x 1024像素） 离线重建：15 fps （1024 x 1024） （10000 fps速率为选配） 样品照明： 低至 1?W/cm2 最大样品尺寸： H x W：200毫米 x 123毫米 （R1000系列） 50毫米 x 150毫米 （T1000 系列） 工作距离： 取决于物镜：从 0.30毫米 至 20毫米 取样反射率 （R1000系列）： 低至小於1% 撷取时间： 单一影像撷取, 低至小於 1微秒 （无扫描机械装置, 无相位移） 主要特点： 实时监测影像 获取与重建速率（标准15 fps, 大于15 fps为选配） 非常快速, 使得影像可以实时监看. 观看动态事件的过程和活细胞的相互作用现象由此变为可能. 坚固 & 稳定 非常短的取像时间 （数微秒） 使得此设备在测量时, 几乎不受外在的振动影响, 用防震台面也变得不需要. DHM? 的坚固与稳定性, 允许非常微弱, 缓慢的变形或移动, 需稳定性非常好或时间超常的测量. 高分辨率 沿着垂直 （Z） 轴的分辨率,小于1奈米. 横向的分辨率 （在XY平面） 取决于物镜的数值孔徑 （用油浸渍的物镜可测得300奈米）, 像传统的光学显微镜. 非接触式 & 完全非侵入式测量 低功率可见光的样品照明 （至少低于共焦式显微镜10"000倍）, 与试片表面不接触, DHM? 可以保存你样品完整的特性. 此外, 生物试片可以直接观看不需染色, 因此可以防止化学性或物理性的危害. 值得有效的解决方案 DHM? 的安装费与操作费用都非常低廉. 适应性与弹性使它们在高分辨率显微镜领域非常有竞争性. 这些特性使DHM?在研发和制程品管上, 成为非常值得, 有效的工具. 友善的操作 无须样品准备, 无须特别的环境 （温度, 真空, ...）, 样品不需高精准度的位置与方向摆放, DHM? 简化技术, 让使用者可以非常容易并快速的获得准确的测量. 功能强大三维空间处理软件 可以用相同的仪器, 不同的操作模式去延伸你的应用范围. DHM-提供了无与伦比特有的数字工具, 改善了仪器使用的容易性与耐用性, 也增加了测量的准确性与稳定性. 标准和先进的量测接口, 使外在控制可在欢乐和弹性的环境中达成. 瑞士Lyncee Tec SA公司的数字全息显微镜&ldquo DHM（Digital Holographic Microscopy）是划时代性的高科技技术产品，科学史上第一次, 数字全息显微镜可以直接观测到纳米尺度的分辨率,即时得到样品三维型貌,并且是无接触式的无损测量。DHM 1000 Family将波长630nm的半导体激光分成照射到试料的光和参照光两部分来使用。共包括两大品种，一种是试料反射光与参照光进行干涉的&ldquo R1000 series&rdquo ，另一种是试料透过光与参照光进行干涉的&ldquo T1000 series&rdquo 。照射到试料上的光线与参照光产生的干涉图案使用CCD相机，作为数字数据保存下来，由此算出三维数据。计算三维数据时使用的是专用软件&ldquo Koala Software&rdquo 。 应用： 其主要应用是在MEMS研发中用于测量工作，以及在生产线用于缺陷检测。与上述用途中现在经常使用的共焦显微镜相比，在同行分辨率下能够更高速地进行测量。垂直方向的分辨率为0.6nm，水平方向为200nm～300nm（取决于物镜）。使用1.25倍率的物镜时视野为4mm× 4mm，可以15视野/秒的速度进行测量。因此，1cm见方的试料几分钟即可完成观察。使用现有共焦显微镜时，同等范围的观察则需要几个小时～10小时。 此次的产品最大可将观察速度扩展至1万视野/秒。由于摄影速度快，因此不需除震台，可用来检测流水线上的产品。 u 材料科学 u MEMS/MOEMS 微型词典系统 u Micro-optics 显微光学 u Semiconductor 半导体 u Nanotechnology纳米技术 u 生命科学 u Cellular biology 细胞生物 u Biochips生物芯片 u Bio-sensors生物传感器

瑞士Lyncee Tec SA www.lynceetec.com 瑞士Lyncee Tec SA公司的数字全息显微镜&ldquo DHM（Digital Holographic Microscopy）是划时代性的高科技技术产品，科学史上第一次, 数字全息显微镜可以直接观测到纳米尺度的分辨率,即时得到样品三维型貌,并且是无接触式的无损测量。DHM 1000 Family将波长630nm的半导体激光分成照射到试料的光和参照光两部分来使用。共包括两大品种，一种是试料反射光与参照光进行干涉的&ldquo技术参数：测量原理： 反射式数字全相术干涉显微镜 （R1000系列） 或穿透式数字全相术干涉显微镜（T1000 系列）取像型式： 强化与量化的相位对比影像光源： 单波长雷射光源样品台： 手动3 轴, x, y, z 各可位移25毫米选配：较大位移的样品台选配：软件自动控制的2轴或3轴样品台照相机： 1392 x 1040 像素, 8 bits可选物镜： 1.25x, 2.5x, 5x, 10x, 20x, 50x, 63x, 100x选配：长工作距离物镜, 油浸渍物镜物镜安装： 单物镜安装, 双物镜的滑动块或四物镜的转盘安置计算机： 应为DHM配置含最新的Pentium? 处理器和视窗XP 专业版个人电脑为佳, 显示则需19寸, 1280 x 1024 像素的显示屏软件： Lyncee Tec专利的&ldquo 袋熊"经典软件, 是利用C++ 和 .NET技术,专为在视窗XP?的3维表面成型, 曲面测量, 步进高度与粗度测量写成的.选配工作模式： 垂直扫描与频闪观测模式性能垂直的分辨率（＊） 瞬间：0.2° （在空气中0.2奈米）空间：0.6° （在空气中0.6奈米）垂直数字聚焦范围 视区50倍深度（取决于物镜）垂直测量范围： 对平滑样品, 取决於测量区域的深度340 奈米 （用选配的垂直扫描模式, 范围可以测得更高）横向的分辨率 （＊＊）: 取决于物镜： 用油浸渍的物镜（1.4 NA）, 最低可测到300奈米，可视区域： 取决于物镜可达到4.40毫米横向取样： 1024 x 1024 像素 （全像照相）撷取影像速率 实时影像：15 fps （512 x 512 像素）, 4 fps （1024 x 1024像素）离线重建：15 fps （1024 x 1024） （10000 fps速率为选配）样品照明： 低至 1?W/cm2最大样品尺寸： H x W：200毫米 x 123毫米 （R1000系列）50毫米 x 150毫米 （T1000 系列）工作距离： 取决于物镜：从 0.30毫米 至 20毫米取样反射率 （R1000系列）： 低至小於1%撷取时间： 单一影像撷取, 低至小於 1微秒 （无扫描机械装置, 无相位移）主要特点：实时监测影像获取与重建速率（标准15 fps, 大于15 fps为选配） 非常快速, 使得影像可以实时监看. 观看动态事件的过程和活细胞的相互作用现象由此变为可能.坚固 & 稳定非常短的取像时间 （数微秒） 使得此设备在测量时, 几乎不受外在的振动影响, 用防震台面也变得不需要. DHM? 的坚固与稳定性, 允许非常微弱, 缓慢的变形或移动, 需稳定性非常好或时间超常的测量.高分辨率沿着垂直 （Z） 轴的分辨率,小于1奈米. 横向的分辨率 （在XY平面） 取决于物镜的数值孔徑 （用油浸渍的物镜可测得300奈米）, 像传统的光学显微镜.非接触式 & 完全非侵入式测量低功率可见光的样品照明 （至少低于共焦式显微镜10"000倍）, 与试片表面不接触, DHM? 可以保存你样品完整的特性. 此外, 生物试片可以直接观看不需染色, 因此可以防止化学性或物理性的危害.值得有效的解决方案DHM? 的安装费与操作费用都非常低廉. 适应性与弹性使它们在高分辨率显微镜领域非常有竞争性. 这些特性使DHM?在研发和制程品管上, 成为非常值得, 有效的工具.友善的操作无须样品准备, 无须特别的环境 （温度, 真空, ...）, 样品不需高精准度的位置与方向摆放, DHM? 简化技术, 让使用者可以非常容易并快速的获得准确的测量.功能强大三维空间处理软件可以用相同的仪器, 不同的操作模式去延伸你的应用范围. DHM-提供了无与伦比特有的数字工具, 改善了仪器使用的容易性与耐用性, 也增加了测量的准确性与稳定性. 标准和先进的量测接口, 使外在控制可在欢乐和弹性的环境中达成.瑞士Lyncee Tec SA公司的数字全息显微镜&ldquo DHM（Digital Holographic Microscopy）是划时代性的高科技技术产品，科学史上第一次, 数字全息显微镜可以直接观测到纳米尺度的分辨率,即时得到样品三维型貌,并且是无接触式的无损测量。DHM 1000 Family将波长630nm的半导体激光分成照射到试料的光和参照光两部分来使用。共包括两大品种，一种是试料反射光与参照光进行干涉的&ldquo R1000 series&rdquo ，另一种是试料透过光与参照光进行干涉的&ldquo T1000 series&rdquo 。照射到试料上的光线与参照光产生的干涉图案使用CCD相机，作为数字数据保存下来，由此算出三维数据。计算三维数据时使用的是专用软件&ldquo Koala Software&rdquo 。应用：其主要应用是在MEMS研发中用于测量工作，以及在生产线用于缺陷检测。与上述用途中现在经常使用的共焦显微镜相比，在同行分辨率下能够更高速地进行测量。垂直方向的分辨率为0.6nm，水平方向为200nm～300nm（取决于物镜）。使用1.25倍率的物镜时视野为4mm× 4mm，可以15视野/秒的速度进行测量。因此，1cm见方的试料几分钟即可完成观察。使用现有共焦显微镜时，同等范围的观察则需要几个小时～10小时。 此次的产品最大可将观察速度扩展至1万视野/秒。由于摄影速度快，因此不需除震台，可用来检测流水线上的产品。u 材料科学u MEMS/MOEMS 微型词典系统u Micro-optics 显微光学u Semiconductor 半导体u Nanotechnology纳米技术u 生命科学u Cellular biology 细胞生物u Biochips生物芯片u Bio-sensors生物传感器

碳具有 的特性： 按照质量，碳是宇宙中第4丰富的元素，也是 化学活性的元素之一。碳不仅能与其他元素结合，而且可与自身结合，形成最坚硬的金刚石和最软的石墨。碳还是有机化学和所有已知生命的根基。碳有几乎无限的应用。近年来，包括石墨烯（碳的二维形式）和单壁碳纳米管（主要为柱状石墨烯）在内的形态表现出非凡的属性，鼓舞着世界各地的科学家寻找各种用途。与石墨烯一样，单壁碳纳米管的属性充满前途，甚至有可能改变全球产业的面貌。与石墨烯不同的是，2014 年开始就有大量单壁碳纳米管在全球范围内供货。TUBALL由单壁碳纳米管构成，“成品”杂质含量极低（SWCNT含量≥75％），且在大多数应用中无需进一步的纯化。TUBALL具有独特的物理属性，可提高大多数材料的强度、导电性和/或导热性，包括聚合物复合材料、橡胶、金属和许多其他材料。与多壁碳纳米管、碳纤维和大多数类型的碳黑不同，TUBALL在添加 0.001％-0.1％ 的重量后即可显著改善材料属性。产品特点：填料重量含量达到 0.001％ 时开始展现功效同时提高材料属性（机械强度、导电性和导热性）各种潜在应用： 聚合物复合材料、橡胶、金属和许多其他材料高质量的SWCNT含量（数量 ≥ 75％，G/D大于50）无定形碳含量小（低于 1％）铁 (Fe) 催化剂颗粒包封在碳外壳中在大多数应用中，无需对生产过程做任何额外更改市场价格比具有同类质量和属性的所有其他产品低50倍技术参数规格计量单位数值评价方法碳含量wt.%85TGA, EDXCNTwt.%≥75TEM, TGA碳纳米管的层数单位1-2TEM碳纳米管的平均外径nm1.8±0.4拉曼光谱, TEMCNT长度um5AFM金属杂质wt.%EDX, TGA根据特定客户的要求，可对任何所需数量的TUBALL进一步纯化与功能化，从而达到以下规格：

碳纳米管浆料高剪切研磨分散机，超高速碳纳米管浆料高剪切研磨分散机设备厂家，碳纳米管浆料研磨分散机,锂电池浆料研磨分散机,导电浆料研磨分散机,锂电池研磨分散设备IKN研磨分散机,锂电池浆料分散难点,研磨分散机在锂电池浆料分散中的优势。 碳纳米管导电浆料主要由碳纳米管、其他导电填料、分散助剂、和溶剂组成其质量百分比组成为:碳纳米管:0.5-15%其他导电物质0.1-2%,分散剂:0.1-5%,其余为溶剂。 该碳纳米管导电浆料制备方法为:先将分散助剂溶解在溶剂中然后在搅拌条件下加入碳纳米管和其他导电填料,待碳纳米管和其他导电填料充分浸润后,采用IKN研磨分散机对浆料进行研磨分散几小时后即可得到稳定分散的碳纳米管导电浆料。本发明方法简单不破坏碳纳米管结构和导电性,所制得的碳纳米管导电浆料具有优良的导电性,且性质稳定均一,静置3个月后,浆料稳定性 90%。对于碳纳米管浆料以及其他锂电池浆料的研磨分散普遍存在着2个难以解决的问题:1、研磨的细度,传统的设备研磨设备是通过刀头去磨细，这样经常会破坏碳纳米管结构和导电性,使物料变性。而IKN研磨分散机.细化物料更多的是通过物料与物料直接的撞击来完成研磨细化的功能，不会破坏物料结构。2、容易形成二团聚体在碳纳米管粒径细化之后，由于分子之间的作用力，小的物料又会二次团聚从而影响zui终产品的物料粒径以及分散的效果。IKN研磨分散机很好的克服了二团聚的现象 IKN研磨分散机是研磨机和分散机-体化的设备,在碳纳米管浆料粒径细化后瞬间通过分散工作腔进行分散避免二次团聚的现象。 超高速碳纳米管浆料高剪切研磨分散机设备厂家CMD2000系列研磨分散设备是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。 我们将三高剪切均质乳化机进行改装我们将三变跟为一然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)。 碳纳米管浆料研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。第1由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下凹槽在每都可以改变方向 第二由转定子组成， 分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。碳纳米管浆料研磨分散机的特点：①线速度很高剪切间隙非常小当物料经过的时候形成的摩擦力就比较剧烈结果就是通常所说的湿磨。②定转子被制成圆椎形具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。③定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离④在增强的流体湍流下凹槽在每都可以改变方向。⑤高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。碳纳米管浆料研磨分散机,锂电池浆料研磨分散机导电浆料研磨分散机,锂电池研磨分散设备锂电池浆料分散难点研磨分散机在锂电池浆料分散中的优势。

孚光精仪品牌的多功能纳米硬度计配件通过扫描材料表面实现对材料力学性能的纳米尺度的高精度测量，精确给出硬度，弹性模量，杨氏模量等材料力学性能。多功能纳米硬度计配件特色具备原子力显微镜和纳米压痕仪的功能实现静态压痕和动态压痕测量以及测量最高位移测量能力可达300mkm, 最高负载科大100mN。采用模块化设计，可广泛集成原子力显微镜，光学显微镜，激光干涉仪器等尖端材料表面测量仪器，为用户提供综合性材料微观力学测试方案。多功能纳米硬度计配件选型4D紧凑型纳米硬度计4D紧凑型是全球结构最为紧凑小巧的纳米硬度测试仪，它采用纳米压痕法测量材料硬度和弹性模量（杨氏模量），负载高达2N,广泛用于材料力学性能测量研究。也非常适合大学或研究单位的纳米压痕仪测量硬度的教学或演示教学。4D标准型纳米硬度计4D标准型具有测量材料硬度，弹性模量和其它力学性能的功能。它采用静态和动态纳米压痕技术以及sclerometry方法测量材料性能。并且可以接触式或半接触式地测量材料表面形貌，采用光学显微镜高精度地对压头和样品进行精确互动性定位。纳米硬度计4D标准型还可以接入另外的传感器或测量模块，实现对材料表面进行其它测量。4D+增强型纳米硬度计4D+增强型配置是全球功能最多的多功能纳米硬度测量仪器。它具有纳米压痕仪和原子力显微镜的功能，具备了所有的物理和力学性能测量能力。它具有原子力显微镜测量模块，能够以纳米级分辨率研究压痕后留下的表面痕迹和图像，并能够全自动测量，可以批量处理分析测量结果。

参数：Agnws-120平均直径/纳米：120平均长度/微米：20银纯度（%）：99.5浓度（毫克/毫升）：20Agnws-200平均直径/纳米：200平均长度/微米：25银纯度（%）：99.5浓度（毫克/毫升）：20Agnws-300平均直径/纳米：300平均长度/微米：30银纯度（%）：99.5浓度（毫克/毫升）：20Agnws-400平均直径/纳米：400平均长度/微米：30银纯度（%）：99.5浓度（毫克/毫升）：20Parameter:Agnws-120Average Diameter/nm：120Average Length/um：20Silver Purity (%)：99.5Concentration (mg/ml)：20Agnws-200Average Diameter/nm：200Average Length/um：25Silver Purity (%)：~99.5Concentration (mg/ml)：20Agnws-300Average Diameter/nm：300Average Length/um：30Silver Purity (%)：~99.5Concentration (mg/ml)：20Agnws-400Average Diameter/nm：400Average Length/um：30Silver Purity (%)：~99.5Concentration (mg/ml)：20

体相位全息光栅用于脉冲压缩，以产生更短、更强的激光脉冲。筱晓光子的增强型体相位全息光栅(VPH)，在高功率超快激光器的脉冲压缩和脉冲加宽方面非常出色。我们的超清透射光栅是目前市场上同类产品效率超高的，几乎没有重影或散射。与表面浮雕光栅不同，我们的光栅易于清洁和处理。您可以从我们的库存光栅系列中选择产品，或联系我们定制OEM设计和材料。我们是您的合作伙伴，提供小批量制作或批量生产。技术参数尺寸： 25 x 35 毫米，4 毫米厚 | 30 x 45 毫米，6 毫米厚零件编号： WP-800/1030-25x35、WP-800/1030-30x45表面质量： 60-40 刮擦( scratch-dig)衍射波前(DIFFRACTED WAVEFRONT)： λ/5 rms @ 633 nm，直径为 1"空间频率： 800 l/mm +/- 0.5 l/mm连续波： 1030 纳米入射角 (AOI)： 24.3° @ 1030 nm厚度公差： +/- 0.25（仅限 6 mm 光栅）倒角： 0.25-0.75 mm 面宽倒角角度/公差： 45° +/-15°增透膜： 0.5% 反射；980-1080 纳米基板和盖板玻璃： 2 毫米熔融石英（总厚度 4 毫米）| 3 mm 熔融石英（6 mm 总厚度）透明孔径： 10 x 19 毫米 | 24 x 39 毫米尺寸： A=25 毫米 B=35 毫米 T=4 毫米 | A=30 毫米 B=45 毫米 T=6 毫米通用参数特点和优势优秀的一阶衍射效率全光谱波段的高透射率低波前失真，极小散射通光孔径上的均匀衍射效率，使光束失真极小非常适合高脉冲能量应用坚固的设计，便于清洁光学设计灵活性大 更高效和等值性；波前畸变更小。我们的体相位全息光栅在性能上非常优秀，并且比传统的表面浮雕光栅更耐用。我们的专li工艺将光栅结构封装在坚固的包装中，便于搬运和清洁。许多设计者使用传输脉冲压缩腔设计，以实现其灵活、紧凑、可折叠的功能。我们的等值效率、最小散射和低波前畸变能确保产生超短、超干净的脉冲。可根据您具体尺寸、波长和色散需求定制透射式体相位全息光栅（VPH）。如有需求，请联系我们吧！OEM解决方案筱晓光子团队熟悉制造波长高达2500nm的高质量脉冲压缩光栅所需的工艺。在每个设计和测试过程中，我们与OEM伙伴合作，在我们的站点建立客户特定的测试配置，以减少入站测试负担，确保系统就绪性能。 WP-800/1030-xxWP-1250/1030-xxWP-1700/1030-xx标称波长980 – 1080nm1020 – 1040nm 1020 – 1040nm 中间波长的峰值效率≥ 96%，s-pol≥ 94%，s-pol≥ 94%，s-pol空间频率800± 0.5 lines/mm1250± 0.5 lines/mm1700 ±0.5 lines/mm入射角24.3° @ 1030nm40.1° @ 1030nm61.1° @ 1030nm可选尺寸(-xx)25 x 35 x 4mm30 x 45 x 6mm28 x 92 x 6mm30 x 90 x 6mm波前畸变标准:λ/5 rms |增强:λ/10 rms (@ 632.8nm)表面质量60-40 S/D抗反射涂层标准:R 1.0% |增强:R 0.5%(超过带宽) 凭借超过150年的经验，我们的团队随时满足您苛刻的项目需求。 我们测量每一台透射体相位全息光栅（VHP），以确保其出色的一级衍射效率。大部分供应商只提供总衍射效率的理论图，并这并不真正代表实际性能。

英诺色谱现提供新型的Polymicro纳米石英毛细管，实现了传统产品一微米尺寸上的突破。 Polymicros的纳米毛细管产品线中管路内径（ID）范围为200至1,000 纳米（0.2至1.0微米）。传统的毛细管产品内径不小于1微米。在纳米毛细管开发之前，对于科学、工业以及医疗界来说，小于 1 微米直径基板的主要选择包括湿式蚀刻或离子铣，这两种技术的成本都极为高昂，相对来说难以采用。 Polymicro的毛细管建立在行业领先的功能之上，在小于1微米的尺寸内可以实现高性价比的高性能毛细管产品。这类毛细管已被证实可作为封装完整性和泄漏试验的基板，还具有单分子研究和分析的潜力。通过SEM验证可以确保对直径的控制。 合成熔融石英具有镜面般光滑的内表面，可实现液体和气体的稳定流动。材料的金属离子含量较低，使内表面产生惰性，便于有效的断裂或切割操作，达到定制的管路长度。此外，管路外部的聚酰亚胺涂层在搬运和使用过程中具有出色的的耐磨性，使管路可用于-65oC至+350oC的温度。 有关科学应用包括分析化学、层析技术、纳米流体力学、直接进样口监控、基于倏逝波吸收的传感，以及同轴光学和射流元件。工业应用则包括管壳泄漏试验、蒸发冷却系统、石油分析以及催化研究。医疗应用包括药物递送、流量控制系统、临床和诊断设备，以及可穿戴式药物递送设备。零件号产品号内径*(nm)外径(μm)涂层厚度(μm)每卷最大包装(m)1068150033TSP000.2375NC200 +200/-100363 ± 1020101068150035TSP000.6375NC600 ± 200363 ± 1020101068150037TSP001.0375NC1000 ± 500363 ± 102010*以线盘标签上标识的实际内径测量尺寸为准。

科德诺思提供的多壁碳纳米管（MWCNTs）基础参数外径：10 nm-20 nm尺寸：5 μm , average length, TEM 15 nm , average diameter, HRTEM比表面积：225±25 m2/g 订购信息：货号产品名称描述包装规格OD65192草铵膦净化管符合《GB 23200.108-2018植物源性食品中草铵膦残留量的测定 液相色谱-质谱联用法》，适用于蔬菜、水果、食用菌类。5mg50/盒OD65193草铵膦净化管符合《GB 23200.108-2018植物源性食品中草铵膦残留量的测定 液相色谱-质谱联用法》，适用于谷物类、油料作物和植物油、坚果、茶叶、香辛料。55mg50/盒KSCL012多壁碳纳米管 填料填料，《GB 23200.108-2018植物源性食品中草铵膦残留量的测定 液相色谱-质谱联用法》10g/瓶北京科德诺思（KNORTH）技术有限公司（简称：科德诺思）2020 年在北京成立。公司自主创新研发、生产、销售及技术服务为一体创新型综合服务企业，目前公司拥有三项专利技术。公司研发团队拥有博士后 1 名，博士 2 名，研究生4 名，具有丰富色谱分离技术，实验经验丰富。 公司主要提供：标准物质、标准品、对照品、实验室常规耗材、快检耗材及前处理设备、检测服务、质量控制相关技术服务。 服务对象: 科研机构、农业、市场监管、高校、第三方检测、企业及质谱公司提供优质完善的前处理解决方案。 科德诺思（KNORTH）将不断持续提升产品性能，检测能力、标准物质制备能力及服务能力，为广大分析测试工作者提供前处理整体解决方案。我们期待与更多伙伴合作，实现共赢！

GATTA-SIM NANORULER来自德国GATTA-SIM系列Nanorulers（纳米尺）是检查您的SIM系统（单分子定位超分辨显微镜）分辨率的完美样本。单色纳米尺子携带两个由高量子产率染料分子密集排列而成的荧光标记。此外，我们提供了一种新的设计，包含两个不同的荧光团三个发光点，允许获取非常引人注目的图像。单色GATTA-SIM纳米尺120纳米-120nm尺寸只有蓝色可供选择140纳米-黄色和蓝色160纳米-颜色为红色(ATTO 647N)，黄色(Alexa Fluor568)或蓝色(Alexa Fluor488)多色纳米尺有三个发射点，尺寸：140纳米(Alexa Fluor 568 & Alexa Fluor 488)160纳米(ATTO 647N & Alexa Fluor 568或ATTO 647N & Alexa Fluor 488)我们还可以根据您的要求设计特殊的解决方案。所有纳米样品都将是GATTA-SIM超分辨率图像，在密封玻片上交付，您可以舒适地直接放在显微镜上。

产品介绍 配套齐碳自主研发的QPursue纳米孔基因测序平台，适用于各种核酸分子的测序实验。用户只需将制备好的文库加载至测序芯片，即可开始测序。 通过电场力驱动单链核酸分子穿过纳米尺寸的蛋白孔道，由于不同碱基通过纳米孔道时产生了不同阻断程度和阻断时间的电流信号，根据电流信号识别每条核酸分子上的碱基信息，实现对单链核酸分子的测序。产品特点1、全新打造硅基材生物芯片带来更稳定的测序表现和数据产出；2、全新ASIC电路信号排布方式，密度更高；3、单芯片搭载通道数超6000个，极大提升测序通量；4、集成电路/生物芯片二合一，抗干扰性强，准确率高。 登录齐碳科技官网，查询更多详情信息：http://www.qitantech.com/

适用AFM、SEM、Auger和 FIB精确全息条纹可用于高分辨、纳米尺度上准确校准仪器，具有高稳定性和高适用性特性。中等脊线宽度便于AFM应用。扫描电镜成像时二次电子和背散射电子像反差好。条纹间隔宽度分70、145 、292nm三种。

北京科德诺思技术有限公司 多壁碳纳米管（MWCNTs）科德诺思提供更多规格的多壁碳纳米管（MWCNTs），支持各学科领域的科研工作者研究。多壁碳纳米管（MWCNTs）基础参数-1外径：5nm-25 nm尺寸：2.5 μm , average length, TEM 25 nm , average diameter, HRTEM比表面积：~300±25 m 2/g多壁碳纳米管（MWCNTs）基础参数-2 适用于 GB 23200.108-2018 食品安全国家标准 植物源性食品中草铵膦残留量的测定 液相色谱-质谱联用法外径：10 nm-20 nm尺寸：5 μm , average length, TEM 15 nm , average diameter, HRTEM比表面积：225±25 m 2/g 订购信息 草铵膦专用净化管货号产品名称描述包装规格OD65192草铵膦净化管符合《GB 23200.108-2018植物源性食品中草铵膦残留量的测定 液相色谱-质谱联用法》，适用于蔬菜、水果、食用菌类。50支/盒OD65193草铵膦净化管符合《GB 23200.108-2018植物源性食品中草铵膦残留量的测定 液相色谱-质谱联用法》，适用于谷物类、油料作物和植物油、坚果、茶叶、香辛料50支/盒KSCL012多壁碳纳米管填料填料，《GB 23200.108-2018植物源性食品中草铵膦残留量的测定 液相色谱-质谱联用法》10g/瓶 单氰胺专用净化管 货号产品名称描述包装规格OD65194单氰胺净化管符合《GB 23200.118-2021 食品安全国家标准 植物源性食品中单氰胺残留量的测定 液相色谱—质谱联用法》，适用于蔬菜、水果、坚果、谷物。50支/盒OD65195单氰胺净化管符合《GB 23200.118-2021 食品安全国家标准 植物源性食品中单氰胺残留量的测定 液相色谱—质谱联用法》，适用于茶叶、香辛料类、食用菌类50支/盒KSCL012多壁碳纳米管填料填料，《GB 23200.118-2021 食品安全国家标准 植物源性食品中单氰胺残留量的测定 液相色谱—质谱联用法》 10g/瓶北京科德诺思（KNORTH）技术有限公司（简称：科德诺思）2020 年在北京成立。公司自主创新研发、生产、销售及技术服务为一体创新型综合服务企业，目前公司拥有三项专利技术。公司研发团队拥有博士后 1 名，博士 2 名，研究生4 名，具有丰富色谱分离技术，实验经验丰富。公司主要提供：标准物质、标准品、对照品、实验室常规耗材、快检耗材及前处理设备、检测服务、质量控制相关技术服务。服务对象: 科研机构、农业、市场监管、高校、第三方检测、企业及质谱公司提供优质完善的前处理解决方案。科德诺思（KNORTH）将不断持续提升产品性能，检测能力、标准物质制备能力及服务能力，为广大分析测试工作者提供前处理整体解决方案。我们期待与更多伙伴合作，实现共赢！

产品特点：GATTA-SIM系列的纳米标尺可以用于检测您的SIM系统的分辨率。该纳米标尺带有两个荧光标记，这些荧光标记都是来自于密集排列的高量子效率的染料分子。两个荧光标记之间的距离固定，尺寸包括120nm，140nm和160nm。我们为您提供带有以下颜色的不同尺寸的纳米标尺，包括：红色（ATTO 647N），黄色（Alexa Fluor 568）或蓝色（Alexa Fluor 488）。纳米标尺，AFM纳米标尺，原子力显微镜纳米标尺，共聚焦显微镜纳米标尺，超高分辨显微镜纳米标尺，SIM纳米标尺，STED纳米标尺，STORM纳米标尺，电镜纳米螺旋标尺，金纳米螺旋标尺，显微镜亮度灵敏度标尺，显微镜纳米标尺技术参数：