无掩模激光直写光刻系统

传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩模板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩模板的设计通常需要经常改变。激光直写光刻技术通过以软件设计电子掩模板的方法，克服了这一问题。与通过物理掩模板进行光照的传统工艺不同，激光直写是通过电脑软件控制，在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案，无需掩膜工序。绝大多数利用电子束刻蚀制造的器件只有很小的一部分结构需要用到电子束刻蚀的高分辨率，而大部分曝光时间都浪费在了如电极连接等大面积结构的生成上。Microtech可以被用在混合模式刻蚀工艺上：只用费用昂贵、速度缓慢的电子束刻蚀加工细小的结构，用成本低廉的Microtech加工大面积部分。Microtech先进的对准机制可以使两部工序完美结合。因此Microtech也适用于已经拥有电子束刻蚀的实验环境。Microtech是直写刻蚀领域畅销品牌，其创新技术和稳定系统源自美国麻省理工林肯国家实验室，LW405D系列转为科研实验室和小型超净室设计开发的多功能光刻系统，适用于快速微纳米加工和小规模生产，除了可达高分辨的线宽外，其稳定性和多功能性也得到业界的一致认可和好评。Microtech做为世界上很早研发激光光刻技术的供应商，打破了以往的激光直写设备高昂价格壁垒，使得研究人员可以理工与传统光刻机相当的成本完成更具灵活性的激光直写光刻工艺。

PicoMaster XF ATE-500 是一款具有超高精度的多功能紫外激光直写设备，它具有每毫米超过1200条线的输出能力，特别适合用户在光敏层上自由地创造微结构。独有的全息设计软件，提供了许多预先安装的全息效果及其光栅、结构的运算方法，它们可以很轻松地将把这些效果组合起来，十分利于用户的产品开发。同时软件也允许用户添加自己的算法和结构，来定制数据库、完善产品设计。系统优点v使用GLV （Grating Light Valve）技术，可实现高达1000个单位像素的激光束高速并行直写；v构建独立设计库，可完成最高自由度的3D光刻，并支持标准图像源、个性化的3D设计源；v支持最大 0.5米 x 0.5米的激光直写面积，低规格条件下，直写只需55个小时；v选择关闭灰度写入功能，直写相同曝光面积，其直写速度将提升2倍；v可定制更大幅面的无掩模激光直写系统解决方案.大幅面无掩模激光直写系统应用效果性能规格

PicoMaster XF ATE-800 是一款具有超高精度的多功能紫外激光直写设备，它具有每毫米超过1200条线的输出能力，特别适合用户在光敏层上自由地创造微结构。独有的全息设计软件，提供了许多预先安装的全息效果及其光栅、结构的运算方法，它们可以很轻松地将把这些效果组合起来，十分利于用户的产品开发。同时软件也允许用户添加自己的算法和结构，来定制数据库、完善产品设计。系统优点使用GLV （Grating Light Valve）技术，可实现高达1000个单位像素的激光束高速并行直写；构建独立设计库，可完成最高自由度的3D光刻，并支持标准图像源、个性化的3D设计源；支持最大 0.8米 x 0.8米的激光直写面积，低规格条件下，整幅面激光直写只需48个小时；选择关闭灰度写入功能，直写相同曝光面积，其直写速度将提升2倍；可定制更大幅面的无掩模激光直写系统解决方案；

PicoMaster XF 500-H 是一款具有超高精度的多功能紫外激光直写设备，它具有每毫米超过1200条线的输出能力，特别适合用户在光敏层上自由地创造微结构。独有的全息设计软件，提供了许多预先安装的全息效果及其光栅、结构的运算方法，它们可以很轻松地将把这些效果组合起来，十分利于用户的产品开发。同时软件也允许用户添加自己的算法和结构，来定制数据库、完善产品设计。系统优点v使用GLV （Grating Light Valve）技术，可实现高达1000个单位像素的激光束高速并行直写；v构建独立设计库，可完成最高自由度的3D光刻，并支持标准图像源、个性化的3D设计源；v支持最大 0.5米 x 0.5米的激光直写面积，低规格条件下，直写只需55个小时；v选择关闭灰度写入功能，直写相同曝光面积，其直写速度将提升2倍；v可定制更大幅面的无掩模激光直写系统解决方案.

是一个高价值的直写激光光刻机系统，面向大学和研究机构寻求扩大他们的能力。它用亚微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蚀剂涂层表面大面积书写。你可以写任何东西，从光掩模到基础科学或应用科学的研究原型，集成相机可以用来调整现有的功能写。我们对其进行了优化，以便于使用和简单维护，最大限度地利用现成的部件，而不牺牲书写质量或功能。直接激光书写光刻直接激光光刻技术通过消除光掩模生产对外部供应商的依赖，大大降低了微流体、微电子、微机械和材料科学研究等领域的成本和执行时间。其控制软件在PC上提供。它允许您从GDSII文件的单元格或直接从PNG图像导入要写入的设计。一切都是通过一个用户友好的图形界面来完成的，它允许您在执行之前预览要编写的设计。除了对每个设计应用旋转、反射、反转或比例调整等变换外，还可以在单个过程中组合多个设计。在确定了设计方案后，采用了所包含的工作台控制模块和共焦显微镜。使用它们，您可以设置基片上工艺的原点位置和感光表面上的焦平面。接下来执行该过程并将设计写在表面上。技术指标：XY工作台典型写入速度：100-120 mm/s最大面积：100x92 mm^2最小面积：没有最小面积单向定位台阶：X=0.16µ m，Y=1.00µ m慢速X轴上的机械噪声：1µ m快速Y轴上的机械噪声：1µ m多层对准精度：5-10µ m（可选旋转台，便于对准）实际最小特征尺寸：6-15µ m，取决于特征（示例见下图） 软件支持的格式：PNG、GDSII在软件转换：，旋转、反射、反转、重缩放、添加边框-可以在一个进程中编写来自不同文件的多个设计-通过3点线性或4点双线性聚焦测量进行倾斜/翘曲基板补偿-全床曲率补偿的网格型标定 光学-激光波长：405nm（可选375nm）-激光聚焦、对准和检测用共焦显微镜-二次独立黄色照明-激光光斑尺寸可以使用工业标准显微镜物镜改变 精度：-精细：0.8µ m-介质：2µ m-粗粒：5µ m 大面积包含目标的有效书写速度（单向书写）：-精细：1.7 mm^2/min-中等：4.25 mm^2/min-粗糙度：10.6 mm^2/min在双向写入模式下速度加倍。

超高速高精度双光子聚合微纳无掩模光刻直写系统-----国家级实验室的技术型号S600典型加工线宽200nm最小加工分辨率200nm特征结构加工均匀度10nm最高加工产率60mm2/min加工尺寸标配100×100mm可选配最大300×300mm电力要求220V AC 50HZ超高速高精度双光子聚合微纳无掩模光刻直写系统应用领域：工业：无掩膜版制造、医疗器械、晶圆级微纳加工、光子封装、快速原型制作、小批量系列生产生物医学应用：细胞支架、皮肤/组织模型、智能/活体材料、微针阵列、药物输送载体、纳米/柔性机器人、血管模型、细胞力学和迁移的拓扑结构、生物传感器、亚微米级图案设计科研:生命科学、材料工程、微流控技术、微纳力学及MEMS、折射微光学、衍射为光学、集成光子学、光学传感、量子技术 超高速高精度双光子聚合微纳无掩模光刻直写系统材料：光刻胶：生命科学用光刻胶、石英玻璃光刻胶、光刻负胶、无机固态光刻胶、有机无机杂化光刻胶、功能性光刻胶等联系人：平生

PicoMaster ATE-200无掩模激光直写光刻机●250纳米分辨率（375纳米激光源）●300纳米分辨率（405纳米激光源）●4095灰阶●业界最具实力的成套全息设计软件●最大230x230毫米基板尺寸 PicoMaster 200 是一款具有超高精度组件的多功能紫外激光写入器，专为用户提供在感光层中创建最高自由度的微结构而设计。系统的光栅化工作原理，搭配上高速扫描以及可调螺距步进激光头，确保了整个曝光制程在感光层表面准确而稳定地完成。PicoMaster 200 广泛应用于半导体光刻，LED芯片，微流控芯片，微纳结构，灰度光刻 ，三维加工全息影像等多个领域。系统优点：√ 系统支持高达4095级的灰度、纯二进制模式；√ 系统对准精度最高小于250纳米，线宽均匀性小于50纳米；√ 系统最大支持9英寸基版，400毫米/秒扫描速度，200x200毫米曝光面积；√ 系统采取全封闭结构设计，必需的部件、控制架构和真空泵都在外壳内，便于快速安装；√ 统连接到空气温度调节器机组开始供应空调空气时，内置堆式过滤器将产生干净的交叉气流； √ 系统运动平台由机械缓振系统支撑，它将过滤掉绝大多数的噪音振动，以确保工作时的振动最小激光直写：√ 系统使用405纳米（可升级375纳米）激光源在感光层上曝光，不需订购或制作掩模，图案可随用户设计而改变；√ 系统不使用掩模版，只需在基版上涂胶后用紫外激光聚焦进行曝光，激光在靶区被连续地调制到规定的剂量； √ 光刻胶在激光照射下会改变其化学结构，曝光后很容易溶解在显影剂中，只需暴露部分区域就可以形成目标的图案。 无掩模激光直写系统性能规格：

MicroMaster 激光直写光刻机MicroMaster 是一款多功能的紫外激光写入器，具有高精度的组件，专为用户在感光层上设计创建最高自由度的微结构。 MicroMaster 是一个完整的操作系统。它拥有405纳米波长光学模块，能够在光阻层中写入最小0.8微米的结构。这个用户友好的工具支持高达4095级的灰度或纯二进制模式，并允许3D光学结构，表面结构以及掩模项目。 激光控制的实时自动对焦和激光强度控制，确保整个曝光过程中的高质量成像。 MicroMaster 广泛应用于半导体光刻, LED芯片, 微流控芯片, 微纳结构, 灰度光刻, 三维加工, 全息影像等多个领域。MicroMaster 无掩模激光直写系统性能规格

PicoMaster ATE-100 无掩模激光直写光刻机●250纳米分辨率（375纳米激光源）●300纳米分辨率（405纳米激光源）●4095灰阶●业界最具实力的成套全息设计软件●最大125x125毫米基板尺寸PicoMaster 100 采用波长405纳米二极管激光器，它拥有市场上最小的300纳米激光分辨率。升级375纳米激光源，可以更好地兼容市面上I-line光刻胶材，从而满足更高级别的应用需求。备用光学模块，将大大的降低机器停机时间。更为人性化的软件设计，大大提升了用户实际操作效率，它将是您科学研究、实验开发、设计创新，理想的光学伙伴。PicoMaster 100广泛应用于半导体光刻, LED芯片,微流控芯片,微纳结构,灰度光刻,三维加工,全息影像等多个领域。PicoMaster 100 无掩模激光直写系统性能规格

MLA300批量生产高效能数字光刻解决方案 The Maskless Aligner for Volume Production批量生产高效能数字光刻解决方案批量生产能力，并且实现2μm线宽高分辨率，高产速及高效能。MLA300的特点是搭配全自动硅片自动装取片装置，以及操作软件提供简易的自动化工作流程。在全球半导体产业中，MLA300运用在IC传感器，分立器件，微机电设备(MEMS)，集成电路(ASIC)，OLED显示器，Mirco LED及封装应用的生产领域。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来*的综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过50几个国家、700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

DALI是由Aresis、CENN Nano center 和 LPKF 联合研发的高精度无掩膜纳米光刻机，是一款性能稳定，操作简单，对环境要求低，界面友好，零维护的桌面型高精度激光直写设备。其采用的是AOD声光调制器来控制激光进行高精度光刻，可以实现优于80nm平滑的边缘结构，100-150nm最小结构间距，最高400nm套刻精度，是实验室级微纳加工与器件制作不二选择。DALI凭借优异的性能，目前已广泛应用到微电子、微器件、纳米光学、材料科学、自旋电子学等研究领域。先进的AOD技术，定位分辨率优于0.1nmA. 可以获得任意平滑、锐利的结构边缘B. 可高分辨调整特征结构间的距离C. 可以实现亚微米级精细结构的构建主要特点：# 最小特征结构小于1μm# 针对I-line光刻胶进行优化（SU-8，AZ，……）# 超快与超高精度定位，光斑定位分辨率＜1nm# 可构建高深宽比结构（可达10:1）# 12nm-1μm光斑间距调节以获得超高平滑度# 100-150nm最小结构间距# 最高400nm套刻精度# 适用于从CAD设计到各种结构的快捷构建# 具备非平表面直写能力产品优势1. 超稳定，长寿命375nm激光器相对于其它各种光源，在精密光学仪器应用中，激光光源在光束质量，稳定性，耐用性等方面具有无与伦比的优越性。DaLI无掩膜纳米光刻机采用最优的激光光源，以保证超一流的性能和用户体验。2. 广泛的适应性DaLI无掩膜纳米光刻机广泛适用于各种I-line光刻胶，AZ系列正胶，SU-8系列负胶等，在各种厚胶与薄胶应用中有着出色的表现。3. 非平表面直写功能4. 整机恒温系统，保证最佳的性能DaLI无掩膜纳米光刻机采用了超越光刻技术极限的亚纳米级AOD激光操控技术，光斑定位精度可达0.1nm。为充分发挥AOD技术的优势，我们建立了整机恒温系统，控温精度可达±0.1℃，将设备所有部件和温差形变和热漂移降到最低，从而实现真正的高精度光刻。5. 准确的图形结构6. 工作范围与曝光拼接大光斑直写工具单个工作区域 为 900μm X 900μm；小光斑直写工具单个工作区域为 300μm X 300μm工作区域100mm X 100mm 工作区域间的平滑过渡机制（软拼接与硬拼接）；DaLI的软拼接可以将曝光扫描线延伸到临近区域，并梯度降低激光强度（红线）。在临近区域，激光强度梯度增加（蓝线），从而获得干净均一的拼接图案7. 用户友好的操作软件DaLI控制软件通过USB接口与设备快速通讯，可以对设计图中的区块和每一个微结构的曝光参数进行设置，对图形设计的预览和快速栅格化，对样品的观察、准直、调平等。该软件具备图形设计和展示功能，可选用多种绘图工具，支持对 dxf, gerber, bm 等格式文件的导入与修改。8. 更好的深宽比

100nm超高精度双光子聚合光刻微纳无掩模直写系统 品质保证----国家级实验室型号D100典型加工线宽 100nm最小加工线宽 50nm最小特征结构均匀度5nm最大线扫描速度50mm/s电力要求220V AC 50HZ超高精度双光子聚合光刻微纳无掩模直写系统应用领域：工业：无掩膜版制造、医疗器械、晶圆级微纳加工、光子封装、快速原型制作、小批量系列生产生物医学应用：细胞支架、皮肤/组织模型、智能/活体材料、微针阵列、药物输送载体、纳米/柔性机器人、血管模型、细胞力学和迁移的拓扑结构、生物传感器、亚微米级图案设计科研:生命科学、材料工程、微流控技术、微纳力学及MEMS、折射微光学、衍射为光学、集成光子学、光学传感、量子技术 超高精度双光子聚合光刻微纳无掩模直写系统材料：光刻胶：生命科学用光刻胶、石英玻璃光刻胶、光刻负胶、无机固态光刻胶、有机无机杂化光刻胶、功能性光刻胶等联系人：平生

德国海德堡 激光直写光刻机DWL 66+科研用激光直写系统具有多种直写模块，实现不同精度直写需求能于结构上进行灰度曝光 DWL 66+激光光刻系统是具经济效益的高分辨率图像产生器，适用于小批量掩模板制作和直写需求。该系统的功能和灵活性使其成为Life Science, Advanced Packaging, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor以及所有其他需要微结构应用的刻研工具。DWL 66+的客户群包括全球200多所顶尖大学和研究机构，许多系统功能是与这些机构合作开发，及先进技术不断改进以增加高分办率：DWL 66+的最小结构尺寸为300 nm，提供了极高的分辨率，优于或等于研发领域中最强大的光学光刻系统。 基本的DWL 66+包含创造和分析微结构所需的所有功能。它可以用于掩模板制作或直写在任何涂有光刻胶的平坦材料上，多样化选择可提高灵活性，使系统适用于更多应用领域。

ARMS SYSTEM无掩模光刻机/直写光刻机UTA-IA UTA系列是将DLP投影仪盒金相显微镜相结合的缩小投影型无掩模曝光系统，其价格低于传统系统（用于掩模光刻的图案投影曝光系统） 可以使用专门为此目的开发的软件来创建想要的图案。特点：显微镜LED曝光单元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的图案投影曝光装置。使用金相显微镜盒LED光源DLP投影仪，将具有机微米分辨率的任意图案投影到涂有抗蚀剂的基板上进行曝光。图案可以在PC上自由创建。因为可以在普通的室内环境中在各种大小盒形状的单晶薄片上形成电极，所以它比电子束光刻便宜且简单，不需要制造昂贵的电极图案掩膜。应用：薄膜FET和霍尔效应测量样品的电极形成。从石墨烯/钼原石中剥离电极形成并评估其特性。研发应用的图案形成。技术参数：由于显微镜和DLP的结合，可以用很低的成本来构建系统易于使用的软件可以轻松的创建曝光图案通过物镜放大倍率图案，可以进行大范围的批量曝光 可以连接到您自己的显微镜上（可选）分辨率1um

DWL66+多功能无掩膜激光直写机 / 光刻机The Maskless Aligner for Volume Production多种直写模块及灰度光刻 实现各种精度需求DWL66+ 激光光刻系统是具经济效益、具有高分辨率的图形发生器。适用于小批量掩膜版制作和直写需求。DWL66+拥有多种选配模块,例如:正面和背面对准系统；405nm和375nm波长的激光发生器；进阶选配：精度校准和自动上下板加载系统。DWL66+的高度灵活和可定制的解决方案，专门为您的应用量身定做，已成为生命科学、先进封装、MEMS、微光学、半导体和所有其他需要微结构的应用中必不可缺少的光刻研究工具。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。总代理 品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

μMLA桌面式无掩膜激光直写机 / 光刻机The Table-Top Maskless Aligner适合科研领域的实验室与学术研究所μMLA是新一代桌面式激光直写仪的技术，在科研微结构的应用领域中是一台入门级的工具。μMLA具有灵活性和可定制性，可支持毫米大小范围的样品。主要产业应用有：半导体芯片、微机电、微流体、微光学、传感器、掩膜版以及其它有微纳米结构需求的科研领域。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。总代理 品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备 / 光刻机HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

小型台式无掩膜光刻机- MA1200小型台式无掩膜光刻机- MicroWriter ML3是英国公司专为实验室设计开发，为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板的方法，克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同，激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关，在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。MA1200 是一款多功能激光直写光刻系统，具有结构小巧紧凑(70cm x 70cm x 70cm)，无掩膜直写系统的灵活性，还拥有高直写速度，高分辨率的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。适用于各种实验室桌面。 产品特点 Focus Lock自动对焦功能Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测，并通过Z向调整和补偿，以保证曝光分辨率。光学轮廓仪MicroWriter ML3 配备光学轮廓探测工具，用于匀胶后沉积层，蚀刻层，MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向高精度100 nm，方便快捷。标记物自动识别点击“Bulls-Eye”按钮，系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后，将自动将其移动到显微镜中心位置。直写前预检查软件可以实时显微观测基体表面，并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度，直到设计图形按要求与已有结构重合，保证直写准确。简单的直写软件MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。Clewin 掩膜图形设计软件● 可以读取多种图形设计文件（DXF, CIF, GDSII, 等）● 可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式● 书写范围只由基片尺寸决定

MLA150先进无掩膜激光直写机 / 光刻机The Advanced Maskless Aligner适合研发团队与中小批量生产的客户MLA150专属为研发型以及中小批量生产的客户而设计的激光直写解决方案。区别于过去传统的工艺技术而开发的无掩膜激光直写技术，将设计图形直接曝光到涂覆有光刻胶的衬底材料上；曝光后，如果需要修改图形结构，可以直接通过CAD软件修改原始图形，然后重新曝光即可，无需花费重新制版的时间。主要产业应用有：生命科学、微流体、MEMS、微光学、传感器、材料研究等有微纳米结构需求的科研领域。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。总代理 品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备 / 光刻机HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过50几个国家、700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

MPO 100双光子聚合 (TPP) 多用途工具 Multi-user Tool for 3D Lithography and 3D Microprinting3D微打印多用途光刻工具双光子聚合 (TPP) 多用途工具，用于微结构的 3D 光刻和 3D 微打印，应用于光学、光子学、力学和生物医学工程。 3D 模块打印平台- MPO 100 提供 3D 高精度光刻以及 3D 微打印的高产量，并能够在单个工艺步骤中以高吞吐量生产复杂的微结构。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来*的综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过50几个国家、700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

双光子聚合激光直写3D纳米光刻机MicroFAB-3D双光子聚合3D纳米光刻机是一款超紧凑、超高分辨率交钥匙型3D打印机。双光子聚合3D纳米光刻机基于双光子聚合(TPP)激光直写技术，兼容多种高分子材料，包括生物材料。MicroFAB-3D 3D纳米光刻机帮助您以亚微米的分辨率生产出前所未有的复杂的微部件，MicroFAB-3D的zui小特征尺寸可低至0.2um宽，为微流体、微光学、细胞培养、微机器人或元材料领域开辟了新的前景。MicroFAB-3D具有开放性和适应性，可以满足您的个性需求。双光子聚合激光直写3D纳米光刻机关键特性：较高的直写精度和分辨率(可达0.2um)（已有客户使用此设备实现低至67nm分辨率的结构）直写速度快兼容任何CAD模型和文件兼容广泛的聚合物，以及生物材料紧凑的设计适用于层流架适用于无菌、无尘室以及工业环境双光子聚合激光直写3D纳米光刻机核心优势：新的TPP切片工具复杂的3D结构下高直写速度三维微零件无形状限制适用于微部件、微流体、超材料、细胞培养、微机器人、微力学、组织工程、表面结构或任何你可能拥有的微制造理念的技术。双光子聚合激光直写3D纳米光刻机规格指标：双光子聚合激光直写3D纳米光刻机适用材料：我们为我们的双光子聚合激光直写3D纳米光刻机提供了10种zhuanli光刻胶，这些树脂的各种性能允许您探索许多应用领域。我们的系统可与各种商业上可用的光刻胶兼容，如Ormocomp, SU8, FormLabs树脂，NOA-line树脂，甚至水凝胶或蛋白质等。这些光刻胶可能是生物兼容的，甚至已被认证实现微型医疗设备。如果您想使用定制的、自制的聚合物，我们也可以帮助您调整系统以适应您的工艺。关于昊量光电昊量光电 您的光电超市！上海昊量光电设备有限公司致 力于引 进国 外创 新性的光电技术与可 靠产品！与来自美国、欧洲、日本等众多知 名光电产品制造商建立了紧 密的合作关系。代理品牌均处于相关领域的发展前 沿，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精 密光学元件等，所涉足的领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国 防及前沿的细分市场比如为量 子光学、生物显微、物联传感、精 密加工、激光制造等。我们的技术支持团队可以为国内前 沿科研与工业领域提 供完 整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等优 质服务，助力中国智 造与中国创 造! 为客户提供适合的产品和提 供完 善的服务是我们始终秉承的理念！

PicoMaster ATE-150 PicoMaster ATE-150是一款具有超高精度组件的多功能紫外激光写入器，专为用户提供在感光层中创建最高自由度的微结构而设计。系统的光栅化工作原理，搭配上高速扫描以及可调螺距步进激光头，确保了整个曝光制程在感光层表面准确而稳定地完成。系统优点v系统支持高达4095级的灰度、纯二进制模式；v系统对准精度最高小于250纳米，线宽均匀性小于50纳米；v系统最大支持6英寸基版，200毫米/秒扫描速度，150x150毫米曝光面积；v系统采取全封闭结构设计，必需的部件、控制架构和真空泵都在外壳内，便于快速安装；v系统连接到空气温度调节器机组开始供应空调空气时，内置堆式过滤器将产生干净的交叉气流； v系统运动平台由机械缓振系统支撑，它将过滤掉绝大多数的噪音振动，以确保工作时的振动最小v紧凑型光学模块，将整个光路包含其内，这使得光路尽可能地缩短，与传统光学装置相比，其指向稳定性将大大提高； v为获得最佳的光斑形状，光学模块设计了光束整形光学元件，配合长寿命的405纳米氮化镓激光二极管进行光刻制程； v搭配拥有自主专利的高数值孔径物镜，这使得市场上最小的高质量激光束光斑成为现实；v光学模组中，650纳米红色激光控制自动对焦系统可自动校正高度变化。v选项：可根据要求提供375纳米波长的光学模块替换405纳米光学模组。 v选项：对于要求较低的任务，可通过使用全自动数值孔径开关来选择较大的光斑大小。此开关允许系统使用更大的光斑尺寸来提高直写速度。 v选项：系统配备375 纳米光学模块后，将支持用户使用仅适用于I-line光源的光阻，而光斑尺寸会减小到270纳米，这将允许系统以更高的分辨率写入线条。 光学系统直写激光405纳米或375纳米激光寿命超过10000个工时，5年以上；激光强度光斑强度最大3毫瓦，可由软件控制；灰度控制4095级直写模式直写精度0.3微米, 0.6微米, 0.9微米曝光区域最大150x150毫米基版尺寸最小5x5毫米, 最大160x160毫米直写表征线宽尺寸最小0.3微米

PicoMaster 200无掩模激光直写光刻机●250纳米分辨率（375纳米激光源）●300纳米分辨率（405纳米激光源）●4095灰阶●业界最具实力的成套全息设计软件●最大230x230毫米基板尺寸 PicoMaster 200 是一款具有超高精度组件的多功能紫外激光写入器，专为用户提供在感光层中创建最高自由度的微结构而设计。系统的光栅化工作原理，搭配上高速扫描以及可调螺距步进激光头，确保了整个曝光制程在感光层表面准确而稳定地完成。PicoMaster 200 广泛应用于半导体光刻，LED芯片，微流控芯片，微纳结构，灰度光刻 ，三维加工全息影像等多个领域。系统优点：√ 系统支持高达4095级的灰度、纯二进制模式；√ 系统对准精度最高小于250纳米，线宽均匀性小于50纳米；√ 系统最大支持9英寸基版，400毫米/秒扫描速度，200x200毫米曝光面积；√ 系统采取全封闭结构设计，必需的部件、控制架构和真空泵都在外壳内，便于快速安装；√ 统连接到空气温度调节器机组开始供应空调空气时，内置堆式过滤器将产生干净的交叉气流； √ 系统运动平台由机械缓振系统支撑，它将过滤掉绝大多数的噪音振动，以确保工作时的振动最小激光直写：√ 系统使用405纳米（可升级375纳米）激光源在感光层上曝光，不需订购或制作掩模，图案可随用户设计而改变；√ 系统不使用掩模版，只需在基版上涂胶后用紫外激光聚焦进行曝光，激光在靶区被连续地调制到规定的剂量； √ 光刻胶在激光照射下会改变其化学结构，曝光后很容易溶解在显影剂中，只需暴露部分区域就可以形成目标的图案。

DWL2000/ DWL4000超高精密无掩膜激光直写机 / 光刻机High Resolution Pattern Generators高灵活度与高精度光刻的解决方案DWL2000和DWL4000 激光光刻系统是快速及高灵活性的高分辨率图型发生器，用于制作掩膜版和可直接于产品上进行激光直写，写入面积高达200x200 mm2,与400x400 mm2 。在二维曝光技术表现出色，分辨率为低至500nm，可选配自动加载系统， 除了高分辨率的二維图型之外，还提供灰度曝光模式，可在厚光刻胶中创建复杂的2.5D结构。应用领域包括：MEMS、BioMEMS，微光学、集成电路(ASIC)、微流体、传感器。关于我们Stella InternationalStella International携手光刻技术领航者-海德堡仪器公司，共同为客户带来综合应用效能，同时建立紧密的合作伙伴关系。为了服务客户更广泛多元的应用领域，Stella International于2016年在苏州成立海德堡仪器演示中心，以海德堡原厂伙伴技术支援，提供客户技术交流平台以及各式前段打样的基础研究，这些年来已服务许多的国内知名大学，研究院所与企业前期研发单位。总代理 品牌介绍德国海德堡 高精密无掩膜激光直写设备HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM德国海德堡设备(Heidelberg Instruments)，创始于1984年，在激光直写设备的发展和设计上持续地改良、在各种应用上客制化。应用范围包括：微电脑和纳米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相关领域。销售横跨欧洲、美国、亚洲等超过700个以上销售据点，用于研发、快速原型制作和工业生产系统，是企业研究和发展的伙伴。

μMLA桌面无掩模光刻机 桌面型光刻机μMLA 技术参数直写模式 I*直写模式 II*写入性能（光栅扫描和矢量曝光模式）最小结构尺寸 [μm]0.61最小线宽/线隙 [半宽, μm]0.81.5第二层对准大于 5 x 5 mm2 [3σ, nm]500500第二层对准大于 50 x 50 mm2 [3σ, nm]10001000直写性能 光栅扫描曝光模式线宽变代 [3σ, nm]200300直写速率 MAX [mm2/min]1030可选“可变分辨率光栅扫描曝光模块”的写入速度(UMVAR)，适用于不同最小结构尺寸。 10 mm2/min at 0.6 μm 30 mm2/min at 1 μm20 mm2/min at 1 μm60 mm2/min at 2 μm25 mm2/minat 2 μm 100 mm2/min at 4 μm矢量曝光模式的直写写性能矢量模式下的地址网格 [nm]2020边缘粗糙度 [3σ, nm]3050线宽变化 [3σ, nm]7080线性直写速率MAX200 mm/s200 mm/s系统参数衬底尺寸MAX5″ x 5″5″ x 5″最小衬底尺寸 5 mm x 5 mm 5 mm x 5 mm基板厚度0.1 to 12 mm0.1 to 12 mm光栅扫描模块矢量曝光模块光源LED 390 nm or 365 nmLaser 405 nm and/or 375 nm 系统尺寸(光刻单元) μMLAWidthDepthHeightWeight主机630 mm (25″)800 mm (31.5″)530mm (21″)100 kg (220 lbs)可选配防振表1400mm (55″)700 mm (28″)750 mm (30″)350 kg (770 lbs) 无掩模光刻机于2015年首次推出。从那时起，先进的无掩膜技术已经确立。μMLA提供了新一代的桌面激光光刻工具: 配置设置精确到您的需要与光栅扫描和矢量扫描模式(或两者)和可变分辨率的记录磁头。 在许多应用中，传统的光掩膜已经成为过去，因为你的设计文件是通过二维空间光直接暴露在电阻涂层晶圆上的调制器(SLM)。μMLA是MLA100的直接继承者，是“小”MLA150，是我们先进的无掩模对准器的兄弟，它是许多多用户设备、纳米制造实验室和国家研究所中值得信赖、不可或缺的主力。 在我们全新的入门级系统μMLA的开发过程中，我们引入了诸如可变解决方案等新特性，并创建了一个灵活且高度可定制的桌面系统。当然，小样本处理很简单。μMLA功能保留以前桌面系统的优点，同时提供更多的选择和更高的性能。应用包括研究和发展的领域，如MEMS，微流体，微光学和所有其他领域，负担得起，紧凑，和强大的模式基因rator微结构是必需的。 APPLICATIONS 应用程序微光学:二元衍射光学元件。设计由1个μm2正方形组成。μMLA提供了一个标准的灰度模式，这可以制造低创造的微镜头。防蚀胶：15 μm厚AZ4562。节距30 μm，曲率半径16 μm。CUSTOMIZE YOUR μMLA 定制您的μMLA 两种曝光模式μMLA可以让你选择光栅扫描曝光模式和矢量模式，或者甚至在同一个系统上运行曝光模式! 光栅扫描曝光模式快速，并提供良好的图像质量和保真度，而写入时间独立于结构尺寸或图案密度。矢量扫描模式可以帮助暴露由曲线组成的设计，当需要平滑的轮廓。虽然矢量模式产生的图像质量与光栅扫描曝光模式相似，但它不能达到同样的写入速度，特别是对于高填充系数的模式。 A Choice of Wavelengths 波长的选择因此，你可以在一个系统上使用多达三个不同波长(LED和/或激光二极管)。 Variable Resolution 可变分辨率我们新开发的可变分辨率函数允许您为一个部分的编写模式选择三种不同的分辨率。只需在软件菜单中选择解决方案，并为您的应用程序优化参数。 The Surface at One Glance可选的概述相机提供了一种简单的方法来定位对准标记或其他特征感兴趣的基板上。 Small Sample Handling 小样本处理小样品处理是直接与μMLA: 光学自动对焦选项允许准确曝光，直到样品的边缘。

μMLA桌面无掩模光刻机 桌面型光刻机μMLA 技术参数直写模式 I*直写模式 II*写入性能（光栅扫描和矢量曝光模式）最小结构尺寸 [μm]0.61最小线宽/线隙 [半宽, μm]0.81.5第二层对准大于 5 x 5 mm2 [3σ, nm]500500第二层对准大于 50 x 50 mm2 [3σ, nm]10001000直写性能 光栅扫描曝光模式线宽变代 [3σ, nm]200300最大直写速率 [mm2/min]1030可选“可变分辨率光栅扫描曝光模块”的写入速度(UMVAR)，适用于不同最小结构尺寸。 10 mm2/min at 0.6 μm 30 mm2/min at 1 μm20 mm2/min at 1 μm60 mm2/min at 2 μm25 mm2/minat 2 μm 100 mm2/min at 4 μm矢量曝光模式的直写写性能矢量模式下的地址网格 [nm]2020边缘粗糙度 [3σ, nm]3050线宽变化 [3σ, nm]7080最大线性直写速率200 mm/s200 mm/s系统参数最大衬底尺寸5″ x 5″5″ x 5″最小衬底尺寸 5 mm x 5 mm 5 mm x 5 mm基板厚度0.1 to 12 mm0.1 to 12 mm光栅扫描模块矢量曝光模块光源LED 390 nm or 365 nmLaser 405 nm and/or 375 nm 系统尺寸(光刻单元) μMLAWidthDepthHeightWeight主机630 mm (25″)800 mm (31.5″)530mm (21″)100 kg (220 lbs)可选配防振表1400mm (55″)700 mm (28″)750 mm (30″)350 kg (770 lbs) 无掩模光刻机于2015年首次推出。从那时起，最先进的无掩膜技术已经确立。μMLA提供了新一代的桌面激光光刻工具: 配置设置精确到您的需要与光栅扫描和矢量扫描模式(或两者)和可变分辨率的记录磁头。 在许多应用中，传统的光掩膜已经成为过去，因为你的设计文件是通过二维空间光直接暴露在电阻涂层晶圆上的调制器(SLM)。μMLA是MLA100的直接继承者，是“小”MLA150，是我们先进的无掩模对准器的兄弟，它是许多多用户设备、纳米制造实验室和国家研究所中值得信赖、不可或缺的主力。 在我们全新的入门级系统μMLA的开发过程中，我们引入了诸如可变解决方案等新特性，并创建了一个灵活且高度可定制的桌面系统。当然，小样本处理很简单。μMLA功能所有最好的在我们以前的桌面系统，同时提供更多的选择和更高的性能比以往任何时候。应用包括研究和发展的领域，如MEMS，微流体，微光学和所有其他领域，负担得起，紧凑，和强大的模式基因rator微结构是必需的。 APPLICATIONS 应用程序微光学:二元衍射光学元件。设计由1个μm2正方形组成。μMLA提供了一个标准的灰度模式，这可以制造低创造的微镜头。防蚀胶：15 μm厚AZ4562。节距30 μm，曲率半径16 μm。CUSTOMIZE YOUR μMLA 定制您的μMLA 两种曝光模式μMLA可以让你选择光栅扫描曝光模式和矢量模式，或者甚至在同一个系统上运行曝光模式! 光栅扫描曝光模式快速，并提供优秀的图像质量和保真度，而写入时间独立于结构尺寸或图案密度。矢量扫描模式可以帮助暴露由曲线组成的设计，当需要平滑的轮廓。虽然矢量模式产生的图像质量与光栅扫描曝光模式相似，但它不能达到同样的写入速度，特别是对于高填充系数的模式。 A Choice of Wavelengths 波长的选择因此，你可以在一个系统上使用多达三个不同波长(LED和/或激光二极管)。 Variable Resolution 可变分辨率我们新开发的可变分辨率函数允许您为一个部分的编写模式选择三种不同的分辨率。只需在软件菜单中选择解决方案，并为您的应用程序优化参数。 The Surface at One Glance可选的概述相机提供了一种简单的方法来定位对准标记或其他特征感兴趣的基板上。 Small Sample Handling 小样本处理小样品处理是直接与μMLA: 光学自动对焦选项允许准确曝光，直到样品的边缘。 5 mm x 5 mm

Super Lithography 3D 纳米光刻系统提供纳米级高精度的无掩膜光刻和纳米级3D 微纳结构打印，配合定制的软件系统，可以智能完成高精度无掩膜光刻的制造和其它纳米级 3D 器件的激光直写光刻。

魔技纳米UV-Smart桌面级无掩膜直写光刻设备专为实验室科研需求和小批量生产设计。其小巧紧凑的设计使其适用于实验室环境，并具有高直写速度、高分辨率和高对准精度等特点。采用集成化设计和全自动控制，操作简便，适合快速加工、建模或小批量生产。广泛应用于微流控、半导体、生物技术和微电子等领域。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 [企业介绍]魔技纳米科技是三维微纳制造领域集研发、生产、销售、服务于一体的高新技术企业。核心研发团队拥有十年以上设备研发经验，深入生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件等多个产业应用领域，打造具有自主知识产权的商用纳米级三维激光光刻直写制造系统。拥有应用于多行业场景的成熟加工工艺。可定制研发适配各产业领域生产需求的个性化设备和产品，突破生物制药、传感、光电芯片、超材料等领域从科研到工业生产的屏障，将纳米级制造精度和大范围生产相结合，提供针对精密智造领域的整套专业解决方案。

POLOS NanoWriter是一款多功能紫外激光书写器，具有高精度组件，专为用户提供在光敏层中创建微结构的最高自由度。分辨率:0.8 - 2.5µ m(5µ m可选)波长:405或375纳米最大基材尺寸:110 × 110毫米POLOS NanoWriter包括一个405 nm的光学模块，能够在光刻胶层中写入小至0.8微米的结构。这个用户友好的工具支持高达4095级的灰度或纯二进制模式，并允许2.5D光学结构，表面结构以及掩模项目。实时激光控制自动对焦和激光强度控制，确保整个曝光过程中的高质量成像。控制电子设备都安装在框架内，除了控制PC。这个基于微软windows的桌面PC和所有需要的软件都包含在包中。好处高品质，低成本的无掩模光刻工具375nm源可用于i-Line电阻市场符合0.8µ m分辨率紧凑的光模块:使用一个备用光单元，减少机器停机时间用户友好的操作支持高达4“x4”的基板宽度:580mm高度:708mm深度:600mm(不含可选风道)重量:260kg压缩空气:5 - 7bar，空气质量符合ISO8573-1:2010 3级或以上Maskless lithography offers a convenient way to create nanopatterns without the use of slow and expensive photomasks. This is particularly useful for research and rapid prototyping purposes. The POLOS Beam is a budget compact solution that brings these benefits to your desktop without compromising on performance.The POLOS Beam Engine is a quick-swappable component that uses a UV laser beam to create a precise spot that can expose any pattern on a photoresist. To expose large wafers, precision steppers move the wafer, and multiple exposures are stitched together. The POLOS Beam Engine can produce features smaller than (CD) 0.8 μm on a 5" wafer when equipped with a 405nm Engine and 20x objective.CompactFull-featured maskless lithography, smaller than a desktop computer.PowerfulSub-micron resolution while exposing a write field in less than two seconds.Ultrafast AutofocusPiezo-actuators reach focus in less than a second when combined with our close- looped focus optics.No-fuss MultilayerSemi-automatic alignment allows multilayer alignment to be completed within minutes.The included software makes quick work of any patterning job just load, align and expose. Navigation is similar to CNC systems.

小型台式无掩膜光刻机- MA1200小型台式无掩膜光刻机- MicroWriter ML3是英国公司专为实验室设计开发，为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板的方法，克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同，激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关，在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。MA1200 是一款多功能激光直写光刻系统，具有结构小巧紧凑(70cm x 70cm x 70cm)，无掩膜直写系统的灵活性，还拥有高直写速度，高分辨率的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。适用于各种实验室桌面。 产品特点 Focus Lock自动对焦功能Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测，并通过Z向调整和补偿，以保证曝光分辨率。光学轮廓仪MicroWriter ML3 配备光学轮廓探测工具，用于匀胶后沉积层，蚀刻层，MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向高精度100 nm，方便快捷。标记物自动识别点击“Bulls-Eye”按钮，系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后，将自动将其移动到显微镜中心位置。直写前预检查软件可以实时显微观测基体表面，并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度，直到设计图形按要求与已有结构重合，保证直写准确。简单的直写软件MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。Clewin 掩膜图形设计软件● 可以读取多种图形设计文件（DXF, CIF, GDSII, 等）● 可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式● 书写范围只由基片尺寸决定

魔技纳米UV-Ultra高性能无掩膜直写光刻设备UV-Ultra是一款专为高端和工业级应用而设计的高性能无掩膜直写光刻设备。它采用先进的超高速加工方式，采用自研算法和高性能硬件，实现更高的对准、拼接和套刻精度。具备高直写速度和高分辨率，适用于快速、精准的加工需求。MN-UV-Ultra采用集成化设计和全自动控制，操作简便，适用于高达12英寸的基材。广泛应用于微流控、半导体、生物技术和微电子等领域。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 企业介绍 魔技纳米科技是三维微纳制造领域集研发、生产、销售、服务于一体的高新技术企业。核心研发团队拥有十年以上设备研发经验，深入生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件等多个产业应用领域，打造具有自主知识产权的商用纳米级三维激光光刻直写制造系统。拥有应用于多行业场景的成熟加工工艺。可定制研发适配各产业领域生产需求的个性化设备和产品，突破生物制药、传感、光电芯片、超材料等领域从科研到工业生产的屏障，将纳米级制造精度和大范围生产相结合，提供针对精密智造领域的整套专业解决方案。