台式单臂碳纳米管制备仪

碳纳米管，是一种具有特殊结构（径向尺寸为纳米量级，轴向尺寸为微米量级、管子两端基本上都封口）的一维量子材料。它主要由呈六边形排列的碳原子构成数层到数十层的同轴圆管。层与层之间保持固定的距离，约为0.34nm，直径一般为2～20nm。由于其独特的结构，碳纳米管的研究具有重大的理论意义和潜在的应用价值，如：其独特的结构是理想的一维模型材料 巨大的长径比使其有望用作坚韧的碳纤维，其强度为钢的100倍，重量则只有钢的1/6 同时它还有望用作为分子导线，纳米半导体材料，催化剂载体，分子吸收剂和近场发射材料等。 Specim可提供碳纳米管近红外光谱及影像分析工具，采用近红外光谱相机，搭载与近红外显微平台，并配合压电陶瓷纳米位移台，实现碳纳米管的影像及光谱扫描，不仅可以用于电致发光的光谱分析，也可用与光致发光光谱测量，为研究者提供大量的光谱及影像数据以供研究分析使用。光谱测量范围：970nm- 2500nm（900nm-1700nm）。

碳纳米管制备设备（碳纳米管制备系统，碳纳米管生长系统），可用于制备碳纳米管，包括垂直方向碳纳米管生长；在Si、石英、陶瓷、各种金属（不锈钢，Ti和Pt等）等多种基底上用廉价的酒精、汽油或者生物燃料等作为碳源生长碳纳米管；系统封闭腔体不但保证必要的真空度，而且还可对基底进行加热。联合日本科学与技术研究所（JST）开发，并且在多个国家注册了该项技术的专利！相关产品：1. 纳米颗粒制备系统；2. ZnO纳米带制备系统；3. 材料碳化研究系统：用于agricultural and forestry waste, papers, recyclable plastics, and so on；4. 碳纳米管生产系统CVD：用于粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等；5. 催化剂薄膜制备系统：可沉积催化剂薄膜在各种材料上，用于高性能碳纳米管的指标；技术参数：碳纳米管生长、制备装置（包括垂直方向碳纳米管生长)；Au, Ag, Cu, Al, Si, Ti, Mg, Zn等纳米颗粒制备；ZnO纳米带制备；处理温度范围：400~800℃实时碳纳米管生长过程中温度监控反应源：含碳气体或者液体酒精主要特点：*价格优惠； *运行成本低； *制备速度快； *支持基底加热； *保证一定的真空度；*成熟的工艺和丰富的经验；*操作便捷； 技术介绍：*装备乙醇喷射单元；无需易燃烃化物气体。*碳纳米管生长只需几分钟，整个操作过程不超过30分钟。*小型化设计、操作简便、低成本、高质量碳纳米管。*在碳纳米管合成过程中，不需要使用还原性气体（氢气）使催化剂还原，因为使用的乙醇碳源本身具有很强的还原性。乙醇的金属还原性使得碳纳米管能够直接在多种合金材料上沉积，比如，NiCu, SUS等等。而不需要预先沉积催化剂薄膜，因为Ni, Fe, or Co等催化性元素在合金中作为催化颗粒独立存在。*透明的玻璃腔室使得研究人员可以直接观察整个沉积过程。该系统满足高校研究所的碳纳米管合成实验的研究工作。

联合日本科学与技术研究所（JST）开发，并且在多个国家注册了该项技术的专利！该设备用于制备纳米碳材料，如碳纳米管粉、碳纳米管薄膜和定向碳纳米管制备；采用封闭式管式炉，石英反应管直径50mm/70mm~110mm*1000mm，基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm；气源包括氢气、氮气、甲烷、酒精等；MPCVD是一种碳纳米管化学汽相沉积综合系统，具备一个水平石英管式炉,该系统可以大量稳定生产垂直对齐的CNT和各种粉末CNT。成熟稳定的工艺保证了制备质量和数量，也可用于三维形状的CNT制备。乙醇注入装置配备一个滴定法流量控制系统，气体输入端口配备三通道质量流量气体控制器(惰性气体,碳氢化合物气体,氢气)。真空排气系统使得该系统能够在一个广泛的气压下运行，从大气到低压(10 Pa),也可用作为热处理系统，例如：真空炉、大气炉、氮化炉。 相关产品：1. 纳米颗粒制备系统； 2. ZnO纳米带制备系统； 3. 碳纳米管制备系统：用于高质量碳纳米管制备、纳米颗粒或薄膜制备、ZnO纳米带制备等； 4. 碳纳米管生产系统CVD：用于粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等； 5. 催化剂薄膜制备系统：可沉积催化剂薄膜在各种材料上，用于高性能碳纳米管的指标；技术特点： *成熟的碳纳米材料制备工艺和丰富的经验 *乙醇和碳氢化合物作为碳源 *用于SWCNT 合成 *具备催化剂前体供应功能 *可以合成较长长度 ( ~500 um)垂直对齐的CNT和粉末状的CNT *具备三通道气体质量控制器 *体积小，基座稳定 *高温度：1200度； *价格优惠； *运行成本低；技术参数：基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm；粉末碳纳米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等；

台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVDNanoCVD系列台式设备是专为制备高质量的石墨烯与碳纳米管而开发的高性能台式CVD系统。在与诺奖科研团队的长期合作中获得的丰富经验使该系列产品具有非常高的性能。特别是针对石墨烯、碳纳米管等不同的应用进行了针对性的优化。该系列产品操作简便，生长条件控制，生长迅速、制备出的样品具有高质量、高可重复性，这些特点使得该系列产品受到多个石墨烯研究团队的赞誉。该系列产品适合于想要制备高质量石墨烯或碳纳米管用于高端学术研究的团队。例如，埃克塞特大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学这些知名的高校均是nanoCVD系列的用户。nanoCVD采用全新的设计理念，可以快速、高质量地生产石墨烯或碳纳米管。与传统的简易CVD(管式炉)相比，该系统基于冷壁设计方案，具有以下主要优点:◎ 系统可以快速的升温和降温。◎ 更加的条件控制和可靠的工艺重现性。◎ 安全性设计，具有尾气稀释模块。◎ 智能化设计，全自动引导式触屏操作系统。◎ 支持自动程序的设定与储存。◎ 雄厚的技术积累，专业的技术支持。设备型号台式超高质量石墨烯快速制备CVD系统- nanoCVD 8GnanoCVD-8G系统是性能稳定的快速的石墨烯生长系统。nanoCVD-8G具有压强自动控制系统，可以的控制石墨烯生长过程中的气氛条件。系统采用低热容的样品台可在2分钟内升温至1000℃并控温。该装置采用了冷壁技术，样品生长完毕后可以快速降温。正是因为这些条件可以让用户在30分钟内即可获得高质量的石墨烯。用户通过HMI触屏进行操作，所有的硬件都是自动化的。更有内置的标准石墨烯生长示例程序供用户参考。该系统安装迅速，非常适合需要持续快速获取高质量石墨烯用于高质量学术研究的团队。埃克塞特大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学等很多全球著名的高校都是该系统的用户。主要特点： ◎ 合成高质量、可重复的石墨烯◎ 生长条件控制◎ 高温度：1100 °C◎ 生长时间：30 min◎ 基片尺寸大：20 × 40 mm2◎ 全自动过程控制◎ MFC流量计控制过程气体 (Ar、H2与CH4) ◎ 用户友好型触屏控制◎ 可设定、存储多个生长程序◎ 可连接电脑记录数据◎ 易于维护◎ 全面安全性设计，尾气稀释模块◎ 兼容超净间◎ 系统性能稳定部分数据展示：小型等离子增强大尺寸石墨烯制备CVD系统 - nanoCVD WPGnanoCVD-WPG将nanoCVD-8G高质量石墨烯生长的功能与等离子体增强技术相结合，系统可制备晶圆尺寸(3英寸或4英寸)别的样品。除此之外，利用该系统的生长控制条件可以制备多种高质量的2D材料，该系统是小型CVD系统性能上的一个重大飞跃。全新的设计方案和控制系统使该系统成为制备大面积2D样品的上佳选择。应用领域包括:石墨烯和2D材料、光伏电、触屏材料、高性能生物电子材料、传感器、储能材料。主要特点：◎ 晶圆样品尺寸: 3英寸、4英寸◎ 150 W/13.56 MHz RF 电源◎ 多个等离子体电◎ 高温度1100 °C◎ 腔体冷壁技术◎ 全自动条件控制◎ 用户友好的触屏操作◎ 可设定、存储多个生长程序◎ 可连接电脑记录数据◎ 易于维护◎ 全面安全性设计，尾气稀释模块◎ 兼容超净室◎ 基于成熟的NanoCVD技术生长条件：◎ 衬底：Cu、Ni等薄膜或薄片◎ 工作原料：CH4，C2H4， PMMA等◎ 保护气体：H2，Ar，N2等典型配置指标：◎ 腔体：腔壁水冷技术，热屏蔽不锈钢腔体◎ 真空系统：分子泵系统，5×10-7 mbar本底真空。◎ 样品台：大4英寸直径，高1100°C ◎ 操作控制：触摸屏/电脑接口；可手动控制或自动控制◎ 气体控制：MFC 流量计，Ar，CH4，H2为标配种类。◎ 过程控制：自动控制◎ 等离子源：150 W/13.56 MHz RF 电源，样品台附近或需要的位置产生等离子体。 ◎ 安全性：冷却与真空锁系统，气体稀释模块。台式超碳纳米管快速制备CVD系统 - nanoCVD 8NnanoCVD-8N与石墨烯生长系统nanoCVD-8G有诸多共同之处，并针对碳纳米管生长条件进行了优化。这些条件对于碳纳米管(CNT)样品的质量和可重复性(主要是单壁形式)是至关重要的。创新的冷壁式腔体与传统管式设备相比更易控制实验条件和快速升降温。nanoCVD-8N具有智能的控制系统和完备的安全性设计。设备易于安装，易于使用，是快速进入高质量研究的理想选择。该系统获得沃里克大学用户的高度赞誉。碳纳米管可采用Fe、Co、Ni的纳米颗粒作为催化剂生长在SiO2/Si, Si3N4以及石英等衬底上。通过衬底与催化剂的选择，可以生长的碳纳米管有：• 随机: 随机方向的相互交叠的单壁碳纳米管• 有序: 平行的单壁碳纳米管• 竖直: 竖直的单壁碳纳米管束主要特点： ◎ 合成的碳纳米管具有很高的可重复性；◎ 专门为单壁碳纳米管进行了优化；◎ 生长条件控制；◎ 高温度：1100 °C；◎ MFC流量计控制过程气体 (Ar、H2与CH4)； ◎ 基片尺寸：大20 × 40 mm2；◎ 生长时间：30 min；◎ 全自动生长条件控制；◎ 用户友好型触屏；◎ 可设定、存储多个生长程序◎ 可连接电脑记录数据；◎ 易于维护；◎ 全面安全性设计，尾气稀释模块；◎ 兼容超净间；◎ 系统性能稳定；部分数据展示： 发表文章Residual metallic contamination of transferred chemical vapor deposited grapheneLupina, G., et al. ACS Nano 2015 DOI: 10.1021/acsnano.5b01261本文作者研究了通常用于将CVD石墨烯放置到应用衬底上的湿转移工艺会导致材料的微量污染。这些纯度会对石墨烯的其他特殊特性产生不利影响，并对电子和光电应用产生影响。相关设备: nanoCVD-8G Transparent conductive graphene textile fibersNeves, A. I. S., et al. Scientific Reports 2015 DOI: 10.1038/srep09866使用nanoCVD-8G制成的石墨烯被转移到纤维上，次生产出柔韧的、完全嵌入的纺织电。石墨烯的高质量意味着电具有超低的表面电阻和高的机械稳定性。相关设备: nanoCVD-8G High quality monolayer graphene synthesized by resistive heating cold wall chemical vapor depositionBointon, T. H., et al. Advanced Materials 2015 DOI: 10.1002/adma.201501600展示了冷壁法CVD合成石墨烯的优势，并报道了使用nanoCVD – 8G制备的高质量石墨烯材料具有超高的载流子迁移率，表现出半整数量子霍尔效应，这与剥离制备的样品相当。相关设备: nanoCVD-8GMapping nanoscale electrochemistry of individual single-walled carbon nanotubesGüell, A. G., et al. Nano Letters 2014 DOI: 10.1021/nl403752e利用nanoCVD – 8N技术制备了单壁碳纳米管，并利用电化学技术对其进行了研究。高分辨率的测量可以检查单个单壁碳纳米管的特性。这一发现对未来使用SWNT电的器件设计具有重要意义。相关设备: nanoCVD-8N Nanoscale electrocatalysis: Visualizing oxygen reduction at pristine, kinked, and oxidized sites on individual carbon nanotubesByers, J. C., et al. Journal of the American Chemical Society 2014 DOI: 10.1021/ja505708y电化学技术，结合使用nanoCVD - 8N技术产生的单壁碳纳米管，被用来证明即使在没有掺杂、修饰或缺陷的情况下，碳纳米管也表现出显著的活性。相关设备: nanoCVD-8N用户单位埃克塞特大学哈德斯菲尔德大学莱顿大学亚森工业大学

SSP-354 碳纳米管台式炉 SSP-354 碳纳米管台式炉是美国Nanotech 的优势产品，Nanotech 技术起源于NASA 的格伦碳纳米管研究中心。这项技术能够生产出高纯度、低缺陷密度的碳纳米管。 目前SSP-354能够生产出1~100纳米直径的单壁或多壁的碳纳米管。而且有别于 Arc discharge、Laser ablation、CVD这三种生产方式需要预催化的模式。 SSP-354可生产高纯度、低缺陷密度的CNTs，仪器操作步骤简单无需预催化，桌面放置，非常适合研究所、大学实验室操作。

首屈一指的基于纳米技术的公司之一 公司成立于2013年 Shivamogga，卡纳塔克邦，印度。 我们致力于 纳米技术的视野，旨在增加 生活中的纳米技术。 我们正在进入 纳米材料制造与应用 开发公司，我们在那里制造 石墨烯，各种形式的碳纳米管 和其他金属基纳米颗粒散装 数量。 AD-NANO 技术是一个 制造商和研发代表 公司致力于提供创新 通过引入技术领域的解决方案 纳米技术在里面我们的科学家和工程师团队正在开发与纳米技术相关的各种应用 热衷于在生活中添加纳米技术的纳米技术领域的研发。 我们通过将客户与他们的纳米技术联系起来，弥合了灵感与创新之间的差距。 解决他们的工程和技术问题，以及将技术升级到下一代所需的生活。 我们还生产导电油墨，如碳纳米管导电油墨、石墨烯导电油墨、石墨 导电油墨，广泛用于工业部门和研发计划领域。半导体单壁碳纳米管 技术数据表 95纯度半导体碳含量 ~95% 单壁碳纳米管直径 ~0.6 – 1.2 nm 单个碳纳米管长度 ~400 – 2000 nm 计算分子量 ~3.4x105 – 5.2x106 Amu 颜色 黑色 形态学 纳米管的干燥纤维状粉末捆绑绳索状。半导体单壁碳纳米管 技术数据表 99纯度

碳纳米管和石墨烯性能表征系统随着纳米技术的不断发展，碳纳米管和石墨烯的性能越来越受到科研人员的关注。然而，对于碳纳米管和石墨烯性能表征一直是困扰碳纳米管和石墨烯技术研究和应用的主要障碍。目前，碳纳米管和石墨烯测量方法是光谱测量技术。相对其他测量方法，该技术主要有以下的优点： 1、较高灵敏度，即使碳纳米管和石墨烯的含量很低也能测量。2、较高测量精度，对碳纳米管的（n,m）分辨率很高3、对待测样品要求低，可直接分析含较多杂质的样品。4、测量设备相对简单，准备待测样品非常容易。 5、数据处理简单，测量结果无需考虑背景减除。对于碳纳米管和石墨烯的表征，虽然光谱测量技术有很大的优点，但是测量过程还是有些问题，如获取数据速度太慢，测量灵敏度不是很高，手工处理数据非常繁琐且容易出错等等。著名的碳纳米管专家美国莱斯大学的R. Bruce Weisman和Sergei M. Bachilo教授针对这些问题开发了碳纳米管专用的测量系统NS3，使得NS3系统成为碳纳米管和石墨烯专用测量系统，可对碳纳米管和石墨烯进行吸收、荧光和拉曼光谱测量。Nano Spectralyzer (NS3)系统NS3上的测量结果：碳纳米管的近红外发射光谱 应用领域：1. 测量碳纳米管（n,m）分布2. 监测碳纳米管和石墨烯品质的稳定性3. 测量化学反应和物理作用的动态过程主要特点：1. 高度集成化，体积小巧2. 操作简单，使用方便3. 仅需要很少的样品4. 高测量灵敏度和测量速度5. 简单的操作界面，全自动测量和数据分析6. 同时测量样品近红外波长的吸收和发射光谱7. 采用电制冷材料冷却近红外光谱探头，无需使用液氮主要技术指标：荧光光谱测量：可见区发射谱探测范围： 400-900nm近红外发射谱探测范围： 900-1600nm可选近红外发射谱探测范围： -2000nm吸收谱测量：紫外吸收谱探测范围： 210-450nm可见吸收谱探测范围： 400-900nm红外吸收谱探测范围： 900-1600nm可选红外发射谱探测范围： -2000nm 拉曼光谱测量：拉曼光谱探测范围： 150-3000cm-1激发光源波长： 532和/或671nm

碳布负载碳纳米管，经化学气相沉积法在碳布基底上合成，也可以扩展到多种导电基底（如碳布、泡沫镍、钛片、镍片、不锈钢片、泡沫石墨烯等）上生长。碳布直径15-20微米，负载的碳纳米管直径约25-50nm，纳米碳管之间相互交联形成多孔网状的阵列薄膜。碳布负载碳纳米管阵列具有良好的柔性，样品宏观尺寸不超过宽度3厘米′长度5厘米，样品宏观色泽呈黑色。代表性样品的扫描电镜和透射电镜照片如下：

碳纳米管导电油墨高速研磨分散机,碳纳米管浆料高速研磨分散机,纳米导电油墨高速研磨分散机，氟化碳纳米管高剪切研磨分散机,导电油墨分散机更多详情请致电上海依肯 销售工程师 徐工 .公司设有专用实验室可以免费为客户提供设备够买前的验证实验。1.氟化碳纳米管介绍： 英文名称：Fluorinated Carbon Nanotubes形态：黑灰色或者黑色粉末管径：20-30nm 管长：2-10μm 纯度：99.5%应用:锂离子电池、固体润滑剂、复合材料、半导体、电子器件等2.碳纳米管分类：根据管子的层数不同，碳纳米管可分为单壁和多壁两大类。碳纳米管的导电性能与其结构密切相关。碳纳米管具有一些特殊的电学性质，很适合作导电填料。由于碳纳米管在溶剂中分散浓度很低，因此目多用于喷墨打印线路。将碳纳米管作为导电油墨的导电填料，面临的难题是碳纳米管的分散和分离。3.氟化碳纳米管研磨分散机设备介绍：碳纳米管固有的表面惰性和不溶解性使其难以分散在溶剂和树脂体系中。目，可以采用对碳纳米管进行表面化学改性的方法，使其表面生产大量的活性基团，再利用这些活性基团与有机分子或聚合物单体反应，从而在碳纳米管表面接枝有机分子链，然后将接枝改性后的碳纳米管分散在溶剂和树脂体系中，经过调节黏度、表面张力等参数，就可以得到不同性能的纳米碳纳米管导电油墨。 IKN湿法磨是超细粉碎机械中具有发展途且能量利用率高的超细粉磨设备，它与普通研磨机在机理上的不同点是：湿磨机的输入功率直接高速推动研磨介质来达到磨细物料的目的，IKN湿法磨内置高速研磨分散工作盘，IKN湿法磨的高速回转使研磨介质和物料在整个工作腔体内做不规则的翻滚和离心运动，使研磨介质之间产生相互撞击和研磨的双重作用，使物料磨得更细并得到均匀分散。与普通研磨机相比，IKN湿磨机具有如下特点：(1) 高转速和高介质填充率使湿磨机获得高的功率密度，从而使细颗粒物料的研磨时间大大缩短，能量利用率达到高；(2) 采用小尺寸研磨介质，大大提高了微细物料的研磨效率，并可高效地磨细物料至1μm以下，甚至是纳米；(3) 产品粒度分布均匀且容易调节，能沿结晶面解离，并易获得超细、低污染的产品；(4) 结构简单，操作容易，机械振动小，维修简单且价格低廉。浆料对磨机吸取功率的影响归结为三个方面：1、磨机中有一定量的浆料时，浆料的浮升作用及其阻力改变了介质间相互冲击和研磨作用的强度；2、由于浆料中固体颗粒的存在改变了介质间直接作用摩擦力；3、由于介质空隙中充满了浆料，增加了介质松散密度，相当于增加了旋转的介质物料混合体质量。 IKN德国氟化碳纳米管研磨分散机,碳纳米管导电油墨分散机,碳纳米管浆料分散机,纳米导电油墨分散机,导电油墨分散机碳纳米管分散机理：1、破坏长纤维纠缠粘结状态2、克服团聚体强吸附力3、稳定碳纳米管分散状态分散技术三要素：分散介质、分散剂和分散设备1、分散介质（1）根据粘度不同，分散介质分为高粘度、中粘度和低粘度三种。2、分散剂（1）分散剂的选择，与分散介质的结构、性、溶度参数等密切相关（2）分散剂的用量3、分散设备（1）超声波分散设备：非常适合实验室规模、低粘度介质分散碳纳米管，用于中、高粘度介质时会受到限制（2）研磨分散设备：适合大规模地分散碳纳米管、中粘度介质分散碳纳米管（3）采用“先研磨分散、后超声波分散”组合方法，可以高效、稳定地分散碳纳米管碳纳米管导电油墨高速研磨分散机,碳纳米管浆料高速研磨分散机,纳米导电油墨高速研磨分散机，氟化碳纳米管高剪切研磨分散机,导电油墨分散机 另外在碳纳米管分散到溶剂或者树脂体系中时，必须选择分散效果较好的设备进行分散，不然容易再次团聚难以分散。IKN研磨分散机在碳纳米管导电油墨的分散中有着突出的优势，IKN研磨分散机是将胶体磨和分散机合二为一的设备，先研磨后分散，可以将碳纳米管充分、均匀的分散到溶剂或树脂当中，避免团聚，分散更均匀、稳定。第1由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽，定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离，在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。这样的设计可以保障物料初始颗粒较大时，可以顺畅进入研磨分散机腔体，通过高速旋转的精细度递升磨头，终得到微纳米的物料颗粒。 粉碎室设有三道磨碎区，一为粗磨碎区，二为细磨碎区，三层为超微磨碎区，通过调整定、转子的间隙，能有效地达到所需的超微粉碎效果（也可循环加工）。混合区：先将物料通过混合搅拌装置进行高速混合，在混合过程中用螺旋混合浆叶使物料在高速运转中的到充分混合均质后送料给下道工艺； 剪切区：物料进入剪切区后，由于上道工序只把物料进行混合，没有把物料进行大颗粒破碎，这个问题由高剪切机来完成，该剪切区由三层数百条刀槽组成，将大的粘团结块等易碎颗粒进行剪切破碎。 研磨区：研磨区是由凹凸研磨分散机组成，转定子切有许多中齿及细齿组成，将已剪切的小颗粒进行深化研磨，研磨时可调距离为0.01~3mm；1、有较强的混合、粉碎、研磨、输送功能；2、可使用较硬的各类易碎颗粒；3、 可同过调节定转子间隙进而调节循环研磨所需时间；4、 定、转子间歇可以调节，调节距离为0.01~3mm，可降低启动负荷，从而减少能耗5、 转、定子材料可选用2cr13 9cr18 2205进行氮化处理货渗碳化钨处理。三错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款立式研磨分散机比普通的研磨分散机的速度达到3倍以上,的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。 第2由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子、转子和批次式机器的工作头设计的不同主要在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以往的经验选取相应的工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。 碳纳米管浆料高速研磨分散机（研磨机）和分散机组合而成的高科技产品。初由具有精细度递升的多锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。第二由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。碳纳米管导电油墨高速研磨分散机,碳纳米管浆料高速研磨分散机,纳米导电油墨高速研磨分散机，氟化碳纳米管高剪切研磨分散机,导电油墨分散机

仪器简介：NanoSpectralyzer是一款用户定制的设计独特,操作简单的光谱仪器,可以给出在水性悬浮液中的单壁碳纳米管(SWNT)样品的详细成分分析.它包括一个紧凑的光学系统,加上专业的具有仪器控制,数据分析,结果表达的软件.大多数Nanotube的研究中,该系统在数秒钟就可以自动完成样品分析技术参数：Fluorescence excitation sources:（激发光源） three temperature-stabilized diode lasers Fluorescence emission spectral range:（荧光光谱范围） 880 - 1580 nm Absorption spectral range (base unit): （吸收光谱范围） 880 - 1580 nm Absorption spectral range (visible option): （可见区吸收光谱选项） 380 - 1580 nm SWNT detectable diameter range: （检测直径） ～0.7 - 1.4 nm Minimum sample volume: （最小样品量） 200 microliters Optical axis height in cell holder: （光轴高） 8.5 mm Data acquisition time:（采集数据时间） 5 seconds (typical) Maximum spectral acquisition rate：（最大光谱采集速率) 10 spectra per second (in sequence mode) Main Optical Module Dimensions:（主机尺寸） 318 W x 470 D x 165 H mm System weight: （重量） 18 kg excluding computer主要特点：在数秒内，自动一键式分析紧凑式设计高灵敏度少量样品分析动态监测最新的应用软件专业碳纳米管光谱分析仪三激光器

一、仪器介绍MT-CNE100碳纳米电极制备仪是一款满足多种碳基电极制备需求的电极制备仪，制备电极的直径范围在20 nm~20 um，电极类型包括碳纳米电极、碳纳米锥电极，以及衍生的金属纳米电极、碳微米电极、碳膜电极等，用于纳微过程原位检测的微纳探针/电极。制备过程便捷且成本较低，制备的碳纳米电极尖端形貌规则、导电能力稳定，且能够长期保存。二、主要参数制备模式竖式、横式RG比低至1.1电极尺寸直径≥20 nm电极类型碳纳米电极、碳纳米锥电极、衍生的金属纳米电极、碳微米电极、碳膜电极等三、仪器构成及使用方法碳纳米电极制备仪整体构成如上图所示，主要由以下部分构成：氩气保护气（1），保护气管固定机构（2），转子流量计（3），XYZ三维手动位移台（4），球阀（5），火焰枪（6），分压阀（7），液化石油气储气罐（8），石英保护气管（9），石英毛细管（10），探针夹持器（11）。碳纳米电极制备仪的具体使用方法：以500 nm碳纳米电极的制备为例。通过超高温拉制仪，将石英毛细管拉伸成尖端直径约500 nm的石英纳米管，石英纳米管与目标制备电极直径尺寸需保持一致。开启液化石油气并调节压强，打开氩气并调节其流量为100 mL/min。在石英纳米管尾部缠封口膜，将尾部插入通有液化石油气的管内，排空石英纳米管中的空气并使其充满液化石油气，将石英纳米管固定在凹槽内，上移石英纳米管使其尖端深入通有氩气的石英保护管内。面向安全空旷的位置打开丁烷火焰枪，待火焰稳定后移动火焰使其对准石英纳米管的尖端，使用火焰枪中外层加热8 s得到500 nm的碳纳米电极。关闭丁烷火焰枪，待制得的碳纳米电极在石英保护管中自然冷却后移出并取下。

台式高精度薄膜制备与加工系统Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司，成立25年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术，拥有雄厚的技术实力，推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。Moorfield公司近十年来与曼彻斯特大学诺奖技术团队紧密合作，推出的台式高精度薄膜制备与加工系列产品由于其体积小巧、性能、易于操作更是受到很多科研单位的赞誉。Moorfield Nanotechnology推出的台式设备体积小巧，但性能已经可以和大型设备相媲美。这些设备已经进入了欧洲的实验室，诸如曼彻斯特大学、剑桥大学、帝国理工学院、诺森比亚大学、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学、西班牙光子科学研究所、英国物理实验室等著名单位都是Moorfield Nanotechnology的用户和长期合作者。诸多的用户与合作者让产品的性能和设计理念得到了高速发展，并迈入全球化的进程。如今Quantum Design中国子公司与Moorfield Nanotechnology正式合作，作为中国的代理和战略合作伙伴，将为中国用户提供高性能的设备与优质的服务。除了台式设备之外我们还提供多种大型设备和定制服务。全系列产品即将上线，敬请期待… … 台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVD超快速高质量石墨烯生长设备，整个过程30分钟内搞定！CVD被公认为是石墨烯具有应用前景的制备手段。NanoCVD系列台式设备是专为制备高质量的石墨烯与碳纳米管而开发的高性能台式CVD系统。与曼彻斯特大学诺奖团队的长期合作使得该系列产品在制备石墨烯等碳基纳米材料方面具有雄厚的技术积累。该系列产品操作简便，生长条件控制，生长迅速、制备出的样品具有高质量、高可重复性，可清楚的观测到分数量子霍尔效应。尤其适合于需要快速得到高质量石墨烯或碳纳米管用于高端学术研究的团队。点击查阅详细信息台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD可媲美大型PVD的台式高性能PVD系统 ，爆款热销中！基于多年大型薄膜制备系统的设计与研发所积累的丰富经验，Moorfield Nanotechnology推出了台式高性能多功能PVD薄膜制备系列产品。该系列产品是为高水平学术研究研发的小型物理气相沉积设备。该系列产品包含磁控溅射、金属/机物热蒸发系统。这些设备虽然体积小巧但是性能，能够快速实现高质量纳米薄膜、异质结的制备，通常在大型设备中才有的共溅射功能也可以在该系列产品上实现。便捷的操作、智能的控制、高效的制备效率让您的学术研究进入快车道。点击查阅详细信息台式超二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH用于超刻蚀二维材料与样品表面处理的等离子体刻蚀系统，诺奖团队都在用！石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度，而目前成熟的传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。为了解决目前维纳加工中常用的蚀系统功率较大、难以精细控制的问题，Moorfield Nanotechnology 推出了台式超二维材料等离子软刻蚀系统 - nanoETCH。该系统对输出功率的分辨率可到达毫瓦量，对二维材料可实现超的逐层刻蚀，也可实现对二维材料进行层内缺陷制造，此外还可对石墨基材等进行表面处理。点击查阅详细信息台式气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL从高真空到各种气氛都能控制的高端热处理系统Moorfield Nanotechnology专门为制备高质量的样品而推出的台式气氛\压力控制高温退火系统，该系统可以满足从高真空到各种气氛的退火需求。对气压和温度都能进行控制，该系统不仅仅是普通的退火系统更是二维材料、基片等进行可控热处理的重要保障。该系统颠覆了传统箱式、管式炉的粗放退火方式，开创了退火的新篇章。点击查阅详细信息多功能高磁控溅射喷金仪—nanoEM是一台喷金仪，但不仅仅是喷金仪！多功能高磁控溅射喷金仪—nanoEM是Moorfield Nanotechnology为SEM、TEM样品的表面导电处理以及普通样品的高质量电生长而设计的金属溅射系统。系统配备SEM样品托、TEM样品网、普通薄膜样品等多种专用样品台。虽然该系统主要为溅射金属而设计，但是该设备的性能已经达到了高质量薄膜样品的制备标准。通过选择不同的配置可以兼顾样品的表面导电处理、电制备与学术研究型薄膜样品的制备。因此nanoEM是一台不可多得的多功能高磁控溅射喷金仪。点击查阅详细信息部分单位及用户评价意大利比萨大学（nanoPVD S10A）Moorfield近在意大利比萨大学安装了另一台nanoPVD-S10A磁控溅射系统。在这里，它将被Giuseppe Barillaro副教授领导的团队用于为新型器件生长保护性和功能性涂层。该小组的研究应用包括纳米医学、生物传感、微电子学和光子学。诺森比亚大学（nanoPVD S10A，MiniLab）DR. GUILLAUME ZOPPI对Moorfield的评价：在诺森比亚大学，我们正在研究各种材料的应用，特别是光伏材料。作为不可或缺的部分，Moorfield近安装的用于磁控溅射和电子束蒸发的nanoPVD和MiniLab系统发挥了关键作用。Moorfield专家的专业建议确保了我们得到为合适的设备，我们对设备的质量和快速、高效的技术支持留下了深刻的印象。很高兴能和Moorfield的团队一起工作。巴斯大学（nanoPVD-T15A）DR. PETRA CAMERON对Moorfield的评价：我们的研究重点是电化学材料、能源材料和钙钛矿光伏材料。我们之前一直在寻找一个可靠且易于使用的台式蒸发设备。现在，我们新的Moorfield nanoPVD-T15A热蒸发系统可以高质量的沉积金属电和钙钛矿光伏材料的接触层。让我们喜欢的另一方面是，该系统是模块化的，可以很容易地升低温有机物蒸发模块。我们的nanoPVD-T15A已经迅速成为一个关键设备，现在每天都在使用。DR MATTHEW COLE（副教授）对Moorfield的评价：Moorfield的服务速度快如闪电。他们的产品支持是的，屈一指的。丹麦技术大学（MiniLab090手套箱集成系统）为了满足Tim Booth在二维材料和异质结的合成和应用研究，系统在MiniLab090的基础上集成了手套箱，允许在惰性气体环境下进行完整的设备操作。系统配置包括软刻蚀、热蒸发和磁控溅射。Tim Booth教授对Moorfield的评价：在DTU，我们近从Moorfield采购了一套手套箱集成系统，系统配置包括软蚀刻系统、热蒸发和磁控溅射功能，用于我们研究二维材料和异质结的合成和应用。该系统允许我们在高精度控制的低氧和水气条件下执行2D材料器件的大部分微加工步骤。Moorfield团队在设计和安装过程中至关重要并且非常专业，如果有任何疑问，他们总是可以立即提供技术支持。他们在提供2D材料技术支持方面有多年的经验，所以我们知道我们有了得力的助手。系统的高质量和设计方案让我们印象深刻，我们期待着在未来的许多年里与设备和Moorfield团队一起工作。强烈推荐!”MiniLab090手套箱集成系统，图中红色部分为集成系统的控制屏幕和主机部分。曼彻斯特大学（手套箱集成退火和刻蚀系统）DR. ROMAN GORBACHEV对Moorfield的评价：我的团队近与Moorfield合作，为我们的应用方向定制了一个集成手套箱的热退火和软蚀刻组合系统。它安装于新的National Graphene Institute (NGI)，现在被用于石墨烯和2D材料的研究。我们一直对Moorfield的专业技术和提高客户满意度的奉献印象深刻，这次也不例外！西班牙光子研究所（手套箱集成退火和刻蚀系统）位于西班牙巴塞罗那Castelldefels 的ICFO （光子科学研究所）是一个致力于光学领域科学和技术的研究中心。DR. STIJN GOOSSENS对Moorfield的评价：在ICFO，我们正在努力建立一个的新材料研究中心。近安装的Moorfield 手套箱集成热退火系统、电子束沉积系统，以及新的nanoETCH系统，起到了关键作用。我们对他们专业的销售建议、他们系统的质量和可靠性以及他们快速、有效的支持印象深刻。很高兴能和他们的团队一起工作！Evonetix公司（MiniLab 026 热蒸发系统）Evonetix公司致力于利用基因合成技术，促进合成生物学领域的快速发展。Evonetix的优势是基因合成的高保真性和并行性。DR. DAN BRATTON PH.D对Moorfield的评价：在Evonetix，我们正在开创一种可扩展和高保真基因合成的创新方法。我们想拥有一种将金属蒸发到各种基材上的设备，我们联系了Moorfield Nanotechnology公司，该公司根据我们的要求定制了一个Minilab 026蒸发系统。在整个过程中，Moorfield Nanotechnology团队非常友好且知识渊博，在安装前后都提供现场培训。在Evonetix, Minilab 026已经被证明是非常有用的设备。特别是，我们喜欢它的紧凑设计，它的易用性，以及它所带来的样品数量的增加。我们愿意向任何人推荐该设备和团队。Evonetix团队与新安装的MiniLab026热蒸发系统曼彻斯特城市大学（MiniLab 060）DR. JUSTYNA KULCZYK对Moorfield的评价：在MMU，我们近成立了曼彻斯特燃料电池创新中心，以开发利用可再生能源的创新技术方案。为此，我们采购了Moorfield MiniLab 060磁控溅射系统，该系统具有快速进样室、衬底偏压和等离子清洗、脉冲直流和射频电源以及共沉积功能。在系统设计过程中，Moorfield提供了非常宝贵的建议。我们对系统和软件的质量，以及他们团队的专业知识、沟通和技术支持都留下了深刻的印象。我们将推荐给任何现在或将来考虑使用PVD系统的人。曼彻斯特城市大学正在利用Moorfield Nanotechnology公司的MiniLab 060系统进行先进的燃料电池的研究

纳米颗粒制备 我司提供专业的纳米颗粒制备仪，可以满足用户不同需求的应用。100克至几批的纳米颗粒批次每年可以用ParteQ的FSP生产系统。这些单元可以连续运行，允许甚至可以生产24/7纳米粉。此外，通过ParteQ获得的结果。实验室规模的系统可以转移到更大的生产单位。例如，纳米材料用ParteQ NPS-20台式机开发系统或类似的实验室反应堆可以是用我们的公斤数量制造连续的FSP工厂。 ParteQ提供三条不同尺寸的线用于纳米粒子生产：建议将S系列用于几百克M系列是最适用于500 g至50 kg的数量。L系列针对想要的客户连续生产纳米粒子每小时几公斤，目标是超过50公斤每年最多。 ParteQ S系列，M系列和L系列为一站式服务包含用于前体和模块的系统气体输送，纳米颗粒生成和产品集合。各个模块可以为顾客量身定制。 S系列：50克/小时S系列基于实验室规模的Flame喷雾热解反应器也是NPS-20台式系统。而NPS-20旨在产品开发，提供每批次纳米克量的S系列可以制造几百克相同的纳米材料。例如，当连续生产约50克/小时，可以将300克纳米颗粒。在一天之内轻松获得。ParteQ FSP S系列：连续纳米粉。实验室规模的合成。最适合生产纳米颗粒的批量可达?500 g。 S系列是完全封闭的独立式系统。移动钻机基于铝大型检修门的型材。所有FSP必需的组件已集成进入钻机：火焰喷雾热解反应器流量控制器，前驱泵，颗粒集尘袋式过滤器，离心风机以及入口和出口安全过滤器。 M系列：500克/小时，如果千克数量的纳米颗粒是需要，中型M系列是系统选择。生产能力从约100克/小时，可达2千克/小时，取决于产品材料和操作条件。该系统由PLC，甚至允许使用24/7纳米粉生产。 实际上，M系列已经是一个很小的过程固定的脚印的工厂大约4 m x 6 m。房间高度应在至少5 m。 L系列：5,000克/小时L系列是真正的纳米粉产品，可以连续运行的工厂，每周7天24小时。操作范围开始大约每小时1公斤，可能会超过5公斤/小时，取决于产品材料和条件。 L系列的设计类似于较小的M系列，但使用的组件更大的尺寸。例如，搅拌250或500 L建议使用前驱箱涵盖一天的原料供应。喜欢M系列，该系统是全自动的并由PLC控制。与M系列一样，所有L系列工厂为客户量身定做。

德国ParteQ 纳米颗粒合成制备系统ParteQ 公司介绍ParteQ GmbH由其两位管理合伙人Karsten Wegner博士和Martin Seipenbusch博士于2016年夏天创立，目标是成为纳米颗粒和气溶胶技术产品和服务的领先供应商。ParteQ为粉末和气溶胶提供可扩展的合成系统以及颗粒测量技术。在合成领域，重点是纳米颗粒和纳米粉体。这些材料用于纳米技术，多相催化，也用于电池技术和许多其他技术。除了气溶胶技术中的设备工程和测量技术外，我们还以研究服务和根据客户规格合成功能化颗粒材料的形式提供我们在颗粒技术、颗粒工程和纳米技术领域的知识和经验。ParteQ GmbH在功能材料领域的重点在于纳米颗粒和纳米粉末的合成。通过化学气相沉积将微米到毫米大小的颗粒功能化大大扩展了粉末和结构的范围。我们的合成方法包括用于生成氧化物、磷化物和金属纳米颗粒的火焰喷雾热解法，以及用于金属纳米颗粒的电弧和等离子体系统。ParteQ产品介绍ParteQ GmbH 提供一系列用于生成固体纳米颗粒和液滴的系统，包括从雾化和蒸发/冷凝到火焰到热壁合成的各种工艺。利用化学气相沉积法进行粉末功能化是我们另一个重点。对于粉末和气溶胶的表征，我们还提供广泛的颗粒测量技术及系统。关于纳米粉末的收集我们提供专门的过滤系统及过滤测试系统，以分析过滤介质和滤芯的效率。一、纳米颗粒和纳米粉体的合成制备ParteQ 提供基于火焰、热壁和火花技术的纳米颗粒制备合成系统。Parteq GmbH开发可扩展的气相合成系统，用于生成功能化纳米颗粒，用作功能材料的基础。我们的模块化合成平台能够生产多种不同的结构，从单金属颗粒、精确合金金属纳米颗粒到纯氧化物和异核壳结构纳米颗粒。生产规模可客户的需求。1. 火焰喷雾合成：氧化物纳米材料、磷酸盐和金属ParteQ提供火焰喷雾热解（FSP）反应器，用于纳米颗粒合成，从交钥匙实验室规模的FSP系统到具有kg/h规模的中试装置。我们还提供纳米颗粒生产和开发服务。火焰喷雾热解（FSP）是一种多功能且低成本效益的纳米颗粒生产工艺。取决于含有金属或过渡金属化合物的液体原料在高达3000°C的温度下燃烧，纳米颗粒在几毫秒内形成，并在过滤器上以干粉的形式收集。FSP工艺受益于短的工艺链，只需一步即可制备复杂的纳米颗粒制备产品是纳米粉体，FSP通常用于生产高结晶氧化物的纳米粉末，但也用于合成了磷酸盐和纯金属。产品包括单组分和多组分氧化物纳米颗粒以及氧化物载体上的贵金属簇。对于某些组合物，可以制造表面包覆或基质嵌入的纳米颗粒。典型的粒径范围为 10 至 50 nm，具体取决于工艺条件。火焰喷雾热解FSP制备纳米粒的应用包括：w 催化剂w 电池材料w 陶瓷w 颜料w 牙科和生物医学材料w 气体传感器w 聚合物纳米复合材料w 电陶瓷台式纳米颗粒合成系统NPS-20---基于火焰喷雾热解技术的交钥匙系统NPS-20是一种交钥匙台式火焰喷雾热解装置，用于研究和早期产品开发水平的纳米颗粒合成。NPS-20设计用于快速筛选FSP合成中可用的材料成分和工艺条件的多个参数，以加速纳米材料的开发NPS-20可以放置在实验室工作台上，也可以根据要求与移动机架一起交付。系统都须放置在化学通风柜或类似的封闭和通风区域才能操作。台式纳米颗粒合成系统NPS-20 主要特点w 实验室规模的火焰喷涂反应器w 低脉动注射泵，用于精确进料液体驱动。w 4 个质量流量控制器，用于输送工艺气体：分散氧气、支持火焰甲烷和氧气以及可选的护套气体。w 自动火焰点火系统。w 火焰探测器。w 集成微处理器和电子板，用于过程控制。w 通过 RS 232 控制软件和通信。w 玻璃纤维过滤器和干式旋片真空泵，用于收集产品粉末。w 用于监控过滤器状态的压力和温度表。从实验室到中试规模的纳米颗粒系统系统-基于FSP 的纳米颗粒制备技术实验室规模的FSP反应器以高达50 g / h的速度生产纳米粉末，而且实现了生产能力高达5 kg/h的全自动FSP中试设备。这些装置根据客户的要求量身定制，并作为交钥匙系统交付。通过PLC过程控制，中试工厂配备了24/7全天候运行，允许纳米粉末的小规模工业生产。2. 热壁合成-氧化物和负载金属流动式热壁反应器中纳米颗粒的合成纳米级颗粒的合成可以在火焰反应器中合成，也可以在热壁系统中合成。由于气体成分可自由选择，氧化敏感材料也触手可及。热壁合成纳米材料的原理：所需颗粒材料的前驱体材料被转移到气相中，并在热壁反应器中分解和氧化。高度分散结构形成具有高比表面积。通过选择工艺参数，可以改变表面粗糙度、分形结构和粒径。球形颗粒可以通过在高温下聚结获得。根据所选择的材料，可以合成均匀混合的氧化物纳米颗粒或核壳结构纳米颗粒。3. 火花合成：金属纳米颗粒 DNP 3000火花合成可实现石墨和金属纳米颗粒的无前体合成从石墨、银 （Ag）、金 （Au）、铜 （Cu） 等生成纳米级测试气溶胶。通过冷凝 载气：氮气 或氩气4. 灼热丝纳米粒子发生器-金属纳米粒子用于高浓度下尺寸范围低于 10 nm 的金属颗粒的颗粒发生器GWG产生具有可调粒径分布和浓度的稳定Pt气溶胶，是实验室实验和仪器校准的理想选择。可以使用氮气或氩气进行操作。外壳是真空密封的，由不锈钢制成，带有标准的真空法兰连接器。用于电线电气连接的电极隔离在PTFE中。提供世伟洛克连接器，用于气体和气溶胶管路的 6 或 8 mm 卡套管。具有 0-10 A 和 0-10V 输出的电源，输入 50Hz 240 V 用于加热用于产生颗粒的电线。气溶胶输出是受控于电流变化，电流可以很好地控制粒度分布。二、纳米粉末的功能化-通过通过化学气相沉积（CVD）对颗粒进行功能化用于颗粒功能化的ParteQ工艺基于通过化学气相沉积（CVD）对金属或氧化物进行涂层。该工艺能够对结构特征进行独特的控制，例如支撑颗粒的尺寸和表面纹理以及支撑金属颗粒的尺寸和数量密度或氧化物壳的厚度。我们可以生成各种各样的纳米结构，从简单混合氧化物到核壳结构以及Janus颗粒。我们的流化床反应器可加热至200°C，允许热CVD工艺。它们是真空密封的，因此可以在反应气氛下操作，并用于处理空气或湿度敏感系统。ParteQ提供从实验室规模（例如WSR50）到中试规模（例如WSR160）的完整系统，包括母离子加样和固体处理。三、纳米粒子和气溶胶测量仪器用于表征气溶胶和纳米粉末的仪器我们提供广泛的仪器，用于气溶胶表征、细粉尘监测以及气溶胶的生成测试和过滤器测试。产品包括纳米颗粒测量系统，气溶胶光谱仪，细粉尘的监测，气溶胶监测仪，稀释系统，在线颗粒测量四、纳米颗粒过滤-纳米粉末收集纳米级气溶胶的沉积需要专门的设备，因为与传统的过滤系统相比，有关密封性和效率的规格要求要高得多。 除此之外，ParteQ还提供适用于测试过滤介质和过滤单元的过滤测试台。开发了一种可扩展的过滤系统，用于产品气溶胶的沉积。该系统非常灵活，可适应您的工艺要求。采用真空密封法兰连接可以排除过程中的氧气。电解抛光表面可以改变纳米粉末的处理。手动或自动过滤器再生是可选的，CIP系统的实施也是可选的。过滤器可耐受高达 200°C 的工作温度。ParteQ产品应用领域ParteQ 产品用于材料开发，包括储能，光电化学，燃料电池，和健康领域的药品的缓控释，抗生素表面功能化，电子学和机械工程用于3D 打印材料的开发，以及用于环境，包括纳米颗粒测量系统，细粉尘的监测等。

一、仪器介绍MT-CNE200碳纳米电极制备仪是一款满足多种碳基电极制备需求的电极制备仪，制备电极的直径范围在20 nm~20 um，电极类型包括碳纳米电极、碳纳米锥电极，以及衍生的金属纳米电极、碳微米电极、碳膜电极等，用于纳微过程原位检测的微纳探针/电极。制备过程便捷且成本较低，制备的碳纳米电极尖端形貌规则、导电能力稳定，且能够长期保存。正在更新中...

纳米颗粒制备仪 大型实验室喷雾燃烧合成纳米颗粒材料火焰喷雾热解(FSP)是一种多功能经济高效的纳米颗粒生产工艺。它依赖于含金属或过渡金属化合物的液体原料在高达3000度的温度燃烧。产品纳米颗粒在几毫秒内形成在过滤器上以干粉的形式收集。 火焰喷雾热解工艺受益于极短的工艺链使复杂纳米颗粒的生产只需一步。纳米粉末生产FSP通常生产高结晶氧化纳米颗粒。但合成了磷酸盐、纯金属。根据工艺条件。颗粒的典型尺寸范围 5 ~ 50nm。这些初级粒子形成较大的团聚体。 纳米产品的例子包括简单的金属氧化物TiO2Al2O3 ZrO2以及YSZ CGO 钙 矿或尖晶石复杂氧化物。此外：贵金属纳米颗粒可以制造沉积在火焰中的氧化物支持颗粒上于某些组合物。可以制备表面包覆或基质化的纳米颗粒。 FSP纳米颗粒的应用包括:催化剂电池材料陶瓷牙科 生物医学材料体传感器聚合物纳米复合材料陶瓷.... 原材料FSP的源材料是低成本的金属化合物酸盐、硝酸盐或有机金属。这些所谓的前体是混合或溶解在标准有机溶剂。同心甲氧支持火焰、燃前驱溶剂喷雾，并确保稳定燃烧还可以使用可选的护套体。 NPS-M是一种用于纳米颗粒合成的全集成化桌面式火焰喷雾热解装置。应用于研究早期产品开发阶段。NPS-M设计用于快速筛选FSP合成中可用的材料组成 工艺条件的大量参数加速纳米材料的科学发展。主要特点：实验室规格火焰喷雾反应器低脉动注射可精确输送液体前体用于输送工艺前体的质量流量控制器:火焰检测器集成微处理器、电子板。用于过程控制，通信通过rs232玻璃纤维过滤器：干式旋式真空。用于产品粉末的收集压力及温度计以监察过滤器的状态。

纳米颗粒制备仪 桌面式喷雾燃烧合成纳米颗粒材料火焰喷雾热解(FSP)是一种多功能经济高效的纳米颗粒生产工艺。它依赖于含金属或过渡金属化合物的液体原料在高达3000度的温度燃烧。产品纳米颗粒在几毫秒内形成在过滤器上以干粉的形式收集。 火焰喷雾热解工艺受益于极短的工艺链使复杂纳米颗粒的生产只需一步。纳米粉末生产FSP通常生产高结晶氧化纳米颗粒。但合成了磷酸盐、纯金属。根据工艺条件。颗粒的典型尺寸范围 5 ~ 50nm。这些初级粒子形成较大的团聚体。 纳米产品的例子包括简单的金属氧化物TiO2Al2O3 ZrO2以及YSZ CGO 钙 矿或尖晶石复杂氧化物。此外：贵金属纳米颗粒可以制造沉积在火焰中的氧化物支持颗粒上于某些组合物。可以制备表面包覆或基质化的纳米颗粒。 FSP纳米颗粒的应用包括:催化剂电池材料陶瓷牙科 生物医学材料体传感器聚合物纳米复合材料陶瓷.... 原材料FSP的源材料是低成本的金属化合物酸盐、硝酸盐或有机金属。这些所谓的前体是混合或溶解在标准有机溶剂。同心甲氧支持火焰、燃前驱溶剂喷雾，并确保稳定燃烧还可以使用可选的护套体。 NPS-20是一种用于纳米颗粒合成的全集成化桌面式火焰喷雾热解装置。应用于研究早期产品开发阶段。NPS-20设计用于快速筛选FSP合成中可用的材料组成 工艺条件的大量参数加速纳米材料的科学发展。主要特点：实验室规格火焰喷雾反应器低脉动注射可精确输送液体前体用于输送工艺前体的质量流量控制器:火焰检测器集成微处理器、电子板。用于过程控制，通信通过rs232玻璃纤维过滤器：干式旋式真空。用于产品粉末的收集压力及温度计以监察过滤器的状态。

Calorsito可以帮助您检测各种类型的 纳米颗粒，使测量样品的广泛光谱成为 可能。我们的设备允许您检测金属纳米 粒子(如Au、Ag、Cu)、碳基材料(如碳 纳米管)和选定的金属氧化物(如二氧化 钛)。它主要是运用光加热粒子和用红外线成像分析热，锁定增强信号。它具有简单快捷的操作性,更能产生高质量的测量, 同时还具备成本效益。产品用途 测试分析碳基材料（石墨烯，碳纳米管） 测试分析金属粒子（氧化铁，金，银，铜） 对于液体（如批次重现性，浓度）进行测量分析 对于固体（薄膜均匀性，膜厚，薄膜浓度，粒子吸收，生物组织纳米粒子）进行测量分析 细胞和组织切片中纳米材料的测量 碳纳米材料薄膜均匀性评估 光照射下粒子的热发展比较与测量 合成或修饰后的粒子比较 颗粒在复合材料中的分布产品特点 7个不同的波长（400,460,525,660,730,840,950）nm 固体和液体均可测试 无需制备 操作简单 无标记 无损检测 快速检测（1样本/分钟） 分析区域大(直径2CM)

金属纳米颗粒制备 金纳米材料具有众多易于调控的特性，比如局域表面等离子共振、表面增强拉曼、光致发光、易于表面修饰和生物相容性好。这使得金纳米材料广泛应用于我们生活的多个方面。合成金纳米颗粒常用的制备方法有很多，其中，直接FSP火焰喷雾燃烧法生长法应用广泛。金属纳米颗粒制备采用火焰喷雾热解工艺，受益于极短的工艺链使复杂纳米颗粒的生产只需一步。纳米粉末生产FSP通常生产高结晶氧化纳米颗粒。但合成了磷酸盐、纯金属。根据工艺条件。颗粒的典型尺寸范围 5 ~ 50nm。这些初级粒子形成较大的团聚体。 纳米产品的例子包括简单的金属氧化物TiO2Al2O3 ZrO2以及YSZ CGO 钙 矿或尖晶石复杂氧化物。此外：贵金属纳米颗粒可以制造沉积在火焰中的氧化物支持颗粒上于某些组合物。可以制备表面包覆或基质化的纳米颗粒。 FSP纳米颗粒的应用包括:催化剂电池材料陶瓷牙科 生物医学材料体传感器聚合物纳米复合材料陶瓷.... 原材料FSP的源材料是低成本的金属化合物酸盐、硝酸盐或有机金属。这些所谓的前体是混合或溶解在标准有机溶剂。同心甲氧支持火焰、燃前驱溶剂喷雾，并确保稳定燃烧还可以使用可选的护套体。 NPS-20是一种用于纳米颗粒合成的全集成化桌面式火焰喷雾热解装置。应用于研究早期产品开发阶段。NPS-20设计用于快速筛选FSP合成中可用的材料组成 工艺条件的大量参数加速纳米材料的科学发展。纳米颗粒制备仪主要特点：1产品纯度高，粒径小，分布均匀，比表面积大，高表面活性，松装密度低，气相法制备，克服了市场上湿化学法制备的颗粒硬团聚、难分散、纯度低等缺点；2表面存在大量的不饱和残键及不同键合状态的羟基，因表面欠氧而偏离了稳定的硅氧结构，所以具有高反应活性，粉体松装密度比较小，容易分散使用；3纳米颗粒晶相稳定、硬度高、尺寸稳定性好，可应用于各种塑料、橡胶、陶瓷产品的补强增韧，特别是提高陶瓷的致密性、光洁度、冷热疲劳性、断裂韧性、抗蠕变性能和高分子材料产品的耐磨性能尤为。由于颗粒也是性能优异的远红外发射材料，作为远红外发射和保温材料被应用于化纤产品和高压钠灯中。4公司可以进行针对性的表面处理包裹，使得纳米粉体可以稳定地分散在溶剂体系中，形成透明状或半透明状溶胶，应用在涂料、玻璃表面、电子封装等

一.机型称号：纳米碳管研磨混合机，药物研磨混合机，毫微米研磨混合机，超飞快研磨混合机，水管式研磨混合机，3级研磨混合机，高剪切研磨混合机。二.研磨机：机型19款，处理量50到8*10000KG/小时，旋转1100到1.4*10000转/分钟，线速度23到44m/秒，电滚功耗1.5到160kW，磨头胶体磨&锥体磨。三.研磨分散机：机型6款，处理量50到6*1000KG/小时，旋转1100到9*1000转/分钟，线速度23m/秒，电滚功耗2.2到150kW，磨头胶体磨。四.小型分散乳化机：机型30款，处理量0.2克到10KG/小时，旋转50到3*10000转/分钟，线速度3到33m/秒，电滚功耗0.3到0.8kW。五.真空分散乳化机：机型32款，处理量5到2*10000KG/小时，旋转14到1.4*10000转/分钟，线速度44m/秒，电滚功耗0.18到120kW。六.均质匀浆机：机型4款，处理量0.2到150克/小时，旋转3500到8*1000转/分钟，线速度3到10m/秒，电滚功耗0.145到0.18kW。七.多效用分散乳化均质机：机型27款，处理量150到12.5*10000KG/小时，旋转960到1.4*10000转/分钟，线速度10到44m/秒，电滚功耗1.5到160kW。八.混合机：机型I6款，处理量300到12.5*10000KG/小时，旋转1100到9*1000转/分钟，线速度20到23m/秒，电滚功耗1.5到160kW。九.实用物料种类：胶粘溶胶，巨粒子固态液体悬空液乳剂，不包溶等。十.终级粒径：主腔内有叁组定转子，每组粗齿、中齿、细齿、超细齿。调动定转子间隙，加工后地终级粒径在10微纳米之下。十一.胚料配件：百分之八十以上进ロ海内外公司。十二.技艺出处：引荐德国技艺，立发明加工，备有专利。十三.工作方式：有在线式，批次式，内外循环式，水管式，可倒式，若干效用式。十四.机型合成：靠预加工锅、搅动锅、泵、液压系统、倒料系统、电力调动系统、主腔等部件合成。十五.智力化：CIP冲洗系统，液压升降松盖，包括配料给料吸料安装。十六.磨头好处：研磨头可调5款模版，6款分散头，20多款工作头。十七.锥磨好处：锥磨转子外层包含金属碳化物跟不一样粒子地陶瓷镀层等高上材料，提防毁伤腐蚀。十八.机型材料：统统接碰物料地材料皆是进口耐酸钢，主腔跟管路内乃亮面抛光三百EMSH（卫生级），无死角。十九.密封好处：博格曼双机械密封，液压平稳系统（可以担当16atm重压），软密封。二十.搅动方式：可挑刮壁式/锚固式/融解式/叶面式。二十一.机型好处：机型采选上层同轴三重装搅动器，循环管路，出水阀。二十二.操控箱好处：不但可以操控电滚旋转，摄氏度降温升温（经历电能，热汽，油水循环，可以担当-40到250摄氏度），重压，PH度，粘性。且可以设定不一样效用模版，呈现相称地个个参数，可以线性扩大量产。二十三.可以抉择：察看窗，硅氟酸玻璃察看，电导率计，二重绝缘以防，稳固夹，工作架，底座，图谱剖析多效用显微硬度器（测试界限1到4千HV），管路式测试电炉（测试界限zui高1350度），输出泵/转子泵/气动隔膜泵/锚固泵/离心泵（处理量850到4.3*10000KG/小时），反应搅动单罐/组合罐（500到3*1000KG/小时），反渗透/全自动纯水安装（0.5到3*1000KG/小时)，臭氧发生器，过流式紫外线消菌器等。?.别的特长：整体立方小，电耗低，分贝低，可每日不断出产。?.访客垂访：按照访客实况必要恰当抉选！别的可订制非标和生产线！假若是非常情况，比方超温，超压，易烧易炸，侵蚀性，可产品升级！?.物料测量：得到访客物料后当即投入测量，瞧可否到达要求&答复测量进程&成果。?.方案价格：断定好产品功用后当即策画方案，包含2D部署图，总安装出产线表示图，立体成果图，&呈上本该得价格单子！?.结语：我们是出产厂家，详尽信息可以企业查看，因此分外恭候访客去垂访&更深一步长谈！以上信息不容坊造，非常道谢！扩展内容可不看：碳纳米管（CNTs），管状纳米级石墨晶体，是由单层或多层石墨片以一定的螺旋角绕中心轴卷曲而成的无缝纳米管。 每一层的C经过SP2杂化形成六边形平面的圆柱面。 碳纳米管还具有天然存在的碳晶体的特性。 制造被称为碳原子材料的碳纳米管。 科学发现自然，自然验证科学。

均质是使悬浮液（或乳化液）体系中分散物微粒化、均匀化的处理过程，这种处理同时起降低分散物尺度和提高分散物分布均匀的作用。高压均质的原理：高压泵头组件工作时将物料经过单向阀吸入泵腔，流体物料在柱塞的作用力下，泵腔和均质阀座之间的物料会行成极高的压力。高压物料通过均质阀组件时，产生以下三种效果：① 剪切作用,均质阀座与阀芯间的缝隙很小,对物料颗粒产生剪切②空穴效应,高速挤出的物料瞬间失压,最终达到使物料均匀分布目的③ 碰撞作用,高速挤出的物料以极高的速度撞击到碰撞环上,产生撞击粉碎实物安装图：应用领域：制药行业中制备脂肪粒、载药型乳液均质、脂质体、纳米混悬剂和微胶囊等 生物工程产品的细胞破碎、胞内外物质的提取和均质 精细化工、碳纳米管、石墨烯、导电浆料、电阻浆料的生产和制备 个人护理品-脂质纳米的均质分散 食品和工业产品的均质和乳化,提高产品稳定性 产品优势：①结构特点：单支陶瓷柱塞驱动，出料流量精准控制。可选配柱塞润滑装置，密封使用寿命更长。②均质压力：最大设计压力2000bar/200MPa/29000psi，选用卫生级数字隔膜压力表。③均质流量：最小样品量15ml,特别适合昂贵的药剂生产。自动吸料，无需进料设备。④部件技术：均质阀座组件可采用氧化锆、钨钢、金刚石、司太立等材质，单/双面加工，双面使用，使用寿命加倍。二级阀分散乳化，使物料分布更加均匀一致。⑤节能技术：设备变频控制，接入220V市电即可使用，进口品牌部件设备更稳定，更低的能耗，更高的能效比。技术参数：产品型号JXNANO-5设计流量(L/H)5~8设计最高压力(mpa/bar/psi)200/2000/29000使用压力（MPa/bar/psi）180/1800/26100操作方式按键电压(V)220柱塞数量(支)1功率(kw)1.5主要功能均质、破壁、细化（可选配冷水机控温）最小处理量（mL）15产品过程粘度≤2000cp最大进料颗粒尺寸≤100μm工作压力显示压力表控制方式手动操作 最大产品进料温度90℃重量（KG）110

台式高精度薄膜制备与加工系统Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司，成立25年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术，拥有雄厚的技术实力，推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。Moorfield公司近十年来与曼彻斯特大学诺奖技术团队紧密合作，推出的台式高精度薄膜制备与加工系列产品由于其体积小巧、性能、易于操作更是受到很多科研单位的赞誉。Moorfield Nanotechnology推出的台式设备体积小巧，但性能已经可以和大型设备相媲美。这些设备已经进入了欧洲的实验室，诸如曼彻斯特大学、剑桥大学、帝国理工学院、诺森比亚大学、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学、西班牙光子科学研究所、英国物理实验室等著名单位都是Moorfield Nanotechnology的用户和长期合作者。诸多的用户与合作者让产品的性能和设计理念得到了高速发展，并迈入全球化的进程。如今Quantum Design中国子公司与Moorfield Nanotechnology正式合作，作为中国的代理和战略合作伙伴，将为中国用户提供高性能的设备与优质的服务。除了台式设备之外我们还提供多种大型设备和定制服务。全系列产品即将上线，敬请期待……台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVD超快速高质量石墨烯生长设备，整个过程30分钟内搞定！CVD被公认为是石墨烯具有应用前景的制备手段。NanoCVD系列台式设备是专为制备高质量的石墨烯与碳纳米管而开发的高性能台式CVD系统。与曼彻斯特大学诺奖团队的长期合作使得该系列产品在制备石墨烯等碳基纳米材料方面具有雄厚的技术积累。该系列产品操作简便，生长条件控制，生长迅速、制备出的样品具有高质量、高可重复性，可清楚的观测到分数量子霍尔效应。尤其适合于需要快速得到高质量石墨烯或碳纳米管用于高端学术研究的团队。点击查阅详细信息台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD可媲美大型PVD的台式高性能PVD系统 ，爆款热销中！基于多年大型薄膜制备系统的设计与研发所积累的丰富经验，Moorfield Nanotechnology推出了台式高性能多功能PVD薄膜制备系列产品。该系列产品是为高水平学术研究研发的小型物理气相沉积设备。该系列产品包含磁控溅射、金属/机物热蒸发系统。这些设备虽然体积小巧但是性能，能够快速实现高质量纳米薄膜、异质结的制备，通常在大型设备中才有的共溅射功能也可以在该系列产品上实现。便捷的操作、智能的控制、高效的制备效率让您的学术研究进入快车道。点击查阅详细信息台式超二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH用于超刻蚀二维材料与样品表面处理的等离子体刻蚀系统，诺奖团队都在用！石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度，而目前成熟的传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。为了解决目前维纳加工中常用的蚀系统功率较大、难以精细控制的问题，Moorfield Nanotechnology 推出了台式超二维材料等离子软刻蚀系统 - nanoETCH。该系统对输出功率的分辨率可到达毫瓦量，对二维材料可实现超的逐层刻蚀，也可实现对二维材料进行层内缺陷制造，此外还可对石墨基材等进行表面处理。点击查阅详细信息台式气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL从高真空到各种气氛都能控制的高端热处理系统Moorfield Nanotechnology专门为制备高质量的样品而推出的台式气氛\压力控制高温退火系统，该系统可以满足从高真空到各种气氛的退火需求。对气压和温度都能进行控制，该系统不仅仅是普通的退火系统更是二维材料、基片等进行可控热处理的重要保障。该系统颠覆了传统箱式、管式炉的粗放退火方式，开创了退火的新篇章。点击查阅详细信息多功能高磁控溅射喷金仪—nanoEM是一台喷金仪，但不仅仅是喷金仪！多功能高磁控溅射喷金仪—nanoEM是Moorfield Nanotechnology为SEM、TEM样品的表面导电处理以及普通样品的高质量电生长而设计的金属溅射系统。系统配备SEM样品托、TEM样品网、普通薄膜样品等多种专用样品台。虽然该系统主要为溅射金属而设计，但是该设备的性能已经达到了高质量薄膜样品的制备标准。通过选择不同的配置可以兼顾样品的表面导电处理、电制备与学术研究型薄膜样品的制备。因此nanoEM是一台不可多得的多功能高磁控溅射喷金仪。

微流控制备仪 MPE-P1Microfluidic Preparation Equipment: MPE-P1微流控制备仪描述：MPE-P1型微流控制备仪，是中试型制备系统，可用于脂质纳米颗粒LNP、聚合物纳米颗粒、脂质体Liposome、微乳Emulsion等微纳米制剂中试规制备工艺开发，助力核酸药物、小分子药物DDS系统的产业化研究。设备采用集成式触屏操作，系统配置批次记录、数据导出等功能，便捷高效。MPE-P1中试型微流控制备仪，支持高浓度和高流速下LNP、Liposome等微粒的制备，结果稳定，重现性高，可为生产放大提供详实、可靠、全面的工艺数据。功能应用：Functional application化学药品脂质体（Liposome）制备，如多柔比星脂质体、伊立替康脂质体等； Preparation of chemical liposomes, such as doxorubicin liposomes, iritecan liposomes, etc 生物类脂质纳米颗粒颗粒（LNP）制备，如mRNA脂质体、siRNA-LNP等； Preparation of biological lipid nanoparticles (LNP), such as mRNA liposomes, siRNA LNP, etc 聚合物纳米颗粒/微球等制备，如PLGA微球、PEG-PLGA纳米颗粒等； Preparation of polymer nanoparticles / microspheres, such as PLGA microspheres and peg-plga nanoparticles 乳剂（Emulsion）的制备，如疫苗佐剂、脂肪乳制剂等； Preparation of emulsion, such as vaccine adjuvant, fat emulsion preparation, etc 有机/无机纳米粒，如金纳米等； Organic / inorganic nanoparticles, such as gold nanoparticles 其他相关微纳米制剂。Other related micro nano preparations.微流控技术Microfluidic Technology微流控（Microfluidic）技术是一种基于（微）流体力学理论，在管线中实现样品制备与加工的技术。完美的将微流体的理化模型与流体力学理论相结合，可实现样品的混合、乳化及分离纯化等功能。Microfluidic technology is a kind of technology based on the theory of （Microfluidics）fluid mechanics, which can realize the sample preparation and processing in the pipeline. The perfect combination of the physical and chemical model of microfluidics and the theory of hydrodynamics can realized the functions of sample mixing, emulsification, separation and purification.微流控技术将过程控制技术（Process Control Technology，PCT）与过程分析技术（Process Analytical Technology，PAT）相结合，可实现良好的在线样品制备技术（On-line Preparation Technology，OPT）。样品在连续化制备的过程中，工艺过程中参数完全可控，且具备良好重现性，所以较传统分步割裂式制备、分批次生产的方法来说更具有可放大性。Microfluidic technology combines process control technology (PCT) with process analytical technology (PAT) to realize good on-line preparation technology (OPT). In the process of continuous preparation, the parameters in the process are completely controllable and have good reproducibility, so it can be better applied applied to production than traditional method of step-by-step split preparation and batch production.可实现样品的初乳化、复乳化、粒径控制功能。Can realize the functions of initial emulsification, re-emulsification and particle size control. 微流控制备系统通过制备泵和高压输送泵与微流控芯片相连接，A相和B相可按照一定的比例恒速的输送至芯片中进行混合，乳化。在微流控芯片中通过设计不同的流道结构，控制不同的速度，使得样品在微流控芯片中达到湍流、层流或雾化状态，可以实现样品的初乳化或复乳化的要求。Microfluidic preparation system is connected with microfluidic chip by fabricating pump and high-pressure conveying pump. Phase A and phase B can be mixed and emulsified at constant speed in a certain proportion. In microfluidic chips, different runner structures are designed and different velocities are controlled to make the samples turbulent, laminar or atomized in the microfluidic chips, which can meet the requirements of pre-emulsification or re-emulsification.制备好的样品通过高压泵输送至高压微流控芯片中，通过撞击力和剪切力来控制粒径，使其达到所需范围内。粒径最小可达到100nm以内，PDI至0.1以下。The prepared samples were transported to the high pressure microfluidic chip by high-pressure pump, and the particle size was controlled by impact force and shear force to reach the required range. The smallest particle size can be less than 100nm, and PDI can be less than 0.1.微流控芯片 Microfluidic Chips微流控芯片是基于应用工艺的定制型特殊流道结构部件，其通道结构和尺寸均与项目工艺需求相结合，属定制型结构件。具体来说可实现以下四种功能：Microfluidic chip is a customized special channel structure component based on the application process. Its channel structure and size are combined with the process requirements of the project. Specifically, the following four functions can be realized:（1） 两相的混合、乳化；Mixing and emulsification of two phases （2） 微粒形成后的孵育；Incubation after particle formation （3） 微粒形成后的粒径控制；Particle size control after particle formation （4） 二次混合或乳化。Secondary mixing or emulsification after particle formation.技术参数：

我们的优势：反应器模块芯片采用整体键合，一体成型方式，耐高压，防漏液；碳化硅材质，耐酸耐碱耐盐，耐腐蚀；各种持液量规格的模块均可根据客户要求定制；超纯碳化硅材料及碳化硅反应器模块专业生产厂家，源头工厂；产品可能不是“最优于”，至少是“不差于”；一对一专业服务，无论何种规格，客户至上。 产品参数：工作温度（℃）：-60-200工作压力（bar) ： ≦50芯片尺寸(mm）：300*300持液量（ml）：3、8、50、250、300通道尺寸（mm）：3.2-6.0 流量范围：通用款有8、50、250、300ml，可根据实际工况灵活调配，多组串联；机型：单组模块为5层碳化硅板式芯片结构，整体键合；多组模块之间采用全氟醚O型密封圈密封；模块外部由碳纤维保温隔热外壳包覆；外接配管：进出管为6-8mmPTFE管、1/4合金管等； 产品应用：硝化、氧化、还原、重氮化、缩合、酰胺化、溴化等反应。适用于医药，农药，染料，香料，表面活性剂等精细化工中间体和其它特种助剂，以及基本化学品的合成工艺研发和商业化生产。应用案例：纳米材料制备 1. 白芦黎醇纳米分散体（来源：DOI: 10. 13543 /j. bhxbzr. 2017. 05. 005）： A相：白芦黎醇溶于乙醇或丙酮 B相：辅料PVP和SDS溶于水 进料流量比：A:B=1：20（3ml/min、60ml/min) 利用平流泵调节AB两相溶液的进料条作，在微通道反应器出口收集纳米分散体浆料，制得平均粒径130nm左右分散体。继续采用套管式微通道反应器优化放大，可得到平均粒径80nm左右。 2. 纳米布洛芬晶体制备（来源：单羽，微通道反应器沉淀法制备纳米晶体【D】，南京理工大学，2021，21-38. ） 选择心型微通道反应器，持液量3ml，进出料管为1/8 inch PTFE管，两进一出结构。 A相：不饱和的乙醇布洛芬溶剂 B相： 0.1mol/L的ZrCl4水溶液，pH3左右，抽滤后的滤液。进料流量比：A:B=1：15（1ml/min、15ml/min) 外加超声场，实验温度40°，通入A相，保留时间7s，出料后稳定30s，收取物料，布洛芬平均粒径100nm左右。

简要描述：符合 cGMP 要求的纳米药物生产设备：承袭 Microflow M 特性的同时，优化设备细节，使其符合 GMP 要求，可进行大规模临床生产。详细产品介绍：Microflow G系列以生产临床大量成熟制剂为目标，承袭 Microflow M系列高通路的特性和相同的芯片设计，确保用户能够快速从M系列过渡到G系列，同时能够在GMP车间以24 L合成量（可定制更大产量）制备产品。通路整体为一次性设计，消除清洁带来的负担。铭汰 Microflow &trade 系列微流控纳米药物递送平台

C160奥维斯丁公司（Avestin）HighPressureHomogenizer奥维斯丁公司（Avestin）EmulsiFlex-C160均质机原理：Sample先以高压低流速的状态进入均质阀，产生超剧烈的能量，此能量伴随着剪切、空穴及撞击三效应将固体颗粒、细胞粉碎。 奥维斯丁公司（Avestin）均质机应用：1、生物细胞破壁：大肠杆菌、酵母/灵芝孢子、霉菌，藻类、真菌、动植物细胞破碎；2、样品纳米均质化：微乳、脂质体、分散剂、纳米粒、纳米混悬液，脂肪乳以及各种需要油水相乳化等3、化工：化妆品、纳米材料、纳米晶体、纳米乳液、香精香料等4、食品……产品参数1.工作压力：从0到30,000PSI（0~207兆帕），连续可调2.流量特点：连续流量，压力可逐步自由调节3.超大处理量：160L/h4.超小样品量：40ml5.泵动力源：电源驱动，380V,50Hz/60hz,11kW产品特点1.良好的均质重现性和稳定性2.可选配流量控制系统及温度控制系统3.产品通道采用特殊的锥面密封，方便拆卸，无易损垫片，避免二次污染4.机体组件由医药级不锈钢制成。耐酸、耐碱、耐高温、防腐蚀、耐磨性强5.适用于脂肪乳，脂质体，脂质纳米粒和纳米混悬剂等产品6.可选配热交换器,均质过程小于0.1秒,产品温升小7.可进行在线清洗和在位灭菌。产品全程可以以SIP高压灭菌或蒸汽灭菌，包括所有过湿部件8.可配合在线挤出系统,由均质动力提供挤出匀化的挤出压力9.产品符合卫生级符合GMP标准奥维斯丁公司（Avestin）拥有实验型、中试型、生产型高压纳米均质机供选择，流量从7毫升每小时到2000升每小时，超高工作压力可达3100Bar(310MPa)的超高压纳米均质机。从产品预处理到均质后匀化处理，均高生物可提供一系列的服务。奥维斯丁公司（Avestin）高压均质机突出优势 主要用于:细胞破碎、脂质体，乳状液、分散、、石墨烯、竹纤维、各种流体等 细胞破碎： 1：埃布氏菌细胞要15000Psi（1000Bar）-17000Psi（1180Bar）压力下破碎。 2：Piccia、酵母菌、分支杆菌在22000Psi（1500Bar）压力下破碎。 3：梨酒（酵母）Schizosaccharomyces细胞在28000Psi（1900Bar）压力下破碎 4：竹纤维在25000Psi（1700Bar）压力下破碎 5：石墨烯在28000Psi（1900Bar）工作压力下破碎 6：破壁率可达到99%以上。 脂质体：在15000Psi（1000Bar）下均质，在通过过滤挤出器（经过聚碳酸酯膜），也可以均质+挤出，可制备出50nm、80nm、100nm、200nm以下的脂质体， 您也可以选择无损耗1毫升手推式脂质体挤出器或者气动50毫升脂质体挤出器，聚碳酸酯膜有直径19mm、25mm、47mm、90mm、142mm、293mm等可制备出15nm、30nm、50nm、80nm、100nm、200nm以下脂质体。均质，乳状液：一般在10000Psi（700Bar）-20000Psi（1400Bar）下形成，可达到纳米级。 分散：一般直径在10-100um情况下，以5000Psi（350Bar）先运行一遍，打碎大颗粒，再在25000Psi（1700Bar）下处理分散体，可达到纳米级结构特点：高精密结构，产品通道无垫片和O型圈；核心部件全部进口，性能可靠，均质腔体始终保修。 设备材料：316L不锈钢、17-4PH不锈钢、陶瓷、金刚石；耐酸、耐碱、耐高温、耐磨性强，抗拉力强，防腐蚀奥维斯丁公司（Avestin）均质机应用：1.生物细胞破壁：大肠杆菌、酵母/灵芝孢子、霉菌，藻类、真菌、动植物细胞破碎、2.样品纳米均质化：微乳、脂质体、分散剂、纳米粒、纳米混悬液，脂肪乳以及各种需要油水相乳化等3.化工：化妆品、纳米材料、纳米晶体、纳米乳液、香精香料等4.食品：牛奶、酸奶、豆奶、花生奶。奶粉、天然饮料、果珍饮料、食品添加剂、各种调味品5.石墨烯、墨水、染料、竹纤维、 碳纳米管、氧化钛、二硼化钛、氧化镍等 6.制药行业：抗生素、中药制剂、浆液制剂、营养保健液、脂质体等

一、产品简介 该设备专业用于Tenax标准管的制备。避免了偏差较大的人工操作，并且节省操作时间。为TD-GCMS建校准曲线提供可靠的标准管。从而保证数据的准确性和重复性。应用于汽车VOC、环境VOC等检测领域。二、适用范围 符合ISO12219-2012、HJ734-2013、HJ644-2014、HJ/T400-2007等检测标准； 适用于Gerstel、Markes、PE、岛津、丹尼等品牌TENAX管三、产品特点1、桌面式设计，结构小巧；2、全触摸屏操作； 3、标液吸取量、洗针次数、进样速度、进样停留时间、吹扫流量以及吹扫时间均可进行定量设定；4、高效的制备效率（＜20min/10个）； 5、可制备梯度和平行标准管；6、隔垫更换提醒； 7、配备Tenax管快插式接口，方便Tenax管安装。四、产品参数产品型号ST101Tenax标准管制备数量10个溶液工位数8个（可定制）气体流量0~2000mL/min吹扫时间0~99min进样量0.1~250μl进样精度≤1%重复性（RSD）≤0.05方法数量10个产品重量~12.5kg产品尺寸365mm*255mm*530mm（L*W*H）

多功能台式　微米和纳米加工制造仪 适合各式纳米材料及薄膜的表面粗糙度或表面形貌量测。● 无需抽真空及快速的量测取得量测图像。● 直觉性的操作接口。● 一键扫描的快速功能。ACST为科研人员和教育工作者带来了一种先进的、多功能的台式微米和纳米制造的仪器，可以作为研究和教育工具。不仅帮助科研人员拓展他们现有的工作向不同的领域发展，而且还可以帮助教育工作者打夯实基础，教育学生掌握工业用的微米和纳米加工制造技术。COSMOS nanoFAB是一个加工制造仪器，这对我们培养纳米科学家的教育计划至关重要，也为学生在日益增长的微制造和纳米技术领域提供丰富的就业机会。 COSMOS nanoFAB采用了一种非常成熟的设计，充分考虑到其性能、成本和多样性。模块化设计理念允许在不同的技术中使用通用型的机械元件/电子元件，从而保证了使用方便和成本低廉。该仪器完全有能力成为快速j加工或新研究的实验验证工具。在教育领域，COSMOS nanoFAB可应用于表面化学、材料科学、工业应用、电子元件和半导体器件制造、生物分子固化和生物传感应用等领域的教学和应用。可被应用于高解析影像和测量需求，特别是具备次奈米级的 Z 轴分辨率。其低噪声和开回路设计于一体的扫描仪可以快速地针对样本进行扫描。独特光像散式的光路模块提供业界最小的雷射光点，让用户可运用于更小且快速的AFM 探针，COSMOS nanoFAB提供了在纳米和微米加工制造技术方面的功能，这并且在业界得到了很好的认可： ★ 紫外线光刻: 通过一系列的实验，学生们学习了紫外线光刻技术的概念；半导体行业的基本技术★ 微接触印刷（μCP）： 学生们了解这一传统简易的技术，使用有机、无机和生物材料进行纳米/微米的图案加工。★ 纳米压印加工技术（NIL）： 学生操作和实践纳米压印加工技术。业内专家认为，作为半导体行业未来的市场需求，纳米 压印加工技术（NIL）是最具前景的一项技术。 总之，COSMOS nanoFAB可以应用的领域包括：● 表面化学● 材料科学● 工业应用● 半导体器件的电子元件制造● 生物固定和生物传感应用● 直觉式的数据撷取软件 PSX 可提供用户在最基本教育训练下，即可直接操作。值得一提的是，一键扫描功能可自动地设定参数与进行扫描，用户同样能够快速获得高质量的扫描结果。PSX 内建的扫描库管理功能有效地简化扫描数据的整理，以方便用户删除或输出扫描图文件。 ● 永效性的光路校准系统---雷射点实时维持在四象限二极管中心，不须另外校正。● 一键扫描- 藉由智能预测算法，即可轻松点击按键便可进行全自动扫频、下针、做力图曲线、以及扫描样品等相关流程。 应用案例和模块信息介绍-微接触印刷（μCP）: 描述：微接触印刷(μCP)是一种非光刻技术，也是“软刻蚀技术”的前身。μCP是一种常有吸引力的、可以应用于生物技术领域的、用于微米和纳米图案/结构制备的技术。它使用弹性印章，通过将各种分子（从有机分子到大的生物物质）点印到固体基底上，以生成二维的微米和纳米结构。这项技术包括两个主要步骤：印章的制作及印刷，如图所示。包被靶标分子的弹性印章通过预施加的控制来接触基底表面，从而将靶标分子转移到基底上。不同的大小和形状的几何图形可以生成各种各样的印章，例如可以使用大的平面印章或滚动印章(类似于油漆辊)在平面和非平面表面上点印，从而轻松地对很大的区域进行图案制备。印章是由弹性体聚合物制成，如聚二甲基硅氧烷(PDMS)，聚氨酯，聚酰亚胺和树脂等等。 应用：微接触印刷是一个从下而上的加工技术,由于简单方便，高通量和成本低廉，现广泛应用于多个领域，如光学、MEMS、高密度分子电路、微流体、微阵列和生物传感器点印寡核苷酸、固定细胞来研究细胞-细胞和细胞-基底表面的相互作用、生成肽阵列研究免疫实验和生物传感器实验的蛋白质和生物配体。 我们客户还可以探索如何在大尺寸和纳米尺度上点印计算机芯片或者如何制作生物传感器。例如，在实验室里，可以使用大尺寸和纳米尺度的印章，用光刻技术制作纳米印章模板和聚合物。印章将被包被有机小分子与黄金等贵金属，然后点印在黄金薄膜的基底上，随后的是金的湿蚀刻，没有被有机分子保护的区域将被蚀刻。在这样的一个实验中，印章上的结构将被复制到基底上。 应用案例和模块信息介绍-光刻技术: 光刻技术是当今世界上最成功的精密加工技术之一。自1959年发明以来，它就是最有价值和最有利润的行业，最初是开发出来用于微电子工业（集成电路平面技术），现在也被用来制造微型器件（硅晶体平面的三维结构材料刻蚀)。从那以后，这个行业一直在广泛需求中不断发展，包括单个电路元件和整合的半导体材料，基本上所有的集成电路是用光刻技术制造的。光刻工艺概述如图所示，预先设计的图案是从光掩模（例如用电子束光刻法）传送到靶标的硅基底。该程序包括以下常用的步骤: 1、在硅片层基底上包被一层薄薄的紫外线敏感的聚合物抗蚀剂（光刻胶）（图2a，图2b）。 2、随后紫外光透过有图案的印章（图2c）进行照射，只有部分抗蚀剂暴露在紫外线下，这引起了抗蚀溶解度的变化。然后将印章放置于离样品尽可能近的地方但是不接触，如图2c所示。由于光衍射，辐射面积会增大一些，大于印章对应的开口区域（这将导致分辨率降低）。这种光刻蚀程序只能用于创建尺寸小于辐射波长的图案和器件。因此，半导体工业也开始使用更短波长的光线来做辐射。 3、紫外线曝光后，将样品浸入显影剂中，以便从显影剂中除去光刻胶暴露在光线下的地方（图2d）。 4. 硅晶片上的抗蚀图案随后被用来从裸片上蚀刻材料（将硅晶片暴露于蚀刻剂）（图2e）或沉积电路设计需要的其他材料。最后光刻胶完全脱离硅晶片（图2）。 在这四个步骤之后，抗蚀剂（光刻胶）上的图案特征被转移到硅晶片的基底上（步骤f）。整个过程可以按电路设计要求重复多次。 用途：光刻蚀是一种从上而下的制作工艺，选择光刻蚀工艺是因为它可以产生小到几十纳米的图案，并提供精确的控制形状，大小，并且制备成本非常低。 光刻技术被广泛应用于从微电子到生命科学的各个行业，在可预见的未来，它还将是微处理器、存储器和其他微电子设备信息技术的基础。此外，它还用于许多设备的制造业和小型化，从而带来了高性能、可移植性、节约时间、节省成本、节省试剂、提高生产通量、改善功耗、提高检测限度以及新功能的开发。 应用案例和模块信息介绍-纳米压印加工技术（NIL）: 描述：纳米压印加工技术（NIL）是基于一种与传统微加工有着根本区别的原理，该技术具有高通量，小于10纳米分辨率和低成本的优点，是目前其他现有刻蚀方法无法达到的。在压印过程中，图案被热敏或紫外光复制到抗蚀剂中，然后被转移到下面的基底上。在热敏纳米压印加工技术（NIL）(T-NIL)工艺中，将表面具有纳米结构的模具压入基底上铸造的薄层抗蚀剂中。抗蚀剂是一种热敏塑料，由于粘度低，在玻璃化温度（Tg）以上时容易变形。当抗蚀剂冷却到Tg以下时，模具被移除，模具的图案被复制在抗蚀剂中。在光固化纳米压印加工技术（UV- NIL）中，将模具在室温下，压入顶层的UV光刻胶中，然后紫外照射交联抗蚀剂，最后模具复制品转移到底层的抗蚀剂和基底上。 在这两个过程中，模具表面都涂上了钝化层，以防止在分离过程中抗蚀剂粘在模具上。在图案转移过程中，利用反应离子刻蚀~RIE等各向异性刻蚀工艺去除压缩区域的残余抗蚀剂，将压印中产生的厚度对比图案转移到整个抗蚀剂中。 应用：为了加快纳米结构的研究和商业化，必须有一个高通量和低成本的纳米加工技术，来实现尺寸、形状和间距完全自由化的设计。这就是为什么纳米压印会快速发展，并且它已经扩展到许多学科，如微电子学、生物学、化学、医学和信息存储。还有希望应用于光学器件、磁存储器、微电子机械系统、生物技术、微波器件的三D打印、生物技术中使用的微流控通道、存储器VRAM的环形结构、无源光学元件等。

纳米药物制备系统作为mRNA疫苗或者核酸药物的三大关键技术壁垒之一，主要用于mRNA或者核酸的包裹以及递送。传统的脂质体制备方法较多，如薄膜分散法，高压均质等存在重复性差，均一性差以及无法扩大生产等问题。特别是对于mRNA药物，传统制备工艺对mRNA有强烈剪切力，会直接破坏核酸的结构，导致其在体内无法表达。而该系统采用微流控技术，柔和剪切力，自上而下进行组装包裹。纳米药物制备系统可以用来指导mRNA的制剂开发，如脂质体的配比，流速比，总流速，稀释倍数等等工艺参数的优化。 ●两种不同流体模型处方筛选芯片各5块●放大筛选芯片1块●样品温度控制模块1套 ●进口注射器适配器2套（注射器规格支持1/3/5/10 mL等）●国产注射器适配器2套（注射器规格支持1/2.5/5/10 mL等）WebSite：https://tb-bio.cn/

微流控制备仪描述：MPE-Lab型微流控制备仪，是一种工具型微流控制备系统，是实验室规模微纳米颗粒制备、质量评价、效用考察的重要工具，也是新型技术应用研究的重要帮手。MPE-Lab提供了提供了基础而必要的方案，脂质体、脂质纳米颗粒、微球、胶束等各种微纳米载体均可在此之上展开探索研究。相较于传统制备工艺及相关硬件方案， MPE-Lab实验过程高效、操作简单、结果稳定、重现性好。最为重要的是，MPE-Lab微流控制备仪极大减少了不同操作人员、实验时段对结果的可能影响，保证了研究工作的客观性和独立性。微流控技术：微流控（Microfluidic）技术是一种基于（微）流体力学理论，在管线中实现样品制备与加工的技术。完美的将微流体的理化模型与流体力学理论相结合，可实现样品的混合、乳化及分离纯化等功能。微流控技术将过程控制技术（Process Control Technology，PCT）与过程分析技术（Process Analytical Technology，PAT）相结合，可实现良好的在线样品制备技术（On-line Preparation Technology，OPT）。样品在连续化制备的过程中，工艺过程中参数完全可控，且具备良好重现性，所以较传统分步割裂式制备、分批次生产的方法来说更具有可放大性。可实现样品的初乳化、复乳化、粒径控制功能。微流控制备系统通过制备泵和高压输送泵与微流控芯片相连接，A相和B相可按照一定的比例恒速的输送至芯片中进行混合，乳化。在微流控芯片中通过设计不同的流道结构，控制不同的速度，使得样品在微流控芯片中达到湍流、层流或雾化状态，可以实现样品的初乳化或复乳化的要求。制备好的样品通过高压泵输送至高压微流控芯片中，通过撞击力和剪切力来控制粒径，使其达到所需范围内。粒径最小可达到100nm以内，PDI至0.1以下。微流控芯片： 微流控芯片是基于应用工艺的定制型特殊流道结构部件，其通道结构和尺寸均与项目工艺需求相结合，属定制型结构件。具体来说可实现以下四种功能：两相的混合、乳化微粒形成后的孵育；微粒形成后的粒径控制；二次混合或乳化。技术参数：型号MPE-Lab适用载体脂质体、脂质纳米颗粒、微球、胶束等微纳米颗粒/载体适用体系适用于互溶或不互溶溶剂体系统最小工作体积400μL单次最大实验体积40mL设备最大总流速100mL/min设备参数设置注射器类型/规格、总流速、流速比、弃液体积等操作方式集成式触屏操作操作软件MPE微流控制备系统（Lab型），支持终身免费升级兼容性兼容进口及国产注射器，兼容多种结构芯片其他支持芯片定制典型芯片：