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快速热化学气相沉积系统

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  • 十一种化学气相沉积(CVD)技术盘点
    CVD(化学气相沉积)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术,包括大范围的绝缘材料,大多数金属材料和金属合金材料。从理论上来说,它是很简单的:两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内,然后他们相互之间发生化学反应,形成一种新的材料,沉积到晶片表面上。淀积氮化硅膜(Si3N4)就是一个很好的例子,它是由硅烷和氮反应形成的。化学气相沉积法是传统的制备薄膜的技术,其原理是利用气态的先驱反应物,通过原子、分子间化学反应,使得气态前驱体中的某些成分分解,而在基体上形成薄膜。化学气相沉积包括常压化学气相沉积、等离子体辅助化学沉积、激光辅助化学沉积、金属有机化合物沉积等。不过随着技术的发展,CVD技术也不断推陈出新,出现了很多针对某几种用途的专门技术,在此特为大家盘点介绍一些CVD技术。等离子体增强化学气相沉积(PECVD)等离子体增强化学气相沉积是在化学气相沉积中,激发气体,使其产生低温等离子体,增强反应物质的化学活性,从而进行外延的一种方法。该方法可在较低温度下形成固体膜。例如在一个反应室内将基体材料置于阴极上,通入反应气体至较低气压(1~600Pa),基体保持一定温度,以某种方式产生辉光放电,基体表面附近气体电离,反应气体得到活化,同时基体表面产生阴极溅射,从而提高了表面活性。在表面上不仅存在着通常的热化学反应,还存在着复杂的等离子体化学反应。沉积膜就是在这两种化学反应的共同作用下形成的。激发辉光放电的方法主要有:射频激发,直流高压激发,脉冲激发和微波激发。等离子体增强化学气相沉积的主要优点是沉积温度低,对基体的结构和物理性质影响小;膜的厚度及成分均匀性好;膜组织致密、针孔少;膜层的附着力强;应用范围广,可制备各种金属膜、无机膜和有机膜。【市场分析】上海市采购量独占鳌头——半导体仪器设备中标市场盘点系列之CVD篇高密度等离子体化学气相淀积(HDP CVD)HDP-CVD 是一种利用电感耦合等离子体 (ICP) 源的化学气相沉积设备,是一种越来越受欢迎的等离子体沉积设备。HDP-CVD(也称为ICP-CVD)能够在较低的沉积温度下产生比传统PECVD设备更高的等离子体密度和质量。此外,HDP-CVD 提供几乎独立的离子通量和能量控制,提高了沟槽或孔填充能力。但是,HDP-CVD 配置的另一个显著优势是,它可以转换为用于等离子体刻蚀的 ICP-RIE。 在预算或系统占用空间受限时,优势明显。听起来可能很奇怪。但是这两种类型的工艺确实可以在同一个系统中运行。虽然存在一些内部差异,例如额外的气体入口,但两种设备的核心结构几乎完全相同。在HDP CVD工艺问世之前,大多数芯片厂普遍采用PECVD进行绝缘介质的填充。这种工艺对于大于0.8微米的间隔具有良好的填孔效果,然而对于小于0.8微米的间隙,PECVD工艺一步填充具有高的深宽比的间隔时会在间隔中部产生夹断和空洞。在探索如何同时满足高深宽比间隙的填充和控制成本的过程中诞生了HDP CVD工艺,它的突破创新之处在于,在同一个反应腔中同步地进行沉积和刻蚀工艺。微波等离子化学气相沉积(MPCVD)微波等离子化学气相沉积技术(MPCVD)适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。MPCVD是制备大尺寸单晶金刚石有效手段之一。该方法利用电磁波能量来激发反应气体。由于是无极放电,等离子体纯净,同时微波的放电区集中而不扩展,能激活产生各种原子基团如原子氢等,产生的离子的最大动能低,不会腐蚀已生成的金刚石。通过对MPCVD沉积反应室结构的结构调整,可以在沉积腔中产生大面积而又稳定的等离子体球,因而有利于大面积、均匀地沉积金刚石膜,这一点又是火焰法所难以达到的,因而微波等离子体法制备金刚石膜的优越性在所有制备法中显得十分的突出。微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-MPCVD)在MPCVD中为了进一步提高等离子体密度,又出现了电子回旋共振MPCVD(Electron Cyclotron Resonance CVD,简称ECR-MPCVD)。由于微波CVD在制备金刚石膜中的独有优势,使得研究人员普遍使用该方法制备金刚石膜,通过大量的研究,不仅在MPCVD制备金刚石膜的机理上取得了显著的成果,而且用CVD法制备的金刚石膜也广泛的用于工具、热沉、光学、高温电子等领域的工业研究与应用。超高真空化学气相沉积(UHV/CVD)超高真空化学气相沉积(UHV/CVD)是制备优质亚微米晶体薄膜、纳米结构材料、研制硅基高速高频器件和纳电子器件的关键的先进薄膜技术。超高真空化学气相沉积技术发展于20世纪80年代末,是指在低于10-6 Pa (10-8 Torr) 的超高真空反应器中进行的化学气相沉积过程,特别适合于在化学活性高的衬底表面沉积单晶薄膜。石墨烯就是可以通过UHV/CVD生产的材料之一。与传统的气相外延不同,UHV/CVD技术采用低压和低温生长,能够有效地减少掺杂源的固态扩散,抑制外延薄膜的三维生长。UHV/CVD系统反应器的超高真空避免了Si衬底表面的氧化,并有效地减少了反应气体所产生的杂质掺入到生长的薄膜中。在超高真空条件下,反应气分子能够直接传输到衬底表面,不存在反应气体的扩散及分子间的复杂相互作用,沉积过程主要取决于气-固界面的反应。传统的气相外延中,气相前驱物通过边界层向衬底表面的扩散决定了外延薄膜的生长速率。超高真空使得气相前驱物分子直接冲击衬底表面,薄膜的生长主要由表面的化学反应控制。因此,在支撑座上的所有基片(衬底)表面的气相前驱物硅烷或锗烷分子流量都是相同的,这使得同时在多基片上实现外延生长成为可能。低压化学气相沉积(LPCVD)低压化学气相沉积法(Low-pressure CVD,LPCVD)的设计就是将反应气体在反应器内进行沉积反应时的操作压力,降低到大约133Pa以下的一种CVD反应。LPCVD压强下降到约133Pa以下,与此相应,分子的自由程与气体扩散系数增大,使气态反应物和副产物的质量传输速率加快,形成薄膜的反应速率增加,即使平行垂直放置片子片子的片距减小到5~10mm,质量传输限制同片子表面化学反应速率相比仍可不予考虑,这就为直立密排装片创造了条件,大大提高了每批装片量。以LPCVD法来沉积的薄膜,将具备较佳的阶梯覆盖能力,很好的组成成份和结构控制、很高的沉积速率及输出量。再者LPCVD并不需要载子气体,因此大大降低了颗粒污染源,被广泛地应用在高附加价值的半导体产业中,用以作薄膜的沉积。LPCVD广泛用于二氧化硅(LTO TEOS)、氮化硅(低应力)(Si3N4)、多晶硅(LP-POLY)、磷硅玻璃(BSG)、硼磷硅玻璃(BPSG)、掺杂多晶硅、石墨烯、碳纳米管等多种薄膜。热化学气相沉积(TCVD)热化学气相沉积(TCVD)是指利用高温激活化学反应进行气相生长的方法。广泛应用的TCVD技术如金属有机化学气相沉积、氯化物化学气相沉积、氢化物化学气相沉积等均属于热化学气相沉积的范围。热化学气相沉积按其化学反应形式可分成几大类:(1)化学输运法:构成薄膜物质在源区与另一种固体或液体物质反应生成气体.然后输运到一定温度下的生长区,通过相反的热反应生成所需材料,正反应为输运过程的热反应,逆反应为晶体生长过程的热反应。(2)热解法:将含有构成薄膜元素的某种易挥发物质,输运到生长区,通过热分解反应生成所需物质,它的生长温度为1000-1050摄氏度。(3)合成反应法:几种气体物质在生长区内反应生成所生长物质的过程,上述三种方法中,化学输运法一般用于块状晶体生长,分解反应法通常用于薄膜材料生长,合成反应法则两种情况都用。热化学气相沉积应用于半导体材料,如Si,GaAs,InP等各种氧化物和其它材料。高温化学气相沉积(HTCVD)高温化学气相沉积是碳化硅晶体生长的重要方法。HTCVD生长碳化硅晶体是在密闭的反应器中,外部加热使反应室保持所需要的反应温度(2000℃~2300℃)。高温化学气相沉积是在衬底材料表面上产生的组合反应,是一种化学反应。它涉及热力学、气体输送及膜层生长等方面的问题,根据反应气体、排出气体分析和光谱分析,其过程一般分为以下几步:混合反应气体到达衬底材料表面;反应气体在高温分解并在衬底材料表面上产生化学反应生成固态晶体膜;固体生成物在衬底表面脱离移开,不断地通入反应气体,晶体膜层材料不断生长。中温化学气相沉积(MTCVD)MTCVD硬质涂层工艺技术,在20世纪80年代中期就已问世,但在当时并没有引起人们的重视,直到20世纪90年代中期,世界上主要硬质合金工具生产公司,利用HTCVD和MTCVD技术相结合,研究开发出新型的超级硬质合金涂层材料,有效地解决了在高速、高效切削、合金钢重切削、干切削等机械加工领域中,刀具使用寿命低的难高强度题才引起广泛的重视。目前,已在涂层硬质合金刀具行业投入生产应用,效果十分显著。MTCVD技术沉积工艺如下。沉积温度:700~ 900℃;沉积反应压力:2X103~2X104Pa;主要反应气体配比: CH3CN:TiCl4:H2=0.01:0.02:1;沉积时间:1一4h。金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)MOCVD是在气相外延生长(VPE)的基础上发展起来的一种新型气相外延生长技术。MOCVD是以Ⅲ族、Ⅱ族元素的有机化合物和V、Ⅵ族元素的氢化物等作为晶体生长源材料,以热分解反应方式在衬底上进行气相外延,生长各种Ⅲ-V主族、Ⅱ-Ⅵ副族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料。通常MOCVD系统中的晶体生长都是在常压或低压(10-100Torr)下通H2的冷壁石英(不锈钢)反应室中进行,衬底温度为500-1200℃,用直流加热石墨基座(衬底基片在石墨基座上方),H2通过温度可控的液体源鼓泡携带金属有机物到生长区。MOCVD适用范围广泛,几乎可以生长所有化合物及合金半导体,非常适合于生长各种异质结构材料,还可以生长超薄外延层,并能获得很陡的界面过渡,生长易于控制,可以生长纯度很高的材料,外延层大面积均匀性良好,可以进行大规模生产。激光诱导化学气相沉积(LCVD)LCVD是利用激光束的光子能量激发和促进化学气相反应的沉积薄膜方法。在光子的作用下,气相中的分子发生分解,原子被激活,在衬底上形成薄膜。这种方法与常规的化学气相沉积(CVD)相比,可以大大降低衬底的温度,防止衬底中杂质分布截面受到破坏,可在不能承受高温的衬底上合成薄膜。与等离子体化学气相沉积方法相比,可以避免高能粒子辐照在薄膜中造成损伤。根据激光在化学气相沉积过程中所起的作用不同可以将LCVD分为光LCVD和热LCVD,它们的反应机理也不尽相同。光LCVD是利用反应气体分子或催化分子对特定波长的激光共振吸收,反应分子气体收到激光加热被诱导发生离解的化学反应,在合适的制备工艺参数如激光功率、反应室压力与气氛的比例、气体流量以及反应区温度等条件下形成薄膜。光LCVD原理与常规CVD主要不同在于激光参与了源分子的化学分解反应,反应区附近极陡的温度梯度可精确控制,能够制备组分可控、粒度可控的超微粒子。热LCVD主要利用基体吸收激光的能量后在表面形成一定的温度场,反应气体流经基体表面发生化学反应,从而在基体表面形成薄膜。热LCVD过程是一种急热急冷的成膜过程,基材发生固态相变时,快速加热会造成大量形核,激光辐照后,成膜区快速冷却,过冷度急剧增大,形核密度增大。同时,快速冷却使晶界的迁移率降低,反应时间缩短,可以形成细小的纳米晶粒。除以上提到的薄膜沉积方法外,还有常压化学气相沉积(APCVD)等分类技术。
  • 快速热化学反应过程分析仪样机研制成功
    “热”诱发或驱动的化学反应是工业反应的主体,占工业企业二氧化碳排放量的90%,反应诱发和反应进程快,因此难以实施“快速热化学反应”的在线精准测试。如何对其进行科学测试与精准分析,一直是科学仪器研制和技术研究领域的热点和难点。记者从不久前召开的“快速热化学反应过程分析仪”项目研究进展与成果产业化推进会上获悉,经过研发团队的科技攻关,该项目已成功研制出我国首台“快速热化学反应过程分析仪”样机,并已与行业龙头企业展开合作,加快推进国产化进程。由于国内外长期缺乏快速热化学反应特性测试和反应动力学分析的有效方法和仪器,2022年,“基础科研条件与重大科学仪器设备研发”专项设立了“快速热化学反应过程分析仪”项目,在辽宁省科技厅组织下,由沈阳化工大学牵头,联合中国科学院过程工程研究所等10家产学研相关机构,在热化学快速反应转化器和小分子、大分子、杂原子等气体产物的快速在线检测方法和仪器方面联合开展科学研究和仪器研制。该项目负责人、长期从事热化学反应测试与分析领域研究的沈阳化工大学校长许光文教授介绍,通过联合攻关,科研人员将研制出我国首套完全国产化、潜在领先国际同类仪器的热化学反应过程分析仪系统,用来分析产物生成反应动力学、测试全产物质量动态演变特性。2005年以来,许光文创建了利用微型流化连续平推流反应器,开展热化学反应测试与分析的方法并研制出系列仪器,取得较系统的基础研究和转化应用成果。这些成果成功应用于国内外100余家科研机构及相关企业,填补了我国热化反应分析领域自主成果的空白。据悉,该项目的研究,将进一步形成有效科学手段,深入研究和认识快速热化学反应规律,揭示反应产物生成过程特性,为碳达峰碳中和目标的实现提供有力的科学方法和手段。目前,沈阳化工大学、中国科学院过程工程研究所已与我国颗粒测试技术领域龙头企业达成合作,全面推进热化学反应分析仪的国产化和产业化进程,以促进研究成果的快速转化应用。
  • 国家重点研发计划 “快速热化学反应过程分析仪”项目已形成样机产品
    由沈阳化工大学等10家单位组成的国家重点研发计划“快速热化学反应过程分析仪”项目组今天召开研究进展与成果产业化推进会。该项目2022年立项,经过项目团队一年多的科技攻关,现已形成“快速热化学反应过程分析仪”样机产品,并开始加快推进成果产业化。据该项目负责人沈阳化工大学教授许光文介绍,过程分析是科学仪器发展的热点和前沿方向,受仪器原理和结构限制,国内外仍缺乏对高温快速反应过程特性的有效监测手段和分析仪器,难以对气相产物全组分信息在线精准采集。2022年,在辽宁省科技厅组织下,由沈阳化工大学牵头,联合中国科学院过程工程研究所、杭州谱育科技发展有限公司等10家在热化学快速反应转化器和小分子、大分子、杂原子等气体产物在线检测仪两方面的产、学、研、用突出单位成功申报国家重点研发计划“基础科研条件与重大科学仪器设备研发”专项立项“快速热化学反应过程分析仪”项目。据悉,该项目主要研制我国首套完全国产化、潜在领先国际同类仪器的快速热化学反应过程分析仪系统,分析产物生成反应动力学、测试全产物质量动态演变特性,提出分别利用快速过程质谱、高分辨率质谱和TDLAS激光光谱仪相结合的综合测试和表征技术方法,测试“小分子永久性气体生成曲线”定量动力学、获取“中等质量数以上产物全质量谱图”研究产物生成特性及其随反应时间的变化、并解决“含N、S等杂原子化合物实时释放”的测试难题,成果可形成有效手段,揭示快速反应气相产物生成过程特性,以全面研究认识反应。据了解,该项目创新之处在于,在“微型平推流”中以高温颗粒加热方式于高压下快速诱发在线伺样的物料发生化学反应、通过微型平推流高保真导出产物信息、全产物在线快速检测产物生成动态特性、解析反应动力学和反应机理,将针对典型物质的快速热化学反应过程特性试验并验证分析仪及系统的应用性能,建设分析仪产品的生产线、构建产业化平台,通过应用推广,推动我国快速反应分析仪及其应用技术的持续发展和核心竞争力。
  • 基于多天线耦合技术的微波等离子体化学气相沉积系统,完美实现大尺寸金刚石制备
    化学气相沉积是使几种气体在高温下发生热化学反应而生成固体的方法,等离子体化学气相沉积是通过能量激励将工作物质激发到等离子体态从而引发化学反应生成固体方法。因为等离子体具有高能量密度、高活性离子浓度、故而可以引发在常规化学反应中不能或难以实现的物理变化和化学变化,且具有沉积温度低、能耗低、无污染等优点,因此等离子体化学气相沉积法得到了广泛的应用。微波等离子体也具有等离子体洁净、杂质浓度低的优点,因而微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)成为制备高质量金刚石的优先方法,也是目前有发展前景的高质量金刚石(单晶及多晶)沉积方法之一。MPCVD设备反应腔示意图金刚石具有优异的力学、电学、光学、热学、声学性能,在众多领域具有广泛的用途。而这些用途的实现在很大程度上依赖于高取向和单晶金刚石以及大面积透明金刚石膜。由于金刚石生长过程中普遍存在缺陷以及难以获取大面积范围内均匀温度场等参数,导致金刚石的取向发生改变,使高取向和单晶金刚石以及大面积透明金刚石膜的获得十分困难。因此,目前金刚石研究面临的大挑战和困难是如何制备优质单晶、多晶金刚石样品。 德国iplas公司基于 CYRANNUS 多天线耦合技术,解决了传统的单天线等离子技术的局限。CYRANNUS技术采用腔外多天线设置,确保等离子团稳定生成于腔内中心位置,减少杂质来源,提高晶体纯度(制备的金刚石单晶纯度可达VVS别以上)。MPCVD系统可合成饰钻石 同时稳定的微波发生器也易于控制,可以在10mbar到室压范围内激发高稳定度的等离子团,大限度的减少了因气流、气压、气体成分、电压等因素波动引起的等离子体状态的变化,从而确保单晶生长的持续性,为合成大尺寸单晶金刚石及薄膜提供了有力保证。 MPCVD系统可合成优质大尺寸金刚石薄膜 MPCVD同样适用于平面基体,或曲面颗粒的其它硬质材料如Al2O3,c-BN的薄膜沉积和晶体合成。德国iplas公司凭借几十年在等离子技术领域的积累,可以为用户提供高度定制的设备,满足用户不同的应用需要。相关产品链接 微波等离子化学气相沉积系统 http://www.instrument.com.cn/netshow/SH100980/C184528.htm
  • 推进“双碳” 须重视工程热化学科技创新
    “碳中和目标从化学本质看,就是碳和氢的平衡和循环。”在近日举行的香山科学会议第746次学术讨论会上,中国科学院院士、华东师范大学石油化工科学研究院教授何鸣元表示,工程热化学是实现碳中和目标的重要科学技术基础。  此次会议上,专家指出,工程热化学领域科技创新是推动绿色低碳发展、实现循环经济的必由之路,对实现“双碳”目标具有重要意义。  占关键工业行业化学反应80%  “相对于光、电诱发的化学反应,热诱发、热驱动的化学反应统称为热化学反应。”沈阳化工大学特色资源化工与材料教育部重点实验室主任许光文介绍,这种化学反应紧密关联热生成、热传递、热利用,往往以高温为特点,可能占据能源、冶金、材料、环境等关键工业行业化学反应的80%。  据了解,经典意义的热化学转化有3类过程,即焚烧、气化和热解。其自由基链式反应的本质特征使气液固3种相态的物质均可发生热化学反应。从工业视角分析,规模化和经济性是热化学转化要求的重要特点。  “碳能源包括天然气、石油、生物质和煤,还可以计入二氧化碳。”何鸣元从化学的角度分析道,碳能源的有效利用在于碳和氢的平衡,其中必然包括一系列的分子断键与重构。无论从大分子裂解生成较小的分子,或者从小分子构建成较大的分子,热化学转化在很多过程中都可以发挥重要甚至不可替代的作用。  许光文提到,一方面,各种能源燃料转化、矿产资源加工、废弃物无害化、各类动力获取及爆轰等,都依赖热化学反应形成的技术、装备及工程;另一方面,通过热化学反应途径排放的二氧化碳占据了人类活动总碳排放的90%以上。  工业过程中的重要科技基础  当下,工程热化学领域科技创新的重要性正日益凸显。  专家认为,工程热化学作为工业过程中重要的科学技术基础,对构建以新能源为支撑的绿色低碳工业体系,推动工业过程流程再造和智能化转型,实现“双碳”目标具有重要意义。  “以钢铁冶金行业为例,冶炼过程包括铁矿石的预处理、炼焦、炼铁、炼钢、铸造以及轧制等过程,在这一长流程中包含了大量的工程热化学问题。”北京科技大学钢铁冶金新技术国家重点实验室主任郭占成介绍。  郭占成表示,钢铁冶金作为能源消耗与碳排放重点行业,正在从效率优先向兼顾节能与环境友好转变。钢铁冶炼技术的进步与发展离不开工程热化学基础理论作为科学参考。  从石化行业来看,中国石油化工股份有限公司石油化工科学研究院院长李明丰分析,随着一系列低碳减排政策的推出,石化行业正在发生从传统能源化工向新型能源化工的绿色转型。石化行业将呈现以石油、天然气、煤、生物质、废塑料、二氧化碳等为原料的多元化供应格局,涉及蒸汽裂解、焦化、热解、氧化、燃烧、干馏等多种热化学反应的工艺过程与工程。  李明丰认为,梳理工程热化学在石化领域的应用及发展,提出该领域的共性问题,是构建新型现代工程热化学及其创新体系的重要一环。  “双碳”背景下面临诸多挑战  “双碳”背景下,工程热化学领域相关技术创新,既面临重大机遇,又面临重大挑战。  中国科学院院士、中国科学院工程热物理研究所金红光研究员举了一些例子:燃料燃烧反应发生于1000℃—1700℃,但发电系统的最高工作温度仍局限于600℃,高温热能一直未能转化为电能。许光文同时指出,电石、冶金硅、电熔镁砂等的现有生产技术要求1500℃—2500℃高温、大量使用电弧炉加热,金属铝、镁、锌等的生产更需使用高温电解技术,造成能耗高、过程效率低,亟须过程低温化技术,实现直接加热或替代电解的变革性技术,显著推进工业节能和低碳排放。  此外,有效利用生物基碳燃料或实现碳基产品循环,推动化石碳的利用量大幅减少,也要求产业模式的创新和大规模热解碳化技术的突破;利用“碳”作为反应物的热化学工业过程众多,如基于焦炭的铁矿石碳还原,亟须应用低碳富氢气体甚至零碳的纯氢替代焦炭,这正成为冶金学科的热点和难点。  “热化学反应相关技术创新,甚至变革性替代,是实现低碳发展的保障。或者说,不解决热化学反应过程中二氧化碳的排放问题,本质上就难以达成碳中和目标。”许光文总结说。
  • 潜心执著钻研热化学 奋力拼博实现强国梦——中国热化学泰斗谭志诚教授学术生涯采访录
    半个世纪前,一个胸怀报国理想的热血青年从星城长沙远赴渤海之滨的大连,开启了他毕生挚爱的热化学研究,并成为当今该领域的大师级人物。“为学无他,争千秋勿争一日”是他的座右铭,不论现在还是将来,他的名字和中国热化学科研事业紧密相连,必将彪炳史册,流芳千古。他就是我国热化学泰斗、中国科学院大连化学物理研究所谭志诚教授。谭志诚为神舟号飞船热控设计作出贡献他把先进的理念带回祖国,从理论到实践,从探索到突破,顺逆交替,委屈不曲 情势数变,行坚意笃。不变的探寻,只为实现科学报国的崇高理想和无限提升自己的人生价值。将他与热化学科研事业紧密联系在一起的,是他在此领域潜心数十年奋力拼搏、开拓创新的艰辛历程。这一厚重的科研轨迹成就了我国热化学研究的长足发展,同时也升华了他的人生价值。蜚声海内外的热化学泰斗谭志诚1941年出生于湖南长沙,现任中国科学院大连化学物理研究所研究员、教授、博士生导师及武汉大学、大连交通大学和聊城大学特聘兼职教授,是我国热化学学科主要学术带头人之一。在50余年的热化学科研生涯中,谭志诚取得16项重大科技成果,为我国科技进步和国防建设做出了突出贡献。他荣获全国科学大会奖、国家科技进步二等奖、国防科学技术二等奖、中科院重大成果二等奖(2项)、中科院重大成果三等奖、中科院科技进步三等奖(2项)、中国石油天然气总公司科技进步三等奖、军队科技进步三等奖、辽宁省科学技术三等奖等11项国家级和省部级重大科技成果奖。他从1995年开始享受国务院颁发的有突出贡献专家政府特殊津贴 先后荣获全国各民主党派、工商联和无党派人士为全面建设小康社会作贡献先进个人、国防科技工业协作配套先进个人、中科院研究生院杰出贡献教师、美国传记研究所(ABI) 2012年度人物、英国剑桥国际传记中心2012前100名科学家等荣誉称号。作为项目负责人,他申请获准并主持完成6项国家自然科学基金项目。在国内外50余种学术刊物发表研究论文400余篇,被国际权威检索机构-科学引文索引(SCI)收录350余篇,7篇获国家级优秀论文奖,1篇获世界华人重大学术成果奖。在峥嵘岁月中成长成才上世纪50年代,刚刚经历了战火洗礼的新中国满目疮痍、百废待兴。年仅十几岁的谭志诚面对眼前的一切,渐渐萌生了一个崇高的理想,他立志要做一名伟大的科学家, 把自己的一切献给新中国的建设事业。在这一理想的指引下,他孜孜不倦地奋发学习,完成了从小学到研究生的求学历程,并取得优异成绩和得到充实积淀天道酬勤, 1958年,年仅17岁的谭志诚从湖南长郡中学毕业后,以优异的成绩考入国立武汉大学化学系。在大学学习期间,谭志诚废寝忘食地钻在书海中,如饥似渴地汲取知识的甘露。1960-1963年困难时期,为考虑学生身体健康,不让学习太晚,学校图书馆、教室及寝室晚上熄灯较早。但是这难不倒他,因为还有路灯。在昏暗的路灯下,一个因饥饿而消瘦的青年学生全神贯注地阅读着密密麻麻文字的教科书… … 不仅如此,为了充分利用时间,在武汉大学5年学习期间的10个寒暑假,他只在第一个寒假和最后一个暑假回家探望过亲人。除了体育活动外,他把假期绝大部分时间都用于复习功课和学习外语。外语教科书中的单词他记得滚瓜烂熟,同学们随问随答,他被称为“活字典”。在大学期间,谭志诚勤奋踏实的学风和诚恳友善的人品,深受师长和学友的信任和赞赏,历年被推选当任年级学习委员,工作努力,成绩斐然。1963年大学毕业时,谭志诚成为同年级出类拔萃的优秀学生,当年武汉大学化学系有300余名毕业生,仅有3人考取了研究生,谭志诚就是其中之一,他以优异的成绩考取了中国科学院大连化学物理研究所招收的第一个热化学专业研究生,从此开始了他在热化学领域半世纪长途跋涉的艰辛征程。谭志诚的研究生学习艰苦而又充实。在做研究生毕业论文期间,正处 “文革”运动高潮期,白天无法做实验,他就晚上到实验室工作。有一天深夜,武斗分子借着他实验室的灯光,从后山向实验室射来一颗子弹,打穿了他实验台内一瓶水银,他并不为此所惧,仍然坚持实验,直到论文工作最后完成。战火纷飞到举国时艰,从稚嫩到逐步成熟,峥嵘岁月中,谭志诚在忘我的积淀中逐渐成长为一个意气风发的科研工作者。世事砥砺,却从未改变方向 风雨无阻,他始终铿锵前行。1967年研究生毕业后,谭志诚留所继续从事热化学研究至今。且不说他取得的成就,单是这种执著坚守的精神就足以让人感动。坚守了半个世纪的梦想半个世纪以来,谭志诚始终坚守在这门基础性很强且偏冷门的热化学领域,并做出了一系列重大贡献。在低温量热学、微量热学、热容与相变及热分析等研究领域,他的学术造诣和技术水平均达到了很高的境地,先后取得16项重大科研成果,获得11项国家级和省部级奖励。他和同事们一道建立了4.2 - 1700 K温区用于物质热容测定及相变研究,具有不同特点的十多种精密绝热量热装置,经鉴定均达到国际先进水平。利用这些装置,为我国国防和经济建设的一些重大项目,如原子弹、氢弹、火箭、导弹、人造卫星、神舟号飞船、新型歼击机等的设计与研制,以及石油的热力开采和稀土资源的开发等,及时提供了大量准确的基础热力学数据,为这些重大国防和国民经济建设项目的完成做出了重要贡献。与此同时,谭志诚利用一切机会赴国外学习和考查,深入了解热化学国际最前沿的科研进展,以推动我国热化学科研向前发展:1987-1988年应日本学术振兴会邀请,赴日本国立大阪大学理学院化学热力学实验室作访问学者,开展稀土化合物热力学性质中日合作研究 1991年9月-1993年3月应法国科学院邀请,赴法国马赛热力学及微量热研究所任客座研究员,开展中法合作项目:与能源和环保有关的有机化合物热力学性质的微量热研究。1999年9-12月应俄罗斯联邦自然科学基金委员会邀请,赴莫斯科大学热化学实验室作访问教授,开展中俄合作项目:纳米材料的热化学研究。2000年1-12月应日本文部省邀请,赴日本国立大阪大学分子热力学研究中心任外籍客座教授,开展有机功能材料的热力学研究。虽然谭志诚的学术水平和科研成果得到国际同行一致认可和高度赞赏,但他不骜于虚声,而惟以求真, 总是保持着虚怀若谷,执着务实的心态,只是考虑如何将自己的事业深深植根在祖国这块厚重广袤的热土上,孜孜不倦地探索和耕耘。在当今潮流百变时代,他始终摒弃时尚,不图虚荣而是脚踏实地将满腔热情倾注在他所酷爱的热化学科研事业之中。从20多岁的年轻人到年逾古稀的老人,一直稳坐在热化学这张冷板凳上潜心学术钻研,这样的人不仅在中国,恐怕在全世界也是凤毛麟角。谭志诚潜心于热化学研究数十年,他超常的拼博精神和丰硕的创新成果使其成为科学工作者学习的楷模,受到我国学术部门领导同志的亲切关怀和热情鼓励。中科院院长芦嘉锡、路永祥、白春礼、国家自然科学基金委主任张存浩都在人民大会堂亲切接见过谭志诚。精勤不倦,育桃李满园为了使科学报国、振兴中华的宏伟事业后继有人,谭志诚呕心沥血从事热化学科研事业的同时,还在培育精英人才的教育史上书写了浓墨重彩的一笔。身为热化学领军人的谭志诚,不仅是一名孜孜不倦的垦荒者,还是一位优秀的学术传承人。他深知,一个学科要有长久不竭的发展动力,必须要有优秀的人才作中坚。因此他不仅自己忘我地潜心学术钻研,而且还特别注重对青年一代科技人才的精心培养。他遵循人才成长规律,在科学实践中发现人才,呕心沥血、身体力行地培养造就创新型人才。他甘当人梯、提携后学,想方设法竭尽全力把自己几十年在热化学研究领域积累的宝贵经验和心得体会,毫无保留地传授给年青一代。他深知教坛任重道远,对学生教之以理,育之以情,才能成为学子们的良师益友。谭志诚对学生的关爱胜过对自己的孩子。不仅耐心指导学生进行科学实验、撰写学术论文,还关心学生的思想和生活,培养学生良好的科学道德和严谨求实的学风,帮助学生树立正确的人生观、价值观。他以培养德才兼备的人才为已任,教给学生做学问首先要学会做人的道理 鼓励学生对自己的研究课题要安、钻、迷 (即安下心,钻进去,迷住它),才能有所发现和創新,才能成为该领域的专门人才。“红烛泪、春蚕丝、园丁梦” 这正是对谭志诚这样的学术导师为培养人才而耗尽心血的真实写照。通过他苦心栽培和精心雕琢,至今已有硕士、博士及博士后等20余名优秀人才脱颖而出,均在国内外教学、科研单位发挥重要骨干作用。他以极大的热情培养指导和鼓励优秀青年人才脱颖而出,为该热化学实验室保持国际先进水平和进一步发展奠定了坚实的基础。通过他和该实验室新老成员半个世纪艰辛拼博,中科院大连化物所热化学实验室已发展成为该领域国际先进实验室之一。为学无他,争千秋勿争一日梦想不是虚无飘渺的,它是一种理性,一种追求,一种激励人们去拚搏的力量 只有坚持不懈和奋力拼搏,梦想才会成真。谭志诚把一门基础性很强且偏冷门的热化学学科当作自己为之奋斗一生的事业,并通过艰辛努力最终实现了自己的梦想 他像一个永不言弃的登山者,一步一个脚印奋力攀登着科学领域的一座又一座高峰,终于达到了光辉的顶点,并且开拓出了属于自己的一片广阔天地。咬定青山不放松,立根原在破岩中。人生没有一蹴而就的成功,涓滴之水可以磨损大石,不是由于它的锋利,而是由于它昼夜不息、日复一日的滴坠。谭志诚五十年如一日在冷僻的热化学领域砥砺奋斗,潜心研究,淡薄名利,终成大器, 取得令世人瞩目成果, 这不是名利和地位的追逐,而是为报效祖国、振兴中华的这一厚重理想的实现。“为学无他,争千秋勿争一日”这是一个成功科学家最高的精神境界,我们深信谭志诚在热化学领域的奋斗故事和拼博精神,必将彪炳史册并在科学和教育界流芳千古。
  • 中教金源助力----全光谱太阳能光热化学利用研究取得新进展
    北京中教金源科技有限公司是以实验仪器研发和生产的国家ji高新技术企业、中关村高新技术企业,与全国各高校研究所建立了长久紧密的合作关系。公司自成立以来,研究人员采用中教金源的仪器设备,在科研上取得了很大的进展!近期中国科学院工程热物理研究所应用中教金源的光催化系统在全光谱太阳能光热化学利用研究取得新进展,中教金源在此表示最热烈的祝贺! 以下内容摘自中国科学院工程热物理研究所科研进展版块 利用太阳能制取氢气、醇类、氨、烃类等燃料是可再生能源领域的重要研究方向,也是中科院“液态阳光”倡议的主要内容。光热复合催化是近年来新兴的太阳能-燃料转化方式,指热能、光能协同作用下的催化反应,其相对于热化学反应具有温度低的优势,相对于光化学反应具有速率加快的优点,近年来逐渐成为美国、日本、欧盟等国的研究热点。在当前的光热复合催化研究中,主要通过在非聚光的半导体光催化反应中引入电加热,观察反应路径、选择性和产率的变化规律。在分解CO2和水制碳氢燃料方面,相比于室温下的光催化反应,光热复合催化可提高20-40倍反应速率;相比于单纯太阳能热化学,可将反应温度从高于1200℃降低到200-400℃。然而,电加热的光催化反应仍存在以下问题:(1)非聚光太阳能反应器面积较大,电加热温度场与光场难以协同;(2)在太阳能聚光反应器上,输入的光能和热能均具有较高能流密度,常规光催化剂不能对其进行有效利用。  针对上述问题,工程热物理研究所分布式供能与可再生能源实验室设计提出了全光谱太阳能聚光光热复合催化反应器,如图1所示。与以往电加热光催化反应不同,该反应器直接通过氙灯模拟5-30倍聚焦太阳光,照射进反应器内的液固或气固反应床上。反应床内的纳米光热催化剂可将聚光太阳能同时、同地转化为光生载流子和热声子,促进了温度场和光场的协同,不需电加热维持反应温度。该反应器具有提升光热复合反应速率和太阳能-燃料效率的潜力。  在上述研究基础上,进一步合成了具有光热复合作用的等离激元金属负载TiO2纳米催化剂,并在15倍聚光比下开展了甲醇水重整制氢实验研究。负载等离激元金属的TiO2可利用280-780nm紫外-可见太阳光产生光生载流子。同时,红外波段太阳光可在TiO2中激发热声子,在催化剂表面产生80-100℃局域热能,活化反应物分子。实验结果显示,光热复合产氢速率1120mL gcat-1 h-1,相比于只利用紫外光的半导体光催化体系提高了50倍;同等催化剂用量下,与太阳能热化学体系的分解水产氢速率相近,而太阳聚光比有望降低20-30。经过50h重复实验,光热复合催化剂的微观形貌和催化活性保持稳定。  上述工作得到了国家自然科学基金和中国科学院前沿科学重点研究项目的支持,相关研究成果为基于太阳能燃料的可再生能源系统研发提供了一条新的途径。
  • 中科院工程热物理所在热化学循环制氢分析新方法研究方面取得重要进展
    近日,中国科学院工程热物理研究所分布式供能与可在生能源实验室基于化学反应Gibbs自由能函数及㶲方程,首次给出了Gibbs函数的热力学第二定律表述,建立了热流㶲、化学反应Gibbs自由能与反应热㶲的联系。该模型能够充分阐释热化学反应过程㶲的演化规律,帮助理解热化反应㶲与㷻的相互作用。该方程从㶲的角度为引发化学反应的各种情况建立了统一基准,首次揭示了各类化学反应的㶲本质。该研究成果为开展低温、高效的热化学反应提供了思路。相关研究成果发表在Energy(2021, 219: 119531)上。反应需求㶲与压力的关系引发化学反应的方法有很多,如电解反应、热解反应以及光催化等,然而目前国际上没有统一的分析方法能够阐明电解、热解以及光催化等途径的能量本质。其中,国际上通用的化学反应进行方向的判据为Gibbs自由能判据。然而Gibbs自由能判据不能阐明化学反应进行的能量本质,也不能给出非自发反应到自发反应的㶲差距。输入㶲、反应需求㶲与温度的关系工程热物理研究所率先开展了这方面的研究工作,以目前发展潜力较大的热化学循环分解水制氢体系为研究对象,建立了化学反应㶲与品位方程,阐明了反应过程中能质转化与品位变化的本征规律,给出了通过调整反应熵以及外界补偿㶲改善化学反应热力学性能(如降低反应温度)的方法。研究发现化学反应本质上是㶲到的退化过程。当反应焓所携带的㶲大于反应需要的㶲时,化学反应自发进行;反之,为非自发反应。改变反应熵可以降低化学反应的㶲要求,从而在较低的温度下触发化学反应;外界提供的能量同样可以触发反应,但是所提供的能量与其品位以及反应温度有关。吸热反应过程㶲的演化规律研究工作得到了国家自然科学基金优秀青年项目(NO.51722606)、基础科学中心项目(NO.51888103)的支持
  • 宁波材料所气相沉积系统研制项目通过验收
    p  5月24日,中国科学院条件保障与财务局组织专家对中国科学院宁波材料技术与工程研究所承担的“面向半导体薄膜超高速、低温外延的中压等离子体化学气相沉积系统”和“微细球状非晶粉末制备装置”两个院科研装备项目进行了技术验收和综合验收。/pp  两个项目的技术验收会于5月24日上午举行,条件保障与财务局科技条件处高级工程师张红松首先介绍了现场测试的具体要求,并宣布了专家组名单。技术测试专家组由6位专家组成,中科院半导体所谢亮研究员和中科院沈阳金属所张海峰研究员分别担任两个项目技术验收专家组组长。项目的技术测试大纲经专家组审议通过后,专家组分别在设备现场按照测试大纲逐项进行测试,将测试结果与项目任务书比对后,专家组一致认为两套研制设备的技术指标均达到或优于实施方案的要求,同意提交综合验收专家组验收。/pp  项目的总体验收于 5月24日下午举行,张红松介绍了总体验收要求并宣布了专家组名单。专家组由8位专家组成,包括1位装备研制项目专家、6位技术专家,1位财务专家,组长由中科院微电子所夏洋研究员担任。专家组分别听取了两个项目工作汇报、使用报告、测试报告和财务报告。/pp  “面向半导体薄膜超高速、低温外延的中压等离子体化学气相沉积系统”项目研制了一套中压等离子体化学气相沉积系统,实现了硅材料的超高速、低温外延生长 并且通过在线发射光谱和激光吸收光谱的实时检测分析系统,实现了对中压等离子体沉积过程的有效控制。利用该系统,项目组研究了气体组分、沉积压力、氢气浓度等工艺参数与沉积薄膜性能之间的影响规律,为碳化硅、石墨烯等薄膜材料的低温、快速生长提供了一个研究开发平台。/pp  “微细球状非晶粉末制备装置”项目研制出了一套微细球状非晶粉末制备装置,研究了熔体温度、喷嘴直径、回转圆盘转速等工艺条件对粉末粒径、非晶度和氧含量的影响规律,开发了一套新型微细金属粉末制备的新技术,实现了平均粒径在10μm左右的高质量非晶粉末的制备。基于此装备,项目组开展了微细非晶合金粉末的吸波性能研究,为采用新型非晶软磁合金材料、设计和开发具有宽频带、强屏蔽效能的轻薄型磁屏蔽和吸波材料奠定了实验基础。/pp  专家组现场查看了研制仪器设备的运行情况,审查了相关文件档案和项目经费使用情况,经讨论,专家组一致认为,两个项目均完成了实施方案中规定的研究内容,各项技术指标达到要求,项目文件档案齐全,经费使用基本合理,同意项目通过验收。/pp  张红松对宁波材料所两个项目顺利通过验收表示祝贺,并在最后的总结中提出希望,希望项目组能够充分发挥研制装备的价值,进一步研究开发及成果转化,发挥好中科院科研装备研制项目的效能。/pcenterimg alt="" src="http://www.cnitech.cas.cn/news/news/201805/W020180528330854310154.jpg" height="375" width="500"//centerp style="text-align: center "  技术验收会现场/pcenterimg alt="" src="http://www.cnitech.cas.cn/news/news/201805/W020180528330854432504.jpg" height="375" width="500"//centerp style="text-align: center "  现场查看研制仪器设备的运行情况/pcenterimg alt="" src="http://www.cnitech.cas.cn/news/news/201805/W020180528330854493166.jpg" height="375" width="500"//centerp style="text-align: center "  现场查看研制仪器设备的运行情况/p
  • 663万!华东师范大学反应离子束刻蚀系统、感应耦合等离子体增强化学气相沉积系统项目
    项目编号:0773-2240SHHW0019项目名称:华东师范大学反应离子束刻蚀系统、感应耦合等离子体增强化学气相沉积系统项目预算金额:663.0789000 万元(人民币)最高限价(如有):663.0789000 万元(人民币)采购需求:项目名称:华东师范大学反应离子束刻蚀系统、感应耦合等离子体增强化学气相沉积系统项目包件1:反应离子束刻蚀系统;数量及单位:1台;简要技术参数:3、等离子体源3.1、射频发生器:最大功率300瓦,13.56MHz,带自动匹配单元;★3.2、ICP源发生器:最大功率3000瓦,2.0MHz,带自动匹配单元;包件2:感应耦合等离子体增强化学气相沉积系统;数量及单位:1台;简要技术参数:★1、SiO2的标准沉积速率:≥40 nm/min;高速沉积速率:≥500 nm/min2、SiO2薄膜沉积厚度:≥6um。其余详见本项目招标文件。合同履行期限:自合同签订之日起250天内;本项目( 不接受 )联合体投标。
  • 1045万!中国科学院八英寸晶圆级氮化硅低压化学气相沉积设备和紧凑型多功能介质薄膜快速沉积设备采购项目
    一、项目基本情况项目编号:OITC-G240261656-1项目名称:中国科学院2024年仪器设备部门批量集中采购项目预算金额:1045.000000 万元(人民币)最高限价(如有):1045.000000 万元(人民币)采购需求:1、采购项目的名称、数量:包号货物名称数量(台/套)用户单位采购预算(人民币)最高限价(人民币)是否允许采购进口产品6八英寸晶圆级氮化硅低压化学气相沉积设备1套中国科学院微电子研究所780万元780万元是包号货物名称数量(台/套)用户单位是否允许采购进口产品7紧凑型多功能介质薄膜快速沉积设备1中国科学院半导体研究所是投标人须以包为单位对包中全部内容进行投标,不得拆分,评标、授标以包为单位。2、技术要求详见公告附件。合同履行期限:详见项目需求本项目( 不接受 )联合体投标。二、获取招标文件时间:2024年07月25日 至 2024年08月01日,每天上午9:00至11:00,下午13:00至17:00。(北京时间,法定节假日除外)地点:www.oitccas.com;北京市海淀区丹棱街1号互联网金融中心20层方式:登录“东方招标”平台www.oitccas.com注册并购买。售价:¥600.0 元,本公告包含的招标文件售价总和三、对本次招标提出询问,请按以下方式联系。1.采购人信息名 称:中国科学院微电子研究所     地址:北京市朝阳区北土城西路3号        联系方式:王老师 010-82995516      2.采购代理机构信息名 称:东方国际招标有限责任公司            地 址:北京市海淀区丹棱街1号互联网金融中心20层            联系方式:迟兆洋、叶明、芮虎峥、荀笑尘 010-68290583/0589 hzrui@oitc.com.cn 、xcxun@oitc.com.cn            3.项目联系方式项目联系人:迟兆洋、叶明、芮虎峥、荀笑尘电 话:  010-68290583/0548
  • 新美光“衬底加热体组件及化学气相沉积设备”专利公布
    天眼查显示,新美光(苏州)半导体科技有限公司“衬底加热体组件及化学气相沉积设备”专利公布,申请公布日为2024年7月23日,申请公布号为CN118374794A。背景技术以常见的碳化硅部件-等离子刻蚀环为例,目前较为普遍的等离子刻蚀环生长、加工工艺为:将环状石墨衬底以多片层叠方式安装在化学气相沉积炉内,采用石墨电极进行电阻加热将炉内加热至碳化硅材料生长温度,持续向炉内通入前驱体和载气,前驱体在高温下热解反应出碳/硅原子并在石墨衬底上反应沉积得到碳化硅材料,最终通过微纳加工获得满足使用要求的等离子体刻蚀环。整个工艺过程中,因衬底表面为直接发生碳/硅原子反应沉积的位置,最终决定材料的均一性和碳化硅晶体品质,衬底沉积表面流场均匀性及温度均匀性比较关键。但在上述工艺中存在以下客观缺点:1、石墨衬底置于碳化硅生长炉内加热时,因衬底径向外侧在空间上更加接近石墨加热器,故客观的会接收更多的热辐射而导致衬底径向外侧的温度高于内侧;同样的,石墨衬底的外侧因离进气口比较近,前驱体热解出的碳/硅原子基团会持续优先在衬底外侧的表面沉积,最终会影响碳化硅材料在石墨衬底径向上生长的均匀性;石墨衬底的外侧表面因为较内侧有更高的温度和更高浓度的碳/硅原子基团,石墨衬底的外侧碳化硅沉积材料一般厚度较大且表面平整性差,对于碳化硅零部件后续的加工也造成了时间的浪费和成本的提高。2、石墨衬底常用的固定方式为采用石墨顶针在衬底底面进行支撑,该方案因石墨顶针会直接接触到衬底表面,故被石墨顶针接触到的衬底表面区域碳化硅材料生长过程必然会受到影响,相应区域的沉积材料无法加工成产品使用,故在加工过程中一般采取将受影响区域进行切割废弃的措施,增加了加工时间和成本。3、层叠多片式的碳化硅部件材料生长设备,腔体内部的流场无法实现完全的均匀性,主要表现在离进气口近、排气口远的材料生长速率高,反之生长速率低,最终导致同一批次的材料厚度均一性差。发明内容本发明涉及一种衬底加热体组件及化学气相沉积设备,其中提供了一种衬底加热体组件,包括衬底和加热体,衬底包括第一表面、第二表面和中空区,第一表面和第二表面均用于供反应气体沉积,中空区位于第一表面和第二表面之间;加热体位于中空区内,用于产生热量以至少加热第一表面和第二表面。本发明的衬底设计为内部中空的结构,第一表面及第二表面均为衬底靠近中空区部分的外表面,位于中空区的加热体对衬底的第一表面和第二表面沿径向的各个位置的加热效果相对较为平均,不容易产生沉积的产品厚度差异过大的问题,一定程度上提高了衬底上沉积材料的厚度均一性及组织性能均匀性。
  • 1-11月进口额已达318亿元:化学气相沉积设备进口数据盘点
    化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition 简称CVD) 是利用气态或蒸汽态的物质在气相或气固界面上发生反应生成固态沉积物的过程。化学气相沉积过程分为三个重要阶段:反应气体向基体表面扩散、反应气体吸附于基体表面、在基体表面上发生化学反应形成固态沉积物及产生的气相副产物脱离基体表面。最常见的化学气相沉积反应有:热分解反应、化学合成反应和化学传输反应等。通常沉积TiC或TiN,是向850~1100℃的反应室通入TiCl4,H2,CH4等气体,经化学反应,在基体表面形成覆层。如今,化学气相沉积被大量应用于半导体领域中。2021年是“十四五”开局之年,中国政府也推出了一系列激励政策来鼓励半导体产业发展,明确了半导体产业在产业升级中的重要地位,同时全球自2020年爆发的“芯片荒”在全球范围内愈演愈烈,却迟迟得不到缓解,各行各业都受到了一定的影响,受此影响包括仪器产业、新能源产业等在内的诸多产业都面临产品涨价、缺货的危机。危中有机,全球半导体行业的巨震却是中国半导体产业的发展契机。通过分析海关化学气相沉积设备的进口情况,可以从一个侧面反映出中国化学气相沉积设备市场的一些情况,进而了解到中国半导体产业的一些情况。海关统计中,根据化学气相沉积设备的应用领域将其分为制造半导体器件或IC的化学气相沉积装置 (84862021)和制造平板显示器用的化学气相沉积设备(CVD)(84863021)。 为了解2021年化学气相沉积设备的进出口情况,仪器信息网特别对2021年1-11月,化学气相沉积设备(商品编码84862021、84863021)进口数据进行了分析汇总,为大家了解中国目前化学气相沉积设备市场做一个参考。2021年1-11月化学气相沉积设备进口额变化(人民币/万元)2021年1-11月化学气相沉积设备进口数据商品名称进口额/元数量/台均价制造半导体器件或IC的化学气相沉积装置25,588,916,599181914067574制造平板显示器用的化学气相沉积设备(CVD)6,182,288,9799664398844总计31,771,205,57819152021年1-11月,中国进口化学气相沉积设备总额约318亿元,总台数达1915台,其中绝大部分用于制造半导体器件和集成电路,此类设备多达1819台,总额达256亿元,占比高达81%。可以看出,目前影响CVD设备进口的主要取决于半导体器件与集成电路制造。从此前统计的【进口数量同比增长68%:2021上半年CVD设备海关进口数据盘点】可以看出,2020年1-12月,我国共进口化学气相沉积设备1150台,进口额约为186亿元,而今年仅前十一个月就已远超去年全年的进口额。这表明,今年我国晶圆代工厂的建设热度不减,这也和如今的半导体投资热、芯片荒有关。2021年1-11月进口化学气相沉积设备贸易伙伴变化(人民币/万元)从进口CVD设备的贸易伙伴分布可以看出,主要进口的贸易伙伴为新加坡、中国台湾和韩国。新加坡处在马六甲海峡,扼太平洋及印度洋之间的航运要道,是全球海运的几大必经路线之一,战略地位十分重要——早在新加坡建国之前,“新加坡港”已发展成为国际著名的转口港。世界各国的将需要出口的货物运输到新加坡港,存放几天或几十天(其中20%的堆存时间仅为1天),然后再转运到进口国。由于新加坡的自由贸易港,通过新加坡的“转口贸易”可变成躲避贸易制裁的有效方式之一。从新加坡进口CVD可能是为了规避以美国为首的西方集团对我国日益收紧的高端装备进口限制。而从台湾进口的CVD主要用于制造平板显示器,从图中可以看出,中国台湾在平板显示器用CVD进口占比高达95%,而在集成电路或半导体器件制造中,仅占2%。用于半导体器件和集成电路制造的CVD中,主要来源为新加坡、韩国、美国和日本。 2021年1-11月化学气相沉积设备各注册地进口数据变化(单位/万元)那么这些化学气相沉积设备主要销往何处?通过对进口数据的注册地进行分析发现,陕西省、上海市、湖北省、江苏省和安徽省进口额最多,分列前五名。这些地区的化学气相沉积主要用于集成电路或半导体器件生产中,这表明这些地区在新建或改造集成电路生产线上投入较大,对半导体设备的需求也在激增。实际上,我国在1-11月从韩国进口的化学气相沉积设备主要的注册地就是陕西省,这可能和三星等韩国企业在西安的半导体生产线有关。而在平板显示器用CVD的注册地分布中可以看出,重庆市独占鳌头,这可能和京东方在重庆的生产线有关,京东方是我国面板产业的龙头企业,其对进口额影响较大。而福建省进口平板显示器用CVD仅次于重庆,这可能与位于厦门的天马微电子有关。重点商品化学气相沉积有哪些重点商品呢?对此,笔者查阅了海关总署,发现重点商品主要有4款,都属于84862021编号。商品1:K465i金属有机物化学气相淀积设备该商品由手套箱系统、反应腔、气体系统、电源及控制系统、真空系统、冷却水和气动系统、安全控制系统等组成。功能是在衬底表面生长一层或多层半导体薄膜。工作原理是通过控制通入反应腔气体的种类、流量和反应腔内的温度、压力,从而在衬底表面生长出不同工艺要求的半导体薄膜。进口后用于LED制造的外延片加工工序。该产品是由Veeco推出的TurboDisc.K465i,是一款用于生产高亮度LED(HB LED)的氮化镓(GaN) 金属有机化学气相沉淀(MOCVD)设备,2016年经过LED产业内的Veeco 用户试用后, K465i很快获得量产认可。商品2:|Oerlikon Solar|KAI MT 化学气相沉积装置该化学气相沉积装置主要用于太阳能电池组件导电层的镀膜。工作原理:该装置内部的传输机械手将玻璃基板传送到薄膜沉积模块中,在一定的温度、压强下,等离子体发生器在反应室内产生射频电压,将工艺气体电离成原子、分子、原子团形式的带电荷粒子混合状态,经过离子碰撞后使之发生化学反应,沉积成一层非晶硅或者微晶硅薄膜在玻璃基板表面。商品3:|CENTROTHERM|E2000-HT 410-4等离子化学气相沉积装置该产品是太阳能电池生产线用|在半导体表层沉积氮化硅膜。商品4:铂阳|无型号|PECVD化学气相沉积设备PECVD化学气相沉积设备:离解化学气体,在玻璃基板上产生化学反应,生长薄膜/ 250MW硅基薄膜太阳能自动化生产线。
  • 2100 | 末次盛冰期以来长江中游沉积环境驱动的地下水流系统演化
    地下水是水文循环的重要组成部分,广泛用于饮用水、工农业活动以及战略储备。然而,人类活动的加剧(如水利工程建设、地下水过度开采、农药和生活污水排放)以及天然劣质地下水在大型流域中的广泛分布,导致地下水环境恶化。因此,水资源的合理管理和水环境的有效保护至关重要,基于地下水流系统(GFS)理论,全面理解地下水流模式(即更新速率、流径及演化趋势)有助于准确评估水文通量和预测污染物分布。汉江平原是长江流经三峡后第一个接收沉积物的大型河湖盆地。复杂的沉积环境、地下水-地表水强烈相互作用以及人为改造自然环境的共同作用,形成了汉江平原独特的GFS格局。了解汉江平原地下水循环演化及其控制机制,对于促进GFS的实际应用和该地区地下水资源保护具有高度紧迫性和挑战性。基于此,在本研究中,来自中国地质大学(武汉)的研究团队在汉江平原腹地和过渡区进行了相关研究,旨在:(1)基于沉积物粒度特征、粘土孔隙水稳定同位素和古气候指标重建汉江平原第四纪含水层系统的沉积环境;(2)深入理解末次盛冰期(LGM)以来沉积环境驱动的GFS演化模式。作者于2015年和2017年在汉江平原腹地和过渡区钻了两个钻孔G01和G05,深度分别为200 m和185 m。从钻孔中收集沉积物样品,分析其粒度分布,地球化学和矿物成分。并从钻孔G01和G05中分别采集了19个和17个粘土样品,利用全自动真空冷凝抽提系统(LI-2100,北京理加联合科技有限公司)提取粘土孔隙水,并进一步分析其δ18O。江汉平原第四纪沉积相、河系和主要钻孔分布。【结果】G01(a)和G05(b)钻孔孔隙水δ18O、沉积物OSL年龄、粘土矿物和地球化学指标的垂向分布以及第四纪古气候演化阶段。古气候阶段G01和G05钻孔孔隙水δ18O值、 粘土矿物和沉积物地球化学指标。【结论】基于水文地质条件、粒度分布特征、沉积物年代学、古气候指标和现存地下水年龄等综合分析,阐明了江汉平原沉积环境驱动的GFS演化模式。该研究的主要发现总结如下:在江汉平原第四纪含水层沉积环境的演化历史中,沉积相主要为河流相、湖泊相和河湖相,由中深层含水层的粗粒相过渡到浅层含水层的细粒相。这意味着水动力条件逐渐减弱并趋于稳定。此外,湖泊相沉积层厚度向平原腹地方向增加。自LGM以来,江汉平原气候演化和沉积相之间具有一定的耦合关系。沉积环境从LGM期间深下切侵蚀环境转变为末次冰消期(LDP)快速冲填粗粒沉积物的河流相环境,然后转变为全新世暖期(HWP)具有细粒沉积物的稳定湖泊相环境。这些变化与长江水位的波动密切相关。基于江汉平原现存地下水年龄的分布,自LGM以来,GFS的演化模式可分为三个阶段。阶段I(22-13 ka B.P.),长江水位急剧下降造成的强水势差增加了地下水的驱动力,极大促进了该阶段区域GFS充分发展,其环流深度达到第四纪底部。随着阶段II地下水驱动力的快速削弱(13-9 ka B.P.),区域GFS再循环深度下降至深层含水层上部,而阶段I的区域GFS逐渐深埋于盆地中。作为阶段III(9 ka B.P.至今)稳定在低水位地下水驱动力,阶段I和阶段II的区域GFS保存在盆地深处,被认为是一个停滞系统(地下水年龄在10 -20 ka之间)。此外,区域GFS(地下水年龄为4-10 ka)和中间GFS(地下水年龄为1-6 ka)共同被认为是稳定体系。随着微地形的充分发育,垂直于河流方向的浅层地下水流形成了活跃的局部GFS(地下水年龄 100 a)。
  • 采用原子层沉积(ALD)技术的下一代储存技术
    采用原子层沉积(ALD)技术的下一代储存技术 随着人工智能(AI), 深度学习,大数据, game 及 5G移动技术快速发展,导致数据储存量上升,半导体内存被要求低耗化。为解决这个问题目前商用化的有 Dram,Flash Memory(NAND) 等储存技术变更到新一代储存技术为一大难题。为了每秒以千兆,无延迟处理高容量数据以目前的技术很难实现。新一代技术需要像DRAM速度要快,兼具flash memory的关闭电源数据也会保存等特性,还需低耗。目前超越基准储存的新概念半导体储存有 Ferroelectric RAM(FRAM 或 FeRAM), magnetic RMA( MRAM), phase-charge ram(PRAM 或 PCRAM)和 resistive RAM(RRAM) 等都在研发阶段,而且受到关注度也比较高。这些储存技术特点是关闭电源数据也不会丢失的非挥发性(Nonvolitile), 很快的进行switching信息储存。 但因为不能进行长时间switching,内部构造粗糙,不足的高集成度,费用也比较高等原因,仅在特定领域使用。为改善这些,全世界都在用核心的ALD工程来进行研究。采用新一代储存的原子沉积(ALD) 技术fram是储存强诱电体的电极数据,一边储存是0,另外一边储存1为基本构造,和dram相似,但有非挥发性的特点。很长时间pzt材料用于强诱电体,缺点为当厚度变薄的时电极无法维持的问题。最近受到关注的有使用ALD技术,厚度为数nm沉积的 Metal Oxide-doped HFO2, 适用与28nm node的高集成密度。MRAM是自主阻抗储存,根据外部磁气场,磁性层的磁化方向,利用自主阻抗变化显示数据的1, 0。即,磁气场方向一样时表示为 0,不同时表示为1。无高速低电压动作及特性热化,而且集成度也很高。多数研究中用tunnel oxide 适用ALD技术沉积的MgO或 ZnO等。PRAM是利用物质相(phase)变化的非挥发性储存,相从非晶致状态变化到结晶致状态时储存数据。相转移物质使用GST germanium-antimony-tellurium (gst) ,使用ALD技术 step coverage制作了优Xiu的 PRAM储存。rram是绝缘体或半导体的阻抗变化储存。通过氧气空缺,从绝缘物质做成阻抗变化识别0, 1来使用。绝缘物质为通过原子层沉积的SiO2, HFO2,HfAlO, Ta2O5等。许多高校及研究所还在使用原子沉积技术( Lucida Series ALD)进行新一代储存研究得到hen好的结果。原子沉积(ALD)技术大部分用在新一代储存,优点为原子单位厚度调节及均匀性, 步进覆盖好,对于未来新一代储存商用化做到很大贡献。
  • 北京大学915.00万元采购物理气相沉积,原子层沉积
    详细信息 Micro-LED专用金属有机物化学气相沉积系统公开招标公告 北京市-海淀区 状态:公告 更新时间: 2022-08-02 招标文件: 附件1 Micro-LED专用金属有机物化学气相沉积系统公开招标公告 2022年08月02日 16:09 公告信息: 采购项目名称 Micro-LED专用金属有机物化学气相沉积系统 品目 货物/专用设备/专用仪器仪表/教学专用仪器 采购单位 北京大学 行政区域 北京市 公告时间 2022年08月02日 16:09 获取招标文件时间 2022年08月02日至2022年08月09日每日上午:9:00 至 12:00 下午:13:00 至 17:00(北京时间,法定节假日除外) 招标文件售价 ¥500 获取招标文件的地点 华采招标集团有限公司(北京市丰台区广安路9号国投财富广场6号楼1601室) 开标时间 2022年08月23日 14:00 开标地点 北京市丰台区广安路9号国投财富广场6号楼16层第二会议室 预算金额 ¥915.000000万元(人民币) 联系人及联系方式: 项目联系人 崔丽洁、孙佳睿、白敏娜、史秀华、赵娜、张树岩 项目联系电话 010-63509799-8046、8075 采购单位 北京大学 采购单位地址 北京市海淀区颐和园路5号 采购单位联系方式 吴老师 010-62758587 代理机构名称 华采招标集团有限公司 代理机构地址 010-63509799-8046、8075 代理机构联系方式 崔丽洁、孙佳睿、白敏娜、史秀华、赵娜、张树岩 附件: 附件1 0580招标公告.docx 项目概况 Micro-LED专用金属有机物化学气相沉积系统 招标项目的潜在投标人应在华采招标集团有限公司(北京市丰台区广安路9号国投财富广场6号楼1601室)获取招标文件,并于2022年08月23日 14点00分(北京时间)前递交投标文件。 一、项目基本情况 项目编号:HCZB-2022-ZB0580 项目名称:Micro-LED专用金属有机物化学气相沉积系统 预算金额:915.0000000 万元(人民币) 最高限价(如有):915.0000000 万元(人民币) 采购需求: 包号 设备名称 数量(台/套) 1 Micro-LED专用金属有机物化学气相沉积系统 一 详见招标文件第四章采购需求 合同履行期限:合同签订后30日内交货并安装完毕 本项目( 不接受 )联合体投标。 二、申请人的资格要求: 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定; 2.落实政府采购政策需满足的资格要求: 无 3.本项目的特定资格要求:(1)投标人必须为投标文件递交截止之日前未被列入“信用中国”网站(www.creditchina.gov.cn)、中国政府采购网(www.ccgp.gov.cn)信用记录失信被执行人、重大税收违法失信主体、政府采购严重违法失信行为记录名单的;(2)不同投标人的法人、单位负责人不是同一人也不存在直接控股、管理关系;(3)投标人必须向采购代理机构购买招标文件并登记备案,未向采购代理机构购买招标文件并登记备案的无资格参加本次投标;(4)本项目接受进口产品; 三、获取招标文件 时间:2022年08月02日 至 2022年08月09日,每天上午9:00至12:00,下午13:00至17:00。(北京时间,法定节假日除外) 地点:华采招标集团有限公司(北京市丰台区广安路9号国投财富广场6号楼1601室) 方式:现场报名,招标文件售后不退 售价:¥500.0 元,本公告包含的招标文件售价总和 四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点 提交投标文件截止时间:2022年08月23日 14点00分(北京时间) 开标时间:2022年08月23日 14点00分(北京时间) 地点:北京市丰台区广安路9号国投财富广场6号楼16层第二会议室 五、公告期限 自本公告发布之日起5个工作日。 六、其他补充事宜 1、本项目需要落实的政府采购政策:节约能源、保护环境、扶持不发达地区和少数民族地区、促进中小微企业发展、支持监狱、戒毒企业发展、促进残疾人就业、支持脱贫等政府采购政策。 2、本项目招标公告在中国政府采购网(http://www.ccgp.gov.cn/)上发布。 七、对本次招标提出询问,请按以下方式联系。 1.采购人信息 名 称:北京大学 地址:北京市海淀区颐和园路5号 联系方式:吴老师 010-62758587 2.采购代理机构信息 名 称:华采招标集团有限公司 地 址:010-63509799-8046、8075 联系方式:崔丽洁、孙佳睿、白敏娜、史秀华、赵娜、张树岩 3.项目联系方式 项目联系人:崔丽洁、孙佳睿、白敏娜、史秀华、赵娜、张树岩 电 话: 010-63509799-8046、8075 × 扫码打开掌上仪信通App 查看联系方式 基本信息 关键内容:物理气相沉积,原子层沉积 开标时间:2022-08-23 14:00 预算金额:915.00万元 采购单位:北京大学 采购联系人:点击查看 采购联系方式:点击查看 招标代理机构:华采招标集团有限公司 代理联系人:点击查看 代理联系方式:点击查看 详细信息 Micro-LED专用金属有机物化学气相沉积系统公开招标公告 北京市-海淀区 状态:公告 更新时间: 2022-08-02 招标文件: 附件1 Micro-LED专用金属有机物化学气相沉积系统公开招标公告 2022年08月02日 16:09 公告信息: 采购项目名称 Micro-LED专用金属有机物化学气相沉积系统 品目 货物/专用设备/专用仪器仪表/教学专用仪器 采购单位 北京大学 行政区域 北京市 公告时间 2022年08月02日 16:09 获取招标文件时间 2022年08月02日至2022年08月09日每日上午:9:00 至 12:00 下午:13:00 至 17:00(北京时间,法定节假日除外) 招标文件售价 ¥500 获取招标文件的地点 华采招标集团有限公司(北京市丰台区广安路9号国投财富广场6号楼1601室) 开标时间 2022年08月23日 14:00 开标地点 北京市丰台区广安路9号国投财富广场6号楼16层第二会议室 预算金额 ¥915.000000万元(人民币) 联系人及联系方式: 项目联系人 崔丽洁、孙佳睿、白敏娜、史秀华、赵娜、张树岩 项目联系电话 010-63509799-8046、8075 采购单位 北京大学 采购单位地址 北京市海淀区颐和园路5号 采购单位联系方式 吴老师 010-62758587 代理机构名称 华采招标集团有限公司 代理机构地址 010-63509799-8046、8075 代理机构联系方式 崔丽洁、孙佳睿、白敏娜、史秀华、赵娜、张树岩 附件: 附件1 0580招标公告.docx 项目概况 Micro-LED专用金属有机物化学气相沉积系统 招标项目的潜在投标人应在华采招标集团有限公司(北京市丰台区广安路9号国投财富广场6号楼1601室)获取招标文件,并于2022年08月23日 14点00分(北京时间)前递交投标文件。 一、项目基本情况 项目编号:HCZB-2022-ZB0580 项目名称:Micro-LED专用金属有机物化学气相沉积系统 预算金额:915.0000000 万元(人民币) 最高限价(如有):915.0000000 万元(人民币) 采购需求: 包号 设备名称 数量(台/套) 1 Micro-LED专用金属有机物化学气相沉积系统 一 详见招标文件第四章采购需求 合同履行期限:合同签订后30日内交货并安装完毕 本项目( 不接受 )联合体投标。 二、申请人的资格要求: 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定; 2.落实政府采购政策需满足的资格要求: 无 3.本项目的特定资格要求:(1)投标人必须为投标文件递交截止之日前未被列入“信用中国”网站(www.creditchina.gov.cn)、中国政府采购网(www.ccgp.gov.cn)信用记录失信被执行人、重大税收违法失信主体、政府采购严重违法失信行为记录名单的;(2)不同投标人的法人、单位负责人不是同一人也不存在直接控股、管理关系;(3)投标人必须向采购代理机构购买招标文件并登记备案,未向采购代理机构购买招标文件并登记备案的无资格参加本次投标;(4)本项目接受进口产品; 三、获取招标文件 时间:2022年08月02日 至 2022年08月09日,每天上午9:00至12:00,下午13:00至17:00。(北京时间,法定节假日除外) 地点:华采招标集团有限公司(北京市丰台区广安路9号国投财富广场6号楼1601室) 方式:现场报名,招标文件售后不退 售价:¥500.0 元,本公告包含的招标文件售价总和 四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点 提交投标文件截止时间:2022年08月23日 14点00分(北京时间) 开标时间:2022年08月23日 14点00分(北京时间) 地点:北京市丰台区广安路9号国投财富广场6号楼16层第二会议室 五、公告期限 自本公告发布之日起5个工作日。 六、其他补充事宜 1、本项目需要落实的政府采购政策:节约能源、保护环境、扶持不发达地区和少数民族地区、促进中小微企业发展、支持监狱、戒毒企业发展、促进残疾人就业、支持脱贫等政府采购政策。 2、本项目招标公告在中国政府采购网(http://www.ccgp.gov.cn/)上发布。 七、对本次招标提出询问,请按以下方式联系。 1.采购人信息 名 称:北京大学 地址:北京市海淀区颐和园路5号 联系方式:吴老师 010-62758587 2.采购代理机构信息 名 称:华采招标集团有限公司 地 址:010-63509799-8046、8075 联系方式:崔丽洁、孙佳睿、白敏娜、史秀华、赵娜、张树岩 3.项目联系方式 项目联系人:崔丽洁、孙佳睿、白敏娜、史秀华、赵娜、张树岩 电 话: 010-63509799-8046、8075
  • 国家纳米科学中心2000万仪器大单公布
    2013年07月22日,国家纳米科学中心MOCVD纳米材料生长系统(GaN)、激光共聚焦显微镜和热化学气相沉积系统采购项目中标结果公布。  采购人名称:国家纳米科学中心 采购代理机构全称:东方国际招标有限责任公司  采购项目名称:国家纳米科学中心MOCVD纳米材料生长系统(GaN)、激光共聚焦显微镜和热化学气相沉积系统采购项目 招标编号:OITC-G13026280  定标日期:2013年7月22日 招标公告日期:2013年6月27日  中标结果:  包号 设备名称 中标供应商名称 中标金额  1、MOCVD纳米材料生长系统(GaN) AIXTRON LTD 美元1130000.00  2、激光共聚焦显微镜 徕卡仪器有限公司 美元300000.00  3、热化学气相沉积系统 美国汇杰国际公司 美元301000.00  评标委员会成员名单:何其华、戴琳、刘载文、田佩瑶、潘曹峰(包1)、刘宏(包2)、韩昌报(包3)  2013年06月28日,国家纳米科学中心小角X射线散射结构分析仪采购项目中标结果公布。  采购人名称:国家纳米科学中心 采购代理机构全称:东方国际招标有限责任公司  采购项目名称:国家纳米科学中心小角X射线散射结构分析仪采购项目 招标编号:OITC-G13022244  定标日期:2013年6月27日 招标公告日期:2013年6月5日  中标结果:  包号 设备名称 中标供应商名称 中标金额  1、小角X射线散射结构分析仪 北京优纳特科技有限公司 EUR340,000.00  评标委员会成员名单:李银太、张铭、张凤兰、董书魁、魏志祥  2013年04月18日,国家纳米科学中心圆二色光谱测量系统采购项目中标结果公布。  采购人名称:国家纳米科学中心 采购代理机构全称:东方国际招标有限责任公司  采购项目名称:国家纳米科学中心圆二色光谱测量系统采购项目 招标编号:OITC-G13022056  定标日期:2013年4月18日 招标公告日期:2013年3月4日  中标结果:  包号 设备名称 中标供应商名称 中标金额  1、圆二色光谱测量系统 北京东方诺贝科技发展有限公司 日元49,300,000.00  评标委员会成员名单:汤宁、奚文龙、吴金凤、闫树刚、唐智勇  2013年03月11日,国家纳米科学中心四极杆串联静电场轨道阱傅立叶变换质谱采购项目中标结果公布。  采购人名称:国家纳米科学中心 采购代理机构全称:东方国际招标有限责任公司  采购项目名称:国家纳米科学中心四极杆串联静电场轨道阱傅立叶变换质谱采购项目 招标编号:OITC-G13022033  定标日期:2013年3月8日 招标公告日期:2013年2月5日  中标结果:  包号 设备名称 中标供应商名称 中标金额  1、四极杆串联静电场轨道阱傅立叶变换质谱 赛默飞世尔科技(中国)有限公司 USD598,000.00  评标委员会成员名单:邢辉、牛荣华、熊少祥、李亚凤、方巧君
  • 原子层沉积系统研制
    table border="1" cellspacing="0" cellpadding="0" width="600"tbodytrtd width="122"p style="line-height: 1.75em "成果名称/p/tdtd width="526" colspan="3"p style="line-height: 1.75em "原子层沉积系统/p/td/trtrtd width="122"p style="line-height: 1.75em "单位名称/p/tdtd width="526" colspan="3"p style="line-height: 1.75em "中科院物理研究所/p/td/trtrtd width="122"p style="line-height: 1.75em "联系人/p/tdtd width="175"p style="line-height: 1.75em "郇庆/p/tdtd width="159"p style="line-height: 1.75em "联系邮箱/p/tdtd width="192"p style="line-height: 1.75em "qhuan_uci@yahoo.com/p/td/trtrtd width="122"p style="line-height: 1.75em "成果成熟度/p/tdtd width="526" colspan="3"p style="line-height: 1.75em "□正在研发 √已有样机 □通过小试 □通过中试 □可以量产/p/td/trtrtd width="122"p style="line-height: 1.75em "合作方式/p/tdtd width="526" colspan="3"p style="line-height: 1.75em "√技术转让 √技术入股 □合作开发 √其他/p/td/trtrtd width="648" colspan="4"p style="line-height: 1.75em "strong成果简介: /strongbr/ /pp style="text-align:center"img src="http://img1.17img.cn/17img/images/201603/insimg/1d453046-e68e-4e65-ab38-25f533935dee.jpg" title="ALD.jpg" width="350" height="261" border="0" hspace="0" vspace="0" style="width: 350px height: 261px "//pp style="line-height: 1.75em " br//pp style="line-height: 1.75em " 原子层沉积(ALD)技术,由于采取自限性的生长模式,因此可以在原子尺度上调控沉积薄膜的厚度,从而形成具有优异的台阶覆盖性和平整性,并可用于制备高深宽比材料和对多孔纳米材料进行修饰。我们自行研制的ALD系统与市场上现有商业化产品相比,具有如下特点:1)复杂完善的管路气路,在自制控制器和软件的配合下,可高度自动化完成生长过程;2)全金属密封,适于各种类型反应;3)圆筒型反应腔体,最高烘烤温度达到350℃,前驱体及载气利用率高;4)特殊设计的样品台,适用于包括粉末样品在内的各类基底;5)可选配四极质谱和石英膜厚检测仪,对反应过程实时监控。/p/td/trtrtd width="648" colspan="4"p style="line-height: 1.75em "strong应用前景: /strongbr/ ALD是一项简单和实用的技术,在微电子、太阳能电池、光子晶体以及催化等许多领域都有广泛的应用前景。我们目前研发的系统主要针对科研应用,国内每年需求量在数十台至上百台。/p/td/tr/tbody/tablepbr//p
  • 十种物理气相沉积(PVD)技术盘点
    薄膜沉积是半导体制造工艺中的一个非常重要的技术,其是一连串涉及原子的吸附、吸附原子在表面扩散及在适当的位置下聚结,以渐渐形成薄膜并成长的过程。在一个新晶圆投资建设中,晶圆厂80%的投资用于购买设备。其中,薄膜沉积设备是晶圆制造的核心步骤之一,占据着约25%的比重。薄膜沉积工艺主要分为物理气相沉积和化学气相沉积两类。物理气相沉积(Physical Vapour Deposition,PVD)技术指在真空条件下,采用物理方法,将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积原理可大致分为蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀,具体又包含有MBE等各种镀膜技术。发展到目前,物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。随着技术的发展,PVD技术也不断推陈出新,出现了很多针对某几种用途的专门技术,在此特为大家盘点介绍各种PVD技术。真空蒸发镀膜技术真空蒸发(Vacuum Evaporation) 镀膜是在真空条件下,用蒸发器加热蒸发物质,使之升华,蒸发粒子流直接射向基片,并在基片上沉积形成固态薄膜,或加热蒸发镀膜材料的真空镀膜方法。其物理过程为:采用几种能源方式转换成热能,加热镀料使之蒸发或升华,成为具有一定能量(0.1~0.3eV) 的气态粒子(原子、分子或原子团);离开镀料表面,具有相当运动速度的气态粒子以基本上无碰撞的直线飞行输运到基体表面;到达基体表面的气态粒子凝聚形核生长成固相薄膜;组成薄膜的原子重组排列或产生化学键合。电子束蒸镀技术电子束蒸镀(Electron Beam Evaporation)是物理气相沉积的一种。与传统蒸镀方式不同,电子束蒸镀利用电磁场的配合可以精准地实现利用高能电子轰击坩埚内靶材,使之融化进而沉积在基片上。电子束蒸镀常用来制备Al、CO、Ni、Fe的合金或氧化物膜,SiO2、ZrO2膜,抗腐蚀和耐高温氧化膜。电子束蒸镀与利用电阻进行蒸镀最大的优势在于:可以为待蒸发的物质提供更高的热量,因此蒸镀的速率也更快;电子束定位准确,可以避免坩埚材料的蒸发和污染。但是由于蒸镀过程中需要持续水冷,对能量的利用率不高;而且由于高能电子可能带来的二次电子可能使残余的气体分子电离,也有可能带来污染。此外,大多数的化合物薄膜在被高能电子轰击时会发生分解,这影响了薄膜的成分和结构溅射镀膜技术溅射镀膜技术是用离子轰击靶材表面,把靶材的原子被击出的现象称为溅射。溅射产生的原子沉积在基体表面成膜称为溅射镀膜。通常是利用气体放电产生气体电离,其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶体,击出阴极靶体原子或分子,飞向被镀基体表面沉积成薄膜。射频溅射技术射频溅射是溅射镀膜技术的一种。用交流电源代替直流电源就构成了交流溅射系统,由于常用的交流电源的频率在射频段,如13.56MHz,所以称为射频溅镀。在直流射频装置中,如果使用绝缘材料靶,轰击靶面的正离子会在靶面上累积,使其带正电,靶电位从而上升,使得电极间的电场逐渐变小,直至辉光放电熄灭和溅射停止。所以直流溅射装置不能用来溅射沉积绝缘介质薄膜。磁控溅射技术磁控溅射技术属于PVD(物理气相沉积)技术的一种,是制备薄膜材料的重要方法之一。它是利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点,将离子引向被溅射的物质制成的靶电极(阴极),并将靶材原子溅射出来使其沿着一定的方向运动到衬底并在衬底上沉积成膜的方法。磁控溅射设备使得镀膜厚度及均匀性可控,且制备的薄膜致密性好、粘结力强及纯净度高。该技术已经成为制备各种功能薄膜的重要手段。离子镀膜技术离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜新技术,将各种气体放电方式引入到气相沉积领域,整个气相沉积过程都是在等离子体中进行,其中包括磁控溅射离子镀、反应离子镀、空心阴极放电离子镀(空心阴极蒸镀法)、多弧离子镀(阴极电弧离子镀)等。离子镀大大提高了膜层粒子能量,可以获得更优异性能的膜层,扩大了“薄膜”的应用领域。是一项发展迅速、受人青睐的新技术。广义来讲,离子镀膜的特点是:镀膜时,工件(基片)带负偏压,工件始终受高能离子的轰击。形成膜层的膜基结合力好、膜层的绕镀性好、膜层组织可控参数多、膜层粒子总体能量高,容易进行反应沉积,可以在较低温度下获得化合物膜层。多弧离子镀(MAIP)多弧离子镀是采用电弧放电的方法,在固体的阴极靶材上直接蒸发金属,蒸发物是从阴极弧光辉点放出的阴极物质的离子,从而在基材表面沉积成为薄膜的方法。多弧离子镀与一般的离子镀有着很大的区别。多弧离子镀采用的是弧光放电,而并不是传统离子镀的辉光放电进行沉积。简单的说,多弧离子镀的原理就是把阴极靶作为蒸发源,通过靶与阳极壳体之间的弧光放电,使靶材蒸发,从而在空间中形成等离子体,对基体进行沉积。分子束外延(MBE)分子束外延(MBE)是新发展起来的外延制膜方法,是一种在晶体基片上生长高质量的晶体薄膜的新技术。在超高真空条件下,由装有各种所需组分的炉子加热而产生的蒸气,经小孔准直后形成的分子束或原子束,直接喷射到适当温度的单晶基片上,同时控制分子束对衬底扫描,就可使分子或原子按晶体排列一层层地“长”在基片上形成薄膜。该技术的优点是:使用的衬底温度低,膜层生长速率慢,束流强度易于精确控制,膜层组分和掺杂浓度可随源的变化而迅速调整。用这种技术已能制备薄到几十个原子层的单晶薄膜,以及交替生长不同组分、不同掺杂的薄膜而形成的超薄层量子显微结构材料。分子束外延不仅可用来制备现有的大部分器件,而且也可以制备许多新器件,包括其它方法难以实现的,如借助原子尺度膜厚控制而制备的超晶格结构高电子迁移率晶体管和多量子阱型激光二极管等。我们在公车上看到的车站预告板,在体育场看到的超大显示屏,其发光元件就是由分子束外延制造的。脉冲激光沉积(PLD)脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD),也被称为脉冲激光烧蚀(pulsed laser ablation,PLA),是一种利用激光对物体进行轰击,然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上,得到沉淀或者薄膜的一种手段。由脉冲激光沉积技术的原理、特点可知,它是一种极具发展潜力的薄膜制备技术。随着辅助设备和工艺的进一步优化,将在半导体薄膜、超晶格、超导、生物涂层等功能薄膜的制备方面发挥重要的作用;并能加快薄膜生长机理的研究和提高薄膜的应用水平,加速材料科学和凝聚态物理学的研究进程。同时也为新型薄膜的制备提供了一种行之有效的方法。激光分子束外延(L-MBE)激光分子束外延技术(L-MBE)是近年来发展起来的一项新型薄膜制备技术,是将分子束外延技术与脉冲激光沉积技术的有机结合,在分子束外延条件下激光蒸发镀膜的技术。L- MBE结合了PLD的高瞬时沉积速率(不需要考虑成分挥发时的热平衡问题等等)及MBE的实时检测功能,是一种改良的MBE方法。近年来,薄膜技术和薄膜材料的发展突飞猛进,成果显著,在原有基础上,相继出现了离子束增强沉积技术、电火花沉积技术、电子束物理气相沉积技术和多层喷射沉积技术等。目前,芯片制造过程中关键的PVD设备主要包括硬掩膜(Hard Mask )PVD设备、铜互联(CuBS)PVD 以及铝衬垫(Al PAD)PVD,主要使用溅射镀膜技术。目前,主流物理气相沉积厂商包括,北方华创、合肥科晶、中科科仪、SPTS、ULVAC、Applied Materials、Optorun、那诺-马斯特、IHI Corporation、Lam Research、Semicore Equipment、Veeco Instruments、Oerlikon Balzers、Mustang Vacuum Systems、Singulus Technologies、KurtJ.Lesker、博远微纳、汇成真空、佛欣真空、北京丹普、九鼎精密、意力博通、CHA Industries、Angstrom Engineering、Denton Vacuum、Mantis、沈阳科学仪器有限公司等。更多仪器请查看以下专场【物理气相沉积】、【激光脉冲沉积】、【分子束外延】。
  • 哈工大郑州研究院2415.00万元采购红外热成像仪,物理气相沉积,镀膜机,原子层沉积
    详细信息 哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目公开招标公告 河南省-郑州市 状态:公告 更新时间: 2022-11-10 哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目公开招标公告 发布时间:2022-11-10 哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目公开招标公告 一、项目基本情况 1.采购项目编号:豫教招标采购-2022- 167 2.采购项目名称:哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目 3.采购方式:公开招标 4.预算金额:2415万元 最高限价:2415万元 序号 包名称 包预算 (万元) 包最高限价 (万元) 1 哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目 2415 2415 5.采购需求 (1)项目概况:根据哈工大郑州研究院需要,需对液相外延炉等仪器设备进行采购,项目已具备采购条件,现对该批次仪器设备进行公开招标。 (2)采购内容包括:DLP金刚石金属复合材料增材制造设备1套、高功率光纤激光焊接系统1套、高功率激光柔性复合加工系统1套、超高精度纳米材料沉积系统1套、液相外延炉1套、化学气相沉积镀膜机1套、示波器及探头1套、PEM电解槽1套、总线运动控制系统1套、无人机1套、红外热成像仪1套、功率与阻抗分析仪1套、立式真空热压烧结炉1套、高速摄像机1套。 (3)资金情况:资金已落实。 (4)包段划分:不分包。 (5)交货期:合同签订后6个月内。 (6)交货地点:采购人指定地点。 (7)质量标准:符合国家或行业规定的合格标准,满足采购人提出的技术标准及要求。 (8)验收标准:满足采购人的验收标准及要求。 (9)质保服务要求:国产设备三年,进口设备一年(自验收合格之日起)。 6.合同履行期限:合同签订至质保期满。 7.本项目是否接受联合体投标:否 8.是否接受进口产品:是 二、申请人资格要求 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定: (1)投标人须具有法人或者其他组织的营业执照等证明文件; (2)投标人须具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度,企业财务状况良好,没有财务被接管、破产或其他关、停、并、转情况的,须提供2021年度经审计的财务报告或其基本开户银行出具的资信证明; (3)投标人须具有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录,提供本年度任意一个月的企业完税凭证和企业社会保险缴纳证明材料; (4)投标人须具有履行合同所必需的设备和专业技术能力(自拟格式,自行承诺); (5)参加政府采购活动前3年内在经营活动中没有重大违法记录的书面声明(自拟格式,自行承诺); (5)其他要求:对参与投标竞争的单位,需承诺近三年来投标人、法定代表人、项目负责人无行贿犯罪记录(由投标人出具承诺,格式自拟); (7)根据财政部《关于在政府采购活动中查询及使用信用记录有关问题的通知》(财库〔2016〕125号)和豫财购〔2016〕15号的规定,对列入“失信被执行人”、“重大税收违法失信主体”和“政府采购严重违法失信行为记录名单”的潜在供应商,将拒绝其参加本项目招标采购活动; (8)单位负责人为同一人或者存在控股、管理关系的不同单位,不得同时参加本项目的投标【提供在“国家企业信用信息公示系统”中查询打印的相关材料并加盖公章(需包含公司基本信息、股东信息及股权变更信息)】 2.落实政府采购政策满足的资格要求:无 3.本项目的特定资格要求: 若供应商所投设备为进口设备,须具备进出口经营资格并提供《对外贸易经营者备案登记证书》。 三、获取招标文件: 1.时间:2022年11月11日至2022年11月20日(北京时间)。每天上午00:00至 12:00,下午 12:00至 23:59(北京时间,法定节假日除外。) 2.方式:供应商报名时需要将法人授权委托书、授权人身份证、被授权人身份证、营业执照副本扫描并发送至项目负责人邮箱1830331803@qq.com,对报名合格的供应商在缴费完成后,通过邮箱发送招标文件电子版。 3.售价:300元人民币 开户名称:河南省教育招标服务有限公司 账 号:371903102310201 开户行:招商银行股份有限公司郑州分行农业路支行 联系电话:扶会计18736086547。 四、投标截止时间(投标文件递交截止时间)及地点 1.时间:2022年12月1日9:00(北京时间) 2.地点:河南省教育招标服务有限公司第一开标室 五、开标时间及地点 1.时间:2022年12月1日9:00(北京时间) 2.地点:河南省教育招标服务有限公司第一开标室 六、发布公告的媒介及公示期限 本公告在河南省教育厅网站、河南省教育招标网、哈工大郑州研究院官网、中国招标投标公共服务平台发布。 七、其他补充事宜 1.本项目需要落实的政府采购政策: (1)执行《政府采购促进中小企业发展管理办法》(财库﹝2021﹞46号); (2)执行《财政部、司法部关于政府采购支持监狱企业发展有关问题的通知》(财库﹝2014﹞68号); (3)执行《三部门联合发布关于促进残疾人就业政府采购政策的通知》(财库﹝2017﹞141号); (4)执行《财政部、国家发展改革委关于印发〈节能产品政府采购实施意见〉的通知》(财库﹝2004﹞185号)、《财政部环保总局关于环境标志产品政府采购实施的意见》(财库﹝2006﹞90号);和《财政部、发展改革委、生态环境部、市场监管总局关于调整优化节能产品、环境标志产品政府采购执行机制的通知》(财库〔2019〕9号)。 (5)与招标人存在利害关系可能影响招标公正性的法人、其他组织或个人,不得参加投标。单位负责人为同一人或者存在控股、管理关系的不同单位,不得参加同一标段投标或者未划分标段的同一招标项目投标。 八、凡对本次招标提出询问,请按照以下方式联系 1.采购人信息 名称:哈工大郑州研究院 地址:河南省郑州市郑东新区龙源东七街26号 联系人:薛老师 联系方式:18860369839 2.采购代理机构信息 名称:河南省教育招标服务有限公司 地址:郑州市花园路116号河南省农科院院内西南角原农信楼 联系人:金蕾 联系方式:0371-56058516 3.项目联系方式 联系人:金蕾 联系方式:0371-56058516 × 扫码打开掌上仪信通App 查看联系方式 基本信息 关键内容:红外热成像仪,物理气相沉积,镀膜机,原子层沉积 开标时间:2022-12-01 09:00 预算金额:2415.00万元 采购单位:哈工大郑州研究院 采购联系人:点击查看 采购联系方式:点击查看 招标代理机构:河南省教育招标服务有限公司 代理联系人:点击查看 代理联系方式:点击查看 详细信息 哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目公开招标公告 河南省-郑州市 状态:公告 更新时间: 2022-11-10 哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目公开招标公告 发布时间:2022-11-10 哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目公开招标公告 一、项目基本情况 1.采购项目编号:豫教招标采购-2022- 167 2.采购项目名称:哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目 3.采购方式:公开招标 4.预算金额:2415万元 最高限价:2415万元 序号 包名称 包预算 (万元) 包最高限价 (万元) 1 哈工大郑州研究院液相外延炉等仪器设备采购项目 2415 2415 5.采购需求 (1)项目概况:根据哈工大郑州研究院需要,需对液相外延炉等仪器设备进行采购,项目已具备采购条件,现对该批次仪器设备进行公开招标。 (2)采购内容包括:DLP金刚石金属复合材料增材制造设备1套、高功率光纤激光焊接系统1套、高功率激光柔性复合加工系统1套、超高精度纳米材料沉积系统1套、液相外延炉1套、化学气相沉积镀膜机1套、示波器及探头1套、PEM电解槽1套、总线运动控制系统1套、无人机1套、红外热成像仪1套、功率与阻抗分析仪1套、立式真空热压烧结炉1套、高速摄像机1套。 (3)资金情况:资金已落实。 (4)包段划分:不分包。 (5)交货期:合同签订后6个月内。 (6)交货地点:采购人指定地点。 (7)质量标准:符合国家或行业规定的合格标准,满足采购人提出的技术标准及要求。 (8)验收标准:满足采购人的验收标准及要求。 (9)质保服务要求:国产设备三年,进口设备一年(自验收合格之日起)。 6.合同履行期限:合同签订至质保期满。 7.本项目是否接受联合体投标:否 8.是否接受进口产品:是 二、申请人资格要求 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定: (1)投标人须具有法人或者其他组织的营业执照等证明文件; (2)投标人须具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度,企业财务状况良好,没有财务被接管、破产或其他关、停、并、转情况的,须提供2021年度经审计的财务报告或其基本开户银行出具的资信证明; (3)投标人须具有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录,提供本年度任意一个月的企业完税凭证和企业社会保险缴纳证明材料; (4)投标人须具有履行合同所必需的设备和专业技术能力(自拟格式,自行承诺); (5)参加政府采购活动前3年内在经营活动中没有重大违法记录的书面声明(自拟格式,自行承诺); (5)其他要求:对参与投标竞争的单位,需承诺近三年来投标人、法定代表人、项目负责人无行贿犯罪记录(由投标人出具承诺,格式自拟); (7)根据财政部《关于在政府采购活动中查询及使用信用记录有关问题的通知》(财库〔2016〕125号)和豫财购〔2016〕15号的规定,对列入“失信被执行人”、“重大税收违法失信主体”和“政府采购严重违法失信行为记录名单”的潜在供应商,将拒绝其参加本项目招标采购活动; (8)单位负责人为同一人或者存在控股、管理关系的不同单位,不得同时参加本项目的投标【提供在“国家企业信用信息公示系统”中查询打印的相关材料并加盖公章(需包含公司基本信息、股东信息及股权变更信息)】 2.落实政府采购政策满足的资格要求:无 3.本项目的特定资格要求: 若供应商所投设备为进口设备,须具备进出口经营资格并提供《对外贸易经营者备案登记证书》。 三、获取招标文件: 1.时间:2022年11月11日至2022年11月20日(北京时间)。每天上午00:00至 12:00,下午 12:00至 23:59(北京时间,法定节假日除外。) 2.方式:供应商报名时需要将法人授权委托书、授权人身份证、被授权人身份证、营业执照副本扫描并发送至项目负责人邮箱1830331803@qq.com,对报名合格的供应商在缴费完成后,通过邮箱发送招标文件电子版。 3.售价:300元人民币 开户名称:河南省教育招标服务有限公司 账 号:371903102310201 开户行:招商银行股份有限公司郑州分行农业路支行 联系电话:扶会计18736086547。 四、投标截止时间(投标文件递交截止时间)及地点 1.时间:2022年12月1日9:00(北京时间) 2.地点:河南省教育招标服务有限公司第一开标室 五、开标时间及地点 1.时间:2022年12月1日9:00(北京时间) 2.地点:河南省教育招标服务有限公司第一开标室 六、发布公告的媒介及公示期限 本公告在河南省教育厅网站、河南省教育招标网、哈工大郑州研究院官网、中国招标投标公共服务平台发布。 七、其他补充事宜 1.本项目需要落实的政府采购政策: (1)执行《政府采购促进中小企业发展管理办法》(财库﹝2021﹞46号); (2)执行《财政部、司法部关于政府采购支持监狱企业发展有关问题的通知》(财库﹝2014﹞68号); (3)执行《三部门联合发布关于促进残疾人就业政府采购政策的通知》(财库﹝2017﹞141号); (4)执行《财政部、国家发展改革委关于印发〈节能产品政府采购实施意见〉的通知》(财库﹝2004﹞185号)、《财政部环保总局关于环境标志产品政府采购实施的意见》(财库﹝2006﹞90号);和《财政部、发展改革委、生态环境部、市场监管总局关于调整优化节能产品、环境标志产品政府采购执行机制的通知》(财库〔2019〕9号)。 (5)与招标人存在利害关系可能影响招标公正性的法人、其他组织或个人,不得参加投标。单位负责人为同一人或者存在控股、管理关系的不同单位,不得参加同一标段投标或者未划分标段的同一招标项目投标。 八、凡对本次招标提出询问,请按照以下方式联系 1.采购人信息 名称:哈工大郑州研究院 地址:河南省郑州市郑东新区龙源东七街26号 联系人:薛老师 联系方式:18860369839 2.采购代理机构信息 名称:河南省教育招标服务有限公司 地址:郑州市花园路116号河南省农科院院内西南角原农信楼 联系人:金蕾 联系方式:0371-56058516 3.项目联系方式 联系人:金蕾 联系方式:0371-56058516
  • 北京理工大学重庆微电子中心135.00万元采购物理气相沉积,原子层沉积
    基本信息 关键内容: 物理气相沉积,原子层沉积 开标时间: 2022-04-28 14:30 采购金额: 135.00万元 采购单位: 北京理工大学重庆微电子中心 采购联系人: 安老师 采购联系方式: 立即查看 招标代理机构: 重庆赛迪工程咨询有限公司 代理联系人: 夏老师 代理联系方式: 立即查看 详细信息 北京理工大学重庆微电子中心化学气相沉积台采购公开招标公告 重庆市-沙坪坝区 状态:公告 更新时间: 2022-04-08 北京理工大学重庆微电子中心化学气相沉积台采购公开招标公告 发布日期:2022-04-08 项目概况 北京理工大学重庆微电子中心化学气相沉积台采购 招标项目的潜在投标人应在采购代理机构领取或自行在《中国政府采购网》(http://www.ccgp.gov.cn/)下载获取招标文件,并于2022年04月28日 14点30分(北京时间)前递交投标文件。 一、项目基本情况 项目编号:SDZB-22-122W 项目名称:北京理工大学重庆微电子中心化学气相沉积台采购 预算金额:135.0000000 万元(人民币) 最高限价(如有):135.0000000 万元(人民币) 采购需求: 采购内容 数量 最高限价 (万元) 投标保证金 (万元) 中标人 数量 采贩标的对应的中小企 业划分标准所属行业 化学气相沉积台 1 台 135 2 1 名 工业 备注:以上招标内容的具体需求,见第二篇相关内容。 合同履行期限:中标人应在采购合同生效后6个月内交货并完成安装调试 本项目( 不接受 )联合体投标。 二、申请人的资格要求: 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定; 2.落实政府采购政策需满足的资格要求: 1.具有独立承担民事责任的能力; 2.具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度; 3.具有履行合同所必需的设备和专业技术能力; 4.有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录; 5.参加政府采购活动前三年内,在经营活动中没有重大违法记录; 6.法律、行政法规规定的其他条件。 3.本项目的特定资格要求:无 三、获取招标文件 时间:2022年04月08日 至 2022年04月15日,每天上午9:00至12:00,下午14:00至17:00。(北京时间,法定节假日除外) 地点:采购代理机构领取或自行在《中国政府采购网》(http://www.ccgp.gov.cn/)下载 方式:1、现场购买或2、网上下载 售价:¥500.0 元,本公告包含的招标文件售价总和 四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点 提交投标文件截止时间:2022年04月28日 14点30分(北京时间) 开标时间:2022年04月28日 14点30分(北京时间) 地点:重庆市渝中区双钢路1号8号楼1楼(重庆赛迪工程咨询有限公司会议中心) 五、公告期限 自本公告发布之日起5个工作日。 六、其他补充事宜 1、现场购买招标文件 在招标文件发售期内,投标人到采购代理机构(重庆市渝中区双钢路1号6栋404室)递交《招标文件发售登记表》(加盖公章)并以转账方式缴纳资料费购买招标文件。 2、非现场购买招标文件 在招标文件发售期内,投标人将招标文件资料费以微信或支付宝转账方式汇至以下指定账户,转账成功后,需将转账截图和《招标文件发售登记表》(加盖公章)扫描件一起发送至采购代理机构342720479@qq.com邮箱进行确认(注:转账汇款时需按要求备注单位名称、项目名称和资料费等信息)。 七、对本次招标提出询问,请按以下方式联系。 1.采购人信息 名 称:北京理工大学重庆微电子中心 地址:重庆市沙坪坝区西永微电园3期1号楼2单元 联系方式:安老师:18702386087 2.采购代理机构信息 名 称:重庆赛迪工程咨询有限公司 地 址:重庆市渝中区双钢路1号 联系方式:夏老师:023-68484343 3.项目联系方式 项目联系人:夏老师 电 话: 023-68484343 × 扫码打开掌上仪信通App 查看联系方式 基本信息 关键内容:物理气相沉积,原子层沉积 开标时间:2022-04-28 14:30 预算金额:135.00万元 采购单位:北京理工大学重庆微电子中心 采购联系人:点击查看 采购联系方式:点击查看 招标代理机构:重庆赛迪工程咨询有限公司 代理联系人:点击查看 代理联系方式:点击查看 详细信息 北京理工大学重庆微电子中心化学气相沉积台采购公开招标公告 重庆市-沙坪坝区 状态:公告 更新时间: 2022-04-08 北京理工大学重庆微电子中心化学气相沉积台采购公开招标公告 发布日期:2022-04-08 项目概况 北京理工大学重庆微电子中心化学气相沉积台采购 招标项目的潜在投标人应在采购代理机构领取或自行在《中国政府采购网》(http://www.ccgp.gov.cn/)下载获取招标文件,并于2022年04月28日 14点30分(北京时间)前递交投标文件。 一、项目基本情况 项目编号:SDZB-22-122W 项目名称:北京理工大学重庆微电子中心化学气相沉积台采购 预算金额:135.0000000 万元(人民币) 最高限价(如有):135.0000000 万元(人民币) 采购需求: 采购内容 数量 最高限价 (万元) 投标保证金 (万元) 中标人 数量 采贩标的对应的中小企 业划分标准所属行业 化学气相沉积台 1 台 135 2 1 名 工业 备注:以上招标内容的具体需求,见第二篇相关内容。 合同履行期限:中标人应在采购合同生效后6个月内交货并完成安装调试 本项目( 不接受 )联合体投标。 二、申请人的资格要求: 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定; 2.落实政府采购政策需满足的资格要求: 1.具有独立承担民事责任的能力; 2.具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度; 3.具有履行合同所必需的设备和专业技术能力; 4.有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录; 5.参加政府采购活动前三年内,在经营活动中没有重大违法记录; 6.法律、行政法规规定的其他条件。 3.本项目的特定资格要求:无 三、获取招标文件 时间:2022年04月08日 至 2022年04月15日,每天上午9:00至12:00,下午14:00至17:00。(北京时间,法定节假日除外) 地点:采购代理机构领取或自行在《中国政府采购网》(http://www.ccgp.gov.cn/)下载 方式:1、现场购买或2、网上下载 售价:¥500.0 元,本公告包含的招标文件售价总和 四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点 提交投标文件截止时间:2022年04月28日 14点30分(北京时间) 开标时间:2022年04月28日 14点30分(北京时间) 地点:重庆市渝中区双钢路1号8号楼1楼(重庆赛迪工程咨询有限公司会议中心) 五、公告期限 自本公告发布之日起5个工作日。 六、其他补充事宜 1、现场购买招标文件 在招标文件发售期内,投标人到采购代理机构(重庆市渝中区双钢路1号6栋404室)递交《招标文件发售登记表》(加盖公章)并以转账方式缴纳资料费购买招标文件。 2、非现场购买招标文件 在招标文件发售期内,投标人将招标文件资料费以微信或支付宝转账方式汇至以下指定账户,转账成功后,需将转账截图和《招标文件发售登记表》(加盖公章)扫描件一起发送至采购代理机构342720479@qq.com邮箱进行确认(注:转账汇款时需按要求备注单位名称、项目名称和资料费等信息)。 七、对本次招标提出询问,请按以下方式联系。 1.采购人信息 名 称:北京理工大学重庆微电子中心 地址:重庆市沙坪坝区西永微电园3期1号楼2单元 联系方式:安老师:18702386087 2.采购代理机构信息 名 称:重庆赛迪工程咨询有限公司 地 址:重庆市渝中区双钢路1号 联系方式:夏老师:023-68484343 3.项目联系方式 项目联系人:夏老师 电 话: 023-68484343
  • 浙江大学宁波五位一体校区教育发展中心795.00万元采购物理气相沉积,原子层沉积
    基本信息 关键内容: 物理气相沉积,原子层沉积 开标时间: 2021-09-03 14:00 采购金额: 795.00万元 采购单位: 浙江大学宁波五位一体校区教育发展中心 采购联系人: 王鸯鸯 采购联系方式: 立即查看 招标代理机构: 宁波中基国际招标有限公司 代理联系人: 徐承 代理联系方式: 立即查看 详细信息 宁波中基国际招标有限公司关于浙江大学宁波“五位一体”校区教育发展中心(筹)硅基异质集成芯片技术平台建设项目的公开招标公告 浙江省-宁波市-鄞州区 状态:公告 更新时间: 2021-08-13 项目概况 浙江大学宁波“五位一体”校区教育发展中心(筹)硅基异质集成芯片技术平台建设项目招标项目的潜在投标人应在政府采购云平台(www.zcygov.cn)获取(下载)招标文件,并于 2021年09月03日 14:00(北京时间)前递交(上传)投标文件。 一、项目基本情况 项目编号:CBNB-20211438G 项目名称:浙江大学宁波“五位一体”校区教育发展中心(筹)硅基异质集成芯片技术平台建设项目 预算金额(元):7950000 最高限价(元):3500000,2350000,2100000 采购需求: 标项一 标项名称: 等离子体增强化学气相沉积系统 数量: 1 预算金额(元): 3500000 简要规格描述或项目基本概况介绍、用途:详见招标文件第二章 招标需求。 备注:不接受进口产品。 标项二 标项名称: 物理气相沉积系统 数量: 1 预算金额(元): 2350000 简要规格描述或项目基本概况介绍、用途:详见招标文件第二章 招标需求。 备注:不接受进口产品。 标项三 标项名称: 全自动匀胶显影系统 数量: 1 预算金额(元): 2100000 简要规格描述或项目基本概况介绍、用途:详见招标文件第二章 招标需求。 备注:不接受进口产品。 合同履约期限:标项 1、2、3,自合同签订生效后开始至双方合同义务完全履行后截止。 本项目(否)接受联合体投标。 二、申请人的资格要求: 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定;未被“信用中国”(www.creditchina.gov.cn)、中国政府采购网(www.ccgp.gov.cn)列入失信被执行人、重大税收违法案件当事人名单、政府采购严重违法失信行为记录名单。 2.落实政府采购政策需满足的资格要求:无 3.本项目的特定资格要求:标项1、2、3:单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同投标人,不得参加同一标项的投标。为本项目提供整体设计、规范编制或者项目管理、监理、检测等服务的投标人,不得再参加本项目的投标。 三、获取招标文件 时间:2021年08月13日至2021年08月20日 ,每天上午00:00至12:00 ,下午12:00至23:59(北京时间,线上获取法定节假日均可,线下获取文件法定节假日除外) 地点(网址):政府采购云平台(www.zcygov.cn) 方式:1.本项目招标文件实行“政府采购云平台”在线获取,不提供招标文件纸质版。供应商获取招标文件前应先完成“政府采购云平台”的账号注册;2.潜在供应商登陆政采云平台,在线申请获取招标文件(进入“项目采购”应用,在获取招标文件菜单中选择项目,申请获取招标文件;仅需浏览招标文件的供应商可点击“游客,浏览招标文件”直接下载招标文件浏览);3.招标公告附件内的招标文件仅供阅览使用,投标人只有在“政府采购云平台”完成获取招标文件申请并下载了招标文件后才视作依法获取招标文件(法律法规所指的供应商获取招标文件时间以供应商完成获取招标文件申请后下载招标文件的时间为准)。注:请投标人按上述要求获取招标文件,如未在“政采云”系统内完成相关流程,引起的投标无效责任自负。 售价(元):0 四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点 提交投标文件截止时间:2021年09月03日 14:00(北京时间) 投标地点(网址):(1)“电子加密投标文件”:政采云平台(www.zcygov.cn)在线提交;(2)“电子备份投标文件”:中基招标会议中心(宁波市鄞州区天童南路666号中基大厦1楼)开标室 开标时间:2021年09月03日 14:00 开标地点(网址):政府采购云平台(www.zcygov.cn) 五、公告期限 自本公告发布之日起5个工作日。 六、其他补充事宜 1.供应商认为采购文件使自己的权益受到损害的,可以自获取采购文件之日或者采购文件公告期限届满之日(公告期限届满后获取采购文件的,以公告期限届满之日为准)起7个工作日内,对采购文件需求的以书面形式向采购人提出质疑,对其他内容的以书面形式向采购人和采购代理机构提出质疑。质疑供应商对采购人、采购代理机构的答复不满意或者采购人、采购代理机构未在规定的时间内作出答复的,可以在答复期满后十五个工作日内向同级政府采购监督管理部门投诉。质疑函范本、投诉书范本请到浙江政府采购网下载专区下载。 2.其他事项:2.1.采购项目需要落实的政府采购政策:(1)对小微企业的产品给予价格优惠(监狱企业、残疾人福利性单位视同小微企业;残疾人福利性单位属于小型、微型企业的,不重复享受政策);(2)优先采购节能环保产品(注:所采购的货物在政府采购节能产品、环境标志产品实施品目清单范围内,且具有国家确定的认证机构出具的、处于有效期之内的节能产品、环境标志产品认证证书)。2.2.本次政府采购活动有关信息在浙江政府采购网公布,视同送达所有潜在投标人。 2.3特别提醒事项:(1)供应商应于提交投标文件截止时间前将电子加密投标文件上传到政府采购云平台www.zcygov.cn,未上传电子加密投标文件,视为供应商放弃投标。(2)供应商在“政府采购云平台”完成“电子加密投标文件”的上传递交之外,还可以(邮寄形式或派人现场提交,以招标代理机构联系人签收时间为准)在投标截止时间前提交以介质(U盘)存储的数据电文形式的“备份投标文件”。(3)电子招投标有关事项说明:①本项目通过“浙江政府采购网(http://zfcg.czt.zj.gov.cn)”实行电子投标,供应商须安装客户端软件,并按照采购文件和电子交易平台的要求制作投标文件。客户端软件下载方式:供应商可通过“浙江政府采购网-下载专区-电子交易客户端”进行下载。②供应商须申领CA,CA申领及相关操作可参考“浙江政府采购网-下载专区-电子交易客户端-CA驱动和申领流程”。供应商在进行上述操作时,如遇技术问题可致电400-881-7190进行咨询。(4)疫情期间特别提醒事项:①采用邮寄方式提交电子备份投标文件,需按以下要求递交:供应商须在投标截止时间前将电子备份投标文件邮寄至规定地点,由招标代理工作人员进行签收。各供应商自行考虑邮寄在途时间,邮寄过程中无论何种因素导致电子备份投标文件未按时递交的后果,均由供应商自行负责。电子备份投标文件递交时间以招标代理实际收到电子备份投标文件的时间为准。迟到的电子备份投标文件将被拒收。请各供应商确保密封包装在邮寄过程密封包装完好,并在邮寄包裹上注明项目名称,因邮寄过程的密封破损造成不符合开标要求的,本招标代理及招标人概不负责。电子备份投标文件邮寄地址为:宁波市鄞州区天童南路666号中基大厦19楼。收件人:王鸯鸯,联系方式:0574-88090157,13373888477②采用现场递交方式递交电子备份投标文件,在投标当天投标人员需持绿色“甬行码”、佩戴口罩且体温测量正常后方可进入开标现场(以开标当日测量体温为准)递交电子备份投标文件。若供应商因未按上述要求办理而导致无法准时进入开标现场的,由供应商自行负责。 七、对本次采购提出询问、质疑、投诉,请按以下方式联系 1.采购人信息 名 称:浙江大学宁波“五位一体”校区教育发展中心(筹) 地 址:宁波市鄞州区钱湖南路1号 传 真:/ 项目联系人(询问):郑老师 项目联系方式(询问):0574-88229887 质疑联系人:杨国义 质疑联系方式:0574-88130160 2.采购代理机构信息 名 称:宁波中基国际招标有限公司 地 址:宁波市鄞州区天童南路666号中基大厦19楼 传 真:0574-87425386 项目联系人(询问):王鸯鸯、徐承 项目联系方式(询问):0574-88090157、87425387 质疑联系人:蒋海佳 质疑联系方式:0574-87423685 3.同级政府采购监督管理部门 名 称:宁波市政府采购管理办公室 地 址:宁波市海曙区中山西路19号 传 真:/ 联系人 :徐老师 监督投诉电话:0574-89388441 若对项目采购电子交易系统操作有疑问,可登录政采云(https://www.zcygov.cn/),点击右侧咨询小采,获取采小蜜智能服务管家帮助,或拨打政采云服务热线400-881-7190获取热线服务帮助。 CA问题联系电话(人工):汇信CA 400-888-4636;天谷CA 400-087-8198。 附件信息: 430.4K × 扫码打开掌上仪信通App 查看联系方式 基本信息 关键内容:物理气相沉积,原子层沉积 开标时间:2021-09-03 14:00 预算金额:795.00万元 采购单位:浙江大学宁波五位一体校区教育发展中心 采购联系人:点击查看 采购联系方式:点击查看 招标代理机构:宁波中基国际招标有限公司 代理联系人:点击查看 代理联系方式:点击查看 详细信息 宁波中基国际招标有限公司关于浙江大学宁波“五位一体”校区教育发展中心(筹)硅基异质集成芯片技术平台建设项目的公开招标公告 浙江省-宁波市-鄞州区 状态:公告 更新时间: 2021-08-13 项目概况 浙江大学宁波“五位一体”校区教育发展中心(筹)硅基异质集成芯片技术平台建设项目招标项目的潜在投标人应在政府采购云平台(www.zcygov.cn)获取(下载)招标文件,并于 2021年09月03日 14:00(北京时间)前递交(上传)投标文件。 一、项目基本情况 项目编号:CBNB-20211438G 项目名称:浙江大学宁波“五位一体”校区教育发展中心(筹)硅基异质集成芯片技术平台建设项目 预算金额(元):7950000 最高限价(元):3500000,2350000,2100000 采购需求: 标项一 标项名称: 等离子体增强化学气相沉积系统 数量: 1 预算金额(元): 3500000 简要规格描述或项目基本概况介绍、用途:详见招标文件第二章 招标需求。 备注:不接受进口产品。 标项二 标项名称: 物理气相沉积系统 数量: 1 预算金额(元): 2350000 简要规格描述或项目基本概况介绍、用途:详见招标文件第二章 招标需求。 备注:不接受进口产品。 标项三 标项名称: 全自动匀胶显影系统 数量: 1 预算金额(元): 2100000 简要规格描述或项目基本概况介绍、用途:详见招标文件第二章 招标需求。 备注:不接受进口产品。 合同履约期限:标项 1、2、3,自合同签订生效后开始至双方合同义务完全履行后截止。 本项目(否)接受联合体投标。 二、申请人的资格要求: 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定;未被“信用中国”(www.creditchina.gov.cn)、中国政府采购网(www.ccgp.gov.cn)列入失信被执行人、重大税收违法案件当事人名单、政府采购严重违法失信行为记录名单。 2.落实政府采购政策需满足的资格要求:无 3.本项目的特定资格要求:标项1、2、3:单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同投标人,不得参加同一标项的投标。为本项目提供整体设计、规范编制或者项目管理、监理、检测等服务的投标人,不得再参加本项目的投标。 三、获取招标文件 时间:2021年08月13日至2021年08月20日 ,每天上午00:00至12:00 ,下午12:00至23:59(北京时间,线上获取法定节假日均可,线下获取文件法定节假日除外) 地点(网址):政府采购云平台(www.zcygov.cn) 方式:1.本项目招标文件实行“政府采购云平台”在线获取,不提供招标文件纸质版。供应商获取招标文件前应先完成“政府采购云平台”的账号注册;2.潜在供应商登陆政采云平台,在线申请获取招标文件(进入“项目采购”应用,在获取招标文件菜单中选择项目,申请获取招标文件;仅需浏览招标文件的供应商可点击“游客,浏览招标文件”直接下载招标文件浏览);3.招标公告附件内的招标文件仅供阅览使用,投标人只有在“政府采购云平台”完成获取招标文件申请并下载了招标文件后才视作依法获取招标文件(法律法规所指的供应商获取招标文件时间以供应商完成获取招标文件申请后下载招标文件的时间为准)。注:请投标人按上述要求获取招标文件,如未在“政采云”系统内完成相关流程,引起的投标无效责任自负。 售价(元):0 四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点 提交投标文件截止时间:2021年09月03日 14:00(北京时间) 投标地点(网址):(1)“电子加密投标文件”:政采云平台(www.zcygov.cn)在线提交;(2)“电子备份投标文件”:中基招标会议中心(宁波市鄞州区天童南路666号中基大厦1楼)开标室 开标时间:2021年09月03日 14:00 开标地点(网址):政府采购云平台(www.zcygov.cn) 五、公告期限 自本公告发布之日起5个工作日。 六、其他补充事宜 1.供应商认为采购文件使自己的权益受到损害的,可以自获取采购文件之日或者采购文件公告期限届满之日(公告期限届满后获取采购文件的,以公告期限届满之日为准)起7个工作日内,对采购文件需求的以书面形式向采购人提出质疑,对其他内容的以书面形式向采购人和采购代理机构提出质疑。质疑供应商对采购人、采购代理机构的答复不满意或者采购人、采购代理机构未在规定的时间内作出答复的,可以在答复期满后十五个工作日内向同级政府采购监督管理部门投诉。质疑函范本、投诉书范本请到浙江政府采购网下载专区下载。 2.其他事项:2.1.采购项目需要落实的政府采购政策:(1)对小微企业的产品给予价格优惠(监狱企业、残疾人福利性单位视同小微企业;残疾人福利性单位属于小型、微型企业的,不重复享受政策);(2)优先采购节能环保产品(注:所采购的货物在政府采购节能产品、环境标志产品实施品目清单范围内,且具有国家确定的认证机构出具的、处于有效期之内的节能产品、环境标志产品认证证书)。2.2.本次政府采购活动有关信息在浙江政府采购网公布,视同送达所有潜在投标人。 2.3特别提醒事项:(1)供应商应于提交投标文件截止时间前将电子加密投标文件上传到政府采购云平台www.zcygov.cn,未上传电子加密投标文件,视为供应商放弃投标。(2)供应商在“政府采购云平台”完成“电子加密投标文件”的上传递交之外,还可以(邮寄形式或派人现场提交,以招标代理机构联系人签收时间为准)在投标截止时间前提交以介质(U盘)存储的数据电文形式的“备份投标文件”。(3)电子招投标有关事项说明:①本项目通过“浙江政府采购网(http://zfcg.czt.zj.gov.cn)”实行电子投标,供应商须安装客户端软件,并按照采购文件和电子交易平台的要求制作投标文件。客户端软件下载方式:供应商可通过“浙江政府采购网-下载专区-电子交易客户端”进行下载。②供应商须申领CA,CA申领及相关操作可参考“浙江政府采购网-下载专区-电子交易客户端-CA驱动和申领流程”。供应商在进行上述操作时,如遇技术问题可致电400-881-7190进行咨询。(4)疫情期间特别提醒事项:①采用邮寄方式提交电子备份投标文件,需按以下要求递交:供应商须在投标截止时间前将电子备份投标文件邮寄至规定地点,由招标代理工作人员进行签收。各供应商自行考虑邮寄在途时间,邮寄过程中无论何种因素导致电子备份投标文件未按时递交的后果,均由供应商自行负责。电子备份投标文件递交时间以招标代理实际收到电子备份投标文件的时间为准。迟到的电子备份投标文件将被拒收。请各供应商确保密封包装在邮寄过程密封包装完好,并在邮寄包裹上注明项目名称,因邮寄过程的密封破损造成不符合开标要求的,本招标代理及招标人概不负责。电子备份投标文件邮寄地址为:宁波市鄞州区天童南路666号中基大厦19楼。收件人:王鸯鸯,联系方式:0574-88090157,13373888477②采用现场递交方式递交电子备份投标文件,在投标当天投标人员需持绿色“甬行码”、佩戴口罩且体温测量正常后方可进入开标现场(以开标当日测量体温为准)递交电子备份投标文件。若供应商因未按上述要求办理而导致无法准时进入开标现场的,由供应商自行负责。 七、对本次采购提出询问、质疑、投诉,请按以下方式联系 1.采购人信息 名 称:浙江大学宁波“五位一体”校区教育发展中心(筹) 地 址:宁波市鄞州区钱湖南路1号 传 真:/ 项目联系人(询问):郑老师 项目联系方式(询问):0574-88229887 质疑联系人:杨国义 质疑联系方式:0574-88130160 2.采购代理机构信息 名 称:宁波中基国际招标有限公司 地 址:宁波市鄞州区天童南路666号中基大厦19楼 传 真:0574-87425386 项目联系人(询问):王鸯鸯、徐承 项目联系方式(询问):0574-88090157、87425387 质疑联系人:蒋海佳 质疑联系方式:0574-87423685 3.同级政府采购监督管理部门 名 称:宁波市政府采购管理办公室 地 址:宁波市海曙区中山西路19号 传 真:/ 联系人 :徐老师 监督投诉电话:0574-89388441 若对项目采购电子交易系统操作有疑问,可登录政采云(https://www.zcygov.cn/),点击右侧咨询小采,获取采小蜜智能服务管家帮助,或拨打政采云服务热线400-881-7190获取热线服务帮助。 CA问题联系电话(人工):汇信CA 400-888-4636;天谷CA 400-087-8198。 附件信息: 430.4K
  • 科普系列:选择性原子层沉积技术
    p  很多涉及原子层沉积技术(ALD)的人都知道,选择性原子层沉积是当今热议的话题。各类论文、研讨会和博文层出不穷,详尽地解释了各种可以达到选择性生长目的的新方法。从某种意义上说,选择性ALD运用了长期困扰ALD使用者的效应,即由于ALD的化学反应特性,薄膜生长的成核现象取决于基底表面。通常来说,在ALD领域人们已经在研究如何尽可能减小这种影响。例如,等离子体ALD一般会有可忽略不计的延迟,但对于选择性ALD来说,成核延迟现象却被放大了。/pp style="text-align: center"img style="width: 450px height: 234px " src="http://img1.17img.cn/17img/images/201806/insimg/bcc86ec1-e447-400c-8d88-439d8b625aec.jpg" title="02.jpg" height="234" hspace="0" border="0" vspace="0" width="450"//pp  有意思的是,虽然等离子体ALD一般没有成核延迟现象,但它仍然可被用于选择性ALD。我在埃因霍温的大学同事已登载了相关发现(http://pubs.acs.org/doi/10.1021/acsnano.7b04701)。它的要点是在等离子体曝光之后再次重复应用抑制剂,这个过程可用视频中所示的三步ABC ALD方法操作。/pp  strong以下视频中解释了选择性等离子体ALD技术的全新概念:/strong/pscript src="https://p.bokecc.com/player?vid=65C25DD24223E8749C33DC5901307461&siteid=D9180EE599D5BD46&autoStart=false&width=600&height=490&playerid=2BE2CA2D6C183770&playertype=1" type="text/javascript"/scriptp  那么问题来了,人们会选择哪种ALD设备来研究选择性ALD呢。strong我相信我们系统中的一些功能会很有用,例如:/strong/pp ◆ 可应用多种化学前驱物。气箱可容纳多路气体并由MFC进行流量控制/pp ◆ 可应用抑制剂分子(如在前驱物注入过程中通入NH3或CO)/pp ◆ 将氢基作为抑制剂:在前驱物注入前使用氢等离子体(或其他等离子体)来抑制特定表面的生长/pp ◆ 氟化物等离子体:将CFX或F作为抑制剂,在前驱物注入前使用此等离子体,或进行选择性ALD生长时,即每隔几个生长周期就在同一个腔体内进行一次刻蚀的步骤(注意O2等离子体可刻蚀Ru,H2等离子体可刻蚀ZnO)。/pp ◆ 用于抑制生长的自组装单分子膜(SAMS)注入/pp ◆ 多腔体集成系统,比如与感应耦合等离子体-化学气相沉积(ICP-CVD)腔室(生长非晶硅)、溅射(sputter)腔室或原子层刻蚀(ALE)腔室结合使用/pp ◆ 用于原表面改性或刻蚀的基底偏压/pp  strong牛津仪器的设备可实现优异的控制效果,包括:/strong/pp ◆ 通过MFC,快速ALD阀门和快速自动压力控制,可获得精准可调的前驱物/气体注入,以实现一面成核另一面不成核的现象。/pp ◆ 使用预真空室和涡轮增压分子泵保持系统的的高真空度,以使抑制现象长时间不受影响。/pp ◆ 使用等离子体可清洁腔体和恢复腔体氛围。/pp ◆ 带实时诊断功能的生长监控设备:椭圆偏正光谱测量、质谱分析法及发射光谱法/pp  基于选择性ALD提出的与刻蚀相结合的方法再次让我想到原子尺度工艺处理的问题,我在之前发表的一篇博文中对此进行了讨论。可以想象,通过结合选择性ALD及其他工艺,可以生长出新的超材料(特异材料)和独特结构。例如,通过在选择性曝光的铜中生长石墨烯,或通过周期性刻蚀同一平面的沉积(例如局部选择性ALD),可有效地仅在结构侧边生长材料。因此不论是在普通等离子刻蚀机或带基底偏压特性的FlexAL,结合带导向的离子曝光法也许会是个优势。总得来说,我很期待能有令人惊喜的新发现,新结构和新材料能在可控的方式下诞生。/p
  • 新研究阐明微塑料在呼吸道沉积
    研究表明,人类每小时可能会吸入约16.2块微塑料,相当于1周吸入1张信用卡的塑料量。而这些微塑料通常含有有毒污染物和化学物质,吸入后可能会造成严重的健康风险,因此了解它们如何在呼吸系统中传播对于预防和治疗呼吸系统疾病至关重要。据13日发表于《流体物理学》杂志的论文,来自澳大利亚悉尼科技大学、伊朗乌尔米亚大学、孟加拉国科米拉大学等单位的一个国际研究团队开发出一种计算流体动力学模型,分析了微塑料在上呼吸道的传输和沉积特征。团队研究了不同形状(球形、四面体和圆柱形)和大小(直径为1.6、2.56和5.56微米)的微塑料在缓慢和快速呼吸条件下的运动。微塑料往往会聚集在鼻腔、口咽或喉咙后部的热点部位。研究人员解释说,呼吸道的形状复杂且高度不对称,加上鼻腔和口咽部复杂的流动行为,导致微塑料偏离流动路径并沉积在这些区域。流动速度、颗粒的惯性和不对称形状影响微塑料的总体沉积,并增加其在鼻腔和口咽区的沉积浓度。呼吸条件和微塑料大小影响呼吸道内总的微塑料沉积速率。流速越大,沉积越少,最大的(直径5.56微米)微塑料比较小的微塑料更容易沉积在呼吸道中。2022年,科学家首次在人类呼吸道深处发现了微塑料,这引发了人们对严重的呼吸道健康危害的担忧。研究人员强调,人们需要更多地意识到空气中存在微塑料及其对健康的潜在影响。他们希望这一结果能为靶向药物输送系统提供参考,并改善健康风险评估。
  • 常州大学150.00万元采购物理气相沉积,原子层沉积
    详细信息 常州大学ALD原子层沉积平台采购项目竞争性磋商公告 江苏省-常州市-武进区 状态:公告 更新时间: 2023-01-09 招标文件: 附件1 项目概况 (常州大学ALD原子层沉积平台)采购项目的潜在供应商应在(常州中宇建设工程管理有限公司)获取采购文件,并于2023年1月31日上午9点00分(北京时间)前提交响应文件。 一、项目基本情况 1.项目编号:ZYJS-ZC2023192 2.项目名称:ALD原子层沉积平台采购项目 3.采购方式:竞争性磋商 4.项目预算金额:人民币150万元 项目最高限价:人民币150万元;供应商最终报价时总价不得高于最高限价,否则作为无效响应处理。 5.采购需求:本项目为常州大学ALD原子层沉积平台采购项目。原子层沉积技术简称ALD,是一种精度极高的气相沉积包覆技术。该技术通过交替式的通入前驱体,从而实现厚度可控(纳米尺寸级别)的薄膜沉积。本采购项目包括相应产品供货前的准备(包括现场踏勘、技术核对等)、产品(包括备品备件、专用工具)、设计、制造、加工、检验、包装、发货、保险、技术资料、生产(采购)、进口、运输、外贸代理费、清关、运输、安装调试、技术服务、验收、装卸至现场设备技术上、设备自身调试、培训、售后服务、质保期及维保服务等全部工作。 6.项目履约期限:自合同签订之日起28周以内供货完毕,并安装调试通过采购单位验收。 7.本项目是否接受联合体:□是 ◆否。 8.本项目是否接受进口产品响应:◆是 □否。 二、申请人的资格要求(须同时满足) 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定以及下列情形: 1.1未被“信用中国”网站(WWW.creditchina.gov.cn)或“中国政府采购网”网站(www.ccgp.gov.cn)列入失信被执行人、重大税收违法案件当事人名单、政府采购严重失信行为记录名单; 1.2单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商(包含法定代表人为同一个人的两个及两个以上法人,母公司、全资子公司及其控股公司),不得参加同一合同项下的政府采购活动。 2.落实政府采购政策需满足的资格要求: 2.1中小企业政策 ◆本项目不专门面向中小企业预留采购份额。 □本项目专门面向 □中小 □小微企业采购。 □本项目预留部分采购项目预算专门面向中小企业采购。对于预留份额,提供的货物由符合政策要求的中小企业制造、服务由符合政策要求的中小企业承接。预留份额通过以下措施进行:______/_____。 2.2其它落实政府采购政策的资格要求(如有):____/_______。 3.本项目的特定资格要求: 3.1本项目接受进口产品投标,供应商所投设备为进口产品的,应提供以下之一的证明材料: 1)如供应商为所投设备的授权经销(代理)商,必须提供生产(制造)商或上级经销(代理)商授权供应商的授权书,并提供逐级经销(代理)商的证书复印件; 2)如供应商为本项目的授权供应商,必须提供生产(制造)商或授权经销(代理)商对本次招标的项目或所投产品的授权书,并提供逐级经销(代理)商的证书复印件。 3.2本项目是否接受分支机构参与响应:□是 ◆否; 3.3 其他特定资格要求:无 4.本项目是否属于政府购买服务: ◆否 □是,公益一类事业单位、使用事业编制且由财政拨款保障的群团组织,不得作为承接主体; 5.其他特定资格要求:无。 三、获取采购文件 时间:2023年1月9日至2023年1月16日(采购文件的发售期限自开始之日起不得少于5个工作日),每天上午8:30至11:30,下午13:30至17:00(北京时间,法定节假日除外) 地点:常州钟楼区大仓路65号(博济五星智造园)8号楼2楼常州中宇财务室 方式:(供应商可采取以下任一种方式获取采购文件) (1)线上获取(推荐使用):供应商在规定的获取时间内登录常州中宇建设工程管理有限公司网站右上角“供应商注册”进行注册登记,注册成功后可进入相应项目公告填写相关信息,并按要求交纳采购文件费用,上述步骤完成后,供应商可自行下载采购文件。 (2)线下获取:将相关材料扫描发至本公司邮箱“zhongyuzhaobiao111@163.com”并按要求交纳采购文件费用后,采购文件以邮件形式发送至供应商邮箱。 户 名:常州中宇建设工程管理有限公司 开户银行:中国工商银行股份有限公司常州勤德支行 账 号:1105052609000510202 财务室电话(查询标书款情况):0519-85782855 (3)现场获取地点:常州钟楼区大仓路65号(博济五星智造园)8号楼2楼常州中宇财务室。 售价:人民币壹佰元/份(从企业账户缴入代理机构银行账户或现场报名缴纳,缴款时请备注所投项目编号),采购文件售后一概不退。未获取采购文件的磋商供应商不得参与投标。磋商供应商获取采购文件时应提供如下材料: ①供应商信息表(格式见公告附件1) 四、响应文件提交 截止时间:2023年1月31日上午9点00分(北京时间)。 地点:常州钟楼区大仓路65号(博济五星智造园)8号楼2楼常州中宇招标中心。 五、开启 时间:2023年1月31日上午9点00分(北京时间)。 地点:常州钟楼区大仓路65号(博济五星智造园)8号楼2楼常州中宇招标中心。 六、公告期限 自本公告发布之日起5个工作日。 七、其他补充事宜 1.本项目需要落实的政府采购政策:_/__。 2.现场勘察及澄清: 2.1 ◆采购人不组织现场勘察。 2.2对采购文件需要进行澄清或有疑问的供应商,均应在2023年1月17日上午11:30前按采购公告中的通讯地址,一次性将需要澄清或疑问内容以书面形式并加盖公章送达采购代理机构,否则视为无有效澄清或疑问。 2.3有关本次采购的事项若存在变动或修改,采购代理机构将通过更正公告形式通知所有获取采购文件的潜在供应商,因未能及时了解相关最新信息所引起的投标失误责任由供应商自负。 2.4响应文件制作份数要求: 正本份数:1份,副本份数:3份;响应文件应按顺序胶装成册,并编制响应文件目录索引。不论供应商成交与否,响应文件均不退回。 中标(成交)公告发布前,成交供应商须将响应文件电子档(PDF格式,含加盖鲜红章和签字的全套扫描文件,与正本响应文件完全一致的电子档)发至邮箱:zhongyuzhaobiao111@163.com 2.5关于疫情期间开评标相关事项 ①参与采购、评标活动的当事人应严格按照疫情期间上级部门的管理要求,进场后请保持安全距离,分散等候,不得扎堆聚集,事完即走。自觉服从安保及代理机构工作人员的管理。 ②科学安排座位间距,尽量缩短工作时间,会议室要每隔一段时间通风。 3.关于常州市中小企业政府采购信用融资: 根据《常州市财政局中国人民银行常州市中心支行关于进一步推进政府采购信用融资工作的通知》(常财购〔2021〕13号)等有关文件精神,我市实行政府采购信用融资,将信用作为政策工具引入政府采购领域,金融机构根据政府采购项目中标(成交)通知书或中标(成交)合同,为中标(成交)中小企业供应商提供相应额度贷款的融资模式。申请条件及操作流程等事项详见该文件相关内容或者常州市政府采购网--政采融资平台栏目。 八、对本项目提出询问,请按以下方式联系。 1.采购人信息 名 称:常州大学 地 址:常州市武进区湖塘镇滆湖中路21号 联系方式:诸葛祥群 联系电话:15161156879 2.采购代理机构信息 名 称:常州中宇建设工程管理有限公司 地 址:常州钟楼区大仓路65号8号楼二楼 联系方式:0519-85785155 3.项目联系方式 项目联系人:左学文、包婷 电 话:0519-85785155 注:上述个人信息由于工作需要经机构或本人同意对外公布。 附件:供应商信息表.docx × 扫码打开掌上仪信通App 查看联系方式 基本信息 关键内容:物理气相沉积,原子层沉积 开标时间:null 预算金额:150.00万元 采购单位:常州大学 采购联系人:点击查看 采购联系方式:点击查看 招标代理机构:常州中宇建设工程管理有限公司 代理联系人:点击查看 代理联系方式:点击查看 详细信息 常州大学ALD原子层沉积平台采购项目竞争性磋商公告 江苏省-常州市-武进区 状态:公告 更新时间: 2023-01-09 招标文件: 附件1 项目概况 (常州大学ALD原子层沉积平台)采购项目的潜在供应商应在(常州中宇建设工程管理有限公司)获取采购文件,并于2023年1月31日上午9点00分(北京时间)前提交响应文件。 一、项目基本情况 1.项目编号:ZYJS-ZC2023192 2.项目名称:ALD原子层沉积平台采购项目 3.采购方式:竞争性磋商 4.项目预算金额:人民币150万元 项目最高限价:人民币150万元;供应商最终报价时总价不得高于最高限价,否则作为无效响应处理。 5.采购需求:本项目为常州大学ALD原子层沉积平台采购项目。原子层沉积技术简称ALD,是一种精度极高的气相沉积包覆技术。该技术通过交替式的通入前驱体,从而实现厚度可控(纳米尺寸级别)的薄膜沉积。本采购项目包括相应产品供货前的准备(包括现场踏勘、技术核对等)、产品(包括备品备件、专用工具)、设计、制造、加工、检验、包装、发货、保险、技术资料、生产(采购)、进口、运输、外贸代理费、清关、运输、安装调试、技术服务、验收、装卸至现场设备技术上、设备自身调试、培训、售后服务、质保期及维保服务等全部工作。 6.项目履约期限:自合同签订之日起28周以内供货完毕,并安装调试通过采购单位验收。 7.本项目是否接受联合体:□是 ◆否。 8.本项目是否接受进口产品响应:◆是 □否。 二、申请人的资格要求(须同时满足) 1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定以及下列情形: 1.1未被“信用中国”网站(WWW.creditchina.gov.cn)或“中国政府采购网”网站(www.ccgp.gov.cn)列入失信被执行人、重大税收违法案件当事人名单、政府采购严重失信行为记录名单; 1.2单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商(包含法定代表人为同一个人的两个及两个以上法人,母公司、全资子公司及其控股公司),不得参加同一合同项下的政府采购活动。 2.落实政府采购政策需满足的资格要求: 2.1中小企业政策 ◆本项目不专门面向中小企业预留采购份额。 □本项目专门面向 □中小 □小微企业采购。 □本项目预留部分采购项目预算专门面向中小企业采购。对于预留份额,提供的货物由符合政策要求的中小企业制造、服务由符合政策要求的中小企业承接。预留份额通过以下措施进行:______/_____。 2.2其它落实政府采购政策的资格要求(如有):____/_______。 3.本项目的特定资格要求: 3.1本项目接受进口产品投标,供应商所投设备为进口产品的,应提供以下之一的证明材料: 1)如供应商为所投设备的授权经销(代理)商,必须提供生产(制造)商或上级经销(代理)商授权供应商的授权书,并提供逐级经销(代理)商的证书复印件; 2)如供应商为本项目的授权供应商,必须提供生产(制造)商或授权经销(代理)商对本次招标的项目或所投产品的授权书,并提供逐级经销(代理)商的证书复印件。 3.2本项目是否接受分支机构参与响应:□是 ◆否; 3.3 其他特定资格要求:无 4.本项目是否属于政府购买服务: ◆否 □是,公益一类事业单位、使用事业编制且由财政拨款保障的群团组织,不得作为承接主体; 5.其他特定资格要求:无。 三、获取采购文件 时间:2023年1月9日至2023年1月16日(采购文件的发售期限自开始之日起不得少于5个工作日),每天上午8:30至11:30,下午13:30至17:00(北京时间,法定节假日除外) 地点:常州钟楼区大仓路65号(博济五星智造园)8号楼2楼常州中宇财务室 方式:(供应商可采取以下任一种方式获取采购文件) (1)线上获取(推荐使用):供应商在规定的获取时间内登录常州中宇建设工程管理有限公司网站右上角“供应商注册”进行注册登记,注册成功后可进入相应项目公告填写相关信息,并按要求交纳采购文件费用,上述步骤完成后,供应商可自行下载采购文件。 (2)线下获取:将相关材料扫描发至本公司邮箱“zhongyuzhaobiao111@163.com”并按要求交纳采购文件费用后,采购文件以邮件形式发送至供应商邮箱。 户 名:常州中宇建设工程管理有限公司 开户银行:中国工商银行股份有限公司常州勤德支行 账 号:1105052609000510202 财务室电话(查询标书款情况):0519-85782855 (3)现场获取地点:常州钟楼区大仓路65号(博济五星智造园)8号楼2楼常州中宇财务室。 售价:人民币壹佰元/份(从企业账户缴入代理机构银行账户或现场报名缴纳,缴款时请备注所投项目编号),采购文件售后一概不退。未获取采购文件的磋商供应商不得参与投标。磋商供应商获取采购文件时应提供如下材料: ①供应商信息表(格式见公告附件1) 四、响应文件提交 截止时间:2023年1月31日上午9点00分(北京时间)。 地点:常州钟楼区大仓路65号(博济五星智造园)8号楼2楼常州中宇招标中心。 五、开启 时间:2023年1月31日上午9点00分(北京时间)。 地点:常州钟楼区大仓路65号(博济五星智造园)8号楼2楼常州中宇招标中心。 六、公告期限 自本公告发布之日起5个工作日。 七、其他补充事宜 1.本项目需要落实的政府采购政策:_/__。 2.现场勘察及澄清: 2.1 ◆采购人不组织现场勘察。 2.2对采购文件需要进行澄清或有疑问的供应商,均应在2023年1月17日上午11:30前按采购公告中的通讯地址,一次性将需要澄清或疑问内容以书面形式并加盖公章送达采购代理机构,否则视为无有效澄清或疑问。 2.3有关本次采购的事项若存在变动或修改,采购代理机构将通过更正公告形式通知所有获取采购文件的潜在供应商,因未能及时了解相关最新信息所引起的投标失误责任由供应商自负。 2.4响应文件制作份数要求: 正本份数:1份,副本份数:3份;响应文件应按顺序胶装成册,并编制响应文件目录索引。不论供应商成交与否,响应文件均不退回。 中标(成交)公告发布前,成交供应商须将响应文件电子档(PDF格式,含加盖鲜红章和签字的全套扫描文件,与正本响应文件完全一致的电子档)发至邮箱:zhongyuzhaobiao111@163.com 2.5关于疫情期间开评标相关事项 ①参与采购、评标活动的当事人应严格按照疫情期间上级部门的管理要求,进场后请保持安全距离,分散等候,不得扎堆聚集,事完即走。自觉服从安保及代理机构工作人员的管理。 ②科学安排座位间距,尽量缩短工作时间,会议室要每隔一段时间通风。 3.关于常州市中小企业政府采购信用融资: 根据《常州市财政局中国人民银行常州市中心支行关于进一步推进政府采购信用融资工作的通知》(常财购〔2021〕13号)等有关文件精神,我市实行政府采购信用融资,将信用作为政策工具引入政府采购领域,金融机构根据政府采购项目中标(成交)通知书或中标(成交)合同,为中标(成交)中小企业供应商提供相应额度贷款的融资模式。申请条件及操作流程等事项详见该文件相关内容或者常州市政府采购网--政采融资平台栏目。 八、对本项目提出询问,请按以下方式联系。 1.采购人信息 名 称:常州大学 地 址:常州市武进区湖塘镇滆湖中路21号 联系方式:诸葛祥群 联系电话:15161156879 2.采购代理机构信息 名 称:常州中宇建设工程管理有限公司 地 址:常州钟楼区大仓路65号8号楼二楼 联系方式:0519-85785155 3.项目联系方式 项目联系人:左学文、包婷 电 话:0519-85785155 注:上述个人信息由于工作需要经机构或本人同意对外公布。 附件:供应商信息表.docx
  • Picarro | 淡水沉积物中的微塑料影响主要生物扰动者在生态系统功能中的作用
    微塑料是指直径小于5毫米的塑料颗粒,它们主要来源于塑料制品的磨损、降解和破碎,对环境和生态系统产生了不容忽视的影响。微塑料广泛分布在河流、湖泊、海洋等水体中,对水环境会造成污染,也可被水生生物摄取,进而在食物链中传递,最终影响到人类健康。此外,微塑料还可能影响浮游动物的摄食、生长和繁殖,从而影响整个生态系统的功能。针对微塑料是否会影响生物扰动活动,国外的一组团队展开了研究。淡水沉积物中的微塑料影响主要生物扰动者在生态系统功能中的作用微塑料(粒径≤5mm)是塑料废物中的一部分,会通过沿海径流和河流进入到海洋。根据其密度差异,或漂浮在水中或进入沉积物中。沉积物-水界面是水中生物主要活动区,通过生物地球化学过程在生态系统功能中发挥着重要作用。这些生物地球化学过程主要由微生物活动驱动,而底栖无脊椎动物生物扰动作用明显,可凭借进食、排泄、推土、掘穴以及建造洞穴、土堆和坑等行为影响各界面间的养分动态及微生物过程。但目前尚不清楚微塑料的存在是否会影响生物扰动者在沉积物中的生理和活动。基于此,为填补研究空白,国外的一组研究团队在法国东南部Lone des Pê cheurs河床收集沉积物,过筛后,于-20℃储存以杀死微生物。然后测量了沉积物样品的颗粒物粒径分布、总有机碳(TOC)和总氮含量(TN)。将沉积物和微塑料在玻璃瓶中混合以形成4个微塑料浓度(0 颗粒物/kg沉积物干物质(对照);700 颗粒物/kg沉积物干物质(低);7000 颗粒物/kg沉积物干物质(中);70000 颗粒物/kg沉积物干物质(高))。水丝蚓在淡水底栖生物栖息地的生物地球化学和生态学中具有关键作用,选择其作为生物扰动者进行研究。试验共8个处理(4个微塑料浓度×有无水丝蚓),5次重复。沉积物和微塑料混合一周后转移到2L玻璃培养瓶中,然后上覆10 cm合成淡水,将180个长度为1-3 cm的水丝蚓放入培养瓶中,进行77天培养试验。在试验最后4周,分析了水丝蚓的生物扰动活动(沉积物重建和生物灌溉)和地球化学过程(CO2、CH4(Picarro G2201-i同位素和气体浓度分析仪)和养分通量)。试验结束时(77天),确定每种处理下水丝蚓的存活率,并将其分成两部分,一部分用来评估其生理状态(能量储存和氧化应激),另一部分用来确定水丝蚓摄入的微塑料数量。旨在评估微塑料对水丝蚓及生态系统服务功能的影响。实验期间不同天数所分析参数示意图。【结果】其中一个培养瓶中CH4(A)、CO2(B)、N-NO3-(C)、N-NO2-(D)、N-NH4+(E)和P-PO43-(F)浓度时间变化示例。水柱中测量的CO2(A)和N-NOx(N-NO3&minus + N-NO2&minus )通量(B)。【结论】虽然没有死亡,但在暴露于中等微塑料浓度(7000 颗粒物/kg沉积物干物质)后,水丝蚓对氧化应激有显著反应。与此同时,通过沉积物重建能力和促进沉积物-水界面的水交换通量进行评估,发现水丝蚓生物扰动活动减少。因此,在微塑料存在的情况下,水丝蚓对有机质矿化和养分通量的贡献显著降低。该研究表明,环境中的微塑料浓度通过减少水丝蚓的生物扰动活动,对沉积物-水界面的生物地球化学过程产生影响。
  • 快速灵敏,坚实可靠 | QSight LC-MS/MS轻松应对土壤和沉积物中苯胺类和联苯胺类化合物的测定
    GB 36600-2018《土壤环境质量建设用地土壤污染风险管控标准(试行)》于2018年正式实施,是我国开展土壤污染防治的重要支撑技术文件。该标准规定了保护人体健康的建设用地土壤污染风险筛选值和管制值,以及监测、实施与监督要求。其中苯胺作为45项基本项目之一,是建设用地初步调查阶段土壤污染风险筛选的必测项目。Tips:苯胺类化合物是指苯胺分子中的氢原子被其它功能团取代后形成的一类化合物。环境中苯胺类及其衍生物的排放源主要来源于印染染料、油墨、制药、橡胶、炸药、涂料、农药和塑料等工业废水。苯胺类化合物具有很高的毒性,其中一些具有明显的致癌作用,是我国规定的优先控制污染物。关于苯胺的标准测定问题按照GB36600-2018土壤环境质量标准表3推荐的检测方法,土壤中苯胺按照《土壤和沉积物半挥发性有机物的测定气相色谱-质谱法》(HJ834)来进行检测,而HJ834方法中并没有“苯胺”参数,给检测工作带来一定困扰。据权威解释:实验室按《合格评定化学分析方法确认和验证指南》(GB/T27417-2017)、《环境监测分析方法标准制修订技术导则》(HJ168-2010)和《土壤和沉积物半挥发性有机物的测定气相色谱-质谱法》(HJ 834-2017)相关要求做好方法验证,确保方法检出限、测定下限、选择性、线性范围、测量范围、基体效应影响、准确度、精密度和测量不确定度等满足GB36600-2018苯胺风险筛选值和管制值要求的基础上,可以使用HJ 834-2017开展土壤中苯胺的监测工作。HJ 1210-2021《土壤和沉积物13种苯胺类和2种联苯胺类化合物的测定液相色谱-三重四极杆质谱法》首次发布,明确规范了土壤和沉积物中苯胺类和联苯胺类化合物的测定方法,并将自2022年6月1日起实施。“土壤或沉积物中苯胺类和联苯胺类目标化合物,在碱性条件下提取,经净化、浓缩、定容后,用液相色谱-三重四极杆质谱仪分离检测。根据保留时间和特征离子定性,内标法定量。”土壤样品成份复杂、基体干扰因素多、调查样品量大,与常规环境样品分析相比更具挑战。珀金埃尔默QSight三重四极杆液质联用仪,灵敏稳定、坚实可靠,该系统具有独特专利的HSID自清洁技术,应对各种复杂的土壤和沉积物基质样品分析时,无需清洗维护,不损失灵敏度,即可完成大量样品的分析,节省维护时间及成本。PerkinElmer LX50 UHPLC-QSight系列三重四级杆质谱仪灵敏稳定,不惧污染同轴高温加热离子源,提高离子化效率创新的加热诱导脱溶剂和层流离子传输技术,提高灵敏度的同时免于维护超快正负模式切换时间,大幅提高工作效率新立式三重四级杆质谱仪,极大节省空间QSight LC-MS/MS应对土壤和沉积物中苯胺和联苯胺类化合物的测定分析解决方案采用QSight LC-MS/MS液质联用系统,成功建立了土壤和沉积物中15种苯胺类和联苯胺类化合物的分析方案,根据保留时间及离子比率进行快速准确定性,其检出限完全满足HJ1210-2021标准中的检测限量要求,轻松应对日常检测分析要求。PerkinElmer LX50 UHPLC参数色谱柱:Quasar SPP C18,2.1×100mm,2.6μm柱温:35℃流速:0.3mL/min进样量:10μLTime/minA/%B/%水(0.01%甲酸)甲醇(0.01%甲酸)0.09552.09555.070307.05959.05959.295512.0955表1 苯胺类和联苯胺类化合物液相色谱梯度洗脱表质谱参数采用PerkinElmer QSight 210三重四极杆液质联用系统进行分析,离子源参数见表2。离子源ESI+喷雾电压5000V反吹气120雾化气220离子源温度300℃表2 质谱离子源参数采用一针进样同时测定13种苯胺类和2种联苯胺类化合物,图1和图2中分别展示了15种化合物的MRM叠加谱图和提取离子色谱图。可见各个化合物的峰型对称,所有异构体均取得良好的分离,并保证每个色谱峰上有足够的采集点数,以便获得准确的结果及优异的重复性。图1 15种苯胺类和联苯胺类化合物提取离子叠加谱图 图2 15种苯胺类和联苯胺类化合物提取离子色谱图结论本方案采用QSight LX50 UHPLC-QSight 210三重四极杆液质联用系统建立了快速,高灵敏度和可靠的LC-MS/MS实验方法测定土壤和沉积物中15种苯胺类和联苯胺类化合物的含量。方法具有分析速度快、灵敏度高等特点,且检出限低于HJ 1210-2021标准中限量的要求,重复性和线性均较好,为后期高通量样品测定提供可靠保障。更多信息,欢迎扫描二维码点击获取参考文献[1]. HJ 1210-2021 《土壤和沉积物 13种苯胺类和2种联苯胺类化合物的测定 液相色谱-三重四极杆质谱法》,中华人民共和国国家生态环境标准,生态环境部[2]. GB36600-2018《土壤环境质量 建设用地土壤污染风险管控标准(试行)》,中华人民共和国国家标准,生态环境部、国家市场监测管理总局
  • 可视化技术为薄膜沉积研究降本增效
    当前,我国半导体设备依旧高度依赖于海外企业,并且在核心技术和零部件上受到一定的限制。作为半导体产业重要的一环,薄膜沉积设备可以说牵一发而动全身。而中国作为半导体设备的重要市场,随着各地半导体项目的林立,晶圆代工厂的产能扩建热潮以及自主可控进程的推进,薄膜沉积设备厂商也迎来了快速成长和突破的新黄金期。对此,仪器信息网特邀请天津中环电炉股份有限公司介绍了其薄膜沉积设备。不断加大研发投入,为用户提供试用平台据了解,薄膜沉积领域在过去一直处于国外品牌独占市场。在此背景下,天津中环集中力量,借鉴国际先进经验,结合国内特色,开发了独具特色的薄膜沉积设备。其主要薄膜沉积产品包括CVD12IIIH-3-G、双相气流二硫化钼沉积设备、等离子薄膜沉积设备PECVD12IIH-3-G、三源流化床薄膜沉积设备等,凭借优异的性能,多次帮助用户在Science等多种国际级顶级期刊发表高影响力文章及成果,更是几乎进入了目前主流实验领域全部实验和部分高难度实验。天津中环的1200℃预加热双温区PECVD集成系统目前我国总体上看在薄膜沉积设备技术还处于新兴产业,发展时间短,技术积累薄弱,专业人才稀缺。市场处于萌芽阶段,但后续市场规模和技术需要又相当高。对此,天津中环认为,必须加大投入,无论资金、技术、人力等,不加大投入一但被国外产品拉开差距,建立技术壁垒,我国该产业很难发展,以至于薄膜沉积领域科研严重受制。正是在这种不断的研发投入下,天津中环现有产品已基本达到与国际龙头企业参数一致、价格更低、操作更容易、维护更简单。国内市场已经占据较多份额,主要客户群体有中科院所、大专院校、研究所、企业研发部门和检验部门。其中73%为实验领域。目前用户主要关注产品的技术参数和实验效果,为了更好的服务用户,天津中环组织人力、物力积极筹建实验室,为客户提供设备试用平台,目前天津中环实验室已经可以完成大多数实验,并得到理想的实验结果。确保客户采购设备后能够达到使用效果。另辟蹊径,绕开壁垒,突破“卡脖子”技术在贸易战以来,全社会都关注“卡脖子”问题,而在薄膜成绩领域当然也存在一定的“卡脖子”现象。在真空领域、气体控制领域特别明显,如高真空无油泵、特种气体流量控制等方面尤为突出。据透露,天津中环在5年前就发现问题,并积极联合各相关企业进行联合开发,通过特殊的设备结构、独特的设计理念另辟蹊径的达到了与国外类似的实验结果。从根本上绕过了一定的技术壁垒。谈到未来发展趋势时,天津中环认为未来的实验室和工业领域对于薄膜沉积技术更倾向于可视化的沉积与制备,可以更加直观的发现问题和解决问题。目前沉积设备都是盲烧。无法直观的展现沉积过程与沉积状态。这大大延缓了实验进度,阻碍了科学工作者的实验思路。基于对未来发展趋势的判断,天津中环于4年前着手研发可视化烧结、沉积设备。目前已经达到8微米级别的可视化分辨率,产品在陶瓷烧结、金属冶炼熔渗、高温接触角分析等领域获得无数好评,想成了稳定销售。下一步,天津中环还将着重研发纳米级分辨精度产品,为薄膜沉积领域打开一条新路。关于天津中环天津中环电炉是一家成立于1993年的股份制企业,现有产品专利40项,于2017年成功上市,具备研发、生产、实验等能力,产品上专精于实验电炉与薄膜沉积类设备及外延产品。在近年来半导体产业热潮下,天津中环主要业绩同比上一年度提高接近30%,三年平均增长18.7%。连续8年实现销售额增长超过10%。天津中环产品主要应用于材料行业、陶瓷行业、金属冶炼、处理。生物材料以及化学化工行业。
  • 我国自主研发新型深水沉积物柱状取样系统通过海试验收
    从中国科学院海洋研究所了解到,该所研究人员自主研发的“中科海开拓”系列3500米级深水可视化可控沉积物柱状取样系统,在南海获取单柱、连续、低扰动沉积物柱状样品15.83米,顺利通过海试验收,并入列“海洋地质九号”地球物理勘探船。  科研人员介绍,传统的海底沉积物取样主要依靠重力活塞取样器,它是完全依靠重力获取沉积物样品,取样前科研人员对能取到多少样品、海底底质等都不清楚,是“盲采样”。  中国科学院海洋研究所正高级工程师栾振东说,这套完全国产化的沉积物柱状取样系统实现了可视化,科研人员能清楚看到要取样的海底底质如何。此外,它具有声学通讯控制等功能,可调整插入的姿态和方位,以偏东40度或者垂直90度插入海底沉积物获取样品,取样长度可在插入沉积物后继续调整。  此外,这套沉积物柱状取样系统降低了对作业海况的等级要求,可搭载多类水下传感器,在不显著增加自身重量前提下,能完成连续且低扰动的柱状沉积物定点采样、沉积物多层温度探测、打桩基和布设小型海底空间站等工作。  中国科学院海洋研究所表示,这套自主研发沉积物柱状取样系统的海试成功和成果转化,将为我国海洋科学研究提供更加有力的数据和样品支撑。
  • 【网络讲堂参会邀请】如何沉积纳米粒子 ——纳米粒子单层膜沉积实用指南
    如何沉积纳米粒子——纳米粒子单层膜沉积实用指南 纳米颗粒的二维致密单层膜沉积是多种技术和科学研究的基础。例如,纳米粒子单层膜可以作为传感器上的功能层,也可以用来生产用于纳米球光刻的胶体掩模。但是,怎样才能高效、可靠地得到具有三维自由度的纳米颗粒溶液,并将这些颗粒限制在横跨大基底的(二维)单层中呢?传统的纳米颗粒沉积技术纳米颗粒沉积技术种类繁多。一些相对简单和快速的方法包括溶剂蒸发、浸渍镀膜和旋涂镀膜。然而,这些技术可能会浪费大量的纳米颗粒,并且无法有效控制纳米颗粒的密度和配位结构。溶剂蒸发溶剂蒸发容易产生所谓的咖啡渍圈环效应,这种效应是由马朗戈尼流动引起的。这将导致不均匀沉积,中心的纳米粒子沉积稀疏,而边缘则形成多层纳米粒子沉积。 浸渍镀膜另一方面,如果只是用纳米粒子覆盖基底,浸渍镀膜将是一种很好的技术。然而,使用这种方法沉积纳米颗粒单分子层是非常具有挑战性的。同时,浸渍镀膜需要大量的纳米颗粒,这在处理昂贵纳米颗粒材料时将成为一个大的限制因素。 旋涂镀膜旋涂镀膜也是一种很有吸引力的方法,因为它易于规模化放大,而且在半导体工业中是一种众所周知的技术。然而,使用这种方法,薄膜的质量和多个工艺参数紧密相关,如:自旋加速度、速度、纳米颗粒的大小、基材的润湿性和所用溶剂。这使得对薄膜属性的精确控制变得非常困难。而且,一般旋涂镀膜需要大量的纳米颗粒溶液。 气液界面的单层镀膜在这里,气液界面沉积纳米颗粒单层提供了一种高度可控的沉积方法,可以将其沉积在几乎任何基底上。纳米颗粒被限制在气液界面,界面面积逐渐减小,使得纳米颗粒更加紧密地聚集在一起,从而可以实现控制沉积密度的目的,因为单位区域面积沉积的纳米颗粒的数量很容易计算,这样对纳米颗粒的需求量就会大大降低。 单层薄膜形成后,可以通过简单的上下提拉基底即可将界面上的薄膜转移到基底上。 在线网络研讨会报名如果您对如何制备纳米颗粒单分子膜感兴趣,想获取更多这方面的知识,请报名参加由伦敦大学学院的Alaric Taylor博士举办的题为“纳米颗粒单分子层薄膜沉积实用指南”的网络研讨会。报告人Alaric Taylor简介:Alaric Taylor博士是伦敦大学学院工程和物理科学研究委员会(EPSRC)研究员,他在纳米光子材料的制造,尤其是通过在气-液界面开发胶体单层自组装方面有很高的造诣。 报告内容:? 详细讲解纳米颗粒沉积的具体操作? 指出需要注意的事情? 讲述纳米颗粒沉积的技巧 报告时间:2018年9月13日下午3:00(北京时间)报名联系:如需参会,请填好下列表格中的信息发送至,邮箱:lauren.li@biolinscientific.com;姓名单位邮箱电话特别提醒:因为可能会涉及电脑、系统、耳机等调试问题,建议大家提前5-10分钟进入链接。
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