卷对卷柔性薄膜沉积设备

卷对卷柔性薄膜沉积设备Cassette houses flexible material卷筒用于装载柔性衬底材料Cassette transported from one process chamber to another via a robotic handler制备薄膜时，卷筒可由真空机器手从一个腔室输送至另一个腔室Advantages 此沉积系统的优点- Eliminates cross-contamination 在制备多层膜器件时消除了交互掺杂影响- Flexibility to adjust parameters on any part of the process. 制备薄膜时，能灵活控制各种运转沉积参数- Down time reduced, i.e. each chamber can be serviced independently 因每个腔室可单独维护，减少了停机非运转时间Reel to Reel Cassette Cluster toolsCluster tool w/ 8 port locations具有8个腔室的团簇型沉积系统15cm and 30cm webwidth柔性衬底的宽度可从15cm至30cmComputer controlled可完全由电脑程序控制操作运行PECVD, HWCVD and Sputter capability制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积，及溅射(US patent #6,258,408B1)（本产品获美国专利#6,258,408B1）

卷对卷柔性薄膜沉积设备Cassette houses flexible material卷筒用于装载柔性衬底材料Cassette transported from one process chamber to another via a robotic handler制备薄膜时，卷筒可由真空机器手从一个腔室输送至另一个腔室Advantages 此沉积系统的优点- Eliminates cross-contamination 在制备多层膜器件时消除了交互掺杂影响- Flexibility to adjust parameters on any part of the process. 制备薄膜时，能灵活控制各种运转沉积参数- Down time reduced, i.e. each chamber can be serviced independently 因每个腔室可单独维护，减少了停机非运转时间Reel to Reel Cassette Cluster toolsCluster tool w/ 8 port locations具有8个腔室的团簇型沉积系统15cm and 30cm webwidth柔性衬底的宽度可从15cm至30cmComputer controlled可完全由电脑程序控制操作运行PECVD, HWCVD and Sputter capability制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积，及溅射(US patent #6,258,408B1)（本产品获美国专利#6,258,408B1）

柔性材料与器件测试系统--薄膜卷绕一、产品简介 柔性电子的出现为经典电子学的发展提供了新的方向，触发了新形态电子设备的产生。然而，电子材料与器件由刚向柔转变过程中，传统的刚性测试方法变得无法完全适应，而相匹配的柔性测试体系对推进柔性电子行业的发展变得必不可少。 在柔性电子材料与器件的测试过程中，尤其是在柔性电子材料与器件开发验证的初期阶段，发展一种高自由度的模块化柔性材料与器件测试系统，对于提升开发验证效率和降低测试成本具有重要意义。二、产品特性 大曲率、大面积样品 高稳定性 卷轴可选择(5-100mm) 可扩展性（光学、电学性能测试辅助系统） 三、适用范围 可穿戴电子、柔性电子、可拉伸材料材料与器件的拉伸测试。 四、运行方式 五、产品参数 项目参数样品厚度(mm)0-3样品宽度(mm)0-200缠绕数量（圈）3扭转速度（°）0-1080扭转力(N.m)5.0辊直径(mm)5-100重量(Kg)20 六、产品尺寸

柔性材料与器件测试系统--卷对卷卷绕一、产品简介 柔性电子的出现为经典电子学的发展提供了新的方向，触发了新形态电子设备的产生。然而，电子材料与器件由刚向柔转变过程中，传统的刚性测试方法变得无法完全适应，而相匹配的柔性测试体系对推进柔性电子行业的发展变得必不可少。 在柔性电子材料与器件的测试过程中，尤其是在柔性电子材料与器件开发验证的初期阶段，发展一种高自由度的模块化柔性材料与器件测试系统，对于提升开发验证效率和降低测试成本具有重要意义。 二、产品特性 连续卷绕式测试（包含正反转）大曲率、大面积、连续性样品高稳定性（百万次） 三、适用范围 薄膜、涂层、柔性显示屏、RFID、可穿戴电子、FPC、柔性印刷电路 等柔性材料与器件的卷绕测试。 四、运行方式 五、产品参数项目参数样品厚度 (m m)0-3样品宽度(m m)270缠绕数量 (m m)0-15扭转速度( °/s)0-1080扭转力(N.m)5.0重量(Kg)35 六、产品尺寸

卷对卷式LB膜分析仪 请通过我们的联系我们！卷对卷式LB膜分析仪仪器用于在较长的柔性基底（如保鲜膜式柔性带状基底）上连续沉积单分子薄膜，也可把大尺寸刚性衬底粘接在皮带上进行镀膜，可进行无限多次LB薄膜沉积，可控制柔性基底顺时针或逆时针旋转，沉积X,Y,Z多种类型的LB薄膜结构。同时具备垂直镀膜与水平镀膜功能。衬底可以是卷式铝箔、卷式PET塑料薄膜等。设备包含镀膜槽，卷对卷样品传动装置，卷对卷转动滑障与水平移动滑障，表面压探头与镀膜头，自动进样装置：注射泵与蠕动泵，控制器，电脑。卷对卷式LB膜分析仪仪器是一种多功能的LB莫分析仪，具有柔性镀膜，刚性镀膜，垂直镀膜，水平镀膜功能。卷对卷式LB膜分析仪液体界面单分子薄膜镀膜仪器可进行无限多次薄膜沉积，可控制柔性基底顺时针或逆时针旋转，沉积x、y、z型结构的薄膜。卷对卷式LB膜分析仪技术指标：柔性基底镀膜尺寸范围：长度可达3m，宽度可达16.5cm，柔性基底传送速度范围： 0.4625-117 mm/s，调整步阶0.007725 mm/s。镀膜井尺寸：200x180x200 mm (w-d-h)，侵入液体的zui大基片尺寸不小于170x170x170 mm (w-d-h)，兼容常规片状固体基片。表面压传感器：带2个表面压传感器，分别测量镀膜区域与补样区域的表面压值，表面压传感器灵敏度：0.01 mN/m，测量范围：0-80 mN/m。

柔性材料与器件测试系统--大曲率卷绕一、产品简介 柔性电子的出现为经典电子学的发展提供了新的方向，触发了新形态电子设备的产生。然而，电子材料与器件由刚向柔转变过程中，传统的刚性测试方法变得无法完全适应，而相匹配的柔性测试体系对推进柔性电子行业的发展变得必不可少。 在柔性电子材料与器件的测试过程中，尤其是在柔性电子材料与器件开发验证的初期阶段，发展一种高自由度的模块化柔性材料与器件测试系统，对于提升开发验证效率和降低测试成本具有重要意义。二、产品特性测试零应力无表面摩擦大曲率、大面积样品（样品尺寸和曲率可调）高稳定性 三、适用范围 薄膜、涂层、柔性显示屏、有机发光器件、RFID、可穿戴电子、FPC、柔性印刷电路等柔性材料与器件的弯曲测试。四、运行方式 五、产品参数 项目参数样品厚度(mm)0-3样品宽度(mm)200样品长度(mm)270扭转速度(mm/s)0-60扭转力(N.m)5.0卷曲半径 (mm)2.5-50重复次数（次）10000000重量(Kg)20 六、产品尺寸

防水卷材低温柔性试验仪是检测仪器，根据中华人民共和国国家标准GB/T328.14-2007建筑防水卷材试验方法，第14部分：沥青卷材—低温柔性，对低温柔性试验装置的要求。防水卷材低温柔性试验仪主机全部采用304材质不锈钢制作，动力源采用永磁低速电机驱动，双动平行排列，可同时作正、反面各五个试样。控制器采用智能温度控制仪、数显时间继电器及相关元器件。控制器和主机相连接部分全部采用航空插头方式连接，该连接方式简单、方便、安全，并且有效的节省了仪器的使用空间。防水卷材低温柔性试验仪是电动数显低温柔性试验仪的改款升级版，仪器采用不锈钢制作，独特的工艺保证了温度控制精度在 ±1℃，降温速度是普通冰柜的几倍，最低温度可达-40℃。测试仪也是采用不锈钢制作，特点：操作简单，工作效率高。仪器功能：1．仪器设有Ф20mm、Ф30mm、 Ф50mm试验用双动辊弯曲轴，可测厚度3，4，5mm的沥青防水卷材的低温柔性。2．数字显示试验温度、时间。3．上下行程限位，传动故障有脱扣保护，不会损坏传动机构。4．试验设置可自动控制温度．时间．计时报警。防水卷材低温柔性试验仪技术指标：1. 功率：1000 ( w) 220 (v) AC2. 试验温度：-20℃；-25℃或自行设定。分辨率0．1℃，精度0．2％。3． 试验样品：厚度3；4；5mm 数量10个（150×25mm）4． 试验速率：360±＜40mm/分钟5． 时间设定：60分钟（1分—99小时可调）6． 90*80*78cm 7． 重量约150kg防水卷材低温柔度仪使用环境要求：1、使用环境温度：15--35℃2、使用环境湿度：小于80%RH

应用：卷对卷ALD薄膜流程－很高的防潮性为了柔性OLED显示，柔性OLED照明， quantum dots, 柔性太阳能电池等等. : Al2O3, TiO2在研究和试制品使用宽度: 600mm特点：最先进的流程KIT为了缩短气周期聚合物薄膜的高阻隔性能可以使用多种物质在ALD系统很容易的控制流程

中图仪器CP系列柔性电子器件薄膜测量台阶仪是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器，可以对微米和纳米结构进行膜厚和薄膜高度、表面形貌、表面波纹和表面粗糙度等的测量。CP系列柔性电子器件薄膜测量台阶仪对测量工件的表面反光特性、材料种类、材料硬度都没有特别要求，样品适应面广，数据复现性高、测量稳定、便捷、高效，是微观表面测量中使用非常广泛的微纳样品测量手段。 产品功能1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm或1050μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料。2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等数十项参数。3）应力测量：可测量多种材料的表面应力。2.测量模式与分析功能1）单区域测量模式：完成Focus后根据影像导航图设置扫描起点和扫描长度，即可开始测量。2）多区域测量模式：完成Focus后，根据影像导航图完成单区域扫描路径设置，可根据横向和纵向距离来阵列形成若干到数十数百项扫描路径所构成的多区域测量模式，一键即可完成所有扫描路径的自动测量。3）3D测量模式：完成Focus后根据影像导航图完成单区域扫描路径设置，并可根据所需扫描的区域宽度或扫描线条的间距与数量完成整个扫描面区域的设置，一键即可自动完成整个扫描面区域的扫描和3D图像重建。4）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.双导航光学影像功能在CP200-D型号中配备了正视或斜视的500W像素的彩色相机，在正视导航影像系统中可精确设置扫描路径，在斜视导航影像系统中可实时跟进扫描轨迹。4.快速换针功能CP系列柔性电子器件薄膜测量台阶仪采用了磁吸式测针，当需要执行换针操作时，可现场快速更换扫描测针，并根据软件中的标定模块进行快速标定，确保换针后的精度和重复性，减少维护烦恼。典型应用部分技术参数型号CP200测量技术探针式表面轮廓测量技术探针传感器超低惯量，LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)样品R-θ载物台电动，360°连续旋转单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm（6吋）,200mm（8吋）尺寸（L×W×H）mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC，50/60 Hz，200W使用环境相对湿度：湿度 （无凝结）30-40% RH温度：16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动：6.35μm/s（1-100Hz）音频噪音：≤80dB空气层流：≤0.508 m/s（向下流动）恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。如有疑问或需要更多详细信息，请随时联系中图仪器咨询。

量产型 薄膜封装用 原子层沉积系统(R2R ALD)主要应用于有机半导体（（Micro)OLED,QD,OPV,钙钛矿光伏....)在线批量生产的薄膜封装（TFE）.可对平板Panel或柔性(Flexible)基底进行卷对卷（R2R）封装.在OLED Panel厂产线有广泛应用！主要应用：-硅基WVTR(水蒸气透过率)的阻挡层-Micro-OLED封装层-柔性衬底用阻挡层-OLED封装层-柔性OLED显示器、柔性OLED照明、量子点、柔性太阳能电池等高水分阻隔膜的卷对卷（R2R)ALD工艺：特点：1.ALD高k介质,厚度均匀性好，保形步进覆盖。2.先进的工艺套件和小体积的短周期室3.实现了ALD机构(行波法)4.小脚印全集成工艺模块5.过程控制方便，供气线路长度小。应用尺寸：370*470mm,730*920mm,1500*1850mm....

卷对卷涂敷设备/镀膜机/涂膜机/涂层机卷对卷涂敷设备（Roll to Roll coating）是一种先进制造技术，现阶段广泛应用于平板显示（OLED,QLED）,柔性显示，触摸屏工艺，太阳能光伏(OPV,Pervoskite)，二次锂电池工艺，智能化玻璃，柔性印刷电子，纸张涂布，半导体封装等领域，均能实现不同功能材料高均匀，高性能的涂布。研发型实验室用R2R设备可提供：Coating 150mm 和 300宽度可选 方便于实验室用的 Roll to Roll Coating 小型化设计在工艺中可选配slot die 或 微凹版新刷（micro gravure）slot die小型化可节约材料损失，确认经济化使用hot air干燥, IR Heater, UV 固化, Laminator 等Option可供选择卷对卷涂敷设备（实验型）信息由南京伯奢咏怀电子科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于卷对卷涂敷设备（实验型）报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。注：对于医疗器械类产品，请先查证核实企业经营资质和医疗器械产品注册证情况

卷对卷涂敷设备/镀膜机/涂膜机/涂层机卷对卷涂敷设备（Roll to Roll coating）是一种先进制造技术，现阶段广泛应用于平板显示（OLED,QLED）,柔性显示，触摸屏工艺，太阳能光伏(OPV,Pervoskite)，二次锂电池工艺，智能化玻璃，柔性印刷电子，纸张涂布，半导体封装等领域，均能实现不同功能材料高均匀，高性能的涂布。研发型实验室用R2R设备可提供：Coating 150mm 和 300宽度可选 方便于实验室用的 Roll to Roll Coating 小型化设计在工艺中可选配slot die 或 微凹版新刷（micro gravure）slot die小型化可节约材料损失，确认经济化使用hot air干燥, IR Heater, UV 固化, Laminator 等Option可供选择

主要应用：-适用于半导体用薄膜（Al2O3, HfO2, ZrO2, TiO2, ZnO ……）-CIGS太阳能电池无镉缓冲层沉积-晶硅太阳能电池表面钝化层沉积-硅基WVTR(水蒸气透过率)的阻挡层-Micro-OLED封装层-柔性衬底用阻挡层-OLED封装层-柔性OLED显示器、柔性OLED照明、量子点、钙钛矿LED、柔性太阳能电池等高水分阻隔膜的卷对卷（R2R)ALD工艺：-可用于 LTPO TFT IGZO薄膜沉积特点：1.ALD高k介质,厚度均匀性好，保形步进覆盖。2.先进的工艺套件和小体积的短周期室3.实现了ALD机构(行波法)4.小脚印全集成工艺模块5.过程控制方便，供气线路长度小。

PLD技术在薄膜制备方面的优势和特点:脉冲激光沉积技术是目前火热薄膜制备技术, 利用PLD技术制备薄膜具有很好的可控性和可设计性, 可通过控制材料成分、激光能量密度、气压、气体、基底材料、沉积角度等, 来实现薄膜的各种功能和结构. 另外, PLD 可以在室温下进行沉积 然而, 目前PLD还有一些技术和工程上的难题需要解决, 例如, PLD会出现相爆炸等效应, 引起大颗粒飞溅, 从而增大薄膜的表面粗糙度, 降低薄膜质量 另外, 大面积均匀沉积也是目前PLD实现大规模工业化生产的一大瓶颈 芬兰Pulsedeon的ColdAb技术基于皮秒, 飞秒短脉冲激光薄膜沉积技术, 可从源头遏制引起薄膜不均匀的微粒及飞溅效应, 且配合独特的设计和功能配置, 从而被证实在制备大面积高质量薄膜方面有优势, 且可实现全自动产业化.凭借这些技术特点, Pulsedeon受邀成为欧盟LISA锂硫电池, PulseLion全固态电池项目中PLD薄膜沉积工艺参与者.PLD制备高性能薄膜拥有很多的优势，总结如下:1）PLD制备的薄膜材料类型非常广泛。由于高能量密度的激光可以烧蚀大多数材料，包括难融材料和特殊材料，并且材料之间还可以组合成复合材料，这又提高了可制备材料体系的丰富度，因此脉冲激光制备的薄膜材料不受材料类型的限制，拥有庞大的材料体系。2）PLD制备的薄膜结构和形貌可控。PLD可以通过控制激光能量密度、背景气压、背景气体种类、基底材料种类、基底温度、沉积倾斜角度等参数实现对产物结构和形貌的控制，实现不同晶体结构、不同疏松度形貌、不同颗粒形状尺寸薄膜的制备，这使得薄膜性能具有很好的可调控性。3）利用PLD的保组分性能够很容易地实现薄膜成分控制，易获得期望化学计量比的多组分薄膜，有利于制备多元复杂化合物和合金薄膜。4）薄膜生长所需的基底温度相对较低，且与基底结合力强。由于高能量密度的脉冲激光轰击的原子(离子)具有很高的能量，不需要很高的基底温度就可以在基底表面自由迁移，因此与传统方法相比，PLD的薄膜生长温度更低，甚至可以在室温下沉积高质量的薄膜，在不耐高温的柔性基底上沉积薄膜以制备柔性器件。5）沉积效率高。文献中所报道的PLD沉积效率可达10 μm/min以上。欧盟PulseLion全固态锂电电池应用案例：PulseLion项目获得了欧盟地平线及欧盟研究与创新计划的资助, 并联合全欧固态电池行业中知名的15个研究单位及企业, 致力于解决行业技术瓶颈并将第四代全固态电池技术大规模制造产业化 该项目中PLD作为工艺关键一环, 其应用是薄锂金属阳极、高离子导电率固态电解质及隔膜层和缓冲膜等关键技术解决方案均由Pulsedeon公司供应. 除了PLD薄膜沉积工艺外, 其高品质靶材也由Pulsedeon制备供应.欧盟LISA锂硫电池应用案例：欧盟LISA新型固态锂硫电池项目, 致力于解决固态锂硫电池稳定产业化瓶颈, Pulsedeon作为薄膜沉积技术参与者, 提供了从实验级到产业级的PLD相关技术工艺和材料, 其中包括 “集流体及隔膜上多个工艺多层薄膜沉积” “金属锂阳极制备沉积” “陶瓷薄膜沉积层的制备” “固态电解质的制备及优化工艺” “用于R2R PLD中试涂层生产的SSE” “锂硫电池实验级到产业化大面积薄膜沉积制备工艺”等环节.

FOM sigmaR2R是一种紧凑的卷对卷槽模涂布机，集成了适用于特定涂布程序的工业级组件，具有用户友好的界面。选择烤箱模块和其他预涂层和后涂层附加组件的灵活性和便捷性使FOM sigmaR2R适用于用于研发和工业应用的各种功能材料的槽模涂层。关键特性非接触式涂层，精度在µ m以内干膜厚度从nm到µ m均匀涂层宽度从1毫米到100毫米优异的层均匀性和可重复性专为柔性基板设计通过直观的触摸面板半自动喷涂内置加热板烘干无缝通风柜和手套箱集成即插即用安装技术规格重量:19kg基材辊宽:110毫米衬底支架加热:高达160℃电缆间隙建议为100mm外部注射器可逆泵从1毫升至300毫升直观的HMI触摸屏界面手动槽模头高度定位，数字读数+- 10um涂层涂层宽度:1mm ~ 100mm涂层长度:可达500mm涂装速度:0.1 ~ 2.0 m min-1插槽兼容性:FOM SD 25 - FOM SD 100易于使用FOM nanoRC是一种重量轻，成本效益高，易于使用的精密仪器，用于测试柔性基板上可溶液加工材料的槽模涂层。更换旋转涂层虽然旋转镀膜通常用于薄膜的制造，但由于其衬底尺寸限制，批量加工困难以及材料浪费的高比例，它缺乏与工业标准的兼容性。基于多年来对功能性有机材料的研究，以及与世界一流的研究伙伴和客户的密切合作，FOM nanoRC设计用于模拟基于实验室规模的槽模涂层的大型卷对卷机器的涂层过程，从而实现高通量的实验设计。FOM nanoRC使工业界和学术界的研究人员能够开发或转移他们在薄膜方面的知识，并通过入门级投资将其转化为槽模涂层制造协议。有成本效益的无论您是在进行基础研究还是为您的产品开发新工艺，FOM nanoRC都可以在最小的规模上提供直接和相关的可扩展性证明，从而避免了与更大尺寸中试线相关的高材料消耗和麻烦。

热ALD设备 AL-1无针孔薄膜沉积概要AL-1通过交替向反应室提供有机金属原料和氧化剂，仅利用表面反应沉积薄膜，实现了高膜厚控制和良好的步骤覆盖率。薄膜的厚度可以控制在原子层的数量级。此外，可以在高宽比的孔内壁上沉积覆盖性好、厚度均匀的薄膜。可同时沉积3片ø 4英寸的晶片。主要特点和优点成膜效率高　通过提供几十毫秒量级的脉冲，减少了原材料的损耗，提高了沉积效率。真空清洁，温度不均匀性小　通过紧贴反应室内壁的内壁加热器，抑制反应室的温度不均匀，可获得清洁的真空。无针孔成膜　由于多种前驱体在反应室中没有混合，因此可以防止颗粒，形成无针孔的薄膜。应用用于下一代功率器件的栅极氧化膜和钝化膜。在3D结构上形成均匀的薄膜，如MEMS。激光表面的沉积碳纳米管的钝化膜

卷对卷涂敷设备（Roll to Roll coating）是一种先进制造技术，现阶段广泛应用于平板显示（OLED,QLED）,柔性显示，触摸屏工艺，太阳能光伏(OPV,Pervoskite)，二次锂电池工艺，智能化玻璃，柔性印刷电子，纸张涂布，半导体封装等领域，均能实现不同功能材料高均匀，高性能的涂布。研发型实验室用mini型R2R设备可提供：Coating 140mm 和 290mm宽度两种.速度：0.1 ~ 5 M/min 方便于实验室用的 Roll to Roll Coating 小型化设计可通过储存Recipe进行数据管理，对于重现性好的工艺可进行反复实验控制可实现1um自动高度调整多种精密pump可选laminating等多种option可供选择

卷对卷涂敷设备（Roll to Roll coating）是一种先进制造技术，现阶段广泛应用于平板显示（OLED,QLED）,柔性显示，触摸屏工艺，太阳能光伏(OPV,Pervoskite)，二次锂电池工艺，智能化玻璃，柔性印刷电子，纸张涂布，半导体封装等领域，均能实现不同功能材料高均匀，高性能的涂布。研发型实验室用mini型R2R设备可提供：Coating 140mm 和 290mm宽度两种.速度：0.1 ~ 5 M/min 方便于实验室用的 Roll to Roll Coating 小型化设计可通过储存Recipe进行数据管理，对于重现性好的工艺可进行反复实验控制可实现1um自动高度调整多种精密pump可选laminating等多种option可供选择

产品详情DENTON 磁控溅射及电子束蒸发薄膜沉积平台： DENTON 真空使创新成为可能，并已超过50年。全球成千上万的薄膜沉积工具安装,包括一个大型的、在全球范围内安装的精密光学沉积系统——工程师和研究人员依靠DENTON 的薄膜创新驱动更高的吞吐量,更好的收益和低拥有成本(首席运营官),受益于综合服务和支持,和一个专门的研发项目,提供可行的技术。探索者提供了薄膜工业中最广泛的配置和沉积模式:电子束蒸发、电阻蒸发、溅射、离子镀和离子辅助沉积。DENTON 薄膜沉积平台• R & D• 批量生产• 在线生产• 蒸发• 溅射• PE-CVD DENTON 的区别你们的过程就是我们的过程。我们与您合作设计一个系统，以解决您的确切薄膜涂装工艺的需要。当我们给你运送工具时，它已经准备好生产了。• 我们的系统规模可以满足您的生产需求• 我们永远相信客户• 全球支持网络 在DENTON，我们关心你的成功• 工厂验收测试• 个性化培训• 远程、实时支持• CE / UL / CSA兼容系统 能溅射电、磁、复合材料。柔性阴极，调整到冲击角也可用。 强大的控制系统可在半手动模式或全自动模式与一个推动自动化，以减少系统停机时间。 Processpro升级提供:1.所有登顿真空产品的一致性控制。2.标准软件使其易于支持和避免昂贵的定制费用。3.源代码为您的程序，以便您可以自定义您的程序。4.网络功能使资源管理器网络上支持实时、远程支持和升级的节点。 灵活的室大小可容纳多达10英寸的衬底。 多个泵配置多种扩散、低温和涡轮泵配置可用于满足您的预算和工艺。后方或底部安装的泵提供方便的访问服务，根据您的工作场所的需要。典型的应用PE-CVD• 材料研究• 小批处理系统• 3 d对象• 覆盖各种材料 溅射• 材料研究• 产品质量控制和质量保证• 半导体失效分析• CD掌握• 纳米技术• 化合物半导体• oled 蒸发• 材料研究• 离子辅助沉积(IAD)• 医疗设备• 电信• CD掌握• 发射• 保护涂层选项：

柔性材料与器件测试系统--薄膜扭转一、产品简介 柔性电子的出现为经典电子学的发展提供了新的方向，触发了新形态电子设备的产生。然而，电子材料与器件由刚向柔转变过程中，传统的刚性测试方法变得无法完全适应，而相匹配的柔性测试体系对推进柔性电子行业的发展变得必不可少。 在柔性电子材料与器件的测试过程中，尤其是在柔性电子材料与器件开发验证的初期阶段，发展一种高自由度的模块化柔性材料与器件测试系统，对于提升开发验证效率和降低测试成本具有重要意义。 二、产品特性 高可靠性（百万次）样品自适应性 （过程中受拉力相同，无弯折）可扩展性（光学、电学性能测试辅助系统） 三、适用范围 薄膜、涂层、柔性显示屏、有机发光器件、平面可穿戴产品、柔性印刷电路、扁平电缆等柔性材料与器件的扭转测试。 四、运行方式 五、产品参数项目参数样品厚度(mm)0-1样品大小(mm2)Max(210* 300)弯曲角度（° )0-90°弯曲力(N)5.0弯曲速度( ° /s)0-1080重复次数（次）10000000重量（Kg)16 六、产品尺寸

价格货期电议Europlasma 卷绕式无氟等离子涂层设备 (无卤素涂层) CD 2400上海伯东代理比利时 Europlasma 卷绕式等离子涂层设备(无卤素涂层) CD 2400, 卷尺寸 2400mm x ?1000mm , 接受客户定制, 根据样品应用选择 Nanofics@ 或无卤素涂层技术 PlasmaGuard 实现 IPX5-IPX8 防水等级！Europlasma 无氟纳米涂层设备适用于涂覆如下产品:1. 可穿戴电子设备: 无线耳机, 手环, 手表等2. 薄膜: 锂电池行业, 精密仪器等3. 无纺布和功能性纺织物: 运动户外产品4. PCB 元器件5. 医用器材: 医用导管, 口罩, 其他防护设备等.Europlasma 拥有各种类型的化学原料, 包括氟化学产品( Nanofics 120 含 PFOA, Nanofics 110 不含 PFOA ) 和无卤素化学产品 ( Nanofics 10 以及 PlasmaGuard 无卤素涂层技术), 提供定制设计. 同时姐妹公司 CPI 是基于薄膜基板的大气条件下, 提供高速等离子体卷绕解决方案的公司.上海伯东代理比利时原装进口 Europlasma 超薄等离子涂层设备, 可在非织造, 薄膜, 网状物或纳米纤维网等材料上沉积超薄涂层, 通过专利等离子体涂层技术 Nanofics@ 和无卤素涂层技术 PlasmaGuard, 实现产品防水, 亲水, 疏油, 防腐等功能, Europlasma 满足消费电子产品, 锂电池隔膜, 医疗用品, 户外运动装备等产品 IPX5-IPX8 防水等级！Europlasma 真空条件下, 通过在材料浅表面实现低压等离子表面聚合或者原子层沉积, 从而赋予材料新的功能, 不影响材料本身的性能, 对三维结构以及复杂形状的材料表面都可实现均匀性涂覆.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗先生

有机EL，是（Organic Electro-Luminescence：OEL、有机EL）的简称，意思是有机发光的电子版。定义虽然很笼统，但是包含范围非常广，比如有机发光二极管，发光聚合物等等利用物理发光现象的所有有机物的统称。 其原理跟LED大致相同，只不过使用的是具有二极管功能的有机化合物。详细介绍MHL-50有机薄膜热卷压合机 ，尺寸紧凑节约空间的型号，带卷式加热，适合放在手套箱里! 是有机薄膜器件验证应用的好选择。 该设备以其良好的气泡消除对策，对提高试样研发的精度很有帮助。MHL-50是一款紧凑的热辊复合机，可装入250毫米的方形盒子中，可加热至120℃。可在手套箱等特殊环境设备中，用于有机薄膜器件的研发和样件生产。MHL-50有机薄膜热卷压合机特点温度可在50～120℃之间调节。节约空间，尺寸为250(W)×250(D)×180(H)mm附送20mm～40mm内尺寸的样品架。MHL-50有机薄膜热卷压合机规格胶片尺寸：详细情况待讨论决定工作尺寸：20mm～40mm。卷材尺寸：φ30mm、L50mm温度控制范围：样品台和辊子(50～120℃±3℃)平台速度：0～15mm/秒压紧压力：压紧压力可以通过改变三个不同的弹簧来调整。其他：附带小型真空泵设备尺寸：250(W)×250(D)×180(H)mm。电源：100V/AC

FOM nanoRC是开始功能薄膜和器件的可扩展涂层的理想切入点。FOM nanoRC的设计目的是复制在大型卷对卷机器上实现的复杂涂层工艺，同时只需要一小部分成本和物理占地面积。通过利用多年的材料研究和槽模涂层经验，FOM nanoRC为用户提供了一种简单的方法，可以从任何溶液或浆液基前驱体中进行精确，可重复和可扩展的薄膜生产。关键特性非接触式涂层，精度在µ m以内干膜厚度从nm到µ m均匀涂层宽度从1毫米到100毫米优异的层均匀性和可重复性专为柔性基板设计通过直观的触摸面板半自动喷涂内置加热板烘干无缝通风柜和手套箱集成即插即用安装技术规格重量:19kg基材辊宽:110毫米衬底支架加热:高达160℃电缆间隙建议为100mm外部注射器可逆泵从1毫升至300毫升直观的HMI触摸屏界面手动槽模头高度定位，数字读数+- 10um涂层涂层宽度:1mm ~ 100mm涂层长度:可达500mm涂装速度:0.1 ~ 2.0 m min-1插槽兼容性:FOM SD 25 - FOM SD 100易于使用FOM nanoRC是一种重量轻，成本效益高，易于使用的精密仪器，用于测试柔性基板上可溶液加工材料的槽模涂层。更换旋转涂层虽然旋转镀膜通常用于薄膜的制造，但由于其衬底尺寸限制，批量加工困难以及材料浪费的高比例，它缺乏与工业标准的兼容性。基于多年来对功能性有机材料的研究，以及与世界一流的研究伙伴和客户的密切合作，FOM nanoRC设计用于模拟基于实验室规模的槽模涂层的大型卷对卷机器的涂层过程，从而实现高通量的实验设计。FOM nanoRC使工业界和学术界的研究人员能够开发或转移他们在薄膜方面的知识，并通过入门级投资将其转化为槽模涂层制造协议。有成本效益的无论您是在进行基础研究还是为您的产品开发新工艺，FOM nanoRC都可以在最小的规模上提供直接和相关的可扩展性证明，从而避免了与更大尺寸中试线相关的高材料消耗和麻烦。

一、特点：满足GB/T 38001.61-2019 柔性显示器第6-1部分：机械应力试验方法；模块化设计，兼容五类模式（折、弯、扭、拉、卷），11个基础模拟测试动作；可扩展性（力学、光学、电学性能测试辅助系统）；复杂环境（恒温环境、温度循环环境、恒湿环境、光辐射环境、电磁辐射环境、气压循环环境、盐雾环境、霉菌环境、淋雨环境、砂尘环境）下的柔性测试，让产品更接近产业化要求。二、适用范围：石墨烯、导电高分子、水凝胶、液态金属、智能包装材料、光电材料、透明导电薄膜、光刻胶、反射膜、功能涂层等柔性材料的标准化柔性测试；薄膜太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、有机太阳能电池、FPC电极电路、RFID、传感器、固体电容器、柔性触控屏、柔性穿戴器件、柔性拉弹器件、电子皮肤、OLED等柔性器件的标准化柔性测试。三、亮点：模块化设计、让柔性测试标准化；更接近产业化环境。四、技术参数：【温度范围（℃）】：-40℃--+150℃【温度波动度（℃）】：±0.5℃【温度均匀度（℃）】：≤±2.0℃【湿度范围（%RH）】：20%R.H~98%R. ±2.5%RH【湿度波动度（%RH）】：±2.5%RH【湿度均匀度（%RH）】：A）＞75%RH：≤+2,-3%RH，B）＜75%RH：≤±5%RH【升温时间（℃）】：约3~4℃/min空载时（可按需定制，快速温变类试验箱可做5~25℃/min）【降温时间（℃）】：约0.7~1℃/min空载时（可按需定制，快速温变类试验箱可做5~25℃/min）【温变速率】：1℃/min、3℃/min、5℃/min、10℃/min、15℃/min、20℃/min、25℃/min（选购）【冷却方式】：风冷【电源功率】：AC 220V【整机尺寸（mm）】：1285*1242*1500

一、特点：模块化设计，前处理单元（超声清洗）、涂布单位（狭缝涂布、凹版印刷）、后处理单元（热固化、UV处理、风冷、复合）自由组合，实现不同涂布功能的切换；助力实验室走向产业化，涂布速度可达5m/min，基材宽度可达150mm；匹配大面积薄膜、柔性薄膜、印刷薄膜制备；适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。二、适用范围：针对纳米及亚微米级功能性涂层的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等；涉及行业包括水凝胶、液态金属、智能包装材料、光电材料、光刻胶、功能涂层、微电子及半导体封装等大面积涂布制备，以及氢燃料电池、电解水制氢、锂电池、异质结太阳能电池、薄膜太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、有机太阳能电池、OLED、QLED、柔性穿戴器件、电子皮肤等器件的制备。三、亮点：模块化设计；适用小批量试制和中试放大过程。四、技术参数：【电 源】：电压AC220V，频率50Hz，功率≤12KW【气 源】：0.6-0.8MPa压缩空气【导辊幅宽】：≤200mm【基材幅宽】：≤150mm【机械速度】：Min.0.6m/min【涂布类型】：连续涂布【涂布宽度】：100mm【涂布厚度】：标配模头1套【模腔容积】：≤3ml【背辊直径】：≤Φ130mm【方 式】：电加热、热风直排【长 度】：0.4m【温 度】：室温-150℃ ±5℃【功 率】：1.5KW【张力控制】：伺服电机+PLC联控【收放卷径】：Max.200mm

一、特点：模块化设计，前处理单元（电晕、等离子处理）、涂布单位（狭缝涂布、刮刀涂布、凹版涂布）、后处理单元（热固化、UV处理、风冷、复合）自由组合，实现不同涂布功能的切换；助力实验室走向产业化，涂布速度可达5m/min，宽度可达300mm；匹配大面积薄膜、柔性薄膜、印刷薄膜制备；适用于研发到小批量试制、中试放大过程中的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。二、适用范围：针对纳米及亚微米级功能性涂层的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等；涉及行业包括水凝胶、液态金属、智能包装材料、光电材料、光刻胶、功能涂层、微电子及半导体封装等大面积涂布制备，以及氢燃料电池、电解水制氢、锂电池、异质结太阳能电池、薄膜太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、有机太阳能电池、OLED、QLED、柔性穿戴器件、电子皮肤等器件的制备。三、亮点：模块化设计；适用小批量试制和中试放大过程。四、技术参数：【电 源】：电压AC220V，频率50Hz，功率≤12KW【气 源】：0.6-0.8MPa压缩空气【导辊幅宽】：≤250mm【基材幅宽】：≤180mm【机械速度】：Min.0.6m/min【涂布类型】：连续涂布【涂布宽度】：150mm【涂布厚度】：标配模头1套【模腔容积】：≤3ml【背辊直径】：≤Φ130mm【方 式】：电加热、热风直排【长 度】：0.76m【温 度】：室温-150℃ ±5℃【功 率】：2KW【张力控制】：伺服电机+PLC联控【收放卷径】：Max.200mm

KSV NIMA Langmuir和Langmuir-Blodgett膜分析仪用于制备和表征具有可控堆积密度的薄膜。当我们需要以半连续的沉积程序来制备超大面积的薄膜时，可以使用这种特殊的KSV NIMA roll to roll 柔性 LB膜制备系统。纳米材料薄膜涂层制备使用纳米颗粒材料制备的涂层和薄膜在各种产品和应用中越来越受到人们的重视和使用，如显示器、传感器、医疗器械、储能材料和能量采集材料等。成功制备出能同时满足堆积密度、分子取向、膜厚度等多参数要求的均一涂层成为了众所周知的科研挑战。而解决这种纳米颗粒薄膜涂层制备的一类精密技术就是KSV NIMA 的Langmuir-Blodgett (LB) 技术和 Langmuir-Schaefer (LS) 技术。技术优势KSV NIMA Langmuir膜分析仪可以在液-气界面制备单分子层，而KSV NIMA Langmuir Blodgett膜分析仪可以在液-气界面处形成单分子层，然后将该层作为涂层转移到固体基质上。Langmuir和Langmuir-Blodgett技术具有独特的优势，它们在全球被广泛应用于研究一些最基本的科学问题。 这些优点包括：精确控制分子堆积密度精确控制涂层厚度在大面积上均匀沉积可制备具有不同层结构的多层结构可使用不同种类的颗粒和基材，具有高度的灵活性在沉积之前可以预先监控涂层质量KSV NIMA 柔性LB膜制备系统KSV NIMA Langmiur和Langmuir-Blodgett膜分析仪是制备和研究单分子层的首要工具。基于30年来研究Langmuir膜累积得到的专业知识和经验，KSV NIMA 膜分析仪系统已成为一款多用途、功能强大的仪器，可以帮助您获得高质量数据。该系统设计非常灵活和坚固，可以确保超高质量的结果。当我们需要以半连续的沉积程序来制备超大面积的薄膜时，可以使用一种特殊的KSV NIMA 柔性 LB膜制备系统。操作原理如上图所示，在柔性膜制备过程中，柔性基材被连续地输送入槽体，在槽体中穿过单层纳米颗粒或其他材料。通过对沉积参数进行精确控制，能够快速地沉积大面积的均匀薄膜。柔性基材的运动由计算机控制的电动辊推动。在此过程中，超灵敏度的微量天平实时监测纳米颗粒的堆积密度。特点与优势质量单个固体PTFE槽（包括浸渍井）可以轻松清洁，没有任何胶水或涂层污染。可调支架、槽顶定位销、限位开关和溢流通道确保系统的安全可靠使用。支架可以很容易地移除来与显微镜集成。集成所有高精度部件的外壳一体化设计，坚固耐用。KSV NIMA广泛的知识和应用支持团队让您可以充分利用您的仪器-与当地合作伙伴和全球工程师合作。可用性采用超灵敏的压力传感器，使用标准Wilhelmy白金板方法进行表面压力感应。可选用一次性纸板来避免清洁或在有限空间内使用高质量铂金棒。功能强大的KSV NIMA LB软件将所有控制和数据分析集成到同一软件中，包括不同的表征工具。所有的槽都带有集成的温度控制通道，可以方便地与独立恒温水浴一起使用。多功能性专门的表征工具可以保证在涂层之前和涂层工艺之后的漂浮薄层质量。采用简单的槽体和滑障放置的开放式模块化设计，便于与特征化系统集成，可升级并易于清洁零件。同时允许在液-液界面处进行研究，并且可以使用交替系统在单个实验中对两种不同材料自动进行交替镀膜。提供各种配件如pH探头、不同尺寸的Wilhelmy板、注射口等应用概述KSV NIMA Langmuir和Langmuir-Blodgett膜分析仪可用于制备高度复杂的有序薄膜。 这些应用包括： 用纳米颗粒制备功能性涂层（改变例如润湿性、反射性、生物相容性、导电性、结合性质等） 在空气-缓冲液界面处形成模型细胞膜，研究毒素或药物对细胞膜的影响 形成用于研究聚合物交联、稳定性、降解等的聚合物薄膜 用多组分结构构建复杂的传感器表面 研究两亲分子的相互作用、吸附、解吸、界面稳定性和结构 界面流变学研究，以确定薄膜的稳定性、相变或反应通常用于薄膜制作的材料包括： 纳米颗粒（聚合物，陶瓷，金属）和石墨烯 脂质体和磷脂 聚合物和低聚物 蛋白质，多肽和其他生物聚合物 量子点 表面活性剂、乳液、胶体 其他两亲性分子软件KSV NIMA LB软件是制备涂层和研究Langmuir薄膜的强大工具。 基于30年的经验，KSV NIMA LB软件包含有效和简便的测量和数据处理所需的所有工具。多功能测试模式使得测量涵盖从浸渍到压缩等温线、吸附研究和界面流变学。 该软件将整个测量设置与结果一起保存，便于分析。 所有数据都可以根据需要轻松查看、绘图、报告和导出。测试功能包括： 用于沉积材料层的镀膜模式，包括镀膜效果参数转移比，在整个浸渍过程中保持堆积密度恒定 压缩/弛豫等温线，用于分子相互作用和相变 等温等压线，通过自动保持压力稳定并跟随温度/面积变化 单分子层动力学，用于酶、聚合或任何其他零级反应 酶、蛋白质、肽和类似分子的吸附和渗透 采用滑障振荡法测试界面流变学，用于Langmuir膜的粘弹性研究、乳液或泡沫稳定性等 集成的KSV NIMA表征工具功能，便于集成如与KSV NIMA 小型布鲁斯特角显微镜 MicroBAM联用时基于表面压力的自动图像记录应用实例纳米颗粒、石墨烯和氧化石墨烯涂层LB和LS技术提供了制备高度有序堆积的纳米颗粒薄膜的平台。 这些涂层具有特殊功能，可用于新的应用。在KSV NIMA中型槽上使用Langmuir-Blodgett技术沉积在石英基底上的单分子层200nm直径聚苯乙烯纳米球。 （a）单分子层的AFM图像，（b）同一图像的傅立叶变换，表明采用该技术可实现优异的结晶度。Copyright Dr. Alaric Taylor浸渍镀膜、LB和LS技术已被证明是控制石墨烯和氧化石墨烯薄膜的优良方法。 这些方法大大提高了由液体剥离方法生产得到的SG和SGO的沉积分散可控性。由于液体剥离法被认为是具有极大潜力的工业大规模生产石墨烯的方法，因此这些沉积方法在石墨烯研究中具有重要意义。利用PM-IRRAS，可以记录漂浮和沉积层的详细IR光谱以确定化学组成。 可制备一张石墨烯片，以验证LS是制备和研究单层石墨烯和氧化石墨烯薄膜的好方法。Gilje, S. et al., ‘Nano Letters’ (2007), 7, 3394-339亲脂性蛋白常常存在于细胞膜中，漂浮单分子层模型可用于研究它们在接近原始环境时的相互作用，研究参数包括不同环境或含量的膜的堆积密度。配件KSV NIMA提供了广泛的配件选择，可以集成到系统中提供进一步的检测表征功能。包括: MicroBAM 布鲁斯特角显微镜用于确保预沉积膜的表面结构完整性 用于自动导入样品颗粒或分子的自动进样泵 亚相蒸发补偿工具，防止长时间测量中的亚相蒸发 用于研究分子取向排布的表面电位仪(SPOT) Langmuir-Schaeffer水平沉积样品架 用于沉积环境的温度监控设备 用于监测沉积液体的pH测量探针 用于将样品直接导入亚相的注射端口 用于研究分子取向排布的表面电位仪(SPOT) Langmuir-Schaeffer水平沉积样品架 用于沉积环境的温度监控设备 用于监测沉积液体的pH测量探针 用于将样品直接导入亚相的注射端口技术参数KSV NIMA 柔性 LB膜制备系统表面积2330 cm2槽体内部尺寸685 mm x 340 mm x 4 mm 滑障速度(mm/min)0.1...270滑障类型1 个, POM材质膜天平测量范围(mN/m)0...300膜天平分辨率 (mN/m)0.03膜天平数量1 -2个亚相容积(mL)5430浸渍井尺寸300 mm x 300 mm x 50 mm柔性基板宽度1… 200 mm柔性基板转速1… 100 mm/min辊轴运动位置分辨率20 um薄膜提拉角度可调节, 30°- 90 °镀膜方式手动或半自动镀膜方式手动或半自动兼容性LB膜浸渍镀膜头、小型布鲁斯特角显微镜、表面电位仪、自动进样泵、亚相蒸发补偿工具、LS水平镀膜装置等

DCN是狭缝涂布Slot Die Coater, 微凹印Micro Gravure 及 旋转丝印Rotary Screen设备的制造商之一，尤其是R2R工艺畅销； 现已推出R&D研发系列，实验室R2R小型试验线，Roll to Roll中试线，和全集成量产线。 DCN的设备畅销日韩及欧美印刷电子市场，并得到行业著名客户长期的全球范围合作，如3M以及附属工厂，Samsung三星电子，三星化学及其合作的供应商，LG显示及LG化学及其相关的供应商和代工厂。涂布工艺介绍：Slot Die:狭缝涂布仪是一种制造技术，现阶段广泛应用于平板显示（LCD,OLED,QLED）,柔性显示，触摸屏工艺，太阳能光伏，电池工艺，智能化玻璃，柔性印刷电子，纸张涂布，半导体封装等领域，均能实现不同功能材料高效，高均匀，高性能的涂布。 Micro Gravure 微凹印： R&D实验室研发系列：Lab Slot Die Coater：实验室级高精度 速度：1 ~ 50 mm/s 涂膜面积： 150 x 150mm和250 x 250mm 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围实验室级高精度 速度：1 ~ 50 mm/s 涂膜面积： 150 x 150mm和250 x 250mm 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围 Table Slot Die Coater：全自动多功能集成系统； 速度：0.01 ~ 200 mm/s； 涂膜面积： 180 x 250mm 和 370 x 470mm； 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围自动多功能集成系统； 速度：0.01 ~ 200 mm/s； 涂膜面积： 180 x 250mm 和 370 x 470mm； 优异的涂膜均匀性以及广泛的材料适用范围Lab R2R Coater：实验室小型中试线；Slot Die或Micro Gravure功能集成； 涂膜宽度150到300mm可选；可选集成Hot Air Dryer, IR Heater, UV Cure, Laminator功能实验室小型中试线；Slot Die或Micro Gravure功能集成； 涂膜宽度150到300mm可选；可选集成Hot Air Dryer, IR Heater, UV Cure, Laminator功能Lab R2R Coater：多用途辊式涂布仪；模块包括Gravure Offset,Plater Offset,Gravure,Blade Coating 可调速度及压力进行膜厚改变；优越性能保证了可重复测试 Production & Industry 中试线及量产系列：Multi Layer R2R Coating System 多层卷对卷涂布量产线 连续的多层模块生产包括Slot Die狭缝涂布及Rotary Screen旋转丝印； 专利技术保证了优异的均匀一致性；图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；全自动化高集成度；One Layer R2R Coating System 单层卷对卷涂布量产线 可选涂布模块包括Slot Die狭缝涂布及Micro Gravure微凹印； 专利技术保证了优异的均匀一致性；图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；全自动化高集成度；Double Sided R2R Coating System 双面卷对卷涂布量产线 轻松转换和结合Slot Die狭缝涂布及Micro Gravure微凹印； 高速涂膜工艺且保证优异的均匀一致膜厚； 优良的柔性衬底张力控制；Rotary Screen R2R Printing System 卷对卷旋转丝印涂布系统 连续丝印工艺保证一致均匀图形；图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；全自动化高集成度；Multi Lamination R2R System 多功能层压卷对卷系统 实时双面Lamination and De-Lamination工艺；图像传感器和执行器保证了高准确的校准系统；集成3个层压辊轮以及3个De-Lamination辊轮；Dip Coating R2R System 卷对卷预浸料成套量产线 设计工艺保证了优异的均匀一致膜厚。如今预浸料复合产品的应用正在迅速地增长，这种快速增长的需求促使DCN公司发展了新的涂布技术和高度创新的预浸料生产技术。预浸料作为复合材料的中间材料具有很多优异的性能， 预浸料制品具有高刚度、高拉伸强度、低密度、耐腐蚀、耐振动、抗疲劳性能好等特点，DCN预浸料生产设备具有操作使用方便、维护成本低、集成度高、性能优越等特点。

量产型 OPV/钙钛矿 多层膜 卷对卷涂敷系统适用于柔性光伏电池连续生产，可根据客户需要进行定制化制作.• Good for continuous multi-layer module production by Slot Die Coating and Rotary Screen Printing Excellent uniform line width of Slot Die Stripe Pattern by own technology• High accurate alignment with applying image sensor and actuator采用 180 ℃热风干燥模组及UV固化模组.OPV/钙钛矿 卷对卷涂敷系统（量产型）信息由南京伯奢咏怀电子科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于OPV/钙钛矿 卷对卷涂敷系统（量产型）报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。注：对于医疗器械类产品，请先查证核实企业经营资质和医疗器械产品注册证情况

防水卷材低温柔度仪是检测仪器，用于防水卷材低温柔度检测，使用前务必仔细阅读说明书。并由专业实验人员操作，以避免操作不当引起的伤害。如需了解更多资料请与我公司客服人员联系。防水卷材低温柔度仪由上海荣计达仪器科技有限公司提供，符合国标GB/T328.14-2007《建筑防水卷材试验方法中第14部分.沥青防水卷材低温柔性》，设备质保期一年，一年内产品如有质量问题，供方负责免费维修。如果因操作不当或者人为损坏，我公司亦应提供维修、更换服务，由此产生的费用我公司会酌情收取。ZSY-1防水卷材低温柔度仪技术参数:　电源： 220V输入功率： 90W测试速率： 360±40m/min测试温度： －40℃～100 ℃（任意可调）试件数量： 5件试件尺寸： 150×25mm 　时间设置： 0－9999分 （可调） 　弯曲轴尺寸： φ20 φ30 φ50ZSY-1防水卷材低温柔度仪准备：1、将低温制冷仪内清理干净，放入低温柔度试验仪的不锈钢容器，倒入冷冻液6升，把两个低温柔度试验仪棒组件的柔度棒用手把销销住放入冷冻液中。2、将地温制冷仪前面左下面开关搬向（关）位置，接通电源调节温度控制器设定至-18°C。3、把低温制冷仪内的传感器放入地温柔度试验仪的不锈钢容器内的冷冻液中，降温至-18°C。4、准备线手套一副，注意低温质量仪降至-18°C时，所有操作都要戴上手套，不准用手直接接触低温制冷仪内的金属和冷冻液，放置冻伤皮肤，在压下柔度棒时戴上眼镜，反之冷冻液溅入眼内冻伤眼睛。ZSY-1防水卷材低温柔度仪操作：1、当低温制冷仪前面左下面温度控制器显示-18°C时，即冷冻液的温度为-18°C即可进行试验。2、戴上手套打开低温制冷仪上盖，用夹子夹住样品从柔度棒下一侧将样品放入柔度棒和柔度弯曲板之间槽内-18°C冷冻液中，共放入6个样品，盖上低温制冷仪上盖。3、将低温制冷仪前面左下边的显示计时器调到30m（30分钟），把计时开关搬向（计时）的位置，低温制冷仪进入自动控制程序，先把冷冻液降温至-18°C，到-18°C计时，30分钟到后自动报警。4、听到自动报警后操作员先将计时开关搬向（关），报警器不再响，戴上线手套，戴上眼镜，打开低温制冷仪上盖。5、将低温柔度试验仪柔度棒把手销撤出，啊柔度棒提杆销孔。6、用夹子将试样从低温柔度仪取出，盖上低温制冷仪上盖，准备下次试验用。ZSY-1防水卷材低温柔度仪维护：1、低温制冷仪的低温柔度仪可长期保持运行，低温柔度仪可长期放在低温制冷仪内，可随时进行试验。2、当不锈钢容器内的冷冻液不足时，应及时添加冷冻液。3、长期不用或改变用途时，将低温柔度试验仪由低温制冷仪取出来，将低温柔度试验仪柔度棒组件用水冲洗干净冷冻液烘干保存，不锈钢容器内的冷冻液妥善安置。使用环境要求：1、使用环境温度：15--35℃2、使用环境湿度：小于80%RH