测量激光扫描共焦显微镜

高精度激光扫描显微镜高精度激光扫描显微镜-NESSIE是美国密歇根大学衍生公司MONSTR Sense Technologies潜心研制。开创性的设计使其外形小巧，组件灵活，可适配不同高度的样品台甚至是低温光学恒温器，实现低温显微成像。显微镜可处理波长范围广，快速光栅式扫描可以在几秒时间内获得一个高光谱图像。特殊激光光路设计消除了激光扫描过程中的光束漂移，使其非常适合与该公司研发的全共线多功能超快光谱仪集成，实现强大的材料表征功能，不仅可以实现高速、高精度激光扫描谱图，还可以对感兴趣的样品位点进行多维光谱数据采集。高精度激光扫描显微镜-设备特点创新光路设计，适合集成高精度激光扫描显微镜-NESSIE的输入信号为单个激光光束，输出信号为样品探测点收集的单个反向传播光束，这样的光路设计确保了反传播信号在扫描图像时不会相对于输入光束漂移，因而非常适用于激光的实验中的成像显微镜系统。室温GaAs量子阱成像。（a）白光成像；（b）激光扫描线性反射率测量，80 MHz激光（5 mW激光输出）调谐到GaAs带隙；（c）四波混频激光扫描成像揭示了影响GaAs层的次表面缺陷。灵活可调与稳定性兼具高精度激光扫描显微镜-NESSIE可适配不同高度的样品台和低温光学恒温器。其结构的特殊设计可实现显微镜组件整体提高，以清除高度从4″到8″的物体。物镜中心与显微镜支架和外壳之间的间隙为5.5″，可实现不同尺寸形状的低温光学恒温器的容纳。普通显微镜下安装低温恒温器需要转接板，往往会带来样品台的不稳定性，影响采集数据的品质。高精度激光扫描显微镜-NESSIE采用了独立的支撑和提升单元，保证了高度灵活可调的同时，也保持了严格对齐和高稳定性，可以有效避免低温恒温器和其他设备产生振动的干扰，对于在振动的环境中生成高分辨率图像至关重要。激光扫描无光束漂移普通激光扫描显微镜一般使用两个相邻X、Y扫描镜来实现激光扫描。由于两个镜面均不在光学系统的像面上，光束在扫描图像时发生漂移。高精度激光扫描显微镜-NESSIE的特殊设计将X、Y扫描镜均置于像平面，使用抛物面镜作为扫描镜之间的中继系统，可以消除物镜后焦平面上的光束漂移。消除渐晕渐晕是视场图像边缘附近亮度降低的效应，在显微镜中，渐晕会扭曲数据和缩小视场。激光扫描中扫描镜近邻安装，是引入渐晕效应的主要原因。高精度激光扫描显微镜-NESSIE的特殊光路设计可以消除了渐晕效应对整个显微镜物镜的视野的影响。（a）渐晕效应；（b）无渐晕的视场成像可处理波长范围广宽频光路设计，标配可允许激光波长在450-1100 nm 范围，其他频率的激光可选。 软件可拓展性强系统软件灵活易用，可拓展性强。基于LabVIEW的软件包，可将用户自定义指标与自带的成像控制算法结合在一起，实现实时图像生成。另外系统也配有基于API软件包，实现系统自带代码与用户实验代码的整合。全共线多功能超快光谱显微成像系统高分辨激光扫描显微镜与全共线多功能超快光谱仪集成，形成功能强大的全共线多功能超快光谱成像系统。可搭配低温光学恒温器，实现低温多功能超快光谱成像。光栅式扫描几秒时间便可以获得一个超快成像动画，帮助用户迅速定位到感兴趣的区域进行高分辨的扫描成像。对于部分感兴趣样品位点，利用全共线多功能超快光谱仪，可以获得每个样品位点的全面的电子和振动能级信息。全共线多功能超快光谱显微成像系统充分发挥了光谱仪和显微镜的优势，通过弛豫时间成像和多功能光谱成像，允许用户分析样品空间不均匀性与电子结构的关联关系。MoSe2/WSe2异质结构低功率低温（6K）FWM积分成像光谱（a，b）和弛豫时间成像（c） 全共线多功能超快光谱显微成像系统强大的材料表征能力，也可以应用于工业制作环境中的非接触式材料检测，帮助制造商识别原材料品质，避免缺陷材料应用于设备。常温下，CVD生长WSe2薄片移相时间分布和FWM强度变化应用领域（全共线多功能超快光谱显微成像系统）高精度激光扫描显微镜提供整个显微镜物镜视野的成像控制，包括：像素分辨率，扫描速率和聚焦区域。而全共线多功能超快光谱仪兼具共振和非共振超快光谱探测，并兼容瞬态吸收光谱、相干拉曼光谱、多维相干光谱探测。这两款设备集成具有强大的多功能超快光谱显微成像能力，可实现双光子显微成像、瞬态吸收成像、受激拉曼显微成像、荧光寿命显微成像、多维相干光谱显微成像。其中多维相干光谱显微成像，基于非线性四波混频FWM技术，可实现超高分辨的5维数据采集，其成像系统具有以下优势：1. FWM显微成像超高空间分辨本领，可以进行细微结构成像受到abbe衍射极限限制，激光扫描成像空间分辨率在940 nm，但基于全共线MDCS的非线性四波混频FWM成像光谱，可将空间分辨率提高到540nm。2. FWM显微成像，明、暗激子空间分布可辨激子是由受激电子和空穴由于库仑引起的形成的束缚态，而暗激子，是电子与空穴的动量不同，从而阻止了它们对光的吸收。相比于荧光光谱等探测技术仅对亮激子态敏感，非线性四波混频，可实现暗激子的直接观测与研究。3. 不同延时FWM显微成像，揭示耦合动力学过程在空间的不同分布探究空间不同位置四波混频FWM信号随泵浦延迟时间T的变化，可以获得相干、非相干耦合动力学过程在空间的不同分布。4. FWM decay time mapDecay time map仅改变泵浦延迟时间T，对于T＞50ps的情况，可以获得不同空间位置层间激子寿命信息。测试数据MoSe2/WSe2异质结构中，PL积分光谱探究空间差异的应力分布 MoSe2/WSe2异质结构中，不同延时FWM显微成像谱图，揭示空间差异的动力学演变过程CVD获得的WSe2薄片，不同的FWM decay time map揭示激子的快、慢弛豫过程的空间差异FWM hyperspectral map和FWM decay time map数据处理（Data from Prof. Steve Cundiff lab at University of Michigan）发表文章1. T. L. Purz et al., Imaging dynamic exciton interactions and coupling in transition metal dichalcogenides. J Chem Phys 156, 214704 (2022).2. T. L. Purz, B. T. Hipsley, E. W. Martin, R. Ulbricht, S. T. Cundiff, Rapid multiplex ultrafast nonlinear microscopy for material characterization. Optics Express 30, 45008 (2022).相关产品1、全共线多功能超快光谱仪

扫描透镜，用于激光扫描显微镜波长范围400-700 nm优化设计用于OCT成像系统入瞳：4 mm扫描角度范围：±10.6° (最大，单轴)M25 x 0.75外螺纹这种透镜最适用于OCT成像，但是也可用于各种激光扫描显微镜应用。LSM03-VIS扫描透镜镀有增透膜，设计用于可见光波长范围(400到700 nm)的成像。右表列出了透镜的主要规格；完整规格请查看规格标签。M25×0.75外螺纹可通过SM1A12转接件连接Thorlabs标准的SM1(1.035"-40)螺纹。通过RMSA2转接件能将扫描透镜与RMS螺纹(0.800"-36)组件一起使用。对于利用该扫描透镜作为主要目标元件的OCT成像系统，我们提供LSM03DC-VIS色散补偿器。

共聚焦显微镜系统能够提供高信噪比图像，表征样品从宏观到微观的多尺度细节，灵活应对丰富的样品种类和实验场景，是科学研究中不可或缺的高端荧光成像设备。除了高精度微观定位，近年来研究人员也对精准定量和可靠重复性提出更高的要求。Evident利用专利*技术，结合全新光子探测器件、光学模组、人工智能算法，重磅推出FLUOVIEW FV4000激光扫描共聚焦显微镜以及FV4000MPE多光子系统，为高效率单双光子检测、精准的数据定量带来新的突破。 FV4000系统拥有以下突出优势全新检测器带来卓越的成像质量和准确性FV4000开创性使用专利*技术SilVIR检测器（Silicon detector Visible to IR），该检测器不仅将高信噪比、线性的大动态范围、宽光谱的高灵敏度等特点融于一体，其半导体技术工艺还能保证更均一和稳定的光子探测能力。SilVIR检测器具备的高效率和高精度的优势，将彻底代替传统GaAsP-PMT检测器，引领共聚焦和多光子成像全面进入弱光探测与光子数定量新模式。SilVIR检测器比GaAsP检测器具有更低的噪声，更高的信噪比更大的动态范围，可定量的线性记录强弱信号差异SilVIR检测器在400-900nm宽光谱范围提供优于GaAsP-PMT的光子探测效率；特有的近红外优化检测器器，提供业内更高的近红外检测能力配合检测器的更新换代，FV4000系统标配激光功率监控系统，针对成像时的实时激光功率进行监控和反馈，保证实际激发功率的稳定和一致，带来可精准量化的图像数据。全光谱超多色分析得益于专利*VPH体相位透射光栅，FV4000系统全部检测通道均具有光谱成像和光谱扫描的能力，光谱分辨率高达2nm，光谱步进精度1nm。系统最多可实现6色荧光同步光谱成像，并能灵活覆盖400 nm至900 nm，其成像通道数和光谱探测范围均达到开创水平。 引领创新的近红外成像功能FV4000系统的光学设计针对近红外（NIR）成像进行了优化，支持从405 nm到785 nm多达10条激光谱线的激光组合，将全新且高效的红外染料纳入显微成像武器库。并延续Evident特有的上转换近红外成像能力，支持808 nm和980 nm等近红外激光的接入。升级的高速高分辨率扫描FLUOVIEW系统升级更大视野、更高分辨率的共振快扫单元，在兼顾大视野成像的同时可实现1024*32分辨率下438帧每秒的高速高分辨成像，配合高信噪比和高光子探测效率的SilVIR检测器使用，可以获得更高质量的高速活细胞的动态采集。不仅是快速扫描模式进一步提高了大视野样品的图像拼接以及深层3D Z-stack数据的获取效率，同时高分辨扫描模式下1024x1024也提速1.45倍，与SilVIR检测器组合使用，更好地为常规实验提速增效。智能与自动化成像体验利用人工智能工具，FLUOVIEW系列为用户带来全新的成像体验。全新的AI降噪和智能识别功能，显著提升图像质量，并加速了数据的量化处理。针对特定的成像需求，系统还提供了个性化的自动成像解决方案，包括高效的类器官自动探测成像、线虫运动自动化追踪模块等，这些定制化功能将大大简化研究人员操作复杂成像工作流程的需求，实现了“一键操作“的便捷。模块化和灵活性FLUOVIEW系统设计灵活，根据应用需求，可选扫描单元、检测器数量、激光器配置、多类型物镜、活细胞工作站、超分辨模块等。FV4000共聚焦系统具有丰富的拓展性，支持多种第三方设备，也可以升级多光子成像功能模块，单双一体模式提供更多应用可能性。* Patent No.US11237047

激光扫描共聚焦成像模块 CSIM 100/110共聚焦扫描成像模块的创新之处主要体现在两点： 1）与市场同类产品相比，CSIM 100/110共聚焦扫描成像模块具有更简洁的光路设计。通过光路的重新设计优化，减少了光学元件的使用数量和信号传递的步骤。信号传递环节的减少，使荧光信号的损失降到ZD，进而提高了模块的检测灵敏度。简洁的光路同时提高了模块的稳定性和可靠性，降低了维护成本； 2）与市场同类产品相比，CSIM 110共聚焦扫描成像模块优化了信号的探测类型，获得更为高效的信号采集。自主开发的信号采集电路，重新设计了信号的探测频次和和方式，显著提升了信号增益，以更低的照明强度获得了更好的信噪比和动态范围。CSIM 100/110共聚焦扫描成像模块，是桑尼基于多年高速光学扫描振镜和激光打标系统的开发经验，全新自主研发的产品。用户可将其搭配在原有的倒置荧光显微镜上，即可方便、快速地把倒置荧光显微镜升级为激光扫描（单点）共聚焦显微镜，获取高质量的共聚焦图像。CSIM 100/110共聚焦扫描成像模块通用性好，适配各品牌显微镜使用标准C型接口，无需额外配件即可与显微镜连接，搭建单点扫描共聚焦成像系统。使用进口配件 保障成像质量配置高性能Semrock滤光片、Coherent长寿命固态激光器、滨松多碱PMT，获取高分辨率图像。可定制升级 加载各种功能模块如：CCD/SCOMS相机接口、电动Z轴扫描模块、DIC（微分干涉）模块、适用于活细胞成像的超高灵敏度探测器等。光路设计简洁用最少的光学元件实现共聚焦成像功能，既减少了荧光信号的损失，提高了模块的检测灵敏度，又增强了模块的稳定性和可靠性，降低了维护成本。信号采集稳定自主设计开发的信号采集电路，优化了信号增益，提高了图像的信噪比和动态范围。激光器直调 超长使用寿命使用COHERENT OBIS 固体或半导体激光器，通过外部调节激光器功率和开关，延长激光器使用寿命，有效降低售后成本。激光器稳定性好，8小时功率变化＜2%。即开即用，操作方便，可同时搭载4个激光器。高灵敏度PMT标配Hamamatsu新一代高性能多碱PMT，量子效率超过25%，相比国外前代共聚焦产品，灵敏度提高超过一倍。可升级为磷砷化镓（GaAsP），进一步提高图像的信噪比： GaAsP 的量子效率可达45%。Sunny XY描振镜高速扫镜使用本公司生产制造的XY高速扫描振镜，响应速度快、重复精度高、发热量低、温度漂移小。其他配件：共聚焦/宽场切换接口接口可同时连接共聚焦和相机，可自由选择共聚焦成像或相机成像。电动Z轴马达使手动显微镜实现自动调焦功能，实现XYZ三维扫描。 DIC功能可定制升级，加载DIC（微分干涉）模块。软件功能全中文界面，简单易用全软件控制完成多维图像采集，实现多通道扫描、时间序列和Z轴序列成像多色荧光、DIC图像叠加，添加标尺全软件控制数据记录，支持成像参数管理导出支持多种图像输出格式

EPYCON - 将现有任何荧光显微镜秒变共聚焦!EPYCON 很容易将任何现有荧光显微镜转成共聚焦:激光谱线 405nm （UV）， 488nm， 561nm， 640nm安装快捷可升级成荧光寿命显微镜 （ FLIM ）可升级成 STEDYCON : 超高分辨率显微镜: 30 nm 分辨率 STEDHighly affordable （please request a quote via email here）具体细节:支持所有相机接口无热启动时间，一分钟即可开启共聚焦扫描操作简单，浏览式软件，仅需短时间（15分钟）即可采集高清共聚焦图像免维护和低售后成本我们的紧凑型配置可进行如下选择:我们的 STEDYCON 和 EPYCON 可与每个主要供应商的各种显微镜主体一起使用:例图

Nanoscope Systems NS3800三维激光共聚焦显微镜NS-3800是一种可靠的三维(3D)测量高速共焦激光扫描显微镜(CLSM)。通过快速光学扫描模块和信号处理算法实现实时共焦显微图像。在测量和检测微观三维结构，如半导体晶片，FPD产品，MEMS设备，玻璃基板，材料表面等方面提供多样化的解决方案。Features & Benefits（性能及优势）：高分辨无损伤光学3D测量 自动倾斜补偿实时共焦成像 简单的数据分析模式多种光学变焦 双Z扫描大范围拼接 半透明基材的特征检测实时CCD明场和共聚焦成像 无样品准备自动聚焦Application field（应用领域）：NS-3500是测量低维材料的有前途的解决方案。可测量微米和亚微米结构的高度，宽度，角度，面积和体积，例如-半导体:IC图形，凹凸高度，线圈高度，缺陷检测，CMP工艺- FPD产品:触摸屏屏幕检测，ITO图案，LCD柱间距高度- MEMS器件:结构三维轮廓，表面粗糙度，MEMS图形-玻璃表面:薄膜太阳能电池，太阳能电池纹理，激光图案-材料研究:模具表面检测，粗糙度，裂纹分析Dimension(尺寸）：Specification (规格）：ModelMicroscope NS-3800备注物镜倍率10x20x50x100x观察/ 测量范围 水平 (H): μm1400700280140垂直 (V): μm1050525210105工作范围: mm16.53.10.540.3数值孔径(N.A.)0.300.460.800.95光学变焦x1 to x6总放大倍率178x to 26700x观察/测量光学系统 Pinhole共聚焦光学系统高度测量测量扫描范围Fine scan : 100 μm (and/or) Long scan : 7 mm [NS-3800L]注 1Fine scan : 400 μm (and/or) Long scan : 10 mm [NS-3800D]Fine scan : 200 μm (and/or) Long scan : 10 mm [NS-3800T]显示分辨率0.001 μm重复率 σ0.010 μm注 2宽度测量显示分辨率0.001 μm重复率 3σ0.02 μm注 3帧记忆像素1024x768, 1024x384, 1024x192, 1024x96单色图像12 bit彩色图像8-bit for RGB each高度测量16 bit帧速率表面扫描20 Hz to 160 Hz线扫描~8 kHz自动功能自动增益激光共焦测量光源波长405nm输出~2mW激光等级Class 3b激光接收元件PMT (光电倍增管)光学观察光源灯10W LED光学观察照相机成像元件1/2” 彩色图像 CCD 传感器记录分辨率640x480自动调整增益, 快门速度, White balance数据处理单元PC电源电压100 to 240 VAC, 50/60 Hz电流500 VA max.重量显微镜Approx. ~50 kg(Measuring head unit : ~12 kg)控制器~8 kg隔振系统气浮隔振系统Option

配常规扫描振镜的FV3000 到配共振扫描振镜的FV3000RS的灵活配置。全新高效、高精度光谱检测。最多可达16个通道的全新多通道光谱拆分设计。FV3000系列扫描单元常规扫描振镜和常规/共振混合式扫描单元用户可以选择两种不同类型的扫描单元：仅配常规扫描振镜的FV3000，或者配有常规/共振混合式扫描的FV3000RS。 混合式扫描单元配有用于高精度扫描的常规扫描振镜，以及非常适合高速成像的常规/共振扫描振镜。常规扫描振镜可让奥林巴斯超高分辨率技术(FV-OSR)获得低至120nm的分辨率以及高信噪比，并且具有精确的龙卷风和多点刺激以及100ms切换速度。 常规扫描振镜能够在2X变焦条件下每秒获取16帧图像。 共振扫描振镜的扫描速度范围为从512 x 512每秒30帧，到512 x 32每秒438帧。TruSpectral检测功能灵敏度与精确度兼具的全光谱系统采用GaAsP光电倍增管的高灵敏度光谱检测器(HSD)提升量子效率高效TruSpectral检测系统采用16通道拆分的多通道TruSpectral检测简单直观的软件简单直观的工作流程TruSpectral探测的现场光谱拆分和实时处理精确的顺序管理器和实时获取多区域延时、微孔板、和拼接的载物台控制硬盘记录利用cellSens实现强大的一键式批量分析比例成像和 强度调节显示(IMD)循环平均处理反卷积奥林巴斯超高分辨率 (FV-OSR)奥林巴斯应用范围宽广的超高分辨率解决方案对荧光探针没有特殊要求，可用于各种样本。 作为共定位分析的理想选择，FV-OSR能够以大约120nm的分辨率顺序或同步获取4个荧光信号*，几乎达到常规共焦显微技术分辨率的2倍。 该系统使用方便，用户培训要求极低，并可添加到任何共焦系统内，这让FV-OSR成为实现超高分辨率真正可行的方法。*取决于物镜倍率、数值孔径、激发和发射波长、以及实验条件。 宏观到微观的观察找到样本中的感兴趣区域并非易事。 FV3000系列产品的共聚焦光学设计可支持宏观到微观成像，因此使用者能够快速从1.25物镜的低倍率观察切换到**150X物镜的高倍率详细观察。 使用者在宏观或微观层面利用图像拼接可生成在背景内显示样本的总览图像。优良的光学器件和刚性机架适用于活细胞成像的硅油浸入式物镜折射率对于深部组织观察十分重要PLAPON60XOSC2: 提高共定位分析的可靠性利用IX83满足稳定性要求明亮条件下的高对比度模块化扫描器 、光谱检测器、激光耦合器、照明单元、系统部件全球支持安装通常仅需一天时间，快速实现系统的启动和运行。 我们利用全球知识库为产品提供服务支持。 奥林巴斯应用专员可帮助您选择能够根据应用情况优化系统的功能特性。 共聚焦系统是资产投资，确保系统以最佳性能运行非常重要。 我们的认证服务团队可快速安排调整规程和系统诊断，让您的系统保持在最佳状态，并排查任何问题。

仪器简介：来自奥林巴斯的3D测量激光显微镜OLS4100广泛应用于不同行业的质量控制，研究和开发过程，它在激光显微领域树立了全新的标准。该产品不但可以让测量更加快速、简单，而且可以拍摄到画质更高的影像，大大突破了激光显微镜的界限。 特征及优势：· 非接触式、无损、快速成像和测量· 405nm短波长激光和更高数值孔径的物镜，其平面（XY方向）分辨达0.12&mu m，高度（Z方向）分辨率达10nm· 采用双共焦系统，结合高灵敏度的探测器，具有不同反射率材料的样品也可以获得鲜明的影像· 全新的多层模式可实现透明样品表面的观测和测量，而且可以对多层透明样品的各层进行分析和厚度测量。· 更多的测量类型，7种测量模式提供更多的选择· 拥有DIC激光模式（激光微分干涉），能够得到接近电子显微镜分辨率的影像，实现对微小凹凸的立体观察· 具有宏观图功能，让你明白&ldquo 始终身在何处&rdquo · 图像拼接功能，不但可以形成更大范围的宏观图，还可以通过此功能手动指定所需的影像区域· 操作更加简单，可一键操作创建报表· 内置由螺旋弹簧和阻尼橡胶组成的&ldquo 复合减震机构&rdquo 一稳定操作环境，可在普通的桌子上进行测量作业，无需专用的防震平台· 是业界首次保证&ldquo 正确性&rdquo 和&ldquo 重复性&rdquo 的激光扫描显微镜应用实例半导体1、晶圆突起 2、导光板 3、芯片焊点 4、导光板激光点电子元件/MEMS1、光掩版 2、微透镜 3、柔性电路板接触点 4、MEMS原材料/金属加工1、电镀金刚石工具 2、碳精棒 3、极细管 4、胶带5、砂纸#400（3D） 6、砂纸#400（2D） 7、致密织物（3D）

随着工业制造水平的逐渐提升，应用领域对工业显微镜技术提出了更高的要求。为确保亚微米3D观察和表面粗糙度测量获得高水平的准确性和精度，奥林巴斯全新推出的LEXT™ OLS5100激光显微镜，推出保证准确度和重复性的智能功能*，让材料科学实验的流程更快、更高效。奥林巴斯自1920年自主研发了第一台商用显微镜“旭号”开始，就一直在显微镜领域攻克难关，进行光学技术的创新，始终站在显微镜领域发展的前沿。依托自身在光学领域累积的先进技术和经验，奥林巴斯不断进取开拓，将大数据、科技智能等技术融入到新一代的3D测量激光显微镜产品当中，为客户带来新的价值提升，助力中国工业领域的前进与发展。?奥林巴斯LEXT™ OLS5100激光显微镜?测量精度 可靠稳定物镜是显微镜最重要的光学部件，利用光线使被检物体第一次成像，因而直接关系和影响成像的质量和各项光学技术参数。在实际开展测量工作中，不同检测对象所需物镜大小不尽相同，因此，对于从业人员有很巧的技术、经验要求。不用再靠猜测，OLS5100显微镜的智能物镜选择助手（Smart Lens Advisor）可以为表面粗糙度测量选出合适的物镜。智能物镜选择助手可通过三个简单的步骤根据应用情况对物镜评分，用户由此即可知道其所使用的物镜是否合适，让测量结果保持稳定，不受操作员技能水平的影响。检测流程 简化测量由于具备无需制备样品、非接触面粗糙度分析和高效率的亚微米3D测量强大功能，激光显微镜成为了制造研发和质量保障的重要设备。尽管如此，某些任务（如创建和管理实验计划以及选择合适物镜）仍然既耗时又容易出错。奥林巴斯LEXT™ OLS5100 3D测量激光显微镜的智能功能，为用户提供了全新的解决方案。该显微镜的智能实验管理助手（SmartExperiment Manager）可帮助用户管理实验的计划、采集和分析。显微镜可根据软件生成的定制实验计划扫描样品，让您避免丢失数据或重复工作。此外，该软件的趋势可视化工具还可让用户在分析过程中更容易发现问题，优化测量检测结果。

本设备利用激光、显微镜、精密扫描组件、时间分辨数据采集技术和图像处理技术获得样品不同位置的荧光强度及寿命。利用定点激发技术，可以观测载流子迁移。是一种高性能、高扫描速度、高灵敏度的荧光成像仪器。一、系统主要技术指标1.激光扫描振镜模块1） 激光光纤输入，配电控光阑系统2）激光扫描成像范围∶最高4096x4096像素点3）成像放大倍数（zoom）∶1-32倍4）激光扫描波长范围：400-750nm 2.TCSPC模块1） 时间精度7ps 2） Bin通道数∶40963） 时间窗口50ps-5μs 4） 仪器响应函数（IRF）∶≤:300ps 5） 时间分辨率∶≤50ps 3.高灵敏度单光子检测器模块1） 检测面直径100μm 2） 光谱检测范围400-1000nm 3） 时间分辨率∶50ps（FWHM）4） 量子效率∶45%@550nm 4.稳态光谱检测模块光谱仪（配置可根据客户需求调整）1） 焦长200mm 2） 光谱仪内置两块光栅3） 出口耦合PMT检测器或CCD相机光谱检测模式∶波长扫描采集或CCD采集波长探测范围350-900nm 5.倒置显微镜模块1) 含照明光源、双色片、滤光片等基本配置2) 物镜一套（空气镜）∶100x、60x、20x 3) 最高空间分辨率≤500nm（取决于物镜和激光/荧光波长）6.激光器（可按客户需求选配）1) 单波长皮秒半导体激光器2) 皮秒超连续白光激光器二、应用实例1、荧光强度成像、荧光寿命成像样品：MAPbI3单晶纳米片和MAPbI3纳米线实验条件∶100X objective，pinhole 40μm，Exc∶400 nm，成像模式：共聚焦扫描成像模式样品：二维 SnSe2（微弱荧光材料）实验条件：100X（油镜），激发波长：405nm成像模式：共聚焦激光扫描成像模式 参考文献：Xing Zhou ,et al.,Tianyou Zhai*,Adv. Mater. 2015, 27, 8035–80412、低温舱内的荧光成像样品：MAPbI3 纳米线实验条件：100X，空间分辨率 1μm成像模式：共聚焦激光扫描成像模式 观测到钙钛矿纳米先低温相变过程的空间分布和演化状况3、高压舱内的荧光成像样品：MAPbI3单晶纳米片和MAPbI3纳米线MAPbI3 纳米线不同压力下激光扫描荧光成像 不同压力下荧光动力学曲线 MAPbI3 纳米线不同压力下载流子迁移荧光成像 不同压力下载流子迁移动力学曲线 参考文献：YanfengYin,WenmingTian,*etal.,JimingBian,*andShengyeJin*ACS Energy Lett.2022,7,154&minus 1614、载流子迁移成像实验条件∶100× objective，pinhole 40μm，Exc∶400 nm 样品：钙钛矿纳米片成像模式∶激光定点激发，荧光扫描成像，可获得样品荧光动态演化图5、电致发光成像样品：CdSe量子点LED 6、光电流成像实验条件∶405nm连续激光器，激光强度调至最弱，60x物镜下测量结果2D（ITO/SnO2/QW/Spiro-Au）结构的太阳能电池光电流成像图

远心套筒透镜，适合激光扫描和宽场成像200 mm有效焦距为Thorlabs、Nikon、Leica和Mitutoyo使用标准300 mm、400 mm或600 mm有效焦距能够提高标准系统的放大率远心设计这些无限远矫正套筒透镜具有远心设计，适合激光扫描和宽场成像应用。波长范围从400到700 nm或从450到1100 nm的激光扫描套筒透镜可以与我们的SL50-CLS2(450 - 1100 nm)扫描透镜配合形成远心系统。类似地，TL200-2P2和TL200-3P分别可以和我们的SL50-2P2(680 - 1300 nm)或SL50-3P(900 - 1900 nm)扫描透镜一起使用。由于TTL200MP和TTL200MP2的增透膜具有更宽的波长范围，因此能够和这三种扫描透镜的任意一个配合使用。TTL200MP套筒透镜在可见光和NIR波长下提供更高的透射率，而TTL200MP2套筒透镜在近2000 nm的更长波长下提供更高的透射率。单击下表中的图形图标可查看完整的透射率数据。这些套筒透镜在无穷符号(∞)旁边刻有一个箭头，指示透镜哪侧需要面向物镜(无限空间)。TL600-A、TL400-A、TL300-A、TTL200MP和TTL200MP2套管透镜的标称径迹长度都是420 mm，所以可以在系统中交换使用不同焦距的套筒透镜，无需重新对准成像设备和物镜。所有这些透镜也可以定制镀膜，优化指定波长范围内的透射率。安装选项这些透镜一端或两端有SM2(2.035"-40)外螺纹，可以连接我们的Ø 2英寸透镜套管和很多60 mm笼式系统机械件。如要将这种套管透镜用在Thorlabs的Cerna DIY显微镜系统中，请用SM2M05透镜套管连接WFA4111燕尾转接件(下面提供)。

NS3500L 大面积高速3D激光扫描仪 NS-3500L 是一种准确、可靠的三维(3D)测量高速共焦激光扫描显微镜(CLSM)。通过快速光学扫描模块和信号处理算法实现实时共焦显微图像。在测量和检测微观三维结构，如半导体晶片，FPD产品，MEMS设备，玻璃基板，材料表面等方面拥有无可比拟的解决方案。Features & Benefits（性能及优势）：高分辨无损伤光学3D测量 自动倾斜补偿实时共焦成像 简单的数据分析模式多种光学变焦 双Z扫描大范围拼接 半透明基材的特征检测实时CCD明场和共聚焦成像 无样品准备自动聚焦Application field（应用领域）：NS-3500是测量低维材料的有前途的解决方案。可测量微米和亚微米结构的高度，宽度，角度，面积和体积，例如-半导体:IC图形，凹凸高度，线圈高度，缺陷检测，CMP工艺- FPD产品:触摸屏屏幕检测，ITO图案，LCD柱间距高度- MEMS器件:结构三维轮廓，表面粗糙度，MEMS图形-玻璃表面:薄膜太阳能电池，太阳能电池纹理，激光图案-材料研究:模具表面检测，粗糙度，裂纹分析Specification(规格）：ModelMicroscope NS-3500备注Controller NS-3500E物镜倍率10x20x50x100x150x观察/ 测量范围 水平 (H): μm140070028014093垂直 (V): μm105052521010570工作范围: mm16.53.10.540.30.2数值孔径(N.A.)0.300.460.800.950.95光学变焦x1 to x6总放大倍率178x to 26700x观察/测量光学系统 针孔共聚焦光学系统高度测量测量扫描范围精细扫描 : 400 μm (and/or) 长扫描 : 10 mm [NS-3500-S]长扫描 : 10mm [NS-3500-T]显示分辨率0.001 μm重复率 σ0.010 μm注 1宽度测量显示分辨率0.001 μm重复率 3σ0.02 μm注 2帧记忆像素1024x1024, 1024x768, 1024x384, 1024x192, 1024x96单色图像12 bit彩色图像8-bit for RGB each高度测量16 bit帧速率表面扫描20 Hz to 160 Hz线扫描~8 kHz自动功能自动增益激光共焦测量光源波长 405nm输出~2mW激光等级Class 3b激光接收元件PMT (光电倍增管)光学观察光源灯10W LED光学观察照相机成像元件1/2” 彩色图像 CCD 传感器记录分辨率640x480自动调整增益, 快门速度, White balance数据处理单元 PC电源电源电压100 to 240 VAC, 50/60 Hz电流消耗500 VA max.重量显微镜Approx. ~50 kg(Measuring head unit : ~12 kg)控制器~8 kg注 1 :以100×/ 0.95物镜对标准样品（步长1μm）进行100次测量 注 2 :以100×/ 0.95物镜对标准样品（5μm间距）进行100次测量。

NS3500G 大型非接触式3D激光扫描仪NS-3500G 是一种准确、可靠的三维(3D)测量高速共焦激光扫描显微镜(CLSM)。通过快速光学扫描模块和信号处理算法实现实时共焦显微图像。在测量和检测微观三维结构，如半导体晶片，FPD产品，MEMS设备，玻璃基板，材料表面等方面拥有无可比拟的解决方案。 Features & Benefits（性能及优势）：高分辨无损伤光学3D测量 自动倾斜补偿实时共焦成像 简单的数据分析模式多种光学变焦 双Z扫描大范围拼接 半透明基材的特征检测实时CCD明场和共聚焦成像 无样品准备自动聚焦 Application field（应用领域）：NS-3500是测量低维材料的有前途的解决方案。可测量微米和亚微米结构的高度，宽度，角度，面积和体积，例如-半导体:IC图形，凹凸高度，线圈高度，缺陷检测，CMP工艺- FPD产品:触摸屏屏幕检测，ITO图案，LCD柱间距高度- MEMS器件:结构三维轮廓，表面粗糙度，MEMS图形-玻璃表面:薄膜太阳能电池，太阳能电池纹理，激光图案-材料研究:模具表面检测，粗糙度，裂纹分析 Specification(规格）：ModelMicroscope NS-3500备注Controller NS-3500E物镜倍率10x20x50x100x150x观察/ 测量范围 水平 (H): μm140070028014093垂直 (V): μm105052521010570工作范围: mm16.53.10.540.30.2数值孔径(N.A.)0.300.460.800.950.95光学变焦x1 to x6总放大倍率178x to 26700x观察/测量光学系统 针孔共聚焦光学系统高度测量测量扫描范围长扫描 : 10mm [NS-3500-T]显示分辨率0.001 μm重复率 σ0.010 μm注 1宽度测量显示分辨率0.001 μm重复率 3σ0.02 μm注 2帧记忆像素1024x1024, 1024x768, 1024x384, 1024x192, 1024x96单色图像12 bit彩色图像8-bit for RGB each高度测量16 bit帧速率表面扫描20 Hz to 160 Hz线扫描~8 kHz自动功能自动增益激光共焦测量光源波长 405nm输出~2mW激光等级Class 3b激光接收元件PMT (光电倍增管)光学观察光源灯10W LED光学观察照相机成像元件1/2” 彩色图像 CCD 传感器记录分辨率640x480自动调整增益, 快门速度, White balance数据处理单元 PC电源电源电压100 to 240 VAC, 50/60 Hz电流消耗500 VA max.重量显微镜Approx. ~200 kg(Measuring head unit : ~12 kg)控制器~8 kg 注1 :以100×/ 0.95物镜对标准样品（步长1μm）进行100次测量 注 2 :以100×/ 0.95物镜对标准样品（5μm间距）进行100次测量。

提供全新的3D形貌分析方案卓越的测量更大的样品范围轻松检测85° 尖锐角有尖锐角的样品（剃刀）采用了有着高N.A. 的专用物镜和专用光学系统（能最大限度发挥405 nm 激光性能），LEXT OLS4100 可以精确地测量一直以来无法测量的有尖锐角的样品。这有利于粗糙度的测量。LEXT 专用物镜使用专用物镜时的最小象差 高度分辨率10 nm，轻松测量微小轮廓(MPLAPON50XLEXT)高度差标准 类型B, PTB-5, Institut fü r Mikroelektronik, Germany, 6 nm 高度测量中的检测由于采用405 nm 的短波长激光和更高数值孔径的物镜，OLS4100 达到了0.12 &mu m 的平面分辨率。因此，可以对样品的表面进行亚微米的测量。结合高精度的0.8 nm 的光栅读取能力和软件算法，例如奥林巴斯开创的I-Z 曲线（请参阅第23 页），OLS4100 可以分辨出10 nm 的高度差。 克服反射率的差异钻石电镀工具物镜：MPLAPON50XLEXTOLS4100 采用了双共焦系统，结合高灵敏度的探测器，那些具有不同反射率材料的样品，也能在OLS4100 上获得鲜明的影像。 适用于透明层多层模式LEXT OLS4100 全新的多层模式则可以识别多层样品各层上反射光强度的峰值区域，并将各层设为焦点，这样即可实现对透明样品上表面的观察和测量，而且也可以对多层样品的各层进行分析和厚度测量。观察／测量透明材料的各个层多层模式可实现对透明样品的顶部的透明层进行观察和测量。即使在玻璃基片上覆有一层透明树脂层，也可测量出各层的形状和粗糙度以及表面覆膜的厚度。 工业领域首创* 的两项性能保证 正确性和重复性通常表示测量仪器的测量精度的，有2 个指标："正确性"，即测量值与真正值的接近程度，和"重复性"，即多次测量值的偏差程度。OLS4100 是业界首次同时保证了"正确性"和"重复性"的激光扫描显微镜。 追溯体系OLS4100 从物镜制造到成品全部在奥林巴斯工厂内完成，并按照一系列严格的标准进行全面的检验并确保产品的质量后方才出厂 。交付产品时，由选拔出来的技术人员，在实际使用环境中执行校正和最后的调整。 更多的测量类型高度测量可以测量轮廓截面上任意两点之间的高低差异。轮廓测量也同样可用表面粗糙度测量可以测量线粗糙度，以及平面整体的面粗糙度。 面积／体积测量根据设置在轮廓截面上的任意阈值，可以测量其上部或下部的体积。粒子测量 (选购件)可以通过分离功能使粒子自动分离，设置阈值，根据ROI 设置检测范围。 几何测量可以测量影像上任意两点之间的距离。还可以测量任意区域的面积。膜厚测量 (选购件)可以根据测出的对焦位置，测量透明介质的膜厚。 自动寻边测量 (选购件)可以自动寻边，测量线宽和圆，减少人为的测量误差。 OLYMPUS Stream (选购件)工作流程解决方案，实现了优秀的图像分析性能对于粒子尺寸分析或非金属夹杂物级别的测量，可以使用OLYMPUS Stream 显微图像软件，该软件可以从OLS4100 直接上传。想了解更多OLYMPUS Stream相关内容 更精准的粗糙度测量LEXT OLS4100 参数作为表面粗糙度测量的新标准，奥林巴斯开发了LEXT OLS4100。对LEXT OLS4100 进行了与接触式表面粗糙度测量仪同样的校正，并在LEXT OLS4100 上配置了几乎所有必要的粗糙度参数和滤镜。这样，对于使用接触式表面粗糙度测量仪的用户来说，能得到操作性和互换性良好的输出结果。另外，还搭载了粗糙度专用模式，可以用自动拼接功能测量样品表面直线距离最长为100 mm 的粗糙度。 OLS4100 具有与接触式表面粗糙度测量仪相同的表面轮廓参数，因此具有相互兼容的操作性和测量结果。截面曲线Pp, Pv, Pz, Pc, Pt, Pa, Pq, Psk, Pku, Psm, P&Delta q, Pmr(c), P&delta c, Pmr粗糙度曲线Rp, Rv, Rz, Rc, Rt, Ra, Rq, Rsk, Rku, Rsm, R&Delta q, Rmr(c),R&delta c, Rmr, RZJIS, Ra75波动曲线Wp, Wv, Wz, Wc, Wt, Wa, Wq, Wsk, Wku, Wsm, W&Delta q, Wmr(c), W&delta c, Wmr负荷曲线Rk, Rpk, Rvk, Mr1, Mr2基本图形R, Rx, AR, W, Wx, AW, Wte粗糙度 (JIS1994)Ra(JIS1994), Ry, Rz(JIS1994), Sm, S, tp其他R3z, P3z, PeakCount适应下一代参数OLS4100 具有符合ISO25178 的粗糙度（3D）参数。通过评估平面区域，可以进行高可靠性的分析。振幅参数Sq, Ssk, Sku, Sp, Sv, Sz, Sa功能参数Smr(c), Sdc(mr), Sk, Spk, Svk, SMr1, SMr2, Sxp体积参数Vv(p), Vvv, Vvc, Vm(p), Vmp, Vmc横向参数Sal, Str&bull LEXT OLS4100 与表面粗糙度测量仪的结果相兼容。 微细粗糙度使用接触式表面粗糙度测量仪，无法测量比探针的针尖直径更细微的表面轮廓。而OLS4100 有着微小的激光光斑直径，所以能够对微细形状进行高分辨率的粗糙度测量。 非接触式测量使用接触式表面粗糙度测量仪测量柔软的样品时，样品容易受到探针损伤而变形。另外，带有粘性的样品会粘在探针上，无法得到正确的测量结果。而非接触式的激光显微镜OLS4100，不会影响样品的表面状态，可以准确的测量样品的表面粗糙度。高分子薄膜3D 影像（上）和粗糙度测量结果（左）柔软的样品带有粘性的样品 微米级特征的测量使用接触式表面粗糙度测量仪，其探针无法进入微米级的区域，所以不能对这些区域的特征进行测量。而OLS4100 可以正确定位，能轻松测量出特定微小区域的粗糙度。焊线 高画质影像 清晰鲜明的3D 彩色影像三种类型的综合影像真彩3D 影像LEXT OLS4100 可以同时获取三种不同类型的影像信息：真彩3D 影像、激光全焦点3D 影像和高度信息影像。激光全焦点3D 影像高度信息影像 再现自然色OLS4100 采用了白色的LED 光源和高色彩保真度的CCD 照相装置以生成清晰、色彩自然的影像，所得影像可以与高级的光学显微镜相媲美。2D 彩色影像（纸张上的墨点、物镜20x）3D 彩色影像（纸张上的墨点、物镜20x） 更加真实地再现表面, 激光DIC（激光微分干涉）微分干涉观察是超越了激光显微镜的分辨率、可以观察到纳米以下微小表面轮廓的观察方法。LEXT OLS4100 通过安装在物镜上方的DIC 分光棱镜，将照明光横向分为两束光线来照射样品。获取由样品直接反射回来的两束光线的差，生成明暗对比，从而实现对微小凹凸的立体观察。LEXTOLS4100 拥有DIC 激光模式，即使是低倍率的动态观察，也能得到接近电子显微镜分辨率的影像。无DIC 的激光影像（高分子薄膜）有DIC 的激光影像（高分子薄膜） 无DIC 的激光影像（5x 物镜）高度差标准 类型 B, PTB-5, Institut fü r Mikroelektronik, Germany有DIC 的激光影像（5x 物镜）高度差标准 类型 B, PTB-5, Institut fü r Mikroelektronik, Germany, 实际高度：6 nm 亮度和对比度之间更加优化的平衡, HDR（高动态范围）影像OLS4100 的高动态范围（HDR）功能结合了多张以不同曝光率获取的光学显微镜影像，并且分别控制着亮度、对比度、纹理和饱和度，因此HDR 可以以宽动态范围处理影像。OLS4100 尤其可以对纹理不明显的样品的彩色影像进行清晰地观察。无HDR 的彩色影像（致密的织物、物镜20x、变焦1x）有HDR 的彩色影像（致密的织物、物镜20x、变焦1x）算法 稳定测量和成像环境复合减震机构为了排除来自外部的影响，稳定测量和成像，OLS4100 机座内置了由螺旋弹簧和阻尼橡胶组成的"复合减震机构"以稳定操作环境。所以，可以把OLS4100 放在普通的桌子进行测量作业，不需要专用的防震平台。 直观的GUI 实现系统化的工作流程 简易的三步流程使用LEXT OLS4100，只需将样品放置在载物台上之后即可立即开始观察／测量。由于采用了简易的三步流程&mdash &mdash 成像、测量和报表&mdash &mdash 即使用户不熟悉激光显微镜，也可以快速掌握测量的流程。 始终明白"身在何处"宏观图功能OLS4100 的宏观图功能可以以低倍率显示大范围影像，并在宏观影像上显示一个矩形观察标记。该视场可以通过拼图设置为传统视场的441 倍。当配合电动六孔物镜转换器时，宏观图功能可以对载物台移动和倍率更改实现平滑、便捷的一键操作。可以精确预设齐焦和确定物镜的中心，并可通过一键移动载物台和调整倍率进行同步。快速的宏观图拼接扫描大面积区域时有两种拼接方法可用：获取实时影像时的手动模式和快速获取影像时的自动模式。操作非常快速简单&mdash &mdash 2D 拼接只需一键操作即可开始，并且可立即获得大面积的拼接影像。自动模式下有五级拼接尺寸可用，分别为：3× 3、5× 5、7× 7、9× 9 和21× 21。对于影像上不需要的部分，可以使用简单的鼠标或控制杆操作手动删除。 用于简易3D 成像的智能扫描自动3D 影像获取传统的3D 扫描需要复杂的设置，这对新手来说非常困难。LEXT OLS4100 采用了全新的智能扫描模式，即使是初次使用的用户也只需一键操作即可快速获取3D 影像。除了上下限的设置，系统也会根据要获取的影像自动设置合适的亮度。这让即使是初次使用的用户也能获得精确的高度测量和优质的影像。3D 成像自动亮度控制平面上的亮度控制一定高度范围内的亮度控制。大大缩短了获取时间 更快的扫描速度新的超快模式获取扫描影像的速度是传统快速模式的2 倍，约是精细模式的9 倍。因此，对于那些需要非常精细的Z 轴移动和极高的放大倍率的样品，该模式就非常地适用，例如对刀具的尖端进行检测。相同时间内获取的影像数量：实际的扫描时间根据所用倍率和Z 获取范围而有所不同。 只在所需区域进行高速获取OLS4100 还配备了带宽扫描模式，用于测量有限的目标区域，测量性能比传统模式快1/8。全局扫描获取带宽扫描获取（1/8） 全新的高速拼接模式从大范围拼接影像中指定目标区域在宏观图中，要观察的区域可以从大范围的视图中进行指定。在自动模式中，通过设置最多625 幅影像的矩形拼接尺寸，可以自动生成区域图，所需的时间大约只需要通常的一半。下一步，在区域图上指定所需的影像并立即开始观察。拼接区域：方形（21× 3）63 片拼接区域：圆形（3 点） 手动指定所需的影像区域在实时模式中，通过在屏幕上跟踪所需的区域，可以手动选择要观察的区域。当观察的样品具有不规则的形状时，该功能非常实用。 快速影像拼接要使用智能扫描模式获取影像时，只需一键操作即可。由于智能扫描会自动调整Z 轴方向的设置，Z 轴方向的影像获取可以仅局限在所需的区域，因此可以在进行大范围大功率观察时节省很多时间。智能扫描模式传统获取模式 一键操作定制报表OLS4100 在测量后可使用一键操作创建报表，而且使用编辑功能可以定制各个报表模板。将测量结果复制和粘贴到Word 或表格应用程序也非常简单，就像从数据库取回所需的影像和报表一样。 目标的一键解决方案为用户设计的详细的向导功能取消了冗长的培训，让新手也能快速简单地进行操作。 产品已下架，可查看OLS系列其他产品。

仪器简介：功能特点测量精度高；方便快捷地分析样品的表面形貌和粗造度；分辨率高，景深大，清晰观察不同焦平面上的图像信息；共焦切层，三维重组，多角度观察；对不同时间，不同位置的图像进行无缝拼接，再现性强；可获得亚微米级的线宽、面积、体积、台阶、线与面粗造度，透明膜厚等几何参数测量数据。技术参数：原理用激光作光源,在试样表面反射进入显微镜的光线经微小的针孔(试样上点与针孔对应形成共聚焦),才能成像的光学系统,阻断干扰和杂散光来提高图像清晰度,获得大景深的显微观察方式。主要特点：应用领域微米和亚微米级部件的尺寸测量,表面形貌观察 半导体芯片表面形貌观察,非接触型的线宽,台阶深度等测量 摩擦学磨痕的体积测量,粗造度测量,表面形貌分析。

NS3500三维激光共聚焦显微镜NS-3500是一种精确、可靠的三维(3D)测量高速共焦激光扫描显微镜(CLSM)。通过快速光学扫描模块和信号处理算法实现实时共焦显微图像。在测量和检测微观三维结构，如半导体晶片，FPD产品，MEMS设备，玻璃基板，材料表面等方面拥有无可比拟的解决方案。 Features & Benefits（性能及优势）：高分辨无损伤光学3D测量 自动倾斜补偿实时共焦成像 简单的数据分析模式多种光学变焦 双Z扫描大范围拼接 半透明基材的特征检测实时CCD明场和共聚焦成像 无样品准备自动聚焦 Software (软件）：Application field（应用领域）：NS-3500是测量低维材料的有前途的解决方案。可测量微米和亚微米结构的高度，宽度，角度，面积和体积，例如-半导体:IC图形，凹凸高度，线圈高度，缺陷检测，CMP工艺- FPD产品:触摸屏屏幕检测，ITO图案，LCD柱间距高度- MEMS器件:结构三维轮廓，表面粗糙度，MEMS图形-玻璃表面:薄膜太阳能电池，太阳能电池纹理，激光图案-材料研究:模具表面检测，粗糙度，裂纹分析Specifications：ModelMicroscope NS-3500备注Controller NS-3500E物镜倍率10x20x50x100x150x观察/ 测量范围 水平 (H): μm140070028014093垂直 (V): μm105052521010570工作范围: mm16.53.10.540.30.2数值孔径(N.A.)0.300.460.800.950.95光学变焦x1 to x6总放大倍率178x to 26700x观察/测量光学系统 针孔共聚焦光学系统高度测量测量扫描范围精细扫描 : 400 μm (and/or) 长扫描 : 10 mm [NS-3500-S]注 1长扫描 : 10mm [NS-3500-T]显示分辨率0.001 μm重复率 σ0.010 μm注 2宽度测量显示分辨率0.001 μm重复率 3σ0.02 μm注 3帧记忆像素1024x1024, 1024x768, 1024x384, 1024x192, 1024x96单色图像12 bit彩色图像8-bit for RGB each高度测量16 bit帧速率表面扫描20 Hz to 160 Hz线扫描~8 kHz自动功能自动增益激光共焦测量光源波长 405nm输出~2mW激光等级Class 3b激光接收元件PMT (光电倍增管)光学观察光源灯10W LED光学观察照相机成像元件1/2” 彩色图像 CCD 传感器记录分辨率640x480自动调整增益, 快门速度, White balance数据处理单元专用 PC电源电源电压100 to 240 VAC, 50/60 Hz电流消耗500 VA max.重量显微镜Approx. ~50 kg(Measuring head unit : ~12 kg)控制器~8 kg隔振系统有源隔离器Option精细和长距离扫描仪的双重扫描模式仅适用于NS-3500-S（单镜头类型）。 注1:精细扫描由压电执行器（PZT）执行。注2 :以100×/ 0.95物镜对标准样品（步长1μm）进行100次测量。 注 3 :以100×/ 0.95物镜对标准样品（5μm间距）进行100次测量。Nanoscope system NS3500三维激光共聚焦显微镜信息由上海巨纳科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于Nanoscope system NS3500三维激光共聚焦显微镜报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

C1si是一款革命性的真实光谱成像激光共聚焦显微镜。它具有令人惊叹的高性能，单次拍摄即可获取32个通道的荧光全光谱数据，带宽可达350nm。 C1si能够方便地在光谱成像模式和标准成像模式之间快速切换，使其应用范围极其广泛。通过对不同荧光标记所发出的重叠光谱进行拆分，C1si能够显著的改善对活体细胞的动态观察，并且更易于获取详细的精确数据。C1si技术领先、通用性强、扩展性高、升级方便，是一款特别适合大型综合科研平台使用的激光共聚焦显微镜。 § 速度――显著减少了图像拍摄时间,同时拍摄32个通道的光谱图像（尼康独创） § 精度――真正的光谱图像,获取实际的荧光颜色,出色的误差及偏差校正能力（尼康独创） § 亮度――设计了专用的光路和信号处理系统，可高效地捕捉荧光光子,具备偏光控制技术的光谱探测器（尼康独创） § 易用性――轻松获取光谱图像 § &ldquo 可编程的荧光阻挡滤光片&rdquo § 轻松对光谱图像进行动态拍摄 § 极佳的多功能性 § 模块化设计(1) 速度――显著减少了图像拍摄时间۞ 同时拍摄32个通道的光谱图像（尼康独创）C1si采用32通道多阳极PMT，这在所有同类厂家的共聚焦显微镜中是最多的；并采用了多个高速数字转换电路以及LVDS（低压差分信号）高速串行传输技术等创新技术，通过一次扫描即可获取完整的32个通道的光谱图像。这能够显著减少成像时间，从而可以实现光谱实时观察。۞ 一步可获得320nm范围的光谱可以将波长分辨率高为2.5、5以及10nm。分辨率设为10nm时，一次扫描即可获取完整的320nm范围内的光谱，这种能力是先前的光谱成像系统无法比拟的。۞ 对活体细胞伤害较小仅使用一次激光扫描便能获取较广波长范围内的光谱图像，从而使激光强度和PMT增益的调节过程变得简单，快速。同时也极大的降低了激光对标本的照射时间，从而将荧光漂白及标本损害降至最低。C1si 光谱成像系统对活体细胞和组织的伤害非常小！(2) 精度――真正的光谱图像　۞ 获取实际的荧光颜色获取的光谱具有高度的可靠性和精确度，因此能够检测到荧光光谱的峰值波长以及光谱形状的差异，既可以用伪彩色模式显示细微结构，也可以用真彩色模式进行观察。　۞ 出色的误差及偏差校正能力（尼康独创）使用高精度矫正技术确保光谱的精度，这些技术包括使用发射谱线进行波长校正以及利用NIST（美国标准技术研究院）可溯光源进行发光度校正。同时，采用多阳极PMT灵敏度矫正技术（尼康独创）可以对每个通道的灵敏度误差以及波长透射属性进行矫正，这样研究人员便可以将设备间的测量误差和偏差降至最低。　۞ 高波长分辨率（尼康独创）波长分辨率可达到2.5nm，共有三种分辨率可选（2.5、5、10nm）且分辨率不受针孔大小影响。(3) 亮度――设计了专用的光路和信号处理系统，可高效地捕捉荧光光子۞ 具备偏光控制技术的光谱探测器（尼康独创）C1si的光谱探测器中采用了尼康具有专利的DEES（衍射效率增强系统）进行偏光控制，使衍射效率增强50％，极大提高了亮度。通过对齐光的偏振方向，优化了衍射光栅的效率，从而获得了极佳亮度的图像。尤其是增加了长波长范围内的衍射效率，从而提高了整个可见光范围内光谱数据的亮度和线性。　۞ 多阳极PMT光谱成像探测器采用最新研发的激光屏蔽机构。不管采用哪种光谱分辨率、哪个激光管，此机构可以有效的阻挡反射后遗漏的激光，这使得C1si几乎适合使用所有类型的激光。　۞ 高效荧光传输技术（尼康独创）荧光光纤的端部和探测器表面，使用具有专利技术的防反射涂层，可将信号损失降至最低，极大提高了光的传输效率。　۞ 双积分信号处理技术（尼康独创）最新研发的DISP（双积分信号处理）技术已经在图像处理电路中采用，以便提高电路效率，防止在模数转换时发生信号损耗。信号在整个像素时间内都被采集，从而获得了更完整的数据，增强了信号，提高了信噪比。(4) 易用性――轻松获取光谱图像　۞ 快速切换探测器模式只需打开扫描头上的开关即可从标准共聚焦成像切换至光谱共聚焦成像；EZ-C1软件的界面能够自动切换。　۞ 快速设定参数光谱探测器的每个参数都可以使用鼠标操作菜单轻松的进行设定，如激光波 长、波长分辩率或者拍摄的波长范围。设定好参数后，即可使用共用的成 像步骤执行光谱成像。您可以保存参数配置文件以备日后使用。Binning功能可以增加亮度。因此，确定目标区域时，用户可以降低激光的强度以减少对标本的伤害。　۞ 一次单击即可获取光谱共聚焦图像一旦完成光谱探测器的设定，即可通过单击"Start"(开始）按钮获取光谱共焦图像。　۞ 一次单击即可拆分荧光即便不指定参考光谱，而只在图像内确定ROI（感兴趣区域）并且单击"Simple Unmixing" (简单分离）按钮也可拆分荧光光谱。当您希望指定拆分""后每个荧光探针将显示的颜色时，请使用"Unmixing"（拆分）按钮。C1si包含一个内置的荧光探针生产商提供的光谱数据库，它可被指定为荧光拆分时的参考光谱。用户也可以将新的荧光探针的光谱信息添加至数据库。

CTRM 700热反射式激光共聚焦显微镜CTRM700 是韩国?????所研发并由韩国Nanoscope Systems 进行商业化运营的热反射式激光共聚焦显微镜。CTRM 700 利用的是激光共聚焦扫描的方法测量样品表面或内部特定表面上温度变化引起的反射率变化的分布来获取样品的热分别图像。Principles & Benefits（性能及优势）：热反射显微镜（Thermal Reflectance Microscope) 是一种基于测量样品表面光反射率变化而测量样品温度变化的一种技术。共聚焦热反射显微技术是一种激光扫描共聚焦方法，它可以在局部区域获得比传统热成像技术（红外成像技术）更高分辨率的热成像图像。Application field（应用领域）：半导体器件热特性的测量与分析：-柔性显示面板缺陷检查-OLED内部缺陷检查-高输出功率装置发热特性的测量与分析-传感器单元的红外图像分析-氧化物薄膜晶体管的热特性-3D堆叠半导体热特性的测量分析-OLED 器件的热特性分析-气体传感器的MEMS装置的热特性测量和分析-InGaZnO薄膜晶体管的发热特性及可靠性分析Specification（规格）ModelMicroscope CTRM 700物镜倍率10x20x50x100x观察/ 测量范围 水平 (H): μm1400700280140垂直 (V): μm1050525210105工作范围: mm16.53.10.540.3数值孔径(N.A.)0.300.460.800.95光学变焦x1 to x6观察/测量光学系统 针孔共聚焦光学系统测量高度 7 mm 分辨率横向分辨率0.3 μm轴向分辨率0.8 μm热分辨率1℃Image size共聚焦模式1024x768, 1024x384, 1024x192, 1024x96热成像模式1024x768帧速率共聚焦模式10 Hz to 160 Hz热成像模式0.3 Hz激光共焦测量光源波长638 nm输出~2mW激光等级 Class 3b光学显微镜光源LED10W光学观察照相机成像元件1/2” 彩色图像 CCD 传感器记录分辨率640x480数据处理单元PC电源电源电压100 to 240 VAC, 50/60 Hz电流消耗500 VA max.重量显微镜Approx. ~50 kg(Measuring head unit : ~14 kg)控制器~8 kg

Novator中图激光扫描3D光学影像测量仪将传统影像测量与激光测量扫描技术相结合，实现2.5D和3D复合测量。其线激光3D扫描功能，可实现3D扫描成像和空间测量；点激光线扫描功能，可输出断面高度、距离等二维尺寸做分析。还支持频闪照明和飞拍功能，可进行高速测量，大幅提升测量效率；具有可独立升降和可更换RGB光源，可适应更多复杂工件表面。产品优势稳固移动平台、高测量精度1.精密大理石机台，稳定性好，精度高。2.精密线性滑轨和伺服控制系统，超低分贝静音级运动。3.三轴全自动可编程检测，实现复杂特征批量检测。激光扫描成像、3D复合测量1.支持点激光轮廓扫描测量，进行高度方向上的轮廓测量。2.支持线激光3D扫描成像，可实现3D扫描成像和空间测量。3.VisionX测量软件支持多种轮廓测量和3D空间测量，无缝连接2D/3D混合测量。频闪照明光源、高速硬件飞拍1.具备频闪照明光源，支持频闪和普通双模式。2.支持飞拍模式测量，测量效率提升5~10倍。3.融入中图闪测仪的拼接测量功能，发挥综合优势。可更换RGB表光、独立升降表光1.可更换RGB表光和白色表光，适应多种复杂颜色和材料表面。2.表光可独立升降，更好的观察样品表面。3.支持六环八分区表面光、透射光、同轴光分段编程控制。自动测量，批量更快1.程序匹配工件坐标系，自动执行测量流程。2.支持CAD图纸和Gerber图纸导入，坐标系匹配测量。3、CNC固定坐标系模式下，可快速精确地进行批量测量。操作简单，轻松无忧1.具备大幅面导航相机，快速实现工件定位。2.具有镜头防撞功能，轻松无忧。3.一体化操作界面，任何人都能轻松设定和测量。软件测量功能1.量测工具：扫描提取边缘点、多段提取边缘点、圆形提取边缘点、椭圆提取、框选提取轮廓线、聚焦点、最近点等。2.可测几何量： 点、线、圆（圆心坐标、半径、直径）、圆弧、中心、角度、距、线宽、孔位、孔径、孔数、孔到孔的距离、孔到边的距离、弧线中心到孔的距离、弧线中心到边的距离、弧线高点到弧线高点的距离、交叉点到交叉点的距离等。3.构建特征：交点、中心点、极值点、端点、两点连线、平行线、垂线、切线、平分线、中心线、线段融合、半径画圆、三线内切圆、两线半径内切圆等。4.形位公差：直线度、圆度、轮廓度、位置度、平面度、对称度、垂直度、同心度、平行度等形位公差评定。5.坐标系：仪器坐标系、点线、两点 X、两线等工件坐标系；图像配准坐标系；可平移、旋转、手工调整坐标系。6.快速工具：R角、水平节距、圆周节距、筛网、槽孔、轮廓比对、弹簧、O型圈等特殊工具快速测量。7.支持公差批量设置、比例等级划分、颜色自定义管理。测量界面Novator中图激光扫描3D光学影像测量仪具备多种测量功能，包括表面尺寸、轮廓、角度与位置、形位公差、3D空间形貌与尺寸结构等的精密测量。可实现各种复杂零件的表面尺寸、轮廓、角度与位置、形位公差、3D空间形貌与尺寸结构等精密测量。Novator可用于机械、电子、模具、注塑、五金、橡胶、低压电器、磁性材料、精密冲压、接插件、连接器、端子、手机、家电、印刷电路板、医疗器械、钟表、刀具、计量检测等领域。高度测量Novator中图激光扫描3D光学影像测量仪配备（1）触发式测头；（2）点激光(激光同轴位移计)；（3）三角激光三种传感器配置，能精准测量零件高度尺寸。1、接触式测量影像测量仪+触发式测头组合相当于一台小的三坐标测量仪，也就是我们说的复合式影像测量仪，在需要测量高度的地方，用探针取元素（点或者面），然后运用影像测量仪软件中的Z轴自动对焦功能，测量得出高度。2、非接触式测量通过搭载点激光(激光同轴位移计)、三角激光传感器配置，点激光轮廓扫描测量以及线激光3D扫描成像进行高度测量，平面度测量，针对镜面和光滑斜面均可测量；或是运用影像测量仪软件中的Z轴自动对焦功能，测量得出高度，这样的测量方法可以减少人为误差，不管是谁来测量，都可以测得同样的数值，非常简单方便。平面度测量在测量平面度时，可以将待测物放置在二维影像仪的工作台上，使用光学放大镜头和图像处理软件来检测物体表面的高低差异，并计算出物体表面的平坦度参数。通过与标准样品的比较，可以判断物体表面是否符合规定的平面度要求。需要注意的是，二维影像仪在测量平面度时，需要选择合适的光学放大倍率和图像处理算法，以保证测量结果的准确性和可靠性。光学测头平面度测量3D形貌测量Novator二次元影像测量仪搭载高精度线扫激光测头，无接触扫描3D轮廓成像，抑制多重反射，能够快速实现尺寸的精准批量测量。通过3D成像视图，可观察到产品形貌的微小特征，可实时输出2D、3D图像保存，支持2D、3D产品尺寸测量。部分技术指标型号Novator432行程范围X(mm)400Y(mm)300Z(mm)200图像传感器高清彩色工业摄像机显示器24英寸 LCD显示器（1920×1080）放大倍率光学放大0.6~8.0X 影像放大17~232X照明系统透射光远心透射照明（绿色）表面光6环8分区分割照明（白光）；选配，可更换RGB光源同轴光LED光3D扫描成像测量Z向测量范围5mm扫描宽度30mm支持飞拍测量模式支持支持导航相机支持传感器配置选配，(1)接触式探针；(2)白光共焦；(3)三角激光外形尺寸(mm)860*1350*1670仪器重量(Kg)650恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

激光扫描测径仪仪器性能指标 *测量范围：0.2-30mm(ETB-05B)、　　*灵敏度：1um　　*测量精度：±2-5um(ETB-05B)　　*环境温度：4-40℃　　*环境湿度：85%无凝露　　*仪器功耗：小于 50W　　*工作电压：AC220V 50HZ±10%　　*扫描速度：大于 50 米/秒　　激光扫描测径仪注意事项　　5.1 本仪器属精密仪器，应尽量避免高温，高湿落尘及有腐蚀性气体的环境中使用，否则，仪器的使用寿命和精度将受到影响。　　5.2 仪器安装要稳固可靠，避免过强机械振动。　　5.3 仪器使用时，供电电源须加稳压措施，仪器应避免安装在具有强烈电磁干扰的电器设备附近。　　5.4 仪器在现场使用时，请注意测量头测量窗口的清洁，当窗口有尘埃附着时，可使　　用专用镜头刷喷气轻拭即可，如有较严重的油性污渍，可用脱脂棉沾纯净的酒精和混合液由上往下旋转擦拭，不可来回擦拭，以免造成重复污染。　　5.5 为延长仪器寿命，使用时请避免不必要的开关机操作，严禁随意拆御测量头，请勿眼睛直接盯视激光束。　　一般故障及处理　　*开机后无反映：　　a，电源未接好 　　b，电压值不对 　　*显示全部为零：测试场无工作或遇大和遇小，注意待测位置及仪器的测量范围。　　*显示不稳定：　　a，仪器接地不良 　　b，受周围大型用电器或发射影响 　　c，工作振动过大 　　d，环境振动过大 　　e，窗口凝露或污染 　　f，测量区内有烟雾，尘埃 　　g，待测工作表面不规则 　　h，需要更换激光器，仪器使用的激光器设计为耗材结构，容易拆装，方便用户更换，激光器的使用寿命为 80000 小时，如果连续使用，每半年更换一次。　　*死机：自检时有强烈干扰，需要重新启动 　　*其它不明现象：通知生产厂。

成贯仪器提供奥林巴斯OLS4500显微镜报价，同时包括奥林巴斯探针扫描显微镜OLS4500图片、奥林巴斯显微镜OLS4500参数、奥林巴斯纳米检测显微镜OLS4500使用说明书、奥林巴斯显微镜OLS4500价格、奥林巴斯显微镜OLS4500维修、奥林巴斯激光共聚焦显微镜OLS4500经销商价格等信息，为您购买奥林巴斯OLS4500显微镜提供有价值的产品因为有我，所以会更好，成贯专业、诚信、值得信赖成贯仪器——显微系统、光学仪器、外科手术设备、实验室耗材等供应商LEXT OLS4500是一款集成了激光显微镜和探针扫描显微镜功能于一体的新型纳米检测显微镜，可以实现从50倍到最高100万倍的超大范围的观察和测量。OLS4500为您带来最新的解决方案实现纳米级观测的新型显微镜。不会丢失锁定的目标。配有涵盖了低倍观察到高倍观察的4种物镜，并在电动物镜转换器上装配了SPM单元。可以无缝切换倍率和观察方法，不会丢失观察对象。此外，该款显微镜可以进行纳米级观测。电动物镜转换器切换倍率和观察方法涵盖了低倍到高倍观察，并配有多种观察方法可以迅速发现观察对象。可以完成低倍到高倍的大范围倍率观察。不仅如此，先进光学技术打造的光学显微镜带来多种观察方法，可以容易的发现观察对象。此外，对于光学显微镜难以找到的观察对象，还可以使用激光显微镜进行观察。在激光微分干涉（DIC）观察中，可以进行纳米级微小凹凸的实时观察。缩短从放置样品到获取影像的工作时间。放置好样品后，所有的操作都在1台装置上完成。可以迅速，正确的把观察对象移到SPM显微镜下面，所以只要扫描1次就能获取所需的SPM影像。 一体机的机型，所以无需重新放置样品只要在1台装置上切换倍率、观察方法就能够灵活应对新样品。 OLS4500是把光学显微镜、激光显微镜、探针显微镜融于一体的一体机，所以无需重新放置样品，即可自由切换3种显微镜进行观察和评价。这3种显微镜各自持有优异的性能，所以能够高效输出最佳结果。 OLS4500实现了无缝观察和测量【发现】可以迅速发现观察对象使用光学显微镜的多种观察方法，迅速找到观察对象OLS4500采用了白色LED光源，可以观察到颜色逼真的高分辨率彩色影像。它装有4种物镜，涵盖了低倍到高倍的大范围观察。OLS4500充分发挥了光学观察的特长，除了最常使用的明视场观察（BF）以外，还可以使用对微小的凹凸添加明暗对比，达到视觉立体效果的微分干涉观察（DIC），以及用颜色表现样品偏光性的简易偏振光观察。此外，OLS4500上还配有HDR功能（高动态范围功能），该功能使用不同的曝光时间拍摄多张影像后进行合成，来显示亮度平衡更好、强调了纹理的影像。在OLS4500上您可以使用多种观察方法迅速找到观察对象。 BF明视场最常使用的观察方法。在观察中真实再现样品的颜色。适用于观察有明暗对比的样品。DIC微分干涉对于在明视场观察中看不到的样品的微小高低差，添加明暗对比使之变为立体可视。适用于观察金 相组织、硬盘和晶圆抛光表面之类镜面上的伤痕或异物等。 简易偏振光照射偏振光（有着特定振动方向的光线）， 使样品的偏光性变为肉眼可视。适用于观察金相组织、矿物、半导体材料等。HDR高动态范围使用不同曝光时间拍摄多张影像并进行影像合成，可以观察平衡度较好的明亮部分和阴暗部分。此外，还可以强调纹理（表面状态），进行更精细的观察。 使用激光显微镜，可以观察到光学显微镜中难以观察到的样品影像OLS4500采用了短波长405 nm的激光光源和高N.A.的专用物镜， 实现了优异的平面分辨率。能以鲜明的影像呈现出光学显微镜中无法看到的观察对象。在激光微分干涉（DIC）模式中还可以实时观察纳米级的微小凹凸。【接近】迅速发现观察对象，在SPM上正确完成观察实现了无缝观察，不会丢失观察对象OLS4500在电动物镜转换器上装配了涵盖低倍到高倍观察的4种物镜， 以及小型SPM单元。在光学显微镜或激光显微镜的50倍、100倍的实时观察中， 由于SPM扫描范围一直显示于视场中心， 所以把观察目标点对准该位置后， 只要切换到探针显微镜， 就能够正确接近观察对象。因此， 只需1次SPM扫描就能获取目标影像， 从而能够提高工作效率并降低微悬臂的损耗。 不会在SPM观察中迷失的、可切换式向导功能使用探针显微镜开始观察之前， 可以在向导画面上设置所需的条件， 如安装微悬臂、扫描范围等。所以经验较少的操作者也能安心完成操作。 【纳米级测量】简单操作，可以迅速获得测量结果新开发的小型SPM测头，减少了影像瑕疵OLS4500采用了装在电动物镜转换器上的物镜型SPM测头。同轴、共焦配置了物镜和微悬臂前端，所以切换SPM观察时不会丢失观察目标点。不仅如此，新开发的小型SPM测头提高了刚性，所以与传统产品相比，减少了影像瑕疵并提高了可追踪性。新开发的小型SPM测头使用向导功能，自由放大SPM影像使用向导功能，可以观察时进一步放大探针显微镜拍到的影像的所需部分倍率。只要在影像上用鼠标指针设置放大范围并扫描， 就可以获取所需的SPM影像。可以自由设置扫描范围， 所以大幅度提高了观察和测量的效率。向导功能在10μm×10μm影像上放大3.5μm×3.5μm范围 优异的分析功能，应对各种测量目的OLS4500能够根据您的测量目的分析在各种测量模式中获取的影像，并以CSV格式输出测量结果。OLS4500有以下分析功能。截面形状分析（曲率测量、夹角测量）粗糙度分析形态分析（面积、表面积、体积、高度、柱状值、承载比）评价高度测量（指定线、指定面积）粒子分析（选项功能） 曲率测量（硬盘的伤痕）跟从向导画面的指示，可轻松操作的6种SPM测量模式接触模式控制微悬臂与样品之间作用的排斥力为恒定的同时， 使微悬臂进行静态扫描， 在影像中呈现样品的高度。还可以进行弯曲测量。 金属薄膜 动态模式使微悬臂在共振频率附近振动， 并控制Z方向的距离使振幅恒定， 从而在影像中呈现样品高度。特别适用于高分子化合物之类表面柔软的样品及有粘性的样品。 铝合金表面 相位模式在动态模式的扫描中， 检测出微悬臂振动的相位延迟。可以在影像中呈现样品表面的物性差。 高分子薄膜 电流模式对样品施加偏置电压，检测出微悬臂与样品之间的电流并输出影像。此外，还可以进行I/V测量。 Si电路板上的SiO2图案样品。高度影像（左）中显示为黄色的部分是SiO2。在电流影像（右）中显示 为蓝色（电流不经过的部分）。通过上图，可以明确电路板中也存在电流不经过的部分。 表面电位模式（KFM）使用导电性微悬臂并施加交流电压， 检测出微悬臂与样品表面之间作用的静电， 从而在影像中呈现样品表面的电位。也称作KFM（Kelvin Force Microscope）。 磁带样品。在电位影像中可以看出数百mV的电位差分布于磁带表面。这些电位差的分布，可以认为是磁带表面的润滑膜分布不均匀。 磁力模式（MFM）在相位模式中使用磁化后的微悬臂进行扫描，检测出振动的微悬臂的相位延迟， 从而在影像中呈现样品表面的磁力信息。也称作MFM（Magnetic Force Microscope）。 硬盘表面样品。可以观察到磁力信息。 装配了激光扫描显微镜，灵活应对多种样品 轻松检测85°尖锐角采用了有着高N.A.的专用物镜和专用光学系统（能最大限度发挥405nm激光性能），LEXT OLS4500 可以精确地测量一直以来无法测量的有尖锐角的样品。 LEXT 专用物镜 有尖锐角的样品（剃刀） 高度分辨率10nm，轻松测量微小轮廓由于采用405 nm的短波长激光和更高数值孔径的物镜，OLS4500达到了0.12μm的平面分辨率。因此，可以对样品的表面进行亚微米的测量。结合高精度的光栅读取能力和奥林巴斯独有的亮度检测技术，OLS4500可以分辨出亚微米到数百微米范围内的高度差。此外， 激光显微镜测量还保证了测量仪器的两大指标——“正确性”（测量值与真正值的接近程度）和“重复性”（多次测量值的偏差程度）的性能。0.12μm行间距高度差标准类型B,PTB-5, Institut für Mikroelektronik,Germany,6 nm高度测量中的检测从大范围拼接影像中指定目标区域高倍率影像容易使视场范围变小，而通过设置，OLS4500的拼接功能最多可以拼接625幅影像，从而能够获得高分辨率的大范围视图数据。不仅如此，还可以在该大范围视图上进行3D显示或3D测量。可用于传统的线粗糙度测量，也可用于信息量较多的面粗糙度测量 越来越重要的表面粗糙度测量近年来，工业产品越来越趋于小型化和轻量化，所以构成产品的各种部件也越来越精细化。随着这些部件的精细化，除了形状测量以外，表面粗糙度测量的重要性也日益提高。为了应对这些市场需求，ISO规定的立体表面结构测量仪器中，添加了激光显微镜和AFM（ISO 25178-6）。因此，与传统的接触式表面粗糙度测量相同，非接触式表面粗糙度测量也被认定为公认评价标准。OLS4500中配置了符合ISO规定的粗糙度参数。在面粗糙度测量中详细掌握粗糙度的分布和特点在非接触式表面粗糙度测量中，除了线粗糙度还可以测量面粗糙度。在面粗糙度测量中可以掌握样品表面上指定区域内粗糙度分布和特点，并能够与3D影像对照评价。OLS4500可以根据不同样品和使用目的，分别使用激光显微镜功能或探针显微镜功能测量表面粗糙度。焊盘,激光显微镜的面粗糙度测量（105μm×105μm） 探针显微镜的面粗糙度测量（10μm×10μm） OLS4500的粗糙度参数参数兼容性OLS4500具有与接触式表面粗糙度测量仪相同的表面轮廓参数，因此具有相互兼容的操作性和测量结果。截面曲线Pp, Pv, Pz, Pc, Pt, Pa, Pq, Psk, Pku, Psm, PΔq, Pmr(c), Pδc, Pmr粗糙度曲线Rp, Rv, Rz, Rc, Rt, Ra, Rq, Rsk, Rku, Rsm, RΔq, Rmr(c),Rδc, Rmr, RZJIS, Ra75波动曲线Wp, Wv, Wz, Wc, Wt, Wa, Wq, Wsk, Wku, Wsm, WΔq, Wmr(c), Wδc, Wmr负荷曲线Rk, Rpk, Rvk, Mr1, Mr2基本图形R, Rx, AR, W, Wx, AW, Wte粗糙度 (JIS1994)Ra(JIS1994), Ry, Rz(JIS1994), Sm, S, tp其他R3z, P3z, PeakCount 适应下一代参数OLS4500具有符合ISO25178的粗糙度（3D）参数。通过评估平面区域，可以进行高可靠性的分析。振幅参数Sq, Ssk, Sku, Sp, Sv, Sz, Sa功能参数Smr(c), Sdc(mr), Sk, Spk, Svk, SMr1, SMr2, Sxp体积参数Vv(p), Vvv, Vvc, Vm(p), Vmp, Vmc横向参数Sal, Str OLS4500的显微镜技术光学显微镜的原理和特长光学显微镜是从样品上方照射可见光（波长约400 nm到800 nm）， 利用其反射光成像， 能够放大样品数十倍到一千倍左右进行观察。光学显微镜的特长是可以真实观察彩色样品， 还可以切换观察方法， 强调样品表面的凹凸， 利用物质的特性（偏光性）进行观察。OLS4500上可以使用下述观察方法。&bull 明视场观察 最基本的观察方法，通过样品的反射光成像进行观察&bull 微分干涉观察 给样品表面的微小凹凸添加明暗对比，使之变为可视的立体影像&bull 简易偏振光观察 照射偏振光（有着特定振动方向的光线），把样品的偏光性变为可视影像明视场观察可以获取颜色信息。纸张上的墨点 激光显微镜的原理和特长可进行亚微米级观察和测量的激光显微镜（LSM:Laser Scanning Microscope)光学显微镜的平面分辨率很大程度上取决于所用光的光子和波长，采用短波长的激光扫描显微镜（LSM）比采用可见光的传统显微镜，拥有更高的平面分辨率。 LEXT OLS4500采用405nm的短波长半导体激光、高数值孔径的专用物镜、以及独特的共焦光学系统，可以达到0.12μm的平面分辨率。此外，OLS4500配有奥林巴斯独有的扫描加扫描型2D扫描仪，可以实现高达4096×4096像素的高精度XY扫描。激光显微镜的高精度XY扫描（示例） 卓越的Z轴测量激光显微镜采用短波长半导体激光和独有的双共焦光学系统，会删除未聚焦区域的信号，只将聚焦范围内的反射光检测为同一高度。同时结合高精度的光栅读取能力，可以生成高画质的影像，实现精确的3D测量。高度测量（微透镜） 探针显微镜的原理和特长可以观察纳米级微观世界的探针显微镜(SPM:Scanning Probe Microscope)探针显微镜（SPM）是通过机械式地用探针在样品表面移动，检测出探针与样品之间产生的力、电的相互作用，同时进行扫描，从而得到样品影像。探针尖端曲率半径为10 nm左右。典型的探针显微镜是原子力显微镜（AFM），它通过检测探针和样品表面之间作用的引力和张力进行扫描并获得影像。探针显微镜能够观察纳米级微观形貌，可以捕捉到样品最精细的一面。探针显微镜的原理 通过微悬臂扫描进行纳米观察OLS4500上采用了光杠杆法——通过高灵敏度检测出最前端装有探针的微悬臂的微小弯曲量（位移）来进行观测的方法。在悬臂的背面反射激光，并用压电元件驱动Z轴，使激光照射到光电检测器的指定位置，从而正确读取Z方向的微小位移。SPM传感器光路图 多种观察模式在影像中呈现表面形状和物性探针显微镜拥有多种观察模式，可以观察、测量样品表面的形状，还可以进行物性分析。OLS4500配有以下模式。&bull 接触模式：在影像中呈现表面形状（较硬的表面）&bull 动态模式：在影像中呈现表面形状（较软的表面、有粘性的表面）&bull 相位模式：在影像中呈现样品表面的物性差&bull 电流模式*：检测出探针和样品之间的电流并输出影像&bull 表面电位模式（KFM）*：在影像中呈现样品表面的电位&bull 磁力模式（MFM）*：在影像中呈现样品表面的磁性信息 * 该模式为选项功能。高分子薄膜 决定高精细度、高质量影像的微悬臂探针位于长度约100μm～200μm的薄片状微悬臂的前端。您可以根据样品选择不同的弹簧常数、共振频率。反复扫描会磨损探针， 所以请根据需要定期更换微悬臂探针。 高精度微悬臂实现了高可靠性探针显微镜的平面分辨率由探针前端的直径决定。奥林巴斯独自开发、生产微悬臂，其探针前端的尖锐直径质量稳定，可靠性很高。此外，奥林巴斯的一系列独创设计—使探针定位更加容易的“TipView”构造、镊子型易于夹取物体的“新概念探针”等，不仅提高了观测精度，还使操作变得更加轻松。 ※微悬臂产品的详细信息，请参阅微悬臂产品目录。 OMCL-AC160TS-C3 標準标准硅胶微悬臂高Q值带来的高分辨率测量 该型号是最常使用的动态模式专用微悬臂，适用于表面粗糙度测量。 OMCL-AC240TS-C3低弹簧常数硅胶微悬臂可用于再现性较好的粘性和弹性测量该型号作为动态模式专用的硅胶微悬臂，其弹簧常数最小《2N/m(Nom.)》,适用于粘性、弹性的测量等。 OMCL-TR800PSA-1 标准氮化硅微悬臂低损耗、优异的耐久性该型号常用于接触模式，其特点是探针柔软、探针损耗较小。每个前端带有100μm和200μm长两种微悬臂。 兼容多种微悬臂。微悬臂更换方法简单而易于掌握请根据您的使用频度定期更换微悬臂。OLS4500上的电动物镜转换器、SPM测头、微悬臂支架已经被精确调整过，所以只要把已调好微悬臂位置的支架插入SPM测头中即完成更换。微悬臂和支架的位置调整需要使用专用工装夹具，所以谁都可以正确而轻松的完成操作。此外，其他各种型号的微悬臂也按照同样方法更换，提高了观察和测量的效率。 微悬臂位置调整专用工装夹具 应用DVD表面（扫描区域 5μm×5μm 3D影像） 可清楚观察到DVD刻录面的凹陷和表面状态。维氏硬度计压痕（扫描区域 20μm×20μm 3D影像）可清楚观察到从压痕顶角延伸的裂痕。 TiO2单结晶电路板（扫描区域 5μm×5μm 3D影像） 可观察到约0.3 nm的TiO2（二氧化钛）的原子台阶。IC元件圆孔（扫描区域 4μm×4μm 3D影像） 可观察到元件表面附着的微小异物（白色部分）。 高分子薄膜（扫描区域 10μm×10μm 3D影像） 可观察到薄膜表面的划痕（中间靠左）。铝合金阳极氧化膜（扫描区域 1.8μm×1.8μm 表面电位模式（KFM模式）,左：高度影像,右：电位影像）观察到铝合金阳极氧化膜的表面形状（左）的同时，观察到表面电（右）。形状影像上没有显示出来的网眼状构造，可在电位影像上清楚的看到。 彩色印刷光学显微镜（50x）彩色印刷SPM（扫描区域 5μm×5μm 3D影像）乳酸菌LSM（扫描区域 100μm×100μm）乳酸菌SPM（扫描区域 20μm×20μm 高度影像） 墨粉粒子LSM（扫描区域 80μm×80μm 右上：10μm×10μm） 主机 规格LSM部分光源、检出系统光源：405 nm半导体激光、检出系统：光电倍增管总倍率108～17,280X变焦光学变焦：1～8X测量平面测量重复性100x : 3σn-1=0.02μm、50x：3σn-1=0.04μm、20x：3σn-1=0.1μm正确性测量值的±2%以内高度测量方式物镜转换器上下驱动方式行程10mm内置比例尺0.8nm移动分辨率10nm显示分辨率1nm重复性100x :σn-1= 0.012μm、50x：σn-1＝0.012μm、20x：σn-1＝0.04μm正确性0.2+L/100 μm以下（L＝测量长度）彩色观察部分光源、检出系统光源：白色LED、检出系统：1/1.8英寸200万像素单片CCD变焦码变焦：1～8X物镜转换器6孔电动物镜转换器微分干涉单元微分干涉滑片：U-DICR、内置偏振光片单元物镜明视场平面半消色差透镜5X LEXT专用平面复消色差透镜20X、50X、100XZ对焦部分行程76 mmXY载物台100 x 100 mm（电动载物台）SPM部分运行模式接触模式、动态模式、相位模式、电流模式*、表面电位模式（KFM）*、磁力模式（MFM）*位移检出系统光杠杆法光源659 nm半导体激光检出设备光电检测器最大扫描范围X-Y：最大 30 μm x 30 μm、Z：最大 4.6 μm安装微悬臂在盒式微悬臂支架上一键安装。使用微悬臂安装位置调整专用工装夹具预对位，更换支架时无需光学调整。系统总重量约440 kg（不包含电脑桌）额定输入100－120 V/220－240 V、600 VA、50/60 Hz*该功能为选项功能。物镜规格型号倍率视场工作距离（W.D.）数值孔径（N.A.）MPLFLN5X108-864X2,560-320μm20.0mm0.15MPLAPON20XLEXT432-3,456X640-80μm1.0mm0.60MPLAPON50XLEXT1,080-8,640X256-32μm0.35mm0.95MPLAPON100XLEXT2,160-17,280X128-16μm0.35mm0.95微悬臂规格用途型号类型探针数量微悬臂探针材质金属膜涂层共振频率(kHz)弹簧常数(N/m)高度 (μm）前端半径(nm）探针/微悬臂探针涂层/反射涂层动态模式/相位模式OMCL-AC160TS-C3标准硅胶2430026147Si/Si无/AlOMCL-AC240TS-C3低弹簧常数硅胶24702147Si/Si无/Al接触模式OMCL-TR800PSA-1标准氮化硅3473/240.57/0.152.915SiN/SiN无/Au表面电位模式OMCL-AC240TM-B3电气测量专用硅胶187021415Si/SiPt/Al微悬臂、探针的机械特性及尺寸均为代表值。 微悬臂非常小，请注意不要伤到眼睛或不小心吞咽。 电流模式、磁力模式中使用的微悬臂的详细信息，请咨询经销商。 除上表以外，还有其他规格的微悬臂。

使用进口配件 保障成像质量配置高性能Semrock滤光片、Coherent长寿命固态激光器、滨松多碱PMT，成就高图像质量。 可定制升级 加载各种功能模块如：CCD/SCOMS相机接口、电动Z轴扫描模块、适用于活细胞成像的超高灵敏度探测器等。通用性好 适用各品牌显微镜使用标准C型接口，无需额外配件即可与显微镜连接，搭建单点扫描共聚焦成像系统，获取高品质图像。 高性价比 宽场荧光显微镜升级方式一台简单的倒置荧光显微镜，即可搭配CSIM 100单点扫描模块，方便快速地升级为共聚焦成像系统，实现高分辨率共聚焦成像。进口品质、国产价格，全面的技术支持和售后服务。

3轴激光扫描振镜Novanta公司旗下的英国Cambridge Technology的提供 Lightning II 3D高精度高速振镜扫描头。Lightning II 3D旗舰高精度高速振镜扫描头Lightning II即“闪电2代”是我们的旗舰数字驱动激光扫描头，同时具备快速，高精度和长时间稳定工作的优点。是钻通孔，增材制造，微加工等应用的理想工具。而Lightning II 3D是在Lightning II 2D扫描头的基础上增加一个动态聚焦模块（DFM），这种模块化的、集成化的Z轴扫描头动态调节激光的Z轴焦点，提高了激光的处理速度和质量。同时动态聚焦模块DFM可以做到快速调整到不同的工作距离以及相应的工作面大小。Lightning II 3D参数指标：型号:Lightning II 3D20 mm30 mm50 mm镜片通光孔径20 mm30 mm50 mm扫描角度±20±22°±22°波长选项355 nm1050-1080 nm|9.36 μm 10.6 μm1050-1080 nm|9.36 μm 10.6 μm常规工作速度50 rad/s50 rad/s18 rad/s工作面范围200-2500 mm 100-1200mm|100-1000mm 100-1200mm|100-1000mm输入光斑尺寸1-3mm|2-3mm10 mm|17 mm10 mm|17 mm最小光斑尺寸(200x200 mm)12 μm|18 μm21 μm|213 μm21μm|213μm循迹延迟0.2 ms0.2 ms0.4 ms指令分辨率24-bit24-bit24-bit重复性2 μrad2 μrad2 μrad长时间漂移10 μrad10 μrad10 μrad温度漂移2 μrad/°C20 μrad/℃2 μrad/℃增材制造 激光微加工

Novator系列影像仪激光扫描3d成像智能化和自动化程度高，使测量变得简单。在测量一些弱边缘特征(如过渡曲线、圆角加工等)时能完成自动抓取，在保证精度的前提下，可以自动抓取产品的边界和表面，测量效率更高。Novator系列影像仪激光扫描3d成像将传统影像测量与激光测量扫描技术相结合，支持频闪照明和飞拍功能，1-2S自动聚焦速度快，处理去毛刺、弱边界等复杂边界提取能力强，可进行高速测量，并融入中图闪测仪的拼接测量功能，结合可独立升降和可更换RGB光源，可适应更多复杂工件表面，同时测量效率提升5~10倍。产品优势稳固移动平台、高测量精度1.精密大理石机台，稳定性好，精度高。2.精密线性滑轨和伺服控制系统，超低分贝静音级运动。3.三轴全自动可编程检测，实现复杂特征批量检测。激光扫描成像、3D复合测量1.支持点激光轮廓扫描测量，进行高度方向上的轮廓测量。2.支持线激光3D扫描成像，可实现3D扫描成像和空间测量。3.VisionX测量软件支持多种轮廓测量和3D空间测量，无缝连接2D/3D混合测量。频闪照明光源、高速硬件飞拍1.具备频闪照明光源，支持频闪和普通双模式。2.支持飞拍模式测量，测量效率提升5~10倍。3.融入中图闪测仪的拼接测量功能，发挥综合优势。可更换RGB表光、独立升降表光1.可更换RGB表光和白色表光，适应多种复杂颜色和材料表面。2.表光可独立升降，更好的观察样品表面。3.支持六环八分区表面光、透射光、同轴光分段编程控制。自动测量，批量更快1.程序匹配工件坐标系，自动执行测量流程。2.支持CAD图纸和Gerber图纸导入，坐标系匹配测量。3、CNC固定坐标系模式下，可快速精确地进行批量测量。操作简单，轻松无忧1.具备大幅面导航相机，快速实现工件定位。2.具有镜头防撞功能，轻松无忧。3.一体化操作界面，任何人都能轻松设定和测量。Novator系列影像仪激光扫描3d成像自动抓取数据点，测量点、线、圆、弧、椭圆、矩形等几何特征，自动分析测量特征的各种参数，如宽度、直径、位置、直线度、圆锥度、圆柱度等各种几何尺寸。结合专用测量软件对测绘要素数据进行处理、评价和输出。在保证精度的前提下，测量效率更高。高度尺寸测量Novator系列影像测量仪配备（1）触发式测头；（2）点激光(激光同轴位移计)；（3）三角激光三种传感器配置，能精准测量零件高度尺寸。1、接触式测量影像测量仪+触发式测头组合相当于一台小的三坐标测量仪，也就是我们说的复合式影像测量仪，在需要测量高度的地方，用探针取元素（点或者面），然后运用影像测量仪软件中的Z轴自动对焦功能，测量得出高度。2、非接触式测量通过搭载点激光(激光同轴位移计)、三角激光传感器配置，点激光轮廓扫描测量以及线激光3D扫描成像进行高度测量，平面度测量，针对镜面和光滑斜面均可测量；或是运用影像测量仪软件中的Z轴自动对焦功能，测量得出高度，这样的测量方法可以减少人为误差，不管是谁来测量，都可以测得同样的数值，非常简单方便。平面度尺寸测量在测量平面度时，可以将待测物放置在二维影像仪的工作台上，使用光学放大镜头和图像处理软件来检测物体表面的高低差异，并计算出物体表面的平坦度参数。通过与标准样品的比较，可以判断物体表面是否符合规定的平面度要求。需要注意的是，二维影像仪在测量平面度时，需要选择合适的光学放大倍率和图像处理算法，以保证测量结果的准确性和可靠性。光学测头平面度测量Novator可实现各种复杂零件的表面尺寸、轮廓、角度与位置、形位公差、3D空间形貌与尺寸结构等精密测量。Novator可用于机械、电子、模具、注塑、五金、橡胶、低压电器、磁性材料、精密冲压、接插件、连接器、端子、手机、家电、印刷电路板、医疗器械、钟表、刀具、计量检测等领域。部分技术指标型号Novator432行程范围X(mm)400Y(mm)300Z(mm)200图像传感器高清彩色工业摄像机显示器24英寸 LCD显示器（1920×1080）放大倍率光学放大0.6~8.0X 影像放大17~232X照明系统透射光远心透射照明（绿色）表面光6环8分区分割照明（白光）；选配，可更换RGB光源同轴光LED光3D扫描成像测量Z向测量范围5mm扫描宽度30mm支持飞拍测量模式支持支持导航相机支持传感器配置选配，(1)接触式探针；(2)白光共焦；(3)三角激光外形尺寸(mm)860*1350*1670仪器重量(Kg)650恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。如有疑问或需要更多详细信息，请随时联系中图仪器咨询。

中图仪器VT6000研究级共焦显微镜系统基于光学共轭共焦原理，结合精密纵向扫描、3D 建模算法等对器件表面进行非接触式扫描并建立表面3D图像，通过系统软件对器件表面3D图像进行数据处理与分析，并获取反映器件表面质量的2D、3D参数，从而实现器件表面形貌3D测量。在样品表面进行快速点扫描并逐层获取不同高度处清晰焦点并重建出3D真彩图像，VT6000研究级共焦显微镜系统具有较高的三维图像分辨率。一般用于略粗糙度的工件表面的微观形貌检测，可分析粗糙度、凹坑瑕疵、沟槽等参数。产品功能(1)设备具备表征微观形貌的轮廓尺寸及粗糙度测量功能；(2)设备具备自动拼接功能，能够快速实现大区域的拼接缝合测量；(3)设备具备一体化操作的测量与分析软件，预先设置好配置参数再进行测量，软件自动统计测量数据并提供数据报表导出功能，即可快速实现批量测量功能；(4)设备具备调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能；(5)设备具备粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)设备具备一键分析和多文件分析等辅助分析功能，可实现批量数据文件的快速分析功能；VT6000研究级共焦显微镜系统能够清晰地展示微小物体的图像形态细节，显示出精细的细节图像。它具有直观测量的特点，可测各类包括从光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等，可广泛应用于半导体制造及封装工艺检测，对大坡度的产品有更好的成像效果，在满足精度的情况下使用场景更具有兼容性。应用领域在半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中，对各种产品、部件和材料表面的面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、平面度、粗糙度、波纹度、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例：应用场景1、镭射槽测量晶圆上激光镭射槽的深度：半导体后道制造中，在将晶圆分割成一片片的小芯片前，需要对晶圆进行横纵方向的切割，为确保减少切割引发的崩边损失，会先采用激光切割机在晶圆表面烧蚀出U型或W型的引导槽，在工艺上需要对引导槽的槽型深宽尺寸进行检测。2、光伏在太阳能电池制作工程中，栅线的高宽比决定了电池板的遮光损耗及导电能力，直接影响着太阳能电池的性能。VT6000光伏检测仪器3D显微镜轮廓仪可以对栅线进行快速检测。此外，太阳能电池制作过程中，制绒作为关键核心工艺，金字塔结构的质量影像减反射焰光效果，是光电转换效率的重要决定因素。共聚焦显微镜具有纳米级别的纵向分辨能力，能够对电池板绒面这种表面反射率低且形貌复杂的样品进行三维形貌重建。3、其他部分技术指标型号VT6100行程范围X100mmY100mmZ100mm外形尺寸520*380*600mm仪器重量50kg测量原理共聚焦光学系统显微物镜10× 20× 50× 100×视场范围120×120 μm~1.2×1.2 mm高度测量宽度测量XY位移平台负载10kg控制方式电动Z0轴扫描范围10mm物镜塔台5孔电动光源白光LED恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。如有疑问或需要更多详细信息，请随时联系中图仪器咨询。

VT6000激光共聚焦成像显微镜是一款用于对各种精密器件及材料表面进行微纳米级测量的检测仪器。它基于光学共轭共焦原理，结合精密纵向扫描，以在样品表面进行快速点扫描并逐层获取不同高度处清晰焦点并重建出3D真彩图像，从而进行分析。VT6000国产共聚焦显微镜微一般用于略粗糙度的工件表面的微观形貌检测，可分析粗糙度、凹坑瑕疵、沟槽等参数。产品功能(1)设备具备表征微观形貌的轮廓尺寸及粗糙度测量功能；(2)设备具备自动拼接功能，能够快速实现大区域的拼接缝合测量；(3)设备具备一体化操作的测量与分析软件，预先设置好配置参数再进行测量，软件自动统计测量数据并提供数据报表导出功能，即可快速实现批量测量功能；(4)设备具备调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能；(5)设备具备粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)设备具备一键分析和多文件分析等辅助分析功能，可实现批量数据文件的快速分析功能；应用领域VT6000激光共聚焦成像显微镜各种产品、部件和材料表面的面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、平面度、粗糙度、波纹度、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例：功能特点1、测量模式多样VT6000激光共聚焦成像显微镜单区域、多区域、拼接、自动测量等多种测量模式可选择，适应多种现场应用环境；2、双重防撞保护功能Z轴上装有防撞机械电子传感器、软件ZSTOP防撞保护功能，双重保护；3、分析功能丰富3D：表面粗糙度、平整度、孔洞体积、几何曲面、纹理方向、PSD等分析；2D：剖面粗糙度、几何轮廓测量、频率、孔洞体积、Abbott参数等分析。应用场景1、镭射槽测量晶圆上激光镭射槽的深度：半导体后道制造中，在将晶圆分割成一片片的小芯片前，需要对晶圆进行横纵方向的切割，为确保减少切割引发的崩边损失，会先采用激光切割机在晶圆表面烧蚀出U型或W型的引导槽，在工艺上需要对引导槽的槽型深宽尺寸进行检测。2、光伏在太阳能电池制作工程中，栅线的高宽比决定了电池板的遮光损耗及导电能力，直接影响着太阳能电池的性能。共聚焦显微镜可以对栅线进行快速检测。此外，太阳能电池制作过程中，制绒作为关键核心工艺，金字塔结构的质量影像减反射焰光效果，是光电转换效率的重要决定因素。共聚焦显微镜具有纳米级别的纵向分辨能力，能够对电池板绒面这种表面反射率低且形貌复杂的样品进行三维形貌重建。3、其他部分技术指标型号VT6100行程范围X100mmY100mmZ100mm外形尺寸520*380*600mm仪器重量50kg测量原理共聚焦光学系统显微物镜10× 20× 50× 100×视场范围120×120 μm~1.2×1.2 mm高度测量宽度测量XY位移平台负载10kg控制方式电动Z0轴扫描范围10mm物镜塔台5孔电动光源白光LED恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

空区激光扫描仪ZDC3.0采用高性能测量装置与平板计算机结合，能够获得更高的成像解析度。空区激光扫描仪ZDC3.0适用于煤矿井下采掘工作面，回风巷道，机电峒室等工作环境。仪器采用了功能优越、可靠性高的芯片来实现整体的功能，可实现距离、面积、体积、角度的测量。具有体积小、重量轻、便于携带，使用简捷、维护方便，密封性能好、安全可靠等特点。测量终端和配套用的平板计算机通过蓝牙传输数据，两者协同使用，数据测量更便捷、准确、直观。结果可转为各种图纸文档保存转载查看，提供数据测量一体化解决方案。测量装置经国家指定的法定权威机构审查及检验。适用范围煤矿井下采掘工作面回风巷道。机电峒室特点1.蓝牙数据传输空区激光扫描仪ZDC3.0具有采集测量数据并通过蓝牙传输至平板计算机的功能；2.智能绘图具有根据上传数据绘制图纸的功能；3.多参数测量具有距离、面积、体积、角度测量功能；4.测量储存具有储存、查看、删除功能；5.音频功能具有摄像、录音、拍照及音视频播放功能

中图仪器VT6000激光共聚焦三维成像显微镜基于光学共轭共焦原理，结合精密纵向扫描，可以对器件表面进行非接触式扫描并建立表面3D图像。通过系统软件对器件表面3D图像进行数据处理与分析，并获取反映器件表面质量的2D、3D参数，从而实现器件表面形貌3D测量。一般用于略粗糙度的工件表面的微观形貌检测，可分析粗糙度、凹坑瑕疵、沟槽等参数。产品功能(1)设备具备表征微观形貌的轮廓尺寸及粗糙度测量功能；(2)设备具备自动拼接功能，能够快速实现大区域的拼接缝合测量；(3)设备具备一体化操作的测量与分析软件，预先设置好配置参数再进行测量，软件自动统计测量数据并提供数据报表导出功能，即可快速实现批量测量功能；(4)设备具备调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能；(5)设备具备粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)设备具备一键分析和多文件分析等辅助分析功能，可实现批量数据文件的快速分析功能；功能特点1、测量模式多样VT6000激光共聚焦三维成像显微镜单区域、多区域、拼接、自动测量等多种测量模式可选择，适应多种现场应用环境；2、双重防撞保护功能Z轴上装有防撞机械电子传感器、软件ZSTOP防撞保护功能，双重保护；3、分析功能丰富3D：表面粗糙度、平整度、孔洞体积、几何曲面、纹理方向、PSD等分析；2D：剖面粗糙度、几何轮廓测量、频率、孔洞体积、Abbott参数等分析。应用领域VT6000激光共聚焦三维成像显微镜可测各类包括从光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所中，对各种产品、部件和材料表面的面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、平面度、粗糙度、波纹度、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例：应用场景1、镭射槽测量晶圆上激光镭射槽的深度：半导体后道制造中，在将晶圆分割成一片片的小芯片前，需要对晶圆进行横纵方向的切割，为确保减少切割引发的崩边损失，会先采用激光切割机在晶圆表面烧蚀出U型或W型的引导槽，在工艺上需要对引导槽的槽型深宽尺寸进行检测。2、光伏在太阳能电池制作工程中，栅线的高宽比决定了电池板的遮光损耗及导电能力，直接影响着太阳能电池的性能。VT6000可以对栅线进行快速检测。此外，太阳能电池制作过程中，制绒作为关键核心工艺，金字塔结构的质量影像减反射焰光效果，是光电转换效率的重要决定因素。共聚焦显微镜具有纳米级别的纵向分辨能力，能够对电池板绒面这种表面反射率低且形貌复杂的样品进行三维形貌重建。3、其他部分技术指标型号VT6100行程范围X100mmY100mmZ100mm外形尺寸520*380*600mm仪器重量50kg测量原理共聚焦光学系统显微物镜10× 20× 50× 100×视场范围120×120 μm~1.2×1.2 mm高度测量宽度测量XY位移平台负载10kg控制方式电动Z0轴扫描范围10mm物镜塔台5孔电动光源白光LED恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

显微镜物镜扫描仪高精度亚纳米物镜扫描台/定位台！上海昊量推出的物镜扫描台采用压电陶瓷直推，以柔性铰链为导向使物镜扫描台具有结构紧凑、体积小、无机械摩擦、定位分辨率高等优点，采用硅位移传感器，物镜扫描台相比于传统的电容式位移传感器，物镜扫描台硅传感器使平移台拥有更高的精度和线性度以及较低的底噪。物镜扫描台的精度可以达到亚纳米，底噪低至10pm。上海昊量光电设备有限公司推出的压电平移台旨在满足超精密定位应用的需求。该平移台采用压电陶瓷驱动，以柔性铰链为导向使其结构紧凑、拥有小的体积、无摩擦、无间隙、定位分辨率高等优点。采用硅高精度位移传感器，与电容位移传感器相比拥有更高的精度、线性度和低底噪。由于其具有较高的精度、线性度和较低的底噪等优点，被广泛的应用于超分辨率显微镜，光学捕获和原子力显微镜等领域。AU-FOCHS采用管状设计，专门用于显微镜物镜快速高精度定位。该物镜扫描台可提供行程可达到100μm，精度可达到0.1 nm，谐振频率可达到1175Hz。它由铝、钢和黄铜构成，配备硅传感器，可提供皮米级的稳定性。以上优点使其拥有广泛的应用，例如，激光加工、显微成像、体容积成像，等还可以与相机系统结合使用实现自动对焦。AU-FOC是一款专门用于显微镜物镜准确定位的设备。该物镜扫描台可提供100/200/300/500μm不同行程。该物镜扫描台由铝和黄铜构成，结合硅传感器可提供皮米量级的稳定性。以上两款物镜扫描台的黄铜安装环可以轻松更换，因此几乎所有的物镜都可以与这两款物镜扫描台结合使用。可用的物镜大小有RMS, M25, M26, M27 和 M32.显微镜物镜扫描台产品特点：l 高分辨率（0.01nm）l 高速度，谐振频率可达1175Hzl 采用硅传感技术l 超低底噪l 柔性铰链导向显微镜物镜扫描台主要应用：l 自动聚焦系统l 共焦显微镜l 3D成像l 超分辨显微镜l 半导体计量学 显微镜物镜扫描台产品参数：更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电：上海昊量光电设备有限公司是国内知名光电产品专业代理商，代理品牌均处于相关领域的发展前沿；产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件等，涉及应用领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防及更细分的前沿市场如量子光学、生物显微、物联传感、精密加工、激光制造等；可为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等优质服务。您可以通过我们昊量光电的官方网站了解更多的产品信息，或直接来电咨询。

仪器简介：北京德华上海公司提供相关全能型纳米表面形貌、三维轮廓测量、粗糙度平面度等多款样机演示、客户做样并根据样品效果使具体配置达到最佳性价比，欢迎咨询沟通及技术交流；相关简介：http://oecsh.cn/oecsh/2010-04-11/1270945380d344.html技术参数：德国CFP激光共聚焦显微镜测量行程Z:1000µ m测量距离:4mm可测量抛光镜头测量频率:max.1000Hz敏感及软质材料分辨率Z:20nm适于反光不同的点分辨率XY:1µ m低反射率快速测量测量角度:approx.90° ± 25° *1测量光源:semiconductorlaser,660nm,class2*2主要特点：可测量抛光光学镜头测量敏感及软质材料适于反光率不同的反光点低反射率的材料也可快速测量