手动研磨精磨抛光一体机

&bull 应用简介磨抛这一步在金相制备中有多种不同的方式和组合。最常见的是用于研磨和抛光的台式磨抛机。无论什么形式都是为了得到一个无变形和可用于分析测试的试样表面。选择初始研磨的磨粒颗粒大小时，只需要能使表面磨平和去除切割在表面造成的损伤层即可。每个后续步骤应该是将变形逐渐变小，并同时能去掉上一步骤所造成的损伤。自始至终保持充足的润滑剂，通常为水，可最大程度地使变形层减到最小。 &bull 设备概述Fpol 201E是一款单盘、无级调速+两档定速、磨抛一体机。操作方便快捷，适用于金相试样粗磨、精磨、粗抛、精抛等各种金相加工全过程。完全满足全国大学生金相技能大赛对磨抛一体机的全部要求，是各企事业单位、科研院所及从事金相学术研究的优选设备。&bull 产品特点 ◇ 一机多用，轻松完成金相试样的预磨，粗磨，精磨，粗抛和精抛◇ 无级调速+两档定速，采用伺服控制系统，扭矩大，低速不卡顿，高速更平稳◇ 易于操控的开关和旋钮，操作简单◇ 实时显示磨抛盘转速◇ 磨抛盘经过精细研磨和表面处理◇ 磨抛盘运动过程中的精度小于3丝◇ 磨抛盘采用三点定位安装方式，保证平面度，方便拆卸 ◇ 整体成型的高强度复合材料外壳，坚固耐用，永不生锈 ◇ 高强度底座、粉末涂层处理 ◇ 完全满足全国大学生金相技能大赛对磨抛一体机的全部要求&bull 技术参数设备名称磨抛一体机设备型号Fpol 201E控制方式按键/旋钮磨抛盘数量1磨抛盘直径φ203mm磨抛盘转速无级调速：0-1400r/min两档定速：700r/min、1400r/min实时显示磨抛盘转向逆时针电机伺服控制，550W水龙头材质为不锈钢出水口接头材质为铜合金电源单相 AC220V 50Hz重量25KG产品尺寸纵向长度(含出水口)600mm，横向宽度400mm，高度(磨抛盘至桌面)180mm&bull 标准配置清单序号名称规格数量1. 设备主机Fpol 201E1台2. 金相砂纸φ200mm、P1805张3. 金相砂纸φ200mm、P3205张4. 金相砂纸φ200mm、P4005张5. 金相砂纸φ200mm、P6005张6. 金相砂纸φ200mm、P8005张7. 金相砂纸φ200mm、P10005张8. 金相砂纸φ200mm、P12005张9. 金相砂纸φ200mm、P15005张10. 金相砂纸φ200mm、P20005张11. 高品质金刚石悬浮抛光液500ml、2.5μm1瓶12. 黑色丝绒背胶抛光布φ200mm1张13. 卡圈/1个14. 防水圈/1个15. 进出水管及配套附件/1套16. 合格证、保修卡、说明书/1套

Qpol 30是一款便携式的手动磨抛机。优点便携式研磨抛光装置Control unit for 2 micromotorsIncreased torque due to reduction gear性能指标转速1000-40,000rpm，连续可调磨盘直径30 mm电压要求230 V / 50-60 Hz宽 x 高 x 深130 x 97 x 254 mm重量~ 2.3 kg

v 半导体研磨抛光机是一款操作简单的桌面型单面抛光设备，可搭配铜盘、锡盘、玻璃盘、不锈钢盘等，配合不同类型的抛光液，适用于各种半导体材料的研磨抛光，满足科研院校、企业的研发及小批量生产v 抛光盘规格：380mmv 陶瓷盘规格：139mmv 抛光头数量：2v 抛光盘转速范围：0~ 70RPM摆动幅度：±5mm

标乐(BUEHLER)是伊利诺伊工具公司的分公司，总部坐落在伊利诺伊州莱克布拉夫市。ITW是一家世界财富200强企业，在全球从事增值耗材、特种设备的工业产品制造并提供相关 服务。是最早为材料分析行业制造科学设备和材料的厂商。现已在9国成立办事处、在 100多个国家设立销售网点并拥有超过45个标乐解决方案中心。Ecomet250手动研磨/抛光机49-7200 Ecomet250功能：通过选用不同的研磨偷光介质,完成样品从粗磨至精抛的样品制备过程。主要技术指标：• 磨盘工作功率：7505.• 磨盘直径：250mm。• 底盘转速：10-500转/分钟，转动方向可调.• 触摸面板控制。• 水流出口，出水大小/方向可调节。• 安全性能：紧急停车旋钮。• 面板控制：磨盘转向，工作时间，水流开关。• 外形尺寸及设备重量：506X621X470mm,45KG。• 工作环境：220V/50HZ ,清洁自来水.

锻磨针仪（Microforge-Grinding System）锻磨针仪作为玻璃微管再加工设备，具备对玻璃微管进行精细研磨和锻造抛光等功能，其特点为一个显微观察系统中，具有磨针模块和锻针模块。MPI微科精密锻磨针仪，既可以实现对玻璃微针精细研磨斜切口、平口等，也可以实现对玻璃针尖热断口、电极抛光、弯曲针尖、锐化拉尖、热封接等操作。锻磨针仪PGF-22C的磨针模块中提供一个光学平面的磨盘，在显微镜下硼硅酸盐玻璃移液管（玻璃微电极、显微注射针、颗粒/细胞捕获针、显微切割针等）与磨盘接触，以一定的转速，将目标物制作成锋利的前端，亦可处理成不同斜切角度。这种通过磨针仪处理后的微电极、显微注射针、移液管等，减小微电极的电阻、注射针易于刺入细胞因而对细胞的破坏小、减少切面的毛刺等。微科精密MPI供应的锻磨针仪PGF-22C的锻针模块中，加热丝和玻璃微针夹持杆均可以多角度调节和三维移动，加热量通过数显直观实时显示，更加精准。配备脚踏开关，方便操作。双LED照明光源，背景亮度和微针轮廓亮度独立可调，使得微针加工过程中在显微镜观察系统100倍以上的放大倍率下，依然可清晰操作。

MetPrep 1™ 研磨/抛光机推荐用于手工制样，或使用手持工具抛光易碎样品。可数字化控制所有操作，包括运行/停止、研磨盘转速、研磨盘的旋转方向和冷却液流量。其坚固的结构和分离式的研磨盘主轴可有效的消除振动。精密研磨盘保证了垂直运行偏差小于5微米，可良好的应用抛光膜抛光。不论顺时针或逆时针的方向，研磨盘转速可在5-350的范围内平滑的进行调整，始终一致的保持低扭矩转速。电子螺线管激活冷却液，并用一个控制阀轻易的实现流量控制。特点：l 可调节研磨盘速度：5-350 RPMl 强力的高扭矩马达：0.5马力（375瓦）l 坚固的铝/钢机身结构l 研磨盘可随意的顺/逆时针旋转l 采用触摸按键控制所有功能l 快速更换研磨盘设计l 电子冷却采用阀门调节控制l 易清洁，避免碎片堆积l 尺寸：15“宽x 26”深x 9“高（381×660×230毫米）l 美国ALLIED公司设计与制造 编号 规格5-2300 MetPrep 1™ ,100-240V 配件：编号图片描述5-20058" (203 mm)铝研磨盘5-2005M8" (203 mm)磁性铝研磨盘125-100118" 研磨盘卡箍69-100308"玻璃研磨盘

Qpol 200 M是一款用于金相制备的手动单盘磨抛机,工作盘直径为200 mm。耐冲击塑料內槽，采用粉末涂层的铝制外壳及设备内部的高标准技术，赋予了其安静、平稳运行的特点及最佳的制备结果。优点单盘研磨/抛光机速度可调磨盘脱水旋转功能（清洁加速）快速，便捷且无需工具的磨盘更换通过抬起工作盘，可轻松清洁/冲洗底槽铝制外壳，粉末涂层抗撞击塑料内槽手动水电磁阀内槽冲洗软管包括防溅挡圈和罩盖带状态指示的开始-停止按钮研磨抛光机 QPOL 200 M技术参数工作盘ø 200 mm转速20 - 600 rpm, 连续可调连接电源0.7 kVA电源供应200-240 V / 50/60 Hz (1Ph/N/PE) / 100-120 V / 50/60 Hz (1Ph/N/PE)宽 x 高 x 深~ 401 x 286 x 603 mm重量~ 20-25 kg加液系统（可选）Qdoser ONE

Qpol 300 M1是一款手动单盘磨抛机，工作盘尺寸Ø 250/300 mm. 在综合了人体工程学的触屏上，所有的过程参数以及便于手动操作的功能都清晰地显示出来并可以随时进行方便的更改。所有的过程参数都可以保存为制备方法。可调节的定时器和用于可视化当前磨抛压力的扭矩显示使得手动制备步骤也极为舒适和具有重现性。当制备开始或结束时，水阀自动打开/关闭。 甩干功能（加速清洁) 在制样过程结束时以750rpm的转速旋转3 秒钟，有助于磨抛盘脱水，之后自动关闭设备。极为强劲的、速度可控的驱动使得该型号适用于所有的制备步骤和材料。此外，工作盘可以顺时针/逆时针旋转。 耐冲击塑料內罩，采用粉末涂层的铝制外壳及设备的高标准技术，赋予了其安静、平稳运行的特点及最佳的制备结果。这款坚固耐用的设备可以加装Qpol Go自动磨抛头以及和Qdoser GO & Qdoser ONE手动加液系统组合使用，从而在样品制备过程中提供极大的灵活性和舒适性。优点单盘研磨/抛光机速度可调当前磨抛力的可视化定时功能自动水阀铝制外壳，粉末涂层顺时针和逆时针旋转通过抬起工作盘，可轻松清洁/冲洗底槽抗撞击塑料内槽可加装自动磨抛头Qpol GO研磨抛光机 QPOL 300 M1技术参数工作盘ø 250/300 mm转速30-600转/分，连续可调连接电源1.8 kVA工作功率 （主载荷）0.75 kW (S1)宽 x 高 x 深511 x 265 x 710 mm重量~ 37 - 45 kg水压1x 进水 R&half " 最大 6 bars加液系统（可选）Qdoser GO or Qdoser ONE磨抛头（升级加装选项）Qpol GO

UNIPOL-830金相研磨抛光机是我公司主要为各大院校及研究所、各金相实验室设计研发的一款手动研磨抛光机，不仅可以研磨抛光金属材料，也可以研磨抛光其它各类非金属材料，如晶体、陶瓷、玻璃、PCB板、岩样、矿样、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料及有机高分子材料等。UNIPOL-830金相研磨抛光机研磨抛光速度无极可调，压力大小手动控制，操作简单，使用方便，研磨过程中可直接接自来水进行冷却。砂纸或抛光垫的安装可以使用压圈装卡，也可以使用磁力吸附的方式安装，装卸方便，可根据个人需要，选择不同的安装方式。本机可选用压圈装卡或磁力吸附的方式安放砂纸与抛光垫，工作运行更加稳定。磁力吸附主要是为了克服传统装卡抛光织物打褶的缺点，将贴有压敏胶的抛光织物粘贴在研抛底片上，然后再吸附在磁力片上；其次，更便于砂纸及抛光垫的更换。产品名称 UNIPOL-830金相研磨抛光机产品型号 UNIPOL-830安装条件 1、温湿度：10-85%RH (at 25℃ 无凝露） 温度： 0-45℃。 2、设备周围无强烈震源和腐蚀气体。3、供电电源：出口标准设备：AC110/230V 50/60Hz 三极插座 10A 国内标准设备：AC220V 50Hz 国标三极插座 10A （插座必须有良好安全保护接地线）4、冷却水：设备配有上水口及下水口,需自行连接自来水及排水管线。5、气源：标配设备无需求6、工作台：建议在承重 100kg 以上操作台或桌面使用7、通风装置：良好的通风环境，无需特殊通风装置要求8、辅助设备（需另行购买）：推荐：1、SKCH-1 型精密测厚仪 2、SZKD-2 型自动搅拌滴料器、SKZD-3 型悬浮液滴料器 3、SKCS-1 型吹干机主要参数 1、设备供电端口：AC110/220V 转换 （国内 AC110V 无效）2、总功率：180W3、研抛盘直径：Φ203 mm4、研抛盘转速：50-600rpm（可调）5、抛光盘工位：1 工位6、主轴驱动电机：DC110V 165W7、控制方式：单片机+按键备注：1、设备供电有出口和国内两种供电区分，实际供电参数以产品后部粘贴标牌为准。 2、可按用户要求定制各种研抛盘，特殊卡具，专用零部件等。产品规格 8、产品规格：尺寸：L400×W580×H350mm净重：≈24kg序号名称数量图片链接1磁力片2片2研抛底片5片3砂纸8片4抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片5金刚石抛光膏1支序号名称功能类别图片链接1SKZD-2滴料器（可选）2SKZD-3滴料器（可选）3SKZD-4自动滴料器（可选）4SKZD-5滴料器（可选）5磁性树脂金刚石研磨抛光盘（可选）6UNIPOL-01型TEM楔形磨抛夹具（可选）

UNIPOL-1210金相研磨抛光机是我公司主要为各大院校及研究所、各金相实验室设计研发的一款手动研磨抛光机，主要用于研磨抛光各种金相试样，也可以研磨抛光其它各类非金属材料，如陶瓷、玻璃、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、岩样、矿样、耐火材料、复合材料及有机高分子材料等。UNIPOL-1210金相研磨抛光机采用了Ø 300mm的铝质研磨抛光盘，不仅具有优良的刚性、内复式性，而且在同样转速的情况下，可以获得较高的线速度，提高试样制作的效率。研磨抛光速度无极可调，压力大小手动控制，操作简单，使用方便，研磨过程中可直接接自来水进行冷却。砂纸或抛光垫的安装可以使用压圈装卡，也可以使用磁力吸附的方式安装，装卸方便，可根据个人需要，选择不同的安装方式。本机可选用压圈装卡或磁力吸附的方式安放砂纸或抛光垫，工作运行更加稳定。磁力吸附主要是为了克服传统装卡抛光织物打褶的缺点，将贴有压敏胶的抛光织物粘贴在研抛底片上，然后再吸附在磁力片上；其次，更便于砂纸及抛光垫的更换。无级调速，数字显示转数，操作方便。外形美观，运转平稳，噪音低。产品名称 UNIPOL-1210金相研磨抛光机产品型号 UNIPOL-1210安装条件 1、温湿度：10-85%RH (at 25℃ 无凝露） 温度： 0-45℃。 2、设备周围无强烈震源和腐蚀气体。3、供电电源：出口标准设备：AC110/230V 50/60Hz 三极插座 10A 国内标准设备：AC220V 50Hz 国标三极插座 10A （插座必须有良好安全保护接地线）4、冷却水：设备配有上水口及下水口,需自行连接自来水及排水管线。5、气源：标配设备无需求6、工作台：建议在承重 100kg 以上操作台或桌面使用7、通风装置：良好的通风环境，无需特殊通风装置要求8、辅助设备（需另行购买）：推荐：1、SKCH-1 型精密测厚仪 2、SZKD-2 型自动搅拌滴料器、SKZD-3 型悬浮液滴料器 3、SKCS-1 型吹干机主要参数 1、设备供电端口：AC110/220V 转换 （国内 AC110V 无效）2、总功率：180W3、研抛盘直径：Φ300 mm4、研抛盘转速：50-600rpm（可调）5、抛光盘工位：1 工位6、主轴驱动电机：DC110V 165W7、控制方式：单片机+按键备注：1、设备供电有出口和国内两种供电区分，实际供电参数以产品后部粘贴标牌为准。 2、可按用户要求定制各种研抛盘，特殊卡具，专用零部件等。产品规格 8、产品规格：尺寸：L650×W500×H250mm净重：≈33kg序号名称数量图片链接1磁力片2片2研抛底片5片3砂纸8片4抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片5金刚石抛光膏1支序号名称功能类别图片链接1UNIPOL-01型TEM楔形磨抛夹具（可选）

产品型号：Unipol-1502产品简介：Unipol-1502型精密研磨抛光机可用于加工制备各种晶体材料、陶瓷材料及金属材料而设计的新一代产品。该机配有直径381毫米的研磨抛光盘和三个加工工位。可研磨抛光直径&ge 100毫米或矩形的平面。采用UNIPOL1502型精密研磨抛光机及选购的附件，可自动批量生产高质量的平面磨抛产品。主要特点：1、超平抛光盘（平面度为每25毫米× 25毫米小于0.3微米） 2、超精旋转轴（托盘端跳小于8微米） 3、三个加工工件 4、带有数字式显示的无级调速 5、可自动停止工作的定时器 6、可配备自动送液的滴料器或循环泵技术参数：电源：交流110V或220V 速度：无级调速 定时器：定时范围为1分钟～99.99小时 外形尺寸：650mm× 510mm× 300mm（长× 宽× 高） 重量：95千克尺寸：810mm x 800mm x800mm 200kgs产品附件：150× 200&ldquo 00&rdquo 级精密花岗岩测厚仪； 自动混料及送液的滴料器； 搅拌循环泵； 各种配重块，以调整抛光和研磨的压力（100克-2000克）； 用于精细研磨抛光的铜及锡合金抛光盘； 易粘贴的抛光垫； 可根据客户要求设计载料块的大小。可选配件：二个直径381毫米的研磨抛光盘（铸铁盘和铸铝盘各一个） 三个修整环 三个载料块 三个支持修整环的支架 一本操作规程手册具体信息请点击查看：

锻磨针仪（Microforge-Grinding System）锻磨针仪作为玻璃微管再加工设备，具备对玻璃微管进行精细研磨和锻造抛光等功能，微科精密MPI供应的锻磨针仪PGF-22C其特点为一个显微观察系统中，具有磨针模块和锻针模块。MPI微科精密锻磨针仪，既可以实现对玻璃微针精细研磨斜切口、平口等，也可以实现对玻璃针尖热断口、电极抛光、弯曲针尖、锐化拉尖、热封接等操作。锻磨针仪PGF-22C的磨针模块中提供一个光学平面的磨盘，在显微镜下硼硅酸盐玻璃移液管（玻璃微电极、显微注射针、颗粒/细胞捕获针、显微切割针等）与磨盘接触，以一定的转速，微科精密MPI供应的锻磨针仪PGF-22C将目标物制作成锋利的前端，亦可处理成不同斜切角度。这种通过磨针仪处理后的微电极、显微注射针、移液管等，减小微电极的电阻、注射针易于刺入细胞因而对细胞的破坏小、减少切面的毛刺等。微科精密MPI供应的锻磨针仪PGF-22C的锻针模块中，加热丝和玻璃微针夹持杆均可以多角度调节和三维移动，加热量通过数显直观实时显示，更加精准。配备脚踏开关，方便操作。双LED照明光源，背景亮度和微针轮廓亮度独立可调，使得微针加工过程中在显微镜观察系统100倍以上的放大倍率下，依然可清晰操作。

LaboSystem快速实现可靠且可调节的研磨和抛光LaboSystem 事实锥盘系统椭圆状的防溅环和碗持久耐用性方便操作人员可满足您不断变化的需求LaboSystem 旨在在实验室或生产线旁实现快速且可靠的手动和半自动研磨和抛光，可随时执行检测操作。LaboSystem 是一种组装式研磨和抛光系统，有三种 LaboPol 抛光机、三种 LaboForce 移动盘和两种 LaboDoser 配料装置供选择。这三种装置有七种不同的组合，因此可充分满足要求苛刻的生产环境中不断变化的需求。Struers LaboSystem 还具备连续生产所需的耐用性和速度，有助于更加快速可靠的制备样品。可靠LaboPol 是由耐腐蚀和抗冲击的材料制造而成。全新的 LaboSystem 产品均已通过 40,000 次循环的耐用性测试以及在四个不同国家开展的为期六个月的现场测试。快速LaboSystem 是一款易于学习的系统，即使是没有操作经验的操作人员，也可在数分钟内完全掌握操作要领，实现全速制备。适应性强LaboSystem 的模块化设计允许用户根据自己的需求自由定制制备或研磨/抛光设备。可随时更新 LaboSystem，以满足新的要求。机型号LaboSystem 有许多型号，详细信息请参见规格。LaboPol-20：LaboPol-20： 可変速 (50-500 rpm) 的研磨/抛光机，适用于直径为 200 毫米的盘。配置手动防溅板和碗型衬板。LaboUI 控制面板和盘 要单独订购。可以安装试样移动盘 LaboForce-50。LaboPol-30：LaboPol-30： 可変速 (50-500 rpm) 的研磨/抛光机，适用于直径为 230、250 或 300 毫米的盘。配置手动防溅板和碗型衬板。LaboUI 控制面板和盘需要单独订购。可以安装试样移动盘 LaboForce-50/-100/Mi。LaboPol-60：LaboPol-60： 可変速 (50-500 rpm) 的研磨/抛光机，适用于直径 250 或 300 毫米的 2 种盘。每个盘均配有自动水阀、手动防溅板和碗型衬板。LaboUI 控制面板和盘需要单独订购。可以安装一个试样移动盘 LaboForce-50/-100。详情也可 点击此处 进入官网了解更多。

LaboSystem快速实现可靠且可调节的研磨和抛光LaboSystem 事实锥盘系统椭圆状的防溅环和碗持久耐用性方便操作人员可满足您不断变化的需求LaboSystem 旨在在实验室或生产线旁实现快速且可靠的手动和半自动研磨和抛光，可随时执行检测操作。 LaboSystem 是一种组装式研磨和抛光系统，有三种 LaboPol 抛光机、三种 LaboForce 移动盘和两种 LaboDoser 配料装置供选择。这三种装置有七种不同的组合，因此可充分满足要求苛刻的生产环境中不断变化的需求。Struers LaboSystem 还具备连续生产所需的耐用性和速度，有助于更加快速可靠的制备样品。可靠LaboPol 是由耐腐蚀和抗冲击的材料制造而成。全新的 LaboSystem 产品均已通过 40,000 次循环的耐用性测试以及在四个不同国家开展的为期六个月的现场测试。快速LaboSystem 是一款易于学习的系统，即使是没有操作经验的操作人员，也可在数分钟内完全掌握操作要领，实现全速制备。适应性强LaboSystem 的模块化设计允许用户根据自己的需求自由定制制备或研磨/抛光设备。可随时更新 LaboSystem，以满足新的要求。机型号LaboSystem 有许多型号，详细信息请参见规格。LaboPol-20：LaboPol-20：可変速 (50-500 rpm) 的研磨/抛光机，适用于直径为 200 毫米的盘。配置手动防溅板和碗型衬板。LaboUI 控制面板和盘要单独订购。可以安装试样移动盘 LaboForce-50。LaboPol-30：LaboPol-30：可変速 (50-500 rpm) 的研磨/抛光机，适用于直径为 230、250 或 300 毫米的盘。配置手动防溅板和碗型衬板。LaboUI 控制面板和盘需要单独订购。可以安装试样移动盘 LaboForce-50/-100/Mi。LaboPol-60：LaboPol-60：可変速 (50-500 rpm) 的研磨/抛光机，适用于直径 250 或 300 毫米的 2 种盘。每个盘均配有自动水阀、手动防溅板和碗型衬板。LaboUI 控制面板和盘需要单独订购。可以安装一个试样移动盘 LaboForce-50/-100。

UNIPOL-810精密研磨抛光机用于磨抛晶体、金属、陶瓷、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料及密封件等，如光学元件、化合物半导体基片、陶瓷基片、蓝宝石、钒酸钇、铌酸锂、砷化镓。本机配有桃形孔载物盘，更加方便了对镶嵌的或圆形的金相试样的磨抛。UNIPOL-810精密研磨抛光机可以进行手动磨抛也可以用机械臂控制载样块进行自动磨抛，研磨抛光样品的方向不改变，是一款可以多用的研磨抛光设备。UNIPOL-810精密研磨抛光机可以用研磨盘加磨料的方式研磨样品，也可以选用抛光盘贴砂纸的方式研磨样品，砂纸或抛光垫采用磁力吸附的方式装卡，装卸方便。具体选用砂纸研磨还是磨料研磨可根据被研磨样品的材质进行选择。1、配有滴料装置，可实现自动滴加研磨液。2、无级调速，数字显示。3、操作简单快捷。4、配有一个摆臂，可不用手动磨抛。产品名称 UNIPOL-810精密研磨抛光机产品型号 UNIPOL-810安装条件 1、温湿度：10-85%RH (at 25℃ 无凝露） 温度： 0-45℃。 2、设备周围无强烈震源和腐蚀气体。3、供电电源：出口标准设备：AC110/240V 50/60Hz 三极插座 10A 国内标准设备：AC220V 50Hz 国标三极插座 10A（插座必须有良好安全保护接地线）4、冷却水：设备配有上水口及下水口,需自行连接自来水及排水管线。5、气源：标配设备无需求6、工作台：建议在承重 100kg 以上操作台或桌面使用7、通风装置：良好的通风环境，无需特殊通风装置要求8、辅助设备（需另行购买）：推荐：1、HEATER-3040 或 250 加热平台、 2、SKCH-1 型精密测厚仪 3、GPC-系列精确磨抛控制仪（机械手） 4、SZKD-系列滴料器 5、SKCS-1 型吹干机主要参数 1、设备供电端口：AC110/220V 转换 （国内 AC110V 无效）2、总功率：175W3、磨抛盘直径：Φ203 mm4、平板载样盘直径：Φ80 mm5、桃型孔载样盘直径：Φ80 mm，桃型内孔 3xΦ26 mm6、工位数量 （定位机械臂）：1 工位7、滴料桶容积：1L8、主轴驱动电机：DC110V 165W9、研抛盘转速：20-600rpm（无级调速）10、控制方式：定时运行（倒计时）备注：1、设备供电有出口和国内两种供电区分，实际供电参数以产品后部粘贴标牌为准。 2、可按用户要求定制各种研抛盘，特殊卡具，专用零部件等。产品规格 11、产品规格：尺寸：L450×W500×H600mm净重：≈35Kg序号名称数量图片链接1铸铁研磨盘1个2铝合金磁力盘1个3载物盘1个4修盘环1个5桃型孔载物盘1套6磁力片2片7研抛底片5片8砂纸8片9抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片10金刚石抛光膏1支11刚玉研磨微粉0.5kg12石蜡棒4根序号名称功能类别图片链接1SKZD-2滴料器（可选）2SKZD-3滴料器（可选）3SKZD-4自动滴料器（可选）4SKZD-5滴料器（可选）5YJXZ-12搅拌循环泵（可选）6精密测厚仪（可选）7GPC-50A精确磨抛控制仪（可选）9UNIPOL-01型TEM楔形磨抛夹具（可选）

UNIPOL-160D双面研磨抛光机主要用于石英晶片、蓝宝石、陶瓷、玻璃、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、金属等片状材料的双面精密研磨抛光。本机采用涡轮蜗杆减速机为传动机构，通过齿轮组实现上、中、下三轴不同速度、不同方向的转动，使上、下研磨抛光盘和中间太阳轮产生速度差以及相对运动，而样件置于太阳轮驱动的载样行星齿轮内孔中，从而对其进行双面研磨抛光。UNIPOL-160D双面研磨抛光机可以选择用研磨盘加磨料研磨样品，也可以选择抛光盘贴砂纸的方式研磨样品。抛光盘贴砂纸是将砂纸贴在研抛底片上然后将研抛底片吸附在抛光盘上在进行研磨抛光。可以同时对多个样品一起进行研磨，研磨抛光的效率高，适合大量试样的研磨或工厂的小批量生产。1、转速采用手动调整变频器频率的控制方式。2、可同时对4片最大尺寸为Ø 2" 的基片进行双面研磨抛光。3、可进行薄片的双面减薄。4、是双面研磨抛光Si、 Ge 、氧化物单晶基片的理想工具。产品名称 UNIPOL-160D双面研磨抛光机产品型号 UNIPOL-160D安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：220V 50Hz2、功率：550W3、磨抛盘：Ø 225mm4、磨抛盘转速：0-72rpm内无级可调5、最大样件尺寸：Ø 50mm，厚度≤15mm6、上磨抛盘重量：3.5kg产品规格 尺寸：650mm×500mm×580mm；重量：80kg序号名称数量图片链接1研磨盘1个2抛光盘1个3修盘行星轮1个-4载样行星轮（电木）1个-5配重环1个6磁力片2片7研抛底片2片8抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片9金刚石抛光膏（W2.5）1支序号名称功能类别图片链接1可根据您的需要制作不同开孔的载样齿轮。（可选）-

UNIPOL-160D双面研磨抛光机主要用于石英晶片、蓝宝石、陶瓷、玻璃、金属等片状材料的精密双面研磨抛光。本机采用涡轮蜗杆减速机为传动机构，通过齿轮组实现上、中、下三轴不同速度、不同方向的转动，使上、下研磨抛光盘和中间太阳轮产生速度差以及相对运动，而样件置于太阳轮驱动的载样齿轮内孔中，从而对其进行双面研磨抛光。技术参数主要特点转速采用手动调整变频器频率的控制方式可同时对4片最大尺寸为Φ2" 的基片进行双面研磨抛光可进行薄片的双面减薄是双面研磨抛光Si、 Ge 、氧化物单晶基片的理想工具技术参数电源：220V 50Hz功率：550W磨抛盘：Φ225mm磨抛盘转速：0-72rpm内无级可调最大样件尺寸：Φ50mm，厚度≤15mm上磨抛盘重量：3.5kg产品规格尺寸：650mm×500mm×580mm；重量：80kg标准配件1研磨盘1套2抛光盘1套3修盘行星轮4个4载样行星轮（电木）8个5配重环3个6磁力片4片7研抛底片4片8抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各2片9研磨膏（W2.5）1支操作视频点击查看可选配件可根据您的需要制作不同开孔的载样齿轮。

手动磨片抛光机（LGP 250）LGP 250是专为小型研磨和抛光操作而设计的理想设备。在低产量应用中，该设备是最实用的实验室工具。尤其是例如教学实验中，使学生熟悉薄片制备步骤。此设备坚固，简单易用，以最小的投资同样得到高质量的抛光表面。在手动研磨和抛光过程中需要用悬浊液进行终抛。转速可调节范围10-600rpm。LGP 250结合磁性吸盘使用，可适用于各种SiC砂纸，金刚石砂纸，抛光垫以及抛光布。产品规格：重量：50公斤尺寸：526×589×380毫米电源：220VAC，50/60Hz研磨盘直径:250毫米研磨盘转速：10-600转/分钟产品优点：低速时也无振动易于快速清洁手动研磨和抛光Manual lapping, grinding and polishing machine (LGP 250 )The LGP 250 is a complete apparatus specifically designed for small-scale lapping, grinding and polishing operations. In low production volume applications, the device is an ideal educational tool for practical laboratory modules, where the goal is to familiarize students with the final thin section preparation steps. The robust, simple to use system provides high quality polished finish for a minimum investment. The disc speed can be varied from 10-600 rpm, during manual grinding, lapping and polishing processes and the final oxide suspension polishing. The LGP 250 allows for lapping on cast iron discs with SiC lapping powder, grinding with magnetic diamond grinding disc available in different grades and polishing with polishing cloths or magnetic polishing disc. FEATURES:Variable speed: 10 to 600 RPM Specimen size: 30x45mm or 60x45 mm (other upon request)Plate diameter: 250 mmDimensions:526 x 589 x 380 mmWeight: 50 kgPower supply: 220 VAC - 50/60 HzBENEFITS:* Vibration free at low speeds* Easy accessibility for fast cleaning* Manual lapping and grinding

GNAD系列高精度研磨抛光设备是MCF公司研制的覆盖半导体材料，光电材料等应用领域的精密磨抛设备。主要适用的材料包括：硅，砷化镓，铌酸锂，光纤，碳化硅，蓝宝石，碲锌镉等多种材料。设备结构及功能GNAD系列精密研磨抛光机包括主机，远程操控系统，夹具，真空系统，填料系统，研磨抛光盘等。主机及所有的零备件均采用高防腐蚀材料，整机防腐，适用于多种半导体材料的化学机械研磨抛光。设备的功能参数，可由独立的远程操控系统控制。远程操控系统可根据用户工艺等具体要求选择无线或有线方式控制主机。夹具配备晶片研磨厚度在线监测装置，数字显示，监测精度1um，夹具自身对晶片的压力连续可调。真空系统通过抽真空的方式将样品直接吸附在样品固定装置底面。根据不同工艺要求，真空系统可以直接吸附样品或者直接吸附贴有样品的玻璃基板。自动填料系统可根据不同的工艺要求，调整滴料速度，并在研磨料用完同时自动停机，以防止没有研磨料时对样品产生的损伤。设备可支持双多通道进料系统同时工作，实现化学研磨抛光等各种复杂的工艺。设备的摆臂配置样品水平转动驱动系统，大大提升了磨抛效率的同时，也更好的控制样品平整度。GNAD系列磨抛机具有实时在线监控磨抛盘温度变化和冷却选配功能。盘温接近预设温度警戒值，设备会自动启动冷却功能，保持磨抛盘在工艺要求的温度范围内运转工作。设备参数 电源: 240V、10A / 110V、10A 晶圆尺寸: GNAD4 4”x 1/2/3 GNAD6 6”x 1/2 工作盘直径: 300mm-420mm 盘转速: 0-120rpm 摆臂摆动频率: 0-30spm 工作时间: 0-10小时 MCF公司可根据用户需求，提供完整的工艺方案，同时定制匹配方案的设备机型。具体设备详情请咨询MCF中国！

UNIPOL-820金相研磨抛光机主要用于金属材料的研磨抛光，也用于其它各类非金属材料的研磨抛光，如陶瓷、玻璃、PCB板、岩样、矿样、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料及有机高分子材料等。UNIPOL-820金相研磨抛光机可选用压圈装卡或磁力吸附的方式安放砂纸与抛光垫，工作运行更加稳定。磁力吸附主要是为了克服传统装卡抛光织物打褶的缺点，将贴有压敏胶的抛光织物粘贴在研抛底片上，然后再吸附在磁力片上；其次，更便于砂纸及抛光垫的更换。UNIPOL-820金相研磨抛光机采用双研磨盘的结构，双盘可以同时开或单开，可以同时进行不同样品的研磨抛光操作而不会相互污染1、精密旋转，噪音低。2、双盘结构，使用更方便。3、数字显示速度。4、可配备自动滴料器或循环泵。产品名称 UNIPOL-820金相研磨抛光机产品型号 UNIPOL-820安装条件 1、温湿度：10-85%RH (at 25℃ 无凝露） 温度： 0-45℃。 2、设备周围无强烈震源和腐蚀气体。3、供电电源：出口标准设备：AC110/230V 50/60Hz 三极插座 10A 国内标准设备：AC220V 50Hz 国标三极插座 10A （插座必须有良好安全保护接地线）4、冷却水：设备配有上水口及下水口,需自行连接自来水及排水管线。5、气源：标配设备无需求6、工作台：建议在承重 100kg 以上操作台或桌面使用7、通风装置：良好的通风环境，无需特殊通风装置要求8、辅助设备（需另行购买）：推荐：1、SKCH-1 型精密测厚仪 2、SZKD-2 型自动搅拌滴料器、SKZD-3 型悬浮液滴料器 3、SKCS-1 型吹干机主要参数 1、设备供电端口：AC110/220V 转换 （国内 AC110V 无效）2、总功率：360W3、研抛盘直径：Φ203 mm4、研抛盘转速：50-600rpm（可调）5、抛光盘工位：2 工位6、主轴驱动电机：DC110V 165W7、控制方式：单片机+按键备注：1、设备供电有出口和国内两种供电区分，实际供电参数以产品后部粘贴标牌为准。 2、可按用户要求定制各种研抛盘，特殊卡具，专用零部件等。产品规格 8、产品规格：尺寸：L720×W530×H320mm净重：≈44Kg序号名称数量图片链接6磁力片4片7研抛底片5片8砂纸（240#、400#、800#、1500#）各2片9抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片10金刚石抛光膏（W2.5）1支序号名称功能类别图片链接1UNIPOL-01型TEM楔形磨抛夹具（可选）

西恩士仪器提供自动金相研磨抛光机SinPOL 4000S报价，同时包括自动金相研磨抛光机SinPOL 4000S图片、自动金相研磨抛光机SinPOL 4000S参数、自动金相研磨抛光机SinPOL 4000S使用说明书、自动金相研磨抛光机SinPOL 4000S价格、自动金相研磨抛光机SinPOL 4000S经销商价格等信息，自动金相研磨抛光机SinPOL 4000S维修、为您购买自动金相研磨抛光机SinPOL 4000S提供有价值的产品本机采用了先进的微处理器控制系统，使得磨抛盘、磨抛头的转速实现无级可调，制样压力、时间设定直观、便捷。操作者只需更换磨抛盘或者金相砂纸和抛光织物即可完成磨、抛工序的操作，从而使本机展现了更加广泛的应用性。本机具备磨抛盘旋转方向可任意选择、磨抛盘可快速更换；多试样夹持器和气动单点加载；磨料自动配送（分液器可选配）等功能，还具有转动平稳、安全可靠、噪音低及采用铸铝底座增加了磨抛的刚性等特点。本机带有水冷却装置和磨粒冲刷喷嘴，可以在研磨时对试样进行冷却，以防止因试样过热而破坏金相组织并随时将磨粒冲刷排走；再配以ABS外壳和不锈钢标准件，在外观上更加美观大方，并提高了防腐、防锈性能且易清洁。技术参数：项目规格 SINPOL 4000S研磨盘数单盘研磨直径200mm/250mm/300mm底盘 50-1000r/min（无级调速）研磨转速研磨头50-150r/min电机250W/250W/370W研磨方向顺时针，逆时针研磨试样数量4个试样规格Φ20/25/30/32/40mm可选其中一种加载方式气压自动加压操作界面/程序数显显示，可设定研磨转速，时间，转向运转中提示：运转转速,时间倒数计时环境温度5-40°C / 41-104°F电压/频率单相AC220V 50Hz自来水水压1-10 bar / 14.5-145 psi尺寸单盘790×566×677（mm）质量重量73kg

Qpol 250 M2是一款手动，双盘磨抛机，工作盘直径Ø 200/250 mm。 带有亮起状态指示的开始/停止开关及带刻度和集成加速按钮的转向开关可以直观地操作手动设备。甩干功能（加速清洁) 在制样过程结束时以750rpm的转速旋转3秒钟后关闭设备，有助于磨抛盘脱水。 尤其强大的速度控制驱动器使得该型号对所有工作步骤皆可实施应用。此外，工作盘可顺时针/逆时针旋转。防震塑料內罩，采用粉末涂层的铝制外壳及设备的高标准技术，赋予了其安静、平稳运行的特点及最佳的制备结果。 这台坚固的设备可以可与手动加液系统Qdoser GO或Qdoser ONE组合使用从而为样品制备提供高度灵活性和操作便利性。优点双盘研磨/抛光机磨盘脱水旋转功能（清洁加速）铝制外壳，粉末涂层顺时针和逆时针旋转通过抬起工作盘，可轻松清洁/冲洗底槽抗撞击塑料内槽研磨抛光机 QPOL 250 M2技术参数工作盘ø 200/250 mm转速30-600转/分，连续可调连接电源1.0 kVA工作功率 （主载荷）0.55 kW (S1)宽 x 高 x 深901 x 265 x 710 mm重量~ 45 - 49 kg水压1x 进水 R&half " 最大 6 bars加液系统（可选）Qdoser GO or Qdoser ONE

Qpol 250 M1是一款手动，单盘磨抛机，工作盘直径Ø 200/250 mm。 带有亮起状态指示的开始/停止开关及带刻度和集成加速按钮的转向开关可以直观地操作手动设备。甩干功能（加速清洁) 在制样过程结束时以750rpm的转速旋转3秒钟后关闭设备，有助于磨抛盘脱水。 尤其强大的速度控制驱动器使得该型号对所有工作步骤皆可实施应用。此外，工作盘可顺时针/逆时针旋转。防震塑料內罩，采用粉末涂层的铝制外壳及设备的高标准技术，赋予了其安静、平稳运行的特点及最佳的制备结果。 这台坚固的设备可以可与手动加液系统Qdoser GO或Qdoser ONE组合使用从而为样品制备提供高度灵活性和操作便利性。 优点单盘研磨/抛光机磨盘脱水旋转功能（清洁加速）铝制外壳，粉末涂层顺时针和逆时针旋转通过抬起工作盘，可轻松清洁/冲洗底槽抗撞击塑料内槽研磨抛光机 QPOL 250 M1技术参数工作盘ø 200/250 mm转速30-600转/分，连续可调连接电源1.0 kVA工作功率 （主载荷）0.55 kW (S1)宽 x 高 x 深511 x 265 x 710 mm重量~ 25 - 30 kg水压1x 进水 R&half " 最大 6 bars加液系统（可选）Qdoser GO or Qdoser ONE

新升级的美国Allied精密研磨抛光机 MultiPrep™ 高精密研磨系统，采用7寸LCD触摸屏完成所有操作，研磨系统精度能够达到1um，适用于高精密（金相，SEM，TEM，AFM等）样品的前处理 Allied精密研磨抛光机 MultiPrep™ 系统适用于高精密（金相，SEM，TEM，AFM等）样品的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光，精确角度抛光，定点抛光或几种方式结合抛光；它解决了操作者之间的不一致性，提供可重复的结果，而不管他们的技能如何； MultiPrep 无须手持样品，保证只有样品面与研磨剂接触。 双测微计（倾斜度和摆动度）允许相对于研磨盘进行精确的样品倾斜度调整；精密的Z-轴指示器保证在整个研磨/抛光过程中维持预定义的几何方向。 数字指示器可以量化材料的去除率，可以实时监测或进行预先设定的无人操作。可变速的旋转和振荡，能够最大限度地提高整个研磨/抛光盘的使用和减少手工制样。可调负荷控制，扩大了其从小样品（易碎样品）到大样品的全方位处理能力。 常见的应用包括并联电路层级，横截面，楔角抛光等特征MultiPrep定位头特点：前数字指示器显示实时的材料去除率（样品的行程），1微米分辨率精确主轴设计保证样品垂直于研磨盘，使之同时旋转双轴测微计控制样品角坐标设置（斜度和摆度），+10°/-2.5°幅度， 0.02° 增量。后置的数字指示器显示垂直位置（静态），具有归零功能，1微米分辨率6倍速样品自动摆动齿轮传动主轴应用于要求较高的转动力矩，如较大或封装的样品凸轮锁紧钳无需其他辅助工具，方便用户重新设置工作夹具8倍速样品自动旋转样品调整范围：0-600克（100克增量）美国ALLIED设计制造研磨/抛光机特点：研磨盘速度范围：5-350 RPM（5转速增量）数字计时器和转速表7“LCD触摸屏，带键盘输入控制所有功能顺时针/逆时针研磨盘旋转可选的AD-5 ™ 自动操作流体分配器调节阀电子控制冷却液0.5 HP（375 W），高扭矩马达稳定的RIM，铝和不锈钢结构腐蚀/耐冲击盖一年保修符合欧盟CE标准由美国Allied设计制造 项目＃描述15-2200MultiPrep™ 精密抛光系统，用于8”研磨盘，100-240 V 50/60 Hz 1相包括：飞溅环和压板盖，刻度盘指示器校准套件，夹具/附件存储盒Dims: 15" W x 26" D x 20" H (381 x 660 x 508 mm)Weight: 95 lb. (43 kg)15-2200-TEM带O型环驱动的MultiPrep™ 系统，用于8”研磨盘，100-240 V 50/60 Hz 1相 - 专为透射电子显微镜而设计样品制备精致材料研磨抛光包括：飞溅环和压板盖，刻度指示器校准套件，夹具/附件存储盒Dims: 22" W x 26" D x 21" H (560 x 660 x 535 mm)Weight: 125 lb. (57 kg) 产品附件注：夹具/磁性研磨盘，设备及配件单独出售。请从下面附件列表中选择，以保证一个完整的系统配置的报价。项目＃配件图片描述15-1005用于 #15-1010, #15-1010-RE, #15-1013上的凸轮锁连接器15-1010含有3.1mm可拆卸扫描电镜样件的横截面扁板15-1010-RE用于#15-1005, #69-50000, #69-41000, #69-41005上的含有基准线的横截面扁板15-1013含有5.3 mm宽 x 3.5 mm深的耐热玻璃插件的TEM楔形/FIB 上用减薄夹具15-1014TEM楔形/FIB 夹具和4个 #69-40015耐热玻璃插件15-1018含有 0.5” 直径x 0.4” 高的耐热玻璃插件的SIMS/TEM 上用减薄夹具15-10202.25" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1020-803" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1020-1004" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1025可镶嵌40 mm大小件的泪滴状夹具15-1035重量块套件包含：1个200克 和1个100克桶形重量块,1个200克1个100克和1个 50克 槽形重量块及1个固定杆15-10452.00" 宽 x 1.00" 高 x 0.75" 深 袋形多功能夹具15-104645°对角线方向, 2.00" 宽 x 1.00" 高 x 0.80" 深 袋形多功能夹具15-10471.00" 宽 x 0.40" 高 x 0.45" 深 袋形多功能夹具15-104845° 对角线方向, 1.00" 宽 x 0.40" 高 x 0.45" 深 袋形多功能夹具15-1050有0.63" 宽 x 0.10" 高x 0.25" 深的袋形 夹式横截面扁板15-1051对角线方向夹式横截面扁板120-30015含花岗岩底座的数显指示器测量系统10-10058“英寸（203毫米）铝研磨盘10-1005M8“英寸（203毫米）磁性研磨盘5-8100研磨盘、砂纸、抛光布储物柜，最大可放置12”大小5-8105铝制托盘/架子

UNIPOL-830金相研磨抛光机主要用于研磨抛光金相试样，也可以用于研磨抛光陶瓷、玻璃、PCB、塑料等材料。 技术参数 主要特点本机可选用压圈装卡或磁力吸附的方式安放砂纸与抛光垫，工作运行更加稳定。磁力吸附主要是为了克服传统装卡抛光织物打褶的缺点，将贴有压敏胶的抛光织物粘贴在研抛底片上，然后再吸附在磁力片上；其次，更便于砂纸及抛光垫的更换。参数电源：110V/220V磨抛盘转速：50rpm-600rpm磨抛盘：Φ203mm 产品规格尺寸：580mm×420mm×350mm；重量：24kg标准配件1磁力片1片2研抛底片5片3砂纸（240#、400#、800#、1500#）各2片4抛光垫（磨砂革、合成革）各1片5研磨膏（W2.5）1支可选配件金刚石电镀研磨片树脂金刚石磨抛盘质保期一年质保期，终身维护

u 应用简介磨抛这一步在金相制备中有多种不同的方式和组合。最常见的是用于研磨和抛光的台式磨抛机。无论什么形式都是为了得到一个无变形和可用于分析测试的试样表面。选择初始研磨的磨粒颗粒大小时，只需要能使表面磨平和去除切割在表面造成的损伤层即可。每个后续步骤应该是将变形逐渐变小，并同时能去掉上一步骤所造成的损伤。自始至终保持充足的润滑剂，通常为水，可最大程度地使变形层减到最小。u 设备概述Fpol 252D是一款双盘双控、无级调速、金相试样磨拋机。操作方便快捷，适用于金相试样粗磨、精磨、粗抛、精抛等各种金相加工全过程。高度自动化，人性化，极大程度减少人力投入，智能磨抛，是各企业科研院所及从事进行金相学术研究的首选设备。u 产品特点◇ 一机多用，轻松完成金相试样的预磨，粗磨，精磨，粗抛和精抛◇ 双盘双控，两个盘可分别控制，节省空间，使用方式更灵活◇ 无级调速，采用伺服控制系统，扭矩大，低速不卡顿◇ 易于操控的开关和旋钮，操作简单◇ 实时显示工作盘转速◇ 电磁阀控制水的通断◇ 可切换正反转◇ 工作盘经过精细研磨和表面处理◇ 工作盘采用三点定位安装方式，保证平面度，方便拆卸◇ 工作盘运动过程中，跳动小于3丝（检测位置为离工作盘中心三分之二处）◇ 整体成型的高强度复合材料外壳，坚固耐用，永不生锈◇ 配置急停按钮，更安全可靠u 技术参数设备名称双盘双控金相磨抛机设备型号Fpol 252D控制方式按键/旋钮工作盘数量2工作盘直径标配φ250mm（选配φ200mm、φ230mm）工作盘转速50-1000r/min，无级调速，实时显示工作盘转向顺时针、逆时针可调电机数量2电机功率800Wx2供水需要电源单相 AC220V 50Hz重量50KG产品尺寸720x550x215mmu 配置清单序号名称规格数量1. 设备主机Fpol 252D1台2. 高级圆盘砂纸φ250mm、120#5张3. 高级圆盘砂纸φ250mm、320#5张4. 高级圆盘砂纸φ250mm、800#5张5. 高级圆盘砂纸φ250mm、1500#5张6. 高级圆盘砂纸φ250mm、2000#5张7. 单晶金刚石悬浮抛光液500ml、3μm1瓶8. 黑丝丝绒抛光布φ250mm1张9. 单晶金刚石悬浮抛光液500ml、1μm1瓶10. 红色短植绒抛光布φ250mm1张11. 扣圈/2个12. 防水圈/2个13. 进出水管及配套附件/1套14. 合格证、保修卡、说明书/1套

UNIPOL-2001型精密研磨抛光机设有三个加工工位，是可进行大尺寸样品磨抛的落地式磨抛机，用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料等材料的研磨抛光制样，是科学研究、生产实验理想的磨抛设备之一。本机设置了Ø 508mm的研磨抛光盘和三个加工工位，可用于研磨抛光≤Ø 160mm的圆片或对角线长≤160mm的矩形平面。在研磨过程中三个加工工位可以一定的频率左右摆动，同时推动载物块左右摆动，载物块在进行自转的同时随着研磨盘公转，使样品做无规则运动，使研磨后的样品表面质量均匀。研磨抛光机配备的载物块是具有高的平面度和平行度的精密圆柱状金属块，使研磨后的样品表面也具有高的平面度，并且不会使样品边缘倒角，对边缘要求高的样品尤其适合。若配置适当的附件（GPC系列精密磨抛控制仪），可批量生产高质量的平面磨抛产品，例如直径≤Ø 160mm晶圆样品的研磨与抛光。采用研磨盘加磨料的方式研磨样品，也可以选用抛光盘贴砂纸的方式研磨样品，砂纸或抛光垫采用磁力吸附的方式装卡，装卸方便。具体选用砂纸研磨还是磨料研磨可根据被研磨样品的材质进行选择。产品名称 UNIPOL-2001型精密研磨抛光机产品型号 UNIPOL-2001主要参数 1.研磨盘：直径φ508mm（20英寸） 2.载样盘：直径φ160mm（6英寸），厚度35mm3.修盘环：外径φ196mm，内径φ160.5mm，厚度35mm4.摆臂支架：每120°设置1个，共3个5.工位数量：3个6.研磨盘转速：转数：20-120转/分钟7.支架摆动速度档位：10-30档 （参考速度：5.5-13.5次/分钟）8.传动机构电机：变频电机：1.5kW， 220V 9.总功率：1.7kW 220V产品规格 外形尺寸：尺寸：落地式，820*1180*945mm重量：450kg

切割/研磨/精磨一体机 SGL 200简介SGL 200可独立完成薄片制备时的切割、研磨、精磨程序。参数岩样尺寸： 两个岩样30x45mm/1”x1.5” 一个岩样60x45mm/1”x3”锯片： φ200mm磨轮： 直杯型砂轮，φ200，Grit 46研磨盘直径： 200mm 研磨盘转速： 150RPM润滑剂： 水电机转速： 3000RPM重量： 50kg尺寸： 640x340x350mm电源： 220V，50/60Hz

新升级的美国ALLIED MultiPrep高精密研磨系统，采用7寸LCD触摸屏完成所有操作，研磨系统精度能够达到1um，适用于高精密（金相，SEM，TEM，AFM等）样品的前处理 MultiPrep™ 系统适用于高精密（金相，SEM，TEM，AFM等）样品的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光，精确角度抛光，定点抛光或几种方式结合抛光；它解决了操作者之间的不一致性，提供可重复的结果，而不管他们的技能如何； MultiPrep 无须手持样品，保证只有样品面与研磨剂接触。 双测微计（倾斜度和摆动度）允许相对于研磨盘进行精确的样品倾斜度调整；精密的Z-轴指示器保证在整个研磨/抛光过程中维持预定义的几何方向。 数字指示器可以量化材料的去除率，可以实时监测或进行预先设定的无人操作。可变速的旋转和振荡，能够最大限度地提高整个研磨/抛光盘的使用和减少手工制样。可调负荷控制，扩大了其从小样品（易碎样品）到大样品的全方位处理能力。 常见的应用包括并联电路层级，横截面，楔角抛光等特征MultiPrep定位头特点：前数字指示器显示实时的材料去除率（样品的行程），1微米分辨率精确主轴设计保证样品垂直于研磨盘，使之同时旋转双轴测微计控制样品角坐标设置（斜度和摆度），+10°/-2.5°幅度， 0.02° 增量。后置的数字指示器显示垂直位置（静态），具有归零功能，1微米分辨率6倍速样品自动摆动齿轮传动主轴应用于要求较高的转动力矩，如较大或封装的样品凸轮锁紧钳无需其他辅助工具，方便用户重新设置工作夹具8倍速样品自动旋转样品调整范围：0-600克（100克增量）美国ALLIED设计制造研磨/抛光机特点：研磨盘速度范围：5-350 RPM（5转速增量）数字计时器和转速表7“LCD触摸屏，带键盘输入控制所有功能顺时针/逆时针研磨盘旋转可选的AD-5 ™ 自动操作流体分配器调节阀电子控制冷却液0.5 HP（375 W），高扭矩马达稳定的RIM，铝和不锈钢结构腐蚀/耐冲击盖一年保修符合欧盟CE标准由美国Allied设计制造项目＃描述15-2200MultiPrep™ 精密抛光系统，用于8”研磨盘，100-240 V 50/60 Hz 1相包括：飞溅环和压板盖，刻度盘指示器校准套件，夹具/附件存储盒Dims: 15" W x 26" D x 20" H (381 x 660 x 508 mm)Weight: 95 lb. (43 kg)15-2200-TEM带O型环驱动的MultiPrep™ 系统，用于8”研磨盘，100-240 V 50/60 Hz 1相 - 专为透射电子显微镜而设计样品制备精致材料研磨抛光包括：飞溅环和压板盖，刻度指示器校准套件，夹具/附件存储盒Dims: 22" W x 26" D x 21" H (560 x 660 x 535 mm)Weight: 125 lb. (57 kg)产品附件注：夹具/磁性研磨盘，设备及配件单独出售。请从下面附件列表中选择，以保证一个完整的系统配置的报价。项目＃配件图片描述15-1005用于 #15-1010, #15-1010-RE, #15-1013上的凸轮锁连接器15-1010含有3.1mm可拆卸扫描电镜样件的横截面扁板15-1010-RE用于#15-1005, #69-50000, #69-41000, #69-41005上的含有基准线的横截面扁板15-1013含有5.3 mm宽 x 3.5 mm深的耐热玻璃插件的TEM楔形/FIB 上用减薄夹具15-1014TEM楔形/FIB 夹具和4个 #69-40015耐热玻璃插件15-1018含有 0.5” 直径x 0.4” 高的耐热玻璃插件的SIMS/TEM 上用减薄夹具15-10202.25" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1020-803" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1020-1004" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1025可镶嵌40 mm大小件的泪滴状夹具15-1035重量块套件包含：1个200克 和1个100克桶形重量块,1个200克1个100克和1个 50克 槽形重量块及1个固定杆15-10452.00" 宽 x 1.00" 高 x 0.75" 深 袋形多功能夹具15-104645°对角线方向, 2.00" 宽 x 1.00" 高 x 0.80" 深 袋形多功能夹具15-10471.00" 宽 x 0.40" 高 x 0.45" 深 袋形多功能夹具15-104845° 对角线方向, 1.00" 宽 x 0.40" 高 x 0.45" 深 袋形多功能夹具15-1050有0.63" 宽 x 0.10" 高x 0.25" 深的袋形 夹式横截面扁板15-1051对角线方向夹式横截面扁板120-30015含花岗岩底座的数显指示器测量系统10-10058“英寸（203毫米）铝研磨盘10-1005M8“英寸（203毫米）磁性研磨盘5-8100研磨盘、砂纸、抛光布储物柜，最大可放置12”大小5-8105铝制托盘/架子

UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机是用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料等材料的研磨抛光制样，是科学研究、生产实验理想的磨抛设备之一。本机设置了Ø 381mm的研磨抛光盘和三个加工工位，可用于研磨抛光≤Ø 110mm的圆片或对角线长≤110mm的矩形平面。在研磨过程中两个加工工位可以一定的频率左右摆动，同时推动载物块左右摆动，载物块在进行自转的同时随着研磨盘公转，使样品做无规则运动，使研磨后的样品表面质量均匀。研磨抛光机配备的载物块是具有高的平面度和平行度的精密圆柱状金属块，使研磨后的样品表面也具有高的平面度，并且不会使样品边缘倒角，对边缘要求高的样品尤其适合。UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机若配置适当的附件（GPC-100A精密磨抛控制仪），可批量生产高质量的平面磨抛产品。搭配GPC-100A使用尤其适用于直径≤110mm的晶圆样品的研磨与抛光。UNIPOL-1502精密研磨抛光机可以用研磨盘加磨料的方式研磨样品，也可以选用抛光盘贴砂纸的方式研磨样品，砂纸或抛光垫采用磁力吸附的方式装卡，装卸方便。具体选用砂纸研磨还是磨料研磨可根据被研磨样品的材质进行选择。1、超平抛光盘（平面度为每25mm×25mm小于0.0025mm）。2、超精旋转轴（托盘端跳小于0.012mm）。3、设有三个加工工位。4、主轴旋转采用无级调速控制方式，并设有数显表实时显示转数。5、配有定时器，可准确控制工作时间（0-300h之间）。6、可选配自动滴料器或循环泵，使磨抛更加方便快捷产品名称 UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机产品型号 UNIPOL-1502安装条件 本设备要求在温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：110V/220V2、功率：410W3、主轴转速：最低起动转速~最高转速10~125rpm4、工位：3个5、支撑臂摆动次数：0-9次/分6、托盘端跳：0.01mm/332mm7、磨抛盘：Ø 381mm8、载物盘：Ø 110mm产品规格 尺寸：720mm×580mm×380mm；重量：90kg序号名称数量图片链接1铸铁研磨盘1个2铸铝盘1个3载物盘3个4修盘环3个5抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片6刚玉研磨微粉0.5kg7石蜡棒4根序号名称功能类别图片链接1SKZD-2滴料器（可选）2SKZD-3滴料器（可选）3SKZD-4自动滴料器（可选）4SKZD-5滴料器（可选）5YJXZ-12搅拌循环泵（可选）6精密测厚仪（可选）7GPC-50A精确磨抛控制仪（可选）9玻璃研磨盘（可选）10磁性树脂金刚石研磨片（可选）11无蜡抛光盘（可选）UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机是用于晶体、陶瓷、金属、玻璃、岩样、矿样、PCB板、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、耐火材料、复合材料等材料的研磨抛光制样，是科学研究、生产实验理想的磨抛设备之一。本机设置了?381mm的研磨抛光盘和三个加工工位，可用于研磨抛光≤?110mm的圆片或对角线长≤110mm的矩形平面。在研磨过程中两个加工工位可以一定的频率左右摆动，同时推动载物块左右摆动，载物块在进行自转的同时随着研磨盘公转，使样品做无规则运动，使研磨后的样品表面质量均匀。研磨抛光机配备的载物块是具有高的平面度和平行度的精密圆柱状金属块，使研磨后的样品表面也具有高的平面度，并且不会使样品边缘倒角，对边缘要求高的样品尤其适合。UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机若配置适当的附件（GPC-100A精密磨抛控制仪），可批量生产高质量的平面磨抛产品。搭配GPC-100A使用尤其适用于直径≤110mm的晶圆样品的研磨与抛光。UNIPOL-1502精密研磨抛光机可以用研磨盘加磨料的方式研磨样品，也可以选用抛光盘贴砂纸的方式研磨样品，砂纸或抛光垫采用磁力吸附的方式装卡，装卸方便。具体选用砂纸研磨还是磨料研磨可根据被研磨样品的材质进行选择。1、超平抛光盘（平面度为每25mm×25mm小于0.0025mm）。2、超精旋转轴（托盘端跳小于0.012mm）。3、设有三个加工工位。4、主轴旋转采用无级调速控制方式，并设有数显表实时显示转数。5、配有定时器，可准确控制工作时间（0-300h之间）。6、可选配自动滴料器或循环泵，使磨抛更加方便快捷产品名称 UNIPOL-1502自动精密研磨抛光机产品型号 UNIPOL-1502安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：110V/220V2、功率：410W3、主轴转速：起动转速范围10~125rpm4、工位：3个5、支撑臂摆动次数：0-9次/分6、托盘端跳：0.01mm/332mm7、磨抛盘：?381mm8、载物盘：?110mm产品规格 尺寸：720mm×580mm×380mm；重量：90kg序号名称数量图片链接1铸铁研磨盘1个2铸铝盘1个3载物盘3个4修盘环3个5抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片6刚玉研磨微粉0.5kg7石蜡棒4根序号名称功能类别图片链接1SKZD-2滴料器（可选）2SKZD-3滴料器（可选）3SKZD-4自动滴料器（可选）4SKZD-5滴料器（可选）5YJXZ-12搅拌循环泵（可选）6精密测厚仪（可选）7GPC-50A精确磨抛控制仪（可选）8陶瓷研磨盘（可选）9玻璃研磨盘（可选）10磁性树脂金刚石研磨片（可选）11无蜡抛光盘（可选）