升真空腔体等离子清洗机

一、设备介绍NE-Q05是一款石英真空等离子处理系统，广泛应用于科研院校，企业研发单位和小批量生产打样。小型石英等离子清洗机结构主要包括控制单元、石英真空腔体、真空泵三部分。等离子清洗机的工作流程为：腔体抽真空—充入工艺气体—电离工艺气体并清洗—去除工件。清洗首先在真空腔体内单种或者多种清洗所需气体，一般为Ar、O2、N2等，外加射频功率在平行电极之间形成交变电场，电子通过电场加速对工艺气体进行冲击使气体发生电离形成离子，作用在被清洗表面，电离产生的粒子与电子数量达到一定规模，便形成了等离子体。等离子体高速撞击材料表面，与被清洗表面污染物发生理化反应，实现材料的清洗，并利用气流将污染物排出腔体。通过等离子清洗可以有效清除被清洗表面污染物、改善表面状态、增加材料的粘附性能、提高材料表面的浸润性能。 NE-Q05 系统功能特点： &bull 真空腔体材质采用石英玻璃，不易与材料表面发生反应，污染清洗样品&bull 等离子发生器采用13.56MHz射频发生器，自动阻抗匹配调谐&bull 触摸屏用户界面+PLC控制，可储存多条工艺程序，全自动运行&bull 配备两路气路通道，气体流量可调，无需再搭配气体混合仪&bull 整体外观处理工艺、机架门板烤漆、耐用、防刮&bull 铝合金自动门：氧化处理、喷砂&bull 电路设计电流过载保护，模块式电路、维修方便快捷&bull 手动、自动、真空保压均可操作，不倒翁橡胶脚杯，自动平衡机器、减震二、设备参数序号项目型号规格参数1等离子体发生器功率0-200W可调频率13.56MHz 固态射频电源2真空反应腔室腔体材质石英耐热玻璃腔体容积5L载物托盘玻璃托盘，平行放置腔体直径（圆形）Φ150×270（D）mm3气路控制气体流量控制器浮子针阀流量控制器， 0-1000ML气路数量最小2路气体，支持氧气，氩气，氮气，氢气，四氟化碳等4真空测量真空计SMC 真空计5抽气系统真空泵飞越 8m3/H极限真空度0.1PA6控制系统触摸屏4.3寸PLC松下PLC模块软件程序自主专利设计等离子控制系统7场务条件电源供应220V气管接口直径8mm气体纯度99.99%气体压力0.3-0.6Mpa排气口KF258整机参数整机功率1000W外形尺寸600mm(L)×450mm(W) ×500 mm(H)重量40kg

等离子体处理系统:等离子体室由优质铝制成,具有出色的耐用性,该腔室设计用于在单独的等离子体电池中处理PCB面板,以提供具有优异处理均匀性的高蚀刻速率.等离子体处理系统：柔性和刚性电路板期间的关键应用（如脱胶和着陆垫清洁）提供统一的PCB处理。几个因素使得等离子体处理系统的所有权成本是同类中低的。该系统具有紧凑且服务友好的设计。PCB使用易于装载的手推车进行垂直装载，从而减少空闲时间并提高生产率。快速真空泵下降，低耗气量和加工循环时间进一步增加了系统的生产率和生产率。配备触摸屏操作界面，提供广泛的控制能力和数据采集。等离子体处理系统在电子电路板制造过程中在小尺寸内容纳更大的面板尺寸，用于去污，回蚀和着陆垫清洁操作。系统中较大的15电池室比标准处理每小时更多的单位（UPH）。等离子体处理系统对HDI，柔性和刚性电路板制造进行了去污和回蚀作业。它结合了市场等离子技术，结合基于多年经验的应用特定开发。可扩展等离子体系统，可以从4到8个等离子体电池升级，随着生产要求和操作而增长，是处理低容量，高混合物产品的中小型企业或研发机构的理想选择，旨在满足不断变化的生产环境，等离子体系统在其前身PCB-800/1600及其同时代系统之间保持了完美的平衡。该室仍然是纯粹的PCB系列”的尺寸和功能，但其他一切都已升级系列技术 ，从气体分配和泵包到用户界面和控制参数。通过共享类似的组件和接口，可以更轻松地提高等离子体处理PCB面板的容量。系统可以处理低容量，高混合度的产品，是中小型企业或研发机构的理想选择。随着生产量的增加，系统可以从四个等离子体电池升级到八个等离子体电池。与其他系列等离子体系统类似，是独立的，需要小的占地面积。底盘装有等离子体室，控制电子设备，40 kHz射频发生器，泵/鼓风机组合和自动匹配网络。可以从前面板或后面板进行维护检修。等离子体室由优质铝制成，具有出色的耐用性。该腔室设计用于在单独的等离子体电池中处理PCB面板，以提供具有优异处理均匀性的高蚀刻速率。等离子体处理系统使用单步过程提供了柔性材料两侧的业界的等离子体处理均匀性。它是一个独立的真空等离子体处理系统，具有节省空间的紧凑型底盘，具有两个易于访问的前装载门。双机架等离子体室可在一个周期内容纳多达十八个20“x 24”面板，每小时可达80-120个单位（UPH）。FlexVIA系统的先进的水平电极设计，集成了机架，可提供等离子体处理均匀性的材料对准。它也不需要使用昂贵的氟气。相反，利用环境友好且具有成本效益的气体等离子体溶液如氩气（Ar）和氧气（O2）。等离子体处理系统其先进的水平电极设计，集成了机架，提供材料对准，而双机架式机箱可以在一个周期内容纳多达三十个20“x 24”的面板，使每小时可达140-200单位。是一种完全独立的真空处理系统，具有集成的卷对卷材料处理，用于生产PCB制造环境。等离子体处理均匀性是表面激活，去除和回蚀应用中柔性电路板制造技术的关键操作特性。集成的卷对卷材料处理系统确保精确控制薄至25微米的基材的辊速度，张力和边缘引导。基于光学的边缘引导检测允许在倒带操作期间可靠的控制。底板加载简单，可通过四个门轻松访问装载部分。有三种配置可满足各种生产需求

真空等离子清洗机VP-S5，等离子激发频率40KHz，具有双路气体精准控制，不锈钢真空腔体，腔体容积5升，40KHz微米级蚀刻，物理撞击作用最强（也叫等离子清洗机），配备的真空泵真空度高，低噪音，扩散在空气中油气少，避免实验室噪音和油气污染，适用于陶瓷、金属、玻璃、硅片等材料清洗。

诚峰智造是一家专业致力于提供等离子设备及工艺流程解决方案的高新技术企业。源于美国&德国30年Plasma生产制造及研发技术，公司全资拥有CRF品牌下等离子设备研发，生产，制造技术，设备范围涵盖汽车制造业。手机制造业，医疗行业，织物印染行业，重工业，半导体封装行业，新能源行业，IC半导体领域，FPC/PCB领域，LED显示屏组装等行业。CRF诚峰智造，现已成为中国专业的等离子处理系统解决方案等离子设备供应商。在线式真空等离子清洗机厂家直销：在线式真空等离子处理系统CRF-VPO-8L-S名称（Name）真空式等离子处理系统型号（Model）CRF-VPO-8L-S控制系统（Control system）PLC+触摸屏电源（Power supply）380V/AC,50/60Hz,3kw中频电源功率（MF Power）600W/13.56MHz容量（Volume）80L（Option）层数（Electrode of plies）8（Option）有效处理面积（Area）400（L）*300（W）（Option）气体通道（Gas）两路工作气体可选： Ar、N2、CF4、O2产品特点：超大处理空间，提升处理产能，采用PLC+触摸屏控制系统，有效控制设备运行。可按照客户要求定制设备腔体容量和层数，满足客户的需求。保养维修成本低，便于客户成本控制。高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持。应用范围：主要适用于生物医疗行业，印制线路板行业，半导体IC领域，硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业，航空工业等。等离子体清洗技术的特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对玻璃、金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。 等离子体的”活性”组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子体表面处理仪就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。 等离子清洗设备的原理是在真空下,然后利用交流电场使工艺气体成为等离子体,并与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质, 由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质清除出去, 从而使工件达到表面清洁活化。等离子清洗是剥离式清洗, 等离子清洗的特点是清洗之后对环境无污染。在线式等离子清洗设备是在成熟的等离子体清洗工艺技术和设备制造基础上, 增加上下料、物料传输等自动化功能。针对IC封装中引线框架上点胶装片、芯片键合及塑封等工艺前清洗, 大大提高粘接及键合强度等性能的同时, 避免人为因素长时间接触引线框架而导致的二次污染以及腔体式批量清洗时间长有可能造成的芯片损伤。 在线式真空等离子清洗机的主要结构包括:上下料推料机构、上下料置取料平台、上下料提升系统、上下料传输系统、上下料拨料机构、反应仓、设备主体框架和电气控制系统等。 在线式真空等离子清洗机自动搬运物料的设计理念,与常规等离子清洗系统相比,降低了人工搬运过成,提高了设备自动化水平。 等离子清洗属于一种高精密的干式清洗方式,原理是在真空状态下利用射频源产生的高压交变电场将氧、氩、氢等工艺气体激发成具有高反应活性或高能量的离子,通过化学反应或物理作用对工件表面进行处理,实现分子水平的沾污去除,提高表面活性。对应不同的污染物,应采用不同的清洗工艺,达到很好清洗效果。 随着在线式真空等离子清洗机及工艺在IC封装领域内的应用越来越广泛,并以其优良的工艺性能促进了微电子行业技术的快速发展,成为21世纪IC封装领域内关键生产装置,成为提高产品可靠性和成品率的重要手段,是生产中不可缺少的步骤。 性能优势: 1、原装进口电源：采用原装进口高压激励电源电路技术，产生高密度等离子体，确保出众的清洗效果。 2、全面安全防护：温度安全防护功能，过载防护功能，短路断路报警防护功能，各种误操作保护功能。 3、独有放电技术：特殊处理及特殊结构的放电装置，确保形成稳定均匀的等离子体。 4、密封性卓越的真空腔体设计：军工级的高真空度真空腔体设计及制造工艺，配置进口真空泵。 5、优质产品部件：产品全部部件采用国内外优质部件，确保设备性能优越 6、超低清洗温度：满足不同场合温度要求，不对清洗产品造成温度影响。 7、精密数控加工：进口精密CNC数控机床加工工艺，并配备进口三坐标测量仪进行质量监控。 8、适用形状复杂样品：清洗各种复杂形状的产品，包括内孔内壁，均匀清洗。

手套箱专用等离子清洗机VP-R3分体式实现主机和真空腔体分离，既保留了等离子清洗机VP-R3自动化操作的便利及PLASMA处理效果，又实现把真空腔体分离，便于放入手套箱的狭小空间，解决了用户对PLASMA处理精细化的痛点。手套箱专用等离子清洗机VP-R3分体式是在VP-R系列基础上进行设计、研发，等离子体激发频率为13.56MHz，满功率运行30分钟，腔体温度不高于32°C，不损伤样品，对材料表面起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、PI、二氧化硅、亚克力等几乎所有材料的PLASMA处理。

创新型设计完美全面的清洗解决方案。Evactron CombiClean 清洗系统为透射样品，样品杆以及透射极靴等其他分析设备提供了桌面式清洗平台，帮助客户清洗样品以及电镜部件，去除其存在的碳污染问题。同时也提供了外置等离子发生器用于电镜腔体清洗方案。系统操作简单，检测器可以智能控制多个等离子发生器单元，控制器自由切换可以通过不同发生器的工作模式。系统支持旋叶机械泵，从而防止油污染。提供干燥氮气保护环境，保证经等离子清洗过后的样品可以长期保存，此时不影响其他等离子发生器的使用。应用Evactron CombiClean 系统可以提供外置式等离子发生器，用于扫描电镜、透射电镜和双束电镜，同时也可以清洗透射样品杆以及气塞。结合使用Evactron TEM Wand透射电镜等离子清洗杆，可以清洗透射电镜样品、部件以及真空腔内部。系统特性系统通过内部的处理器，由MicroPirani 软件对于真空度以及功率进行智能控制。处理器可以对等离子发生器进行定时清洗控制以及氮气保护循环。系统保留操作日志。操作可以通过前置面板或者电脑完成。高真空的扫描电镜，聚焦离子束FIB系统，由于样品，操作，油污，FIB的气体注入系统带来的碳氢污染物会累积在样品室表面，以及探测器包括EDX窗口，进而影响系统分辨率，清晰度，真空度以及稳定性。Evactron等离子清洗机适用于任何扫描电镜以及XPS等其他任何真空腔体，她可以很好的解决这些困扰电镜使用者的污染问题.

粉体专用等离子清洗机VP-TS7解决了微小颗粒特别是粉末样品PLASMA处理不完全，不均匀的痛点，真空腔体在等离子处理过程中滚动旋转，从而带动粉末样品在真空环境下翻滚，从而确保的样品得到完全、均匀的等离子处理。VP-TS7频率是13.56MHz，腔体采用不锈钢材质，腔体容积7L，粉体专用等离子清洗机转速可调，可关闭（不旋转相当于普通真空等离子清洗机），一机两用，性价比很高。

旋转型等离子清洗机VP-T3解决了微小颗粒特别是粉末样品PLASMA处理不完全，不均匀的痛点，真空腔体在等离子处理过程中滚动旋转，从而带动粉末样品在真空环境下翻滚，从而确保的样品得到完全、均匀的等离子处理。VP-T3频率是13.56MHz，腔体容积3L，腔体材质石英玻璃，转速可调，可关闭（不旋转相当于普通真空等离子清洗机），一机两用，性价比很高。

PCB板等离子清洗机可在线高速处理，提高生产效率，利用等离子体的特点，对需要处理的固体材料表面进行清洁、活化、激活，从而实现改变表面微观结构、化学性质、能量的目的。大气低温等离子清洗机 PVC板等离子清洗机悬浮旋转型（1）什么是等离子？ 等离子体--并不神秘的物质第四态！ 自然界中存在我们非常熟悉的固态、液态、气态物质。持续为物质提供能量，物质温度会升高，物质的状态也会从“固态→ 液态”，“液态→ 气态”，“气态→ 等离子态”。 物质是由原子构成，原子由带正电的原子核和围绕着原子核的带负电的电子组成。当持续提供能量，加热至足够高的温度时，外层电子摆脱原子核的束缚成为自由电子，这个过程称为“电离”；而物质变成的由带正电的原子核与带负电的电子组成，当然，物质里面还有活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等，是一团均匀的“浆糊“，所以等离子体也称为电浆。电浆中，正负电荷总量是相等的，所以总体是呈电中性，称为等离子体。 等离子体是一种高能量不稳定的状态。利用这种高能量而又不稳定的状态，等离子体有各种各样的应用。 宇宙中99%的可见物质，其实都处于等离子体状态，闪电、极地的极光、星云等等，还有我们日常生活中的荧光、霓虹光这些也是等离子体。等离子体先在1928年由科学家Langmuir提出。（２）等离子清洗机设备原理及技术参数： 2.1对材料表面的刻蚀作用--物理作用： 等离子体中的大量离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子，作用到固体样品表面，不但清除了表面原有的污染物和杂质，而且会产生刻蚀作用，将样品表面变粗糙，形成许多微细坑洼，增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。 2.2激活键能，交联作用 等离子体中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的键能在0~10eV，因此等离子体作用到固体表面后，可以将固体表面的原有的化学键产生断裂，等离子体中的自由基与这些键形成网状的交联结构，大大地激活了表面活性。 2.3 形成新的官能团--化学作用 如果放电气体中引入反应性气体，那么在活化的材料表面会发生复杂的化学反应，引入新的官能团，如烃基、氨基、羧基等，这些官能团都是活性基团，能明显提高材料表面活性。 功率：0~1000W，可调 设备尺寸：235×265×370mm（宽×高×深） 输入电源：220V，50/60Hz 高压频率：40KHz 处理宽度：30mm、50mm、70mm 功能保护：低气压保护、过载保护、温度保护、短路保护、断路保护 远程控制：具备（３）等离子清洗机的结构组成？等离子清洗机的结构主要分为三个大的部分组成，分别是控制单元、真空腔体以及真空泵。（A）控制单元：控制单元主要分为半自动控制、全自动控制、PC电脑控制、液晶触摸屏控制四种方式。而控制单元又分为两个大的部分：1）电源部分：主要电源频率有三种，分别是40KHz、13.56MHz、2.45GHz，其中13.56MHz是需要电源匹配器的，而2.45GHz又称为微波等离子。2）系统控制单元：分三种，按钮控制（半自动、全自动）、电脑控制、PLC控制（液晶触摸屏控制）。（B）真空腔体：真空腔体主要是分为两种材质的：1）不锈钢真空腔体，2）石英腔体。（C）真空泵：真空泵种类较多，其选择会根据用户的真空度要求、体积要求来配置。（４）技术参数：系统标准配件设备尺寸1105W * 1488D * 1842Hmm (2158mm带信号灯高度）水平极板8层电极板402W * 450Dmm气体流量控制器，2路工艺气体0-300ml/min真空测量日本ulvac真空计人机界面触摸屏SD自主研发电极间距48mm信号指示灯3色带警报真空泵90m3/h双极油泵系统电力&机械电源：AC380V，50/60Hz额定功率5000W系统重量（设备主机/真空泵）600Kg占地面积：设备主机1805(W)×1988(D)×1842(H) mm射频电源射频电源频率13.56MHz射频电源功率1000W射频电源匹配器全自动匹配，空气电容技术设备必备条件电源：AC380V，50/60Hz，三相五线7.5KVA压缩空气要求无水无油CDA 60~90psig抽风系统≥2立方/分钟，中央尾气处理管道即可系统环境温度要求≤30℃（室温）工艺气体要求15~20psig 99.996%或以上纯度； （５）产品应用： 等离子体的应用非常非常广泛，从核聚变到等离子电视，从等离子薄膜溅射到工业废气处理，从等离子切割焊接到生物医疗领域的消毒。 我们目前所说的，是集中在等离子表面改性，或者说等离子表面处理的应用。就是利用等离子体的高能量、不稳定的特点，当固体材料表面接触到等离子体后，表面的微观结构、化学性质、能量都会发生变化。 等离子表面改性（等离子表面处理），就是利用等离子体的特点，对需要处理的固体材料表面进行清洁、活化、激活，从而实现改变表面微观结构、化学性质、能量的目的。 等离子清洗的应用已经非常非常广泛，汽车制造、手机制造、玻璃光学、材料科学、电子电路、印刷造纸、塑料薄膜、包装技术、医疗医用、纺织工业、新能源技术、航天军工、手表首饰等等。 以下列举些最为典型的应用： 1.手机盖板 手机盖板生产中，手机盖板需要进行多层镀膜，镀膜前为了确保镀膜附着力高，镀膜效果好，需要进行等离子清洗，从而明显提高盖板表面活性，镀膜寿命明显提高。目前行业规范是，要求清洗后接触角测量角度低于20°。 2.塑料印刷 日常常见的塑料瓶瓶盖印刷，在流水线生产过程中，瓶盖如果直接印刷，油墨附着效果会比较差，而且废品率高。瓶盖印刷前采用等离子清洗，等离子清洗不但可以完美配套至生产线中，而且瓶盖清洗后进行印刷，成品率明显提高，油墨附着效果好，效果保持也更为持久。 3.雷达传感器 雷达传感器的生产过程中，因为传感器表面要求非常干净，这样才能保证传感器的精度和稳定性，所以必须进行清洗。传统方法采用人工手动酒精拭擦，清洗效果差，不稳定，而且清洗效率太慢。采用等离子清洗后，接触角明显低于使用酒精拭擦的，清洗效果大幅度提升。 4.纺织工业 纺织行业的采用等离子进行各种不同的处理工艺，目的就是为了实现各种不同需求的纺织产品，例如天然纤维需要达到的出色的印染效果，使用等离子处理后，不但显著提高印染效果，更改善了纤维的表面质量，提高了使用寿命。 5.手表镀膜 手表表盘都会进行镀膜处理，以达到需要的色泽效果和提高耐磨寿命，手表表盘镀膜前就需要进行等离子清洗，去除表盘表面原有的污染物，激活表面活性，使得镀膜时黏附得更为牢固。而如果不使用等离子清洗，表盘镀膜就可能会成品率降低，膜的使用寿命变差等风险。

小型真空等离子清洗机，等离子体清洗的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的"活化作用"达到去除物体表面污渍的目的。等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态 气相物质被吸附在固体表面 被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子 产物分子解析形成气相 反应残余物脱离表面。等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。小型真空等离子清洗机供电电源AC220V（AC110V可选)工作电流整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵)射频电源功率150W射频频率13.56MHz频率偏移量＜0.2MHz特性阻抗50欧姆，手动匹配耦合方式电容耦合真空度≤50Pa腔体材质高纯石英腔体容积2L(内径110MMX深度220MM)观察窗内径Φ50气体流量0—50ml/min（其他量程可选）过程控制过程手动控制清洗时间手动开关开盖方式铰链侧开式法兰外形尺寸450x450x360mm重量23Kg真空室温度小于65°C冷却方式强制风冷标配KF16真空管1米，kf16卡箍2个，不锈钢网匣1个，电源线一根，说明书一本。

等离子清洗机YAMATO等离子清洗机PDC200产品介绍：小型桌上型高频等离子表面处理装置■ 操作性功能● 射频13.56Mhz 0-300W高功率机型，发生器自动匹配，无需调节反射波，进一步增加的操作的便捷性。● 标准配备数字式皮拉尼传感器，实时显示真空度，使得控制更为精确。● 平行平板腔体非常适合于实验室处理比较纯净的晶圆、硅片等样品，无需担忧因为腔体材质的原因导致样品受到污染。■ 安全性保护● 装载有温度、压力、等离子发生器异常等三层报警灯，可实时监测和了解机器的运转状态。● 装载有过电流漏电保护开关、自诊断回路、异常时蜂鸣器报警等安全功能。■ 等离子清洗机YAMATO等离子清洗机PDC200产品优势●等离子清洗机清洗效果好，清洗效率高，功率大，应用范围广。●对清洗样品，没有任何材质、外观尺寸等要求。●等离子清洗过程中，温升很小，基本可达到常温处理。●高效的特制电极，是产生均匀等离子体的保证。●特制电极和托盘结构，可保证样品可得到全面有效的清洗。■ 等离子清洗机YAMATO等离子清洗机PDC200规格型号PDC200方式RIE模式、平行平板腔体性能发生器功率：0-300W发生器频率：射频RF13.56Mhz发生器匹配方式：自动匹配（Auto matching）构成腔体材质：铝制腔体内尺寸：W400×D250×H150mm反应气体：二路工艺气体，可支持氧气、氩气、氮气等非腐蚀性气体。控制方式：全自动控制真空度显示：数字式皮拉尼传感器，实时显示腔体内真空度。配管材质：SUS不锈钢以及特氟龙门： 铰链门外形尺寸：W540×D600×H600mm真空泵抽速：4m3/hour电源规格： AC220V 10A重量：约100kg

在线片式真空等离子清洗机产品原理：片式真空等离子清洗机（Plasma cleaner），气体通过密封容器中设置两个正负电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，它们发生碰撞而形成等离子体，等离子体轰击产品表面，清洗产品表面污染物，提高表面活性，增强附着性能。专为半导体行业设计的在线真空等离子清洗机。针对封装工艺中的引线框架上点胶装片、芯片键合、除胶及塑封等工艺前清洗，大大提高粘接及键合强度等性能的同时，避免人为因素长时间接触引线框架而导致的二次污染以及腔体式批量清洗时间长有可能造成的芯片损伤。

等离子清洗机日本YAMATO等离子清洗机PR200产品介绍：■ 操作性功能● 射频13.56Mhz 0-200W高功率机型，发生器自动匹配，无需调节反射波，进一步增加的操作的便捷性。● 标准配备数字式皮拉尼传感器，实时显示真空度，使得控制更为精确。● 高硼硅玻璃腔体非常适合于实验室处理比较纯净的精元、硅片等样品，无需担忧因为腔体材质的原因导致样品受到污染。■ 安全性保护● 装载有温度、压力、等离子发生器异常等三层报警灯，可实时监测和了解机器的运转状态。● 装载有过电流漏电保护开关、自诊断回路、异常时蜂鸣器报警等安全功能。■ 产品优势 ●等离子清洗机清洗效果好，清洗过程中无废液产生，安全环保。●几乎所有的材质样品都可以进行等离子清洗。●等离子清洗过程中，温升很小，基本可达到常温处理。●高效的特制电极，保证等离子体能够均匀产生。等离子清洗机日本YAMATO等离子清洗机PR200规格：型号PR200PR301方式DP模式、圆柱形腔体性能发生器功率：0-200W0-300W发生器频率：射频RF13.56Mhz发生器匹配方式：自动匹配（Auto matching)手动匹配（manul） 构成腔体材质：高硼硅玻璃腔体内尺寸：φ100×L160mmφ118×L160mm反应气体：一路工艺气体，可支持氧气、氩气、氮气等非腐蚀性气体。控制方式：半自动控制真空度显示：数字式皮拉尼传感器，实时显示腔体内真空度。模拟式压力表配管材质：SUS不锈钢以及特氟龙门： 铰链门外形尺寸：W350×D400×H500mmW438×D520×H630mm真空泵抽速：4m3/hour电源规格： AC220V 10A重量： 约25kg 约34kg附属品真空管件一套、真空转接接头一套、试料托盘一枚。

等离子清洗机YAMATO等离子清洗机PM100产品介绍：■ 操作性功能● 40Khz 0-50W机型，可以覆盖实验室大部分的清洗、活化工艺。● 标准配备数字式皮拉尼传感器，实时显示真空度，使得控制更为精确。● 标配石英腔体，非常适合于实验室处理比较纯净的样品，无需担忧因为腔体材质的原因导致样品受到污染。 ■ 安全性保护● 装载有温度、压力、等离子发生器异常等三层报警灯，可实时监测和了解机器的运转状态。● 装载有过电流漏电保护开关、自诊断回路、异常时蜂鸣器报警等安全功能。 ■ 等离子清洗机YAMATO等离子清洗机PM100规格型号PM100方式圆柱形腔体性能发生器功率：0-50W发生器频率：60Khz输出电压：10KV构成腔体材质：石英腔体内尺寸：φ100×L200mm反应气体：一路工艺气体，可支持氧气、氩气、氮气等非腐蚀性气体。控制方式：半自动控制真空度显示：数字式皮拉尼传感器，实时显示腔体内真空度。配管材质：SUS不锈钢以及特氟龙门： 铰链门带观察窗外形尺寸：W310×D300×H448mm真空泵抽速：4m3/hour电源规格： AC100V 10A重量： 约25kg附属品真空管件一套、真空转接接头一套、试料托盘一枚。

产品说明本产品是一款桌面式射频等离子清洗机，也是您在科研、小批量试产中进行材料表面处理、高效清洁的好帮手。 它采用304不锈钢腔体，容量高达5.3L；拥有直径100mm大尺寸可视窗口，让您对每一个工艺瞬间都能直观的了解；工作频率为13.56MHz（每秒振荡次数高达130万次），这是保证真空高效清洗的前提，通过试验发现清洗效果远远优于直流、中频等常规清洗机；它广泛应用于手机屏幕、仪表光学镜片等精密部件的高效清洗，也可用于材料表面的亲水性处理；总之，相信在您的研究下，这款产品定能为您的每一个新的工艺和配方展现它完美的表现，期待您的使用。产品特点1) 本产品在集成化和小型化方面具体很强的优势，相对于同等频率、功率、容量等条件下；2) 采用7寸大尺寸触摸屏控制，轻松实现人机交互，减少复杂的机械按键和旋钮操作；3) 面板仅保留一个电源开关，其他的控制全部交给触摸屏实现，简单易学、直观明了；4)两路浮子流量计保证工艺气体要求的多样性；5) 集成触摸屏控制真空泵、气路、破真空的开启和关闭；6) 通过触摸屏可以任意设置射频功率、工艺时间、工作真空度，并具有设定参数记忆功能，避免重复性工作；7) 内部集成自动匹配器，简化不同工艺条件下繁琐的匹配手动调节；8) 内部集成数显真空计、功率计和定时器，实时监控真空度、功率值和工艺时间，让您对所有的工艺参数了如指掌；9) 日期和24小时制时钟显示，提醒勤奋的您也要记得小憩片时；10) 工艺处理完成后自动安全关闭所有部件并伴有声音报警，提醒您是时候开舱检验您的工艺效果了；技术参数产品型号 (RPC-1305)主要部件部件名称参数指标控制系统集成触摸屏7寸电阻触摸屏等离子激发电容耦合式（CCP）工作时间0-9999s（任意设定）真空腔体腔体容量5.3L腔体尺寸内径：150mm 长度：300mm腔体材质304不锈钢舱门铝合金舱门（配不锈钢铰链）样品支架铝合金筛板，厚度：3mm射频源信号频率13.56MHz ±0.005%功率范围0-100W任意设定（功率等级200W/300W可选）功率稳定度±0.1%匹配器匹配类型全自动匹配匹配时间≤3s气路气体测量浮子流量计气体通道2通道气体1量程10～100ml气体2量程10～100ml气路接头外径：6mm气管真空真空测量集成数显真空计真空泵类型双极旋片泵式抽气速率2L/s（4L/s可选）极限真空度0.067Pa抽气接口KF16-不锈钢波纹管整机整机功率1kW整机总尺寸580(L) *550(D)* 230(H)mm；（其中拉手+接头：60mm； 防滑底座：10mm）整机重量24kg（不含真空泵及配件）工作电压220Vac 50/60Hz工作环境-10℃ -- 40℃冷却方式强制风冷

吴先生 Nordson MARCH AP 系列批处理真空等离子系统提供了小、中、大三种不同真空腔体尺寸的选择，无论客户是希望用于R&D还是不同等级的生产环境，均可以给客户提供工艺关联的、控制连续的、可靠的、和可重复的真空气体等离子处理系统。AP 系列等离子处理机器适合于广泛的等离子清洗、表面活化和粘接力增强应用。这些能力可用于半导体封装工厂，微电子封装和组装，也可以用于医药和生命科学器件的生产。等离子处理设备的特点和优势• 带触摸屏的PLC控制器提供了直观图形界面和实时工艺呈现。• 无论是直接等离子，还是下游等离子模式，弹性架板结构都可以应对各种不同的样品载具。• 13.56 MHz 射频发生器有自动阻抗调谐，实现了成熟的工艺再现性。• 专有的软件控制系统生成工艺和生产数据用于统计制成控制。• 批处理类型，每一个单元都包含在机器内部，只需要较小的占地面积。• 泵、腔体、电子控制、13.56 MHz射频源都被封装在一个箱体内。 AP-300和AP-600等离子清洗机：AP-300和AP-600系统适合多种多样的等离子清洗、表面活化和改善附着力等应用。这些能力可以用于半导体制造、微电子封装和组装、医疗设备和生命科学器件的制造等。AP-300系统能够适合广泛的工艺气体，包括氩气、氧气、氢气、氦气及氟化气体。通过2个标准配置的气体流量控制器控制用于较好的气体控制。系统还可以选配2路气体，即最多可达4路。 AP-1000等离子清洗机：搭配HTP(高产能)电极的AP-1000等离子系统是综合了March拥有的电极设计和AP-1000的高可靠性及其优良的工艺性。AP-1000 HTP充分利用了射频等离子产生的活性离子，不仅缩短工艺时间而且提高处理均匀性。AP-1000HTP配备4路气体流量控制器，因工艺需求可选周不同的气体包括氩气、氢气和氦气等。开槽式料盒可竖放于工艺腔内，通常每个料盒最少可放置20条引线框，根据料盒尺寸大小，一炉可最多放置12个料盒。 AP-1500等离子清洗机：AP-1500系统设计为等离子清洁和表面处理应用提供卓越的性能。水平电极（挂架）可方便大批量装载。AP-1500系统采用先进的功率匹配算法和控制系统算法，实现等离子效率提高。直观的触摸屏控制面板可实时监测和控制等离子体处理过程。控制系统具有多级密码保护，防止未经授权的人修改程式。同时保证从第一炉到最后一炉系统性能的一致性。AP-1500系统还可提供滑动水平置物架，方便装卸。该系统紧凑、便于维护的设计使其占用空间很小，该系统只有前面和后面有检修通道。因此，多个系统可并排放置，实现占地空间利用率的提高。

屹东YP-20等离子清洗机主要用于样品清洗或真空腔体的清洗。用途非常广泛，其可搭的配拓展设备包括但不限于：SEM、FIB、NanoProbe、TEM及其他各类真空腔体。本产品等离子源为感应耦合等离子源（ Inductively Coupled Plasma），通过产生的氧自由基来进行化学清洗，与电容耦合等离子源（capatitively coupled Plasma）产品相比，本产品具有五大优势：1、化学清洗方式为主；2、无电极污染 ；3、样品损伤小；4、清洗效率高；5、无需破坏样品室高真空。

善准科技等离子清洗机VP-RS8真空腔体不锈钢材质，功率500W，射频频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行3分钟，腔体温度不高于45℃，不损伤样品，适用于晶圆去胶、煤灰化、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA清洗处理。

一、产品简介CIF推出的CPC系列生产型等离子清洗机是为研发型客户和工业级客户而设计的等离子体表面处理设备，配置丰富，且真空腔体里可分层，适合大多数生产场景。适用于等离子清洗，活化以及刻蚀等多种应用，设备可在严苛环境下稳定运行，产品性能稳定，样品处理重复性、一致性好。二、产品特点1. 7寸彩色触摸屏互动操作界面，图形化用户操作界面显示，自动监测工艺参数状态，0~99个配方程序，可存储、输出、追溯工艺数据，机器运行、停止提示。2. PLC工控机控制整个清洗过程，手动、自动两种工作模式。3. 采用质量流量计，气体流量控制更准确。标配双路气体输送系统，可选多气路气体输送系统，气体分配均匀。可输入氧气、氩气、氮气、四氟化碳、氢气或混合气体等气体。4. 采用花洒式多孔进气方式，改变传统等离子清洗机单孔进气不均匀问题。5. HEPA高效过滤，气体返填吹扫，防止二次污染。6. 316不锈钢真空仓，洁净无污染。7. 全真空管路系统采用316不锈钢材质。8. 处理高效均匀，效率高，工艺重复性好。9. 合理的结构设计，设备占用空间小。10. 可处理各种材质、形状、尺寸样品。11. 样品处理温度低，无热损伤和热氧化。12. 使用成本低、耗损小。13. 产品性能稳定，安装与维护，简便方便。14. 安全保护，仓门打开，自动关闭电源。三、技术参数型号CPC15CPC35CPC80CPC120CPC150舱体尺寸W240xH240xD260mmW320xH320xD350mmW420xH400xD500mmW500xH500xD450mmW500xH500xD600mm舱体容积15L35L80L120L150L有效尺寸W210xD245mmW300xD335mmW400xD490mmW500xxD440mmW500xxD590mm电极分布2层3-4层6层8-10层10-15层射频电源13.56MHz， 0-300W13.56MHz， 0-300W13.56MHz，0-600W13.56MHz，0-1000W13.56MHz，0-1000W匹配器自动匹配器激发方式电容式电 流1.2A时间设定1-99分59秒气体稳定时间1分钟真空度100pa以内控制系统7寸PLC触摸屏控制工艺气体2气路 MFC（可选装3路）真空泵抽速约8m3/h抽速16m3/h抽速40m3/h抽速60m3/h抽速约60m3/h电 源AC220V 50-60HzAC220V 50-60HzAC380V 50-60HzAC380V 50-60HzAC380V 50-60Hz备注：根据用户要求，可选中频电源40KHz,功率300-2000W。

高真空的扫描电镜，聚焦离子束FIB系统，由于样品，操作，油污，FIB的气体注入系统带来的碳氢污染物会累积在样品室表面，以及探测器包括EDX窗口，进而影响系统分辨率，清晰度，真空度以及稳定性。Evactron等离子清洗机适用于任何扫描电镜以及XPS等其他任何真空腔体，她可以很好的解决这些困扰电镜使用者的污染问题.

技术部 黄经理：工程部 陈经理：设备型号：HM-Plasma5L腔体材质：不锈钢。供电电源：AC 220 V。工作电流：1.2 A(不含真空泵)。射频电源功率：0-300 W可调。射频频率：40 kHz。频率偏移量：小于0.2 kHz。特性阻抗：50欧姆，自动匹配。真空度：1-30 Pa。气体路数：双路气体输入（可自动控制气体流量配比）。气体流量：10-100 ml/min(可调)。过程控制：PLC人机界面自动与手动方式，遥控、外接电脑控制方式可选。清洗时间：1-6000 s可调。刻蚀速率：1-10 nm/min。功率大小10%-100%可调。内腔尺寸直径150×270 mm (容积~5 L )。外形尺寸：510×450×420 mm。重量：45 kg。真空泵：2XZ-4。真空室温度：小于65°C。冷却方式：强制风冷。样品托盘：石英+不锈钢双托盘。全套消音设备确保整机运行无噪声。自动检测压力值与程序运行阶段，启动与终止表面活化过程。

真空等离子清洗机厂家：诚峰智造真空式等离子处理系统CRF-VPO-MC-6L名称（Name）真空式等离子处理系统型号（Model）CRF-VPO-MC-6L控制系统（Control system）PLC+触摸屏电源（Power supply）380V/AC,50/60Hz,12.5kw中频电源功率（MF Power）2000W/40kHz容量（Volume）235L（Option）层数（Electrode of plies）6（Option）有效处理面积（Area）500（L）*500（W）（Option）气体通道（Gas）两路工作气体可选： Ar、N2、CF4、O2产品特点：处理空间大，提升处理产能，采用PLC+触摸屏控制系统，有效控制设备运行。可按照客户要求定制设备腔体容量和层数，满足客户的需求。保养维修成本低，便于客户成本控制。高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持。应用范围：主要适用于生物医疗行业，印制线路板行业，半导体IC领域，硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业，航空工业等。

产品详情德国Diener等离子清洗机Zepto,Atto,Femto,Pico,Nano,PlasmaBeam德国Diener是专门生产经济、可靠的等离子清洗和等离子刻蚀设备的公司, 是世界上材料处理低温等离子体设备的市场和技术领先者。Diener采用先进的集成化技术开发生产射频频率为40KHz 、80KHz、13.56MHz，以及代表等离子应用最先进技术的2.45GHz的等离子清洗机。目前设备广泛应用于：等离子清洗、刻蚀、灰化、涂镀和表面处理。产品主要分布在真空电子、LED、太阳能光伏、集成电路、生命科学、半导体科研、半导体封装、芯片制造、MEMS器件等领域。其设备生产零件均选用其零件行业的最优质产品，以保证性能技术稳定。德国diener等离子表面处理设备特点：等离子清洗机清洗效果好，效率高，应用范围广。对清洗样品，没有任何材质、外观尺寸等要求等离子清洗过程中，温升很小，基本可达到常温处理。射频功率无极连续可调。高效的特制电极，是产生均匀等离子体的保证。特制电极和托盘结构，可充分利用真空舱体内部空间，使处理效率最大化，同时也可保证样品可得到全面有效的清洗。特有的过载、短路和过热保护电路，可保证射频电源的稳定和安全。设备整体模块化设计，安装与维护极为简单。德国diener等离子表面处理设备多种系列： Diener等离子表面处理设备 PICO PCCE 全自动 主要技术参数： *全自动PCCE控制系统,可存储50套程序。*根据工艺要求不同，可设定真空泵启动与停止、发生器的功率、反应腔体压强、气体流量与时间等参数双路工作气体，MFC质量流量计*反应舱为方形铝制腔体w: 150 mm, h: 160 mm, d: 325 mm带有铰链门，门带有观察窗。*发生器100 kHz, 0 – 500 W连续可调，反射波自动调节。电极材质为铝制。真空泵抽气能力8m3/h*配有压力传感器，实时显示压力值电源电压：单相AC230V 16A 配置清单： 数量备注主机一台Diener PICO真空泵（国内采购）一台VRD-8油泵电源线一根2mm操作说明书一本 操作面板

产品简介：转瓶等离子清洗机，专为处理颗粒、粉末样品而设计。在等离子体作用下，一些材料很容易发生断键和聚合，转瓶等离子清洗机可以高效率的处理微细的甚至分子级别的超细粉末材料，改变了传统真空等离子清洗机无法处理颗粒、粉末样品的问题。该机同样也可以处理非粉末的样品，实现了一机多用的功能。 产品名称转瓶等离子清洗机应用领域样品表面清洁、活化、键合、去胶、金属还原、简单刻蚀、表面有机物去除、疏水实验、镀膜前处理等；主要特点1、石英腔体可以以一定得速度旋转2、可以对粉末样品进行等离子清洗3、可以对块状或片状样品进行等离子清洗技术参数型号：PCE-6S40PCE-6S13腔体尺寸：300×Φ150㎜300×Φ150㎜腔体容积：5.2L5.2L石英转瓶尺寸：60×60×120㎜60×60×120㎜转瓶转速：1-15rpm/s可调1-15rpm/s可调射频频率：40KHz13.56MHz射频功率：10-200W无级可调10-150W无级可调电源：220V 50/60Hz220V 50/60Hz电流：1.2A1.2A时间设定：1-99分59秒1-99分59秒气体稳定时间：1分钟1分钟真空度：100pa以内100pa以内激发方式：电容式电容式产品规格产品尺寸L*W*H：550×520×285550×520×285包装尺寸L*W*H：690×630×450690×630×450整机重量：31kg35kg标准配件1主机1台2真空泵1台3真空软管1根4舱内托盘1块5电源线2根6说明书1本7合格证1份8保修单1份

等离子产生原理,等离子技术可以分为大气常压,辉光,两种类型.对于不同的类型，均发展出相关的应用.等离子清洗机有什么优势均匀度高,效果可控,安全易用.等离子产生原理：等离子技术可以分为大气常压、辉光 两种类型。 对于不同的类型，均发展出相关的应用。　1.大气等离子清洗机的优势： 通常采用空气作为发生气体。特点是气体的需求量非常高，工业上常用中频作为激发能源，频率在40KHZ左右。等离子工作形态以直喷和旋转的较为常见。设备工作过程中会产生超标的臭氧与氮氧化物等对人体有害的气体，必须要配套废气排放系统一同工作。因为上述特性，大气等离子主要适用于对处理效果要求不高，并且后续运行成本低的行业比如手机盖板行业、手机保护膜行业等。　2.辉光等离子清洗机的优势： 主要分为两种方式，即腔式与大气压式，此两种等离子技术均为直接式等离子。 腔式等离子的特点是需要一个封闭的腔体，电极内置于真空腔体中，工作时首先用真空泵将腔体内空气吸出形成类真空环境，然后等离子在整个腔体中形成并直接对在内的材料进行表面处理。此种腔式等离子的处理效果要优于大气等离子。后续运行成本较高，主要原因是其真空泵连续工作的功耗较大。另外设备工作时在真空环节需要的时间较多，对采用自动化生产线及要求处理效率的工业领域来说，局限性较明显。　　大气压辉光式等离子技术。RF射频作为激发能源，工作频率是13.56MHZ。采用氩气(Ar)作为发生气体，氧气或者氮气作为反应气体。　　该技术的特点是：　ⅰ、均匀度高。大气压等离子是辉光式的等离子幕，直接作用于材料表面，实验证明，同一材料不同位置的处理均匀性很高，这一特性对于工业领域进行下一环节的贴合、邦定、涂布、印刷等制程十分重要。　ⅱ、 效果可控。大气压等离子有三种效果模式可选。一是选用 氩气/氧气 组合，主要面向非金属材料并且要求较高的表面亲水效果时采用，比如玻璃，PET Film等。 二是选用 氩气/氮气 组合，主要面向各种金属材料，如金线、铜线等。因氧气的氧化作用，替换为此方案中的氮气后，该问题可以得到有效控制。三是只采用氩气的情况，只采用氩气也可以实现表面改性，但是效果相对较弱。此为特殊情况，是少数工业客户需要有限而均匀的表面改性时采用的方案。　ⅲ、安全易用。大气压式等离子，也是低温等离子，不会对材料表面造成损伤，例如对方阻值敏感的ITO Film材质亦可处理。无电弧，无需真空腔体，也无需废气排放系统，长时间使用并不会对操作人员造成身体损害。　ⅳ、面积宽大。大气压等离子最大可以处理2m宽的材料，可以满足现有多数工业企业的需求。　ⅴ、成本低廉。大气压等离子设备功耗低，运行成本以气体为主。以主要消耗气体氩气为例，同大气等离子气体消耗量相比不足其1/20.

细胞拉伸室买来后如何在其表面平铺细胞进行培养？实际上，对于很多刚开始研究细胞机械拉伸领域的科研人员是一项新的挑战。PDMS弹性体薄膜材料，在特定的等离子表面处理的情况下，会产生亲水效果，通常拉伸室在接种细胞前是需要对内表面膜进行这一亲水处理的。PC-400T等离子清洗机通过真空腔室内材料暴露于等离子放电，可以去除材料表面污染物，这是传统清洁方法难以做到的。还可用于加工金属、陶瓷、塑料、PDMS等多种材料。除清洁外，它还支持对所有样品进行等离子体处理，例如在聚合物上形成薄膜、增强表面粘合强度和细胞培养的预处理。PC-400T具备如下特点：结构紧凑，非常适合实验研发。台式设计，实验室使用和研发的理想尺寸。操作简单，具有自动控制功能。只需按下START 开关即可轻松操作。可以通过设置定时器来进行等离子处理。可用于清洁PDMS和生物材料、表面改性、增强细胞培养物的粘附性和灭菌等多种用途。

NE-PE250C 是一款大型工业用真空等离子处理系统，设备配备大功率、大腔体、密度 大、高稳定性，适用于大规模连续生产。设备采用高性能真空泵快速产生超低的真空压 强。同时根据客户工艺要求，对真空反应腔室内通入不同的混合工艺气体，采用高品质 等离子发生器，使得通入的工艺气体产生等离子体，并确保稳定产生高密度，高能量的 离子。等离子体与材料发生 复杂的物理，化学反应，可 以实现不同的工艺功能，比 如清洗，活化，刻蚀与涂敷 等。等离子态显著的特点是 高均匀性辉光放电，根据不 同气体发出从蓝色到深紫 色的色彩可见光。抽真空系统 抽真空系统包含真空泵、真空测量仪、真空管道等； 真空泵抽真空时间≤120S，真空度可达 30PA 以内； 工作真空度：10-50Pa，可自动进行压力控制； 破真空时间：15S 以内；  真空探测仪采用电阻式皮拉尼真空计，使用寿命长，探测精准； 真空管道采用航空铝合金材质稳定可靠。  等离子发生系统包含等离子电源、自动匹配器和反应腔室等。 等离子电源选用高频离子源，频率 40KHz，功率 0-5000W，稳定性好，运行准确，精 度高，能稳定提供等离子所需能量，保证等离子处理效果。  等离子发生腔体为航空铝合金腔体，其内部电极组合能通过改变电极板的位置来灵 活的改变工作区间的高度和等离子清洗的强度，来适应不同工件的清洗要求。

PCE-6小型等离子清洗机的等离子腔体为 ?160mm×190mm的石英腔体，采用的射频电源功率为3.0MHz（1%），输出功率7.2W、10.2W、29.6W三档可调。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物，同时也可改变物体表面的性质（如亲水和疏水性等），对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。PCE-6小型等离子清洗机体积小，占用的空间少，可有效节约实验室空间。PCE-6小型等离子清洗机配有一个双旋真空泵，可对腔体进行抽真空，同时通入氩气等气体，适用于对易氧化的物品的清洗。1、通过控制面板的按键及开关，可控制调节射频功率、真空泵的开闭、清洗时间。2、时间、功率、真空度等信息显示在一组4位数码管上。3、设有一个三通阀，可精确控制进气流量，以及大气流清洗腔体，进气接口为6mm卡套接口。4、选用大功率射频电源设备可进行等离子刻蚀和等离子灰化实验。产品名称 PCE-6小型等离子清洗机产品型号 PCE-6主要参数 1、电源：AC220V 50/60Hz2、输出功率：7.2W、10.2W、29.6W3、真空泵功率：500W4、总功率：600W5、射频频率：3.0MHz，功率3档可手动调节6、等离子腔体：高纯石英腔体?160mm×190mm，采用铝制折叠式法兰进行密封，法兰上设有?45mm的观察窗7、真空泵：120L/min，直连式双旋真空泵8、极限真空度：50mtorr9、通入气体：可通入多种气体来产生等离子，如N2、Ar、H2、O2、Air和混合气体等（根据材料性质选定）清洗及蚀刻产品规格 尺寸：400mm×300mm×300mm重量：10.2kg可选配件 1、2"-6"石英舟（盛放基片）2、2-4通道质子或浮子混气系统

PCE-6小型等离子清洗机的等离子腔体为 Ø 160mm×190mm的石英腔体，采用的射频电源功率为3.0MHz（1%），输出功率7.2W、10.2W、29.6W三档可调。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物，同时也可改变物体表面的性质（如亲水和疏水性等），对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。PCE-6小型等离子清洗机体积小，占用的空间少，可有效节约实验室空间。PCE-6小型等离子清洗机配有一个双旋真空泵，可对腔体进行抽真空，同时通入氩气等气体，适用于对易氧化的物品的清洗。1、通过控制面板的按键及开关，可控制调节射频功率、真空泵的开闭、清洗时间。2、时间、功率、真空度等信息显示在一组4位数码管上。3、设有一个三通阀，可精确控制进气流量，以及大气流清洗腔体，进气接口为6mm卡套接口。4、选用大功率射频电源设备可进行等离子刻蚀和等离子灰化实验。产品名称 PCE-6小型等离子清洗机产品型号 PCE-6主要参数 1、电源：AC220V 50/60Hz2、输出功率：7.2W、10.2W、29.6W3、真空泵功率：500W4、总功率：600W5、射频频率：3.0MHz，功率3档可手动调节6、等离子腔体：高纯石英腔体Ø 160mm×190mm，采用铝制折叠式法兰进行密封，法兰上设有Ø 45mm的观察窗7、真空泵：120L/min，直连式双旋真空泵8、极限真空度：50mtorr9、通入气体：可通入多种气体来产生等离子，如N2、Ar、H2、O2、Air和混合气体等（根据材料性质选定）清洗及蚀刻产品规格 尺寸：400mm×300mm×300mm重量：10.2kg可选配件 1、2"-6"石英舟（盛放基片）2、2-4通道质子或浮子混气系统

PCE-8等离子清洗机是一款较大型的等离子清洗机，等离子腔体为 Ø 8.5"×12"的石英腔体，采用的射频电源功率0- 100W连续可调节，采用的射频为13.56MHz。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物，同时也可改变物体表面的性质（如亲水和疏水性等），对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。在单晶材料外延薄膜生长以前对其进行预处理，将对生长具有显著的作用。PCE-8等离子清洗机配有一个直连式双旋真空泵，可对腔体进行抽真空，同时通入氩气等保护气体，适用于对易氧化的物品的清洗。1、采用6"彩色触摸屏，可控制射频功率、清洗时间、气体流量、真空泵的开启等。2、内部配有0-500mm/min的质量流量计，可以精确地控制进气流量。产品名称PCE-8等离子清洗机产品型号PCE-8主要参数1、电源：AC220V2、射频功率：最大100W，可在0-100W间调节3、真空泵功率：500W4、总功率：600W5、射频：13.56MHz6、等离子腔体：高纯石英腔体，外径Ø 8.5"，内径Ø 8.2"，长12"，采用铝制折叠式法兰进行真空密封，法兰设有一个Ø 60mm的观察窗口7、极限真空度：50mtorr8、通入气体：可通入多种气体，如N2、Ar、Air、H2、O2和混合气体等等（根据材料性质所定）清洗及蚀刻产品规格尺寸：620mm×450mm×600mm可选配件 1、300W、600W射频电源（进行等离子刻蚀和等离子灰化等实验）2、2"-6"石英舟（盛放基片）3、2-4通道浮子混气系统4、2-4通道质子混气系统5、直连式双旋真空泵（240L/min）6、KF25波纹管7、KF25手动挡板阀