深层连续水平位移传感器

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深层连续水平位移传感器相关的厂商

  • 合肥力智传感器系统有限公司,专门从事传感器、变送器、智能仪器、仪表等方面的科研开发与制造。公司成立十多年来,力智测控以雄厚的技术、科技开发力量及精湛的生产工艺水平,研制、开发、制造上百种力敏传感器、压力变送器、智能仪表及计算机控制系统。广泛应用于冶金、化工、油田、军工、航空航天、各大科研所、院校、汽车、交通、能源、机械制造、建材等行业的计算机和自动化过程控制。产品遍布全国,创新、诚信、奋进为企业精神,坚持以优质的产品,真诚的服务和卓越的信誉,共同创造和见证您我共同的辉煌历程。你的需要就是我们的服务。我们愿和国内外客商真诚合作、共同发展。我们等待着你的到来。
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  • 安徽天光传感器有限公司创建于1991年,占地面积22000平方米。主要研发、生产、销售:称重传感器,电力覆冰检测传感器,扭矩传感器,拉力传感器,轴销传感器,压力传感器,拉压力传感器以及相配套测控仪表等产品。二十多年来天光不断吸取国内外的先进技术,引进国外领先的设备与工艺,学习与吸收现代企业管理理念,先后研发、生产了百余种测力传感器及配套仪器仪表,产品广泛应用于军工、航空航天、油田、交通、医药、冶金建材、教学等行业的计量与自动化过程中的检测等方面,其半导体应变计的生产工艺、设备及产量为国内领先,已申报发明专利。2008年我公司荣幸为北京奥运会主体育场鸟巢提供专用传感器,并获得好评。 陈圆圆180 5523 0933
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  • 湖北五岳传感器有限公司是中国第一支高温熔体压力传感器的诞生公司,成立20多年来,一直专注于PT111系列、PT124系列、PT131、PY1366B、PT167B系列传感器,压力传感器,压力变送器,高温压力传感器,熔体压力传感器,流体压力传感器,高温熔体压力传感器,高温熔体压力变送器,挤出机熔体压力传感器,化纤挤出机压力传感器,橡胶挤出机压力传感器,塑料机械熔体压力传感器,工业熔体压力传感器,和PY909、PY208、PY508、PY600、PY708系列高温熔体压力传感器智能数字显示压力仪表的开发,研制,销售及工程配套。是国内替代同类进口高温熔体压力传感器产品的最大生产商。五岳牌高温熔体压力传感器,变送器系列及高温熔体压力传感器智能数显仪表等产品在塑料,化纤,橡胶,石化等诸多工业门类的应用始终居于领导地位。五岳系列高温熔体压力传感器、高温熔体压力变送器、智能数字显示压力仪表还出口到东南亚、港澳台、韩国、中东及世界其它地区。同时维修美国DYNISCO意大利GEFRAN的同类高温熔体压力传感器产,提供关于各类高温熔体压力传感器的技术支持、使用维护!湖北五岳传感器有限公司荣誉榜:在中国制造出:第一支高温熔体压力传感器;第一支超高温熔体压力传感变送器;第一支**高温熔体压力传感器;第一台**高温熔体压力表;第一支高温熔体压力变送器;第一家与国际著名挤出业龙头企业合作的公司。
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深层连续水平位移传感器相关的仪器

  • 当前,高细胞密度和高滴度表达的单克隆抗体细胞培养,给传统下游澄清和纯化操作带来了越来越大的负担。为了突破这一瓶颈,各种类型的预处理技术应用到澄清工艺中,e.g., pH酸沉淀,添加阳离子聚合物如pDADMAC、PEI和壳聚糖。絮凝技术也可潜在地减少可溶性杂质如DNA和HCP,从而减少下游处理的负担。聚二烯丙基二甲基氯化铵(pDADMAC),是非常有效的絮凝剂,配合具有密度梯度结构的Clarisolve深层过滤器使用,为高细胞密度培养料液提供了有效的澄清解决方案。与目前市场上的深层过滤器相比,Clarisolve拥有更高的处理量,处理后料液的浊度更低,料液的澄清过程所需操作空间显著的减少。絮凝预处理技术优势:- 有效的高密度细胞培养料液的澄清处理方案- 可显著减小澄清步骤的操作空间及减少冲洗需求- 无需离心机,更容易整合至一次性澄清平台- 独立的模块Pod型滤器可简单实现实验室规模到生产规模的无缝对接无论使用哪种预处理方法,絮凝的料液粒径分布均会发生变化,使常规离心分离和深层过滤失效,从而导致采用大型深层过滤装置。然而这些大型过滤装置可能难以安装进现有厂房或空间有限的新厂房内内。Clarisolve深层过滤器经过优化,以匹配典型的预处理后料液的大粒径分布,优越的过滤性能是传统澄清深层过滤器所不及的。这项可靠的澄清技术已证明可成功地适用于具有不同细胞密度和活力的多种单克隆抗体(mAb)细胞培养收获液。选配指南:- 预处理选酸沉淀,得到10-20 µ m的颗粒,选择20MS- 预处理选阳离子聚合物絮凝,得到30-40 µ m的颗粒,选40MS;得到50-60 µ m的颗粒,选60 HX更多信息,e.g., 详细参数列表,滤器性能等,可参见本页面核心参数 – 样本下载中的资料手册。
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  • Millistak+深层过滤介质可在即用型且处理量可扩展的POD过滤系统中使用。Pod过滤器形式适用于从实验室、中试到生产规模的应用,其独特的模块化设计和100%一次性设计,提供了更大的灵活性。Millistak+ Pod系统非常适合于多种多样的一级和二级澄清应用,包括细胞培养物、酵母和大肠杆菌裂解物(离心后)、包涵体复性物、培养基、疫苗、血浆蛋白和血清。Millistak+ Pod过滤器有三种不同的介质系列,以便满足您的具体应用需求。Millistak+ DE、CE和HC介质凭借阶梯密度基质以及表面正电荷性质,提供了最佳性能:- Millistak+ DE系列由指定等级的纤维素纤维和硅藻土构成,这不仅提高了生产工艺,还提高了污染物容纳能力- Millistak+ CE系列由适用于粗过滤应用的纤维素单层介质构成- Millistak+ HC系列通过组合提高过滤能力和截留的两种不同技术,致力于提高生产率。将生物反应器下游的多级过滤,精简为一个有效单极过滤优势:- 低滞留体积,更大的产品收率- 种类众多的过滤介质应用于一级或两级深层过滤- Millistak+ HC两层介质设计,改善了预过滤,精简了澄清过程- 灵活的、模块化的装置,提供了处理量从5 L到12000 L及以上体积的工艺可缩放能力创新型的Pod过滤系统包含八种尺寸规格的过滤器和两种可扩展的夹具。无论选择何种规格的Pod过滤器,相同的流道和结构,能够确保获得从小试到生产规模的线性放大解决方案。- 拥有专利的一次性设计,无需过滤套筒、CIP或清洗验证- 独立密封的Pod过滤器,保护操作人员免受生物危害- 结构坚固,易于安装和使用- 占地面积更小,便于在狭窄空间使用配置:- µPodTM过滤器 – 23 cm2- Lab scale(实验室规模)Pod过滤器 – 0.027 m2,0.054 m2- Millistak+ DE和CE介质 – 0.11 m2、0.77 m2或1.4 m2过滤面积- Millistak+ HC介质 – 0.11 m2、0.55 m2或1.1 m2过滤面积- 生产规模夹具 – 每层夹具可安装5至10个Pod过滤器。为了工艺灵活性,最多可同时安放三层夹具- 中试型夹具 – 最多可安装2个全尺寸Pod过滤器,面积为0.11 m2 ~ 2 m2(取决于介质类型)。另有选配套件,可将Pod过滤器的安装数量扩展到5个- 一次性接头 – 连接Pod过滤器与工艺管线,形成一次性流路- 一次性隔离板 – 可以使单层夹具上安装多于一种介质的滤器了解更多:更多信息,e.g., 详细规格与参数列表等,可参见本页面核心参数 – 样本下载中的资料手册。
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  • SuperHawk3002MMSD深层连续水平位移传感器应用边坡滑移位移在线监测特点全光型,现场不需要供电免受雷击损坏和电磁干扰探测深层任意定制描述 SuperHawk3002MMSD光纤光栅深层连续位移传感器通过不锈钢安装底座与探杆组件连接后,放入测斜管中以监测边坡、堤坝、公路、防渗墙等结构的滑坡变形。配合光纤传感分析仪,可进行连续监测。安装多个传感器,可获得不同深度的滑移曲线。主要参数:产品型号SuperHawk 3002MMSD性能指标波长范围1528~1568nm边摸拟制比≥15dB3dB带宽≤0.25nm反射率≥90%分辨率0.1mm精度0.5mm量程0~200mm工作温度范围-40~120℃是否带有温补无封装方式非金属封装外形尺寸?20x2000mm出纤方式双端出纤、铠装光缆安装方式带有安装底座?150x350mm
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深层连续水平位移传感器相关的资讯

  • 精密位移传感器技术比较
    精密位移传感器技术比较PIEZOCONCEPT 在其压电级中使用什么类型的位移传感器?为什么它优于其他传感器技术?PIEZOCONCEPT 使用单晶硅传感器,称为Si-HR 传感器。尽管它是应变仪传感器大系列的一部分,但它的性能优于其他两种常用技术(电容式传感器和金属应变仪)。这两种位置传感技术有其自身的特定缺点。 电容式传感器与 PIEZOCONCEPT 公司Si-HR 传感器的比较电容式传感器非常常用。他们提供了不错的表现,但他们对以下情况很敏感:• 气压变化:空气的介电常数取决于气压。电容测量将受到任何压力变化的影响。• 温度变化:同样的,空气的介电常数会随温度变化• 污染物的存在以上所有都会导致一些纳米级的不稳定性,因此如果您想实现真正的亚纳米级稳定性,则需要将它们考虑在内。即使可以对气压和温度进行校正,也无法校正其他因素(污染物、脱气)的影响。这解释了电容式传感器在真空环境中性能不佳的原因。此外,电容式传感器非常昂贵且体积庞大。因此,带有电容传感器的位移台不可能做的有像的 BIO3/LT3 这样薄,即使设计的好也会在稳定性方面进一步牺牲性能。因为它是一种固态技术,所以Si-HR 传感器的电阻不依赖于气压或污染物的存在。其次,温度变化会对测量产生影响(主要是因为材料的热膨胀),但这可以通过使用传感器阵列来纠正。基本上,我们为每个轴平行使用 2 个硅传感器 - 一个用于测量,另一个用于考虑由于温度变化导致的材料膨胀。金属应变计与 PIEZOCONCEPT Silicon HR 技术的比较金属应变计与我们的 Silicon HR 技术(也是应变计)之间的差异更大。金属应变计和硅传感器应变计之间存在两个巨大差异。竞争对手试图说所有的应变仪都具有相同的性能,因为它们测量的是应变。这是不正确的。半导体应变计在稳定性方面与金属应变计有很大不同。金属应变计和Si-HR 传感器(PIEZOCONCEPT 使用)之间的第yi个区别是应变系数:半导体应变仪(Si-HR)的应变系数大约是金属应变仪的 100 倍。更高的规格因子导致更高的信噪比,最终导致更高的稳定性。 更重要的是,第二个区别是金属应变计不能直接安装在弯曲本身上(即实现运动的地方):金属应变计必须安装在某种“背衬”上。因此,它必须安装在执行器本身上,因为您没有足够的空间将其安装在挠性件上。仅在执行器上测量的问题是压电执行器有很多缺陷......存在蠕变或滞后等现象。因此,由于压电执行器的伸长不均匀,因此仅测量执行器的部分伸长率并不能精确地扣除其完全伸长率。通过对弯曲本身进行测量,我们不会遇到这种“不均匀”问题。由于上述原因,如果您比较应变计(金属)和 PIEZOCONCEPT 的Si-HR 传感器,在信噪比和稳定性方面存在巨大差异。 关于法国PIEZOCONCEPT公司 PIEZOCONCEPT 是压电纳米位移台领域的领宪供应商,其应用领域包括但不限于超分辨率显微镜、光阱、纳米工业和原子力显微镜。其产品已被国内外yi流大学和研究所从事前沿研究的知名科学家使用,在工业和科研领域受到广泛好评。 多年来,纳米定位传感器领域电容式传感器一直占据市场主导地位。但这项技术存在明显的局限性。PIEZOCONCEPT经过多年研究,开发出硅基高灵敏度位置传感器(Silicon HR)技术,Si-HR传感器可以实现更高的稳定性和线性度,以满足现代显微镜技术的更高分辨率要求。 PIEZOCONCEPT的目标是为客户提供一个物美价廉的纳米或亚纳米定位解决方案,让客户享受到市面上蕞高的定位准确性和稳定性的产品使用体验。我们开发了一系列超稳定的纳米定位器件,包含单轴、两轴、三轴、物镜扫描台、快反镜和配套器件,覆盖5-1500um行程,品类丰富,并提供各类定制化服务。与市场上已有的产品相比具有显着优势,Piezoconcept的硅传感器具有很好的稳定性、超本低噪声和超高的信号反馈,该技术优于市场上昂贵的高端电容传感器。因此,我们的舞台通过其简单而高效的柔性设计和超本低噪声电子器件提供皮米级稳定性和亚纳米(或亚纳米弧度)本底噪声。更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电:上海昊量光电设备有限公司是国内知名光电产品专业代理商,代理品牌均处于相关领域的发展前沿;产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件等,涉及应用领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防及更细分的前沿市场如量子光学、生物显微、物联传感、精密加工、先进激光制造等;可为客户提供完整的设备安装,培训,硬件开发,软件开发,系统集成等优质服务。
  • Cell |清华大学研究团队开发新型双光子显微成像术,实现深层活体时空跨尺度观测
    双光子显微镜是对深层散射组织进行活体观测不可或缺的仪器,以其远超单光子显微成像的穿透深度而受到生命科学和医学研究的广泛关注。然而,传统双光子显微成像的点扫描成像模式从根本上限制了其成像通量与三维感知速度,极易受复杂活体成像环境干扰,同时激发点巨大的瞬时光强会对活体生物样本造成持续性的非线性光损伤,导致高速三维成像时长严重受限,极大地制约了病理学、免疫学和脑科学的发展。2023年5月12日,清华大学戴琼海、吴嘉敏、祁海作为共同通讯作者在 Cell 期刊发表了题为:Two-photon synthetic aperture microscopy for minimally invasive fast 3D imaging of native subcellular behaviors in deep tissue 的研究论文。该研究首次提出了基于空间约束的多角度衍射编码,实现非相干光孔径合成;建立了双光子合成孔径显微术(Two-photon synthetic aperture microscopy,2pSAM),“化点为针”,通过多角度针状光束的扫描在实现高速三维感知的同时,将双光子成像光毒性降低了1000倍以上;融合了戴琼海院士团队2021年同样在 Cell 上所提出的数字自适应光学架构,具备高速多区域像差矫正能力,即使在恶劣复杂活体环境下依然保持近衍射极限的空间分辨率,并进一步提升了传统双光子成像的穿透深度。基于此,2pSAM能够在哺乳动物深层散射组织中非侵入式地观测大范围亚细胞级动态变化,将毫秒级三维连续观测时长从数分钟提高到数十小时,为系统性地研究大规模细胞在不同生理与病理状态下的交互作用打开了大门。交叉研究团队利用2pSAM在小鼠活体观测到了一系列新现象,包括急性脑损伤后脑组织内周的多细胞互作,神经元在超长时程连续观测下展现出对视觉刺激的表征稳定性与功能多样性,以及首次完整高速记录下了小鼠免疫反应过程中淋巴结生发中心的形成过程,为病理学、脑科学和免疫学的研究打开了新窗口。传统双光子显微镜使用“点扫描”的方案对三维样本进行扫描,类似于共聚焦荧光显微镜,由于双光子成像的非线性效应使其能够获得数倍于单光子成像的穿透深度。例如,双光子显微镜在小鼠大脑皮层的最大穿透深度可以达到1 mm。然而,这种点扫描方式严重限制了双光子显微镜的三维成像速度与数据通量,并且由于在聚焦点位置极大的瞬时光强带来了非常严重的非线性光损伤隐患。2pSAM采用了轴向景深拓展的“针扫描”方案,通过改变针状光束的不同倾角实现样本三维信息的多角度投影,类似CT一样实现快速三维成像;同时,受到雷达成像中合成孔径方法的启发,通过在像面处引入针孔所带来的空间衍射编码约束,实现了非相干光的孔径合成,将多角度信息融合为大数值孔径对应的高空间分辨率;进一步利用样本的时空连续性先验,有效避免了视角扫描带来的时间分辨率损失。这样一种全新的计算双光子成像架构,在保留双光子本身深层组织穿透能力的同时,将有效成像通量提升了三个数量级以上。图1. 双光子合成孔径显微术(2pSAM)系统图除此之外,样本引起的光学像差给显微成像带来的分辨率与信噪比损失十分严重,随着成像深度的增加这种降质尤为明显。目前双光子成像中的硬件自适应光学技术主要面临着以下一些问题:1、成像系统复杂、成本高昂;2、有效校正视场有限,大视场多区域校正速度缓慢。2pSAM通过激发光编码获得了超精细的四维空间角度光场数据,能够使用数字自适应光学架构(DAO),无需在光学系统中增加额外的波前传感器或者空间调制器,就能实现信号采集与自适应像差校正的解耦,在后处理端完成大范围多区域自适应光学,显著提升在复杂成像环境中的空间分辨率与信噪比。图2. 双光子合成孔径显微术(2pSAM)结合数字自适应光学(DAO)与传统双光子显微镜(TPM)面对复杂成像条件下的结果对比。从左至右依次为:正常条件下拍摄,物镜校正环不匹配情况下拍摄,物镜为水镜且缺乏浸润水的情况下拍摄,物镜与样本之间增加散射胶带后进行拍摄长时间的激光照射会对活体样本产生严重的光毒性。研究团队发现,传统双光子显微成像由于使用飞秒激光激发与高NA会聚,在样本局部会产生巨大的瞬时光强,由此所产生的非线性光毒性在以往被极大地低估了,而一旦在长时程成像过程中,就会不断积累损伤从而影响细胞正常状态。与之对比,2pSAM化点为针,通过轴向景深拓展,在保持同样荧光激发效率的前提下,将瞬时峰值功率降低了1000倍,从而有效解决了非线性光损伤的问题。一方面能显著减少荧光探针的光漂白,对于同一类易淬灭染料,在同样激发光强下,传统双光子仅能拍摄几十个三维体,而2pSAM能够连续拍摄几十万个三维体而没有明显的信号衰减。除此之外,团队还对小鼠脑皮层中的小胶质细胞与脑损伤过程中的中性粒细胞进行了连续成像测试,发现即使使用较弱的光强,传统双光子显微成像在连续拍摄半小时以上时仍会导致大量细胞凋亡,而在2pSAM成像过程中细胞保持了正常的表型,并且相比于对照组结果无明显差异。团队通过一系列在体与离体实验充分证明了2pSAM能够将传统双光子成像的光毒性下降三个数量级以上,为长时程高速活体组织成像打开了新窗口。图3. 小鼠大脑急性开窗损伤后的皮层免疫细胞成像,TPM(左)与2pSAM(右)光漂白对比(GIF图)图4. 离体B细胞(GFP,蓝色通道)连续拍摄实验:使用PI标记细胞凋亡(红色通道),对比TPM(左)与2pSAM(右)的光毒性(GIF图)生发中心(Germinal center,GC)是次级淋巴器官中的动态组织区域,是被抗原激活后的B细胞在趋化作用引导下聚集形成的结构,也是产生高亲和力抗体及形成长期免疫记忆关键场所。但是由于GC形成的随机性和免疫细胞本身对光损伤的敏感性,完整的GC形成过程从未被高速长时间的清晰记录过。借助2pSAM,得以首次完整清晰地观测到了免疫反应下GC形成的全部过程。研究人员将带有荧光标记的抗原特异性B细胞回输到小鼠体内,随后将抗原接种到腹股沟附近以诱导引流淋巴结中生发中心的形成,并于免疫后90到110个小时内(生发中心未形成期),在大视场下持续地对淋巴结中抗原特异性B细胞的动态行为进行追踪,成功揭示了GC形成过程中B细胞的分裂增殖是GC形成的主因,辅助以周围活化B细胞的聚集。由于拍摄时长达十余小时,淋巴结本身会产生剧烈的形变,2pSAM通过多视角信息能够进行实时轴向聚焦位置反馈,实现自动对焦,有效避免了长时程拍摄过程中的样本漂移。 图5. 小鼠腹股沟淋巴结免疫反应后生发中心形成过程的完整观测和记录(GIF图)研究人员进一步借助2pSAM在患有创伤性大脑损伤(Traumatic brain injury,TBI)的小鼠和正在接受视觉条纹刺激的GCaMP转基因小鼠进行脑皮层组织的细胞动态观测。在TBI小鼠受伤区域磨薄颅骨后观测到了外周免疫细胞中性粒细胞在浸润后与内周星形胶质细胞的相互作用,如通过直接接触定向产生迁移体(migrasome)来传递物质和信息。对GCaMP转基因小鼠开颅恢复2周后进行视觉上的条纹刺激,进一步证实了长达数小时内小鼠视觉皮层神经元钙信号对不同方向条纹选择性表达的持续性和稳定性,同时也通过长时程功能数据挖掘出了多种单细胞水平的神经响应类型,体现了神经元的功能多样性。这些现象对于传统双光子显微镜而言都极具挑战,特别是会由于光毒性本身导致会导致细胞异常表现,比如会导致神经元在长时程拍摄过程中响应强度不断下降。
  • 分析仪不离传感器 微电子智能化为主
    分析仪器是我国科技、经济和社会持续发展的基础,无论在工业过程控制、设施农业、生物医学、环境控制、食品安全乃至航空航天、国防工程等领域,均迫切需要各类新型传感器作为信息摄取源的小型化、专用化、简用化、家庭化的新一代分析仪器,实现更灵敏、更准确、更快速、更可靠地实时检测,以迅速改变我国分析仪器的落后状况。  传感器作为现代科技的前沿技术,传感器产业也是国内外公认的具有发展前途的高技术产业,它以其技术含量高、经济效益好、渗透能力强、市场前景广等特点为世人瞩目。  几十年来,以微电子技术为基础,促进了传感器技术的发展。多学科、多种高新技术的交叉融合,推动了新一代传感器的诞生与发展。例如:我国重点开发的MEMS、MOMES、智能传感器、生物化学传感器等以及今后将大力开发的网络化传感器、纳米传感器均是多学科、多种学科技术交叉融合的新一代传感器。  微型化是建立在微电子机械系统(MEMS)技术基础上的,目前已成功应用在硅器件上形成硅压力传感器(如上述EJX变送器)。微电子机械加工技术,包括体微机械加工技术、表面微机械加工技术、LIGA技术(X光深层光刻、微电铸和微复制技术)、激光微加工技术和微型封装技术等。  MEMS的发展,把传感器的微型化、智能化、多功能化和可靠性水平提高到了新的高度。传感器的检测仪表,在微电子技术基础上,内置微处理器,或把微传感器和微处理器及相关集成电路(运算放大器、A/D或D/A、存贮器、网络通讯接口电路)等封装在一起完成了数字化、智能化、网络化、系统化。(注:MEMS技术还完成了微电动机或执行器等产品,将另作文介绍)网络化方面,目前主要是指采用多种现场总线和以太网(互联网),这要按各行业的特点,选择其中的一种或多种,近年内最流行的有FF、Profibus、CAN、Lonworks、AS-Interbus、TCP/IP等。  除MEMS外,新型传感器的发展还有赖于新型敏感材料、敏感元件和纳米技术,如新一代光纤传感器、超导传感器、焦平面陈列红外探测器、生物传感器、纳米传感器、新型量子传感器、微型陀螺、网络化传感器、智能传感器、模糊传感器、多功能传感器等。  多传感器数据融合技术正在形成热点,不同于一般信号处理,也不同于单个或多个传感器的监测和测量,而是对基于多个传感器测量结果基础上的更高层次的综合决策过程。有鉴于传感器技术的微型化、智能化程度提高,在信息获取基础上,多种功能进一步集成以致于融合,这是必然的趋势,多传感器数据融合技术也促进了传感器技术的发展。  多传感器数据融合的定义概括:把分布在不同位置的多个同类或不同类传感器所提供的局部数据资源加以综合,采用计算机技术对其进行分析,消除多传感器信息之间可能存在的冗余和矛盾,加以互补,降低其不确实性,获得被测对象的一致性解释与描述,从而提高系统决策、规划、反应的快速性和正确性,使系统获得更充分的信息。其信息融合在不同信息层次上出现,包括数据层(像素层)融合、特征层融合、决策层(证据层)融合。由于它比单一传感器信息有如下优点,即容错性、互补性、实时性、经济性,所以逐步得到推广应用。应用领域除军事外,已适用于自动化技术、机器人、海洋监视、地震观测、建筑、空中交通管制、医学诊断、遥感技术等方面。  近年来,传感器正处于传统型向新型传感器转型的发展阶段。新型传感器的特点是微型化、数字化、智能化、多功能化、系统化、网络化,它不仅促进了传统产业的改造,而且可导致建立新型工业,是21世纪新的经济增长点。

深层连续水平位移传感器相关的方案

  • 哈希PH和电导传感器在金属表面精加工方面的应用
    哈希高级耐震数字pH和电导传感器为金属表面精加工过程控制和废物处理提供重要帮助。 ● 电导传感器帮助控制冲洗流的流量恰到好处,既避免了连续溢流造成的浪费又避免了定时流的低效。 ● pH传感器的采用取代了在磷化和涂层过程中耗时且不可靠的人工测试。 ● 连续的pH和ORP(氧化还原电位)监测确保毒性氰化物和六价铬废水的正确处理。 在典型的两级氰化物和六价铬处理系统中,两套pH和电导传感器同一或两个控制器相连接。多端输入控制器可以对加药器实现开关控制和比例控制,从而用最简单的仪器确保完全且高效的处理。
  • 爱丁堡气体传感器在园艺中的应用
    可控环境园艺(或农业)是一种以技术为基础的食品生产方法。现代系统的发展是为了保护、维持和优化作物的生长条件。生产在封闭的生长结构内进行,例如温室或建筑物,通过使用复杂的计算机控制传感器,结合先进的软件模型,不仅可以控制温度、光照水平和水分,还可以控制养分水平、湿度、pH 值和大气中的二氧化碳。在大型玻璃温室中,当空气中的二氧化碳消耗完时,就需要通过控制环境来富集二氧化碳,因为缺少二氧化碳会减缓光合作用过程,降低生产力,因此,现代可控环境园艺系统往往有二氧化碳传感器来控制多余的二氧化碳排放到环境中。准确、可靠的二氧化碳监测是园艺气候控制的重要组成部分,爱丁堡传感器包括双波长非色散红外传感器技术和内置温度校正技术。确保可靠和准确的二氧化碳测量,并可以保持长期稳定。
  • 【PalmSens4电化学应用】核壳型纳米酶-氧化酶生物传感器,用于无创同时监测糖尿病和缺氧
    本文报道了先进的纳米酶生物传感器,能够无创地同时监测糖尿病和缺氧。用核壳普鲁士蓝-六氰基高铁酸镍纳米酶浸渍涂层可产生稳定和灵敏的过氧化氢传感器。所得生物传感器的最佳性能特性是由直径为50 nm的纳米颗粒提供的,该纳米颗粒包含35–37 nm(?)普鲁士蓝核。基于流通式多生物传感器,通过连续汗液分析操作的无创监测仪,用于同时检测葡萄糖和乳酸。安装在人体皮肤表面的特制葡萄糖乳酸盐监测仪,可直接测量未稀释人体汗液中葡萄糖和乳酸盐的真实浓度。结合已开发的生物传感器应用于可穿戴设备,显然将为缺氧和血糖的无创连续监测开辟新的视野。

深层连续水平位移传感器相关的资料

深层连续水平位移传感器相关的试剂

深层连续水平位移传感器相关的论坛

  • 位移传感器原理与分类

    传感器之家中将位移传感器分为线位移跟物位移两类,这是按照位移的特征分的。位移传感器就是测量空间中距离的大小,线位移就是在一条线上移动的长度,角位移就是转动的角度。下面就线位移做下介绍,线位移按原理分主要有电阻式、电容式、电感式、变压器式、电涡流式、激光式等等。前面三种主要用来测量小位移,中位移一般则用变压器式,大的位移则用电位器式的比较多,对于精密的场合,则需要选择激光式。

  • 【资料】光栅尺位移传感器安装指导及安全使用注意事项

    光栅尺,也称为光栅尺位移传感器(光栅尺传感器),是利用光栅的光学原理工作的测量反馈装置。光栅尺经常应用于数控机床的闭环伺服系统中,可用作直线位移或者角位移的检测。其测量输出的信号为数字脉冲,具有检测范围大,检测精度高,响应速度快的特点。例如,在数控机床中常用于对刀具和工件的坐标进行检测,来观察和跟踪走刀误差,以起到一个补偿刀具的运动误差的作用。 光栅尺线位移传感器的安装比较灵活,可安装在机床的不同部位。 一般将主尺安装在机床的工作台(滑板)上,随机床走刀而动,读数头固定在床身上,尽可能使读数头安装在主尺的下方。其安装方式的选择必须注意切屑、切削液及油液的溅落方向。如果由于安装位置限制必须采用读数头朝上的方式安装时,则必须增加辅助密封装置。另外,一般情况下,读数头应尽量安装在相对机床静止部件上,此时输出导线不移动易固定,而尺身则应安装在相对机床运动的部件上(如滑板)。 1、光栅尺线位移传感器安装基面 安装光栅尺传感器时,不能直接将传感器安装在粗糙不平的机床身上,更不能安装在打底涂漆的机床身上。光栅主尺及读数头分别安装在机床相对运动的两个部件上。用千分表检查机床工作台的主尺安装面与导轨运动的方向平行度。千分表固定在床身上,移动工作台,要求达到平行度为0.1mm/1000mm以内。如果不能达到这个要求,则需设计加工一件光栅尺基座。 基座要求做到:(1)应加一根与光栅尺尺身长度相等的基座(最好基座长出光栅尺50mm左右)。(2)该基座通过铣、磨工序加工,保证其平面平行度0.1mm/1000mm以内。另外,还需加工一件与尺身基座等高的读数头基座。读数头的基座与尺身的基座总共误差不得大于±0.2mm。安装时,调整读数头位置,达到读数头与光栅尺尺身的平行度为0.1mm左右,读数头与光栅尺尺身之间的间距为1-1.5mm左右。 2、光栅尺线位移传感器主尺安装 将光栅主尺用M4螺钉上在机床安装的工作台安装面上,但不要上紧,把千分表固定在床身上,移动工作台(主尺与工作台同时移动)。用千分表测量主尺平面与机床导轨运动方向的平行度,调整主尺M4螺钉位置,使主尺平行度满足0.1mm/1000mm以内时,把M2螺钉彻底上紧。 在安装光栅主尺时,应注意如下三点: (1)在装主尺时,如安装超过1.5M以上的光栅时,不能象桥梁式只安装两端头,尚需在整个主尺尺身中有支撑。(2)在有基座情况下安装好后,最好用一个卡子卡住尺身中点(或几点)。(3)不能安装卡子时,最好用玻璃胶粘住光栅尺身,使基尺与主尺固定好。 3、光栅尺线位移传感器读数头的安装 在安装读数头时,首先应保证读数头的基面达到安装要求,然后再安装读数头,其安装方法与主尺相似。最后调整读数头,使读数头与光栅主尺平行度保证在0.1mm之内,其读数头与主尺的间隙控制在1-1.5mm以内。 4、光栅尺线位移传感器限位装置 光栅线位移传感器全部安装完以后,一定要在机床导轨上安装限位装置,以免机床加工产品移动时读数头冲撞到主尺两端,从而损坏光栅尺。另外,用户在选购光栅线位移传感器时,应尽量选用超出机床加工尺寸100mm左右的光栅尺,以留有余量。 5、光栅尺线位移传感器检查 光栅线位移传感器安装完毕后,可接通数显表,移动工作台,观察数显表计数是否正常。 在机床上选取一个参考位置,来回移动工作点至该选取的位置。数显表读数应相同(或回零)。另外也可使用千分表(或百分表),使千分表与数显表同时调至零(或记忆起始数据),往返多次后回到初始位置,观察数显表与千分表的数据是否一致。 高创传感器公司生产的高精度位移传感器具有良好的电磁兼容性,技术指标优于国家标准,处于国内绝对领先地位。 通过以上工作,光栅尺线位移传感器的安装就完成了。但对于一般的机床加工环境来讲,铁屑、切削液及油污较多。因此,传感器应附带加装护罩,护罩的设计是按照传感器的外形截面放大留一定的空间尺寸确定,护罩通常采用橡皮密封,使其具备一定的防水防油能力。 使用注意事项 (1)光栅尺传感器与数显表插头座插拔时应关闭电源后进行。 (2)尽可能外加保护罩,并及时清理溅落在尺上的切屑和油液,严格防止任何异物进入光栅尺传感器壳体内部。 (3)定期检查各安装联接螺钉是否松动。 (4)为延长防尘密封条的寿命,可在密封条上均匀涂上一薄层硅油,注意勿溅落在玻璃光栅刻划面上。 (5)为保证光栅尺传感器使用的可靠性,可每隔一定时间用乙醇混合液(各50%)清洗擦拭光栅尺面及指示光栅面,保持玻璃光栅尺面清洁。 (6)光栅尺传感器严禁剧烈震动及摔打,以免破坏光栅尺,如光栅尺断裂,光栅尺传感器即失效了。 (7)不要自行拆开光栅尺传感器,更不能任意改动主栅尺与副栅尺的相对间距,否则一方面可能破坏光栅尺传感器的精度;另一方面还可能造成主栅尺与副栅尺的相对摩擦,损坏铬层也就损坏了栅线,以而造成光栅尺报废。 (8)应注意防止油污及水污染光栅尺面,以免破坏光栅尺线条纹分布,引起测量误差。 (9)光栅尺传感器应尽量避免在有严重腐蚀作用的环境中工作,以免腐蚀光栅铬层及光栅尺表面,破坏光栅尺质量。

  • 位移传感器的故障

    位移显示为负方向下降,且传感器本身无动作。位移显示也无法回零,大家觉得会是什么问题呢

深层连续水平位移传感器相关的耗材

  • JX20系列电涡流位移传感器
    电涡流位移传感器(以下简称传感器)能测量被测体(必须是金属导体)与探头端面的相对位置。由于其非接触测量、长期工作可靠性高、灵敏度高、抗干扰能力强、响应速度快、不受油水等介质的影响,常被用于对大型旋转机械的轴位移、轴振动、轴转速等参数进行长期实时监测,可以分析出设备的工作状况和故障原因,有效地对设备进行保护及进行预测性维修。可测量位移、振幅、转速、尺寸、厚度、表面不平度等。从转子动力学、轴承学的理论上分析,大型旋转机械的运行状态主要取决于其核心&mdash &mdash 转轴,而电涡流位移传感器能直接测量转轴的状态,测量结果可靠、可信。 第一节 简介JX20系列电涡流位移传感器的领先科技:1、&ldquo 线圈最佳温度稳定性参数匹配&rdquo 技术保证良好的探头温度稳定性;2、采用新型PPS工程塑料通过&ldquo 二次注塑&rdquo 工艺,保证良好的探头密封性、尺寸稳定性和互换性,工作温度范围扩展到-50℃~+175℃;3、&ldquo 变形联接&rdquo 工艺组合,更高探头强度、可靠性;4、&ldquo 深度负反馈稳定谐振回路&rdquo 技术,使前置器稳定性达到(0.05%/℃,0.02%/年);5、按美国军用规范设计生产,前置器可在-50~+105℃环境下长期连续工作;6、前置器电路采用容错设计,保证任意接线错误不会损坏;7、前置器采用最新电子技术,功耗低于12mA;8、前置器壳体采用压铸工艺、高频插座内凹及接线端子镶嵌保护、工程塑料隔离绝缘等结构,使前置器更加坚固、安装使用更加方便;9、先进的电涡流位移传感器相频特性的测试和控制方法,使JX20系列产品在动态特性方面处于国际领先水平。应用领域:正广泛应用于电力、石油化工、冶金等行业的汽轮机、水轮机、发电机、鼓风机、压缩机、齿轮箱等设备的位移、振动、转速、油膜厚度等参数的在线监测与故障诊断。
  • 共焦位移传感器
    共焦位移传感器是一种高精度共焦位置传感器,应用于高精位置传感和测量,共焦位移传感器外径仅为4mm,是不锈钢表壳,应用于窄腔或钻孔内。共焦位移传感器规格测量范围(mm): 0.4 | 1.5 | 2.5 | 3.5 | 6.5最大线性 0.3μm最高分辨率 0.016μm独特的微型传感器孔内测量设计稳固轴向或径向版本
  • 电容位移传感器
    电容位移传感器是德国MICRO-EPSILON公司的电容非接触式位移传感器系统,电容位移传感器应用于工厂生产应用,设备测试,实验室和不同工序的质量保证。电容位移传感器规格测量范围 (mm):0.05 | 0.2 | 0.5 | 1 | 2 | 3 | 5 | 10最大线性 0.1μm最高分辨率0.0375nm在亚纳米范围内,有超高的稳定性和精度模块化,高达8个通道外部或内部前置放大器以太网端口无磨损 免维护线性特性适用于所有导电材料测量速率高
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