真空发生器

近日，中国科大教授潘建伟、张军等联合浙江大学储涛教授研究组，通过研制硅基光子集成芯片和优化实时后处理，实现了速率达18.8 Gbps迄今最快的实时量子随机数发生器，相关研究成果以“封面论文”的形式发表于《应用物理快报》[Appl. Phys. Lett. 118, 264001 (2021)]。美国物理联合会（AIP）以“量子随机数发生器实现尺寸和性能新基准（Quantum Random Number Generator Sets Benchmark for Size, Performance）”为题刊发新闻稿对该工作进行了报道，SciTechDaily、phys.org、Scienceblog、MIT Technology Review等多家科技媒体也进行了相关转载报道。期刊封面随机数是一种重要的基础资源，在信息安全、密码学、科学仿真、博彩业等众多领域以及日常生产生活中都有着广泛的应用需求。与伪随机数发生器和其他物理随机数发生器不同，量子随机数发生器是基于量子物理原理产生真随机数的系统，具有不可预测性、不可重复性和无偏性等特征，是量子通信系统中的关键核心器件。长期以来，潘建伟、张军等在实用化量子随机数发生器方向开展了系统性研究并取得了重要成果。例如，2014年首次提出基于外部时钟参考的单光子到达时间测量方案，实现速率达100 Mbps的量子随机数发生器；2015年实现了基于激光相位波动的高速量子随机数产生方案；2016年研制了实时速率达3.2 Gbps的量子随机数发生器。对于实用化量子随机数发生器，实时生成速率和集成度是核心指标。然而，上述量子随机数产生方案难以实现高度集成。为此，潘建伟、张军等进一步发展了基于真空态涨落的高速量子随机数产生方案并完成相关实验验证，同时与浙江大学储涛等合作，针对该方案通过多次迭代制备了相应的硅光芯片，并采用混合集成技术将硅光芯片、InGaAs平衡探测器以及跨阻放大器（TIA）封装在尺寸为15.6mm×18mm的芯片内。与此同时，通过进一步优化FPGA实时后处理算法和硬件实现，从而在实现高集成度的同时大大提升了量子随机数发生器的实时生成速率。经传输测试，该量子随机数发生器系统的最终实时速率达到创世界纪录的18.8Gbps。上述研究成果为开发低成本商用量子随机数发生器单芯片奠定了坚实的技术基础。实时量子随机数系统原理示意图该研究工作得到了科技部、中科院、自然科学基金委和安徽省等的资助，同时得到了科大国盾量子和中国电科四十四所的技术协助。论文链接：https://aip.scitation.org/doi/full/10.1063/5.0056027AIP报道链接：https://publishing.aip.org/publications/latest-content/quantum-random-number-generator-sets-benchmark-for-size-performance/

作为世界领先的氮气发生器、氢气发生器、零气发生器制造商，毕克科技 最近发布了新产品目录，供北京分析测试学术报告会暨展览会 (BCEIA) 使用。营销团队一直忙于确保目录内容与网站、内部信息和宣传单同步更新。目录面目一新，迄今好评连连。目录的布局经过重新设计，产品图片和文献材料均已更新。可从 Peak Scientific网站下载数字格式的目录。它展示了 Peak Scientific毕克科技可供应的所有发生器。目录详细介绍了发生器的规格、用途和其他一般信息。每一种发生器都在用途旁配了图片。您可以了解 Genius NM32LA 和 ABN2ZAPeak 等畅销的氮气发生器、 Peak 迄今最为先进的产品、以及为所有气相色谱分析应用所设计的 Precision 系列氢气发生器、氮气发生器和零气发生器。 目录是分开的，以便客户在通常用于液相色谱分析的压缩机系统或非压缩机系统之间进行选择，然后继续浏览我们的气相色谱分析系统，最后讨论我们更为专业的 TOC、Calibration 和 Purge Gas 系列产品。使用新的目录可对任何需要的气体需求、发生器尺寸、构造和应用进行对比参照。无论是独立科学家、实验室、医学机构，还是大型化工厂，Peak Scientific 旨在尽可能地为其提供充分信息，帮助其作出购买决定。 毕克气体仪器贸易（上海）有限公司上海市浦东新区张江高科祖冲之路2277弄世和中心1号楼605-606室电话：+86 21 5079 1190传真：+86 21 5079 1191热线电话：+86 400 888 1612网址： http://sc.peakscientific.com

化学气相沉积法CVD（Chemical Vapor Deposition）是近年发展起来的制备无机材料的新技术。此方法是利用气态或蒸汽状态的物质在固体表面上进行化学反应，从而形成所需要的固态薄膜或涂层的过程。其中，用氢气还原卤化物来制备各种金属或多晶硅薄膜是最为常用的化学反应，此还原反应的方法应用范围广泛，可制备单晶、多晶以及非晶薄膜，另外也容易掺杂。 作为反应中必不可少的还原气体，氢气在CVD反应中扮演着极其重要的作用。通常实验室如今还在使用传统的氢气钢瓶作为氢气气源，但是氢气钢瓶不仅搬运、使用不便，而且氢气是易燃易爆气体，存在极大的安全隐患。因此，氢气发生器便成为了代替氢气钢瓶的优质选择。如今，Peak氢气发生器已广泛应用于CVD实验，是化学气相沉积应用的可靠的氢气气源。 应用优势： 1.高纯度 作为反应中必不可少的还原气体，高纯度氢气在CVD反应中扮演着极其重要的作用。 氢气中微量氧或水蒸气等杂质会对沉积过程产生很大影响，当有氧存在时，沉积物的晶粒剧烈生长，并伴有分层现象出现。 Peak氢气发生器采用三重过滤技术，所产氢气纯度＞99.9999%，氧气含量 1ppm，水含量 1ppm，过滤技术及氢气纯度都为市场领先。 Peak高纯氢气发生器 2.安全性 Peak氢气发生器因其即产即用、按需供给的特点，成为极为安全、可靠的氢气气源。 Peak氢气发生器采用PEM质子交换膜电解纯水的原理产生高纯氢气，无需添加碱液，即插即用，使用方便，而且具有开机自检、压力报警等特性，全面保障发生器的安全性。 更多资讯，可关注“毕克气体”官方微信。