全自动兆声湿法去胶系统

LSC-5000 (AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统应用：光刻胶去除/剥离硅片蓝宝石片圆框架上的芯片显示面板ITO涂覆的显示屏带保护膜的分划版掩模版空白部位掩模版接触部位带保护膜/不带保护膜的掩模版LSC-5000(AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统的特点：支持450mm直径的圆片或15”x15”方片带兆声、DI、刷子、热DI、高压DI、热氮、化学试剂滴胶臂的大腔体带化学试剂滴胶的刷子转速可调节带LABVIEW软件的PC全自动控制触摸屏用户界面机械手上下载片，带EFEM以及SMIF界面安全互锁及警报装置30”D x 26”W 的占地面积 LSC-5000(AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统选配项：化学试剂传输模块Piranha溶液清洗 臭氧化DI水（20ppm的O3）氢化的DI水高压DI水热DI水溶剂和酸分离排放IR红外加热DI水循环机耐火立柜

兆声辅助湿法去胶技术SWC-5000 (AD) 全自动兆声湿法去胶系统概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。SWC-5000 (AD) 全自动兆声湿法去胶系统应用：湿法去胶带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺SWC-5000 (AD) 全自动兆声湿法去胶系统的特点：机械手全自动上下载片支持12”直径的圆片或9”x9”方片独立系统无损兆声,试剂，毛刷清洗及旋转甩干微处理机自动控制化学试剂滴胶单元溶剂与酸分离排废热氮30”D x 26”W 的占地面积SWC-5000 (AD) 全自动兆声湿法去胶系统选配项：多系统集成掩模板或晶圆片夹具臭氧清洗PVA软毛刷清洗高压DI清洗氮气离子发生器

兆声湿法去胶技术LSC-5000 (AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(LSC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。LSC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。LSC和SWC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。LSC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。LSC是占地面积较小，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。LSC-5000 (AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统应用：光刻胶去除/剥离硅片蓝宝石片圆框架上的芯片显示面板ITO涂覆的显示屏带保护膜的分划版掩模版空白部位掩模版接触部位带保护膜/不带保护膜的掩模版LSC-5000(AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统的特点：支持450mm直径的圆片或15”x15”方片带兆声、DI、刷子、热DI、高压DI、热氮、化学试剂滴胶臂的大腔体带化学试剂滴胶的刷子转速可调节带LABVIEW软件的PC全自动控制触摸屏用户界面机械手上下载片，带EFEM以及SMIF界面安全互锁及警报装置30”D x 26”W 的占地面积 LSC-5000(AD)全自动兆声大基片湿法去胶系统选配项：化学试剂传输模块Piranha溶液清洗 臭氧化DI水（20ppm的O3）氢化的DI水高压DI水热DI水溶剂和酸分离排放IR红外加热DI水循环机耐火立柜

兆声湿法去胶技术LSC-4000 (D) 兆声大基片湿法去胶系统概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。LSC-4000 (D) 兆声大基片湿法去胶系统应用：光刻胶去除/剥离硅片蓝宝石片圆框架上的芯片显示面板ITO涂覆的显示屏带保护膜的分划版掩模版空白部位掩模版接触部位带图案/不带图案的掩模版LSC-4000 (D) 兆声大基片湿法去胶系统的特点：支持450mm直径的圆片或15”x15”方片带兆声、DI、刷子、热DI、高压DI、热氮、化学试剂滴胶臂的大腔体带化学试剂滴胶的刷子转速可调节带LABVIEW软件的PC全自动控制触摸屏用户界面手动上下载片安全互锁及警报装置30”D x 26”W 的占地面积 LSC-4000 (D) 兆声大基片湿法去胶系统选配项：化学试剂传输模块Piranha溶液清洗 臭氧化DI水（20ppm的O3）氢化的DI水高压DI水热DI水溶剂和酸分离排放IR红外加热DI水循环机耐火立柜机械手上下载片，带EFEM以及SMIF界面

兆声湿法去胶技术SWC-4000 (D)兆声湿法去胶系统概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。SWC-4000 (D)兆声湿法去胶系统应用：光刻胶去除，剥离带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺SWC-4000 (D)兆声湿法去胶系统的特点：支持12”直径的圆片或9”x9”方片独立系统无损兆声,试剂，毛刷清洗及旋转甩干微处理机自动控制化学试剂滴胶单元溶剂与酸分离排废热氮30”D x 26”W 的占地面积SWC-4000 (D)兆声湿法去胶系统选配项：机械手自动上下载片掩模板或晶圆片夹具臭氧清洗PVA软毛刷清洗高压DI清洗氮气离子发生器

n产品简介CHEMIXX 1201是全自动湿法处理系统，配置cassette to cassette 或foup,，支持12寸及以下尺寸晶圆或9 x 9 英寸方片的湿法处理，包括蚀刻、清洁或显影工艺。该系统可配置3个自动输送臂，多种不同的喷嘴，以满足不同的湿法应用。 n产品特色÷ 应用领域：清洗、蚀刻或显影÷ 衬底尺寸可达 ?300 毫米或可达 230 x 230 毫米÷ 最多三个自动输送臂÷ 可选不同类型的喷嘴和 BSR 喷嘴÷ 去离子水室冲洗÷ 电阻率 PH-Sensor 控制÷ 单臂或双臂机械臂÷ 带 FOUP 或 Cassette 的÷ 真空或低接触卡盘÷ 外部10或40升不同化学品罐可选÷ 由 PP 制成的工艺室（可选 ECTFE）÷ 两个或多个排液分流器（传感器控制和通过配方编程）÷ 带有四个光区的信号灯，使系统状态可视化÷ 满足洁净室等级 10 (ISO 4) 的通用设计÷ 兼容SCES/GEM通讯协议÷ 清洗部分，包含PVA刷洗，兆声清洗，化学液清洗等模组 n技术数据÷ 衬底尺寸: 最大可达 ?300 mm (?12 inch) 或 230 x 230 mm (9 x 9 inch)÷ 电机转速: 最大 6.000 转数*, 以 1 转 步进可编程÷ 电机加速: 最大 40.000 转/秒*, 以 1 转/秒的步进÷ 步进时间: 1 至 999.9 秒，步长为 0.1 秒÷ 系统架构: 由粉末涂层不锈钢制成，4 个可调节支脚和运输轮以及用于加工区域的透明和可锁定的玻璃门÷ 处理室: 由 PP 白色制成（可选 ECTFE）

Plasma Cleaner等离子清洗/去胶机NPC-3500（A）全自动等离子清洗/去胶机概述：NANO-MASTER 等离子清洗和灰化系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有独一无二的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。NPC-3500（A）全自动等离子清洗/去胶机产品特点紧凑型立式系统自动上下载片带Load Lock不锈钢、铝制腔体或钟罩式耐热玻璃腔兼容100级超净间使用淋浴头、ICP或微波等离子源旋转样品台RF偏压可PID控制加热到300 °C或冷却的样品台全自动或手动RF调谐最多可支持5个MFC带电抛光的气体管路PC计算机控制的气动阀带密码保护的多级访问控制基于LabView软件的PC计算机全自动控制机械泵的压力可达到10mTorr250 l/s的涡轮分子泵极限真空为5x10-7Torr完整的安全联锁NPC-3500（A）全自动等离子清洗/去胶机应用：有机物以及无机物的残留物去除光刻胶剥离或灰化去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用清洗微电子元件，电路板上的钻孔或铜线框架提高黏附性，消除键合问题塑料的表面改型：O2处理以改进涂覆性能产生亲水或疏水表面NPC-3500（A）全自动等离子清洗/去胶机Features：Stand Alone SystemAuto wafer Load/Unload with load lockStainless Steel, Aluminum or Bell Jar ChambersClass 100 Clean Room CompatibleShower Head, ICP or Microwave Plasma SourcesRotating PlatenRF Biasable Heated up to 300 °C PID Controlled or Cooled PlatenFully Automated or Manual RF tuningUp to 5 Mass Flow Controllers with Electropolished Gas LinesPC Controlled Pneumatic ValvesMultiple Levels of Access with Password ProtectionPC Controlled with LabVIEWMechanical Pump with Pressure goes to 10 mTorr 250 l/sec Turbomolecular Pump5x10-7 Torr Base PressureFully Safety InterlockedNPC-3500（A）全自动等离子清洗/去胶机Applications:Removal of Organic and Inorganic Materials without ResiduesPhotoresist Stripping or AshingDesmearing and Etch Back Applications Cleaning Microelectronics, Drilled Holes on Circuit Boards or Cu Lead FramesAdhesion Promotion, Elimination of Bonding Problemsurface Modification of Plastics: O2 Treatment for PaintabilityProducing Hydrophilic or Hydrophobic Surfaces

Plasma Cleaner等离子清洗/去胶机NPC-4000（A）全自动等离子清洗/去胶机概述：NANO-MASTER 等离子清洗和灰化系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有独一无二的能力:可以从PE等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。NPC-4000（A）全自动等离子清洗/去胶机产品特点紧凑型立式系统自动上下载片带Load Lock不锈钢、铝制腔体或钟罩式耐热玻璃腔兼容100级超净间使用淋浴头、ICP或微波等离子源旋转样品台RF偏压可PID控制加热到300 °C或冷却的样品台全自动或手动RF调谐最多可支持8个MFC带电抛光的气体管路PC计算机控制的气动阀带密码保护的多级访问控制基于LabView软件的PC计算机全自动控制机械泵的压力可达到10mTorr250 l/s的涡轮分子泵极限真空为5x10-7Torr完整的安全联锁NPC-4000（A）全自动等离子清洗/去胶机应用：有机物以及无机物的残留物去除光刻胶剥离或灰化去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用清洗微电子元件，电路板上的钻孔或铜线框架提高黏附性，消除键合问题塑料的表面改型：O2处理以改进涂覆性能产生亲水或疏水表面NPC-4000（A）全自动等离子清洗/去胶机Features：Stand Alone SystemAuto wafer Load/Unload with load lockStainless Steel, Aluminum or Bell Jar ChambersClass 100 Clean Room CompatibleShower Head, ICP or Microwave Plasma SourcesRotating PlatenRF Biasable Heated up to 300 °C PID Controlled or Cooled PlatenFully Automated or Manual RF tuningUp to 8 Mass Flow Controllers with Electropolished Gas LinesPC Controlled Pneumatic ValvesMultiple Levels of Access with Password ProtectionPC Controlled with LabVIEWMechanical Pump with Pressure goes to 10 mTorr 250 l/sec Turbomolecular Pump5x10-7 Torr Base PressureFully Safety InterlockedNPC-4000（A）全自动等离子清洗/去胶机Applications:Removal of Organic and Inorganic Materials without ResiduesPhotoresist Stripping or AshingDesmearing and Etch Back Applications Cleaning Microelectronics, Drilled Holes on Circuit Boards or Cu Lead FramesAdhesion Promotion, Elimination of Bonding Problemsurface Modification of Plastics: O2 Treatment for PaintabilityProducing Hydrophilic or Hydrophobic Surfaces

兆声清洗技术SWC-5000 (AC)全自动兆声清洗系统概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。SWC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。SWC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。SWC是一款带有小占地面积的理想设备，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。SWC-5000 (AC)全自动兆声清洗系统应用：湿法刻蚀带图案或不带图案的掩模版和晶圆片Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗CMP处理后的晶圆片清洗晶圆框架上的切粒芯片清洗等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗带保护膜的分划版清洗掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺SWC-5000 (AC)全自动兆声清洗系统的特点：机械手全自动上下载片支持12”直径的圆片或9”x9”方片独立系统无损兆声,试剂，毛刷清洗及旋转甩干微处理机自动控制化学试剂滴胶单元溶剂与酸分离排废热氮30”D x 26”W 的占地面积SWC-5000 (AC)全自动兆声清洗系统选配项：多系统集成掩模板或晶圆片夹具臭氧清洗PVA软毛刷清洗高压DI清洗氮气离子发生器

品牌：久滨型号：JB5100-H名称：全自动湿法激光粒度仪久滨仪器.中国创造一、产品概述： JB5100-H属于湿法全自动激光粒度仪，采用国际先进的Mie氏散射原理和会聚光傅立叶变换光路。高密度探头及全量程无缝衔接测试方法，保证了测试结果的准确性和重复性。控制系统原理图如下：智能型激光粒度分析仪控制系统原理图二、主要性能特点：★先进的光路设计：JB5100-H采用会聚光傅立叶变换测试技术保证在最短的焦距获得最大量程，有效提高仪器的分辨能力；高密度探测单元，让5100-H拥有了超强的小颗粒测试能力，密度探测单元使JB5100-H具有超强的全量程无缝测试能力。★全密封光纤半导体激光器：JB5100-H采用了高稳定、长寿命的全密封光纤半导体激光器，优良的稳定性让JB5100-H拥有了超强的测试重复性。★全自动测试：真正全自动测试，您所做的仅仅是放入样品，无干扰数据不用人工挑选数据。★超声防干烧功能：经过潜心研发，JB5100-H可实现超声防干烧功能，避免无水情况下损坏超声。★超声功率可调：为满足不同样品的分散需要，JB5100-H实现了超声功率0到20毫瓦大小可调。★防尘、防震设计：仪器整体进行了密封设计，大幅提高了内部元器件使用寿命。独特的防震结构能有效避免外界震动对仪器的干扰，使测试结果更稳定可靠。★强防腐设计（选配）：根据客户实际需求可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂（像丙酮、苯酚、正己烷等一切有机溶剂）。★自动对中：独家采用机械中心与光学中心相结合技术，光路自动调整定位更精确，达到微米级别；同时光路调整速度个更快捷最快15秒即可完成调整。自行研制的自动对中系统包括步进电机、精密导轨、精密控制器以及软件系统组成，最小步距0.2微米，保证激光束焦点始终从探测器中心点穿过，提高测试结果的准确性以及测试的重复性。自动对中系统是久滨仪器所有型号激光粒度仪的标准配置。光路自动对中功能图★微量循环系统：整个分散循环系统进行了优化设计，分散介质大于120毫升即可循环测试，真正达到了微量循环测试；优化的设计保证排水后无废夜残留，保证了下一次测试结果的准确性。（微量测试为选配）★免排气泡设计：全新的设计使整个测试不会有气泡进入测试样品窗，避免了气泡干扰。★样品无残留设计：仪器管道及排水结构进行了优化设计，仪器管道、循环泵内无积液残留，避免对下一次测试数据的影响。★样品窗快换装置：全新设计的样品窗快换装置，使样品窗更换更方便快捷。★露点测量：样品窗结雾会影响测量的准确性，这样的测试结果没有实际意义，JB5100-H加装了有雾点测量系统，一旦起雾软件会自动提示。三、主要技术参数：规格型号JB5100-H（高配）执行标准ISO 13320-1:1999；GB/T19077.1-2008测试范围0.1μm -600μm探测器通道数70准确性误差1%（国家标准样品D50值）重复性误差0.5%（国家标准样品D50值）免排气泡具备免排气泡设计，无气泡干扰数据更准确误操作保护仪器具备误操作自我保护功能，仪器对误操作不响应激光器参数进口光纤输出大功率半导体激光器 λ= 635nm, p10mW光路校准光路自动校准智能操作模式一键式全自动软件操作模式测试速度1min/次（不含样品分散时间）内置分散方法超声频率：f=40KHz,功率：p=80W,时间：随意可调 具备超声防干烧搅拌循环搅拌一体化设计，转速：100-33950rpm转速可调循环循环额定流量：0-10L/min可调 额定功率：25W遮光度探测仪器具备的遮光度实时探测功能，保证样品加入量更准确样品池自行设计沸腾式样品池，分散效果更好，容量：190-600mL均可正常测试防尘、防震设计整机采用防尘、防震设计微量进样（选配）仪器可选配微量全自动测试装置,10毫升即可循环测试（选配）防腐设计（选配）可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂（像丙酮、苯酚、正己烷等一切有机溶剂）。体积980mm*410mm*450mm重量30Kg

全自动湿法激光粒度分析仪产品简介: Winner2006是一款微纳自主研发的全新的智能湿法激光粒度分析仪，它采用米氏散射理论，运用微纳独特的无约束自由拟合技术和智能控制技术，光路自动对中，具有测试速度快，测试重复性好等优点，是宽分布颗粒粒度测试的正确选择。 产品特点： 无约束自由拟合技术粒度分析不受任何函数限制，真实反映颗粒分布状态。光路自动对中自主研发三维自动对中系统（专利号：ZL . 2013 2 0835882 . 4），采用精密四相混合式步进电机，微精度达到微米级别，使仪器光路始终处于对中状态，为测试结果的准确性和稳定性提供了基础保障。全内置分散系统采用获得国家发明专利（专利号:ZL.2010 1 0533181.6）的自主研发设计的湿法颗粒循环装置，集搅拌、超声、循环、排水于一体，整体协调性高，防止了测试过程中样品颗粒的二次沉淀。全自动模式软件智能化，支持一键操作，点击“自动测试”，按提示加入样品后，进水、分散、循环、测试、清洗等操作步骤自动完成。双光束测试采用双激光双光束专利技术（专利号：ZL . 2007 2 0025702 . 0），不仅克服了样品池的光学干扰，还扩大了测试角度，开拓了宽分布颗粒测试的新领域。 产品技术参数： 产品型号Winner2006AWinner2006B执行标准GB/T19077-2016；ISO 13320:2009； Q/0100JWN001-2013测试范围0.01—1000μm0.1—1000μm通道数量9086准确性误差≤0.5%（国家标准样品D50值）重复性误差≤0.5%（国家标准样品D50值）激光器参数主激光源：高性能激光器 λ=639nm 功率P＞2mW辅助激光源：半导体激光器 λ=532nm 功率：P＞2mW分散方法超声频率 f=40KHZ 超声 P=60W 时间可调搅拌转速 0—3000rpm 转速可选循环额定流量 17L/min 额定功率：P=15W样品池容量 450ml操作模式软件操作/全自动操作模式（可切换）光路对中全自动对中系统测试速度10S—120S产品体积900×400×500mm产品重量40Kg 应用领域： 主要测量不溶于水或液体介质的固体颗粒、固体粉末、混悬液、乳液、碳酸钙、凝胶、陶瓷、磨料、添加剂、农药、石墨、高岭土、金属与非金属粉末等，广泛应用于高校、科研院所、化工、冶金、建材、非矿、医药、磨料、新材料、新能源、环境、食品、石化、水利等行业。

ICP/RIE-200PA 是一种新型的低成本、高性能、实验性远程射频等离子去胶系统，手动装载晶圆片，应用于单片晶圆光刻胶灰化、残胶去除及表面清洗工艺，可满足小型晶圆厂、大学实验室、初创公司的使用需求。设备采用触摸屏+PLC全自动控制，凭借其时尚、紧凑的设计，只需占用很小的洁净室空间，使用维护简单方便。产品特点： 可最大处理8寸晶圆ø203mm，也可兼容处理3寸、4寸和6寸晶圆 12寸触摸屏+PLC全自动控制，具有手动和自动两种模式 PID自动真空压力控制，可精确控制过程压力(±1pa)，不受气体流量的影响 独特工艺气体分配喷淋结构，使进气更均匀，去胶均匀度≤5% 水冷放电电极，去胶过程工艺可控(可选择加热功能)产品应用： 光刻胶灰化、剥离和残胶去除 湿法蚀刻前的晶圆清洗、表面预处理 晶圆应力释放Si、SiO2、SiN、Poly-Si、GaAs、Pt、聚酰亚胺等各种材料的蚀刻（可选配）

BOS-1070智能全自动湿法激光粒度分析仪我公司视“打造国产最稳定的激光粒度仪器”为己任，以科技创品牌、质量闯市场、信誉赢天下为方针，全力打造超稳定、高性价比的国产激光粒度仪器。BOS-1070是我公司新推出的便携一体式粒度仪，具有体积小、量程大、自动化程度高等多个优点，整机仅有850mm*270mm*315mm （含一体式超声、分散、循环），体积虽小量程却达到了0.1μm -500μm。BOS-1070属于湿法全自动激光粒度仪，采用国际zuixian进的Mie氏散射原理和会聚光傅立叶变换光路。高密度探头及全量程无缝衔接测试方法，保证了测试结果的准确性和重复性。BOS-1070激光粒度分析仪主要性能特点： xian进的光路设计：BOS-1070采用会聚光傅立叶变换测试技术保证在最短的焦距获得zui大量程，有效提高仪器的分辨能力；du特的高密度探测单元，让BOS-1070拥有了chao强的小颗粒测试能力，高密度探测单元使BOS-1070具有chao强的全量程无缝测试能力。全密封光纤半导体激光器：BOS-1070采用了高稳定、长寿命的日本三菱全密封光纤半导体激光器，优良的稳定性让粒度仪拥有了chao强的测试重复性，BOS-1070激光功率大小可调，zui大激光功率也做到了20mw。全自动测试：真正全自动测试，您所做的仅仅是放入样品，无干扰数据不用人工挑选数据。超声防干烧功能：BOS-1070可实现超声防干烧功能，避免无水情况下损坏超声。全新SOP自编辑功能：为满足不同样品的测试需要，BOS-1070实现了SOP自编辑功能，根据不同的样品编辑不同的测试流程，一次编辑保存后下次直接调取使用。防尘、防震设计：仪器整体进行了密封设计，大幅提高了内部元器件使用寿命。du特的防震结构能有效避免外界震动对仪器的干扰，使测试结果更稳定可靠。光路调整：计算机远端控制精密自锁电机、精密导轨、精密控制器以及软件系统组成，最小步距1微米，保证激光束焦点始终从探测器中心点穿过，提高测试结果的准确性以及测试的重复性。自动对中系统是耐克特所有型号激光粒度仪的标准配置。。免排气泡设计：全新的设计使整个测试不会有气泡进入测试样品窗，避免了气泡干扰。槽钢导轨：光路导轨由铝合金统一升级为加厚槽钢，光路系统更加稳定可靠，同时大大降低温度、湿度对光路的影响。样品无残留设计：仪器管道及排水根据不同的样品编辑不同的测试流程，一次编辑保存后下次直接调取使用。防尘、防震设计：仪器整体进行了密封设计，大幅提高了内部元器件使用寿命。du特的防震结构能有效避免外界震动对仪器的干扰，使测试结果更稳定可靠。光路调整：计算机远端控制精密自锁电机、精密导轨、精密控制器以及软件系统组成，最小步距1微米，保证激光束焦点始终从探测器中心点穿过，提高测试结果的准确性以及测试的重复性。自动对中系统是耐克特所有型号激光粒度仪的标准配置。。免排气泡设计：全新的设计使整个测试不会有气泡进入测试样品窗，避免了气泡干扰。槽钢导轨：光路导轨由铝合金统一升级为加厚槽钢，光路系统更加稳定可靠，同时大大降低温度、湿度对光路的影响。样品无残留设计：仪器管道及排水结构进行了优化设计，仪器管道、循环泵内无积液残留，避免对下一次测试数据的影响。样品窗快换装置：全新设计的样品窗快换装置，使样品窗更换更方便快捷。结构进行了优化设计，仪器管道、循环泵内无积液残留，避免对下一次测试数据的影响。样品窗快换装置：全新设计的样品窗快换装置，使样品窗更换更方便快捷。 主要技术参数：规格型号BOS-1070执行标准ISO 13320-1:1999；GB/T19077.1-2008测试范围0.1μm -500μm探测器通道数65准确性误差1%（国家标准样品D50值）重复性误差0.5%（国家标准样品D50值）免排气泡具备免排气泡设计，无气泡干扰数据更准确误操作保护仪器具备误操作自我保护功能，仪器对误操作不响应激光器参数进口光纤输出大功率激光器 λ= 635nm, p20mW光路校准光路自动校准分散方法超声频率：f=40KHz,功率：p=100W,时间：随意可调 具备超声防干烧循环、搅拌循环搅拌一体化设计，转速：100-4000rpm转速可调循环流量额定流量：0-10L/min可调 额定功率：20W样品池自行设计沸腾式样品池，分散效果更好，容量：190-600mL均可正常测试防尘、防震设计整机采用防尘、防震设计软件功能分析模式包括自由分布、R-R分布和对数正态分布、按目分级统计模式等，满足不同行业对被测样品粒度统计方式的不同要求统计方式体积分布和数量分布，以满足不同行业对于粒度分布的不同统计方式统计比较可针对多条测试结果进行统计比较分析，可明显对比不同批次样品、加工前后样品以及不同时间测试结果的差异，对工业原料质量控制具有很强的实际意义自行DIY用户自定义要显示的数据，根据粒径求百分比、根据百分比求粒径或根据显示模板粒径区间求百分比，以满足不同行业对粒度测试的表征方式。径距、一致性、区间累积等等测试报告测试报告可导出Word、Excel、图片（Bmp）和文本（Text）等多种形式的文档，满足在任何场合下查看测试报告以及科研文章中引用测试结果多语言支持中英文语言界面支持，还可根据用户要求嵌入其他语言界面。智能操作模式真正全自动无人干预操作，无人为因素干扰，您只需按提示加入待测样品即可，测试结果的重复性更好。操作模式一键式全自动软件操作模式测试速度1min/次（不含样品分散时间）体积750mm*270mm*315mm重量25Kg

BOS-1076-A全自动激光粒度分析仪BOS-1076-A属于湿法全自动激光粒度仪，采用国际最xian进的Mie氏散射原理和双镜头技术。高密度探头及全量程无缝衔接测试方法，保证了测试结果的准确性和重复性。BOS-1076-A激光粒度分析仪主要性能特点：xian进的光路设计：BOS-1076-A采用chao强可变能谱放大技术保证在最短的焦距获得zui大量程，有效提高仪器的分辨能力；du特的高密度探测单元，让BOS-1076-A拥有了chao强的小颗粒测试能力，高密度探测单元使BOS-1076-A具有chao强的全量程无缝测试能力。全密封光纤半导体激光器：BOS-1076-A采用了高稳定、长寿命的全密封进口光纤半导体激光器，优良的稳定性让BOS-1076-A拥有了chao强的测试重复性，（激光器五年质保）。激光智能管理系统：BOS-1076-A率先增加了激光器智能管理系统，智能管理系统实时监测仪器的工作状态，一旦接收到工作的命令智能管理系统会瞬间点亮激光器，高性能激光器会在3秒内达到稳定的工作状态。样品测试完毕后智能管理系统会自动关闭激光器，激光器基本上不会衰减，理论上粒度仪可以终身不需要更换激光器。。全自动测试：真正全自动测试，您所做的仅仅是放入样品，无干扰数据不用人工挑选数据。超声防干烧功能：经过潜心研发，BOS-1076-A可实现超声防干烧功能，避免无水情况下损坏超声。超声功率可调：为满足不同样品的分散需要，BOS-1076-A实现了超声功率0到100瓦大小可调（选配）。防尘、防震设计：仪器整体进行了密封设计，大幅提高了内部元器件使用寿命。du特的防震结构能有效避免外界震动对仪器的干扰，使测试结果更稳定可靠。强防腐设计（选配）：根据客户实际需求可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂自动对中：du家采用机械中心与光学中心相结合技术，光路自动调整定位更jing确，达到微米级别；同时光路调整速度个更快捷最快15秒即可完成调整。自行研制的自动对中系统包括步进电机、精密导轨、精密控制器以及软件系统组成，最小步距0.2微米，保证激光束焦点始终从探测器中心点穿过，提高测试结果的准确性以及测试的重复性。自动对中系统是搏仕所有型号激光粒度仪的标准配置。du特微量循环系统：整个分散循环系统进行了优化设计，分散介质大于120毫升即可循环测试，真正达到了微量循环测试；优化的设计保证排水后无废夜残留，保证了下一次测试结果的准确性。（微量测试为选配）双循环系统：为了满足特殊用户需求BOS-1076-A可选装双循环系统，微量系统大于15毫升即可循环测试。（其他厂家微量测试都是静态的）免排气泡设计：全新的设计使整个测试不会有气泡进入测试样品窗，避免了气泡干扰。露点温度测量：仪器具备露点温度测量功能，防止了测试过程中因结雾对测试数据的影响。样品无残留设计：仪器管道及排水结构进行了优化设计，仪器管道、循环泵内无积液残留，避免对下一次测试数据的影响。样品窗快换装置：全新设计的样品窗快换装置，使样品窗更换更方便快捷。主要技术参数：规格型号BOS-1076-A（高配）执行标准GB/T 19077-2016/ISO 13320:2009测试范围0.01μm -1000μm探测器通道数86准确性误差1%（国家标准样品D50值）重复性误差0.5%（国家标准样品D50值） 最小散射光分辨角度0.016度免排气泡具备免排气泡设计，无气泡干扰数据更准确 露点测量仪器具备露点温度测量功能，防止因结雾对测试数据造成影响误操作保护仪器具备误操作自我保护功能，仪器对误操作不响应激光器参数进口光纤输出大功率激光器 λ= 635nm, p10mW光路校准光路自动校准分散方法超声频率：f=40KHz,功率：p=50W,时间：可调 具备超声防干烧循环、搅拌循环搅拌一体化设计，转速：100-3950rpm转速可调循环流量额定流量：0-10L/min可调 额定功率：25W样品池自行设计沸腾式样品池，分散效果更好，容量：190-600mL均可正常测试微量进样（选配）仪器可选配微量全自动测试装置,10毫升即可循环测试（选配）防腐设计（选配）可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂防尘、防震设计整机采用防尘、防震设计软件功能分析模式包括自由分布、R-R分布和对数正态分布、按目分级统计模式等，满足不同行业对被测样品粒度统计方式的不同要求统计方式体积分布和数量分布，以满足不同行业对于粒度分布的不同统计方式统计比较可针对多条测试结果进行统计比较分析，可明显对比不同批次样品、加工前后样品以及不同时间测试结果的差异，对工业原料质量控制具有很强的实际意义自行DIY用户自定义要显示的数据，根据粒径求百分比、根据百分比求粒径或根据显示模板粒径区间求百分比，以满足不同行业对粒度测试的表征方式。径距、一致性、区间累积等等测试报告测试报告可导出Word、Excel、图片（Bmp）和文本（Text）等多种形式的文档，满足在任何场合下查看测试报告以及科研文章中引用测试结果多语言支持中英文语言界面支持，还可根据用户要求嵌入其他语言界面。智能操作模式真正全自动无人干预操作，无人为因素干扰，您只需按提示加入待测样品即可，测试结果的重复性更好。操作模式一键式全自动软件操作模式测试速度10秒/次（不含样品分散时间）体积840mm*370mm*430mm重量30Kg

JH3100-L智能全自动湿法激光粒度分析仪 首先感谢您对佳航仪器的关注！我公司视“打造国产最稳定的激光粒度仪器”为己任，以科技创品牌、质量闯市场、信誉赢天下为方针，全力打造超稳定、高性价比的国产激光粒度仪器。JH3100-L是我公司新推出的便携一体式粒度仪，具有体积小、量程大、自动化程度高等多个优点，整机仅有850mm*270mm*315mm （含一体式超声、分散、循环），体积虽小量程却达到了0.1μm -600μm。JH3100-L属于湿法全自动激光粒度仪，采用国际最先进的Mie氏散射原理和会聚光傅立叶变换光路。高密度探头及全量程无缝衔接测试方法，保证了测试结果的准确性和重复性。JH3100-L操作过程全部由计算机自动完成控制完成，控制系统原理图如下： 智能型激光粒度分析仪控制系统原理图 光路自动对中功能图JH3100-L激光粒度分析仪主要性能特点：★先进的光路设计：JH3100-L采用会聚光傅立叶变换测试技术保证在最短的焦距获得最大量程，有效提高仪器的分辨能力；独特的高密度探测单元，让3100-L拥有了超强的小颗粒测试能力，高密度探测单元使JH3100-L具有超强的全量程无缝测试能力。★全密封光纤半导体激光器：JH3100-L采用了高稳定、长寿命的日本三菱全密封光纤半导体激光器，优良的稳定性让粒度仪拥有了超强的测试重复性，JH3100-L激光功率大小可调，最大激光功率也做到了20mw。★全自动测试：真正全自动测试，您所做的仅仅是放入样品，无干扰数据不用人工挑选数据。★超声防干烧功能： JH3100-L可实现超声防干烧功能，避免无水情况下损坏超声。★全新SOP自编辑功能：为满足不同样品的测试需要，JH5200-H实现了SOP自编辑功能，根据不同的样品编辑不同的测试流程，一次编辑保存后下次直接调取使用。★防尘、防震设计：仪器整体进行了密封设计，大幅提高了内部元器件使用寿命。独特的防震结构能有效避免外界震动对仪器的干扰，使测试结果更稳定可靠。★光路调整：计算机远端控制精密自锁电机、精密导轨、精密控制器以及软件系统组成，最小步距1微米，保证激光束焦点始终从探测器中心点穿过，提高测试结果的准确性以及测试的重复性。自动对中系统是耐克特所有型号激光粒度仪的标准配置。。★免排气泡设计：全新的设计使整个测试不会有气泡进入测试样品窗，避免了气泡干扰。★槽钢导轨：光路导轨由铝合金统一升级为加厚槽钢，光路系统更加稳定可靠，同时大大降低温度、湿度对光路的影响。★样品无残留设计：仪器管道及排水结构进行了优化设计，仪器管道、循环泵内无积液残留，避免对下一次测试数据的影响。★样品窗快换装置：全新设计的样品窗快换装置，使样品窗更换更方便快捷。 主要技术参数：规格型号JH3100-L（标配）执行标准ISO 13320-1:1999；GB/T19077.1-2008测试范围0.1μm -500μm探测器通道数65准确性误差1%（国家标准样品D50值）重复性误差0.5%（国家标准样品D50值）免排气泡具备免排气泡设计，无气泡干扰数据更准确误操作保护仪器具备误操作自我保护功能，仪器对误操作不响应激光器参数进口光纤输出大功率激光器 λ= 635nm, p20mW光路校准光路自动校准分散方法超声频率：f=40KHz,功率：p=100W,时间：随意可调 具备超声防干烧循环、搅拌循环搅拌一体化设计，转速：100-4000rpm转速可调循环流量额定流量：0-10L/min可调 额定功率：20W样品池自行设计沸腾式样品池，分散效果更好，容量：190-600mL均可正常测试防尘、防震设计整机采用防尘、防震设计软件功能分析模式包括自由分布、R-R分布和对数正态分布、按目分级统计模式等，满足不同行业对被测样品粒度统计方式的不同要求统计方式体积分布和数量分布，以满足不同行业对于粒度分布的不同统计方式统计比较可针对多条测试结果进行统计比较分析，可明显对比不同批次样品、加工前后样品以及不同时间测试结果的差异，对工业原料质量控制具有很强的实际意义自行DIY用户自定义要显示的数据，根据粒径求百分比、根据百分比求粒径或根据显示模板粒径区间求百分比，以满足不同行业对粒度测试的表征方式。径距、一致性、区间累积等等测试报告测试报告可导出Word、Excel、图片（Bmp）和文本（Text）等多种形式的文档，满足在任何场合下查看测试报告以及科研文章中引用测试结果多语言支持中英文语言界面支持，还可根据用户要求嵌入其他语言界面。智能操作模式真正全自动无人干预操作，无人为因素干扰，您只需按提示加入待测样品即可，测试结果的重复性更好。操作模式一键式全自动软件操作模式测试速度1min/次（不含样品分散时间）体积750mm*270mm*315mm重量25Kg

RIE-210EH 是一种新型的低成本、高性能、实验性反应离子刻蚀系统，手动装载晶圆片，应用于单片晶圆刻蚀、残胶去除及表面清洗工艺，可满足小型晶圆厂、大学实验室、初创公司的使用需求。设备采用触摸屏+PLC全自动控制，凭借其时尚、紧凑的设计，只需占用很小的洁净室空间，使用维护简单方便。 产品特点： 可最大处理8寸晶圆 ø203 mm，也可兼容处理3寸、4寸和6寸晶圆 12寸触摸屏+PLC全自动控制，具有手动和自动两种模式 PID自动真空压力控制，可精确控制过程压力(±1pa)，不受气体流量的影响 独特工艺气体分配喷淋结构，使进气更均匀，去胶均匀度≤5% RIE水冷放电电极，刻蚀过程工艺可控(可选择加热功能) 产品应用： 晶圆刻蚀、光刻胶灰化、剥离和残胶去除 湿法蚀刻前的晶圆清洗、表面预处理 表面改性（润湿性和附着力的改善） 故障分析中的选择性层蚀刻 Si、SiO2、SiN、Poly-Si、GaAs、Pt、聚酰亚胺等各种材料的蚀刻

BOS-1076-H全自动激光粒度分析仪BOS-1076-H采用国际最xian进的Mie氏散射原理和会聚光傅立叶变换光路。高密度探头及全量程无缝衔接测试方法，保证了测试结果的准确性和重复性。du特的湿法循环分散系统，保证颗粒测试过程中无颗粒沉积现象，测试排水后无废液积存现象，保证了第二次测试精度，使测试结果更真实可靠；同时采取了管道无残留设计，保证了测试不同样品的准确性。优越的光路自动校对系统彰显出BOS-1076-Hdu特优势。BOS-1076-H激光粒度分析仪主要性能特点：xian进的光路设计：BOS-1076-H采用会聚光傅立叶变换测试技术保证在最短的焦距获得zui大量程，有效提高仪器的分辨能力；du特的高密度探测单元，让BOS-1076-H拥有了chao强的小颗粒测试能力，高密度探测单元使BOS-1076-H具有chao强的全量程无缝测试能力，高配版采用了双光路设计。进口光纤半导体激光器：BOS-1076-H采用了高稳定、长寿命的进口大功率光纤输出半导体激光器，优良的单色性及稳定性让BOS-1076-H拥有了chao强的测试重复性。激光器功率监测及自动调整：shuai先采用了恒功率激光器，实时对激光功率进行检测并自动调整功能，有效避免长期使用造成的激光功率衰减的问题。同时采用了恒流恒压高滤波激光电源有效延长了激光器寿命，正常使用达3万小时以上。防尘、防震设计：仪器整体进行了密封设计，大幅提高了内部元器件使用寿命。du特的悬浮式结构能有效避免外界震动对仪器的干扰，使结果测试更稳定可靠。自动对中：shou家采用机械中心与光学中心相结合技术，光路自动调整定位更jing确，达到微米级别；同时光路调整速度个更快捷zui快15秒即可完成调整。自行研制的自动对中系统包括步进电机、精密导轨、精密控制器以及软件系统组成，最小步距0.2微米，保证激光束焦点始终从探测器中心点穿过，提高测试结果的准确性以及测试的重复性。自动对中系统是搏仕所有型号激光粒度仪的标准配置。智能全自动操作模式：软件实现一键式操作，自动进水、自动进样、自动测试、自动清洗，整个测试过程实现一键式全自动操作，使用方便快捷。du特微量循环系统：整个分散循环系统进行了优化设计，分散介质大于180毫升即可循环测试，真正达到了微量循环测试；所有接头采用了速插快拧设计，短时间内即可更换全部管道；优化的设计保证排水后无废夜残留，保证了下一次测试结果的准确性。超宽量程：BOS-1076-H量程达到了0. 01μm～1500μm或0.01μm～200μm（两种量程定货时需注明）。超声防干烧：BOS-1076-H配备了100W大功率超声，同时具有超声防干烧功能。误操作保护：BOS-1076-H具有自我保护功能，对一些会损害仪器的误操作不响应，大大降低了因人为误操作造成的损坏。露点测量：样品窗结雾会影响测量的准确性，这样的测试结果没有实际意义，BOS-1076-H加装了有雾点测量系统，一旦起雾软件会自动提示（选装）。免排气泡设计：全新的设计使整个测试过程不会有气泡进入测试样品窗，避免了气泡干扰（免排气泡功能技术我们du家拥有）。样品无残留设计：仪器管道及排水结构进行了优化设计，仪器管道、循环泵内无积液残留，避免对下一次测试数据的影响；干法测试同样进行了无残留设计。样品窗快换装置：全新设计的样品窗快换装置，使样品窗更换更方便快捷（20秒钟即可完成样品窗的拆装过程）。稳定性及重复性达到国外仪器标准主要技术参数：规格型号BOS-1076-H执行标准GB/T 19077-2016/ISO 13320:2009测试范围0.01μm -1500μm0.01μm -2000μm探测器通道数90 96准确性误差1%（国家标准样品D50值）重复性误差0.5%（国家标准样品D50值）免排气泡具备免排气泡设计，无气泡干扰数据更准确误操作保护仪器具备误操作自我保护功能，仪器对误操作不响应激光器参数进口光纤输出大功率激光器 λ= 650nm, p10mW光路校准光路自动校准分散方法超声频率：f=40KHz,功率：p=100W,时间：随意可调 具备超声防干烧循环、搅拌循环搅拌一体化设计，转速：100-33950rpm转速可调循环流量额定流量：0-30L/min可调 额定功率：25W样品池自行设计沸腾式样品池，分散效果更好，容量：190-600mL均可正常测试微量进样仪器可选配微量全自动测试装置,10毫升即可循环测试（选配）防尘、防震设计整机采用防尘、防震设计防腐设计（选配）可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂（像丙酮、苯酚、正己烷等一切有机溶剂）。软件功能分析模式包括自由分布、R-R分布和对数正态分布、按目分级统计模式等，满足不同行业对被测样品粒度统计方式的不同要求统计方式体积分布和数量分布，以满足不同行业对于粒度分布的不同统计方式统计比较可针对多条测试结果进行统计比较分析，可明显对比不同批次样品、加工前后样品以及不同时间测试结果的差异，对工业原料质量控制具有很强的实际意义自行DIY显示模板用户自定义要显示的数据，根据粒径求百分比、根据百分比求粒径或根据粒径区间求百分比，以满足不同行业对粒度测试的表征方式。径距、一致性、区间累积等等测试报告测试报告可导出Word、Excel、图片（Bmp）和文本（Text）等多种形式的文档，满足在任何场合下查看测试报告以及科研文章中引用测试结果多语言支持中英文语言界面支持，还可根据用户要求嵌入其他语言界面。智能操作模式真正全自动无人干预操作，无人为因素干扰，您只需按提示加入待测样品即可，测试结果的重复性更好。操作模式电脑操作测试速度1min/次（不含样品分散时间）体积980mm*410mm*450mm重量35Kg

BOS-1090-A湿法全自动激光粒度仪BOS-1090-A激光粒度分析仪主要性能特点：先进的光路设计：BOS-1090-A采用会聚光傅立叶变换测试技术保证在最短的焦距获得zui大量程，有效提高仪器的分辨能力；独特的高密度探测单元，让BOS-1090-A拥有了超强的小颗粒测试能力，高密度探测单元使BOS-1090-A具有超强的全量程无缝测试能力，高配版采用了双光路设计。防尘、防震设计：仪器整体进行了密封设计，大幅提高了内部元器件使用寿命。独特的悬浮式结构能有效避免外界震动对仪器的干扰，使结果测试更稳定可靠。双光路双激光器：BOS-1090-A高配版采用了双光路多镜头设计，主光采用高稳定、长寿命的进口光纤半导体激光器，辅光采用高稳定、长寿命的进口光纤半导体激光器（λ=635nm, p5mW）。自动对中：du家采用机械中心与光学中心相结合技术，光路自动调整定位更jing确，达到微米级别；同时光路调整速度个更快捷最快15秒即可完成调整。自行研制的自动对中系统包括步进电机、精密导轨、精密控制器以及软件系统组成，最小步距0.2微米，保证激光束焦点始终从探测器中心点穿过，提高测试结果的准确性以及测试的重复性。自动对中系统是耐克特所有型号激光粒度仪的标准配置。激光器功率监测及自动调整：du家采用了恒功率激光器，实时对激光功率进行检测并自动调整功能，有效避免长期使用造成的激光功率衰减的问题。同时采用了恒流恒压高滤波激光电源有效延长了激光器寿命，正常使用达3万小时以上。激光器智能管理系统：BOS-1090-A率先增加了激光器智能管理系统，智能管理系统实时监测仪器的工作状态，一旦接收到工作的命令智能管理系统会瞬间点亮激光器，高性能激光器会在3秒内达到稳定的工作状态。样品测试完毕后智能管理系统会自动关闭激光器，激光器基本上不会衰减，理论上可以终身不需要更换激光器。独特微量循环系统：整个分散循环系统进行了优化设计，分散介质大于180毫升即可循环测试，真正达到了微量循环测试；所有接头采用了速插快拧设计，短时间内即可更换全部管道；优化的设计保证排水后无废夜残留，保证了下一次测试结果的准确性。超宽量程：BOS-1090-A量程达到了0.01μm～2800μm。超声防干烧：BOS-1090-A配备了100W大功率超声，同时具有超声防干烧功能。误操作保护：BOS-1090-A具有自我保护功能，对一些会损害仪器的误操作不响应，大大降低了因人为误操作造成的损坏。露点测量：样品窗结雾会影响测量的准确性，这样的测试结果没有实际意义，BOS-1090-A加装了有雾点测量系统，一旦起雾软件会自动提示。免排气泡设计：全新的设计使整个测试过程不会有气泡进入测试样品窗，避免了气泡干扰（免排气泡功能技术我们du家拥有）。样品无残留设计：仪器管道及排水结构进行了优化设计，仪器管道、循环泵内无积液残留，避免对下一次测试数据的影响；干法测试同样进行了无残留设计。样品窗快换装置：全新设计的样品窗快换装置，使样品窗更换更方便快捷（20秒钟即可完成样品窗的拆装过程）。软件：符合药典GMP规定，具有电子签名、权限设置、数据追踪、数据不可更改等功能。对于制药行业客户，可以提供3Q认证。 主要技术参数：规格型号BOS-1090-A执行标准ISO 13320-1:1999；GB/T19077.1-2008测试范围0.01μm -2800μm探测器通道数128免排气泡具备免排气泡设计，无气泡干扰数据更准确误操作保护仪器具备误操作自我保护功能，仪器对误操作不响应镜头进口佳能镜头激光器参数双光束，进口光纤输出大功率激光器 λ= 650nm, p10mW光路校准光路实现自动校准智能操作模式软件一键式全自动操作防尘、防震设计整机采用防尘、防震设计内置分散方法超声频率：f=40KHz,功率：p=80W,时间：随意可调 具备超声防干烧搅拌循环搅拌一体化设计，转速：100-33950rpm转速可调循环循环额定流量：0-10L/min可调 额定功率：25W样品池自行设计沸腾式样品池，分散效果更好，容量：190-600mL均可正常测试微量进样仪器可选配微量全自动测试装置,10毫升即可循环测试（选配）遮光度探测仪器具备的遮光度实时探测功能，保证样品加入量更准确防腐设计（选配）可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂（像丙酮、正己烷、异丙醇等一切有机溶剂）。测试速度1min/次（不含样品分散时间）体积980mm*410mm*450mm重量35Kg

动态图像分析仪测试原理：从高脉冲光源发出的脉冲光，经过光束扩束器，得到平行的脉冲光，在测试区域频闪光照射在分散好的单个颗粒上，经过拥有专利的光学成像系统，得到每个颗粒清晰的图像和全部样品的粒度分布。不同评估参数及模式：与物料特性相适应规整的颗粒 等效投影圆面积径 | 球形度 | 宽长比细长型Feretmax | Feretmin | 凸度 | 宽长比纤维状 LEFI | DIFI | VBFD | 平直度 | 伸长率透明颗粒 Feretmean | PED |宽长比与其它测试手段的可比性筛分 Feretmin | DIFI激光衍射等效投影圆面积径德国新帕泰克全自动高效湿法动态图像分析仪QICPIC&MIXCEL功能及特点：配备功能强大的全自动湿法分散模块MIXCEL，内置超声分散模块、双搅拌桨及循环单元特殊的样品池设计，适用于高比重、易沉降样品的测试可自定义检测溶液体积 ：250 ml - 1,000 ml双液位自动感应器，可实现全自动进出水可选配不同尺寸的流样池，流样池易拆卸，易清洗可根据具体应用选用不同的密封圈材质：EPDM 、FKM 或 FFKM快速测量，可在极短的时间内检测几千万个颗粒，获得较佳的统计结果强大的数据处理功能，测试结果可通过颗粒图片库、视频、粒度分布曲线、粒形分布曲线等多种方式呈现可自定义粒度或粒形的过滤条件，来观察符合过滤条件的特征颗粒群应用领域：QICPIC & MIXCEL广泛应用于军工行业、医药行业、电池行业等领域，可用于测试如硝化纤维、电池材料、金属材料等物质的粒度粒形检测。

BOS-1076全自动激光粒度分析仪BOS-1076全自动激光粒度分析仪BOS-1076属于湿法全自动激光粒度仪，采用国际zui先进的Mie氏散射原理和会聚光傅立叶变换光路。高密度探头及全量程无缝衔接测试方法，证了测试结果的准确性和重复性。BOS-1076激光粒度分析仪主要性能特点：先进的光路设计：BOS-1076采用会聚光傅立叶变换测试技术保证在最短的焦距获得zui大量程，有效提高仪器的分辨能力；独特的高密度探测单元，让BOS-1076拥有了超强的小颗粒测试能力，高密度探测单元使BOS-1076具有超强的全量程无缝测试能力。全密封光纤半导体激光器：BOS-1076采用了高稳定、长寿命的全密封光纤半导体激光器，优良的稳定性让BOS-1076拥有了超强的测试重复性，（可选氦氖激光器）。全自动测试：真正全自动测试，您所做的仅仅是放入样品，无干扰数据不用人工挑选数据。超声防干烧功能：经过潜心研发，BOS-1076可实现超声防干烧功能，避免无水情况下损坏超声。超声功率可调：为满足不同样品的分散需要，BOS-1076实现了超声功率0~20毫瓦/0~100毫瓦大小可调。防尘、防震设计：仪器整体进行了密封设计，大幅提高了内部元器件使用寿命。独特的防震结构能有效避免外界震动对仪器的干扰，使测试结果更稳定可靠。强防腐设计（选配）：根据客户实际需求可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂光路自动校对：du家采用机械中心与光学中心相结合技术，光路自动调整定位更jing确，达到微米级别；同时光路调整速度个更快捷zui快15秒即可完成调整。自行研制的自动对中系统包括步进电机、精密导轨、精密控制器以及软件系统组成，最小步距0.2微米，保证激光束焦点始终从探测器中心点穿过，提高测试结果的准确性以及测试的重复性。自动对中系统是搏仕所有型号激光粒度仪的标准配置。独特微量循环系统：整个分散循环系统进行了优化设计，分散介质大于120毫升即可循环测试，真正达到了微量循环测试；优化的设计保证排水后无废夜残留，保证了下一次测试结果的准确性。（微量测试为选配）免排气泡设计：全新的设计使整个测试不会有气泡进入测试样品窗，避免了气泡干扰。样品无残留设计：仪器管道及排水结构进行了优化设计，仪器管道、循环泵内无积液残留，避免对下一次测试数据的影响。样品窗快换装置：全新设计的样品窗快换装置，使样品窗更换更方便快捷。主要技术参数：规格型号BOS-1076（高配）执行标准GB/T 19077-2016/ISO 13320:2009测试范围0.1μm -600μm 0.1um-800um探测器通道数7084准确性误差1%（国家标准样品D50值）重复性误差0.5%（国家标准样品D50值）免排气泡具备免排气泡设计，无气泡干扰数据更准确误操作保护仪器具备误操作自我保护功能，仪器对误操作不响应激光器参数进口光纤输出大功率激光器 λ= 635nm, p10mW光路校准光路自动校准分散方法超声频率：f=40KHz,功率：p=80W,时间：随意可调 具备超声防干烧循环、搅拌循环搅拌一体化设计，转速：100-3950rpm转速可调循环流量额定流量：0-10L/min可调 额定功率：25W样品池自行设计沸腾式样品池，分散效果更好，容量：190-600mL均可正常测试微量进样（选配）仪器可选配微量全自动测试装置,10毫升即可循环测试（选配）防腐设计（选配）可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂（像丙酮、苯酚、正己烷等一切有机溶剂）。防尘、防震设计整机采用防尘、防震设计软件功能分析模式包括自由分布、R-R分布和对数正态分布、按目分级统计模式等，满足不同行业对被测样品粒度统计方式的不同要求统计方式体积分布和数量分布，以满足不同行业对于粒度分布的不同统计方式统计比较可针对多条测试结果进行统计比较分析，可明显对比不同批次样品、加工前后样品以及不同时间测试结果的差异，对工业原料质量控制具有很强的实际意义自行DIY用户自定义要显示的数据，根据粒径求百分比、根据百分比求粒径或根据显示模板粒径区间求百分比，以满足不同行业对粒度测试的表征方式。径距、一致性、区间累积等等测试报告测试报告可导出Word、Excel、图片（Bmp）和文本（Text）等多种形式的文档，满足在任何场合下查看测试报告以及科研文章中引用测试结果多语言支持中英文语言界面支持，还可根据用户要求嵌入其他语言界面。智能操作模式真正全自动无人干预操作，无人为因素干扰，您只需按提示加入待测样品即可，测试结果的重复性更好。操作模式一键式全自动软件操作模式测试速度1min/次（不含样品分散时间）体积980mm*410mm*450mm重量30Kg

兆声清洗技术LSC-5000 (AC) 全自动兆声大基片清洗系统概述：最新技术的兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统，用于最先进的无损兆声清洗。可以适用于易受损的带图案或无图案的基片，包含带保护膜的掩模版。为了在确保不损伤基片的情况下达到最优化的清洗效果，兆声能量的密度必须保持在稍稍低于样片上任意位置上的损伤阈值。NANO-MASTER的专利技术确保了声波能量均匀分布到整个基片表面，通过分布能量的最大化支持最理想的清洗，同时保证在样片的损伤阈值范围内。LSC系统提供了可控的化学试剂滴胶能力，这使得颗粒从基片表面的去除能力得以进一步加强。SWC和LSC具备对点试剂滴胶系统，可以最大程度节省化学试剂的用量的。滴胶系统支持可编程的化学试剂混合能力，提供了可控的化学试剂在整个基片上的分布。通过联合使用化学试剂滴胶和NANO-MASTER的兆声清洗技术，系统去除颗粒的能力得到进一步优化。颗粒从表面被释放的能力也因此得到提升，从而被释放的颗粒在幅流的DI水作用下被扫除出去，而把回附的数量降到了最低水平。从基片表面被去除。如果没有使用幅流DI水的优势，最先进的静态可循环兆声清洗槽会有更大数量的颗粒回附，并且因此需要更多的去除这些颗粒。此外，NANO-MASTER的清洗机都还提供了一系列的选配功能。PVA软毛刷提供了机械的方式去除无图案基片上的污点和残胶。DI水臭氧化的选配项提供了有机物的去除，而无须腐蚀性的化学试剂。我们的氢化DI水系统跟兆声能量结合可以达到纳米级的颗粒去除。根据不同的应用，某些选配项将会进一步提高设备去除不想要的颗粒和残留物的能力。LSC系统能够就地实现热氮或异丙醇甩干。“干进干出” 一步工艺可以在我们的系统中以最低的投资和购置成本来实现。NANO-MASTER清洗机的工艺处理时间可以在3-5分钟内完成，具体是3分钟还是5分钟取决于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情况。NANO-MASTER的技术也适用于清洗背部以及带保护膜掩模版前面的对准标记，降低这些掩模版的不必要去除和重做保护膜的几率。它也可以用于去除薄膜胶黏剂的黏附性并准备表面以便再次覆膜。此外，带薄膜掩模版的全部正面的兆声清洗以及旋转甩干可以做到无损并且对薄膜无渗漏。LSC占地面积较小，并且很容易安装在空间有限的超净间中。该系列设备都具有出众的清洗能力，并可用于非常广泛的基片。LSC-5000 (AC) 全自动兆声大基片清洗系统应用：硅片蓝宝石片圆框架上的芯片显示面板ITO涂覆的显示屏带保护膜的分划版掩模版空白部位掩模版接触部位带保护膜/不带保护膜的掩模版LSC-5000 (AC)全自动兆声大基片清洗系统的特点：支持450mm直径的圆片或15”x15”方片带兆声、DI、刷子、热DI、高压DI、热氮、化学试剂滴胶臂的大腔体带化学试剂滴胶的刷子转速可调节带LABVIEW软件的PC全自动控制触摸屏用户界面机械手上下载片，带EFEM以及SMIF界面安全互锁及警报装置30”D x 26”W 的占地面积 LSC-5000 (AC)全自动兆声大基片清洗系统选配项：化学试剂传输模块Piranha溶液清洗 臭氧化DI水（20ppm的O3）氢化的DI水高压DI水热DI水溶剂和酸分离排放IR红外加热DI水循环机耐火立柜

微纳 2000zd 全自动 湿法 激光粒度仪 Winner2000ZD ：winner2000zd全自动湿法激光粒度分析仪是一款人性化的全自动激光粒度仪，是我公司激光粒度仪又一次飞跃性的突破。它采用Mie氏散射原理、会聚光傅立叶变换光路专利技术及无约束自由拟合数据处理技术的同时更赋予了自动化、智能化等一些时代性的标志，使操作更简便、方法更统一、结果更稳定，是粒度测试的首选搭档和得力助手。二、适用范围：winner2000zd全自动湿法激光粒度分析仪广泛应用于水泥、陶瓷、药品、乳液、涂料、染料、颜料、填料、化工产品、催化剂、钻井泥浆、磨料、润滑剂、煤粉、泥砂、粉尘、细胞、细菌、食品、添加剂、农药、炸药、石墨、感光材料、燃料、墨汁、金属与非金属粉末、碳酸钙、高岭土、水煤浆及其他粉状物料。微纳 2000zd 全自动 湿法 激光粒度仪 厂家三、主要性能特点：独特的软件功能：分析软件在常规粒度测试软件的基础上添加如下独特功能：1、 分析模式：包括自由分布、R-R分布和对数正态分布、按目分级统计模式等，满足不同行业对被测样品粒度统计方式的不同要求；2、 统计方式：体积分布、数量分布3、 统计比较：可针对多条测试结果进行统计比较分析，可明显对比不同批次样品、加工前后样品以及不同时间测试结果的差异，对样品变化程度的控制具有良好的指导意义。4、 自定义分析：用户自定义分析参数，根据粒径求百分比、根据百分比求粒径或根据粒径区间求百分比，以满足不同行业对粒度测试的表征方式。5、 测试报告输出形式：测试报告可导出Word、Excel、图片（Bmp）和文本（Text）等多种形式的文档，满足在任何场合下查看测试报告以及科研文章中引用测试结果。6、 多元化的语言界面：支持中英文界面，并可扩展成任何语言的界面。光路设计先进：采用会聚光傅立叶变换专利技术使得大角度散射光不受傅立叶透镜孔径的限制，将焦距缩至最短，有效提高仪器的分辨能力；该光路设计原理属于国际领先技术原理。湿法分散系统的全内置结构：精心设计了样品分散系统的每一个部件，将机械搅拌、超声分散及样品循环通路合理的集于仪器内部，有效地避免了因分散系统外置而造成管路长、颗粒分布不均、大颗粒沉积等不良现象，对测试结果的准确性和稳定性提供了有力的保障；无约束自由拟合技术：粒度分析软件采用独创的无约束自由拟合反演技术，数据处理后可以获得更加真实的分布情况，对于高校、研究所等科学研究型客户具有非常重要的实用价值；配备微量样品池（备选）：针对微量贵重样品的测试需求，配备了容量只有10mL的微量自循环样品池，以满足样品或分散介质成本较高的用户。时代化的测试方式：所有的测试操作步骤均通过计算机控制完成，测试人员只需操作计算机，便可在轻松的环境下结束整个测试过程，并得到理想的测试结果；人性化的操作模式：操作系统设有人工和自动两种模式，用户可以根据所测样品自身的特性和规律，自由地选择不同的模式。例如对于一些具有特殊要求、比较难测、测试规律性较差或是实验性的样品，用户可以先选择人工模式进行测试，待了解了所测样品的基本特性和测试条件后，再选用自动模式进行测试，以便于得到最佳的测试结果；全自动的对中系统：采用精密四项混合式步进电机，自动进行光路调整，并且随时对光路校对，消除了手动对中光路时带来的麻烦和困难，同时也从光学的角度提升了测试结果的准确性和稳定性；高效率的测试过程：设定好各项测试条件的参数后，启动自动测试模式，除了加入适量的被测样品外，所有的操作过程都由仪器自动完成， 从而极大地提高了测试效率；智能化的校准方法：该仪器的控制软件中还配有智能校准功能，使仪器的校准更加方便快捷，保证测试结果更加稳定可靠；全面性的数据分析：将测试数据进行全面的分析，自动剔除不良结果，并对测试结果自动进行综合处理，免除了人工数据处理的麻烦，同时也使测试结果具有更强的代表性和权威性。微纳 2000zd 全自动 湿法 激光粒度仪 厂家四、技术参数 规格型号Winner2000ZDEWinner2000ZD执行标准ISO13320-1:1999，GB/T19077.1-2008，Q/0100JWN001-2013测试范围0.1-300μm0.1-40μm /0.6-120μm/1-300μm探测器通道数3932×3准确性误差0.5%（国家标准样品D50值）重复性误差0.5%（国家标准样品D50值）激光器参数高性能He-Ne激光器 λ= 632.8nm, p2mW，使用寿命：＞25000H内置分散方法超声频率：f=40KHz, 功率：p=35W, 时间：≥1S搅拌转速：0-3000rpm转速可调循环额定流量：8L/min 额定功率：10W样品池容量：350mL操作模式软件操作 / 全自动操作模式可切换对中系统全自动对中系统软件功能分析模式包括自由分布、R-R分布和对数正态分布、按目分级统计模式等，满足不同行业对被测样品粒度统计方式的不同要求统计方式体积分布和数量分布，以满足不同行业对于粒度分布的不同统计方式统计比较可针对多条测试结果进行统计比较分析，可明显对比不同批次样品、加工前后样品以及不同时间测试结果的差异，对工业原料质量控制具有很强的实际意义自定义分析用户自定义分析参数，根据粒径求百分比、根据百分比求粒径或根据粒径区间求百分比，以满足不同行业对粒度测试的表征方式测试报告测试报告可导出Word、Excel、图片（Bmp）和文本（Text）等多种形式的文档，满足在任何场合下查看测试报告以及科研文章中引用测试结果多语言支持中英文语言界面支持，还可根据用户要求嵌入其他语言界面。智能操作模式具有智能操作模式，可以自动控制进水、分散、测试等步骤，不但减轻测试人员的工作量，而且由于无人为因素干扰，测试结果的重复性更好。测试速度2min/次体积860mm*360mm*440mm重量40Kg售后承诺：1.一月内达不到用户使用要求可退换货。2.一年内免费上门保修，维修或更换零件均不收任何费用。3.提供10年内上门保修、维护、调试、培训等服务。4.同型号产品软件终生免费升级。 济南市场部济南微纳Winner在线粒度监测系统/在线激光粒度仪 http://www.instrument.com.cn/netshow/C82577.htm

济南微纳2006全自动湿法激光粒度仪/粉末检测仪一、产品简介 Winner2006全自动湿法激光粒度仪 是Winner2005智能型宽分布湿法激光粒度仪的升级产品，开拓了宽分布颗粒测试的新领域。 Winner2006全自动湿法激光粒度仪采用先进的测试原理、独特的计算模式以及权威的校准方式，使该款仪器具有测试结果准确、测试重复性好、分辨率高等突出优点，是宽分布颗粒粒度测试的最佳选择。 济南微纳2006全自动湿法激光粒度仪/粉末检测仪二、适用范围 Winner2006全自动湿法激光粒度仪广泛应用于水泥、陶瓷、药品、乳液、涂料、染料、颜料、填料、化工产品、催化剂、钻井泥浆、磨料、润滑剂、煤粉、泥砂、粉尘、细胞、细菌、食品、添加剂、农药、炸药、石墨、感光材料、燃料、墨汁、金属与非金属粉末、碳酸钙、高岭土、水煤浆及其他粉状物料。三:技术参数规格型号Winner2006AWinner2006B执行标准ISO13320-1:1999，GB/T19077.1-2008，Q/0100JWN001-2013测试范围0.01-780μm0.1-1000μm探测器通道数6849准确性误差0.5%（国家标准样品D50值）重复性误差0.5%（国家标准样品D50值）激光器参数主激光源：美国进口半导体光纤激光器 λ= 650nm, p2mW辅助激光源：半导体激光器，λ= 650nm，p2mW，使用寿命：＞25000H内置分散方法超声频率：f=40KHz, 功率：p=35W, 时间：≥1S搅拌转速：0-3000rpm转速可调循环额定流量：10L/min 额定功率：15W样品池容量：450mL操作模式软件操作 / 全自动操作模式可切换自动对中系统全自动对中系统软件功能分析模式包括自由分布、R-R分布和对数正态分布、按目分级统计模式等，满足不同行业对被测样品粒度统计方式的不同要求。统计方式体积分布和数量分布，以满足不同行业对于粒度分布的不同统计方式。 统计比较可针对多条测试结果进行统计比较分析，可明显对比不同批次样品、加工前后样品以及不同时间测试结果的差异，对工业原料质量控制具有很强的实际意义。自定义分析用户自定义分析参数，根据粒径求百分比、根据百分比求粒径或根据粒径区间求百分比，以满足不同行业对粒度测试的表征方式。 测试报告测试报告可导出Word、Excel、图片（Bmp）和文本（Text）等多种形式的文档，满足在任何场合下查看测试报告以及科研文章中引用测试结果。 多语言支持中英文语言界面支持，还可根据用户要求嵌入其他语言界面。 智能操作模式具有智能操作模式，可以自动控制进水、分散、测试等步骤，不但减轻测试人员的工作量，而且由于无人为因素干扰，测试结果的重复性更好。 测试速度2min/次体积850mm*390mm*450mm重量40Kg 济南微纳2006全自动湿法激光粒度仪/粉末检测仪四、Winner2006全自动湿法激光粒度仪产品特点（1） （1）采用美国进口半导体光纤激光器作为主光源。此光源采用单膜光纤，性能可靠、结构紧凑、寿命长、免维护、电光转换效率高、以及在全功率范围内，光束发散角和光束质量完全保持一致。（2） （2）主探测器采用最新设计的TD41型探测器，尽可能提高了主探测的测试下限，可以和辅助探测器实现无缝衔接，克服了主探测器和辅助探测器交接处测试不准确的问题。（3） （3）辅助探测器采用日本进口带滤光的光电探测器，在排列上使用电路板一体成型技术，更好地提高了小颗粒的测试准确度。（4） （4）为了保证本款仪器测试上限，采用了更大功率的循环泵，有效降低了泵体的磨损。 售后承诺：1.一月内达不到用户使用要求可退换货。2.一年内免费上门保修，维修或更换零件均不收任何费用。3.提供10年内上门保修、维护、调试、培训等服务。4.同型号产品软件终生免费升级。 济南市场部http://www.instrument.com.cn/netshow/C82577.htm

首先感谢您对佳航仪器的关注！我公司视“打造国产最稳定的激光粒度仪器”为己任，以科技创品牌、质量闯市场、信誉赢天下为方针，全力打造超稳定、高性价比的国产激光粒度仪器。JH5100-H是我公司倾力研发的最新产品，并不是5100的简单升级，自上市以来赢得了广大客户的一致好评。JH5100-H属于湿法全自动激光粒度仪，采用国际最先进的Mie氏散射原理和会聚光傅立叶变换光路。高密度探头及全量程无缝衔接测试方法，保证了测试结果的准确性和重复性。 JH5100-H操作过程全部由计算机自动完成控制完成，控制系统原理图如下： 智能型激光粒度分析仪控制系统原理图JH5100-H激光粒度分析仪主要性能特点：★先进的光路设计：JH5100-H采用会聚光傅立叶变换测试技术保证在最短的焦距获得最大量程，有效提高仪器的分辨能力；独特的高密度探测单元，让5100-H拥有了超强的小颗粒测试能力，高密度探测单元使JH5100-H具有超强的全量程无缝测试能力。★全密封光纤半导体激光器：JH5100-H采用了高稳定、长寿命的全密封光纤半导体激光器，优良的稳定性让JH5100-H拥有了超强的测试重复性，（可选氦氖激光器）。★全自动测试：真正全自动测试，您所做的仅仅是放入样品，无干扰数据不用人工挑选数据。★超声防干烧功能：经过潜心研发，JH5100-H可实现超声防干烧功能，避免无水情况下损坏超声。★超声功率可调：为满足不同样品的分散需要，JH5100-H实现了超声功率0到20毫瓦大小可调。★防尘、防震设计：仪器整体进行了密封设计，大幅提高了内部元器件使用寿命。独特的防震结构能有效避免外界震动对仪器的干扰，使测试结果更稳定可靠。★强防腐设计（选配）：根据客户实际需求可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂（像丙酮、苯酚、正己烷等一切有机溶剂）。★自动对中：独家采用机械中心与光学中心相结合技术，光路自动调整定位更精确，达到微米级别；同时光路调整速度个更快捷最快15秒即可完成调整。自行研制的自动对中系统包括步进电机、精密导轨、精密控制器以及软件系统组成，最小步距0.2微米，保证激光束焦点始终从探测器中心点穿过，提高测试结果的准确性以及测试的重复性。自动对中系统是耐克特所有型号激光粒度仪的标准配置。 光路自动对中功能图★独特的微量测试系统：JH5100-H专门为污水处理领域设计了一套微量循环系统，能够获取到极少量杂质的过滤水中颗粒的粒度分布，整个分散循环系统进行了优化设计，分散介质大于8毫升即可测试，真正达到了微量测试；目前已经很好地应用到采油厂、污水处理站等地方的水质中值粒径的分析。★免排气泡设计：全新的设计使整个测试不会有气泡进入测试样品窗，避免了气泡干扰。★样品无残留设计：仪器管道及排水结构进行了优化设计，仪器管道、循环泵内无积液残留，避免对下一次测试数据的影响。★样品窗快换装置：全新设计的样品窗快换装置，使样品窗更换更方便快捷。★露点测量：样品窗结雾会影响测量的准确性，这样的测试结果没有实际意义，JH5100-H加装了有雾点测量系统，一旦起雾软件会自动提示。主要技术参数：规格型号JH5100-H（高配）执行标准ISO 13320-1:1999；GB/T19077.1-2008测试范围0.1μm -600μm探测器通道数88准确性误差1%（国家标准样品D50值）重复性误差0.5%（国家标准样品D50值）免排气泡具备免排气泡设计，无气泡干扰数据更准确误操作保护仪器具备误操作自我保护功能，仪器对误操作不响应激光器参数进口光纤输出大功率半导体激光器 λ= 635nm, p10mW光路校准光路自动校准智能操作模式一键式全自动软件操作模式测试速度1min/次（不含样品分散时间）内置分散方法超声频率：f=40KHz,功率：p=80W,时间：随意可调 具备超声防干烧搅拌循环搅拌一体化设计，转速：100-33950rpm转速可调循环循环额定流量：0-10L/min可调 额定功率：25W遮光度探测仪器具备独有的遮光度实时探测功能，保证样品加入量更准确样品池自行设计沸腾式样品池，分散效果更好，容量：190-600mL均可正常测试防尘、防震设计整机采用防尘、防震设计微量进样（选配）仪器可选配微量全自动测试装置,10毫升即可循环测试（选配）防腐设计（选配）可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂（像丙酮、苯酚、正己烷等一切有机溶剂）。 软件功能测试报告测试报告可导出Word、Excel、图片（Bmp）和文本（Text）等多种形式的文档，满足在任何场合下查看测试报告以及科研文章中引用测试结果自行DIY用户自定义要显示的数据，根据粒径求百分比、根据百分比求粒径或根据统计方式体积分布和数量分布，以满足不同行业对于粒度分布的不同统计方式统计比较可针对多条测试结果进行统计比较分析，可明显对比不同批次样品、加工前后样品以及不同时间测试结果的差异，对工业原料质量控制具有很强的实际意义分析模式包括自由分布、R-R分布和对数正态分布、按目分级统计模式等，满足不同行业对被测样品粒度统计方式的不同要求显示模板粒径区间求百分比，以满足不同行业对粒度测试的表征方式。径距、一致性、区间累积等等智能操作模式真正全自动无人干预操作，无人为因素干扰，您只需按提示加入待测样品即可，测试结果的重复性更好。多语言支持中英文语言界面支持，还可根据用户要求嵌入其他语言界面。体积980mm*410mm*450mm重量30Kg 完善的售后服务体系1. 全国统一报修电话400-808-9310.我公司承诺报修1个小时内做出响应；2．所有仪器保修期为叁年，保修期内非人为损坏无责保修；3．仪器出保前两个月内，客户根据实际情况可申请免费上门维护仪器一次；4．出保的仪器维修仅收取成本费用，工时费按我公司维修人员在客户公司的实际天数来收取；5．山东、江苏、浙江、安徽、河南、河北、北京、天津、上海等省、市区24小时内到达客户现场，其余省份48小时内到达客户现场（边远地区、客流高峰期及不可抗拒自然灾害除外）6．您可以随时浏览我公司网站，同一型号如出现新功能或改进，三年内您可以申请免费升级（包含软、硬件）；7．我公司售后人员会不定期到贵公司对仪器进行检查，以此保证您所采购的仪器始终处于最佳使用状态；8．所有仪器均可享受交2000延保一年的感恩回馈活动。测试报告：

产品简介： 该产品采用全方位散射光探测系统，配置高灵敏度环式光电探测器，光路自动对中，测试一键操作，提高了测试精度又消除了人为因素的干扰误差，保证了测试结果的准确度。产品优势：一键智能模式支持一键操作，点击“自动测试”，按提示加入样品后，其他所有操作自动完成。光路自动对中采用精密混合式步进电机，微动精度达到微米级别，自动对中使仪器光路始终处于良好状态。全内置分散系统采用自有国家发明专利（专利号：ZL. 2010 1 0533181.6）技术湿法颗粒循环装置，集机械搅拌、超声分散、管路循环于一体，整体控制协调性高，防止样品中大颗粒的二次沉淀。主要适用于：测量固体粉末或乳液中颗粒的粒度分布，像水泥、陶瓷、药品、乳液、涂料、染料、颜料、填料、化工产品、催化剂、钻井泥浆、磨料、润滑剂、煤粉、泥砂、粉尘、食品、添加剂、农药、石墨、感光材料、燃料、墨汁、金属与非金属粉末、碳酸钙、高岭土、水煤浆、其他粉状物料、悬浮液以及气溶胶的粒度分布。规格型号Winner2000ZDEWinner2000ZD执行标准ISO13320:2009，GB/T19077-2016，Q/0100JWN001-2013测试范围0.1-300μm0.1-40μm /0.6-120μm/1-300μm探测器通道数7876×3准确性误差≤0.5%（国家标准样品D50值）重复性误差≤0.5%（国家标准样品D50值）激光器参数高性能激光器λ= 639nm, p2mW，使用寿命：＞50000H内置分散方法超声频率：f=40KHz,功率：p=60W,时间可调搅拌转速：0-3000rpm转速可选循环额定流量：8L/min额定功率：10W样品池容量：350mL操作模式软件操作/全自动操作模式可切换对中系统全自动对中系统软件功能分析模式包括自由分布、R-R分布和对数正态分布、按目分级统计模式等，满足不同行业对被测样品粒度统计方式的不同要求统计方式体积分布和数量分布，以满足不同行业对于粒度分布的不同统计方式统计比较可针对多条测试结果进行统计比较分析，可明显对比不同批次样品、加工前后样品以及不同时间测试结果的差异，对工业原料质量控制具有很强的实际意义自定义分析用户自定义分析参数，根据粒径求百分比、根据百分比求粒径或根据粒径区间求百分比，以满足不同行业对粒度测试的表征方式测试报告测试报告可导出Word、Excel、图片（Bmp）和文本（Text）等多种形式的文档，满足在任何场合下查看测试报告以及科研文章中引用测试结果多语言支持中英文语言界面支持，还可根据用户要求嵌入其他语言界面。智能操作模式具有智能操作模式，可以自动控制进水、分散、测试等步骤，不但减轻测试人员的工作量，而且由于无人为因素干扰，测试结果的重复性更好。测试速度体积860mm*390mm*460mm重量41Kg

微波等离子去胶机： 产品优势：去胶快速干净对样片无损伤操作简单安全设计紧凑美观产品性价比高 应用领域：高剂量离子注入光刻胶的去除湿法或干法刻蚀前后残胶去除MEMS中牺牲层的去除去除化学残余物去浮渣工艺SU-8光刻胶去除

Winner2000ZDE湿法激光粒度仪产品简介： 本款仪器采用全方向散射光探测系统，配合高灵敏度的环式光电探测器进一步提高测试精度。仪器集超声搅拌、超声分散、内置循环于一体的分散系统，彻底解决了大颗粒在管道中沉积的问题。开发的软件无约束自由拟合技术保证了测试结果的真实准确。采用自主开发的智能控制技术，实现光路的自动对中，进行一键测试。适用范围：Winner2000ZDE广泛应用于高校、研究院所、质量检验、水泥、陶瓷、药品、乳液、涂料、染料、催化剂、磨料、润滑剂、煤粉、粉尘、细胞、细菌、添加剂、农药、石墨、感光材料、燃料、金属与非金属粉末、碳酸钙、高岭土、水煤浆及其他粉状物料。产品特点和优势：高技术、提高测试分辨率采用汇聚光傅里叶变换技术和分档测试技术，不仅克服了透镜孔径对散射角的限制，并能根据测试样品的粒度分布选择合适的档位进行密级测试，具有极高的分辨能力和准确度。全内置分散系统，保障样品分散将超声波分散、机械搅拌、循环通道合理的集于仪器内部，保证颗粒测试过程中的均匀分散和分布，有效地避免了外置分散系统因管路长而导致的颗粒分布不均匀、大颗粒沉积等不良现象，从而保证测试结果的代表性。此外，针对贵重微量样品可选配10ml微量样品池，降低其测试成本。智能操作模式与全自动对中系统Winner2000ZDE具有智能化全自动操作模式，实现一键测试。采用四项混合式步进电机组成光路自动对中系统，微动精度达到微米级别，在消除手动对中光路所带来的误差同时也提升了测试结果的准确性和稳定性。权威的校准方式在整个测试范围内采用微米级、亚微米级以及纳米级国家粒度标准物质连续进行校准，保证全量程内极高的测试分辨率和准确度。技术参数：规格型号Winner2000ZDE Winner2000ZD三档测试范围0.1-300μm 0.1-40μm /0.6-120μm/1-300μm通道数 78 76×3执行标准ISO13320-1:2009，GB/T19077.1-2016，Q/0100JWN001-2013准确性误差0.5%（国家标准样品D50值）重复性误差0.5%（国家标准样品D50值）激光器参数高性能He-Ne激光器 λ= 632.8nm, p2mW 使用寿命：＞25000H分散方法超声频率：f=40KHz, 功率：p=60W, 时间可调搅拌转速：0-3000rpm转速可调循环额定流量：8L/min 额定功率：10W样品池 容量：350mL操作模式软件操作 / 全自动操作模式可切换对中系统全自动对中系统分析模式包括自由分布、R-R分布和对数正态分布、按目分级统计模式等统计方式体积分布和数量分布，满足不同行业对于粒度分布的不同统计方式统计比较可对多条测试结果进行统计比较分析，可对比不同批次样品、加工前后样品以及不同时间测试结果的差异，对质量控制具有实际意义自定义分析用户自定义分析参数，根据粒径求百分比、根据百分比求粒径或根据粒径区间求百分比，以满足不同行业对粒度测试的表征方式测试报告测试报告可导出Word、Excel、图片（Bmp）和文本（Text）等多种形式的文档，满足查看测试报告以及科研文章中引用测试结果多语言支持中英文语言界面支持，还可根据用户要求嵌入其他语言界面。智能操作具有智能操作模式，可以自动控制进水、分散、测试等步骤，由于无人为因素干扰，测试结果的重复性更好。测试速度2min/次体积 880mm×390mm×460mm重量 41Kg高稳定性的激光光源Winner2000ZD智能型粒度仪采用He-Ne气体激光器作为光源，所发射的激光波长为632.8nm，该光源具有极高的稳定性和良好的抗震性，并且其背景噪音远低于目前其他类型的激光器所发射的激光。由于散射光强与光波的四次方的倒数成正比，所以颗粒对632.8nm波长的散射光能量是普通固体半导体激光器（波长532nm、635nm）的2倍，提高了小粒子散射信号的强度。稳定直观的动态测量范围探测器的设计是决定激光粒度分析仪性能的关键因素。而判断检测器设计的优劣主要有三个方面；1.检测角的范围。2.不同角度检测器的灵敏度。3.能否有效的消除非散射光。?Winner公司采用了反傅立叶光路系统，在主检测器的基础上，增加了大面积的侧向探测器群组，使检测角高达到141°，颗粒探测下限可达到10nm，从而真正做到高准确、高灵敏地检测纳米、亚微米、微米级的颗粒。全量程真实反映颗粒直径，避免了不同原理测量方法进行的数据拟合及多透镜操作所带来的误差。?为了保证小颗粒的散射光信号足够大，优能有效减低大颗粒散射信号的噪音，Winner公司采用了专利的环形扇形探测器排列布局，探测器的灵敏度的增加呈对数规律增加，使其始终保持高信噪比，并避免了散射信号的丢失。?Winner公司采用了高性能的光源，保证了检测器能够获得足够强的散射信号，无需靠增加检测器的数量来提高检测器的灵敏度，能够更有效的减少和消除非散射光对检测器的影响，提高了颗粒测量的精确度。本公司对所售激光粒度分析仪的主机自购买验收之日起实行二年质保。

M&RRIE去胶机产品介绍如下： 产品概述M&RRIE去胶机是一款高性能的反应离子刻蚀（RIE）设备，专为微电子、半导体、光电等领域设计，用于去除材料表面的光刻胶、氧化物、金属薄膜等残留物。该设备以其高效、稳定、精准的去除效果受到业界广泛好评。 核心特点1. 高效去胶：采用先进的RIE刻蚀技术，能够在短时间内高效去除材料表面的残留物，提高生产效率。2. 稳定可靠：设备结构紧凑，设计合理，运行稳定可靠，能够保证长时间连续工作的稳定性。3. 精准控制：通过精确控制刻蚀气体的流量、压力、功率等参数，实现去胶过程的精准控制，保证去胶效果的一致性。4. 兼容性强：支持多种材料、多种尺寸的晶圆处理，兼容性强，满足不同用户的需求。 应用领域M&RRIE去胶机广泛应用于微电子、半导体、光电等领域，包括但不限于：* 去除光刻后的HDMS和BARC层* 刻蚀高分子聚合物，如聚酰亚胺、PDMS、石墨烯等* 湿法蚀刻前的晶圆清洗、表面预处理* 表面改性（润湿性和附着力的改善）* 故障分析中的选择性层蚀刻 售后服务我们提供全面的售后服务支持，包括设备安装、调试、培训、维修等。同时，我们拥有专业的技术团队和完善的售后体系，能够为用户提供及时、专业的技术支持和解决方案。总之，M&RRIE去胶机以其高效、稳定、精准的去胶效果和广泛的应用领域，成为微电子、半导体、光电等领域用户的理想选择。

品牌：久滨型号：JB6100-A品名：激光粒度分析仪久滨仪器.中国创造一、产品概述： 　JB6100-A采用先进的散射原理和会聚光傅立叶变换光路。高密度探头及全量程无缝衔接测试方法，保证了测试结果的准确性和重复性。独特的湿法循环分散系统，保证颗粒测试过程中无颗粒沉积现象，测试排水后无废液积存现象，保证了第二次测试精度，使测试结果更真实可靠；同时采取了管道无残留设计，保证了测试不同样品的准确性。优越的光路自动校对系统彰显出JB6100-A优势。稳定性及重复性达到国外马尔文仪器标准主要技术参数：规格型号JB6100-A执行标准ISO 13320-1:1999；GB/T19077.1-2008测试范围0.01μm -2000μm探测器通道数121准确性误差0.5%（国家标准样品D50值）重复性误差0.5%（国家标准样品D50值）免排气泡具备免排气泡设计，无气泡干扰数据更准确误操作保护仪器具备误操作自我保护功能，仪器对误操作不响应镜头进口佳能镜头激光器参数双光束，进口光纤输出大功率激光器 λ= 650nm, p10mW光路校准光路实现自动校准智能操作模式软件一键式全自动操作防尘、防震设计整机采用防尘、防震设计防腐设计（选配）可以配备耐酸、耐碱、耐油（含一切溶剂油）、耐有机溶剂（像丙酮、苯酚、正己烷、异丙醇等一切有机溶剂）。测试速度1min/次（不含样品分散时间）体积980mm*410mm*450mm重量35Kg

产品特点 WB240等离子清洗机/去胶机采用专利高密度微波等离子技术，用于半导体生产中晶圆的清洁、去胶和等离子体预处理，微波等离子体清洗具有高度活性、高效，且不会对电子装置产生离子损害。 　微波等离子清洗机主要用途：等离子体表面改性有机物表面等离子去胶邦定强度增强等离子体刻蚀应用等离子体灰化应用增强或减弱浸润性其它等离子体系统应用 技术参数◆ 外形尺寸(不包括报警灯) 1000(W)×800(D)×1750(H)mm◆ 仓体结构 石英，约20升 ◆ 等离子发生器(德国) 频率2.45GHZ,功率0-1000W连续调节,可连续长时间工作◆ 控制系统 触摸电脑+PLC全自动控制,采用欧姆龙、西门子等世界著名品牌电器元件，性能稳定可靠,并具有手动、自动两种模式◆ 真空系统(真空压力PID闭环自动控制) 英国爱德华斡旋式干泵 美国MKS真空压力控制节流阀及薄膜式传感器 台湾气动真空角阀、充气阀、不锈钢真空波纹管◆ 充气系统 美国MKS高精度电子质量流量计(3路气体配制) 美国世伟洛克气体管路及接口组件，德国双级减压阀 日本SMC及CKD高真空气阀组件 相关应用-晶圆光刻胶清洗