打磨抛光粉尘治理工程

美国QMAXIS高纯氧化铝抛光粉原装进口美国QMAXIS氧化铝抛光粉，高纯度氧化铝经高温煅烧而成，通过激光粒子分析仪对每批粉末进行精确的质量控制，埃级的加工精度，纯度达99.99%，适用于各种材料的精细抛光。AgPowder 氧化铝抛光粉 团聚DePowder 氧化铝抛光粉 非团聚AgPowder 氧化铝抛光粉 团聚美国QMAXIS团聚的氧化铝抛光粉，具有更高的去除率，适用于镁、铅及其合金的精细抛光订货信息：粒径1lb [0.45kg]5lbs [2.3kg]0.05µmPAA-005-1PAA-005-50.3µmPAA-03-1PAA-03-51µmPAA-1-1PAA-1-5DePowder 氧化铝抛光粉 非团聚美国QMAXIS非团聚的氧化铝抛光粉，具有更好的表面效果，适用于大多数的矿物和金属的精细抛光订货信息：粒径1lb [0.45kg]5lbs [2.3kg]0.05µmPAD-005-1PAD-005-50.3µmPAD-03-1PAD-03-51µmPAD-1-1PAD-1-5

氧化铝磨料系列（抛光用品）一、氧化铝粉（Alumina powder）EMS公司生产的氧化铝粉严格控制粒度分布和质量，确保用户得到最好的抛光效果。现有三种粒度供用户选择：0.05um、0.3um、1.0um。 应用领域：精密光学；金相断面抛光；光学晶体；硅片；铁矿石；宝石；丙烯酸有机玻璃透镜 氧化铝粉有改良型和未改良型之分，货号分别是50361和50360。货号产品名称规格50360-01Type N, Gamma Alumina Powder, 0.05μm1磅50360-05Type N, Alpha Alumina Powder, 0.3μm1磅50360-10Type N, Alpha Alumina Powder, 1μm1磅50361-01Type DX, Gamma Alumina Powder, 0.05μm1磅50361-05Type DX, Alpha Alumina Powder, 0.3μm1磅50361-10Type DX, Alpha Alumina Powder, 1μm1磅 二、氧化铝膏（Alumina slurry）氧化铝的水悬浮液，没有添加任何粘性物质。货号产品名称规格50368-10Alumina Slurry, 0.05μm6 oz.50368-20Alumina Slurry, 0.3μm6 oz.50368-30Alumina Slurry, 1μm6 oz. 三、氧化铝抛光粉（Aluminum Oxide Powder - Al2O3 ）货号产品名称规格50362-03Aluminum Oxide Powder, 3.0μm1磅50362-05Aluminum Oxide Powder, 5.0μm1磅50362-09Aluminum Oxide Powder, 9.0μm1磅50362-15Aluminum Oxide Powder, 15.0μm1磅 四、胶体氧化铝（colloidal Alumina）作为酸性的胶体，胶体氧化铝在研磨中具有化学和机械的双重功效。锗、硅、砷化镓、硫化锌、氟化物、蓝宝石、铁酸盐、碳化硅等物质的表面均可以得到很好的抛光效果。也可以用于镍、钨、铜、钢铁、铝等金属的低光泽度加工。另外，此通用型的胶体氧化铝还可用于环氧树脂和塑料的抛光。胶体特性：PH3-3.5，固体20％，粘性，摇溶性的应用：根据需要，可以打开即用，也可以稀释后使用。稀释用去离子水即可，稀释比例为1：1或者更高。 产品选购：货号产品名称规格50365-05Colloidal Alumina胶体氧化铝0.473L 货号产品名称规格91045Carbon String 碳绳1m91046Carbon Cord 碳绳 （主要配套250，450机型）1m91046-SPCarbon Cord 碳绳 20m

高效金刚石金相抛光剂采用优质的金刚石微粉，以独特的介质与助剂，融物理与化学作用于一体研制而成；粒度分布均匀，颗粒形貌呈球形八面体，故研磨效果好、不易产生划痕；硬度极高，刃口尖锐锋利，对硬软材料都有良好的研磨作用，只产生研磨作用而无滚压，不产生扰乱层； 主要用于机械研磨、抛光硬质合金、合金钢、高碳钢等高硬材料制件以及金相和岩相试样的精研等。使用方法01. 使用前抛光织物需用清水湿透，避免磨擦热。 02. 启动抛光盘后将抛光剂轻摇后倒置喷出。 03. 喷撒抛光剂时，应以抛光盘中心为圆心，沿半径方向喷出3--5s即可。 04. 新织物喷撒时间相应延长，以使织物的磨削能力更完美。粒度：W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2.5、W3.5、W5、W7、W10、W14、W20、 W28、W40包装：每罐250克、350毫升。附注：W为微米μm，国际通用标准。

名称型号规格价格（元） 电极抛光材料（美国进口） 120抛光材料整套9001.0微米抛光粉（4.5g）1000.3微米抛光粉（4.5g）1000.05微米抛光粉（17g）150抛光绒布（张）40尼龙抛光布（张）40金相砂纸（张）15

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点： 1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效抛光解决方案！

产品名称：铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供铜/合金铜金属的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、铜专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务李女士17706168670

产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务

氧化铈抛光微粉适于UNIPOL系列研磨抛光机的研磨使用，主要用于玻璃的抛光。技术参数粒度W0.75

美国QMAXIS金相抛光布原装进口美国QMAXIS抛光布，由各种高品质的抛光织物制成，无绒、短绒和长绒等不同编织属性的金相抛光布，与不同粒度的金刚石或氧化物抛光液配合使用，适用于各种材料的表面抛光。背衬有带背胶和磁性背衬两种，更换更方便——提高制样效率；表面更平整——为高品质的抛光效果奠定基础。粗抛：PlanCloth, PerfoCloth, NylonCloth中抛：DuraCloth, SatinCloth, SilkCloth精抛：MicroMet, VelCloth, FlocCloth, ChemoCloth应用于粗抛光阶段的金相抛光布订货信息：产品描述背衬包装规格8in[203mm]10in[254mm]12in[305mm] PlanCloth 抛光布 聚酯纤维尼龙紧密编织，无绒 配合6µ m及以上的金刚石抛光 液，应用于铁基、热喷涂金属涂 层和硬的/非常硬的材料的抛光PSA10片/包PCC-01-08PCC-01-10PCC-01-12Magnetic5片/包PCC-01-08MDPCC-01-10MDPCC-01-12MD PerfoCloth 抛光布 带孔的、硬的合成化纤无纺布 配合6µ m及以上的金刚石抛光 液，应用于陶瓷、碳化物、岩 相、硬质合金、玻璃和金属等 材料的抛光PSA5片/包PCC-02-08PCC-02-10PCC-02-12Magnetic5片/包PCC-02-08MDPCC-02-10MDPCC-02-12MD NylonCloth 抛光布 尼龙织物，无绒 配合6μm及以上的金刚石抛光 液，应用于铁基、烧结碳化物和 铸铁等材料的抛光PSA10片/包PCC-03-08PCC-03-10PCC-03-12应用于中等抛光阶段的金相抛光布订货信息：产品描述背衬包装规格8in[203mm]10in[254mm]12in[305mm] DuraCloth 抛光布 硬的合成压缩无纺布，无绒 配合9µ m及以下的金刚石、 Al2O3、SiO2 抛光液，应用于 黑色金属、有色金属、电子封 装、印刷电路板、热喷涂涂层、 铸铁、陶瓷、矿物、复合材料 和塑料等材料的抛光PSA10片/包PCI-01-08PCI-01-10PCI-01-12Magnetic5片/包PCI-01-08MDPCI-01-10MDPCI-01-12MD SatinCloth 抛光布 人工合成丝和天然丝紧密编织， 无绒 配合9µ m及以下的金刚石、 Al2O3、SiO2抛光液，应用于 黑色金属、有色金属、岩相、 陶瓷和涂层等材料的抛光PSA10片/包PCI-02-08PCI-02-10PCI-02-12Magnetic5片/包PCI-02-08MDPCI-02-10MDPCI-02-12MD SilkCloth 抛光布 纯丝紧密编织，无绒 配合9µ m-1µ m的金刚石抛光 液，特别适合抛光膏及液体抛 光蜡等抛光介质，应用于黑色 金属、有色金属、微电子、涂 层和岩相等材料的抛光PSA10片/包PCI-03-08PCI-03-10PCI-03-12Magnetic5片/包PCI-03-08MDPCI-03-10MDPCI-03-12MD应用于精细抛光阶段的金相抛光布订货信息：产品描述背衬包装规格8in[203mm]10in[254mm]12in[305mm] MicroMet 抛光布 人造纤维与棉背衬编织，长绒 配合3µ m及以下的金刚石、 Al2O3、SiO2抛光液，应用于所 有材料的精细抛光PSA10片/包PCF-01-08PCF-01-10PCF-01-12Magnetic5片/包PCF-01-08MDPCF-01-10MDPCF-01-12MD VelCloth 抛光布 软的人造天鹅绒，短绒 配合1µ m及以下的Al2O3、SiO2 抛光液，应用于软的金属和电子 封装等材料的精细抛光PSA10片/包PCF-02-08PCF-02-10PCF-02-12 FlocCloth 抛光布 软的长绒织物 配合3µ m及以下的金刚石、 Al2O3、SiO2抛光液，应用于黑 色金属、有色金属和烧结碳化物 等材料的最终抛光，配合氧化铝 抛光粉则适用于所有材料，特别 适合手动抛光和未镶嵌试样的精 细抛光PSA10片/包PCF-03-08PCF-03-10PCF-03-12Magnetic5片/包PCF-03-08MDPCF-03-10MDPCF-03-12MD ChemoCloth 抛光布 耐化学腐蚀合成织物，无绒 配合1µ m及以下的Al2O3、SiO2 抛光液，应用于钛合金、不锈 钢、铅/锡焊料、电子封装、软 的有色金属和塑料等材料的精细 抛光PSA10片/包PCF-04-08PCF-04-10PCF-04-12Magnetic5片/包PCF-04-08MDPCF-04-10MDPCF-04-12MD

MetaDi钻石悬浮液和浆料是高质量的单晶和多晶金刚石抛光产品，可提供可重复的性能并提供出色的样品质量。 严格控制Buehler的MetaDi钻石悬浮抛光剂和糊剂产品，以防止粒径或浓度出现任何偏差。 这样可确保每个样品的抛光结果均具有可重现性，并具有高质量的表面光洁度。 基于微米尺寸的颜色编码的钻石悬浮液和糊剂有助于防止抛光表面上的交叉污染。 由于对水的敏感性或钻石的嵌入，某些材料与传统的水基悬浮液不兼容。 与水敏感的材料一起使用时，油基MetaDi单晶金刚石悬浮液以及MetaDi金刚石浆料提供了多种选择。最终抛光悬浮液旨在去除表面变形的最后一层，并准备样品进行分析。 肉眼可能看不到变形，但是对于某些标本分析技术，必须将其消除。金刚石抛光金刚石悬浮液及研磨膏 规格产品金刚石类型材料去除表面变形应用MetaDi Supreme 多晶金刚石悬浮液多晶最佳极小最快的材料去除和最小的表面变形MetaDi Supreme 无色多晶金刚石悬浮液多晶最佳极小适用于容易被染色且会影响图像分析的材料MetaDi 单晶金刚石悬浮液单晶较好小对于大多数材料来所去除效果较好MetaDi 油基单晶金刚石悬浮液单晶较好小适用于水敏感的材料MetaDi Suspension 稀释单晶金刚石悬浮液单晶较好小与自动化系统一起使用时，悬浮液和增量液组合可保持一致性MetaDi 超多晶研磨膏多晶较好极小适用于需要高效去除且容易嵌入金刚石颗粒的软材料MetaDi 单晶研磨膏 (天然)单晶好小高浓度的金刚石研磨膏适用于容易嵌入金刚石颗粒的材料MetaDi II 单晶研磨膏 (合成)单晶好小中等高浓度的金刚石研磨膏适用于非常容易嵌入金刚石颗粒的材料最终抛光产品类型范围应用MasterPrep 氧化铝氧化铝终抛液0.05µ m~8.5pH较适合铸铁、钢、不锈钢、铜、聚合物、矿物质、微电子、贵金属MasterMet 硅胶硅胶终抛液0.06µ m~10pH化学-机械的抛光方法，较适合铝、难熔金属、微电子中的硅、陶瓷MasterMet 2 非结晶硅胶非结晶硅胶终抛液适用于抛光液配送系统0.02µ m~10.5pH化学-机械的抛光方法，较适合铝、难熔金属、微电子中的硅、陶瓷MasterPolish 终抛混合高浓度氧化硅和硅胶的终抛液0.05µ m~9pH含有极少量水分，适用于水敏感材料，适用于大多数镁合金、钴合金、大多数铁合金、镍和金属基复合材料MasterPolish 2 终抛氧化铁抛光液0.06µ m~10pH化学-机械的抛光方法，适用于蓝宝石、玻璃、氧化铝、氮化硅和金属/陶瓷复合材料MicroPolish Alumina 氧化铝团聚氧化铝终抛液与相同颗粒尺寸的其他氧化铝终抛液相比，具有更高的去除率颗粒尺寸可选： 0.05µ m、0.3µ m、 1µ m适用于镁、铅及其合金，提供抛光液和抛光粉两种选择MicroPolish II Alumina 氧化铝高质量的非团聚氧化铝终抛液比结晶氧化铝终抛液可得到更高质量的表面颗粒尺寸可选：0.3µ m、 1µ m适用于大多数矿物和金属，提供抛光液和抛光粉两种选择

产品分类：吉致碳化硅研磨抛光半导体晶圆抛光产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点：吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时大大提高材料去除率。产品工艺及用途：适用于sic碳化硅衬底DMP和CMP工艺制程，有效提升效率以及良率，碳化硅抛光液/抛光垫实现国产化替代。吉致sic碳化硅抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射，零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致cmp抛光液/slurry抛光液价格：吉致的cmp金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致抛光液品质可以替代进口同类产品。本土化生产的优势使吉致cmp抛光液产品交货周期快，抛光液价格实惠亲民。吉致cmp抛光耗材适用范围 吉致拥有成熟的加工工艺和生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！

LD-3C型激光粉尘仪是以激光为光源，具有国际先进水平的最新型袖珍式粉尘仪。该仪器适用于公共场所可吸入颗粒物（PM10）浓度的快速测定、工矿企业生产现场等劳动卫生方面粉尘浓度的检测，以及环境保护领域可吸入尘浓度的监测，还可用于空气净化器净化效率的评价和重点监测场所粉尘浓度超标报警。LD-3C型激光粉尘仪引进日本柴田公司全套生产制造及检测标定技术及设备，符合卫生部行业标准WS/T206-2001《公共场所空气中可吸入颗粒物测定方法-光散射法》、劳动部行业标准LD98-1996《空气中粉尘浓度的光散射式测定法》、铁道部行业标准TB/T2323-92《铁路作业现场粉尘测定相对质量浓度与质量浓度转换方法》。销售热线：15300030867，联系人：张经理LD-3C型激光粉尘仪主要特点：1. 由于激光光源有良好的单色性，从而使质量浓度转换系数（K值）不受粉尘颜色的影响，减小了K值变化范围。2. 独特的光路自清洗系统，避免了粉尘对仪器核心部件&mdash &mdash 光学系统的污染； 3. 仪器的袖珍型以及具有数据存贮及回放功能从而使其更适合于公共场所及劳动作业场所的流动性粉尘现场测定。4、设计了定时采样机构，可根据设定时间定时采样，定时启动及关闭，所得数据可通过微型打印机记录或传输入计算机进行处理,而使其适合于大气环境可吸入颗粒物（PM10）连续监测。5、可设定粉尘浓度超标报警阈值，粉尘超标时自动报警或将信号传输到控制中心进行监控。 1.可直读空气中可吸入颗粒物质量浓度；2.测量快速、准确、检测灵敏度高； 3.袖珍、轻便、易操作；4.设计了自校系统，仪器性能稳定可靠；5.采用净化气自清洗结构设计，可防止污染光学系统；6.实现了软件自动调零；7.具有计算机双向通讯功能；8.具有定时采样和浓度超标报警功能。LD-3C型激光粉尘仪技术指标：　检测灵敏度：LD-3CL 1CPM=0.01mg/m3　　　　　　　LD-3CH 1CPM=0.001mg/m3　测定范围：　LD-3CL 0.01-100mg/m3　　　　　　　LD-3CH 0.001-10mg/m3　测定时间：标准时间为1分钟，设有0.1、1分钟及手动（手动可任意时间）；　测量精度：± 10%　计数器：带标识4位液晶显示；　输出接口：PC机通讯接口RS232及打印机输出接口；　环境温度：温度0-40℃；　电 源：交直流两用，配充电电池及充电器；　尺寸：l× b× n(mm)-----192× 69× 140；　重量：1.4Kg

无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介：为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方法：1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。2.稀释后，粗抛时调节PH11左右，精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。3.循环抛光可以用原液。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。 3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液价格：吉致电子的碳化硅晶圆抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。

PC-3A激光可吸入粉尘连续测试PC-3A型激光可吸入粉尘连续测试仪是光散射式可吸入颗粒物（PM10）测量仪器。该仪器具有测试速度快，便携直读,灵敏度高，稳定性好，操作简单，无噪声污染、交直流两用等特点。本仪器可同时测量PM10和大于1万级空间的粒子数浓度，能存储500组数据，数据查询方便，并配接打印机。本仪器为卫生防疫、环境监测等部门测量可吸入粉尘（PM10）以及直接观察大气尘埃浓度连续变化规律的最佳仪器。销售热线：15300030867，联系人：张经理PC-3A激光可吸入粉尘连续测试主要技术性能1、可吸入颗粒物测量范围：0.001~10mg/m³ ；2、可吸入颗粒物计数范围：0~99999粒/升；3、可吸入颗粒物检测灵敏度：0.001mg/m³ ；4、测量最小颗粒物粒径：0.3&mu m；5、采样时间：2分，5分；6、总重量：约550g。PC-3A激光可吸入粉尘连续测试的基本配置为：1、主机 一台2、MP16型微型打印机及电源 一套3、打印机连接线缆 一根4、电源充电器 一只5、充电连线 一根6、铝合金包装箱 一只

动态加热粉尘仪规格参数：监测原理：光散射原理PM2.5测量范围/分辨率：0-1000/0.1ug/m3PM10测量范围/分辨率：0-2000/0.1ug/m3TSP测量范围/分辨率：0-20000/1ug/m3响应时间：1S 6、电源电压：DC12V输出方式：RS485 ZWIN-YC06-M动态加热粉尘仪是一款主要针对颗粒物扬尘在线监测的新型智能传感器，主要监测TSP、PM2.5、PM10等颗粒物参数。 原理：运用光散射原理，系统巧妙设计光敏感区作为粒子散射发生的场所，当粒子经过聚焦激光所形成的光敏感区后，粒子散射的光被探测窗口上的微光电探测器收集，微光电探测器把接收的光强度信号快速、准确的转化为等量电压信号，信号的密集度对应于粒子的单位浓度值，颗粒物浓度值进行系数转换后通过数据接口实时输出。 此款粉尘仪气体采样单元增加预处理模块，能够自动除尘、自动除湿、自动温度校准，提高气体检测的J准度。该传感器配备RS485信号传输接口，操作方便、测量准确、工作可靠，可嵌入各种与检测颗粒物浓度相关的仪器，适用于工地、道路扬尘及污染严重区域扬尘颗粒物监测等。

无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介：为半导体行业/光学行业调配的蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry组合浆料，适用于蓝宝石基片、外延片、LED的平坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底制造的各个工艺阶段的规范，在蓝宝石基片抛光应用中提供了可靠的解决方案。吉致电子蓝宝石LED抛光液/Sapphire Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。 本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、塑胶、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠的抛光解决方案！

3M 9010防尘口罩 N95口罩 粉尘PM2.5口罩 3M 9010 N95防护口罩更适合出行、旅游等使用者，独立包装，避免二次污染，方便携带，对沙尘暴有良好的防尘作用 与其它N95系列产品一样，对非油性固态和液态颗粒物的过滤效果超过95%。可过滤微生物颗粒物，量多从优，欢迎新老客户来电咨询选购。产品简介： 3M 9010 N95防护口罩更适合出行、旅游等使用者，独立包装，避免二次污染，方便携带；对沙尘暴有良好的防尘作用 与其它N95系列产品一样，对非油性固态和液态颗粒物的过滤效果超过95%。可过滤微生物颗粒物，3M9010 N95防护口罩能够帮助降低对空气中某些微生物颗粒物的呼吸暴露（如霉菌、炭疽杆菌、肺结核分支杆菌等）。适合于建筑、石矿、纺织、打磨、五金铸造、制药、电子、制药、物料处理及打磨等作业时产生的粉尘的防护等作业。产品特点：一：符合美国国家职业安全及健康协会标准（NIOSH）N95认可；二：用于某些非油性颗粒物的呼吸防护和病毒微生物的呼吸防护，呼吸阻力小，配戴舒适，折 叠式设计，更方便携带；三：鼻梁部位使用金属条来固定形状，外观比较接近脸部轮廓,配合优良鼻夹和头带，保证与脸 部良好密合。3M防尘口罩头戴式佩戴方法： 一：面向口罩无鼻夹的一面，使鼻夹位于口罩上方，二：将口罩抵住下巴，双手将下方头带拉过头顶，置于颈口耳朵下方，三：将上方头带拉过头顶，置于颈后耳朵上方，四：将双手手指置于金属鼻夹中部，从中向两侧按照鼻梁形状向内按压，直至将其按压成鼻梁形状为止。每次佩戴口罩时，请按照如下方法进行口罩的密封型检测。产品包装：50个/盒；10盒/箱=500个

适配 Le 系列空气采样器，应用于职业卫生、公共卫生，环境大气等场景中气态污染物的采 样检测，连接固体吸附剂，气泡吸收管，滤料采样夹等采样介质收集空气中的气体、粉尘、 颗粒物等，以检测有毒有害物质。配件包括粉尘采样滤匣以及挂件，粉尘滤膜，呼吸性粉 尘旋风分离器，校准适配器，采样管套管等。

PVC防护面罩配安全帽 电焊防粉尘劳保面屏由上海书培实验设备有限公司提供，产品耐磨、隔热、防冲击、防风沙。产品介绍：名称：PVC防护面罩配安全帽 电焊防粉尘劳保面屏颜色：透明尺寸：高39cm*宽20cm材质：PVC面屏+变形支架+螺丝功能：耐磨、隔热、防冲击、防风沙应用领域：化工、打磨、机械、骑行、切割、冶炼注意事项：使用前先撕开面屏上正反面保护膜安装步骤：1、先对准中间孔、后向右侧移动、使其卡住。2、按压面屏、向一侧弯曲、并使其固定，3、将弹簧拆掉一面，双手握住帽檐，使其向两侧张开4、将尖头部位、沿帽檐向内推至与安全帽重合5、将弹簧防下、固定安装完毕图解详细教程：

总览Cila 2.0 连接器和电缆组件光纤抛光和检查系统可以利用精密机器设计、专业开发的抛光菜单和在线明场检查来抛光和检查所有商业和军用风格的光纤电缆组件。自动化、耐用、低运营成本和人体工程学是 Cila 的主要优势。 技术参数产品特点坚固耐用、符合人体工程学的设计和构造自动化，按钮操作自动气磨功能取代了大多数其他机器的手动去毛刺操作通用、UPC型工件夹具将容纳所有商用光纤连接器，包括FC、ST、SC、LC、MU、SMA型，以及所有圆形、环保、公母MIL型连接器专用于FC/APC、SC/APC、LC/APC和MIL型斜角终端的工作支架抛光端面的明视场视频检测高产能工艺的一致性–通常是45秒的产能/UPC连接器符合行业公认的端面公差，常见一次通过率为98%下面的图表详细说明了在Cila 2.0上抛光的二十个SC连接器，然后对其进行干涉检查。左:MIL样式 右:LC/UPC、SC/UPC、FC/APC、SMA气隙

抛光布简介一、产品特点： 抛光布是专门用于金相制样时的粗抛和精抛。适用国内、外各种型号、规格的金相抛光机，尤其适用于半自动或全自动金相抛光机。金相抛光织物系列由抛光层、存储磨料层、保护层等多层组成，其中最重要的一层是真正用于抛光的抛光织物层。该层精选了高强度的、不同绒毛长度和布纹的、适合于金相抛光用的织物为材料。从而使本抛光织物具有优良的抛光效果和较长的使用寿命。二、抛光布直径及匹配的磨抛机： Φ200mm带胶抛光布→适用于磨盘直径200mm的磨抛机； Φ230mm带胶抛光布→适用于磨盘直径230mm的磨抛机； Φ250mm带胶抛光布→适用于磨盘直径250mm的磨抛机。 三、抛光布种类：

1. 金刚石抛光膜DIAMOND LAPPING FILM钻石颗粒，背衬是3mil厚度的涤纶。大小8英寸和12英寸两种可选，粒度大小可选，背衬有粘附（PSA）和不粘附（PB）两种，单张起售。货号产品名称规格50350-01Diamond Lapping Film， P/B, 0.1um8英寸50350-03Diamond Lapping Film， P/B, 0.25um8英寸50350-05Diamond Lapping Film， P/B, 0.5um8英寸50350-10Diamond Lapping Film， P/B, 1um8英寸50350-15Diamond Lapping Film， P/B, 3um8英寸50351-01Diamond Lapping Film， PSA, 0.1um8英寸50351-02Diamond Lapping Film， PSA, 0.25um8英寸50351-03Diamond Lapping Film， PSA, 0.5um8英寸50351-04Diamond Lapping Film， PSA, 1um8英寸50351-05Diamond Lapping Film， PSA, 3um8英寸 2. 研磨纸1um的金刚石抛光膜抛光后紧接着用到的“蓝研磨纸”和“绿研磨纸”。样品最终观察前的最后抛光程序用到。可以呈现一个完美平整无痕的观测平面。只有8英寸一个规格，背衬有粘附(PSA)和不粘附（PB）之分。单张起售。 货号产品名称规格50336-PBTrue Blue Film 蓝研磨纸8英寸（20.3cm）50338-PBFinal Green Film 绿研磨纸8英寸（20.3cm）50336-PSATrue Blue Film8英寸（20.3cm）50338-PSAFinal Green Film8英寸（20.3cm）

产品分类：吉致电子抛光垫产品名称：阻尼布抛光垫/碳化硅SIC精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优势。产品工艺及用途：柔软表面与特殊微孔洞结构，适用于碳化硅SIC衬底、各类晶圆、IC制造等CMP工艺高精细、高平坦化的制程。具有缓冲与晶背保护的效果。吉致电子碳化硅抛光垫价格：吉致电子抛光垫生产引进国外技术，可以媲美进口抛光垫PAD/阻尼布抛光垫产品（Politex/Fujiba/SUBA/环球等国产替代）品质稳定。选择吉致电子抛光垫产品，价格美丽，比进口抛光垫/精抛垫便宜，交货期稳定，性价比更高！

UNIPOL抛光膏配方与WenolL抛光膏相似，被广泛用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统、衬底及日常的实验室应用。UNIPOL抛光膏配方对于硬金属（如不锈钢、镀铬表面）均能得到满意效果，UNIPOL抛光膏亦适用于清洁抛光控制电极。UNIPOL抛光膏为油基、不含硅脂，溶解大多数碳氢化合物。不建议UNIPOL抛光膏应用于铝等软金属。

UNIPOL抛光膏配方与WenolL抛光膏相似，被广泛用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统、衬底及日常的实验室应用。UNIPOL抛光膏配方对于硬金属（如不锈钢、镀铬表面）均能得到满意效果，UNIPOL抛光膏亦适用于清洁抛光控制电极。UNIPOL抛光膏为油基、不含硅脂，溶解大多数碳氢化合物。不建议UNIPOL抛光膏应用于铝等软金属。

使用Specac窗片抛光工具包让您的窗片保持最佳状态！ 窗片抛光工具包包含了所有清理和抛光红外传输窗片必不可少的工具和材料。 简单的抛光既有效又经济。 包括完整说明和所有易损件的更换。 订购信息 04000：窗片抛光工具套件 窗片抛光工具包括下面列出的项目（每个项目可单独订购） 04030：光学平台(玻璃平板) 04070：玻璃抛光圈抛光绒布 04010：抛光绒布（5片） 04020：平滑圈研磨纸 04090：备用研磨纸（平滑圈用） 04040：聚乙烯瓶（2支） 04050：清洁海绵 04060：红铁粉（75g） 04080：非粘性绒布平条（2片） 04095：毛刷（2把）

Pikal已有近100年生产历史了，在清洁抛光方面负有盛名，应用包括：机械零件抛光、表面修整、精抛光等制造领域,电镜、真空设备等清洁 精密机械抛光 薄膜沉积及薄膜研究基底的抛光与清洁 医疗设备表面清洁

Pikal已有近100年生产历史了，在清洁抛光方面负有盛名，应用包括：机械零件抛光、表面修整、精抛光等制造领域,电镜、真空设备等清洁 精密机械抛光 薄膜沉积及薄膜研究基底的抛光与清洁 医疗设备表面清洁

抛光材料为美国标乐公司抛光材料一瓶1.0 um - 氧化铝粉，一瓶0.3 um -氧化铝粉，1大瓶 0.05 um -氧化铝粉，2块固定抛光布用的玻璃板，5片73mm直径1200金相砂纸（灰色），5片73mm直径尼龙抛光布（白色）和10片73mm直径Microcloth抛光布(咖啡色)。

UNIPO金属抛光膏的配方与Wenol金属抛光膏相似， UNIPO金属抛光膏被广泛用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统、衬底及日常的实验室应用。 UNIPO金属抛光膏的配方对于硬金属（如不锈钢、镀铬表面）均能得到满意效果， UNIPO金属抛光膏亦适用于清洁抛光控制电极。 UNIPO金属抛光膏为油基、不含硅脂，溶解大多数碳氢化合物。不建议 UNIPO金属抛光膏应用于铝等软金属