超高真空激光镀膜系统

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超高真空激光镀膜系统相关的厂商

  • 表面处理，真空镀膜
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  • 深圳市激埃特光电有限公司厂家
    深圳市激埃特光电有限公司,专业生产各种滤光片,滤色片:红外滤光片,窄带滤光片,彩色滤光片,带通滤光片,干涉滤光片,红外截止滤光片,偏振镜,衰减片(中性密度滤光片),长波通滤光片,短波通滤光片,隐形玻璃,人脸识别滤光片,虹膜识别滤光片,安防监控滤光片,反射镜,分光镜,隔热片,负性滤光片,RGB色片,光栅,来料镀膜,IR-CUT等专业的光学镜片、光学滤光片厂家、滤光片生产厂家.地处物流四通八达，供应资源丰富，技术及市场活跃，生产及加工高效率的深圳市龙岗区宝龙工业城深长岗科技园区内。酒店式工厂环境，激埃特是家精密光学滤光片及精密光学镜片生产厂家，拥有多台先进光学真空镀膜机，以及全套相关检测仪器和装置，采用先进电子枪蒸发离子辅助沉积多层薄膜技术（IAD），专注于光电器件及光学仪器滤光片的应用和开发。 公司产品批量应用于考勤机（手纹，掌纹，静脉及人脸识别），安防监控系统，防伪识别系统，智能灯具，卫橱感应器系统，舞台灯光及激光演示系统，投影光学器件，激光器件以及生化医疗光学器件。 公司人性化管理，注重人才，技术创新，为全体员工提供再学习深造机会，不断提升员工福利，注重员工工作环境改进，关心员工生活。 激埃特以追求质量，客户满意为宗旨,率先通过ISO9001:2008质量管理体系认证,产品通过SGS认证,符合ROHS指标要求.,对客户平等对待,合作创新,互惠互利,价格适宜,交期快捷,品质稳定,服务周到,竭诚为天下客户提供高质量的精密光学滤光片产品.公司的主要产品有：窄带滤光片带通滤光片长波通滤光片短波通滤光片红外滤光片反射镜增透膜偏振镜分光镜合光镜色片负性滤光片中性密度衰减片光学玻璃平面光栅OED光学镀膜代加工
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  • 激埃特光电有限公司
    深圳市激埃特光电有限公司，地处物流四通八达，供应资源丰富，技术及市场活跃，生产及加工高效率的深圳市龙岗区宝龙工业城深长岗科技园区内。酒店式工厂环境，激埃特是家精密光学滤光片及精密光学镜片生产厂家，拥有多台先进光学真空镀膜机，以及全套相关检测仪器和装置，采用先进电子枪蒸发离子辅助沉积多层薄膜技术（IAD），专注于光电器件及光学仪器滤光片的应用和开发。力求把最适用的方案提供给光机电厂家! 公司产品批量应用于考勤机（手纹，掌纹，静脉及人脸识别），安防监控系统，防伪识别系统，智能灯具，卫橱感应器系统，舞台灯光及激光演示系统，投影光学器件，激光器件以及生化医疗光学器件。 激埃特人性化管理，注重人才，技术创新，为全体员工提供再学习深造机会，不断提升员工福利，注重员工工作环境改进，关心员工生活。 激埃特以追求质量，客户满意为宗旨。平等对待，合作创新，互惠互利，价格适宜，交期快捷，品质稳定，服务周到竭诚为天下客户服务。
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超高真空激光镀膜系统相关的仪器

  • 超高真空光学显微镜/光谱仪测试系统 400-628-5299
    超高真空光学显微镜/光谱仪测试系统Ultra-high Vacuum (UHV) Optical / SpectroscopicMicroscope System将光学显微镜或光谱仪模组对接于超高真空系统，可以作为超高真空互联系统的检测节点之一，用于材料和器件在不同制备环节之间对外延的薄膜或者转移沉积的二维材料等样品的质量进行快速无损检测。产品特性和核心技术模块化设计，光学部分相对独立。&bull 包含光学显微镜、激光离焦量传感器、自动调焦和共聚焦耦合光路等等在内的全部光学部分全部集成于一个光学模组之中，作为整体置于超高真空腔体之外，透过视窗玻璃聚焦于真空腔内的样品表面。&bull 不污染真空内环境。&bull 超高真空系统烘烤时可以整体取走，并在烘烤完毕之后方便地定位安装。&bull 可根据用户需求，灵活配置激光器、单色仪、探测器和物镜等光学组件。视窗玻璃厚度像差的补偿校正。&bull 拉曼光谱的高收集效率和分辨率。性能参数：注：上述表格中的激光波长、物镜和单色仪等部件可以根据客户需求调整。测试案例：超高真空长工作距离（120 mm）显微测试
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    厂商： 北京卓立汉光仪器有限公司
    品牌： 卓立汉光/ZOLIX
    型号： 光学显微镜
    价格： 面议
  • SURFACE超高真空PLD激光镀膜系统 400-860-5168转1679
    自从1993年起SURFACE公司就从事脉冲激光沉积镀膜系统（以下简称PLD）的研发和制造工作，在这期间SURFACE公司不但向市场提供了标准的PLD系统，而且也提供专门为客户订制的PLD系统。经过了这么多年的发展，SURFACE公司开发出许多能够满足客户需求的产品和技术。以下就是由SURFACE公司独家提供的这些产品和技术的简要介绍： 一． 基本资料 1.、SURFACE基底运载系统 对机械手来说，热均匀和热隔离的有效性是十分重要的。这其中，精确的热电偶是关键的质量因素。 （图上的文字） SURFACE常规电阻1英寸基底运载器 嵌入式Omicron原子力基底夹 热电偶直接嵌入基底运载系统，30mm的基底中间区域 基底和银酱一起安装在激光切边运载器上。运载系统可转换并直接嵌入热电偶（请见另一页）这保证绝大多数的温度测量。 2、靶切换系统 超高真空技术需要反应釜通过一个负载锁的腔体进行相互作用。从一开始，SURFACE就意识到这一点，并设计了一个靶转盘来实现这一需求。 多层盖板避免了强热的基底转移到靶材。所有靶材是受保护，以防止交叉污染。盖板能够非常容易地被更换，无需工具。靶材将通过磁场操纵或位于中央转移腔的内部转移操纵手被转移。该耦合和靶材的精确检索是自动完成的。靶转盘和切换动力保证了均质烧蚀过程。 3、模块化的系统概念 SURFACE公司多年来一直从事于研发超高真空材料科学系统。在大多数情况下，一个系统的工作负载起始于一个单一的过程控制，往往过了一段时间以后，客户的需求会增多。为了通过附加的过程控制提升整套设备的功能，SURFACE公司认识到需要用完整的模块化概念来解决这个问题。 从向市场提供单一的腔体加上负载锁，一直到提供更多的扩展，而不需要冒任何将来转换而产生的风险。 可以方便客户的细节： 1、 转换过程有照相机支持 从开始我们的束工具生产，我们就决心让使用设备变得更加简便。最早我们使用了一个独立的监视器，连接一台独立的BW照相机。为了实现自动化，增加了第二个TTL监视器来观测实时的彩色照片和相关的其他过程数据。尤其是当我们的激光加热系统应用以后，另外一台显示器对显示实际得图表和数据非常有用。毫无疑问，所有的照片都能够被实时地存储在过程控制系统的硬盘驱动器上。 2、 整套系统的紧凑安装 实验室里的空间是昂贵的，所以任何空间都必须被非常有效地使用。SURFACE公司从一开始就设计将激光放置在控制箱的顶部，并可将其他的激光气舱加入这一过程。 将气舱整合到这个配置里面将使安装变得非常容易和迅速。 这种节约成本的设计克服了PLD安装之前昂贵的本地安装&mdash &mdash 所有项目都被包括在SURFACE的交货中。 气舱通过一个大的方便的管子与客户端的排气设备相连接。 3、 SURFACE公司的交货与交钥匙工程 这方面包括从SURFACE公司将系统直接运来（这些设备的生产基地都是在西欧及周边地区）。运输到客户的卸载地点是关键。但SURFACE公司帮助，甚至客户实验室的建设。客户只需要提供当地的交通和吊车来将货物运送到设备使用地。所有的运输路线在采购决定之前都会被考察到。 4、 SURFACE公司支持S3处理软件。 S3处理软件提供一个全新的立体支持：一键式操作，客户可以直接与SURFACE的技术支持团队进行沟通。软件使用中的问题和操作中的问题经常会发生，通过完全的远程操控，技术支持人员可以为客户提供设备使用各个阶段的帮助。这将防止一些不必要的困难的发生，并为客户提供快捷的响应。这个支持工具在SURFACE系统中是免费的，客户只需提供正确的网络链接。
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    厂商： 上海纳腾仪器有限公司
    品牌： 未知
    型号： PLD-Workstation
    价格： 500万 - 10,000万元
  • 超高真空多腔体镀膜系统
    超高真空多腔体镀膜系统——按照客户要求，加工订制；——一对一专业出图设计；——可配套指定真空机组系统；——耐高温、耐腐蚀；——高质量、高精度；加工工艺，采用真空焊接技术拼装焊接；先进的真空捡漏设备，更加保证产品的质量；我公司采用三维建模软件，按照实际比例建立三维模型，根据客户文字、语言草图等需求描述，专业设计出适合客户所需产品方案（在方案定稿之前所有设计不收取任何费用）。为了生产出最匹配客户需求的产品，需要告知我公司以下几个问题点：1、产品在使用过程中是否有温度产生，高温和低温分别是多少摄氏度，是否需要通水或液氮冷却等内外在因素。2、对产品材质是否有特殊要求，真空领域腔体常用材质为：碳钢、铝、304不锈钢、316不锈钢等3、产品的链接方式，抽真空的方式，抽真空所用的真空泵等4、腔体真空度的要求，腔体抽完真空以后是否需要冲入保护气体或其他气体。通常常见真空腔体技术性能：材质：304不锈钢或客户指定材质。腔体适用温度范围：-190℃~+1200℃密封方式：氟胶“O”型圈或金属无氧铜密封圈出厂检测事项：1、真空漏率检测：标准检测漏率：1.3*10-8PaL/S 2、水冷水压检测：标准检测压力：8公斤24小时无泄漏检测。内外表面处理：拉丝抛光处理、喷砂电解处理、酸洗处理、电解抛光处理和镜面抛光处理等。实验室真空系统,真空腔体,真空探针台超高真空多腔体镀膜系统
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    厂商： 郑州克普斯机械设备有限公司
    品牌： Argonaut
    型号： KF25
    价格： 1元
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超高真空激光镀膜系统相关的资讯

  • 国产突破！松山湖材料实验室成功研制先进激光镀膜设备
    超导技术被誉为21世纪最具有经济战略意义的新兴技术之一，超导体所具备的“零电阻”和“完全抗磁”这两大神奇特性，为人们带来了巨大想象空间。例如利用超导体电阻为零的特性来进行电力输送，可以大大减少线路损耗，实现超远距离的大容量电力输送；利用它完全的磁抗性可以制造磁悬浮列车、电磁弹射装置等。“超导最近在媒体出现的频率比较高。比如时下热门的量子计算，涉及到超导量子比特；被称为‘人造太阳’的全超导托卡马克核聚变实验装置，也应用了超导磁体。”中国高温超导研究奠基人之一、国家最高科学技术奖得主赵忠贤院士介绍道，超导距离实际生活最近的应用，则是医院常见的核磁共振成像中的超导磁体。超导薄膜技术是超导技术发展的重要方向之一。日前，由赵忠贤院士倡导建立并担任顾问的研究团队，面对国外禁运，通过技术集成创新，成功研制出基于国产部件的“三光束脉冲激光共沉积镀膜系统”，并制备出大尺寸双面钇钡铜氧（YBCO）超导单晶薄膜，为我国制备高品质、应用型超导薄膜产品技术带来新突破。关键设备买不来，怎么办？在东莞松山湖科学城松山湖材料实验室“实用超导薄膜研究团队”的一间实验室内，一组银白色装置占据了房间一角，三台激光器宛如手术台上的三支机械臂，将一个带有观测窗的球形操作台围在中间，绿色和紫色的光束不时闪烁。这个装置就是该团队近期研发成功的“三光束脉冲激光共沉积镀膜系统”。该设备基于国产部件实现技术集成创新，包括采用国产小型固态脉冲激光器实现多光束共沉积、激光器与光路系统模块化整体位移、自主研发控制软件实现操作智能化等。利用这台设备，该团队还成功制备出2英寸双面YBCO超导单晶薄膜，将脉冲激光沉积技术制备高品质应用型薄膜产品，推向了一个新的高度。该团队负责人金魁研究员表示，大尺寸双面钇钡铜氧（YBCO）单晶薄膜，是设计高温超导薄膜器件的良好载体，而高温超导薄膜器件则是开发未来通信技术和超高性能雷达探测器的重要部件，具有十分重要的应用前景。然而，能够制备该类薄膜的先进设备，此前被德日美等少数国家掌握，一直以来对我国封锁核心技术，并且大尺寸薄膜制备设备近期也已对我国禁运，导致我国高品质应用型“薄膜”和“镀膜设备”核心技术受制于人。金魁坦言，按照最初构想，是希望直接从国外购买一套先进的大尺寸镀膜设备，之后按团队的需求改造，然而却未能如愿。“买小尺寸薄膜制备设备回来，做出的样品主要是用于基础研究，找规律、写论文，国外公司同意卖给我们；但要买能投入实用的大尺寸薄膜制备设备，他们就拒绝了。”金魁表示，另一方面，国外的设备只能实现单面薄膜的制备，无法满足团队需求。关键设备买不来，怎么办？在赵忠贤院士的鼓励和指导下，团队最终下定决心走上了自研之路。令他们感到高兴的是，团队产出成果的进度超过了预期。在国外禁运的情况下，团队仅用一年多时间就取得了成功。“积小胜为大胜”“我们用激光去打真空腔里面的靶材，由于瞬时高温，靶材表面的成分会变成等离子体向外喷射，之后接触高温衬底，外延沉积完成镀膜，过程就像是烙饼一样。”该设备主要的设计和搭建者冯中沛博士是团队里的一名年轻人，设备成功运转，让他格外兴奋。过去一年多，冯中沛和同事们几乎每天都围着这台设备转。在工作室紧邻该装置的墙边有一面白板，上面写满了与装置搭建相关的事项。一年时间里，大到整个装置的设计装配，小到一根螺丝钉的定制，整个团队“挂图作战”，环环推进，最终才获得了成功。“这台设备的功能可以扩展，也可以为超导以外的材料进行镀膜。就像买了一口锅，一开始只用来炒菜，后面还可以用来蒸煮。”冯中沛介绍道。令整个团队感慨的是，直到他们研制出成本更低、性能更优的设备时，从日本采购的小尺寸镀膜设备甚至因为疫情，还没有厂家工程师前来拆箱。“这件事虽然谈不上伟大，但是它给了我们很大信心。遇到‘卡脖子’难题，逼着自己进行自主研制和创新，最终把一条新的技术路线走通了。”赵忠贤表示，假如全国几十万、上百万的科研团队，能有十分之一像这样专注去做一件事，我们跟国外的科技竞争就能握有更大的主动权。“积小胜为大胜，变成大胜就有了长板，有了竞争优势，国外还怎么卡我们脖子？”他说道。除了团队自身的努力和经验积累，赵忠贤还特别提到，松山湖科学城给予的宽松科研环境与合理的评价体系，为这一成果取得提供了重要土壤。在他看来，松山湖材料实验室一方面注重研究实效，不以论文论英雄，让科研人员集中精力搞攻关；另一方面，充分信任科学家，原本购置设备的钱可以灵活用于自主研发，“允许用打酱油的钱去买醋”，赋予科学家自主权。推动超导技术成果转化能否制备出大尺寸、高质量的超导薄膜，关系诸多关键产业的发展前景。以超导薄膜为基础的数字电路，相比半导体材料做的数字电路速度更快、损耗更小、容量更大；用超导薄膜制成的超导量子干涉器，可以探测比人脑磁场弱几千倍的磁场，用收集来的磁信号进行分析，能够确定矿源、预报地震等。而超导薄膜制成的天线、谐振器、滤波器等微波通讯器件，具有常规材料（如金、银等）无法比拟的高灵敏度。此外超导薄膜在大型粒子加速器中也有着广泛的应用。粗略估计，国内外计划建设的各类加速器项目，对超导薄膜谐振腔的需求量将超过10000个。面对这一趋势，与超导基础研究打了大半辈子交道的学界泰斗，开始将工作重心放在推动超导技术成果转化与实际应用上来。2017年底，广东启动首批四家省实验室建设，赵忠贤接受邀请，出任松山湖材料实验室学术委员会主任一职，从北京来到了东莞松山湖。在他倡议和亲自指导推动下，“实用超导薄膜研究团队”在松山湖材料实验室迅速建立起来。除赵忠贤院士作为团队顾问之外，担任团队负责人的金魁研究员，也是一位高水平超导研究专家，他在高温超导体机理研究、超导薄膜制备、新超导体探索等方面都有诸多重要成果，先后在《自然》杂志等主流刊物发表重要论文80余篇。此外，多位具备国家重点实验室工作背景的超导薄膜和低温技术专家也先后加入，组成了国内一流的班底阵容。“我们选定的题目是‘实用超导薄膜及相关技术研究’，这个不像‘量子’或者‘智能’之类的名字时髦，但并不意味着研究的内容不重要。”赵忠贤说，希望以应用为目标来做一个中长期项目，解决超导应用过程中一系列关键核心技术难题，推动实现跨越性的进步，带来应用上的质变。谈及今后的打算，年届八旬的赵忠贤心心念念的，仍然是超导。“一是找到超导应用存在的短板，想办法推动一些项目、组织一批队伍来把超导领域的这些问题全部扫光；二是在超导应用的某些方面，希望看到我们比别人强，有自己的‘绝活’。”
    时间： 2021-03-23
    作者： KPC
  • 光学薄膜的真空镀膜设备
    光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw） 光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw）光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw）光学薄膜的真空镀膜设备 型号：BMC1100DS，带Windows软件自动控制系统（SDC）/日本 制造时间：2003年 状态：运行极好 生产厂家：Shincron （http://www.shincron.co.jp/phase1/en/top/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1100mmｘH 1600mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２ EB Guns (JEOL)　 JEBG-102UHO（&phi 35ccx20） JST-16F (16kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： OPM-V1 (monitor glass &phi 30x30) 石英晶体微天平监控器： 无 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 最大350℃± 10℃（36kw） 型号：RMC1100，带Windows软件自动控制系统/日本 制造时间：2003年8月 状态：运行极好 生产厂家：Rock Giken Inc　（http://www.rock-giken.co.jp/vacuum/index.html） 技术规格： 真空腔体尺寸： &phi 1150mmｘH 1500mm 衬底圆顶尺寸： &phi 950　（3～30rpm） 耐加热系统： &phi 20mm　4kw 蒸发源： ２EB Guns (Plasma System)　 G-12100（&phi 35ccx20） D-10001 (10kw)　 IAD 系统： 无 光学厚度监控器： 380～1500nm（波长） (monitor glass &phi 10x60pcs) 石英晶体微天平监控器： XTC-2(Inficon) 真空泵单元： MTR-630(Shincron) DP(HD-550 x 2sets) with Polycold (PFC-670HLL) 加热系统： 300℃± 10℃（21kw）
    时间： 2008-12-28
    作者： 艾泰克
  • WELCH实验室真空泵如何确保离子镀膜仪真空度的稳定性和工作效？
    WELCHLAB APPLICATION某客户致力于材料表面处理和真空薄膜仪器的研发，在竞争方面，直接对标国外知名产品。有别于其他同类产品的国产厂家，该客户产品定位高端，在国内市场有较好的口碑，其对配套的旋片真空泵（油泵）要求，无论是在真空度、噪音、外观、售后服务等，还是在品牌知名度方面，都有非常高的要求，为保证离子镀膜仪真空度的稳定性和工作效率，已标配选用了某原装进口品牌的旋片泵，且销售了数年时间，但此品牌的旋片泵价格高昂，货期不稳定，售后服务有着很大的提升空间。此时，我们针对性的向该客户介绍了Welch品牌CRVpro2旋片真空泵。CRVpro2外观设计美观，真空度高，泵体小巧，运行非常安静，泵体内部做PTFE防腐处理，能够明显提高其使用寿命，完全适合配套客户的离子镀膜仪设备。且因CRVpro2旋片真空泵性价比高，售后服务完善，能瞬间提升客户产品的受关注度和整体竞争力。当然，对于临阵换将，任何人都会有所犹豫，为打消客户疑虑，我们及时提供了一台全新的 CRVpro2旋片真空泵，进行现场测试。CRVpro2的安装非常简单，加注真空油、安装转接头、连接不锈钢波纹管，一气呵成。开机运行！在寂静的实验室里，CRVpro2安静的运行着。时间一秒一秒得飞逝，镀膜仪操作面板上的真空度数值飞速变化，结果仅仅用了不到3分钟，就达到了镀膜仪恒定工作压力以下，即1-2Pa。同时，由于Welch研发工程师对CRVpro2的排气端进行了优化设计，其排气口几乎无油雾排出，非常有利于实验室环境，该公司的测试人员对此结果非常满意。随即，设备配套顺理成章，双方打开双赢的合作局面̷̷CRVpro实验室旋片真空泵的优点：　　1、泵体运行温度低，能有效减低泵被化学腐蚀风险。　　2、油箱和泵体都有抗化学腐蚀涂层，能够保护泵不被化学物质侵蚀。　　3、油箱容量大，能够稀释吸入真空油里的化学物质，降低了化学腐蚀的风险和油被污染的程度。　　4、低噪音：运行特别安静，不干扰工作。　　5、自润滑功能：确保所有运动部件浸润在新鲜的油里，平衡温度，减少油染，延长机械寿命。　　6、防倒吸阀：防止在停机时油被倒吸进真空容器　　7、气压载阀：减少化学蒸汽被夹带进入泵油；保护泵不被可凝性流体如水，乙酰腈等的影响。　　8、cUL和CE认证：具有各国的安全认证，满足官方的3安全标准。　　9、满足各种应用的外形尺寸：现代和紧凑的外形设计，满足各种应用场合的要求。　　10、双电压电机：IP44 电机，可在115V 和240V之间切换，并可配置各种相应的电源插头，使CRVpro可使用。CRVpro实验室旋片真空泵的应用： 1、双排管 2、冷冻干燥 3、真空浓缩 4、采暖通风、空调 5、真空干燥箱 6、手套箱 7、质谱仪 8、工业应用关于威伊（Welch）威伊真空设备（上海）有限公司WELCH是提供优质耐用真空泵产品的专家。我们的丰富产品线涵盖了实验室和工业用真空泵，包括真空活塞泵，真空隔膜泵，真空旋片泵，螺旋泵，涡轮分子泵，液体输送泵等，还有各种真空测量仪，真空控制器，真空蒸馏装置，真空浓缩设备，真空抽吸设备等。关于英格索兰英格索兰（纽交所代码：IR），以企业家精神和主人翁意识为动力，致力于创造美好生活。我们通过旗下备受赞誉的40余个品牌，在工业、能源、医疗和特种多功能车领域提供关键和创新的产品与服务，涵盖空气压缩机、泵、鼓风机，以及流体管理、装载、动力工具和物料吊装系统以及知名的Club Car品牌多功能车。在极其复杂和严苛的工况下，亦能确保优越的性能。我们在世界各地的16,000多名员工将持之以恒地为客户提供可靠的专业知识，帮助客户提高生产力并提升效率，与客户建立终身连接。
    时间： 2020-08-03
    作者： 威伊
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  • 真空镀膜机

    最近需要购买一台热蒸发真空镀膜机，请问哪些厂家的比较好用？另外，有谁知道日立公司在北京的代理的联系方式？

  • 【原创】真空镀膜在线监测设备---光密度在线检测仪

    真空镀铝膜生产几经波折后如今又在全国迅速发展，主要看重的是真空镀铝膜复合材料不仅在包装上具有很大前途，而且在工农业、通讯、国防和科研领域中得以广泛应用；真空镀膜产品在以后必将形成主流，具有很大的市场空间。 然而，在国内所有的真空镀膜生产厂家中能够生产出品质好的镀铝膜很少，所以才会出现上马快，下马也快的现象。 究其原因主要是真空镀膜行业还是处于一个发展的阶段，目前所有的真空镀膜厂家，都还没有使用一款合适的真空镀膜监测设备---真空镀膜光密度在线检测仪。所以在生产过程中很难控制好镀膜层厚度的均匀性，造成镀膜产品质量不过关，以至于镀膜品质不够好；而且生产效率低，真空镀膜生产厂家往往需要投入较大成本。 真空镀膜质量的影响因素较多，除了跟设备有关，还与操作人员的水平，技术人员的指导和合适的工艺条件有很大关系。 但是不可否认，决定真空镀膜产品品质的最重要因素是镀膜层厚度的均匀性；镀铝薄膜通常应用于具有阻隔性或遮光性要求的包装上使用，因此，镀铝层的厚度和表面状况以及附着牢度的大小将直接影响其镀铝膜性能。镀铝膜的检测主要体现在厚度、镀铝层牢度和镀铝层的表面状况等方面。 如果对镀铝膜检测方法有所了解的，就一定知道检测镀铝膜品质有一种方法叫光密度测量法，目前市场上深圳市林上科技已经研发生产出一款专门的光密度仪，它是用于直接测量镀铝膜的光密度值来判定镀铝膜产品品质的优劣。 薄膜表面镀铝的作用是遮光、防紫外线照射，既延长了内容物的保质期，又提高了薄膜的亮度，从一定程度上代替了铝箔，也具有价廉、美观及较好的阻隔性能。目前应用最多的镀铝薄膜主要有聚酯镀铝膜（VMPET）和CPP镀铝膜（VMCPP）。 由于真空镀铝薄膜上的镀铝层非常薄，因此不能用常规的测厚仪器检测其厚度，通常都是需要使用光密度法来检测。光密度（OD）定义为材料遮光能力的表征。它用透光镜测量。光密度没有量纲单位，是一个对数值，通常仅对镀铝薄膜和珠光膜进行光密度测量。 光密度是入射光与透射光比值的对数或者说是光线透过率倒数的对数。计算公式为D=log10（入射光/透射光）或OD=log10（1/透光率）。通常镀铝膜的光密度值为1－3（即光线透过率为10％－0.1％），数值越大镀铝层越厚，美国国家标准局的ANSI/NAPM IT2.19对试验条件做了详细规定。 但是对于国内众多真空镀膜厂家而言，需要在大批量的生产线上就能控制好镀膜产品的镀膜层厚度均匀性。那就需要使用透光率光密度在线检测仪，在真空镀膜生产线上实行连续监测，才能保证真空镀膜产品的质量，同时提高真空镀膜设备的在线生产效率，减少生产成本。

  • 关于真空离子镀膜的问题

    我们公司是做尼龙和塑胶拉链的，最近总是接到客户投诉，说产品在经过真空镀膜后进行水洗测试，表面镀层会脱落的投诉。公司购买了真空镀膜设备，我们按设备供应商提供的工艺流程和试剂做了真空镀膜并进行了水洗测试，存在镀层会脱落的问题。以下是流程：产品表面清洁-去静电-喷底漆-烘烤底漆-真空镀膜-喷面漆-烘烤面漆（120°1m）-出成品。.在此，希望能得到各位老师的帮助：希望各位老师提供一个较成熟的流程，和各工序的参数如果设置？使用什么试剂会更好？希望各位老师解释一下真空镀膜后进行水洗测试，表面镀层会脱落的原因？是否因为没打好底的问题？望各位老师不吝赐教！谢谢！

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  • 无镀膜激光窗口片基片
    无镀膜激光窗口片基片TECHSPEC® Uncoated Laser Window Substrates具有 10-5 的表面质量及λ/10表面平整度采用熔融石英或 N-BK7 材料制成标准英制尺寸适合现成替代解决方案提供激光谱线镀膜版本通用规格涂层:UncoatedTECHSPEC® 无镀膜激光窗口片基片是设计用于高要求激光应用的激光质量窗口片基片。这些激光窗口片基片采用熔融石英制成，适合需要良好热稳定性的高功率激光应用；或者采用 N-BK7 制成，适合更注重成本的激光应用。熔融石英和 N-BK7 激光窗口片基片都具有 λ/10 表面平整度和 10-5 表面质量的精度级别，确保最大程度地减少对透射光束的干扰。TECHSPEC® 无镀膜激光窗口片基片提供直径 12.7 至 50.8mm 的标准英制尺寸可供选择，方便现成替换为现有激光系统。定制尺寸和镀膜可供选择，请联系我们进行定制咨询。产品信息基底Dia. (mm)厚度 (mm)产品编码Fused Silica (Corning 7980)12.703.18#37-693N-BK712.706.35#38-055Fused Silica (Corning 7980)12.706.35#37-688N-BK719.106.35#38-056Fused Silica (Corning 7980)19.106.35#38-911Fused Silica (Corning 7980)25.403.18#37-694N-BK725.406.35#38-057Fused Silica (Corning 7980)25.406.35#37-689N-BK738.106.35#11-450Fused Silica (Corning 7980)38.106.35#38-912N-BK738.109.53#38-058Fused Silica (Corning 7980)50.002.00#37-666Fused Silica (Corning 7980)50.806.35#37-690N-BK750.809.53#38-059Fused Silica (Corning 7980)50.809.53#38-060Fused Silica (Corning 7980)55.001.50#37-667Fused Silica (Corning 7980)134.003.00#37-668
    供应商： 江阴韵翔光电技术有限公司
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    价格： 面议
  • 红外(IR)薄膜分束器/低损耗镀膜激光偏振器
    红外 (IR) 薄膜分束器Ø3 - 5µm 的平均 R/T 比为 45/55Ø没有来自第二表面反射的重影Ø消除光束位移Ø还提供用于 VIS-NIR 的薄膜分束器红外 (IR) 薄膜分束器采用安装在铝制框架中的薄硝化纤维素分束膜，设计为具有 3 - 5µm 的 45R/55T 分束比。 薄硝酸纤维素膜消除了第二表面反射和光束位移，同时最大限度地减少了光路长度的变化。 铝制框架在框架下侧具有安装孔，便于安装和集成到 OEM 系统中。红外 (IR) 薄膜分束器是 MWIR 应用的理想选择，包括 MWIR 成像、红外光谱、火焰检测和红外探测器的一般用途。注意：这些分束器的硝化纤维膜非常薄且易碎。 不得接触膜，只能使用空气进行清洁。 我们建议使用鼓风机，因为来自压缩空气的力可能会损坏膜。通用规格基材:Nitrocellulose反射/透射比 (R/T):45/55波长范围 (nm):3000 - 5000镀膜:Dielectric镀膜规格:45/55 @ 3000 - 5000nm构造 :Pellicle外壳:Black Anodized Aluminum折射率 nd:1.5表面质量:40-20厚度 (μm):2 +0.3/-0.2产品型号Dia. (mm)CA (mm)产品编码19.0512.7#19-28034.9025.4#19-28163.5050.8#19-28288.9076.2#19-283114.30101.6#19-284165.10152.4#19-285技术数据低损耗 IBS 镀膜激光偏振器Ø1064nm Nd:YAG 设计波长Ø在 45° AOI 具有 10,000:1 的高消光比Ø低损耗离子束溅射 (IBS) 镀膜Ø采用 10-5 表面质量的 UV 熔融石英基片低损耗 IBS 镀膜激光偏振器用于传输 p 偏振光，同时反射 s 偏振光，消光比高达 10000:1。这些偏振器具有离子束溅射 (IBS) 镀膜，设计用于在 45° 入射角下实现最佳的低损耗性能。它们由紫外熔融石英基片制成，与高功率激光器一起使用时可将热效应降至低，并且具有 10-5 的激光级表面质量。低损耗 IBS 涂层薄膜激光偏振器非常适合与 1064nm Nd:YAG 激光器一起使用，以分离或组合 s 偏振和 p 偏振激光。如果您的应用需要具有定制尺寸、镀膜或其他激光应用要求的低损耗 IBS镀膜激光偏振器，请与我们联系。注意：这些光学元件边缘上的箭头指向薄膜偏振片镀膜。产品型号DWL (nm)消光比CA (mm)表面质量Dia. (mm)厚度 (mm)产品编码106410,000:12010-525.406.35#16-747爱特蒙特光学® F-Theta 透镜Ø激光扫描应用的理想选择Ø扫描场上的衍射受限，波前误差低Ø长工作距离和大扫描区域Ø还提供振镜、扩束器和激光源Edmund Optics® F-Theta 透镜旨在在扫描系统的图像平面提供平场，并与检流计、扩束器和激光源结合使用。 这些 F-Theta 透镜具有紧凑的外形，提供高达 273 毫米的各种焦距和高达 164 毫米 (X) x 164 毫米 (Y) 的大扫描场。 这些透镜针对常见的光纤激光源和 Nd:YAG 基波或二次谐波进行了优化，设计波长为 532nm 和 1064nm，具有通用安装螺纹，可轻松集成到振镜系统中。 爱特蒙特光学® F-Theta 透镜是用于激光扫描和激光加工应用（包括激光打标、雕刻、切割、钻孔和 3D 建模）的经济高效的解决方案。产品型号DWL (nm)扫描角 (°)扫描场 (mm)类型WD (mm)产品编码532±22.6856.5 x 56.5F-Theta Lens94.5#15-185532±25.00101.8 x 101.8F-Theta Lens193.5#15-1861064±18.6035.4 x 35.4F-Theta Lens72.1#15-1781064±22.6856.5 x 56.5F-Theta Lens107.9#15-1791064±22.6286.0 x 86.0F-Theta Lens171.2#15-1801064±28.50116.2 x 116.2F-Theta Lens188.1#15-1811064±25.00157.0 x 157.0F-Theta Lens304.6#15-1821064±24.10164.0 x 164.0F-Theta Lens313.0#15-183光散射膜Ø散射 UV 到 NIR 范围的照明光线Ø柔性聚合物基片Ø易于根据尺寸进行切割Ø另外提供玻璃散射片L光散射膜由 TAC 聚合物材料制成，可对 UV 到 NIR 范围的照明光线提供散射。可以轻松地根据尺寸对这种薄膜进行切割，以满足应用要求，可以使用轻松地根据尺寸对这种薄膜进行切割，以满足应用要求，可以使用光学胶粘剂将其粘附到玻璃表面。光散射膜非常适用于机器视觉、视觉检测和自动检测应用，以散射LED 光源，从而产生无热点的均匀照明。若您的应用需要自定义尺寸的光散射膜，或需要将光散射膜层压到光学组件（例如光学窗口片、有色玻璃和聚合物偏振片）上，请联系我们。通用规格涂层:Uncoated厚度 (mm):0.13 ±0.005波长范围 (nm):300 - 1100注意:Protective film on both surfaces should be removed before use产品型号涂层尺寸 (mm)产品编码Uncoated100 x 100#17-683Uncoated300 x 300#17-682技术数据E 系列无边缘运动光学反射镜安装座Ø用于安装分光镜和透射式光学元件的 120° 无边缘Ø价格实惠Ø对实验和 OEM 系统不可或缺的安装座E 系列无边缘运动光学反射镜安装座可提供许多对于研发、原型制造和系统集成领域的应用而言不可或缺的功能。这些安装座具有 120° 切口，非常适用于安装分光镜和透射式光学元件，若以 45° 角安装，还能容纳更宽的光束路径。两个 M6 x 0.25 (101.6 TPI) 调节螺丝可提供平稳的移动，可以通过手或内六角扳手（扳手大小 2mm）驱动，以实现翻转和倾斜的光学调整与对齐 (±3.5°)。可以拆卸调节螺丝旋钮，从而使外形更紧凑。E 系列无边缘运动光学反射镜安装座具有安装孔，这些孔是埋头孔（设计目的为容纳 M4 或 8-32 安装硬件）和 M6 x 1.0 内螺纹孔（用于提高安装的多用性，以及与TECHSPEC® 公制不锈钢安装接杆和底座接杆的直接兼容性）。通用规格光学类型:Circular调节螺丝数目:2构造 :Aluminum Plates, Stainless Steel Screws, and Brass Thread BushingsMin. Thickness of Compatible Optics (mm):2微倾斜角度 (°) :±3.5微翻转角度 (°) :±3.5调节螺丝螺距 (mm):0.25Compatible Post:M6 x 1.0, M4 x 0.7, 8-32产品型号兼容光学大小 (mm)Optical Axis Height产品编码12.5/12.725.40#17-27825/25.425.40#17-27950/50.838.10#17-280
    供应商： 江阴韵翔光电技术有限公司
    品牌： 爱特蒙特
    价格： 面议
  • 超快增强型银镀膜激光反射镜
    超快增强型银镀膜激光反射镜?600 - 1000nm 之间的反射率大于 99%?群延迟色散低 (0 ±20fs2)?非常适用于 Ti:Sapphire 激光?提供标准英制尺寸通用规格表面质量:10-5平行度（弧分）:有效孔径 (%):90后表面:Commercial Polish涂层规格:Ravg99% @ 600 - 1000nm, 0°Rs99% @ 540 - 1000nm, 45°Rp98.5% @ 730 - 870nm, 45°GDD Specification:0 ±20fs2@ 600 - 1050nm波长范围 (nm):600 - 1050表面平整度:λ/10镀膜类型:MetalDamage Threshold, Pulsed:0.3 J/cm2@ 800nm, 48fs, 1 pulse (typical)0.16 J/cm2@ 800nm, 48fs, 100Hz, 1000 pulses (typical)涂层:Ultrafast-Enhanced Silve基底:Fused Silica产品介绍TECHSPEC® 超快增强型银镀膜激光反射镜具有采用介质镀膜增强的银镀膜，能在 600 - 1000nm 范围内提供更高的反射率。这些反射镜在其很宽的波长范围内具有很低的内在群延迟色散 (GDD)，因此非常适用于 Ti:sapphire 激光的基波波长。TECHSPEC 超快增强型银镀膜激光反射镜采用标准英制尺寸，可轻松集成到光学系统中。如需在其他超快激光波长范围内具有很低 GDD 的介质镀膜激光反射镜，请参阅我们的低 GDD 超快反射镜.请注意:若您的应用需要的 TECHSPEC 超快增强型银镀膜激光反射镜具有其他尺寸、角度或波长范围，请联系我们进行定制。技术数据产品信息Dia. (mm)厚度 (mm)产品编码12.706.35#13-05925.406.35#13-06050.809.53#13-061
    供应商： 江阴韵翔光电技术有限公司
    品牌： 爱特蒙特
    价格： 面议
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