薄膜沉积系统

原子层沉积(ALD)是一项真正意义上的纳米技术，使纳米超薄薄膜以一种精确控制的方式沉积。原子层沉积ALD有两个特征 自限性原子分层技术增长和高保形涂层。这些特征在半导体工程、微机电系统和其他纳米技术的应用程序使用方面展现许多优势。原子层沉积的优势原子层沉积的过程正是每个周期中单个原子层沉积的过程，完全控制的沉积是一个获得纳米尺度的过程:保形涂层即使在高深宽比和复杂的结构中也可以实现可实现针孔和无颗粒沉积一个非常广泛的材料与原子层沉积是可能的，例如:氧化物：Al2O3, HfO2, SiO2, TiO2, SrTiO3, Ta2O5, Gd2O3, ZrO2, Ga2O3, V2O5, Co3O4, ZnO, ZnO:Al, ZnO:B, In2O3:H, WO3, MoO3, Nb2O5, NiO, MgO, RuO2氟化物：MgF2, AlF3有机杂化材料：Alucone氮化物：TiN, TaN, Si3N4, AlN, GaN, WN, HfN, NbN, GdN, VN, ZrN金属：Pt, Ru, Pd, Ni, W硫化物：ZnSALD工具比较Feature功能OpALFlexAL基板**200毫米晶圆**200毫米晶圆液体和固体的前驅物**4路+水、臭氧和气体**8路+水,臭氧和气体**前驅物温度200oC200oC拥有快速传递系统Mfc控制下的气体管道：1)热气体的前体（例如，NH3, O2）2)等离子气体（例如，O2, N2,H2）2个内部结构。多达8个外部安装气路多达10个外部安装气路等离子体选择/現地升级选项載片开腔闭锁或片匣可集群其他流程模块不可可以- 第三方公司MESC模块作为特殊选择载盘温度范围25oC – 400oC25oC – 400oC (部分550oC)椭偏仪接口可以可以快速脉冲ALD阀门接头套管10 ms可以可以原子层沉积系统包括FlexAL和OpAL 兩款。

CARBON FILL,MGIS碳沉积（多支气体注入系统专用）用于原厂电子显微镜多支气体注入系统，碳沉积（多支气体注入系统专用）是一种存放碳化合物的容器，将药品加热到一定温度，药品气化，在真空压差和可控阀门的作用下，将药品气体喷洒在样品表面，同时在离子束的诱导作用下将碳分子沉积在样品表面。以实现对样品表面形貌的保护，或对样品进行导电处理。大束科技是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场，此外，还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务，以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源（电子显微镜灯丝）、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。

尺寸：5*10cm厚度：1.6mm铜基六方氮化硼薄膜采用化学气相沉积法（CVD），在高纯铜箔上沉积单层和多层h-BN薄膜。

尺寸：10*10cm厚度：1.6mm铜基六方氮化硼薄膜采用化学气相沉积法（CVD），在高纯铜箔上沉积单层和多层h-BN薄膜。

薄膜厚度测量系统配件是一种模块化设计的薄膜厚度测量仪，可灵活扩展成精密的薄膜测量仪器，可在此基础上衍生出多种基于白光反射光谱技术的薄膜厚度测试仪，比如标准吸收/透过率，反射率的测量，薄膜的测量，薄膜温度和厚度的测量。薄膜厚度测量系统配件：核心模块----光谱仪；外壳模块----各种精密精美的仪器外壳；工作面积模块----测量工作区域；光纤模块----根据不同测量任务配备各种光纤附件；测量室-/环境罩---给测量带去超净工作区域。薄膜厚度测量仪核心模块---光谱仪孚光精仪提供多种光谱仪类型，不同光谱范围和光源，满足各种测量应用

Atlas™ 标准薄膜制样机与高温薄膜制样系统Specac的等厚度薄膜制样工具主要用于高分子材料的光谱测定，根据热压制膜原理，所得到的样品是纯样品，谱图中只出现样品信息。Specac公司为满足客户的不同需求，提供三种等厚度薄膜制样工具，不仅可以将较厚的聚合物变成更薄的薄膜，还能将粒状，块状或板材，如药包材料，包装材料，特殊包裹材料等不规则的聚合物变成可以检测的薄膜。GS15800高温薄膜制样系统技术参数：最高操作温度高达400℃ 满足高端科研的要求一周期40分钟通过CE安全认证集成的供热制冷设备? 2T的载荷极限0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm薄膜直径29mm压力范围0-2吨一体式加热盘系统双数字显示，精度1度安全切换装置：70℃ 切断加热希同/55℃ 重启加热系统一体式冷却盘高温薄膜制样机P/N GS15800有一组加热板是嵌入到薄膜制样机中的，所以当P/N GS15800装载在压片机上时， 是不需要额外的Atlas 加热压盘P/NGS15515的。订购信息GS15640标准薄膜制样机特点：独立加热压盘，满足不同直径薄膜需要独立冷却盘，可缩短制膜周期重现性哈，制备过程简单制膜过程无需化学品，成本低6种不同厚度的垫圈，适合各种高分子材料技术参数：操作温度高达300℃一周期30分钟4T的载荷极限0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm薄膜直径29mm双数字显示，精度℃可配套加热板P/N GS15515使用冷却系统停止时切断加热系统 冷却水流速大于0.2/min时重启加热系统独立冷却盒订购信息GS15640 Atlas™ 标准薄膜制样机包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250和0.500 mm 垫圈铝膜 直径40mm(200 片)Specacards 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架(20张)不锈钢镊子GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250and 0.500 mm 垫圈铝膜直径40mm(200 片)制作铝膜样品杯的工具Specacards 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架(20张)不锈钢镊子高稳定性及高精度的温度控制器(400℃)薄膜制样套装GS15631 Atlas™ 标准型薄膜制样套装1包括: 薄膜制样系统(GS15640) 加热板和加热压盘以及数字全自动温控器(300°C) (GS15515)GS15633 Atlas™ 标准型薄膜制样套装2包括: 薄膜制样系统(GS15640)加热板和加热压盘以及数字温控器(300oC) (GS15515)15T手动液压机(GS15011)(对于GS15800,GS15631和GS15633，请指定220V或110V电压和使用的国家。)GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统套装包括: 高温薄膜制样系统(GS15800) 15T手动液压机(GS15011)(请指定220V或110V电压和使用的国家。)备件及耗材GS03800卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架(100张/盒)GS03805 用于固定易伸缩薄膜样品的尼龙卡簧(20)GS03810 10mm x 25mm 矩形通光孔Specacards (100)GS03820 磁性薄膜样品架 圆形通光孔直径25mmGS15627 直径为40mm的铝膜(200)GS15641 冷却盒 用于标准薄膜制样系统 替换GS15642 标准薄膜制样压盘套装GS15629 标准薄膜制样机可替换的垫圈组件GS15805 高温薄膜制样机可替换的垫圈组件

IPEXTM 840/860 PLD系列 脉冲激光沉积用准分子激光器Excimer Lasers for Pulsed Laser Deposition基于轻工机械最畅销的Ipex系列工业级准分子激光器，为PLD应用优化了激光器优秀的光束匀称性，脉冲到脉冲能量稳定和短脉冲持续时间在所有重复率能量恒定最长气体寿命和最低运行成本的ICONTM（在镍集成陶瓷）技术EasyClean自动光学密封，以保持填充气体，减少维护时停机时间高亮度镜头，适用于要求低光束发散或延长相干长度定制光束传输系统IPEX-840/860系列准分子激光器在脉冲激光沉积（PLD）领域展现了优异的性能、耐用性、可靠性和满足研究人员和系统集成商要求的易于集成性能。稳定性能得到可靠PLD结果：能量恒定IPEX-840/860系列激光器的指定脉冲能量从单脉冲到最大重复频率都是恒定的。这与其他有竞争力的激光器智能在地重复频率能量恒定和能量岁脉冲重复率上升而快速下降形成鲜明对比。LightMachinery的方法使PLD的工艺参数与激光重复率是一个恒量。恒定脉冲稳定性在PLD应用中，脉冲能量受一个先进的能量监视器监控，能够准确的调节放电电压和混合气体，在任何操作条件，包括PLD需要的突发脉冲，恒定输出能量。指向性恒定不变高稳定性使镜片座能够有200m-radian指向稳定性和光学维护后不需要调制光束角度光束质量稳定性IPEX-840/860系列激光器的光束强度分布被设计为边缘陡峭，顶部平坦，特别是激光管寿命的微小变化。PLD光束传输系统我们可以针对任何特定的PLD要求提供完整的激光传输系统规格设备电源： 单相，200-240V，20A，50/60Hz冷却水：5 litres/minute，5-20℃，40-60psig激光气体：预混合气，具体请联系我们

X射线透射显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在&ldquo 离轴&rdquo 状态工作（即薄膜与光束成一定角度）时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。 氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。 现在提供X-射线显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸 (4种标准规格): &bull 5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形) &bull 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm) &bull 10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形) 边框厚度： 200µ m、381µ m、525µ m。 Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm 我们也可以为用户定制产品（30-500nm），但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 透光度： 对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线（例如碳边吸收谱），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。 真空适用性： 真空适用性数据如下： 　 薄膜厚度 窗口面积 压力差 &ge 50 nm &le 1.0 x 1.0 mm 1 atm &ge 100 nm &le 1.5 x 1.5 mm 1 atm &ge 200 nm &le 2.5 x 2.5 mm 1 atm 表面平整度： 氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定（粗糙度小于1nm），对于X射线应用没有任何影响。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 同步辐射X射线（紫外或极紫外）透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。 2、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜（薄膜直接沉积在窗口上）。 3、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。 4、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 5、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 同步辐射X射线应用参考文献：PRL

《HJ1315-2023土壤和沉积物19种金属元素总量的测定 电感耦合等离子体质谱法》将于2024年6月1日正式实施。新标准中，使用微波消解法或电热消解法对样品进行消解，然后使用ICP-MS一次完成19种金属元素的同时测定，解决了土壤和沉积物中元素分析标准多、前处理方法复杂等问题。微波消解法称取0.1±0.0001g土壤样品于微波消解管中，沿内壁滴加少量试验用水润湿样品，依次加入9mL硝酸和3mL盐酸，加盖拧紧，将消解管放入微波消解仪中。参照下表升温程序进行微波消解。消解结束后冷却至室温。从微波消解仪中取出消解管，打开消解管盖子，在消解管中加入2mL氢氟酸，将消解管置于专用赶酸器上，140℃加热至内容物呈不流动的粘稠状态。取下稍冷，加入1mL高氯酸，180℃继续加热至白烟几乎冒尽，内容物呈粘稠状态。取下消解管冷却至室温，用2%硝酸溶液反复多次洗涤管内壁，洗涤液一并转入容量瓶中，用2%硝酸溶液定容至标线，混匀，待测。电热消解前处理称取0.1±0.0001g土壤样品于消解管中，依次加入10mL硝酸，5mL氢氟酸，2mL盐酸，1mL高氯酸，在石墨消解仪上加内盖，150℃加热3小时（可根据实际消解情况加长时间），升温至180℃，打开内盖进行赶酸，如有明显黑色不溶物时，需补加硝酸，继续180℃消解赶酸，待消解液呈粘稠不流动状态时，取下消解管冷却至室温，用2%硝酸溶液洗涤管壁，洗涤液一并转入容量瓶中，用2%硝酸溶液定容至标线，混匀，待测。

X-ray应用薄膜窗口（X-Ray Windows）有两种薄膜，低应力lpcvd氮化硅膜具很强机械强度，适合高温和差压环境；G-FLAT™ 氧化硅膜平坦无褶皱，非常适合x射线显微镜和需要无氮气背景的分析。这些薄膜窗口是X射线显微镜和x射线光谱学技术的理想衬底，经过等离子清洗，无有机污染。平坦、均匀沉积的薄膜具有低场到场可变性和高x射线透射性。G-FLAT™ 氧化硅膜窗口，适合生物成像研究，具有玻璃状亲水表面。外框硅材质，外框大小5*5mm，框厚310μm，膜厚度300nm。无褶皱，与超高真空(UHV)应用兼容。LPCVD氮化硅膜窗口，外框大小5*5mm，框厚320μm，200 MP 低应力无孔氮化硅。产品信息：货号产品描述窗口(Sq.)膜厚规格76042-10G-FLAT™ SiO X-Ray Window500μm100nm20/pk76042-11G-FLAT™ SiO X-Ray Window500μm300nm20/pk76042-12Silicon Nitride X-Ray Window500μm50nm20/pk76042-13Silicon Nitride X-Ray Window1000μm50nm20/pk76042-14Silicon Nitride X-Ray Window500μm100nm20/pk76042-15Silicon Nitride X-Ray Window1000μm100nm20/pk76042-16Silicon Nitride X-Ray Window1500μm200nm20/pk76042-17Silicon Nitride X-Ray Window2500μm200nm20/pk

TEM用氮化硅薄膜窗口氮化硅薄膜窗特点 低应力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撑膜：50nm厚的薄膜具有最大的视野范围；8nm和15nm厚的无孔氮化硅薄膜适用于TEM超高分辨率的应用 氮化硅支撑膜：低应力的LPCVD非化学计量比氮化硅薄膜，良好的平整度、绝缘性和疏水性良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡 均匀性：减少了不同区域的不均匀性 TEM断面成像应用的特殊窗口：适用于倾斜断层成像的0.5x1.5mm大窗口，倾斜度最大可达75° 多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm 可应用于多种显微技术：良好的机械稳定性使得同一种薄膜可应用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 薄膜和基底耐酸，不会被溶解：可以在酸性条件或常规条件下研究、制备样本 可应用于高温试验环境： 1000°C 可提供更对精确的分析，如样品中的碳含量，减少污染：可用于无碳环境中的TEM成像和分析 容易清洗：机械稳定性和化学稳定性使得薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量 良好的平整度：良好的纳米沉积基底和薄膜，无背景结构适合于SEM成像 超净加工，防止支撑膜上残留微粒：100级的超净间内包装 框架厚度：200 and 50μm ：200μm是标准的TEM支撑架；50μm是特殊的TEM支撑架 标准框架直径为3mm 同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性氮化硅薄膜窗规格单窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度20nm500x500μmΦ3mm100μm20/50nm500x500μmΦ3mm200μm50nm1000x1000μmΦ3mm200μm50nm100x100μmΦ3mm200μm15nm0.25x0.25mmΦ3mm200μm50nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm200nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm15/50/200nm0.25x0.25mmΦ3mm50μm50nm/200nm0.5x1.5mmΦ3mm50μm多窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm15nm/50nm/200nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm50μm10nm/20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm10nm3x3阵列，8个窗口250X250μm，1个窗口250X500μmΦ3mm100μm20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm200μm50nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm15nm/50nm/200nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm200μm50nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm50μm8nm单窗口，窗口大小：0.6×0.6mm；25个网格，氮化硅支撑膜200nm；网格上的氮化硅薄膜8nm；网格大小：75μm ，网格间距：25μm；Φ3mm200μm应用简介：1、适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。2、大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。3、无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。4、背景氮化硅无定形、无特征。5、耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。6、生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。7、耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。8、适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。详细资料请咨询：021-35359028/admin@instsun.com

布鲁斯特型薄膜偏振片材质BK7, UVFS直径/尺寸公差+0/-0.1 mm厚度公差±0.1 mm通光孔径90%表面质量20-10 S-D透射波前畸变（TWD）平行度误差消光比Tp / Ts200:1典型的传输Tp 95%典型的反射Rs 99.5%入射角Brewster angle激光损伤阈值报告www.altechna.com/lidt布鲁斯特薄膜偏振器用于高能量应用。它们的损伤阈值高达10 J /cm2@ 1064 nm，持续8 ns。布鲁斯特偏振器被用作Glan-Taylor激光偏振棱镜或立方偏振分束器的替代品。典型地，BK7或UVFS电介质涂布的布鲁斯特型薄膜偏振器将高能量激光束的s偏振分量和p偏振分量分开，并用于腔内和腔外的使用。典型的极化比Tp / Ts是200：1，在56°AOI（布鲁斯特角）下达到。为获得zui佳传输效果，布鲁斯特型薄膜偏振器应安装在适当的支架上进行角度调节。双波段或其他尺寸的薄膜偏振器可应要求提供。1）有效分离s偏振分量和p偏振分量2）针对流行的激光波长进行了优化3）许多布鲁斯特薄膜偏光片都可以从STOCK快速交货！Altechna在标准，定制或客户提供的光学器件上提供各种高性能光学镀膜。我们的涂料覆盖从深紫外（193纳米）到远红外（25微米）的波长范围，涂层的zui大部分是在波长范围内zui常见的266纳米到2微米的激光和照明光源。我们根据个人要求提供一套标准和定制涂料：?防反射涂层?高反射涂层?分束器涂层?部分反射涂层?偏光片涂层?过滤涂料?超快GDD补偿涂层?Gires-Tournois干涉镜（GTI）?可变反射镜?金属涂层在Altechna，我们的目标是以zui高的标准为不断增长的光子市场提供高损伤阈值，高质量涂层。每个涂层都是特殊的，多年来在光电领域，我们了解到灵活性是满足客户高要求的关键，因此我们的涂层采用不同的技术，分别选择不同的涂层。这里是我们在Altechna提供的涂层技术列表：?电子束蒸发?离子辅助沉积?离子束溅射?磁控溅射每种技术都是不同的，并根据光谱灵敏度，损伤阈值，硬度，表面质量等的要求使用。电子束蒸发离子辅助沉积离子束溅射磁控管溅射沉积速率10 ?/sec~10 ?/sec~3 ?/sec1-6 ?/sec每次涂布面积3000 cm23000 cm2500 cm22000 cm2导热系数LowMediumHighHigh涂层温度范围200 - 300°C20 - 100°C20 - 150°C20-100°C层数1-50~50200Up to 200密度和孔隙度PorousDenseNear bulkNear bulk粘连/耐久性LowGoodExcellentExcellent湿度敏感性YesYes, smallNoNo老化影响YesYes, smallNoNo内在应力~ 100MPaFew 100MPaFew 100 MPa尺寸，mm基底材料波长，nm产品编号?25.4 x 3UVFS795-805 (centered @ 800 nm)2-BFP-0800-0254?25.4 x 3UVFS780-820 (centered @ 800 nm)2-BFP-0800-A-025420 x 40 x 5UVFS7802-BFP-0780-204020 x 40 x 5UVFS780-820 (centered @ 800 nm)2-BFP-0800-A-204020 x 40 x 5UVFS795-805 (centered @ 800 nm)2-BFP-0800-2040?25.4 x 3BK715502-BFP-1550-0254?25.4 x 3UVFS3432-BFP-0343-0254?25.4 x 3UVFS1020-1040 (centered @ 1030 nm)2-BFP-1030-0254?25.4 x 3UVFS2662-BFP-0266-025420 x 40 x 5UVFS1020-1040 (centered @ 1030 nm)2-BFP-1030-204020 x 40 x 5UVFS3552-BFP-0355-2040?25.4 x 3UVFS5322-BFP-0532-0254?25.4 x 3UVFS10642-BFP-1064-025420 x 40 x 5UVFS2662-BFP-0266-204020 x 40 x 5UVFS5152-BFP-0515-2040?25.4 x 3UVFS7802-BFP-0780-0254?25.4 x 3UVFS4002-BFP-0400-025420 x 40 x 5UVFS4002-BFP-0400-204020 x 40 x 5BK715502-BFP-1550-204020 x 40 x 5UVFS5322-BFP-0532-204020 x 40 x 5UVFS10642-BFP-1064-204020 x 40 x 5UVFS3432-BFP-0343-2040?25.4 x 3UVFS3552-BFP-0355-0254?25.4 x 3UVFS5152-BFP-0515-0254定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用，请与我们联系，以便定制解决方案。

透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口产品概述： 与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时NTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。 现在可以提供透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸: &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：30 nm) &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm) 边框厚度： 200µ m、381µ m。 Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nm 可以为用户定制产品(30-200nm)，但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。技术指标：表面平整度： 我们认为薄膜与其下的硅片同样平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为：0.6-2nm。完全适用于TEM表征。 亲水性：该窗格呈疏水性，如果样品取自水悬浮液，悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理，可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试，但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格，但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。 2、 大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。 3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。 4、 背景氮化硅无定形、无特征。 5、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。 6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。。 7、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细请咨询：021-35359028/admin@instsun.com

薄膜分光镜Pellicle Beamsplitters第二表面反射不产生鬼像汇聚光束无色差光程长度无变化薄膜厚度 0.002mm通用规格基底:Nitrocellulose构造 :PellicleHousing:Black Anodized Aluminum折射率 nd:1.5表面质量:40-20薄膜分光器是非常纤薄的硝化纤维薄膜，胶合到重叠的铝质外框上，其特点是第二表面反射不产生鬼影。为方便系统集成，薄膜分光器在外框的反面提供安装孔。薄膜分光镜可抵御机械冲击或气候变化，但必须保护其不受灰尘和液体飞溅的影响，以免对薄膜造成损坏。备注：在处理时须额外小心。产品信息Dia. (mm)反射/透射比(R/T)波长范围(nm)DWL(nm)产品编码34.9033/67400 - 700-#39-48034.9040/40400 - 700-#39-47934.9050/50-632.8#39-48134.908/92400 - 2200-#39-47863.5033/67400 - 700-#39-48463.5040/40400 - 700-#39-48363.5050/50-632.8#39-48563.508/92400 - 2200-#39-48288.9033/67400 - 700-#39-48888.9040/40400 - 700-#39-48788.9050/50-632.8#39-48988.908/92400 - 2200-#39-486114.3033/67400 - 700-#39-492114.3040/40400 - 700-#39-491114.3050/50-632.8#39-493114.308/92400 - 2200-#39-490165.1033/67400 - 700-#39-500165.1040/40400 - 700-#39-499165.1050/50-632.8#39-501165.108/92400 - 2200-#39-498技术数据

TEM用纯Si薄膜窗 纯硅薄膜窗特点 纳米级厚度：薄膜厚度为5-15nm，比目前无定形碳薄膜窗口还薄，为高倍成像减少了背景干扰； 清洗：采用等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量； 均匀性：减少了不同区域的不均匀性； 稳定性：高电子束电流和退火温度下具有很好的稳定性(600℃ for non-porous, 1000℃ for nanoporous)； 减少污染：彩色污染仅为C膜的一半； 纳米孔：为纳米尺寸材料提供稳定的成像，无背景干扰； Si成分：溅镀沉积、纯的Si； 最小的背景信号：可对含Ni或C样品进行元素分析； 纯硅薄膜窗规格 单窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度5nm25x25μmΦ3mm100μm30nm500x500μm纳米孔10-60nmΦ3mm100μm多窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度5nm2x1阵列，50X1500μmΦ3mm100μm9nm/15nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm100μm5nm2x1阵列，100X100μmΦ3mm200μm9nm/15nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm5nm3x3阵列，8个窗口50X50μm，1个窗口50X100μmΦ3mm100μm5nm/9nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm9nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm200μm15nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm30nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μm；纳米孔10-60nmΦ3mm100μm15nm3x3阵列，窗口100X100μmΦ3mm200μm详细资料请咨询：021-35359028/admin@instsun.com

薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪介绍：LQJ211万能材料试验机有着超大数显控制系统-为主机曲线、力值、速度和变形动态显示，加上电脑可实现微机操作，参数随意设定，可以做不同材料30KN以内的拉伸、压缩、弯曲、剥离、撕裂、剪切、刺破、低调疲劳等多项力学试验.可根据国际标准ISO.JIS.ASTM.DIN等国际标准和国外标准进行试验和提供数据.以windows操作系统使试验数据曲线动态显示,试验数据可以任意删加,对曲线操作更加简便.轻松.随时随地都可以进行曲线遍历.叠加.分离.缩放.打印等全电子显示监控. 薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪技术参数 Main specifications 1、最大负荷Load Accuracy： 30KN（任意选） 2、荷重元精度Load Accuracy： 0.01% 3、测试精度Measuring accuracy： 4、操作方式Control： 全电脑控制,windows模式操作 5、有效试验宽度Valid width： 约420mm 6、有效拉伸空间Stroke： 约800mm 7、试验速度Tetxing speed : 0.001~500mm/min 8、速度精度 Speed Accuracy：: ± 0.5%以内； 9、位移测量精度Stroke Accuracy： ± 0.5%以内； 10、变形测量精度Displacement Accuracy： ± 0.5%以内 11、安全装置 Safety device： 电子限位保护，紧急停止键 Safeguard stroke 12、机台重量Main Unit Weight ： 约140kg

产品名称：氮化铝(AlN)薄膜产品简介：AllNEpitxial范本saphhire提出了氢化物气相外延（HVPE）的方法。氮化铝薄膜又是成本效益的方法，用来取代氮化铝单晶衬底。科晶真诚欢迎您的垂询！技术参数：尺寸dia50.8mm±1mm蓝宝石衬底取向c轴（0001)±1.0deg衬底：Al2O3 SiC GaN薄膜厚度：10-5000nm导电类型：半绝缘型位错密度：XRDFWHMof80%抛光：单抛光产品规格：氮化铝(蓝宝石衬底)：dia2"*1500nm±10%注：可根据客户需求定制特殊的方向和尺寸。标准包装：1000级超净室，100级超净袋或单片盒封装

559粘合薄膜是理想的粘结硅片，铝 或者玻璃等样品的薄膜状粘合剂。 使用时无需加热，只需将薄膜的衬 底撕下使胶层露出，将样品按压在 胶层上即可。只需使用丙酮或者丁 酮将胶与样品脱离。

宽带（超快）薄膜偏振片材质BK7, UVFS直径/尺寸公差+0/-0.1 mm厚度公差±0.1 mm通光孔径90%表面质量20-10 S-D透射波前畸变入射角72° (±2°)平行度误差激光损伤阈值报告www.altechna.com/lidt宽带偏振片的zui佳工作角是AOI = 72°（±2°）。我们提供4种宽带（超快）薄膜偏振器。偏振器通过传输p偏振和反射s偏振光束分量来工作。透射偏光器 - 在输入面上具有偏光涂层，而输出面是用于p偏振的增透膜。它们可以针对p极化的zui高透射率Tp 94％进行优化，或者用于极化的zui佳对比度。反射偏振器 - 在输入面上具有偏振涂层，而输出面是AR涂层，用于s和p偏振。它们可以被优化用于s极化Rs 98％的zui高反射或者用于极化Rs：Rp 60：1的zui佳对比。此外，偏振片的AR涂层侧具有楔形以使重影zui小化。标准的薄膜偏振器设计用于750 - 850 nm或980 - 1090 nm范围内的zui佳性能。自定义波长范围的设计也是可用的。1）有效地分离s和p偏振分量2）许多宽带（超快）薄膜偏振器可从STOCK以快速交货获得3）尺寸可达160x50毫米4）针对流行的激光波长进行了优化Altechna在标准，定制或客户提供的光学器件上提供各种高性能光学镀膜。我们的涂料覆盖从深紫外（193纳米）到远红外（25微米）的波长范围，涂层的zui大部分是在波长范围内zui常见的266纳米到2微米的激光和照明光源。我们根据个人要求提供一套标准和定制涂料：?防反射涂层?高反射涂层?分束器涂层?部分反射涂层?偏光片涂层?过滤涂料?超快GDD补偿涂层?Gires-Tournois干涉镜（GTI）?可变反射镜?金属涂层在Altechna，我们的目标是以zui高的标准为不断增长的光子市场提供高损伤阈值，高质量涂层。每个涂层都是特殊的，多年来在光电领域，我们了解到灵活性是满足客户高要求的关键，因此我们的涂层采用不同的技术，分别选择不同的涂层。这里是我们在Altechna提供的涂层技术列表：?电子束蒸发?离子辅助沉积?离子束溅射?磁控溅射每种技术都是不同的，并根据光谱灵敏度，损伤阈值，硬度，表面质量等的要求使用。电子束蒸发离子辅助沉积离子束溅射磁控管溅射沉积速率10 ?/sec~10 ?/sec~3 ?/sec1-6 ?/sec每次涂布面积3000 cm23000 cm2500 cm22000 cm2导热系数LowMediumHighHigh涂层温度范围200 - 300°C20 - 100°C20 - 150°C20-100°C层数1-50~50200Up to 200密度和孔隙度PorousDenseNear bulkNear bulk粘连/耐久性LowGoodExcellentExcellent湿度敏感性YesYes, smallNoNo老化影响YesYes, smallNoNo内在应力~ 100MPaFew 100MPaFew 100 MPa波长，nm消光比透射/反射，％尺寸，mm优化产品编号750 - 850 (centered@800nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 50 x 160 x 5Contrast2-UFP-0800-5016-T2750 - 850 (centered@800nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 50 x 160 x 5Tp2-UFP-0800-5016-T1980 - 1090 (centered@1030nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 50 x 160 x 5Contrast2-UFP-1030-5016-T2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts ?25.4 x 3Tp2-UFP-1030-0254-T1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 50 x 160 x 5Tp2-UFP-1030-5016-T1750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 50 x 160 x 10Rs2-UFP-0800-5016-R1750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp50:1Rs 85%, Rp 50 x 160 x 10Contrast2-UFP-0800-5016-R2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 50 x 160 x 10Rs2-UFP-1030-5016-R1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp50:1Rs 85%, Rp 50 x 160 x 10Contrast2-UFP-1030-5016-R2750 - 850 (centered @ 800nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 40 x 120 x 5Contrast2-UFP-0800-4012-T2750 - 850 (centered @ 800nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 40 x 120 x 5Tp2-UFP-0800-4012-T1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 40 x 120 x 5Contrast2-UFP-1030-4012-T2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 40 x 120 x 5Tp2-UFP-1030-4012-T1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 40 x 120 x 10Rs2-UFP-1030-4012-R1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp50:1Rs 85%, Rp 40 x 120 x 10Contrast2-UFP-1030-4012-R2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 20 x 60 x 2Tp2-UFP-1030-2060-T1750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp50:1Rs 85%, Rp 40 x 120 x 10Contrast2-UFP-0800-4012-R2750 - 850 (centered @ 800nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts ?25.4 x 3Tp2-UFP-0800-0254-T1750 - 850 (centered @ 800nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 20 x 60 x 2Contrast2-UFP-0800-2060-T2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20 x 60 x 5Rs2-UFP-1030-2060-R1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts 20 x 60 x 2Contrast2-UFP-1030-2060-T2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp ?25.4 x 3Rs2-UFP-1030-0254-R1750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp60:1Rs 85%, Rp 20 x 60 x 5Contrast2-UFP-0800-2060-R2750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 40 x 120 x 10Rs2-UFP-0800-4012-R1750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp60:1Rs 85%, Rp ?25.4 x 3Contrast2-UFP-0800-0254-R2750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp 20 x 60 x 5Rs2-UFP-0800-2060-R1750 - 850 (centered @ 800nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts ?25.4 x 3Contrast2-UFP-0800-0254-T2750 - 850 (centered @ 800nm)Tp/Ts9:1Tp 94%, Ts 20 x 60 x 2Tp2-UFP-0800-2060-T1750 - 850 (centered @ 800nm)Rs/Rp5:1Rs 98%, Rp ?25.4 x 3Rs2-UFP-0800-0254-R1980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp60:1Rs 85%, Rp 20 x 60 x 5Contrast2-UFP-1030-2060-R2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Rs/Rp60:1Rs 85%, Rp ?25.4 x 3Contrast2-UFP-1030-0254-R2980 - 1090 (centered @ 1030nm)Tp/Ts20:1Tp 85%, Ts ?25.4 x 3Contrast2-UFP-1030-0254-T2定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用，请与我们联系，以便定制解决方案。

高对比度45°薄膜偏振片基底材料UVFS直径公差+0/-0.1 mm厚度公差±0.1 mm通光孔径90%表面质量20-10 S-D透射波前畸变（TWD）平行度误差入射角45°激光损伤阈值报告www.altechna.com/lidt这些高对比度薄膜偏振器（TFP）采用先进的离子束溅射（IBS）涂层技术制造而成。 UVFS电介质涂层的高对比度薄膜偏振器将高能量激光束的s偏振分量和p偏振分量分开。由于非常低的损耗，它们非常适合内腔和外腔使用。这些偏振器的典型偏振比远高于1000：1（Tp：Ts）。为获得zui佳性能，应将高对比度薄膜偏振器安装在适当的支架上，并进行角度调整。1）使用IBS技术制造2）Tp：Ts 1000：13）高Tp，低吸收和散射4）由于涂层的孔隙率可忽略不计，所以没有老化效应Altechna在标准，定制或客户提供的光学器件上提供各种高性能光学镀膜。我们的涂料覆盖从深紫外（193纳米）到远红外（25微米）的波长范围，涂层的zui大部分是在波长范围内zui常见的266纳米到2微米的激光和照明光源。我们根据个人要求提供一套标准和定制涂料：?防反射涂层?高反射涂层?分束器涂层?部分反射涂层?偏光片涂层?过滤涂料?超快GDD补偿涂层?Gires-Tournois干涉镜（GTI）?可变反射镜?金属涂层在Altechna，我们的目标是以zui高的标准为不断增长的光子市场提供高损伤阈值，高质量涂层。每个涂层都是特殊的，多年来在光电领域，我们了解到灵活性是满足客户高要求的关键，因此我们的涂层采用不同的技术，分别选择不同的涂层。这里是我们在Altechna提供的涂层技术列表：?电子束蒸发?离子辅助沉积?离子束溅射?磁控溅射每种技术都是不同的，并根据光谱灵敏度，损伤阈值，硬度，表面质量等的要求使用。电子束蒸发离子辅助沉积离子束溅射磁控管溅射沉积速率10 ?/sec~10 ?/sec~3 ?/sec1-6 ?/sec每次涂布面积3000 cm23000 cm2500 cm22000 cm2导热系数LowMediumHighHigh涂层温度范围200 - 300°C20 - 100°C20 - 150°C20-100°C层数1-50~50200Up to 200密度和孔隙度PorousDenseNear bulkNear bulk粘连/耐久性LowGoodExcellentExcellent湿度敏感性YesYes, smallNoNo老化影响YesYes, smallNoNo内在应力~ 100MPaFew 100MPaFew 100 MPaCoating codeCotaing typeAOILIDT2-HCTFP-1030-204055.4 deg4.28 J/cm2 (p-pol) 8.34 J/cm2 (s-pol) @1030nm 11.1ps 10 Hz免责声明激光诱导损伤阈值（LIDT）测量是在Altechna生产的实际部件上进行的。 单个组件的LIDT取决于多个参数（基材，抛光批次，涂料批次，储存条件等）。 以上各个部件达到的损伤阈值仅供参考，但并不能保证所有的光学元件。 Altechna可根据要求进行涂层损伤阈值测试服务。尺寸，mm传输p-pol传输s-pol波长，nm涂层反射GDD（s-偏振）涂层透射GDD（p偏振光）消光TP / TSLIDT产品编号10 x 20 x 598%400GDD GDD 1000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0400-102010 x 20 x 599%515GDD GDD 1000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0515-102010 x 20 x 599%800GDD GDD 1000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0800-1020?25.4 x 598%400GDD GDD 1000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0400-025420 x 40 x 599%1064500:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCPBTFP-1064-204010 x 20 x 599%1030GDD GDD 1000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1030-102020 x 40 x 597%355GDD GDD 1000:12 J/cm2 @ 355 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0355-2040?25.4 x 599%800GDD GDD 1000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0800-025420 x 40 x 598%400GDD GDD 1000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0400-204020 x 40 x 597%343GDD GDD 1000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0343-2040?25.4 x 597%343GDD GDD 1000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0343-025410 x 20 x 599%1064GDD GDD 1000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1064-102020 x 40 x 599%515GDD GDD 1000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0515-204020 x 40 x 599%5321000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0532-2040?25.4 x 599%1030GDD GDD 1000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1030-0254?25.4 x 599%532GDD GDD 1000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0532-025420 x 40 x 599%800GDD GDD 1000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0800-204020 x 40 x 599%1064GDD GDD 1000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1064-204020 x 40 x 599%1030GDD GDD 1000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1030-204010 x 20 x 599%5321000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0532-102010 x 20 x 597%355GDD GDD 1000:12 J/cm2 @ 355 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0355-1020?25.4 x 599%1064GDD GDD 1000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1064-0254?25.4 x 599%515GDD GDD 1000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0515-0254?25.4 x 597%355GDD GDD 1000:12 J/cm2 @ 355 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0355-025410 x 20 x 597%343GDD GDD 1000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0343-1020定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用，请与我们联系，以便定制解决方案。

薄膜溶解测量仪用于实时监测薄膜在液体过程中的薄膜厚度和光学常量（n, k)的变化，是全球领先的薄膜溶解测量仪和薄膜溶解测试仪。为了这种特色的测量，孚光精仪公司特意为薄膜溶解测量仪研发了Teflon样品池用于测量薄膜样品，使用一种岔头探针水平安装在Teflon 样品池的外部，距离玻璃窗口非常接近，使用白光反射光谱技术（WLRS)，实时测量薄膜厚度和折射率，并通过专业软件记录下这些数据。另外，根据需要，我们还能够在测量区域下安装搅拌装置stirrer，提供力学激励振动。孚光精仪还特意为薄膜溶解测量仪提供垂直的样品夹具，以固定小尺寸的硅样品或3' ' ，4' ' 直径的Si 晶圆。根据溶解过程的不同，如溶解速度的不同，它能够以实时或离线的方式测量，反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。还能够测量几十个纳米厚度的光致抗蚀剂和聚合物薄膜堆的溶解过程，而且还可以测量薄膜的膨胀等特殊现象。对于薄膜厚度的测量，薄膜溶解测厚仪需要光滑，具有反射性的衬底，对于光学常数测量，平整的反射衬底即可满足测量需要。如果衬底是透明的，衬底的背面不能具有反射性。能够给出两个参数：例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量，已经成功应用于测量反射衬底（Si晶圆）上各种光滑，透明或轻度吸收薄膜的溶解过程，可研究的薄膜包括SiO2薄膜,SiNx薄膜,光致抗蚀剂薄膜，聚合物薄膜层等。薄膜溶解测量仪参数 可测膜厚： 5nm-150微米；波长范围：200-1100nm 精度：0.5% 分辨率：0.02nm 测量点光斑大小：0.5mm可测样品大小：10-100mm计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：360x400x180mm重量：15kg 电力要求：110/230VAC薄膜溶解测量仪应用：聚合物薄膜光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量，传感测量光电子薄膜结构测量 在线测量光学镀膜测量能够以实时或离线的方式测量，反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。

满足GB 17378.5-2007 海洋监测规范第5部分沉积物分析

用途：用于对河底淤泥或者沉积物进行分层采样，标准采样深度为3米，最短采样长度约为30厘米，可以分3层，用户可以额外选配分层采样器附管，来增加采样长度。特点：采集淤泥样品，可连续采样连接杆标配三米，其他长度可订制。取样管标配0.9米，其他长度可订制。包含采集淤泥所需全套部件滑动锤取样时更轻松。含便携箱，携带方便。技术规格：序号名称描述数量1取样管直径5.2CM、SUS304不锈钢材质、螺纹连接3件2滑动锤重量8 lb、优质碳素钢材质、螺纹连接1件3重型十字手柄优质碳素钢材质、配有橡塑手柄、十字头可拆卸（可连接滑动锤，也可直接用吸能锤敲击）1件4采样器头I带阀门，SUS304不锈钢材质、螺纹连接1件5采样器头IISUS304不锈钢材质、螺纹连接1件6连接杆长1米、每10CM处有刻度、SUS304不锈钢材质、螺纹连接3件7.取样衬筒直径4.4CM、PC透明管，长度：12”2支、24”1支、36”1支4件8衬筒管盖尼龙材质8件9手套防滑、防水、棉布内衬1副10活动扳手12英寸、带防滑手柄2件11清洁刷尼龙1件12卷尺5米1件13皮带扳手长22.5CM1件14豪华便携箱内带防震海绵、ABS材质1件产地：中国

高对比度布鲁斯特型薄膜偏振片基底材料UVFS直径公差+0/-0.1 mm厚度公差±0.1 mm通光孔径90%表面质量20-10 S-D透射波前畸变（TWD）平行度误差入射角Brewster angle激光损伤阈值报告www.altechna.com/lidt这些高对比度薄膜偏振器（TFP）采用先进的离子束溅射（IBS）涂层技术制造而成。 UVFS电介质涂层的高对比度薄膜偏振器将高能量激光束的s偏振分量和p偏振分量分开。由于非常低的损耗，它们非常适合内腔和外腔使用。这些偏振器的典型偏振比远高于1000：1（Tp：Ts）。为获得zui佳性能，应将高对比度薄膜偏振器安装在适当的支架上，并进行角度调整。1）使用IBS技术制造2）Tp：Ts 1000：13）高Tp，低吸收和散射4）由于涂层的孔隙率可忽略不计，所以没有老化效应Altechna在标准，定制或客户提供的光学器件上提供各种高性能光学镀膜。我们的涂料覆盖从深紫外（193纳米）到远红外（25微米）的波长范围，涂层的zui大部分是在波长范围内zui常见的266纳米到2微米的激光和照明光源。我们根据个人要求提供一套标准和定制涂料：?防反射涂层?高反射涂层?分束器涂层?部分反射涂层?偏光片涂层?过滤涂料?超快GDD补偿涂层?Gires-Tournois干涉镜（GTI）?可变反射镜?金属涂层在Altechna，我们的目标是以zui高的标准为不断增长的光子市场提供高损伤阈值，高质量涂层。每个涂层都是特殊的，多年来在光电领域，我们了解到灵活性是满足客户高要求的关键，因此我们的涂层采用不同的技术，分别选择不同的涂层。这里是我们在Altechna提供的涂层技术列表：?电子束蒸发?离子辅助沉积?离子束溅射?磁控溅射每种技术都是不同的，并根据光谱灵敏度，损伤阈值，硬度，表面质量等的要求使用。电子束蒸发离子辅助沉积离子束溅射磁控管溅射沉积速率10 ?/sec~10 ?/sec~3 ?/sec1-6 ?/sec每次涂布面积3000 cm23000 cm2500 cm22000 cm2导热系数LowMediumHighHigh涂层温度范围200 - 300°C20 - 100°C20 - 150°C20-100°C层数1-50~50200Up to 200密度和孔隙度PorousDenseNear bulkNear bulk粘连/耐久性LowGoodExcellentExcellent湿度敏感性YesYes, smallNoNo老化影响YesYes, smallNoNo内在应力~ 100MPaFew 100MPaFew 100 MPa免责声明激光诱导损伤阈值（LIDT）测量是在Altechna生产的实际部件上进行的。 单个组件的LIDT取决于多个参数（基材，抛光批次，涂料批次，储存条件等）。 以上各个部件达到的损伤阈值仅供参考，但并不能保证所有的光学元件。 Altechna可根据要求进行涂层损伤阈值测试服务。尺寸，mm传输p-pol传输s-pol波长，nm涂层反射GDD（s-偏振）涂层透射GDD（p偏振光）消光TP / TSLIDT产品编号10 x 20 x 598%400GDD GDD 1000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0400-102010 x 20 x 599%515GDD GDD 1000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0515-102010 x 20 x 599%800GDD GDD 1000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0800-1020?25.4 x 598%400GDD GDD 1000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0400-025420 x 40 x 599%1064500:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCPBTFP-1064-204010 x 20 x 599%1030GDD GDD 1000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1030-102020 x 40 x 597%355GDD GDD 1000:12 J/cm2 @ 355 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0355-2040?25.4 x 599%800GDD GDD 1000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0800-025420 x 40 x 598%400GDD GDD 1000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0400-204020 x 40 x 597%343GDD GDD 1000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0343-2040?25.4 x 597%343GDD GDD 1000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0343-025410 x 20 x 599%1064GDD GDD 1000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1064-102020 x 40 x 599%515GDD GDD 1000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0515-204020 x 40 x 599%5321000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0532-2040?25.4 x 599%1030GDD GDD 1000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1030-0254?25.4 x 599%532GDD GDD 1000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0532-025420 x 40 x 599%800GDD GDD 1000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0800-204020 x 40 x 599%1064GDD GDD 1000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1064-204020 x 40 x 599%1030GDD GDD 1000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1030-204010 x 20 x 599%5321000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0532-102010 x 20 x 597%355GDD GDD 1000:12 J/cm2 @ 355 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0355-1020?25.4 x 599%1064GDD GDD 1000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-1064-0254?25.4 x 599%515GDD GDD 1000:110 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0515-0254?25.4 x 597%355GDD GDD 1000:12 J/cm2 @ 355 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0355-025410 x 20 x 597%343GDD GDD 1000:13 J/cm2 @ 1064 nm 10 ns 10 Hz2-HCBTFP-0343-1020定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用，请与我们联系，以便定制解决方案。

试验机薄膜夹具特点： 适用范围：纸张、薄膜等拉力试验

金刚石研磨片 金刚石研磨片由精密的分级金刚石组成，统一的聚脂薄膜衬背。它可长久良好的研磨性，并且适应原料种类或硬度的变化。它试用于未封装的横截面，TEM截面/平面观察用抛光，背部抛光，以及用来减薄pre-FIB 样品。ALLIED独特的色码包装可以方便快捷的识别产品的微米级。

红外 (IR) 薄膜分束器Ø3 - 5µm 的平均 R/T 比为 45/55Ø没有来自第二表面反射的重影Ø消除光束位移Ø还提供用于 VIS-NIR 的薄膜分束器红外 (IR) 薄膜分束器采用安装在铝制框架中的薄硝化纤维素分束膜，设计为具有 3 - 5µm 的 45R/55T 分束比。 薄硝酸纤维素膜消除了第二表面反射和光束位移，同时最大限度地减少了光路长度的变化。 铝制框架在框架下侧具有安装孔，便于安装和集成到 OEM 系统中。红外 (IR) 薄膜分束器是 MWIR 应用的理想选择，包括 MWIR 成像、红外光谱、火焰检测和红外探测器的一般用途。注意：这些分束器的硝化纤维膜非常薄且易碎。 不得接触膜，只能使用空气进行清洁。 我们建议使用鼓风机，因为来自压缩空气的力可能会损坏膜。通用规格基材:Nitrocellulose反射/透射比 (R/T):45/55波长范围 (nm):3000 - 5000镀膜:Dielectric镀膜规格:45/55 @ 3000 - 5000nm构造 :Pellicle外壳:Black Anodized Aluminum折射率 nd:1.5表面质量:40-20厚度 (μm):2 +0.3/-0.2产品型号Dia. (mm)CA (mm)产品编码19.0512.7#19-28034.9025.4#19-28163.5050.8#19-28288.9076.2#19-283114.30101.6#19-284165.10152.4#19-285技术数据低损耗 IBS 镀膜激光偏振器Ø1064nm Nd:YAG 设计波长Ø在 45° AOI 具有 10,000:1 的高消光比Ø低损耗离子束溅射 (IBS) 镀膜Ø采用 10-5 表面质量的 UV 熔融石英基片低损耗 IBS 镀膜激光偏振器用于传输 p 偏振光，同时反射 s 偏振光，消光比高达 10000:1。这些偏振器具有离子束溅射 (IBS) 镀膜，设计用于在 45° 入射角下实现最佳的低损耗性能。它们由紫外熔融石英基片制成，与高功率激光器一起使用时可将热效应降至低，并且具有 10-5 的激光级表面质量。低损耗 IBS 涂层薄膜激光偏振器非常适合与 1064nm Nd:YAG 激光器一起使用，以分离或组合 s 偏振和 p 偏振激光。如果您的应用需要具有定制尺寸、镀膜或其他激光应用要求的低损耗 IBS镀膜激光偏振器，请与我们联系。注意：这些光学元件边缘上的箭头指向薄膜偏振片镀膜。产品型号DWL (nm)消光比CA (mm)表面质量Dia. (mm)厚度 (mm)产品编码106410,000:12010-525.406.35#16-747爱特蒙特光学® F-Theta 透镜Ø激光扫描应用的理想选择Ø扫描场上的衍射受限，波前误差低Ø长工作距离和大扫描区域Ø还提供振镜、扩束器和激光源Edmund Optics® F-Theta 透镜旨在在扫描系统的图像平面提供平场，并与检流计、扩束器和激光源结合使用。 这些 F-Theta 透镜具有紧凑的外形，提供高达 273 毫米的各种焦距和高达 164 毫米 (X) x 164 毫米 (Y) 的大扫描场。 这些透镜针对常见的光纤激光源和 Nd:YAG 基波或二次谐波进行了优化，设计波长为 532nm 和 1064nm，具有通用安装螺纹，可轻松集成到振镜系统中。 爱特蒙特光学® F-Theta 透镜是用于激光扫描和激光加工应用（包括激光打标、雕刻、切割、钻孔和 3D 建模）的经济高效的解决方案。产品型号DWL (nm)扫描角 (°)扫描场 (mm)类型WD (mm)产品编码532±22.6856.5 x 56.5F-Theta Lens94.5#15-185532±25.00101.8 x 101.8F-Theta Lens193.5#15-1861064±18.6035.4 x 35.4F-Theta Lens72.1#15-1781064±22.6856.5 x 56.5F-Theta Lens107.9#15-1791064±22.6286.0 x 86.0F-Theta Lens171.2#15-1801064±28.50116.2 x 116.2F-Theta Lens188.1#15-1811064±25.00157.0 x 157.0F-Theta Lens304.6#15-1821064±24.10164.0 x 164.0F-Theta Lens313.0#15-183光散射膜Ø散射 UV 到 NIR 范围的照明光线Ø柔性聚合物基片Ø易于根据尺寸进行切割Ø另外提供玻璃散射片L光散射膜由 TAC 聚合物材料制成，可对 UV 到 NIR 范围的照明光线提供散射。可以轻松地根据尺寸对这种薄膜进行切割，以满足应用要求，可以使用轻松地根据尺寸对这种薄膜进行切割，以满足应用要求，可以使用光学胶粘剂将其粘附到玻璃表面。光散射膜非常适用于机器视觉、视觉检测和自动检测应用，以散射LED 光源，从而产生无热点的均匀照明。若您的应用需要自定义尺寸的光散射膜，或需要将光散射膜层压到光学组件（例如光学窗口片、有色玻璃和聚合物偏振片）上，请联系我们。通用规格涂层:Uncoated厚度 (mm):0.13 ±0.005波长范围 (nm):300 - 1100注意:Protective film on both surfaces should be removed before use产品型号涂层尺寸 (mm)产品编码Uncoated100 x 100#17-683Uncoated300 x 300#17-682技术数据E 系列无边缘运动光学反射镜安装座Ø用于安装分光镜和透射式光学元件的 120° 无边缘Ø价格实惠Ø对实验和 OEM 系统不可或缺的安装座E 系列无边缘运动光学反射镜安装座可提供许多对于研发、原型制造和系统集成领域的应用而言不可或缺的功能。这些安装座具有 120° 切口，非常适用于安装分光镜和透射式光学元件，若以 45° 角安装，还能容纳更宽的光束路径。两个 M6 x 0.25 (101.6 TPI) 调节螺丝可提供平稳的移动，可以通过手或内六角扳手（扳手大小 2mm）驱动，以实现翻转和倾斜的光学调整与对齐 (±3.5°)。可以拆卸调节螺丝旋钮，从而使外形更紧凑。E 系列无边缘运动光学反射镜安装座具有安装孔，这些孔是埋头孔（设计目的为容纳 M4 或 8-32 安装硬件）和 M6 x 1.0 内螺纹孔（用于提高安装的多用性，以及与TECHSPEC® 公制不锈钢安装接杆和底座接杆的直接兼容性）。通用规格光学类型:Circular调节螺丝数目:2构造 :Aluminum Plates, Stainless Steel Screws, and Brass Thread BushingsMin. Thickness of Compatible Optics (mm):2微倾斜角度 (°) :±3.5微翻转角度 (°) :±3.5调节螺丝螺距 (mm):0.25Compatible Post:M6 x 1.0, M4 x 0.7, 8-32产品型号兼容光学大小 (mm)Optical Axis Height产品编码12.5/12.725.40#17-27825/25.425.40#17-27950/50.838.10#17-280

牛津仪器 X-荧光分析专用薄膜产品名称：X-荧光分析专用薄膜英文名称：XRF Sample Films型号规格：54-L72/74/77/78品牌：Oxford Instruments详细信息：X-荧光分析专用薄膜，一卷100米，用于样品杯（请注意薄膜类型）。牛津仪器 样品杯内衬产品名称：样品杯内衬英文名称：Disposable inners and lids for sample cup型号规格：54-CK100品牌：Oxford Instruments详细信息：附有盖子的塑料样品杯，用于牛津仪器LAB-X & TWIN-X & X-Supreme仪器上，一盒100个

该产品是由聚酰亚胺复合硅酮胶制作，揭取后样品上不会残留聚合物胶体，主要用于在高温或低温处理时保护样品，在真空沉积过程中起到掩膜作或在低温冷冻方面其定位作用。

目标应用： 半导体薄膜（光刻胶） 玻璃减反膜测量 蓝宝石薄膜（光刻胶） ITO薄膜 太阳能薄膜玻璃 各种衬底上的各种膜厚 卷对卷柔性涂布 颜色测量 车灯镀膜厚度 其他需要测量膜厚的场合 阳极氧化厚度产品型号A3-SR-100 产品尺寸 W270*D217*（H90+H140）测试支架（配手动150X150毫米测量平台和硅片托盘）测试方式可见光,反射 波长范围380-1050纳米光源钨卤素灯(寿命10000小时) 光路和传感器光纤式(FILBER )+进口光谱仪 入射角0 度 (垂直入射) (0 DEGREE) 参考光样品硅片光斑大小LIGHT SPOTAbout 1 mm（标配，可以根据用户要求配置）样品大小SAMPLE SIZE150mm,配150X150毫米行程的工作台和6英寸硅片托盘 膜厚测量性能指标（THICKNESS SPECIFICATION）：产品型号A3-SR-100厚度测量 1Thickness15 nm - 100 um 折射率 1（厚度要求）N 100nm and up准确性 2 Accuracy 2 nm 或0. 5%精度 3precision0.1 nm1表内为典型数值, 实际上材料和待测结构也会影响性能2 使用硅片上的二氧化硅测量，实际上材料和待测结构也会影响性能3 使用硅片上的二氧化硅（500纳米）测量30次得出的1阶标准均方差,每次测量小于1秒.