场发射扫描电子显微镜

2020年5月25日日本电子株式会社全球同步发布新款场发射扫描电子显微镜JSM-IT800系列。 JSM-IT800的场发射扫描电镜通用性强，可广泛应用于纳米材料、金属材料、半导体材料、化学化工、医学及生物学领域，可高效观察包括非导体样品及强磁性样品等。 JSM-IT800SHL分辨率可达0.5nm,成像能力强大。浸没式电子枪可提供500nA大电流，EDS和EBSD分析速度极快。 另外JSM-IT800系列还搭载了众多全新研发的电子光学技术，自动化程度极高。详情请咨询捷欧路（北京）科贸有限公司及其各地分公司。

GeminiSEM 系列产品高对比度、低电压成像的场发射扫描电子显微镜为对任意样品进行高水准的成像和分析而生蔡司GeminiSEM 系列产品具有出色的探测效率，能够轻松地实现亚纳米分辨成像。无论是在高真空还是在可变压力模式下，更高的表面细节信息灵敏度让您在对任意样品进行成像和分析时都具备更佳的灵活性，为您在材料科学研究、生命科学研究、工业实验室或是显微成像平台中获取各种类型样品在微观世界中清晰、真实的图像，提供灵活、可靠的场发射扫描电子显微镜技术和方案。GeminiSEM 500 具有出色的分辨率，在较低的加速电压下仍可呈现给您更强的信号和更丰富的细节信息，其创新设计的NanoVP可变压力模式，甚至让您在使用时拥有在高真空模式下工作的感觉；更强的信号，更丰富的细节GeminiSEM 500 为您呈现任意样品表面更强的信号和更丰富的细节信息，尤其在低的加速电压下，在避免样品损伤的同时快速地获取更高清晰度的图像。经优化和增强的Inlens探测器可高效地采集信号，助您快速地获取清晰的图像，并使样品损伤降至更低；在低电压下拥有更高的信噪比和更高的衬度，二次电子图像分辨率1 kV达0.9nm，500 V达1.0 nm，无需样品台减速即可进行高质量的低电压成像，为您呈现任意样品在纳米尺度上更丰富的细节信息；应用样品台减速技术-（Tandem decel），可在1 kV下获得高达0.8nm二次电子图像分辨率；创新设计的可变压力模式-NanoVP技术，让您拥有身处在高真空模式下工作的感觉。洞察产品背后的科技Gemini电子光学系统Gemini 1类型镜筒 -延续创新和发展如今，扫描电子显微镜（SEM）在低电压下的高分辨成像能力，已成为其在各项应用领域中的标准配置。低电压下的高分辨率成像能力，在以下应用领域中扮演着尤为重要的角色：电子束敏感样品不导电样品获取样品极表面的真实形貌信息Gemini的革新电子光学设计，应用高分辨率电子枪模式、Nano-twin lens物镜(GeminiSEM 500)、以及Tandem decel样品台减速技术（选配），有效提高了在低电压时的信号采集效率和图像衬度。高分辨率电子枪模式：缩小30%的出射电子束能量展宽，有效地降低像差；获得更小的束斑。Nano-twin lens物镜： 优化静电场和磁场的复合功效，在低电压下具有的更高的分辨率； 提高镜筒内Inlens探测器在低电压下的信号采集效率。Tandem decel样品台减速技术，进一步提高对适用样品在低电压甚至极低电压下的分辨率：Tandem decel减速技术将镜筒内减速和样品台偏压减速技术相结合，有效地实现低着陆电压；使用1 kV及以下更低电压时，镜筒内背散射探测器的检测效率获得更好地增强，低电压下的分辨率得到进一步提高。对适用的样品可以加载高达-5 kV的样品台偏压，在低电压下获得更高质量的图片优化静电场和磁场的复合功效，在低电压下具有的更高的分辨率；提高镜筒内Inlens探测器在低电压下的信号采集效率。技术参数：基本规格蔡司 GeminiSEM 500热场发射电子枪，稳定性优于0.2 %/h加速电压0.02 - 30 kV探针电流3 pA - 20 nA（100 nA配置可选）存储分辨率最高达32k × 24k 像素放大倍率50 – 2,000,000标配探测器镜筒内Inlens二次电子探测器样品室内的Everhart Thornley二次电子探测器可选配的项目NanoVP可变压力模式高效VPSE探测器（包含在NanoVP可变压力选件中）局部电荷中和器镜筒内能量选择背散射探测器环形STEM探测器（aSTEM 4）EDS能谱仪EBSD探测器(背散射电子衍射)可订制特殊功能样品台环形背散射电子探测器阴极射线荧光探测器

[ 产品简介 ]蔡司新一代场发射扫描电子显微镜Sigma系列，具有高质量的成像和分析能力，将先进的场发射扫描电子显微镜技术与优秀的用户体验完美结合。利用Sigma系列直观的4步工作流程，在更短的时间内获得更多的数据，提高测试与生产效率。可选配多种探测器，以满足半导体、能源等新材料、磁性样品、生物样品、地质样品等不同的应用需求。结合蔡司原位电镜实验平台，可以实现自动智能化的原位实验工作流程，高效率获取高通量、高质量的原位实验数据。领先的EDS几何设计保证了出色的元素分析性能，分析速度高、精度好、结果可靠。高分辨、全分析、多扩展、强智能、广应用，全新Sigma系列是助力于材料研究、生命科学和工业检测等领域的“多面手”。[ 产品特点 ]&bull 独特的Gemini镜筒设计，低电压高分辨，无漏磁&bull 广泛全面的应用场景&bull 丰富灵活的探测手段&bull 智能高效的工作流程&bull 先进可靠的分析系统&bull 强大完善的扩展平台[ 应用领域 ]&bull 材料科学，如纳米材料高分辨成像，高分子聚合物等不导电样品成像，电池材料成分衬度成像，二维材料分析&bull 生命科学，如生物样品超微结构成像，冷冻样品高分辨成像&bull 地质矿物学，如地质样品高分辨成像、成分分析以及原位拉曼联用分析&bull 工业应用，如组件失效分析，工艺诊断&bull 电子半导体行业，如质量控制与分析，6英寸Wafer快速换样，电子束曝光技术（EBL）&bull 钢铁行业，如夹杂物分析，金属材料自动原位成像分析&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复NanoVP lite模式下断裂的聚苯乙烯表面成像氧化铝颗粒高分辨二次电子成像ETSE探测器氧化锌枝晶成像InLens SE探测器氧化锆&氧化铁复合材料成像Sense BSD探测器刺毛苔藓虫超微结构成像aBSD探测器超导合金成像

[ 产品简介 ]蔡司场发射扫描电子显微镜Gemini系列，具有出色的探测效率，能够轻松实现亚纳米分辨成像，适用于多种材料的高分辨成像与分析。其优异的低电压成像能力与表面细节灵敏度，让您在对任意样品进行成像和分析时都具备更佳的灵活性，可获取各类样品在微观世界中清晰、真实的图像。为生命科学研究实验室、工业实验室、成像测试平台、高校或研究机构提供灵活、可靠的场发射扫描电子显微技术与方案。[ 产品特点 ]&bull 出色的检测效率&bull 优异的低电压分辨率和表面灵敏度&bull 灵活的探测手段获取高分辨的图像&bull 独特的无漏磁镜筒，轻松应对磁性材料表征&bull 丰富的扩展性[ 应用领域 ]&bull 材料科学，如纳米材料表征&bull 工业应用，如失效分析，性能分析&bull 生命科学，如大体积细胞高通量成像&bull 电池领域，如老化分析、电池材料表征&bull 电子半导体领域，如半导体器件失效研究与分析&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复InLens SE探测器磁性FeMn纳米颗粒成像 InLens SE探测器NCM622正极颗粒成像InLens SE 探测器和EsB 探测器同时对包埋在沸石中的银纳米颗粒成像aBSD探测器FinFET结构成像 NanoVP模式下不导电玻璃片上的光刻胶样品成像 小鼠大脑成像

FE-1050系列场发射扫描电子显微镜，国内首款领势旗舰机型。 在新一代电子光学镜筒的加持下，展现低电压、高分辨的卓越性能。 27个端口拓展、大舱室，轻松应对各类成像、分析需求。 极简化操作、自动化交互、智能化特征识别统计，成倍提高工作效率。 终身售后保障，7*24售后响应。以“质”为先，以“优”为本，助力微观世界的探索与发现。贴近用户设计的系统交互操作，最大简化系统操作，即使没有电镜使用经验的用户也可轻松上手。软硬件结合的智能化操作流程能够真正将用户从繁琐的重复操作中解放出来。

日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000是专门为电子束敏感样品和需最大300万倍稳定观察的先进半导体器件，高分辨成像所设计。新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。0.4nm / 30kV（SE）0.7nm / 1kV（SE）0.34nm / 30kV（STEM）用改良的高真空性能和无与伦比的电子束稳定性来实现高效率截面观察。采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。

SEM5000X是一款超高分辨率场发射扫描电子显微镜，其分辨率达到了突破性的0.6 nm@15 kV和1.0 nm@1 kV。高分辨物镜设计、高压隧道技术（SuperTunnel）以及镜筒工艺升级，实现了低电压分辨率的进一步提升。全新设计的样品仓，扩展接口增加至16个，快速换样仓最大支持8寸晶圆（最大直径208 mm），极大扩展应用范围。高级扫描模式和自动功能增强，带来了更强的性能和更好的体验。产品优势超高分辨率成像，达到了突破性的0.6 nm@15 kV和1.0 nm@1 kV样品台减速和高压隧道技术组合的双减速技术，挑战极限样品拍摄场景高精度机械优中心样品台、超稳定性的机架减震设计，可搭配整体罩壳设计，极大减弱环境对极限分辨率的影响最大支持8寸晶圆(最大直径208 mm)的快速换样仓，满足半导体和科研应用需求应用案例产品参数

高速扫描电子显微镜 HEM6000HEM6000是一款可实现跨尺度大规模样品成像的高速扫描电子显微镜。采用高亮度大束流电子枪、高速电子偏转系统、高压样品台减速、动态光轴、浸没式电磁复合物镜等技术，实现了高速图像采集和成像，同时保证了纳米级分辨率。面向应用场景的自动化操作流程设计，使得大面积的高分辨率图像采集工作更高效、更智能。成像速度可达常规场发射扫描电镜的5倍以上。 产品优势 高速自动化 全自动上下样流程和采图作业，综合成像速度优于常规场发射扫描电镜的5倍大场低畸变跟随扫描场动态变化的光轴，实现了更低的场边缘畸变低压高分辨 样品台减速技术，实现低落点电压，同时保证高分辨率应用领域应用案例大规模成像规格书 关键参数 分辨率 1.3nm @ 3 kV，SE；2.2 nm @ 1 kV，SE； 1.9nm @ 3 kV，BSE；3.3 nm @ 1 kV，BSE；加速电压 100 V~6 kV(减速模式) 6 kV~30 kV(非减速模式) 放大倍率 66~1,000,000x 电子枪类型 高亮度肖特基场发射电子枪 物镜类型 浸没式电磁复合物镜 样品装载系统 真空系统 全自动控制，无油真空系统 样品监控 样品仓监控水平摄像头 ； 换样仓监控垂直摄像头样品最大尺寸 直径4英寸 样品台 类型 电机驱动3轴样品台（*可选配压电驱动样品台） 行程 X、Y轴：110mm；Z轴：28mm；重复定位精度 X轴：±0.6 um；Y轴：±0.3 um 换样方式 全自动控制 换样时间 ＜15 min 换样仓清洗 全自动控制等离子清洗系统 图像采集与处理 驻点时间 10 ns/pixel 图像采集速度 2*100 M pixel/s 图像大小 8K*8K 探测器和扩展 标配 镜筒内混合电子探测器 选配低角度背散射电子探测器 镜筒内高角度背散射电子探测器 压电驱动样品台 高分辨大场模式样品仓等离子清洗系统 6英寸样品装载系统主动减震台 AI降噪；大图拼接；三维重构 软件 语言 中文 操作系统 Windows 导航 光学导航、手势快捷导航 自动功能 自动样品识别、自动选区拍摄、自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散服务扫描电子显微镜实验室 我们在合肥、无锡、广州和上海设有扫描电子显微镜实验室，实验室配备多名电镜技术专家和高级电镜应用工程师，提供包含电 镜应用技术开发、样品拍摄在内的多种服务。主要应用领域有锂电池、新型纳米材料、半导体材料、矿物冶金、地质勘探、生物医药等。 实验室依托国仪量子电镜产品，在电镜应用领域开展具有自主知识产权的科研项目，致力于实现科学研究和人才培养的目标。与此同时，实验室也为有电镜应用需求的科研院所、大专院校、企事业单位提供优质的服务。

扫描电子显微镜可对材料的表面进行高倍率观察及高精度元素分析，在纳米技术、生命科学、产品设计研发及失效分析等领域有着广泛的应用。 近年来，扫描电镜观察表面精细结构及元素分析的需求日趋增加，而越来越多的用户希望能在生产线、品保检验线和办公区等有限的空间里使用扫描电子显微镜。因此，体积小、操作简便、分辨率高的扫描电子显微镜备受关注。FlexSEM 1000主机宽450mm、长640mm，相比SU1510型号体积减小52%，重量减轻45%，功耗减小50%，且配备标准化的电源接口。主机与供电单元可分离，安装非常灵活。 FlexSEM 1000 II，凭借全新设计的电子光学系统和高灵敏度检测器，可在加速电压20 kV下实现4.0 nm的分辨率。全新开发的用户界面，具有亮度和对焦自动调节功能，可以在短时间内进行各种观察。此外，还搭载了全新的导航功能“SEM MAP”，这个功能可弥补电子显微镜上难以找准视野的缺点，实现最直观的视野移动。尽管是可放置在桌面上的小巧紧凑型*1电子显微镜，仍可实现4.0 nm的分辨率凭借独特的高灵敏度二次电子、背散射电子检测器、低真空检测器（UVD*2），可在低加速/低真空下观察时实现清晰的画质全新的用户界面，无论用户的熟练程度如何，都可实现高画质和高处理能力全新的定位功能“SEM MAP”，支持观察时的视野搜索和样品定位大直径（30毫米2）无氮EDS检测器，可快速进行元素分析*2*1设置到桌面上时，请将机体与电源盒分离*2选项

扫描电子显微镜SEM3200SEM3200是一款高性能、应用广泛的通用型钨灯丝扫描电子显微镜。拥有出色的成像质量、可兼容低真空模式、在不同的视场范围下均可得到高分辨率图像。大景深，成像富有立体感。丰富的扩展性，助您在显微成像的世界中尽情探索。产品特点（*为选配件）特色功能丰富拓展性扫描电子显微镜不仅局限于表面形貌的观察，更可以进行样品表面的微区成分分析。SEM3200接口丰富，除支持常规的二次电子探测器（ETD）、背散射电子探测器（BSED）、X射线能谱仪（EDS）外，也预留了诸多接口，如电子背散射衍射（EBSD）、阴极射线（CL）等探测器都可以在SEM3200上进行集成。背散射电子探测器二次电子成像和背散射电子成像对比背散射电子成像模式下，荷电效应明显减弱，并且可以获得样品表面更多的成分信息。应用案例产品参数型号SEM3200ASEM3200电子光学系统电子枪类型预对中型发叉式钨灯丝电子枪（灯丝电流3档可调，可显示灯丝更换时间）分辨率高真空3 nm @ 30 kV（SE）4 nm @ 30 kV（BSE）8 nm @ 3 kV（SE）*低真空3 nm @ 30 kV（SE）放大倍率1-300,000x（底片倍率）1-1000,000x（屏幕倍率）加速电压0.2 kV～30 kV探针电流≥1.2μA，可实时显示成像系统探测器二次电子探测器（ETD）*背散射电子探测器、*低真空二次电子探测器、*能谱仪EDS等图像保存格式TIFF、JPG、BMP、PNG真空系统真空模式高真空优于5×10-4 Pa*低真空5～1000 Pa控制方式全自动控制样品室摄像头光学导航样品仓内监控样品台配置三轴自动*五轴自动行程X: 120 mmX: 120 mmY: 115 mmY: 115 mmZ: 50 mmZ: 50 mm/R: 360°/T: -10°～ +90°能谱仪能谱仪探测器分析型SDD硅漂移电制冷探测器，有效面积≥30 mm2，晶体面积≥50 mm2，高分子超薄窗设计，无需液氮冷却，仅消耗电能能谱仪能量分辨率Mn Ka保证优于129eV元素分析范围B5～Cf98软件语言中文操作系统Windows导航光学导航、手势快捷导航、可自动叠加电镜图片自动功能自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散特色功能智能辅助消像散、*大图拼接（选配软件）安装要求房间长 ≥ 3000 mm，宽 ≥ 4000 mm，高 ≥ 2300 mm温度20 ℃～25 ℃湿度≤ 50 %电气参数电源AC 220 V(±10 %)，50 Hz，2 kVA

Sigma 360用于高品质成像与高级分析的场发射扫描电子显微镜灵活的探测，4步工作流程，高级的分析性能将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合，利用成熟的 Gemini 电子光学元件。多种探测器可选：用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma 半自动的4步工作流程节省大量的时间：设置成像与分析步骤，提高效率。Sigma 360 具有极高的性价比，可快速方便地实现基础分析。任何时间，任何样品均可获得可重复的分析结果。基于成熟的 Gemini 技术Gemini 镜头的设计结合考虑了电场与磁场对光学性能的影响，并将场对样品的影响降至更低。这使得即使对磁性样品成像也能获得出色的效果。Gemini in-lens 的探测确保了信号探测的效率。Gemini 电子束加速器技术确保了小的探测器尺寸和高的信噪比。灵活的检测器选项，获取清晰图像使用新颖的ETSE和Inlens探测器在高真空下获取高分辨率表面形貌信息。使用VPSE或C2D检测器在可变压力模式下获得清晰图像。使用aSTEM检测器生成高分辨率透射图像。使用HDBSD或YAG检测器分析成分。高级分析型显微镜将扫描电子显微镜与基本分析相结合：Sigma 背散射几何探测器大大提升了分析性能，特别是对电子束敏感的样品。在一半的检测束流和两倍的速度条件下获取分析数据。获益于8.5 mm 短的分析工作距离和35°夹角，获取完整且无阴影的分析结果。蔡司Sigma 360 可提供 集成式 EDS 解决方案在低能量分析应用中同时实现高清晰度成像Sigma Element 是一种集成式 EDS 解决方案，拥有高可用性和低电压灵敏度。仅需使用一台计算机来控制 EDS 和 SEM，进而大大提升了该集成化解决方案的易用性。同时，借助专门为显微镜和 EDS 操作设计的用户界面可实现并行控制。? 集成化：通过集成化，结合高清晰成像与快速分析，从而获得不错结果? 定制化：根据不同的用户需求定制软件? 灵敏度：独特的氮化硅窗口增强低能X射线的探测灵敏度拉曼成像与扫描电镜联用系统完全集成化的拉曼成像获取样品中化学结构的指纹信息：聚焦拉曼光谱成像可扩展您的蔡司Sigma 300 扫描电镜性能。 分析获得样品分子结构和结晶信息。 通过拉曼成像与EDS数据可进行3D 分析并与SEM图像关联。完全集成化的拉曼成像扫描电镜联用系统使你充分发挥SEM和拉曼系统的功能。用户友好,操作简单 SmartSEM Touch是现已有操作系统的附加组件，用于多用户环境，是一种简洁的用户界面。它同时为操作经验丰富的专家用户和初级用户提供了简便的操作。基于实际的实验室环境，SEM的操作可能是电子显微镜专家的专属领域。但是，非专业用户（例如学生，接受培训不久的人员或质量工程师）也需要使用SEM获取数据，因此也有使用SEM的需求。 Sigma 300和Sigma 300 VP将非专业用户的需求考虑在内，其用户界面选项可满足操作经验丰富的显微镜专家和显微镜新手用户的操作需求。

1、产品介绍KYKY-EM8010 场发射扫描电子显微镜 低电压下能够保持较好的亮度和较高的分辨率，束流稳定度高、色散小，适宜长时间的各种精确分析，一键standby功能，维护更方便，软件操作简便，提升用户使用体验。为科研高校、生命科学，新能源等领域客户提供稳定可靠，超高性价比的产品解决方案。2、产品特点l1.5nm@15Kv (SE)，3nm@30kV (BSE) l低加速电压保持较好的亮度和分辨率 l低加速电压不导电样品可直接观测，无需喷金l肖特基电子枪亮度高、单色性好、电子束斑小、寿命长l束流稳定度高，色散小，适宜于长时间的各种精确分析l一键standby 维护更方便l具备光学导航，快速样品定位3、KYKY-EM8010 场发射扫描电子显微镜技术指标：分辨率1.5nm@15KV（SE）； 3nm@30KV（BSE）放大倍数光学放大倍数4-100倍；电子学放大8-800000倍 电子枪肖特基热场发射电子枪加速电压0.2～30kV自动调整功能聚焦，亮度/对比度、消像散、电子束对中探测器高真空二次电子探测器；红外CCD摄像头；一体化背散射探测器；光学导航探测器样品台五轴全自动中型样品台行程： X=80mm,Y=50mm,Z=30mm，T=-5°～+70°,R=360°最大样品直径: Ф175mm；最大样品高度：20mm 样品台具有碰撞报警功能。选配探测器BSE、EDS、EBSD、CL、EBIC等4、应用领域半导体、生命科学、材料、新能源、金属、刑侦、地质、功能材料、高分子材料。

GeminiSEM 系列产品高对比度、低电压成像的场发射扫描电子显微镜为对任意样品进行高水准的成像和分析而生蔡司GeminiSEM 系列产品具有出色的探测效率，能够轻松地实现亚纳米分辨成像。无论是在高真空还是在可变压力模式下，更高的表面细节信息灵敏度让您在对任意样品进行成像和分析时都具备更佳的灵活性，为您在材料科学研究、生命科学研究、工业实验室或是显微成像平台中获取各种类型样品在微观世界中清晰、真实的图像，提供灵活、可靠的场发射扫描电子显微镜技术和方案。GeminiSEM 500 具有出色的分辨率，在较低的加速电压下仍可呈现给您更强的信号和更丰富的细节信息，其创新设计的NanoVP可变压力模式，甚至让您在使用时拥有在高真空模式下工作的感觉；更强的信号，更丰富的细节GeminiSEM 500 为您呈现任意样品表面更强的信号和更丰富的细节信息，尤其在低的加速电压下，在避免样品损伤的同时快速地获取更高清晰度的图像。经优化和增强的Inlens探测器可高效地采集信号，助您快速地获取清晰的图像，并使样品损伤降至更低；在低电压下拥有更高的信噪比和更高的衬度，二次电子图像分辨率1 kV达0.9nm，500 V达1.0 nm，无需样品台减速即可进行高质量的低电压成像，为您呈现任意样品在纳米尺度上更丰富的细节信息；应用样品台减速技术-（Tandem decel），可在1 kV下获得高达0.8nm二次电子图像分辨率；创新设计的可变压力模式-NanoVP技术，让您拥有身处在高真空模式下工作的感觉。洞察产品背后的科技Gemini电子光学系统Gemini 1类型镜筒 -延续创新和发展如今，扫描电子显微镜（SEM）在低电压下的高分辨成像能力，已成为其在各项应用领域中的标准配置。低电压下的高分辨率成像能力，在以下应用领域中扮演着尤为重要的角色：电子束敏感样品不导电样品获取样品极表面的真实形貌信息Gemini的革新电子光学设计，应用高分辨率电子枪模式、Nano-twin lens物镜(GeminiSEM 500)、以及Tandem decel样品台减速技术（选配），有效提高了在低电压时的信号采集效率和图像衬度。高分辨率电子枪模式：缩小30%的出射电子束能量展宽，有效地降低像差；获得更小的束斑。Nano-twin lens物镜： 优化静电场和磁场的复合功效，在低电压下具有的更高的分辨率； 提高镜筒内Inlens探测器在低电压下的信号采集效率。Tandem decel样品台减速技术，进一步提高对适用样品在低电压甚至极低电压下的分辨率：Tandem decel减速技术将镜筒内减速和样品台偏压减速技术相结合，有效地实现低着陆电压；使用1 kV及以下更低电压时，镜筒内背散射探测器的检测效率获得更好地增强，低电压下的分辨率得到进一步提高。对适用的样品可以加载高达-5 kV的样品台偏压，在低电压下获得更高质量的图片优化静电场和磁场的复合功效，在低电压下具有的更高的分辨率；提高镜筒内Inlens探测器在低电压下的信号采集效率。技术参数：基本规格蔡司 GeminiSEM 500热场发射电子枪，稳定性优于0.2 %/h加速电压0.02 - 30 kV探针电流3 pA - 20 nA（100 nA配置可选）存储分辨率最高达32k × 24k 像素放大倍率50 – 2,000,000标配探测器镜筒内Inlens二次电子探测器样品室内的Everhart Thornley二次电子探测器可选配的项目NanoVP可变压力模式高效VPSE探测器（包含在NanoVP可变压力选件中）局部电荷中和器镜筒内能量选择背散射探测器环形STEM探测器（aSTEM 4）EDS能谱仪EBSD探测器(背散射电子衍射)可订制特殊功能样品台环形背散射电子探测器阴极射线荧光探测器

产品详情 日本JEOL发射扫描电子显微镜Serial Block-face SEM 3View 肖特基场发射扫描电子显微镜能长时间稳定地提供高电流下的微细探针，与View2XP（Gatan公司制造）结合使用，能对样品进行自动切割，自动获取图像。通过对获得的图像进行三维重构，可以对精细结构进行三维分析。 产品特点： 肖特基场发射扫描电子显微镜能长时间稳定地提供高电流下的微细探针，与3View2XP（Gatan公司制造）结合使用，能对样品进行自动切割，自动获取图像。通过对获得的图像进行三维重构，可以对精细结构进行三维分析。 系统简介 JSM-7100F、7800F和3View2XP（Gatan产品）组合使用，能获得大量的大范围的切片图像。这样就能够进行数百微米区域的三维重构。通过三维重构能够观察二维图像上无法看到的细胞的深处结构。 。外观： 操作 自动、反复地切割样品和获取图像，能获得大量的切片图像。 对获得的切片图像，通过软件进行堆叠、调节、生成三维图像。 应用数据 小鼠大脑 突触细分数据黄色区域：突触囊泡绿化面积：突触后部增厚部分红色区域：突触后部

KYKY-EM8000场发射扫描电子显微镜产品特点：高性能肖特基场发射电子枪，亮度高、单色性好、束斑小，寿命更长低加速电压下，保持较好的亮度、分辨率低加速电压不导电样品可以直接观测，无需喷金束流稳定度高，满足长时间工作需求满足用户定制化需求，适合多模块嵌入，多系统互联易操作，易维护，性价比高，性能远高于普通钨灯丝类电镜技术指标：分辨率1.5nm@15kV（SE）；3nm@30kV（BSE）放大倍率8～1600000 倍电子枪肖特基场发射电子枪加速电压0～30kV样品台手动样品台（标配）、五轴全自动预对中样品台（选配）探测器高真空二次电子探测器（具备防碰撞功能）透镜系统多级高性能锥形透镜系统应用领域：电池材料、半导体、复合材料、高分子、动植物、微生物、粉末冶金、矿物、金属行业、建筑材料、化工材料、陶瓷材料

[ 产品简介 ]蔡司场发射扫描电子显微镜Gemini系列，具有出色的探测效率，能够轻松实现亚纳米分辨成像，适用于多种材料的高分辨成像与分析。其优异的低电压成像能力与表面细节灵敏度，让您在对任意样品进行成像和分析时都具备更佳的灵活性，可获取各类样品在微观世界中清晰、真实的图像。为生命科学研究实验室、工业实验室、成像测试平台、高校或研究机构提供灵活、可靠的场发射扫描电子显微技术与方案。[ 产品特点 ]&bull 出色的检测效率&bull 优异的低电压分辨率和表面灵敏度&bull 灵活的探测手段获取高分辨的图像&bull 独特的无漏磁镜筒，轻松应对磁性材料表征&bull 丰富的扩展性[ 应用领域 ]&bull 材料科学，如纳米材料表征&bull 工业应用，如失效分析，性能分析&bull 生命科学，如大体积细胞高通量成像&bull 电池领域，如老化分析、电池材料表征&bull 电子半导体领域，如半导体器件失效研究与分析&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复InLens SE探测器磁性FeMn纳米颗粒成像 InLens SE探测器NCM622正极颗粒成像InLens SE 探测器和EsB 探测器同时对包埋在沸石中的银纳米颗粒成像aBSD探测器FinFET结构成像 NanoVP模式下不导电玻璃片上的光刻胶样品成像 小鼠大脑成像

日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000是专门为电子束敏感样品和需300万倍稳定观察的先进半导体器件，高分辨成像所设计。新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。0.4nm / 30kV（SE）1.2nm / 1kV（SE）0.34nm / 30kV（STEM）用改良的高真空性能和无与伦比的电子束稳定性来实现高效率截面观察。采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。

产品详情日本JEOL热场发射扫描电子显微镜JSM-7900F JEOL新一代场发射扫描电子显微镜的旗舰机型。 它继承了上一代广获好评的性能如极高的空间分辨率、高稳定性、多种功能等的同时，操作性能极大简单化。该设备不依赖操作者的技能，始终能够发挥其最佳性能。 产品规格：分辨率1.0 nm (0.5 kV)0.7 nm (1 kV)0.6 nm (15 kV)3.0 nm (5 kV、WD: 10 mm、5 nA)倍率×10 ～ ×1,000,000加速电压0.01 ～ 30 kV探针电流数 pA ～ 500 nA检测器（标配）高位检测器(UED)、低位检测器(LED)电子枪浸没式肖特基Plus场发射电子枪最佳光阑角控制镜内置物镜超级混合式物镜/SHL自动功能自动聚焦、自动消像散、自动调节亮度、自动调节衬度大景深模式(LDF)内置样品台全对中测角样品台样品移动X:70mm Y:50mm Z:2 ～ 41mm 倾斜轴:-5 ～ 70° 旋转:360°马达驱动5轴马达驱动样品交换室最大直径: 100mm 　最大高度: 40mm抽真空系统SIP、TMP、RP 主要特点：◇ Neo Engine（New Electron Optical Engine）新一代电子光学控制系统Neo Engine（New Electron Optical Engine），是JEOL电子光学技术荟萃的结晶。 它综合了透镜控制系统和自动化技术，即使改变电子光学条件，光轴的偏离也极小，大大提高了可操作性及观察精度。 无论是谁都可以很简便地发挥出仪器原本的功能。 ① 提高了自动功能 样品 : 用CP 制备的矿物截面（树脂包埋） 入射电压 : 5 kV，检测器 : RBED，观察倍率 : ×100,000 不仅提高了自动功能的精度，而且只需要几秒钟就可以聚焦。 ② 提高了倍率的精度 样品 : 测长用的样品（MRS5） 入射电压 : 10 kV， 观察倍率: ×50,000 大幅度地提高了倍率的精度，而且实现了高精度测长。 ③ 能量过滤器更加易用 样品 : 名片 入射电压 : 1.5 kV， 检测器 : UED， 观察倍率 : ×3,500 即使大幅度改变能量过滤器的设定值，视野或聚焦位置基本不会偏离。 ◇ GBSH-S (GENTLEBEAM™ Super High resolution Stage bias mode)GBSH 是在低加速电压下提高分辨率的一种方法。 新开发的GBSH-S可以给样品台施加高达5 kV的偏压。 因此，使用GBSH模式不需要使用专用的样品杆就可以无缝过渡到其他模式。※GENTLEBEAM™ 通过给样品施加偏压，起到了对入射电子减速，对出射电子加速的作用。 ◇ 新型背散射电子检测器　※ 选配件采用新开发的超高灵敏度的背散射电子检测器，可以在清晰的衬度下进行观察。 灵敏度比以往的产品提高了很多，特别是在低加速电压下能得到高衬度的成分像。旧机型 新机型 样品 : Cu的截面 入射电压 : 3 kV 观察倍率 : ×10,000 WD： 4.5 mm ◇ 新型外观设计 外观设计紧凑，大大节省了安装空间，可以支持多种安装环境。 ◇ 新的样品交换方式 采用新设计的样品交换系统（load lock），操作简单了，不仅减少误操作还提高了通量和耐用性。 ◇ SMILENAVISMILENAVI 是为初学者在短时间内学会基础操作而开发的操作导航系统。 操作人员按照流程，只要点击图标，SEM操作画面就会联动，依照提示引导即可操作。① 强调操作按钮只要将鼠标光标挪到SMILENAVI的指南键上，SEM的GUI上的相应键会出现方框。 在SMILENAVI指南里点击按键后，SEM的GUI会变成灰色来强调相应键。 ② 显示照片在SMILENAVI的指南里点击按键后，会显示该按键位置的照片。 ③ 显示操作顺序的视频 SMILENAVI的指南里有介绍操作顺序的视频。 继承了旧机型的高性能 ◇ 浸没式肖特基 Plus 电子枪浸没式肖特基Plus FEG 通过与电子枪和低像差聚光镜的组合，性能进一步得到改善，达到了更高的亮度。 能有效地收集从电子枪发射出的电子，即使在低加速电压下，也能获得数pA ～数10 nA 的探针电流，不用交换物镜光阑也能进行高分辨观察和快速元素面分布及EBSD 分析。 ◇ ACL（最佳光阑角控制镜）ACL（最佳光阑角控制镜）位于物镜的上方，自动优化整个电流范围内的物镜光阑角。 因此，即使改变探针电流量，也能调整入射电子的扩散，始终可以获取最小的电子束斑。不管是高分辨观察还是X 射线分析，对探针电流的大幅度变化都能轻松对应。 ◇ 超级混合式物镜 / SHLJSM-7900F 标配了JEOL 开发的电磁场叠加物镜 —“超级混合式物镜（SHL）”，对任何样品包括磁性和绝缘材料都能进行超高空间分辨率观察和分析。 ◇ 检测器系统能够同步采集多达4 种检测器的信号。标配低位检测器（LED）和高位检测器（UED）。 此外，还可以安装选配件：可插拔式背散射电子检测器（RBED）和高位二次电子检测器（USD）。 ◇ 高空间分辨率观察利用GBSH，即使在极低的加速电压下也能进行高分辨率观察。 GBSH下，高空间分辨率观察应用● 氧化物纳米材料

高通量(场发射）扫描电子显微镜 NavigatorSEM-100NavigatorSEM-100高通量场发射扫描电子显微镜，专为跨尺度大规模样品SEM表征分析而设计，广泛应用于科研及工业等领域。其自动化超高速的纳米成像技术，为您提供超凡的成像体验。-产品介绍聚束科技独立研发并拥有自主知识产权的NavigatorSEM-100高通量（场发射）扫描电子显微镜，通过对成像技术、运动平台、电路控制及智能算法的系统化创新设计，实现了全球最高通量成像，成像速度可达到传统电镜的数十倍以上。其全部采用直接电子探测器的技术方案，成功克服了传统SEM技术在速度、精度和样品损伤等方面的局限性，颠覆性地将扫描电镜从传统意义上的纳米“照相机”提升为纳米“摄像机”。同时操作简单，全自动一键换样，7*24小时无人值守运行，全面提升科研效率。我们将成熟的工业化高通量电镜检测技术应用在生命科学、材料研究、半导体工业、地质资源等领域。尤其在神经生物学3D重构、材料大面积表征分析、半导体反向工程、纳米技术分析等应用领域有显著优势。-产品优势&bull 综合成像速度＞10倍传统电镜&bull 全球最快二次电子与背散射电子双通道同步成像 &bull 海量SEM图像快速生成数据分析报告&bull 从百毫米到纳米级的跨尺度材料表征-产品特点极速成像通过自主研发的硬件和软件设计，实现全球最快二次电子与背散射电子双通道同步成像：视频级高分辨成像。高清视频级摄像帧率，使其具有实时观测样品动态变化的能力。高成像质量独特的浸没式电磁复合物镜系统，有效地减小低落点能量下物镜的象差，达到极高分辨能力。与物镜场复合的静电式扫描偏转系统，相比于传统电镜的磁偏转系统，极大地减小图像边沿畸变，可获得兼具高分辨率和大视野的完美图像In-Lens SE与BSE半导体直接电子探测器，双通道同时高速成像，兼具高灵敏度和高信号电子收集效率，即使在nA级别的大束流条件仍可获得极佳的图像衬度和信噪比。配备主动补偿系统（激光干涉振动补偿、电磁干扰主动补偿），消除环境因素干扰，保证成像高分辨率高质量。跨尺度大规模成像超高速扫描成像能力，结合全自动聚焦跟踪系统和A.I.图像处理算法，实现对超大区域样品进行高分辨率全自动不间断矩阵式扫描，并自动拼接获得大尺寸纳米级分辨率的全景地图式成像，使之具备了跨尺度信息融合能力，可实现从纳米级到毫米级的跨尺度材料表征。智能分析大数据智能分析 ，海量SEM图像快速生成数据分析报告；智能图像处理，定制化图像测量、统计、分析。操作简单全自动样品载入与导航，一键完成样品更换，操作便捷，节省工时。大场光学成像导航与SEM成像无缝衔接，对指定区域快速准确实现定位和观测。7*24小时全自动化无人值守运行能力。

该产品是世界上di一款可以对有机材料、基板、多孔材料、塑料以及高聚物材料等有电荷积累的样品和/或污染性样品进行超高分辨表征的低真空场发射扫描电子显微镜（FEG-SEM）。作为FEI公司引领市场的众多设备中zui新的一员，Nova NanoSEM为用户在纳米研究、开发与生产的相关工作提供了更多的可能。 Nova NanoSEM的出现为那些非导电的以及有污染的纳米材料研究和开发者们带来了新的表征手段。与NanoSEM同时发布的FEI Helix探测技术将浸入式透镜和低真空扫描电镜两种技术成功地组合在一起，这在场发射扫描电镜的历史上还是di一次。在给用户带来超高分辨率的同时，还能在低真空环境下有效地抑制非导电材料的电荷积累效应。Nova NanoSEM的这种新技术还可以有效地抑制由前道样品处理过程所引起的电子束诱导污染。 除了低真空条件下二次电子和背散射电子成像以外，Nova NanoSEM还具有浸入式透镜的技术和FEI所特有的使用电子束进行纳米结构沉积的气体化学技术，所有的这些特点使之成为纳米结构与纳米材料研究领域中zui先进、zui理想的扫描电镜技术参数1. 分辨率 高真空模式　1.0nm @ 15kV 　　　　　　1.8nm @ 1kV 　　　　　　0.8nm @ 30kV(STEM探测器) 低真空模式　1.5nm @ 10kV(Helix探测器) 　　　　　　1.8nm @ 3kV(Helix探测器) 2. 加速电压 200V - 30kV,连续可调 3. 电子束流范围 0.3pA - 100nA, 连续可调 4. 样品台移动范围 Nova NanoSEM 230: X=Y=50mm Nova NanoSEM 430: X=Y=100mm Nova NanoSEM 630: X=Y=150mm主要特点1. 超高分辨率Schottky场发射电子枪 2. 全球wei一的超高分辨率低真空场发射扫描电镜. 具有高真空和低真空(200Pa)两种真空模式. 3. 对容易污染、容易电荷积累的纳米材料和纳米器件进行观察和分析 4. 完全无油真空系统 5. 可选配电子束曝光、电子束诱导沉积等纳米设计/加工功能 6. FEI公司基于Windows XP的-xT用户界面

产品描述灵活的探测，4步工作流程，高级的分析性能将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合，利用成熟的 Gemini 电子光学元件。多种探测器可选：用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma 半自动的4步工作流程节省大量的时间：设置成像与分析步骤，提高效率。用于清晰成像的灵活探测利用先进探测术为您的需求定制 Sigma，表征所有样品。利用 in-lens 双探测器获取形貌和成份信息。利用新一代的二次探测器，获取高达50%的信号图像。在可变压力模式下利用 Sigma 创新的 C2D 和 可变压力探测器，在低真空环境下获取高达85%对比度的锐利的图像。自动化加速工作流程4步工作流程让您控制 Sigma 的所有功能。在多用户环境中，从快速成像和节省培训首先，先对样品进行导航，然后设置成像条件。首先，先对样品进行导航，然后设置成像条件。接下来对样品感兴趣的区域进行优化并自动采集图像。使用工作流程的一步，将结果可视化。高级分析型显微镜将扫描电子显微镜与基本分析相结合：Sigma 的背散射几何探测器大大提升了分析性能，特别是对电子束敏感的样品。在一半的检测束流和两倍的速度条件下获取分析数据。获益于8.5 mm 短的分析工作距离和35°夹角，获取完整且无阴影的分析结果。基于成熟的 Gemini 技术Gemini 镜头的设计结合考虑了电场与磁场对光学性能的影响，并将场对样品的影响降至更低。这使得即使对磁性样品成像也能获得出色的效果。Gemini in-lens 的探测确保了信号探测的效率，通过二次检测(SE)和背散射(BSE)元件同时减少成像时间。Gemini 电子束加速器技术确保了小的探测器尺寸和高的信噪比。用于清晰成像的灵活探测利用新的探测技术表征所有的样品。在高真空模式下利用创新的 ETSE 和 in-lens 探测器获取形貌和高分辨率的信息。在可变压力模式下利用可变压力二次电子和 C2D 探测器获取锐利的图像。利用 aSTEM 探测器生成高分率透射图像。利用 BSD 或者 YAG 探测器进行成份分析。配件SmartEDX为您带来一体化能谱分析解决方案如果单采用SEM成像技术无法全面了解部件或样品，研究人员就需要在SEM中采用能谱仪（EDS）来进行显微分析。通过针对低电压应用而优化的能谱解决方案，您可以获得元素化学成分的空间分布信息。得益于：优化了常规的显微分析应用，并且由于氮化硅窗口优的透过率，可以探测轻元素的低能X射线。工作流程引导的图形用户界面极大地改善了易用性，以及多用户环境中的重复性。完整的服务和系统支持，由蔡司工程师为您的安装、预防性维护及保修提供一站式服务。 拉曼成像与扫描电镜联用系统完全集成化的拉曼成像在您的数据中加入拉曼光谱及成像结果，获得材料更丰富的表征信息。通过扩展蔡司Sigma 300，使其具备共聚焦拉曼成像功能，您能够获得样品的化学指纹信息，从而指认其成分。识别分子和晶体结构信息可进行3D分析，在需要时可关联SEM图像、拉曼面扫描成像和EDS数据。完全集成RISE让您体验由先进的SEM和拉曼系统带来的优势。

产品详情日本JEOL热场发射扫描电子显微镜JSM-7200F JSM-7200F的电子光学系统应用了日本电子旗舰机-JSM-7800F Prime采用的浸没式肖特基电子枪技术，标配了TTLS系统（Through-The-Lens System），因此无论是在高/低加速电压下，空间分辨率都比传统机型有了很大的提升。 产品规格： 主要选配件可插拔式背散射电子探头（RBED）高位二次电子探头（USD）低真空二次电子探头（LV-SED）能谱仪（EDS)波谱仪（WDS）电子背散射衍射系统（EBSD)阴极荧光系统（CLD）样品台导航系统（SNS）电子束曝光系统 产品特点：JSM-7200F的电子光学系统应用了日本电子旗舰机-JSM-7800F Prime采用的浸没式肖特基电子枪技术，标配TTLS系统（Through-The-Lens System），无论是在高/低加速电压下，空间分辨率都比传统机型有了很大的提升。此外，保证300nA的最大束流，能兼顾高分辨率观察和高通量分析，具有充实的自动功能和易用性，是新一代的多功能场发射扫描电镜。 ＜特点＞ JSM-7200F的主要特点有：应用了浸没式肖特基电子枪技术的电子光学系统；利用GB（Gentle Beam 模式）和各种检测器在低加速电压下能进行高分辨观察和选择信号的TTLS系统（Through-The-Lens System）；电磁场叠加的混合式物镜。 浸没式肖特基电子枪 浸没式肖特基场发射电子枪为日本电子的专利技术，通过对电子枪和低像差聚光镜进行优化，能有效利用从电子枪中发射的电子，即使电子束流很大也能获得很细的束斑。因而可以实现高通量分析（EDS、WDS面分析、EBSD分析等）。 TTLS（through-the-lens系统） TTLS（through-the-lens系统）是利用GB(Gentle Beam 模式）在低加速电压下能进行高分辨率观察和信号选择的系统。 利用GB（Gentle Beam 模式）通过给样品加以偏压，对入射电子有减速、对样品中发射出的电子有加速作用，即使在低加速电压（入射电压）下，也能获得信噪比良好的高分辨率图像。 此外，利用安装在TTLS的能量过滤器过滤电压，可以调节二次电子的检测量。这样在极低加速电压的条件下，用高位检测器（UED）就可以只获取来自样品浅表面的大角度背散射电子。因过滤电压用UED没有检测出的低能量电子，可以用高位二次电子检测器（USD，选配件）检测出来，因此JSM-7200F能同时获取二次电子像和背散射电子像。 混合式物镜（电磁场叠加） JSM-7200F的物镜采用了本公司新开发的混合式透镜。 这种混合式透镜是组合了磁透镜和静电透镜的电磁场叠加型物镜，比传统的out-lens像差小，能获得更高的空间分辨率。 JSM-7200F仍然保持了out-lens的易用性，所以可以观察和分析磁性材料样品。

高通量(场发射）扫描电子显微镜 NavigatorSEM-100B PLUSNavigatorSEM-100B PLUS高通量场发射扫描电子显微镜，专为跨尺度大规模样品SEM表征分析而设计，广泛应用于科研及工业等领域。其自动化超高速的纳米成像技术，为您提供超凡的成像体验。-产品介绍聚束科技独立研发并拥有自主知识产权的NavigatorSEM-100B PLUS高通量（场发射）扫描电子显微镜，通过对成像技术、运动平台、电路控制及智能算法的系统化创新设计，实现了全球最高通量成像，成像速度可达到传统电镜的数十倍以上。其全部采用直接电子探测器的技术方案，成功克服了传统SEM技术在速度、精度和样品损伤等方面的局限性，颠覆性地将扫描电镜从传统意义上的纳米“照相机”提升为纳米“摄像机”。同时操作简单，全自动一键换样，7*24小时无人值守运行，全面提升科研效率。新机型在硬件部分模组提升较大，配备新型电子枪，电子束落点能量范围可达30keV，涵盖绝大多数扫描电镜落点能量需求范围。分辨率可达1.0nm (15keV下), 且在1-3kV低加速电压下即可获得1.5nm高分辨率的同时，仍能保持1‰以下的低图像畸变。我们将成熟的工业化高通量电镜检测技术应用在生命科学、材料研究、半导体工业、地质资源等领域。尤其在神经生物学3D重构、材料大面积表征分析、半导体反向工程、纳米技术分析等应用领域有显著优势。-产品优势&bull 综合成像速度＞10倍传统电镜&bull 该系统实现二次电子和背散射电子的双通道同步100M/s级超高速成像&bull 海量SEM图像快速生成数据分析报告&bull 从百毫米到纳米级的跨尺度材料表征-产品特点极速成像通过自主研发的硬件和软件设计，实现全球最快二次电子与背散射电子双通道同步成像：视频级高分辨成像。高清视频级摄像帧率，使其具有实时观测样品动态变化的能力。高成像质量独特的浸没式电磁复合物镜系统，有效地减小低落点能量下物镜的象差，达到极高分辨能力。与物镜场复合的静电式扫描偏转系统，相比于传统电镜的磁偏转系统，极大地减小图像边沿畸变，可获得兼具高分辨率和大视野的完美图像In-Lens SE与BSE半导体直接电子探测器，双通道同时高速成像，兼具高灵敏度和高信号电子收集效率，即使在nA级别的大束流条件仍可获得极佳的图像衬度和信噪比。配备主动补偿系统（激光干涉振动补偿、电磁干扰主动补偿），消除环境因素干扰，保证成像高分辨率高质量。跨尺度大规模成像超高速扫描成像能力，结合全自动聚焦跟踪系统和A.I.图像处理算法，实现对超大区域样品进行高分辨率全自动不间断矩阵式扫描，并自动拼接获得大尺寸纳米级分辨率的全景地图式成像，使之具备了跨尺度信息融合能力，可实现从纳米级到毫米级的跨尺度材料表征。智能分析大数据智能分析 ，海量SEM图像快速生成数据分析报告；智能图像处理，定制化图像测量、统计、分析。操作简单全自动样品载入与导航，一键完成样品更换，操作便捷，节省工时。大场光学成像导航与SEM成像无缝衔接，对指定区域快速准确实现定位和观测。7*24小时全自动化无人值守运行能力。

屹东光学YF1801扫描电子显微镜采用热场发射电子枪（Schottky FEG）技术，电子光学镜筒中融入了先进的全镜筒加速技术，确保了低加速电压下电子束优异的成像性能，适用于各类材料（特别是不导电、不耐电子辐照的样品）的高分辨成像。YF1801配备有镜筒内（光轴上）和样品室内（Everhart-Thornley）两款二次电子探测器、背散射电子探测器、扫描透射电子探测器等，能高效收集从样品中激发出的多种电子信号进行成像，可最大程度揭示样品的微观形貌和结构信息。

产品简介"Regulus系列"是日立高新技术的FE-SEM的全新品牌，包括作为SU8010的后续机型开发的 "Regulus8100" 以及SU8200系列的升级 "Regulus8220" "Regulus8230" "Regulus8240"，共4个机型，均实现了分辨率和操作性的强化。 扫描电子显微镜（SEM）被广泛应用于纳米技术，半导体?电子行业，生命科学，材料科学等领域的材料结构观察。近年来，新一代的电子器件应用中受到广泛期待的新型碳材料，高分子材料，复合材料等的研究作为先进科学技术的中坚技术，在全世界范围内受到热捧。扫描电子显微镜广泛用于这些材料的观察?评价，但仅仅具有超高分辨率还远远不够。还要求能在低加速电压下对表面细微结构的观察和高灵敏度的元素分析。除此之外，在长期的研究过程中还追求电镜的性能的持续稳定和信赖性。 本次发布的新品牌 "Regulus系列" 电子光学系统进行了优化处理，使得着陆电压在1kV时分辨率较前代机型提高了约20％。"Regulus8220/8230/8240"达到0.9nm，"Regulus8100"为1.1 nm的分辨率。另外，最适合低加速电压下高分辨观察的冷场电子枪可将样品的细节放大，并获得高质量的图片。最大放大倍率也由之前的100万倍提高到了200万倍。除此之外，为了能更好的应对不同样品的测试和保持并发挥出高性能，还对用户辅助工能进行了强化，如信号检测系统的操作辅助功能，维护辅助功能等。主要特点搭载了色差极小的适合低加速电压高分辨率观察的冷场电子枪跟前代机型相比分辨率大约提高了20%（Regulus8220/8230/8240：0.9 nm/1 kV，Regulus8100：1.1 nm/1 kV）最大倍率从原来的100万倍提高到200万倍*1用户辅助功能，帮助用户把仪器的高性能完全发挥出来主要参数名称Regulus8100Regulus8240/8230/8220二次电子分辨率0.8 nm（加速电压 15 kV）0.7 nm（加速电压 15 kV）1.1 nm（着陆电压 1 kV）*20.9 nm（着陆电压 1 kV）*2加速电压0.5~30 kV0.5~30 kV着陆电压*20.1~2 kV0.01~20 kV倍率20~1,000,000倍*320~2,000,000倍*3马达台控制3轴自动*?5轴自动*1 仅限 Regulus8240/8230/8220*2 减速模式观察*3 127 mm × 95 mm 视野的画面倍率*? 5轴马达台为选配项

"Regulus系列"是日立高新技术的FE-SEM的全新品牌，包括作为SU8010的后续机型开发的 "Regulus8100" 以及SU8200系列的升级 "Regulus8220" "Regulus8230" "Regulus8240"，共4个机型，均实现了分辨率和操作性的强化。　　扫描电子显微镜（SEM）被广泛应用于纳米技术，半导体?电子行业，生命科学，材料科学等领域的材料结构观察。近年来，新一代的电子器件应用中受到广泛期待的新型碳材料，高分子材料，复合材料等的研究作为先进科学技术的中坚技术，在全世界范围内受到热捧。扫描电子显微镜广泛用于这些材料的观察?评价，但仅仅具有超高分辨率还远远不够。还要求能在低加速电压下对表面细微结构的观察和高灵敏度的元素分析。除此之外，在长期的研究过程中还追求电镜的性能的持续稳定和信赖性。　　本次发布的新品牌 "Regulus系列" 电子光学系统进行了最优化处理，使得着陆电压在1kV时分辨率较前代机型提高了约20％。"Regulus8220/8230/8240"达到0.7nm，"Regulus8100"为0.8 nm的分辨率。另外，最适合低加速电压下高分辨观察的冷场电子枪可将样品的细节放大，并获得高质量的图片。最大放大倍率也由之前的100万倍提高到了200万倍。　　除此之外，为了能更好的应对不同样品的测试和保持并发挥出高性能，还对用户辅助工能进行了强化，如信号检测系统的操作辅助功能，维护辅助功能等。主要特点搭载了色差极小的适合低加速电压高分辨率观察的冷场电子枪跟前代机型相比分辨率大约提高了20%（Regulus8220/8230/8240：0.7 nm/1 kV，Regulus8100：0.8 nm/1 kV）最大倍率从原来的100万倍提高到200万倍*1用户辅助功能，帮助用户把仪器的高性能完全发挥出来主要参数名称Regulus8100Regulus8240/8230/8220二次电子分辨率0.7 nm（加速电压 15 kV）0.8 nm（着陆电压 1 kV）*20.6 nm（加速电压 15 kV）0.7 nm（着陆电压 1 kV）*2加速电压0.5~30 kV0.5~30 kV着陆电压*20.1~2 kV0.01~20 kV倍率20~1,000,000倍*320~2,000,000倍*3马达台控制3轴自动*45轴自动*1 仅限 Regulus8240/8230/8220*2 减速模式观察*3 127 mm × 95 mm 视野的画面倍率*4 5轴马达台为选配项

SU-70电子显微镜是一种新概念扫描电子显微镜，它采用了日立经过实地验证的 "semi-in-lens"超高分辨率技术以及肖特基热场发射电子枪技术。除了具有超高分辨率（1.0 nm/15 kV，1.6 nm*/1 kV）的特点外，它还借助声名远播的SuperExB功能可观察减轻荷电图像，成分构成对比图像，超低加速电压图像*。肖特基场发射电子枪的探针电流为100 nA，可进行各种各样的分析操作（X 射线能谱仪*, X射线波谱仪*,电子背散射衍射系统*等）。

FE-1050系列场发射扫描电子显微镜，国内首款领势旗舰机型。 在新一代电子光学镜筒的加持下，展现低电压、高分辨的卓越性能。 27个端口拓展、大舱室，轻松应对各类成像、分析需求。 极简化操作、自动化交互、智能化特征识别统计，成倍提高工作效率。 终身售后保障，7*24售后响应。以“质”为先，以“优”为本，助力微观世界的探索与发现。贴近用户设计的系统交互操作，最大简化系统操作，即使没有电镜使用经验的用户也可轻松上手。软硬件结合的智能化操作流程能够真正将用户从繁琐的重复操作中解放出来。

日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000是专门为电子束敏感样品和需最大300万倍稳定观察的先进半导体器件，高分辨成像所设计。新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。0.4nm / 30kV（SE）0.7nm / 1kV（SE）0.34nm / 30kV（STEM）用改良的高真空性能和无与伦比的电子束稳定性来实现高效率截面观察。采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。

SEM5000X是一款超高分辨率场发射扫描电子显微镜，其分辨率达到了突破性的0.6 nm@15 kV和1.0 nm@1 kV。高分辨物镜设计、高压隧道技术（SuperTunnel）以及镜筒工艺升级，实现了低电压分辨率的进一步提升。全新设计的样品仓，扩展接口增加至16个，快速换样仓最大支持8寸晶圆（最大直径208 mm），极大扩展应用范围。高级扫描模式和自动功能增强，带来了更强的性能和更好的体验。产品优势超高分辨率成像，达到了突破性的0.6 nm@15 kV和1.0 nm@1 kV样品台减速和高压隧道技术组合的双减速技术，挑战极限样品拍摄场景高精度机械优中心样品台、超稳定性的机架减震设计，可搭配整体罩壳设计，极大减弱环境对极限分辨率的影响最大支持8寸晶圆(最大直径208 mm)的快速换样仓，满足半导体和科研应用需求应用案例产品参数