等离子体清洗机

PLASMA SURFACE TREATMENT等离子体表面处理HPT系列小型等离子体处理机/清洗机来自英国Henniker Scientific的HPT系列小型等离子处理装置是一款进行表面处理的理想装置，可用于多种材料的表面活化、清洗及改性，全自动5.7英寸液晶屏操作，两路的进气装置可使您选择很好的处理工艺，包括但不仅限于空气、氢气、氩气、氮气及其它气体，亦可对纯气体进气系统进行扩展至蒸汽进气，应用领域十分广泛。等离子体清洗表面活化改善粘着性功能涂镀等离子刻蚀PDMS & PEEK& PTFE表面处理金属、陶瓷、玻璃表面预处理聚合物沉积表面残留物去除优势- 桌上型紧凑结构- 简易TFT操作界面- 自动存储- 快速自动处理- 高精确性&高重复性

CIF 推出的专为处理粉体如粉末、颗粒状材料样品而设计的粉体专 用等离子清洗机，可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材 料，改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。同时可实现 常规等离子清洗。粉体等离子清洗机原理：粉体等离子清洗机就是在常规等离子清洗机真空腔内，放置可旋转并带搅 拌的样品瓶，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离 子体，作用在样品瓶内粉体样品上，通过等离子体轰击被清洗粉体材料表面， 改变材料表面性质，优化材料表面性能。等离子体作用在粉体上，可以有目的地改变粉体的物理、化学性质，在保持粉体材料原有性能的前提下，赋予其表面 新的性能，使其表面性质由疏水性变为亲水性或由亲水性变为疏水性，从而改善粉体粒子表面的浸润性，增强粉体粒子在 介质中的界面相容性，使粒子容易分散在水中或有机化合物中。技术参数：型号CPCP3CPCP3plus舱体尺寸D200XΦ155mmD200XΦ155mm舱体容积3.8L3.8L舱体材质不锈钢或石英玻璃可选不锈钢或石英玻璃可选石英转瓶尺寸Φ75xH120mmΦ75xH120mm转瓶转速0-100rpm 可调0-100rpm 可调射频电源40KHz13.56MHz射频功率0-600W 可调0-150W 可调匹配器自动匹配自动匹配激发方式电容式或电感式电容式或电感式气体控制双浮子流量计时间设定9999 秒真空泵抽速 4m³ /h气体稳定时间1 分钟真空度100pa 以内电源AC220V 50/60Hz 666/316W产品尺寸L425xW420xH465mm包装尺寸L560xW545xH730mm整机重量32kg

CIF粉体等离子清洗机CIF专为处理粉体如粉状、颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机，可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料，改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。详细信息CIF专为处理粉体如粉状、颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机，可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料，改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。等离子体作用在粉体上，可以有目的地改变粉体的物理化学性质，在保持粉体原有性能的前提下，赋予其表面新的性能，使其表面性质由疏水性变为亲水性或由亲水性变为疏水性，从而改善粉体粒子表面的浸润性，增强粉体粒子在介质中的界面相容性，使粒子容易分散在水中或有机化合物中。粉体材料表面改性是材料制备，新材料、新工艺和新产品开发的重要方法，提高了粉体材料的附加价值，扩大了粉体材料的应用领域。CIF推出CPCP-G系列新一代带搅拌功能的专为处理粉体样品的等离子清洗机，采用质量流量计（MFC）气体输送控制。主要特点是专业、处理样品量大、快速高效、动态清洗，处理均匀、无死角、无污染、气体输入准确。 技术参数型号CPCP-GCPCP- Gplus舱体尺寸H120XΦ370mm H120XΦ370mm舱体容积12.8L12.8L石英转瓶尺寸Φ286xH88mmΦ286xH88mm转瓶转速1-15rpm/秒可调1-15rpm/秒可调射频电源40KHz13.56MHz匹配器自动匹配自动匹配射频功率10-300W可调10-300W可调气体控制质量流量计（MFC）（标配单路，可选双路）产品尺寸L618xW520xH665mm

plasma等离子清洗机工作原理：等离子体是正离子和电子的密度大致相等的电离气体。由离子、电子、自由激进分子、光子以及中性粒子组成，是物质的第四态。在等离子体中除了气体分子、离子和电子外，还有存在受到能量激励状态电中性的原子或原子团(又称自由基)，以及等离子体发射出的光线，其中波的长短、能量的高低,在等离子体与物体表面相互作用时有着重要的作用。（1）原子团等自由基与物体表面的反应（2）电子与物体表面的作用（3）离子与物体表面的作用（4）紫外线与物体表面的反应运用等离子体的特殊化学物理特性，plasma等离子清洗机的主要用途如下：1. 去除灰尘和油污、去静电；2. 提高表面浸润功能，形成活化表面；3. 提高表面附着能力、提高表面粘接的可靠性和持久性；4. 刻蚀物的处理作用.plasma等离子清洗机作用效果：（A）对材料表面的刻蚀作用--物理作用 等离子体中的大量离子、激収态分子、自由基等多种活性粒子，作用到固体样品表面，清除了表面原有的污染物和杂质，而且会产生刻蚀作用，将样品表面变粗糙，形成许多微细坑洼，增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。（B）激活键能，交联作用等离子体中的粒子能量在 0~20eV，而聚合物中大部分的键能在 0~10eV，因此等离子体作用到固体表面后，可以将固体表面的原有的化学键产生断裂，等离子体中的自由基中的这些键形成网状的交联结构，大大地激活了表面活性。（C）形成新的官能团--化学作用如果放电气体中引入反应性气体，那么在活化的材料表面会发生复杂的化学反应，引入新的官能团，如烃基、氨基、羧基等，这些官能团都是活性基团，能明显提高材料表面活性。深圳市东信高科自动化设备有限公司,专注等离子表面处理工艺。网址：

CIF等离子清洗机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬，产品性能稳定可靠。主要核心部件全部采用原装进口。 清洗原理： 等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四种状态存在，如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。清洗原理: 等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四种状态存在，如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。 等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。应用领域:?等离子清洗机在科学研究各方面已经取得了广泛的运用，涉及材料学，光学，电子学，医药学，环境学 生物学等不同领域，主要用于以下实验：?表面清洁 ?表面活化?键合?去胶?金属还原?简单刻蚀?器械的消毒?去除表面有机物?疏水实验?镀膜前处理等 产品特点：?采用美国霍尼韦尔真空压力传感器，性能稳定可靠；?采用美国气体浮子流量计，流量显示准确；?独特双路气体控制方式，气体控制更加稳定；?弧形电极板设计，清洗更完全；?舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质，防腐不生锈；?手动、自动两种工作模式，可根据客户需求任意切换；?触摸按键+4.3寸大屏幕彩色液晶显示屏设计，显示清晰，操作简单；?智能程序化控制，可编程自动完成整个实验过程；?无需任何耗材，使用成本低；?无需特殊进行维护，在日常使用过程中保持仪器清洁即可；?整机保修一年。 技术参数：

CIF粉体等离子清洗机等离子体作用在粉体上，可以有目的地改变粉体的物理化学性质，在保持粉体原有性能的前提下，赋予其表面新的性能，使其表面性质由疏水性变为亲水性或由亲水性变为疏水性，从而改善粉体粒子表面的浸润性，增强粉体粒子在介质中的界面相容性，使粒子容易分散在水中或有机化合物中。粉体材料表面改性是材料制备，新材料、新工艺和新产品开发的重要方法，提高了粉体材料的附加价值，扩大了粉体材料的应用领域。 CIF专为处理粉体如粉状、颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机，可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料，改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。产品特点u 专业处理粉体u 动态清洗，无死角，处理均匀u 快速高效u 无污染 技术参数型号CPC-CCPC-C-13.56舱体尺寸300xΦ150mm300xΦ150mm舱体容积5.2L5.2L石英转瓶尺寸60x60x120mm60x60x120mm转瓶转速1-15rpm/秒可调1-15rpm/秒可调射频电源40KHz13.56MHz匹配器自动匹配自动匹配射频功率10-200W无极可调10-150W无极可调电 源220V 50/60HZ220V 50/60HZ电 流1.2A1.2A时间设定1-99分59秒1-99分59秒气体稳定时间1分钟1分钟真空度100pa以内100pa以内激发方式电容式电容式产品尺寸 LxWxH550x520x285mm550x520x285mm包装尺寸 LxWxH690x630x450mm690x630x450mm整机重量26Kg31Kg

CIF粉体等离子清洗机等离子体作用在粉体上，可以有目的地改变粉体的物理化学性质，在保持粉体原有性能的前提下，赋予其表面新的性能，使其表面性质由疏水性变为亲水性或由亲水性变为疏水性，从而改善粉体粒子表面的浸润性，增强粉体粒子在介质中的界面相容性，使粒子容易分散在水中或有机化合物中。粉体材料表面改性是材料制备，新材料、新工艺和新产品开发的重要方法，提高了粉体材料的附加价值，扩大了粉体材料的应用领域。 CIF专为处理粉体如粉状、颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机，可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料，改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。 产品特点u 专业处理粉体u 动态清洗，无死角，处理均匀u 快速高效u 无污染 技术参数型号CPC-CCPC-C-13.56舱体尺寸300xΦ150mm300xΦ150mm舱体容积5.2L5.2L石英转瓶尺寸60x60x120mm60x60x120mm转瓶转速1-15rpm/秒可调1-15rpm/秒可调射频电源40KHz13.56MHz匹配器自动匹配自动匹配射频功率10-200W无极可调10-150W无极可调电 源220V 50/60HZ220V 50/60HZ电 流1.2A1.2A时间设定1-99分59秒1-99分59秒气体稳定时间1分钟1分钟真空度100pa以内100pa以内激发方式电容式电容式产品尺寸 LxWxH550x520x285mm550x520x285mm包装尺寸 LxWxH690x630x450mm690x630x450mm整机重量26Kg31Kg

CIF粉体等离子清洗机等离子体作用在粉体上，可以有目的地改变粉体的物理化学性质，在保持粉体原有性能的前提下，赋予其表面新的性能，使其表面性质由疏水性变为亲水性或由亲水性变为疏水性，从而改善粉体粒子表面的浸润性，增强粉体粒子在介质中的界面相容性，使粒子容易分散在水中或有机化合物中。粉体材料表面改性是材料制备，新材料、新工艺和新产品开发的重要方法，提高了粉体材料的附加价值，扩大了粉体材料的应用领域。 CIF专为处理粉体如粉状、颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机，可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料，改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。产品特点u 专业处理粉体u 动态清洗，无死角，处理均匀u 快速高效u 无污染 技术参数型号CPC-CCPC-C-13.56舱体尺寸300xΦ150mm300xΦ150mm舱体容积5.2L5.2L石英转瓶尺寸60x60x120mm60x60x120mm转瓶转速1-15rpm/秒可调1-15rpm/秒可调射频电源40KHz13.56MHz匹配器自动匹配自动匹配射频功率10-200W无极可调10-150W无极可调电 源220V 50/60HZ220V 50/60HZ电 流1.2A1.2A时间设定1-99分59秒1-99分59秒气体稳定时间1分钟1分钟真空度100pa以内100pa以内激发方式电容式电容式产品尺寸 LxWxH550x520x285mm550x520x285mm包装尺寸 LxWxH690x630x450mm690x630x450mm整机重量26Kg31Kg

CIF粉体等离子清洗机等离子体作用在粉体上，可以有目的地改变粉体的物理化学性质，在保持粉体原有性能的前提下，赋予其表面新的性能，使其表面性质由疏水性变为亲水性或由亲水性变为疏水性，从而改善粉体粒子表面的浸润性，增强粉体粒子在介质中的界面相容性，使粒子容易分散在水中或有机化合物中。粉体材料表面改性是材料制备，新材料、新工艺和新产品开发的重要方法，提高了粉体材料的附加价值，扩大了粉体材料的应用领域。 CIF专为处理粉体如粉状、颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机，可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料，改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。产品特点u 专业处理粉体u 动态清洗，无死角，处理均匀u 快速高效u 无污染 技术参数型号CPC-CCPC-C-13.56舱体尺寸300xΦ150mm300xΦ150mm舱体容积5.2L5.2L石英转瓶尺寸60x60x120mm60x60x120mm转瓶转速1-15rpm/秒可调1-15rpm/秒可调射频电源40KHz13.56MHz匹配器自动匹配自动匹配射频功率10-200W无极可调10-150W无极可调电 源220V 50/60HZ220V 50/60HZ电 流1.2A1.2A时间设定1-99分59秒1-99分59秒气体稳定时间1分钟1分钟真空度100pa以内100pa以内激发方式电容式电容式产品尺寸 LxWxH550x520x285mm550x520x285mm包装尺寸 LxWxH690x630x450mm690x630x450mm整机重量26Kg31Kg

美国Harrick等离子清洗机Harrick Plasma公司的等离子清洗机是一种小型化、非破坏性的超清洗设备。等离子清洗机采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子清洗机外接一台真空泵，工作时清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面，短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉，同时污染物被真空泵抽走，其清洗程度达到分子级。等离子清洗机除了具有超清洗功能外，在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能，等离子体作用于材料表面，使表面分子的化学键发生重组，形成新的表面特性。对某些有特殊用途的材料，在超清洗过程中等离子清洗机的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性，并可消毒和杀菌。等离子清洗机广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。区域经理张丽丽： 扣扣：美国Harrick等离子清洗机产品参数* 紧凑的台式设备、没有RF放射、符合CE安全标准。* 功率为低、中、高三档可调。* 两种型号：基本型：PDC－32G－2等离子清洗机清洗舱：长7英寸，直径3英寸；舱盖可拆卸。整机尺寸：8英寸H×10英寸W×8英寸D扩展型：PDC－002等离子清洗机清洗舱：长6英寸，直径6英寸；舱盖具备铰链和磁力锁，并有一aa个可视窗口。整机尺寸：11英寸H×18英寸W×9英寸D产品介绍等离子清洗机应用：* 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。* 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。* 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。* 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。* 清洗半导体元件、印刷线路板。* 清洗生物芯片、微流控芯片。* 清洗沉积凝胶的基片。* 高分子材料表面修饰。* 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。* 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。区域经理张丽丽： 扣扣：

等离子清洗机 HWPC-100型仪器简介等离子清洗机是一种小型的非破坏性表面处理设备，它是采用能量转换技术，在一定真空负压的状态下以电能将气体转化为活性极高的等离子体，等离子体能轻柔冲刷固体样品表面，引起分子结构的改变，从而达到对样品表面有机污染物进行超清洗，在极短时间内有机污染物就被外接真空泵彻底抽走，其清洗能力可以达到分子级。在一定条件下还能使样品表面特性发生改变。因采用气体作为清洗处理的介质，所以能有效避免样品的再次污染。等离子清洗机既能加强样品的粘附性、相容性和浸润性，也能对样品进行消毒和杀菌。应用领域等离子清洗技术现已广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子、生物医学、微观流体学等领域。仪器构造正面示意图 背面示意图1—机箱；2—耐热玻璃清洗舱；3—清洗舱门；4—总电源开关5—五寸触摸屏；6—流量调节阀Ⅰ；7—流量调节阀Ⅱ8—选配清洗气源进气口Ⅲ、Ⅳ；9—散热风扇；10—电源输入插孔11—真空泵抽气口；12—真空泵接线口；13—清洗气源进气口Ⅰ、Ⅱ技术指标1、功能特点1.1采用5寸彩色触摸屏操作界面，人机交互操作方便，界面友好；1.2微电脑控制整个清洗过程，全自动进行；1.3手动、自动两种工作模式；1.4采用电子流量计+手动微调阀的气路控制模式，标配双气路，最多可配置四气路；1.5可选择气体质量流量计（选配，最多4路气体）1.6弧形等离子激发板，等离子激发能力更强；1.7安全保护，气压阈值，切断高压；2、技术参数2.1舱体尺寸：D270*ø 150mm2.2舱体容积：5L2.3射频电源：40KHz2.4激发方式：电容式2.5射频功率：10~300W2.6气体控制：电子流量计+旋钮式微调阀2.7产品尺寸：L460*W455*H237mm2.8真空泵抽速：2.9真空度：100Pa以内2.10电源：AC220V50-60Hz

处理大面板的等离子清洗机是一个模块化系统,越来越多的高校用户及生产厂家在广泛的面板中看到,在表面能量不足的情况下,需要对新材料进行表面处理.等离子体工艺为塑料的预处理提供了丰富的可能性。外部：使用无溶剂墨水和粘合剂进行高速可靠标记和打印。内部：在填充之前创建阻隔层并对食品包装进行消毒。凭借多次成熟成功的应用，大气等离子体清洗机已成为许多包装制造商的好方法。在实际应用中，为确保产品和设备安全处理尤为重要。高度工程聚合物如PS（聚苯乙烯），PEEK（聚醚酮）或PC（聚碳酸酯）通常在制造过程中加工。等离子体处理大面板，低压技术为预处理不同材料，特别是塑料提供了有效的解决方案。可用于清洁和激活大型面板表面。这种用于处理大面板的等离子清洗机是一个模块化系统，可以组装到任何需要的宽度。越来越多的高校用户及生产厂家在广泛的面板中看到，在表面能量不足的情况下，需要对新材料，塑料或再生材料进行表面处理。等离子清洗机的特点和好处：新材料 - 广泛的原材料表面性能处理，提高附着力不再需要底漆 - 成本降低，更好的过程控制更好的表面油漆或油墨流动 - 成品的高质量干燥过程 - 无排放，比其他过程快现代蜂窝结构的轻质PP面板用于汽车制造的各种结构。主要优点是传统夹层板重量的一小部分具有高稳定性。实现纤维增强聚丙烯饰面的统一，广泛的预处理带来了一些挑战 - 特别是当制造商努力在同等程度上提高效率，成本效益和环保性时。旋转喷嘴可以使宽度超过3米的面板以高达25米/分钟的速度进行处理。在前灯预处理过程中，在线过程控制表面质量在生产车灯外壳期间使用等离子预处理密封区域是应用之一。

PTL真空等离子系统致力于为航空航天、国防军工、汽车工业、半导体制造、纺织技术、电子微电子、生物工程、医学医疗、塑料橡胶、科研开发等行业客户提供解决方案，以帮助客户提高产品质量、提升生产效率，同时降低对环境的不良影响。 PTL的等离子清洗和等离子刻蚀设备。采用先进的集成化技术开发生产射频频率为40KHz、13.56MHz，以及代表等离子应用最先进技术的2.45GHz的等离子清洗机。 PTL等离子表面处理系统的特点：等离子清洗机清洗效果好，效率高，应用范围广。对清洗样品，没有任何材质、外观尺寸等要求等离子清洗过程中，温升很小，基本可达到常温处理。射频功率无极连续可调。高效的特制电极，是产生均匀等离子体的保证。特制电极和托盘结构，可充分利用真空舱体内部空间，使处理效率最大化，同时也可保证样品可得到全面有效的清洗。特有的过载、短路和过热保护电路，可保证射频电源的稳定和安全。设备整体模块化设计，安装与维护极为简单。

设备介绍：微波等离子清洗机的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看，等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被激发为等离子态；气相物质被吸附在固体表面；被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子解析形成气相；反应残余物脱离表面。设备特点：微波等离子清洗机技术的最大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。微波等离子清洗机还具有以下几个特点：容易采用数控技术，自动化程度高；具有高精度的控制装置，时间控制的精度很高；正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证；由于是在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被二次污染设备应用：微波等离子清洗系统广泛应用于晶圆、玻璃基板、陶瓷基板、IC载板、引线框架、IGBT模块、带治具的MEMS传感器、射频器件等领域的表面处理

1. 仪器介绍等离子清洗机是一种小型的非破坏性表面处理设备，它是采用能量转换技术，在一定真空负压的状态下以电能将气体转化为活性极高的等离子体，等离子体能轻柔冲刷固体样品表面，引起分子结构的改变，从而达到对样品表面有机污染物进行超清洗，在极短时间内有机污染物就被外接真空泵彻底抽走，其清洗能力可以达到分子级。在一定条件下还能使样品表面特性发生改变。因采用气体作为清洗处理的介质，所以能有效避免样品的再次污染。等离子清洗机既能加强样品的粘附性、相容性和浸润性，也能对样品进行 消毒和杀菌。等离子清洗技术现已广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子、生物医学、微观流体学等领域。2. 产品特点&bull 采用5寸彩色触摸屏操作界面，人机交互操作方便，界面友好；&bull 手动、自动两种工作模式；&bull 微电脑控制整个清洗过程，全自动进行；&bull 采用电子流量计+手动微调阀的气路控制模式，标配双气路，最多可配置四气路；&bull 可选择气体质量流量计（选配，最多4路气体）&bull 弧形等离子激发板，等离子激发能力更强；&bull 安全保护，气压阈值，切断高压；3. 技术参数舱体尺寸：D270*ø 150mm舱体容积：4.6L射频电源：40KHz激发方式：电容式射频功率：10~300W气体控制：电子流量计+旋钮式微调阀产品尺寸：L460*W455*H237mm真空泵抽速：真空度：100Pa以内电源：AC220V50-60Hz

一、产品简介CIF专为处理粉体如粉状、颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机，可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料，改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。等离子体作用在粉体上，可以有目的地改变粉体的物理化学性质，在保持粉体原有性能的前提下，赋予其表面新的性能，使其表面性质由疏水性变为亲水性或由亲水性变为疏水性，从而改善粉体粒子表面的浸润性，增强粉体粒子在介质中的界面相容性，使粒子容易分散在水中或有机化合物中。粉体材料表面改性是材料制备，新材料、新工艺和新产品开发的重要方法，提高了粉体材料的附加价值，扩大了粉体材料的应用领域。 二、产品特点1. 7寸彩色触摸屏互动操作界面，图形化用户操作界面显示，自动监测工艺参数状态，20个配方程序，可存储、输出、追溯工艺数据，机器运行、停止提示。2. PLC工控机控制整个清洗过程，手动、自动两种工作模式。3. 采用弧形等离子激发板设计，等离子激发能力更强。4. 采用美国德威尔（Dwyer）气体浮子流量计，双路气体控制气体流量，可输入氧气、氩气、氮气、氢气或混合气等气体，气体分配均匀，经济实用。5. HEPA高效过滤，气体返填吹扫，防止二次污染。6. 采用316不锈钢真空舱体，洁净无污染。7. 全真空管路系统采用316不锈钢材质。8. 符合人体功能学的60度倾角操作界面设计，操作方便，界面友好。9. 上控制下舱体结构设计，结构紧凑，占用实验室空间小。10. 内凹式前面板设计，有效保护流量计和舱门运输过程中不易损坏。11. 安全保护，仓门打开，自动关闭电源。12. 动态清洗，清洗完全，无死角，无污染，并且专业、均匀、快速、高效。三、技术参数型号CPCP3CPCP3plus舱体尺寸D200XΦ155mmD200XΦ155mm舱体容积3.8L3.8L石英转瓶尺寸Φ75xH120mmΦ75xH120mm转瓶转速1-15rpm/秒可调1-15rpm/秒可调射频电源40KHz13.56MHz匹配器自动匹配自动匹配激发方式电容式电容式射频功率10-300W可调10-150W可调气体控制双浮子流量计产品尺寸L425xW420xH465mm时间设定1-99分59秒气体稳定时间1分钟真空度100pa以内电 源220V 50/60Hz

小型真空等离子清洗机，等离子体清洗的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的"活化作用"达到去除物体表面污渍的目的。等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态 气相物质被吸附在固体表面 被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子 产物分子解析形成气相 反应残余物脱离表面。等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。小型真空等离子清洗机供电电源AC220V（AC110V可选)工作电流整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵)射频电源功率150W射频频率13.56MHz频率偏移量＜0.2MHz特性阻抗50欧姆，手动匹配耦合方式电容耦合真空度≤50Pa腔体材质高纯石英腔体容积2L(内径110MMX深度220MM)观察窗内径Φ50气体流量0—50ml/min（其他量程可选）过程控制过程手动控制清洗时间手动开关开盖方式铰链侧开式法兰外形尺寸450x450x360mm重量23Kg真空室温度小于65°C冷却方式强制风冷标配KF16真空管1米，kf16卡箍2个，不锈钢网匣1个，电源线一根，说明书一本。

等离子体表面处理（也称为大气等离子体）改善了聚合材料，橡胶，金属，玻璃，陶瓷等的润湿性能。修改难以粘合的材料的分子以获得更好的粘附性，而不会对表面造成伤害。等离子体表面处理（也称为大气等离子体）改善了聚合材料，橡胶，金属，玻璃，陶瓷等的润湿性能。修改难以粘合的材料的分子以获得更好的粘附性，而不会对表面造成伤害。等离子处理非常适用于三维塑料件，薄膜，橡胶型材，涂层纸板和较厚的材料，如泡沫和实心材料片材。该技术在许多工业领域，包括医疗，汽车，包装，FPC，手机和聚合物薄膜都是有效的。通常，泡沫，玻璃，塑料片和波纹材料具有较差的润湿性，需要用到等离子表面处理，常规的应用有：1、塑料片通常需要在整理应用前进行表面处理。2、玻璃表面的疏水性质引起许多粘合困难。3、在涂装，印刷或涂布之前，很多材料通常需要微处理。由于它们的材料组成和不平坦的表面，波纹塑料板和壁板抵抗后处理应用。等离子处理系统通过成熟的技术来处理这些问题，来实现高性能和高效的生产是可以的，因为我们的电晕和等离子体系统增加了油墨，涂料和粘合剂与基材的粘结。等离子清洗系统专为电晕处理多达3mm厚度和660 mm宽的塑料片而设计。 它非常适合生产线或手动处理站，用于简单，基于配方的操作，产生大量的等离子体，来增加表面性能活化处理效果，从而在基材和油墨，层压板，涂料和粘合剂之间形成牢固的粘合。 该系统可以在印刷或层压之前进行设置，也可以作为独立的手动系统使用。通过高能量电晕场。 内置传感器自动告知系统何时打开和关闭治疗。 过程控制界面提供均匀，可靠和可重复的表面处理。目 前，达因特已经创建了大气和真空两类不同的等离子处理专用系统，用于表面处理厚度达到2米宽的厚和敏感材料，如板，玻璃，挤压中空板，泡沫，蜂窝材料和印刷电子。 线性等离子体系统可以配置为产生无电位处理，防止对精细基板和嵌入式电路造成损坏。在电晕和等离子体表面处理系统中提供先进的技术，为客户提供真正，经济高效的粘合，印刷和涂层应用解决方案。1、 通过研究，专业知识，创新和经验将优质的产品带到国内市场。2 、提供全系列的标准和定制产品，以满足客户的需求，无论项目的规模和范围如何。3 、通过认真协作，优质的产品和优质的服务建立积极的，长期的客户关系。4 、培养在职业，道德和安全环境中提供员工工作满意度的工作环境。当需要将塑料材料粘合到金属或其他塑料上时，要在塑料，硅胶，橡胶，玻璃或复合材料表面上印刷或涂层，则成功的结果取决于对该表面的粘合性。等离子体表面处理改变了表面（人眼不可见），并改善了许多应用的粘合。粘合强度依赖于一种特定的性能：表面能或张力。

大气压等离子清洗机如何量化等离子处理效果,如何检测等离子处理,通过接触角测量仪测量量化效果,等离子体技术的优势,材料在经过等离子处理之后,建议不要将零部件存放于露天环境中.　　　　1、大气压等离子清洗机接受过处理的零部件在进行后续加工之前可存放多久？　　 零部件的存放时间取决于活化时间和材料 ，最短为几分钟，最多可达到数月。因此，通常有必要进行现场试验。　　2、应如何存放经过处理的零部件？　　 在经过等离子处理之后，建议不要将零部件存放于露天环境中，因为其会吸附灰尘、有机污染物和湿气。用收缩膜包装的零部件较之于露天存放的零部件，明显具有更高的保质期。在与客户密切协商后，对由我们进行了表面处理的零部件进行包装，例如，经过测试认证的无硅 PE 包装袋、防静电包装 ，或者客户提供给我们的定制包装材料。　　3、为什么不允许触摸经过处理的零部件？　　 等离子体会去除有机污染物，但是无法去除无机污染物。例如，指纹的汗水中含有盐份（无机污染物），故此仅可以用手套接触零部件。　　4、如何量化等离子清洗后的效果？　　 接触角/湿润角　　 接触角是指三相交点处所观察到的静止液滴在固体上的投影与固体表面上液滴形状的相切夹角。按照物理定义，表面的接触角小于 90° 的为亲水性（润湿性）表面，如果 接触角大于 90° 则为疏水性（非润湿性）表面。通过等离子处理 ，接触角会发生变化（变大、变小）。通过适当的等离子工艺或者以等离子工艺进行适当的涂层处理， 亲水性表面会转变为 疏水性表面（进行亲水性涂层处理，则得到相反的效果）。　　　　4、如何检测等离子处理？　　 通过指示标签以及等离子指标-金属化合物，等离子设备的用户可以识别是否已进行过等离子处理。该项测试实际上不需要花费时间。其可应用于任何等离子设备的任何处理用途，无论是清洗、活化、蚀刻 或者涂层 。该指标可用于确认您的产品和半成品之前是否接受过等离子处理，即使已过了几周和几个月。　　 指示标签：胶粘标签是一种特别经过涂层处理的薄膜，其即可作为参考 直接 置于腔室中，也可以贴在零部件上。只要暗色的指示点消失，则表明已成功完成了等离子处理。然而，指示标签还可以用于设备测试。对于这种情况，可将标签置于空的真空腔室中，并点燃等离子体。　　 等离子指标-金属化合物　　 等离子指标是一种液态金属化合物，其在等离子体中会发生分解，从而使接受等离子处理的物体表面具有一层光泽的金属表面。滴涂在零部件本身或者一份 参考样本上的液滴，等离子处理时会在大部分表面上转化为光泽的金属涂层，并与最初的无色液滴形成鲜明的对比。等离子体中所产生的具有金色光泽的金属膜与物体所有其他颜色之间存在着 光学反射率，正是通过这种反射率能够对其进行明确的区分。　　5、.等离子体技术拥有哪些优势？　　 较之于诸如火焰处理或者湿式化学处理之类的其他方法，等离子体技术具有决定性的优势：　　 很多表面特性只能通过该种方法获得　　 一种普遍适用的方法： 具有在线生产能力，并可实现全自动化　　 一种极为环保的工艺方法　　 基本不受几何形状的限制，可对粉剂、小零件、片材、无纺布、纺织品、软管、中空体、印刷电路板等进行处理　　 零部件不会发生机械改动　　 零部件受热较少　　 极低的运行成本　　 较高的工艺安全性和作业安全性　　 一种极为理性的工艺。　　6、大气压等离子清洗机可用于以下用途：　　 通过等离子体射流中所含的活性粒子（自由基）的反应进行活化。此外，借助经压缩空气加速的等离子体射流可以去除表面散落的、附着性颗粒。专为预处理塑料模制零部件而设计，以便改善　　印刷油墨　　油漆　　胶粘剂　　泡沫等　　的附着现象。　　对于良好的表面处理而言，以下几点至关重要：　　仅可用于处理非导电性材料。　　对于实现所需的表面特性而言，处理速度以及电晕头与待处理表面之间的距离是最重要的参数。改动参数会彻底改变预处理效果。　　较低的速度和/或反复处理均会导致均匀的表面活化。

仪器简介： 国产PDC系列等离子清洗（处理）机是一种表面处理设备, 用气体作为处理介质，它是利用能量转换技术以电能将气体转换为化学反应性和活性很高的气体等离子体，等离子体对固体样品表面进行相互作用，引起分子结构改变，从而对样品表面的有机污染物进行超清洗和使样品表面改性，以获得希望的表面特性。用气体作为处理介质有效地避免了对环境和样品带来的二次污染。等离子清洗器外接一台真空泵，工作时气体等离子体轻柔冲刷样品的表面，短时间就可以使有机污染物被彻底地清洗掉，同时污染物被真空泵抽走，其清洗能力达到分子级。等离子清洗器可对样品的表面改性，加强样品的粘附性、相容性和浸润性，也可对样品消毒和杀菌。 国产PDC系列等离子清洗机是针对国外等离子清洗器价格贵,难以推广等缺点,吸取了现有国内外等离子清洗机的优点,结合中国用户的需求和使用习惯,利用现代先进的科技手段而开发生产出的新型系列等离子清洗机。它除具有一般等离子清洗机的优点外，更具有性价比高，使用成本低，特别易于维护的优点，而且可选性极强，可以满足各种用户不同使用目的对设备的特殊需求。清洗舱的材料有耐热玻璃、不锈钢可选；不锈钢清洗舱有圆形、方形可选；清洗舱的尺寸可根据用户的实际需要制定；清洗舱中工装支架可根据用户清洗件的尺寸量身定做。技术参数：型号规格：PDC－MG1.整机规格：500×300×300（长×宽×高）mm2.整机重量：35 Kg3.清洗舱规格：Φ165×L210 mm (耐热玻璃)4.清洗舱有效容积：4.5 L5.输入电源：220 V／50 Hz6.整机输入功率：400 W7.射频输出：0～150 W（连续可调）8.射频频率：13.56 MHz9.数字式定时器范围：0～99.99 min10.极限真空度：60 Pa11.二路浮子流量计：0.2~1.5L/min量程，方便二种气体按比例混合12.观察窗：观察清洗仓内辉光状态13.常用工作气体：空气、氩气、氮气或混合气体型号规格：PDC－BGS整机规格：600×550×1280（长×宽×高）mm整机重量：120 Kg反应舱规格：Φ240×L340 mm (耐热玻璃)反应舱有效容积：15 L输入电源：380（三相）V／50Hz整机输入功率：2000 W（含真空泵）射频功率：0～400Ｗ（连续可调）射频频率：13.56 MHz数字定时器：0～99.99 min极限真空度：50 Pa二路浮子流量计：0.2～1.5 L／min 量程，方便二种气体按比例混合观察窗： 观察清洗舱内辉光状态常用工作气体： 空气、氩气、氮气或混合气体等 型号规格：PDC－BGM整机规格：600×600×1400（长×宽×高）mm整机重量：300 Kg反应舱规格：380×380×380（长×宽×高）mm(不锈钢)反应舱有效容积：50 L输入电源：380（三相）V／50Hz整机输入功率：2000 W（含真空泵）射频功率：0～400Ｗ（连续可调）射频频率：13.56 Hz数字定时器：0～99.99 min极限真空度： 50 Pa浮子流量计： 0.1～1.6 L／min 量程观察窗： 观察清洗舱内辉光状态常用工作气体： 空气、氩气、氮气或混合气体等型号规格：PDC－BGL整机规格：750×780×1660（长×宽×高）mm整机重量：400 Kg反应舱规格：600×470×470（长×宽×高）mm(不锈钢)反应舱有效容积：110 L输入电源：380（三相）V／50Hz整机输入功率：2500 W（含真空泵）射频功率：0～1000Ｗ（连续可调）射频频率：13.56 MHz数字定时器：0～99.99 min极限真空度： 50 Pa浮子流量计： 0.1～1.6 L／min 量程观察窗： 观察清洗舱内辉光状态常用工作气体： 空气、氩气、氮气或混合气体等 可根据用户需要设计制作国产专用等离子清洗及处理设备。主要特点：整机一体化、结构紧凑、安装方便。常温条件下对样品进行非破坏性超清洗。彻底清除样品表面的有机污染物。气体清洗介质使样品清洗后无二次污染。设备操作简单方便，使用成本极低，易于维护。具有表面清洗、表面活化、表面刻蚀和表面沉积的功能。应用领域：LED、LCD、PCB、触电子生产领域中的超清洗。移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质，去除金属材料表面的氧化物。清洗半导体元件、印刷线路板、ATR元件、人工晶体、天然晶体和宝石。封装领域中的清洗和改性，增强其粘附性，适用于直接封装殛粘和。涂覆镀膜领域中对玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面改性，使其活化，增强表面粘附性、浸润性、相容性，显著提高涂覆镀膜质量。

产品详情德国Diener等离子清洗机Zepto,Atto,Femto,Pico,Nano,PlasmaBeam德国Diener是专门生产经济、可靠的等离子清洗和等离子刻蚀设备的公司, 是世界上材料处理低温等离子体设备的市场和技术领先者。Diener采用先进的集成化技术开发生产射频频率为40KHz 、80KHz、13.56MHz，以及代表等离子应用最先进技术的2.45GHz的等离子清洗机。目前设备广泛应用于：等离子清洗、刻蚀、灰化、涂镀和表面处理。产品主要分布在真空电子、LED、太阳能光伏、集成电路、生命科学、半导体科研、半导体封装、芯片制造、MEMS器件等领域。其设备生产零件均选用其零件行业的最优质产品，以保证性能技术稳定。德国diener等离子表面处理设备特点：等离子清洗机清洗效果好，效率高，应用范围广。对清洗样品，没有任何材质、外观尺寸等要求等离子清洗过程中，温升很小，基本可达到常温处理。射频功率无极连续可调。高效的特制电极，是产生均匀等离子体的保证。特制电极和托盘结构，可充分利用真空舱体内部空间，使处理效率最大化，同时也可保证样品可得到全面有效的清洗。特有的过载、短路和过热保护电路，可保证射频电源的稳定和安全。设备整体模块化设计，安装与维护极为简单。德国diener等离子表面处理设备多种系列： Diener等离子表面处理设备 PICO PCCE 全自动 主要技术参数： *全自动PCCE控制系统,可存储50套程序。*根据工艺要求不同，可设定真空泵启动与停止、发生器的功率、反应腔体压强、气体流量与时间等参数双路工作气体，MFC质量流量计*反应舱为方形铝制腔体w: 150 mm, h: 160 mm, d: 325 mm带有铰链门，门带有观察窗。*发生器100 kHz, 0 – 500 W连续可调，反射波自动调节。电极材质为铝制。真空泵抽气能力8m3/h*配有压力传感器，实时显示压力值电源电压：单相AC230V 16A 配置清单： 数量备注主机一台Diener PICO真空泵（国内采购）一台VRD-8油泵电源线一根2mm操作说明书一本 操作面板

等离子清洗机YAMATO等离子清洗机PDC200产品介绍：小型桌上型高频等离子表面处理装置■ 操作性功能● 射频13.56Mhz 0-300W高功率机型，发生器自动匹配，无需调节反射波，进一步增加的操作的便捷性。● 标准配备数字式皮拉尼传感器，实时显示真空度，使得控制更为精确。● 平行平板腔体非常适合于实验室处理比较纯净的晶圆、硅片等样品，无需担忧因为腔体材质的原因导致样品受到污染。■ 安全性保护● 装载有温度、压力、等离子发生器异常等三层报警灯，可实时监测和了解机器的运转状态。● 装载有过电流漏电保护开关、自诊断回路、异常时蜂鸣器报警等安全功能。■ 等离子清洗机YAMATO等离子清洗机PDC200产品优势●等离子清洗机清洗效果好，清洗效率高，功率大，应用范围广。●对清洗样品，没有任何材质、外观尺寸等要求。●等离子清洗过程中，温升很小，基本可达到常温处理。●高效的特制电极，是产生均匀等离子体的保证。●特制电极和托盘结构，可保证样品可得到全面有效的清洗。■ 等离子清洗机YAMATO等离子清洗机PDC200规格型号PDC200方式RIE模式、平行平板腔体性能发生器功率：0-300W发生器频率：射频RF13.56Mhz发生器匹配方式：自动匹配（Auto matching）构成腔体材质：铝制腔体内尺寸：W400×D250×H150mm反应气体：二路工艺气体，可支持氧气、氩气、氮气等非腐蚀性气体。控制方式：全自动控制真空度显示：数字式皮拉尼传感器，实时显示腔体内真空度。配管材质：SUS不锈钢以及特氟龙门： 铰链门外形尺寸：W540×D600×H600mm真空泵抽速：4m3/hour电源规格： AC220V 10A重量：约100kg

等离子清洗机在电子行业的应用如下：1.硬盘塑料件科学的发展，技术的不断进步，电脑硬盘的各项性能也不断提高，其容量越来越大，碟片数量随之增多，转速也高达7200转/分，这对硬盘结构的要求也越来越高，硬盘内部部件之间连接效果直接影响硬盘的稳定性、工作可靠性、使用寿命，这些因素直接关系到数据的安全性。为了确保硬盘的质量，知名硬盘生产厂家对内部塑料件在粘接前均进行各种处理，应用较多的是等离子处理技术，使用该技术能有效清洁塑料件表面油污，并能增加其表面活性，即能提高硬盘部件的粘接效果。实验表明，硬盘中使用等离子处理过的塑料件在使用过程中持续稳定运行时间显著增加，可靠性及抗碰撞性能有明显的改善。2.耳机听筒耳机中的线圈在信号电流的驱动下带动振膜不停的振动，线圈和振膜以及振膜与耳机壳体之间的粘接效果直接影响耳机的声音效果和使用寿命，如果它们之间出现脱落就会产生破音，严重影响耳机的音效和寿命。振膜的厚度非常薄，要提高其粘接效果，使用化学方法处理，直接影响振膜的材质，从而影响音效。众多厂家正准备使用新技术来对振膜进行处理，等离子处理就是其中之一，该技术能有效提高粘接效果，满足需求，且不改变振膜的材质。经实验，用等离子清洗机处理生产的耳机，各部分之间的粘接效果明显改善，在长时间高音测试下也不会有破音等现象发生，使用寿命也有很大的提高。3.手机外壳手机的种类繁多，外观更是多彩多样，其颜色鲜艳，Logo醒目，但使用手机的人都知道，手机在使用一段时间后，其外壳容易掉漆，甚至Logo也变得模糊不清，严重影响手机的外观形象。知名手机品牌厂家为了寻找解决这些问题的方法，曾使用化学药剂对手机塑料外壳进行处理，其印刷粘接的效果有所改善，但这是降低手机外壳的硬度为代价，为了寻求更好的解决方案，等离子技术脱颖而出。等离子表面处理技术不仅可以清洗外壳在注塑时留下的油污，更能活化塑料外壳表面，增强其印刷、涂覆等粘接效果，使得外壳上涂层与基体之间非常牢固地连接，涂覆效果非常均匀，外观更加亮丽，并且耐磨性大大增强，长时间使用也不会出现磨漆现象。等离子清洗机作用效果：（A）对材料表面的刻蚀作用--物理作用 等离子体中的大量离子、激収态分子、自由基等多种活性粒子，作用到固体样品表面，清除了表面原有的污染物和杂质，而且会产生刻蚀作用，将样品表面变粗糙，形成许多微细坑洼，增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。（B）激活键能，交联作用等离子体中的粒子能量在 0~20eV，而聚合物中大部分的键能在 0~10eV，因此等离子体作用到固体表面后，可以将固体表面的原有的化学键产生断裂，等离子体中的自由基中的这些键形成网状的交联结构，大大地激活了表面活性。（C）形成新的官能团--化学作用如果放电气体中引入反应性气体，那么在活化的材料表面会发生复杂的化学反应，引入新的官能团，如烃基、氨基、羧基等，这些官能团都是活性基团，能明显提高材料表面活性。深圳市东信高科自动化设备有限公司,专注等离子表面处理工艺。网址：

等离子清洗机日本YAMATO等离子清洗机PR200产品介绍：■ 操作性功能● 射频13.56Mhz 0-200W高功率机型，发生器自动匹配，无需调节反射波，进一步增加的操作的便捷性。● 标准配备数字式皮拉尼传感器，实时显示真空度，使得控制更为精确。● 高硼硅玻璃腔体非常适合于实验室处理比较纯净的精元、硅片等样品，无需担忧因为腔体材质的原因导致样品受到污染。■ 安全性保护● 装载有温度、压力、等离子发生器异常等三层报警灯，可实时监测和了解机器的运转状态。● 装载有过电流漏电保护开关、自诊断回路、异常时蜂鸣器报警等安全功能。■ 产品优势 ●等离子清洗机清洗效果好，清洗过程中无废液产生，安全环保。●几乎所有的材质样品都可以进行等离子清洗。●等离子清洗过程中，温升很小，基本可达到常温处理。●高效的特制电极，保证等离子体能够均匀产生。等离子清洗机日本YAMATO等离子清洗机PR200规格：型号PR200PR301方式DP模式、圆柱形腔体性能发生器功率：0-200W0-300W发生器频率：射频RF13.56Mhz发生器匹配方式：自动匹配（Auto matching)手动匹配（manul） 构成腔体材质：高硼硅玻璃腔体内尺寸：φ100×L160mmφ118×L160mm反应气体：一路工艺气体，可支持氧气、氩气、氮气等非腐蚀性气体。控制方式：半自动控制真空度显示：数字式皮拉尼传感器，实时显示腔体内真空度。模拟式压力表配管材质：SUS不锈钢以及特氟龙门： 铰链门外形尺寸：W350×D400×H500mmW438×D520×H630mm真空泵抽速：4m3/hour电源规格： AC220V 10A重量： 约25kg 约34kg附属品真空管件一套、真空转接接头一套、试料托盘一枚。

手套箱专用等离子清洗机VP-R3分体式实现主机和真空腔体分离，既保留了等离子清洗机VP-R3自动化操作的便利及PLASMA处理效果，又实现把真空腔体分离，便于放入手套箱的狭小空间，解决了用户对PLASMA处理精细化的痛点。手套箱专用等离子清洗机VP-R3分体式是在VP-R系列基础上进行设计、研发，等离子体激发频率为13.56MHz，满功率运行30分钟，腔体温度不高于32°C，不损伤样品，对材料表面起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、PI、二氧化硅、亚克力等几乎所有材料的PLASMA处理。

NE-PE150F是一款大型工业用真空等离子处理系统，设备配备大功率、大腔体、密度大、高稳定性，适用于大规模连续生产。设备采用进口品牌高性能真空泵快速产生超低的真空压强。同时根据客户工艺要求，对真空反应腔室内通入不同的混合工艺气体，采用进口高品质等离子发生器，使得通入的工艺气体产生等离子体，并确保稳定产生高密度，高能量的离子。等离子体与材料发生复杂的物理，化学反应，可以实现不同的工艺功能，比如清洗，活化，刻蚀与涂敷等。等离子态显著的特点是高均匀性辉光放电，根据不同气体发出从蓝色到深紫色的色彩可见光。 公司简介纳恩科技始创于2010年，总部位于深圳市，在香港设有研发分公司，是一家专注于等离子材料表面处理、真空镀膜技术和高端智能装备研发，制造和销售的高科技公司。目前主要产品包括真空等离子清洗机，大气等离子清洗机，磁控溅射镀膜设备，离子溅射仪，等离子刻蚀设备，等离子表面处理设备，辉光放电仪等。公司核心研发团队来源于香港大学等离子实验室，香港理工大学材料工程学院和美国佐治亚理工学院的微电子学院。自成立以来，纳恩科技围绕等离子处理系统所需核心电源及底层算法进行技术布局，不断拓展自主设计能力。目前已完成以MCU，ARM为核心的射频芯片开发平台，实现了芯片的结构化和模块化开发。 具有高精度模拟、网络阻抗匹配、功率驱动、功率器件、射频和底层核心算法的设计能力，可针对不同细分领域等离子处理系统需求，快速做出底层硬件组合，提高等离子系统的稳定性和效率。公司着眼于全球化的战略布局，目前在北京、上海、成都，厦门均设立办事处，在新加坡，慕尼黑设有办公联络处。纳恩科技以前沿的创新理念、领先的核心技术在我国高端制造装备行业扮演着关键角色，公司坚持肩负“推动产业进步、保障国防安全、提升生活品质” 这一神圣使命，致力成为全球领先的等离子技术处理方案供应商，在世界高科技舞台的同场竞技之中，续写中国等离子产业发展的新传奇！设备主要尺寸

PVA TePla 射频等离子体去胶机——PVA TePla 跨国型企业，50年等离子体设备经验PVA-TePla 射频等离子体去胶机（整机进口），性能稳定，均匀性好。PVA TePla 公司的IoN 40 等离子体设备是为实验室和生产领域设计的全功能的等离子体处理设备。IoN 40等离子体设备是PVA TePla公司推出的具有高性价比的真空等离子体设备。该设备外观简洁，系统高度集成化。其先进的性能提供了出色的工业控制、失效报警系统和数据采集软件。可满足科研、生产等领域严格的控制要求。PVA TePla公司的高品质、高性价比、操作简单的等离子体设备为各种不同应用领域提供了先进的创新解决方案，得到用户的广泛信赖。型号：IoN 40 ( M4L 升级版 )典型应用：光刻胶灰化去除残胶打底膜表面精密清洁去除氧化层去除氮化层表面活化提高表面粘合性改变表面亲水性/疏水性分子接枝涂层规格参数：阳极表面处理铝制腔体，水平抽卸极板/垂直极板/侧壁极板/水冷极板13.56MHz 风冷微波电源（0～600w可调,可选配0～300W，0～1000W），高灵敏快速自动匹配水平抽卸极板/水冷极板/垂直极板/料盒极板不锈钢防腐蚀MFC，多至6路工艺气体，两路辅助气路：回填保护气体，驱动气路兼容8英寸及以下晶圆模块化设计，维护保养简单PC工控机控制，运行数据自动存储，工艺数据严格监控，可自定义工艺警报范围分级密码权限管理图形化可视控制界面外形尺寸：775×723×781 mm重量：157KG可选配置：石英腔体液态单体操作装置可选配温控板可选配法拉第桶可选配压力控制系统认证：CE 认证EN 61010EN 61326Semi E95ISO 9001CISPR 55011NFPA79NFPA70

等离子清洗机作为一种微观固体表面的处理设设备，是一种全新的表面处理方案。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁等目的。KT-S2DQX小型桌面等离子清洗机主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗，塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。 KT-S2DQX小型桌面等离子清洗机该清洗机内置高纯石英仓体，采用了新型的电极结构设计和固态电源技术，使其有效容积增大，不同真空 气体环境下容易匹配，且控制频率稳定。真空仓门有观察窗，可直观物体的处理过程，其射频电源与控制都组装在一个机箱内，即减少了空间的占用，更便于操作和放置，同时与大型清洗机相比较，从检测功能与控制功能的设置上均可一个面板上操作，特别适用科学实验 样品清洗 和教学。 KT-S2DQX小型桌面等离子清洗机滚筒等离子清洗机针对粉末或者颗粒的360度表面处理设备，通过旋转机构带动石英搅拌罐使样品处于悬空位置达到360度清洗。设备型号KT-Z2DQXKT-S2DQXKT-Z5DQXKT-S2GQX供电电源AC220V（AC110V可选)工作电流整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵)射频电源功率1000W150W300W150w射频频率40KHz13.56MHz耦合方式电容耦合真空度≤50Pa腔体材质高纯石英腔体容积2L(内径110MMX深度220MM)2L(内径110MMX深度220MM)5L(内径160MMX深度310MM)φ100x200mm观察窗内径Φ50Φ50Φ70无气体流量10—100ml/min（其他量程可选）过程控制过程自动控制过程手动控制过程自动控制过程手动控制清洗时间自动开关开盖方式铰链侧开式法兰外形尺寸150*500*250mm450*460*370mm530*580*420mm重量20kg35kg40kg40Kg真空室温度小于65°C冷却方式强制风冷标配KF16真空管1米，kf16卡箍2个，不锈钢网匣1个，电源线一根，说明书一本。

Tergeo-EM 等离子清洗机 ● 集成直接浸泡和远程/Downstream清洗模式 ● 实时检测等离子体强度的等离子体传感器 ● 可毫秒级别短脉冲操作。 ● All-in-one实验室等离子蚀刻、处理和清洗系统。 ● 用于批量加工的大型样品室，带有矩形石英样品托盘 ● 双TEM 适配器，可配置为支持两个不同品牌的样品杆支持不同TEM/SEM系统Direct & downstream 清洗模式 敏感的样品如何用传统等离子清洗？ 通常需要很高的射频功率来点燃等离子体，但是一旦等离子被点燃，等离子就可以较低的射频功率维持。但是传统的等离子体清洗机很难自动、可靠地产生极弱的等离子体来处理诸如TEM碳膜和对热等敏感样的品。 为什么Tergeo EM可以轻松处理易破和热敏性样品？ Tergeo EM等离子清洗机集成SmartClean TM独特的等离子传感器，可以实时测量等离子强度，系统控制器不断地了解等离子体的状态。如果等离子体未能在低射频功率设置下点燃，系统将自动增加射频功率，直到等离子体点燃。一旦等离子体点燃，系统将立即将射频功率降低到配方设置。这一功能使Tergeo EM的射频功率比同产品功率低得多。 同系统中包含两种直接浸泡和远程Downstream清洗模式。远程Downstream清洗模式提供了一种温和的处理方法，可以显著减少传统直接模式等离子体系统中的样品加热、离子溅射问题。 系统还可选择脉冲模式操作，该模式能够可靠地产生平均功率小于0.25瓦的极弱等离子体。

一、小型等离子去胶机清洗机产品应用原理： （1）利用等离子清洗机对包装盒子或玻璃瓶体进行预处理，在包装或瓶体贴标签过程中，经过预处理后，可采用价格低廉、无环境污染的水胶。 （2）另外，金属果酱瓶盖在成型加工中经常会使用润滑油，瓶盖上残留的一些润滑油会影响后续的封口过程。 （3）并且通过等离子清洗机处理，可以消除这些杂质的干扰，不需要使用特制胶，而仍然是使用普通胶就可以很好地完成粘接动作提高附着力。 二、应用特点： 等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。三、小型等离子去胶机清洗机技术参数： 供电电源AC220V（AC110V可选)工作电流整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵)射频电源功率150W射频频率13.56MHz频率偏移量＜0.2MHz特性阻抗50欧姆，手动匹配耦合方式电容耦合真空度≤100Pa腔体材质高纯石英腔体容积2L(内径110MMX深度220MM)观察窗内径Φ65气体流量10—100ml/min（其他量程可选）过程控制过程手动控制清洗时间手动开关开盖方式铰链侧开式法兰外形尺寸400x380x360mm重量23Kg真空室温度小于65°C冷却方式强制风冷标配KF16真空管1米，kf16卡箍2个，不锈钢网匣1个，电源线一根，说明书一本。