高精度微纳米点样仪

布鲁克Hysitron TI Premier高精度纳米力学测试系统是布鲁克公司研制的自动化、高通量测试仪器，通过纳米级位成像，可实现压痕、划痕和磨损过程的纳米尺度原位可视化表征。Hysitron（海思创）应用其工艺领先的专利技术“三板电容传导”，从源头上保证了仪器稳定性和灵敏度。使用Hysitron（海思创）纳米力学材料检测系统通过探针可以获得材料微区的硬度、弹性模量、摩擦系数、磨损率、断裂刚度、失效、蠕变、粘附力（结合力）等力学数据。后续可选择升级模块有高温台、电学性能测试、湿度控制模块、冷台、与拉曼连用等。不仅在微纳米水平上开展力学行为特性的研究，还可以进行纳米尺寸上的机械加工。

中图仪器SuperViewW高精度微纳米白光干涉三维形貌仪基于白光干涉原理，以3D非接触方式，对各种精密器件及材料表面进行亚纳米级测量。可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等参数。广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料及制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。产品功能(1)SuperViewW高精度微纳米白光干涉三维形貌仪设备提供表征微观形貌的粗糙度和台阶高、角度等轮廓尺寸测量功能；(2)测量中提供自动对焦、自动找条纹、自动调亮度等自动化辅助功能；(3)测量中提供自动拼接测量、定位自动多区域测量功能；(4)分析中提供校平、图像修描、去噪和滤波、区域提取等四大模块的数据处理功能；(5)分析中提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)分析中同时提供一键分析和多文件分析等辅助分析功能。应用领域对各种产品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波纹度、面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例：SuperViewW高精度微纳米白光干涉三维形貌仪具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点，测量单个精细器件的过程用时短，确保了高款率检测。白光干涉仪特殊光源模式，可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。针对完成样品超光滑凹面弧形扫描所需同时满足的高精度、大扫描范围的需求，中图仪器SuperView W1的复合型EPSI重建算法，解决了传统相移法PSI扫描范围小、垂直法VSI精度低的双重缺点。在自动拼接模块下，只需要确定起点和终点，即可自动扫描，重建其超光滑的表面区域，不见一丝重叠缝隙。性能特色1、高精度、高重复性1）采用光学干涉技术、精密Z向扫描模块和3D重建算法组成测量系统，保证测量精度高；2）隔振系统，能够有效隔离频率2Hz以上绝大部分振动，消除地面振动噪声和空气中声波振动噪声，保障仪器在大部分的生产车间环境中能稳定使用，获得高测量重复性；2、环境噪声检测功能具备的环境噪声检测模块能够定量评估出外界环境对仪器扫描轴的震动干扰，在设备调试、日常监测、故障排查中能够提供定量的环境噪声数据作为支撑。3、精密操纵手柄集成X、Y、Z三个方向位移调整功能的操纵手柄，可快速完成载物台平移、Z向聚焦、找条纹等测量前工作。4、双重防撞保护措施在初级的软件ZSTOP设置Z向位移下限位进行防撞保护外，另在Z轴上设计有机械电子传感器，当镜头触碰到样品表面时，仪器自动进入紧急停止状态，最大限度的保护仪器，降低人为操作风险。5、双通道气浮隔振系统既可以接入客户现场的稳定气源也可以接入标配静音空压机，在无外接气源的条件下也可稳定工作。部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配:10×选配:2.5×、5×、20×、50×、100×光学ZOOM标配:0.5×选配:0.375×、0.75×、1×标准视场0.98×0.98㎜（10×物镜，光学ZOOM 0.5×）XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动台阶测量可测样品反射率0.05%~100主机尺寸700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

德国Microdrop Technologies专注于为研发和工业应用领域的微液滴喷墨技术将近30年，是欧洲提供微纳米油墨高精确微量分配供应商,已成功应用到生命科学、材料科学和微纳加工制造等领域，并获得广泛的商业和学术认可，用户包括瑞士洛桑联邦理工学院、澳大利亚联邦科学与工业研究组织、德国耶拿大学和马克斯-普朗克研究所等，企业用户有罗氏诊断、巴斯夫、拜耳、杜邦和康宁等, 国内用户包括清华大学、上海大学、常州大学、中科院长春应化所、香港理工大学、香港城市大学和台湾工业技术研究院等。Microdrop以高分配准确度、多系列喷头、全面自动化、模块化组装和应用导向适应性为特点,可用于pl至μl级的微纳米材料高精确微量打印,是微纳米材料沉积及其它诸多领域的理想工具。产品包括括基于喷墨打印的Autodrop Eco实验级，Autodrop Gantry II专业级和产业化级别, Autodrop Gantry工业流水线级，AD系列,MD系列和基于阀技术的Nanojet系列。应用领域包括柔性印刷电子、有机OLED,QLED显示、传感器技术(尤其是生物医学传感器,化学气体传感器, CGM血糖监测器件)、皮升级量润滑、聚合物电子、微机械、光学和微量点样及生物医学系统.Materials Science Applications材料科学应用：Bio Medicine Science Applications生命医学领域应用：德国Microdrop产品系列：高精确定位沉积及倾斜自动补偿校准：高通量材料筛选制备工艺：样品制备是高通量材料筛选关键的一步，而采用喷墨打印技术进行高通量样品制备则更具挑战，德国Microdrop公司精密压电喷墨打印技术能稳定地分配微量液滴且适用于多种不同材料，同时创新的将压电喷印技术整合于移液管式喷头之中，能对基于96和384微孔板中的溶液进行全自动地吸取，打印，回收等操作。其配置高精度的定位系统及采用行进中点样模式，能对多种溶液进行精确，快速打印，从而制备高通量样品.Microdrop全系统可选喷头种类:Microdrop 喷头-除Nanojet外-使用与喷墨打印机同样的压电驱动技术用于非接触式分配，在喷嘴形成微细液滴，高速（约2m/s）从喷头分离。只有高惰性的材料如玻璃，PTFE（聚四氟乙烯）和PEEK（聚醚醚酮）与液体直接接触。不仅可用于分配室温下粘度从20mPas至10000mPas的蜡状材料也可通过加热将粘度降低至20mPas或更低，再进行分配，喷头的部分型号具有加热功能可完成此操作.Microdrop 喷头无机械移动部件，因此无损耗无需维护。Microdrop喷头MD-K-…能通过microdrop驱动电子设备 (MD-E-…) 或与Autodrop系统(AD-E-…)组合进行驱动。

美国 Bioforce公司Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统是一种全新的，适应性广泛的超微和纳米级别的液体输送技术。它可以将内含生物分子和其他材料的液体打印到1‐20微米特征尺寸的表面上的指定位置，也可用于超微纳米流体的输送打印。样本体积覆盖范围广，自阿升至毫微微升(10‐18到10‐15ul)的样本量均可完美打印。这项技术的超缩微性更大程度上降低了对样品量的需求。例如, NanoArrayer 纳米阵列可以创建一个诊断生物芯片，使用几个细胞或不到一滴血即可完成至关重要的生物医学分析。Nano eNabler™ 纳米分子点样仪的广泛适用性和广泛的材料兼容性创造了许多新的令人振奋的机会。下表是几种可打印材料及其应用的代表性案例。美国 Bioforce公司Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统具备捕获鼠成纤维细胞粘附到一种蛋白质细胞外基质蛋白质的能力，左下图：由约翰霍普金斯大学医学院Jan Hoh博士拍摄； 中图：Sindex™ 芯片为Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统提供了理想的打印表面。右图：使用 SPT™ (表面图谱打印工具)是纳米分子微矩阵点样系统的“墨盒”，内有样本存放池。 应用领域Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统的特征非常适合那些利用小的空间，当前分析设计要求减少样本量等新的应用领域。常规应用领域包括：v 构建化学和生物传感器,包括 MEMS/NEMS设备；v 用分子在表面形成图案以研究细胞的生长；v 用≤1μl样本进行敏感分析(LCM,单细胞分析)；v 在有限空间打印矩阵，如在微流通道内部进行打印。 可作为打印材料的介质 典型应用抗体和其它蛋白质生物传感器、生物医学设备、分子筛查、细胞生物学、纳米生物学核酸基因芯片,基因组学,生物传感器病毒生物传感器、诊断、纳米器件粘合剂MEMS, 纳米器件胶体粒子电子、纳米器件、材料研发量子点光学仪器、诊断、材料研发蚀刻剂,溶剂,催化剂MEMS, 电子、精密加工 “能限制 Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统的应用的，只有人的想象力！ —Jan Hoh, Ph.D.约翰霍普金斯大学医学院特性和优势Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统独有特征包括:v 打印较小斑点的能力，斑点大小(1到 20微米)。v 在一个50×50毫米活动区域内打印的能力，分辨率20纳米。v 多路转换打印功能。v 直接打印生物分子至纳米粒子材料的能力。v 兼容的打印表面种类广泛。来自用户反馈的，受欢迎的重要优势，包括：Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统可以在几乎所有表面打印或大或小的复杂图谱，因此使他们可以探索更全面的生物学问题。用户可以进行假设驱动性研究,而不受工具的限制。v Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统的悬臂梁系统采用开放式通道架构,减少了喷墨打印经常遇到的堵塞问题。v Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统将灵活性、功能尺寸、精度、分辨率、打印速度完美结合，其打印能力远非其它打印技术所能比，使用户可以实现一件设备多种应用。v Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统相对于微触点打印技术更为灵活，更优越的多路复用打印模式，意味着用户可以花更少的时间等待新的光掩模和PDMS模具，从而将更多的精力用在实验上。v Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统视频显微扫描技术使设备功能化光学校准变得更加容易，促进更佳的斑点测量。性能对比&差异Nano eNabler™ 纳米分子微矩阵点样系统Micro-contact Printer(微触打印机)Nanopitettes(纳米锥管打印机)AFM Nanolithography原子力显微镜微米刻蚀技术Ink-jet printing喷墨式打印速度+++‐‐+管路不堵塞+++‐+‐可靠性++‐‐++多路复用++‐‐‐+1‐20μm特征+++++‐生物兼容性++++‐+ 技术规格Nano eNabler纳米分子微矩阵点样系统主要规格v 由点和线组成的模式分子，直径1-60微米。v 兼容小分子、生物分子、纳米颗粒和许多反应液。v 同时打印单一化合物或多化合物图案。v 通过FEMTO(射流增强分子转移操作)实现快速沉积(100毫秒/点)。v 宽大高清的工作区(50毫米×50毫米，20纳米分辨率)。v 基于激光的力反馈技术，更大程度减少表面接触力。v 软件界面直观明了。Nano eNabler纳米分子微矩阵点样系统标准规格：v 基于激光的力反馈系统v XY轴镜台运动范围：50x50毫米；v XY轴镜台译码器分辨率：20纳米；v Z轴镜台范围：45毫米；v 湿度控制范围：25-80%相对湿度；v 电动光学显微镜：(100-700倍)，具备通过高清USB相机进行视频采集功能；v 通过高分辨率的 USB 相机捕捉。Nano eNabler纳米分子微矩阵点样系统软件界面集成英特尔酷睿i7处理器，8GB RAM；集成DVD ROM (8x)/CD-RW(24x)；4个USB端口；802.11g无线适配器；Windows 8.1 操作系统；24英寸高清液晶显示器；电源要求，AC240V/50 Hz,2.0A；控制器尺寸：77x65x65cm(长x宽x高)；控制器重量：14kg lbs(31磅)。 Nano eNabler纳米分子微矩阵点样系统标准配置主机、控制器单元、环境控制系统、电动光学系统、带视频采集液晶显示器、操作软件、用户手册、Nano eNabler纳米分子微矩阵点样系统标配一个起始工具包，包括：1）表面图谱打印探针(15个):SPT-S-C10S(5)、SPT-S-C30S(5)、SPT-S-C30R(5)；2）蛋白质斑点缓冲液套装,5支试剂x0.1毫升；3）可重复使用的Gel-Pak 打印探针固定器座垫；4）可重复使用的Gel-Pak样台垫。

T150 UTM 系统提供了一种测量静态和动态微拉伸性能的非常卓越的方法。设备采用了一种独特设计的纳米力学激励传感器，使得系统既能够进行大应变实验，又能进行小应变测试(高分辨率)。连续动态分析(Keysight CDA)是KT公司的专利技术，通过施加一个纳米量级的简谐信号以及反馈控制，KLA-Tencor CDA 可以进行连续拉伸过程中不同应变状态下的储存模量和损耗模量测量。UTM 系统可以快速测量弹性模量、屈服强度、极限抗拉强度以及失效测量等。创新技术和优势传感器的精度高，稳定性和重复性好，人性化的界面设计，使用方便。 多种加载模式：恒载荷速率、恒位移速率、恒应变速率以及阶梯加载。 动态和静态拉伸测试电控部分采用了全新的第三代技术，仪器的稳定性更高，实现了更高速的数据采集和传递，并且做到数据的实时 处理和显示，包括硬度和弹性模量在压入过程中的实时显示。 厂。 国内高水平的专业人员和国际科学家的技术支持。UTM T150 主要技术指标载荷500mN 载荷分辨率50nN 作动器位移± 1mm 位移分辨率0.1nm 动态位移分辨率0.001nm 横梁拉伸150mm 拉伸分辨率35nm 拉伸速率0.5um/s to 5mm/s 动态频率范围0.1Hz to 2.5kHz

PolyPico 高精度生物材料纳米材料点样仪：Picospotter 和 Picoprecise（不同型号精度不同），提供现成的以及定制化的解决方案来满足您对高精度、微量体积的点样，沉积，打印的需求，适用的生物材料如：Proteins, Anti-bodies, DNA, Living cells, Reagents, High throughput screening/drug discovery。这套用户友好型的系统创新性的采用了一次性喷头的技术，使其与同类产品相比具有更多的优势性能。Poly-Pico技术设计能够帮您在科研工作或者工业生产中降低生产成本，提高生产效率。主要特征：非接触式、高精量液滴的任意点样一次性喷头，避免样本的交叉感染无需清洗装置高精度点样：对任何体积样本CV优于2%仪器可自动进行校正和检查样本通过喷头进行保存或者点样喷头以及样本可在-20°C进行保存喷头无明显的死体积可配置多个喷头来进行样本的点样可兼容多个尺寸喷头（50, 70和100微米）的卡夹墨盒喷头墨盒可达100ml容量皮升级别可控液滴体积喷点速度可达1000滴/秒很小的死体积可避免样本的浪费应用方向：高密度微阵列数字PCR可实现纳升级/皮升级微量样品的点样生物芯片的制作全自动的试剂供给库高通量的药物筛选对微量液滴进行包被试剂/蛋白/生物材料的点样活细胞的点样单个干细胞打印实现高精度液滴的点样应用案例（更多其他生物材料和纳米材料应用请直接联系我们）：活细胞点样：PolyPico可用于活细胞点样，如仓鼠卵巢细胞（CHO）样本蛋白/抗体微阵列点样DNA扩增纳米材料点样PolyPico还可实现低粘度UV固化胶黏剂精确打印

魔技纳米MJ-Works适用多种材料的超快激光微纳加工中心超快激光微纳加工中心，不仅拥有纳米级3D加工能力，还配备了双波长飞秒激光输出，可加工更广泛的材料。可对玻璃、光纤、晶体内部和表面进行改性或刻蚀，也可对金属、合金、陶瓷等硬质材料进行微米级精度的处理，包括打孔、表面结构处理、选择性激光消融、改性等多种功能。MJ-Works同样拥有高精度、超高速度的特点，并且可进行大幅面加工、全自动操控、长时稳定性、简单直观的软件操作以及适配多种材料的特点，适用于微纳光学、生物医学、半导体、光通信等行业的微纳加工领域。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 [企业介绍]魔技纳米科技是三维微纳制造领域集研发、生产、销售、服务于一体的高新技术企业。核心研发团队拥有十年以上设备研发经验，深入生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件等多个产业应用领域，打造具有自主知识产权的商用纳米级三维激光光刻直写制造系统。拥有应用于多行业场景的成熟加工工艺。可定制研发适配各产业领域生产需求的个性化设备和产品，突破生物制药、传感、光电芯片、超材料等领域从科研到工业生产的屏障，将纳米级制造精度和大范围生产相结合，提供针对精密智造领域的整套专业解决方案。

随着全球市场对于全息印刷如防伪安全及其他光学显示应用的需求增长，为了替代现有落后繁琐的全息印刷工艺， Stensborg发明了Holoprint，世界上首创在线的全息印刷生产工艺。Stensborg公司服务于全欧洲压印客户超过20年，提供全息原版片和压印模板包括防伪安全用途以及其他数量庞大的光学应用。Stensborg公司专利的Holoprint压印技术，应用于桌面型的UNI A6 DT设备，以及客户定制化的设备，在印刷工艺中集成了纳米压印工艺，因此用户可以进行高分辨3D微纳米结构快速制备比如全息复制到预涂布好的材料上而不需要使用预加工好的箔片。我们这项独特的前沿纳米压印技术优势在于： • 全欧洲知名的R2P专利压印技术• 可快速复制超清晰均匀的微纳结构• 适用于几乎任何表面–柔性或固体、透明或不透明• 优异的光学固化引擎和易于操作的独特设计• 适用于20纳米至100微米的特征尺寸• 全系列优化的压印及模板制作材料• 超过30000次超长寿命聚合物印刷模板 R2P纳米压印系统又名桌面式微纳米结构复制机，可以说是"The most cost-effective holographic printing technology available today 现阶段最有效的全息印刷技术工艺". 印刷电子技术受限于线宽精度的要求无法实现复杂微米及亚微米结构，而使用高精度R2R/R2P纳米压印技术可获得小到亚微米甚至几十纳米结构，这样可以很好的应用于对于结构有高精度要求的应用领域，如显示如裸眼3D,全息成像，AR眼睛等，太阳能领域，光照领域，及其他如微流控和防伪标签等,在工艺上节省时间成本的基础上，更好的开拓了微纳米结构产业化的新机遇。典型应用包括：光学验证防伪的衍射结构，衍射光学元件，增强光伏器件光电转换率的微纳米结构，增强LEDs光电性能的微纳米结构，光波管，光导纤维，微流控器件，超亲水或超疏水功能层表面，促进或阻止细胞生长的表面结构，等离子体超材料结构，生物化学微阵列，光固化树脂材料性能测试验证，用于NIL蚀刻掩膜版图案制作。 应用领域：应用实例：SEM微纳结构照片：

Workshop of Photonics公司从2003年开始就专注于飞秒激光微纳加工工艺研发, 凭借着创新技术及先进可靠工艺. 主流型号为FemtoLAB实验级飞秒激光微纳米加工系统, FemtoFAB产业级飞秒激光微纳米加工系统, MPP-Cube秒双光子/多光子三维聚合微纳米加工系统.飞秒激光器由于激光脉冲很短, 拥有很好的激光功率密度, 其加工效果超过纳秒和皮秒激光. 光束所到之处能够瞬间将材料消融气化, 由于激光脉冲短, 激光能量无法在如此短的时间内扩散到周围材料中, 所以对加工区域周围影响微乎其微, 是一种冷态加工技术.WOP系统采用高品质的飞秒激光器, 同步高精密光束扫描振镜和脉冲选择器, 在空间,时间和能量上提供全方位高精度控制, 从而提供高难度的加工能力, 亚微米精度的分辨率和重复性, 以及很高的微加工速度 .

微纳米气泡发生器产品介绍 微纳米气泡发生装置是上海如净环保科技有限公司自主研发生产的前沿高科技产品，该装置融合了当今国内外微纳米气泡发生装置技术和制造工艺，历经了多年实践检验及工程应用，弥补国内纳米至微米级气泡发生装置的空白，实现了从实验室走向工业化推广应用的突破。微纳米气泡发生器工作原理 上海如净微纳米气泡发生装置，其原理是使气体与液体高度相溶混合，如净微纳米气泡采用动态高速剪切装置，将气液混合物内的气泡切碎，由于这些构件的强大剪切力，可以将气泡切碎至几十纳米到几微米，最终形成乳白色微纳米气泡，这种方式可以兼顾气液混合与微气泡发生，具有气液过程强化的特征。 微纳米气泡发生器由气液混合装置，加压装置、释放装置、控制系统，四大部分组成，其中需要连接配套管路，主要包括进气管路、进水管路、出水管路。当气体从进气管路进入加压装置后，与液体充分混合，经过气液剪切高压混合等处理，生成直径50μm以下的微米气泡，最终通过释放装置产生的物理原理释放出20-180nm以下的微纳米级气泡。◆性能参数 微纳米气泡发生装置产生气泡平均粒径在100纳米（nm）—10微米（μm）之间，气泡含率84%—90%，气泡平均上升速度4 mm/s—8 mm/s。◆产品特点 （1）实现气、液两相高度混合并达到饱和。 （2）可以接入不同的气体（如：空气、纯氧、臭氧、氮气）等气源来满足不同的需要。 （3）解决传统曝气设备气泡大、上升速度快、停留时间短、容易汇聚、对水体扰动大、饱和溶氧状态时间长的问题。 （4）解决传统设备体积大、效率低、成本高的问题。 （5）解决传统设备达到易堵塞、噪音大、耗能高的问题。 （6）超微纳米气泡体积小，比表面积远大于普通气泡，明显能提高水体的溶氧量。气泡带负电荷；自我收缩爆破，有氧化性和杀菌作用。

高精度紫外纳米压印光刻设备200mmGL8 CLIV Gen2GL8 CLIV Gen2是天仁微纳新型全幅高精度紫外纳米压印设备，标配天仁微纳CLIV（Contact Litho in Vacuum）压印技术，可实现200mm基底面积上高精度（优于10nm ）、高深宽比（优于10比1 ）纳米结构复制量产。GL8 CLIV Gen2 & GL12 CLIV Gen2 2inch/100/150/200mm & 2inch/100/150/200/300mm是天仁微纳新型全幅高精度紫外纳米压印设备，可实现200/300mm基底面积上高精度（优于10nm ）、高深宽比（优于10比1 ）纳米结构复制量产。该设备支持自动复制柔性复合工作模具，工作模具具有精度高，寿命长等特点，可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。保证了大面积纳米压印过程中结构精度与高深宽比结构的完整填充，同时保证了大面积结构压印均匀性。GL8/12 CLIV纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的量产。主要功能● 经过量产验证的200mm大面积、高精度、高深宽比纳米压印● CLIV技术，确保压印结构精度与结构填充完整性● 设备内自动复制柔性复合工作模具，降低大面积纳米压印模具使用成本● 自动对位、自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程无需人工干预● 标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强1000mW/cm2 ），水冷冷却，特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，完美支持各种商用纳米压印材料● 标配设备内部洁净环境与除静电装置● 随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构等工艺流程，帮助客户零门槛达到高质量的纳米压印水平设备照片相关参数兼容基底尺寸2inch、100mm、150mm、200mm特殊尺寸可定制支持基底材料硅片、玻璃、石英、塑料、金属等上下片方式手动上下片晶圆预对位机械夹持预对位，可选装光学巡边预对位纳米压印技术CLIV技术，适合高精度、高深宽比纳米结构压印压印精度优于10纳米*结构深宽比优于10比1*残余层控制可小于10nm*紫外固化光源紫外LED（365nm）面光源，光强1000mW/cm2，水冷冷却（2000mW/cm2类型光源可选配）设备内部环境控制标配，外部环境class 100，内部环境优于Class 10*自动压印支持自动脱模支持自动工作模具复制支持模具基底对位功能自动对位（选配）如想了解更多产品信息，可通过仪器信息网和我们取得联系 400-860-5168转6144

美国K-T公司是全球微纳米力学测试设备技术的开创者，全球第一台纳米力学测试系统于上世纪80年代初在公司前身诞生，多种测量方法和物理模型来自该公司。经过近40年不断努力和改进，该公司微纳米力学测试不仅实现了静态到动态的测试，同时实现了与光学、电学等设备连用的原位材料力学、微结构学甚至成份学的多手段原位测试功能。当前国标已经引入该公司专利的CSM连续刚度技术，在该领域具有很高的权威性。K-T在连续刚度（CSM）、高分辨、扫描成像、快速测试方面拥有独特技术。K-T是该领域著名跨国公司，中国设有地区总部，拥有最专业的技术支持和售后服务人员。更多信息，请联系我们以探讨您的需求。

中图仪器SuperViewW1白光干涉微纳米三维形貌一键测量仪以白光干涉技术为原理，获取反映器件表面质量的2D、3D参数，从而实现器件表面形貌3D测量的光学检测仪器。集合了相移法PSI的高精度和垂直法VSI的大范围两大优点，适用于从超光滑到粗糙、平面到弧面等各种表面类型，让3D测量变得简单。SuperViewW1白光干涉微纳米三维形貌一键测量仪以3D非接触方式，测量分析样品表面形貌的关键参数和尺寸，典型结果包括：表面形貌（粗糙度，平面度，平行度，台阶高度，锥角等等）；几何特征（关键孔径尺寸，曲率半径，特征区域的面积和体积，特征图形的位置和数量等等）。产品功能(1)SuperViewW1白光干涉微纳米三维形貌一键测量仪设备提供表征微观形貌的粗糙度和台阶高、角度等轮廓尺寸测量功能；(2)测量中提供自动对焦、自动找条纹、自动调亮度等自动化辅助功能；(3)测量中提供自动拼接测量、定位自动多区域测量功能；(4)分析中提供校平、图像修描、去噪和滤波、区域提取等四大模块的数据处理功能；(5)分析中提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)分析中同时提供一键分析和多文件分析等辅助分析功能。产品特点参数测量：粗糙度、微观轮廓尺寸、角度、面积、体积，一网打尽；环境噪声检测：实时监测，纳米波动，也无可藏匿；双重防撞保护：软件ZSTOP和Z向硬件传感器，让“以卵击石"也能安然无恙；自动拼接：3轴光栅闭环反馈，让3D拼接“天衣无缝"；双重振动隔离：气浮隔振，吸音隔振，任你“地动山摇，我自岿然不动"。应用领域对各种产品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波纹度、面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例：SuperViewW1白光干涉仪具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点，测量单个精细器件的过程用时短，确保了高款率检测。白光干涉仪的特殊光源模式，可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配:10×选配:2.5×、5×、20×、50×、100×光学ZOOM标配:0.5×选配:0.375×、0.75×、1×标准视场0.98×0.98㎜（10×物镜，光学ZOOM 0.5×）XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动台阶测量可测样品反射率0.05%~100主机尺寸700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

微纳米气泡曝气技术是指将微纳米气泡发生技术应用于水处理中曝气，是近年来发展的一种高效环保水处理技术。相较于普通大气泡，微纳米气泡具有独特的物理化学特性，如比表面积大、表面带电荷、水体中存在时间长、气液传质率高、界面点位高、能自发产生自由基等。在水处理中常应用于悬浮物的吸附去除、难降解有机污染物的氧化分解、向水体复氧促进生物活性以及减少底泥内源污染等方面微纳米曝气技术在黑臭河道治理中改善水质的作用包括：（1）污水中悬浮物的吸附去除，由于微纳米气泡表面带电荷且ζ电位高，对污水中的油类以及悬浮物就有优越的吸附效果，对于COD、氨氮及TP也具有较好的去除效果，从而减少水中有机质，使水体透明度明显提高，改善水色。（2）促进生物净化功能，向污染的缺氧水域中进行微纳米气泡曝气时，随着气泡内溶解氧的消耗不断向水中补充活性氧，可增强水中好氧微生物、浮游生物以及水生动物的生物活性，加速其对水体及底泥中污染物的生物降解过程，实现水质净化目的。（3）难降解有机污染物的强化分解，微纳米气泡破裂时能释放出的大量的羟基自由基，具有氧化性，可分解很多有机污染物，为了促使微气泡在水中能够产生更多的羟基自由基，常采用其它强氧化手段进行协同作用，如紫外线、纯氧以及臭氧等强氧化手段，以更好地发挥对废水中有机污染物的氧化分解作用。（4）减少底泥内源污染，微纳米气泡曝气使得河湖底质表层含氧量增加，好氧微生物代谢活动趋强，有效抑制湖底厌氧菌的有机质分解过程，减少水底氮、磷营养盐的释放量，阻断内源污染。

微纳米气泡曝气技术是指将微纳米气泡发生技术应用于水处理中曝气，是近年来发展的一种高效环保水处理技术。相较于普通大气泡，微纳米气泡具有独特的物理化学特性，如比表面积大、表面带电荷、水体中存在时间长、气液传质率高、界面点位高、能自发产生自由基等。在水处理中常应用于悬浮物的吸附去除、难降解有机污染物的氧化分解、向水体复氧促进生物活性以及减少底泥内源污染等方面微纳米曝气技术在黑臭河道治理中改善水质的作用包括：（1）污水中悬浮物的吸附去除，由于微纳米气泡表面带电荷且ζ电位高，对污水中的油类以及悬浮物就有优越的吸附效果，对于COD、氨氮及TP也具有较好的去除效果，从而减少水中有机质，使水体透明度明显提高，改善水色。（2）促进生物净化功能，向污染的缺氧水域中进行微纳米气泡曝气时，随着气泡内溶解氧的消耗不断向水中补充活性氧，可增强水中好氧微生物、浮游生物以及水生动物的生物活性，加速其对水体及底泥中污染物的生物降解过程，实现水质净化目的。（3）难降解有机污染物的强化分解，微纳米气泡破裂时能释放出的大量的羟基自由基，具有氧化性，可分解很多有机污染物，为了促使微气泡在水中能够产生更多的羟基自由基，常采用其它强氧化手段进行协同作用，如紫外线、纯氧以及臭氧等强氧化手段，以更好地发挥对废水中有机污染物的氧化分解作用。（4）减少底泥内源污染，微纳米气泡曝气使得河湖底质表层含氧量增加，好氧微生物代谢活动趋强，有效抑制湖底厌氧菌的有机质分解过程，减少水底氮、磷营养盐的释放量，阻断内源污染。

CP系列中图微纳米测量接触式台阶仪是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器，其主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。它采用了线性可变差动电容传感器LVDC，具有亚埃级分辨率，13μm量程下可达0.01埃。高信噪比和低线性误差，使得产品能扫描到几纳米至几百微米台阶的形貌特征。产品功能1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料；2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数；3）翘曲与形状：能够测量样品表面的2D形状或翘曲，如在半导体晶圆制造过程中，因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化，或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1）自定义测量模式：支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式；2）导航图智能测量模式：支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机，可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示，进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能CP系列中图微纳米测量接触式台阶仪配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴，可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节，提高测量精度及效率。CP系列中图微纳米测量接触式台阶仪单拱龙门式设计，结构稳定性好，而且降低了周围环境中声音和震动噪音对测量信号的影响，提高了测量精度。测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面，测针的垂直位移距离被转换为与特征尺寸相匹配的电信号并最终转换为数字点云信号，数据点云信号在分析软件中呈现并使用不同的分析工具来获取相应的台阶高或粗糙度等有关表面质量的数据。性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率，结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰，确保仪器具有良好的测量精度及重复性；2.超微力恒力传感器1-50mg可调，以适应硬质或软质样品表面，采用超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的接触式测量；3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨，杜绝运动中的细微抖动，真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。典型应用台阶仪在太阳能光伏行业的应用台阶仪利用光学干涉原理，通过测量膜层表面的台阶高度来计算出膜层的厚度，具有测量精度高、测量速度快、适用范围广等优点。它可以测量各种材料的膜层厚度，包括金属、陶瓷、塑料等。针对测量ITO导电薄膜的应用场景，CP200台阶仪提供如下便捷功能：1）结合了360°旋转台的全电动载物台，能够快速定位到测量标志位；2）对于批量样件，提供自定义多区域测量功能，实现一键多点位测量；3）提供SPC统计分析功能，直观分析测量数值变化趋势；部分技术指标型号CP200测量技术探针式表面轮廓测量技术样品观察光学导航摄像头:500万像素高分辨率 彩色摄像机,FoV,2200*1700μm探针传感器超低惯量，LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm（6吋）,200mm（8吋）台阶高度重复性5 &angst , 量程为330μm时/ 10 &angst , 量程为1mm时（测量1μm台阶高度，1δ）尺寸（L×W×H）mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC，50/60 Hz，200W使用环境相对湿度：湿度 （无凝结）30-40% RH温度：16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动：6.35μm/s（1-100Hz）音频噪音：≤80dB空气层流：≤0.508 m/s（向下流动）恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

GL8 CLIV Gen2是天仁微纳新型全幅高精度紫外纳米压印设备，标配天仁微纳CLIV（Contact Litho in Vacuum）压印技术，可实现200mm基底面积上高精度（优于10nm ）、高深宽比（优于10比1 ）纳米结构复制量产。该设备支持自动复制柔性复合工作模具，工作模具具有精度高，寿命长等特点，可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。CLIV技术的应用保证了大面积纳米压印过程中结构精度与高深宽比结构的完整填充，同时保证了大面积结构压印均匀性。GL8 CLIV Gen2纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的研发和量产。经过量产验证的200mm大面积、高精度、高深宽比纳米压印CLIV技术，确保压印结构精度与结构填充完整性设备内自动复制柔性复合工作模具，降低大面积纳米压印模具使用成本自动对位、自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程无需人工干预标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强1000mW/cm2 ），水冷冷却，特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，完美支持各种商用纳米压印材料标配设备内部洁净环境与除静电装置随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构以及微透镜阵列等工艺流程，帮助客户零门槛达到国际领先的纳米压印水平

布鲁克Hysitron TI Premier高精度纳米力学测试系统是布鲁克公司研制的自动化、高通量测试仪器，通过纳米级位成像，可实现压痕、划痕和磨损过程的纳米尺度原位可视化表征。Hysitron（海思创）应用其工艺技术“三板电容传导”，从源头上保证了仪器稳定性和灵敏度。使用Hysitron（海思创）纳米力学材料检测系统通过探针可以获得材料微区的硬度、弹性模量、摩擦系数、磨损率、断裂刚度、失效、蠕变、粘附力（结合力）等力学数据。后续可选择升级模块有高温台、电学性能测试、湿度控制模块、冷台、与拉曼连用等。不仅在微纳米水平上开展力学行为特性的研究，还可以进行纳米尺寸上的机械加工。

美国K-T公司于2018年4月收购原安捷伦纳米测量部，其是全球微纳米力学（压痕/划痕/成像）测试设备的开创者，全球首台纳米力学测试系统于上世纪80年代初诞生于此，多种测量方法和物理模型都来自该公司。经过30多年不断努力和改进，目前该公司微纳米力学测试不仅实现了静态测试，同时实现了高水平的动态纳米压痕测试和原位纳米压痕测试，当前中国纳米压痕测试国家标准已包含了该公司的连续刚度（CSM）测试专利技术，在该领域具有很高的权威性。K-T公司纳米测量部在连续刚度测试（CSM）、高分辨率、扫描成像、快速测试方面拥有独有技术。K-T是该领域知名的跨国公司，中国设有地区总部，拥有高水平的专业技术支持和售后服务人员，国内用户得到很好的售后服务和支持。标准载荷500mN 标准位移精度优于0.02nm.

微纳米气泡发生器产品介绍 微纳米气泡发生装置是上海如净环保科技有限公司自主研发生产的前沿高科技产品，该装置融合了当今国内外微纳米气泡发生装置技术和制造工艺，历经了多年实践检验及工程应用，弥补国内纳米至微米级气泡发生装置的空白，实现了从实验室走向工业化推广应用的突破。微纳米气泡发生器工作原理 上海如净微纳米气泡发生装置，其原理是使气体与液体高度相溶混合，如净微纳米气泡采用动态高速剪切装置，将气液混合物内的气泡切碎，由于这些构件的强大剪切力，可以将气泡切碎至几十纳米到几微米，最终形成乳白色微纳米气泡，这种方式可以兼顾气液混合与微气泡发生，具有气液过程强化的特征。 微纳米气泡发生器由气液混合装置，加压装置、释放装置、控制系统，四大部分组成，其中需要连接配套管路，主要包括进气管路、进水管路、出水管路。当气体从进气管路进入加压装置后，与液体充分混合，经过气液剪切高压混合等处理，生成直径50μm以下的微米气泡，最终通过释放装置产生的物理原理释放出20-180nm以下的微纳米级气泡。◆性能参数 微纳米气泡发生装置产生气泡平均粒径在100纳米（nm）—10微米（μm）之间，气泡含率84%—90%，气泡平均上升速度4 mm/s—8 mm/s。◆产品特点 （1）实现气、液两相高度混合并达到饱和。 （2）可以接入不同的气体（如：空气、纯氧、臭氧、氮气）等气源来满足不同的需要。 （3）解决传统曝气设备气泡大、上升速度快、停留时间短、容易汇聚、对水体扰动大、饱和溶氧状态时间长的问题。 （4）解决传统设备体积大、效率低、成本高的问题。 （5）解决传统设备达到易堵塞、噪音大、耗能高的问题。 （6）超微纳米气泡体积小，比表面积远大于普通气泡，明显能提高水体的溶氧量。气泡带负电荷；自我收缩爆破，有氧化性和杀菌作用。

中图仪器NS系列纳米级高精度台阶仪接触式表面形貌测量是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器，其主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。它采用了线性可变差动电容传感器LVDC，具备超微力调节的能力和亚埃级的分辨率，同时，其集成了超低噪声信号采集、超精细运动控制、标定算法等核心技术，使得仪器具备超高的测量精度和测量重复性。台阶仪工作原理当触针沿被测表面轻轻滑过时，由于表面有微小的峰谷使触针在滑行的同时还沿峰谷作上下运动。触针的运动情况就反映了表面轮廓的情况。结构主要组成部分1、测量系统（1）单拱龙门式设计，结构稳定性好，而且降低了周围环境中声音和震动噪音对测量信号的影响，提高了测量精度。（2）线性可变差动电容传感器（LVDC），具有亚埃级分辨率，13μm量程下可达0.01埃。高信噪比和低线性误差，使得产品能扫描到几纳米至几百微米台阶的形貌特征。（3）传感器设计使得在单一平台上即可实现超微力和正常力测量。测力恒定可调，以适应硬质或软质材料表面。超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的精准接触式测量。2、工件台（1）精密的XY平台结合360°连续旋转电动旋转台，可以对样品的位置以及角度进行调节，三维位置均可以调节，利于样品调整。（2）超高直线度导轨，有效避免运动中的细微抖动，提高扫描精度，真是反映工件微小形貌。3、成像系统500万像素高分辨率彩色摄像机，即时进行高精度定位测量。可以将探针的形貌图像传输到控制电脑上，使得测量更加直观。4、软件系统测量软件包含多个模块。5、减震系统防止微小震动对测量结果的影响，使实验数据更加准确。NS系列纳米级高精度台阶仪接触式表面形貌测量应用场景适应性强，其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求，能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位，其对表面微观形貌参数的准确表征，对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。产品功能1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm或1050μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料。2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等数十项参数。3）应力测量：可测量多种材料的表面应力。2.测量模式与分析功能1）单区域测量模式：完成Focus后根据影像导航图设置扫描起点和扫描长度，即可开始测量。2）多区域测量模式：完成Focus后，根据影像导航图完成单区域扫描路径设置，可根据横向和纵向距离来阵列形成若干到数十数百项扫描路径所构成的多区域测量模式，一键即可完成所有扫描路径的自动测量。3）3D测量模式：完成Focus后根据影像导航图完成单区域扫描路径设置，并可根据所需扫描的区域宽度或扫描线条的间距与数量完成整个扫描面区域的设置，一键即可自动完成整个扫描面区域的扫描和3D图像重建。4）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.双导航光学影像功能在NS200-D型号中配备了正视或斜视的500W像素的彩色相机，在正视导航影像系统中可精确设置扫描路径，在斜视导航影像系统中可实时跟进扫描轨迹。4.快速换针功能NS系列纳米级高精度台阶仪接触式表面形貌测量采用了磁吸式测针，当需要执行换针操作时，可现场快速更换扫描测针，并根据软件中的标定模块进行快速标定，确保换针后的精度和重复性，减少维护烦恼。磁吸针实物外观图（330μm量程）应用场景介绍

中图仪器CP系列纳米台阶测厚仪高精度测量薄膜厚度是一款超精密接触式微观轮廓测量仪，其采用LVDC电容传感器，主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量，具有的亚埃级分辨率和超微测力等特点。CP系列纳米台阶测厚仪高精度测量薄膜厚度应用场景适应性强，其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求，能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位，其对表面微观形貌参数的准确表征，对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。测量过程测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面，测针的垂直位移距离被转换为与特征尺寸相匹配的电信号并最终转换为数字点云信号，数据点云信号在分析软件中呈现并使用不同的分析工具来获取相应的台阶高或粗糙度等有关表面质量的数据。产品功能1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料；2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数；3）翘曲与形状：能够测量样品表面的2D形状或翘曲，如在半导体晶圆制造过程中，因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化，或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1）自定义测量模式：支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式；2）导航图智能测量模式：支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机，可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示，进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴，可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节，提高测量精度及效率。典型应用CP系列纳米台阶测厚仪高精度测量薄膜厚度集成了超低噪声信号采集、超精细运动控制、标定算法等核心技术，使得仪器具备超高的测量精度和测量重复性。仪器结构单拱龙门式设计，结构稳定性好，而且降低了周围环境中声音和震动噪音对测量信号的影响，提高了测量精度。性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率，结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰，确保仪器具有良好的测量精度及重复性；2.超微力恒力传感器1-50mg可调，以适应硬质或软质样品表面，采用超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的接触式测量；3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨，杜绝运动中的细微抖动，真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。部分技术指标型号CP200测量技术探针式表面轮廓测量技术样品观察光学导航摄像头:500万像素高分辨率 彩色摄像机,FoV,2200*1700μm探针传感器超低惯量，LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm（6吋）,200mm（8吋）台阶高度重复性5 &angst , 量程为330μm时/ 10 &angst , 量程为1mm时（测量1μm台阶高度，1δ）尺寸（L×W×H）mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC，50/60 Hz，200W使用环境相对湿度：湿度 （无凝结）30-40% RH温度：16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动：6.35μm/s（1-100Hz）音频噪音：≤80dB空气层流：≤0.508 m/s（向下流动）恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

量产型高精度紫外纳米压印光刻设备GL150/300 CLIVGL150/300 CLIV 是天仁微纳最新型全自动高精度紫外纳米压印设备，标配天仁微纳CLIV（Contact Litho in Vacuum）压印技术，可实现最大150/300mm基底面积上高精度（优于10nm ）、高深宽比（优于10比1 ）纳米结构复制量产。该设备支持cassette to cassette自动上下片、自动复制柔性复合工作模具，工作模具自动更换。整个工艺过程在密闭洁净环境中进行，以保证压印结果质量。CLIV技术的应用保证了大面积纳米压印过程中结构精度与高深宽比结构的完整填充，同时保证了大面积结构压印均匀性。GL150/300 CLIV纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的量产。主要功能● 全自动150/300mm大面积、高精度、高深宽比纳米压印生产线●CLIV技术，确保压印结构精度与结构填充完整性●Cassette to cassette自动上下片，光学巡边预对位●设备内自动复制柔性复合工作模具，同时支持自动更换工作模具，适合连续生产●自动对位、自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程在密闭洁净环境中自动进行，以保证压印质量●标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强1000mW/cm2 ），水冷冷却，特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，完美支持各种商用纳米压印材料●产能可大于40片每小时，适合DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的量产●随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构等工艺流程，帮助客户零门槛达到国际领先的纳米压印水平设备照片相关参数兼容基底尺寸GL150 CLIV：2inch、3inch、100mm、150mmGL300 CLIV：200mm、300mm特殊尺寸可定制支持基底材料硅片、玻璃、石英、塑料、金属等上下片方式Cassette to cassette全自动上下片晶圆预对位光学巡边预对位纳米压印技术CLIV技术，适合高精度、高深宽比纳米结构压印压印精度优于10纳米*结构深宽比优于10比1*残余层控制可小于10nm*紫外固化光源紫外LED（365nm）面光源，光强1000mW/cm2，水冷冷却（2000mW/cm2类型光源可选配）设备内部环境控制标配，外部环境Class 100，内部环境可达Class 10*自动压印支持自动脱模支持自动工作模具复制支持自动工作模具更换支持模具基底对位功能自动对位（选配）产能可大于40片每小时*如想了解更多产品信息，可通过仪器信息网和我们取得联系 400-860-5168转6144

一维纳米定位台，为一维×向运动压电平台，可进行10~200um范围内的纳米级位置调整。产品特性：◆ 高速响应；◆ 压电陶瓷驱动；◆ 重复定位精度高；◆ 纳米级位移分辨率；◆ 机体材料分铝合金和钛合金；◆ 具有开环和闭环两种；◆ 采用数控、线切割等加工工艺。严格保证结构精度；◆ 采用计算机有限元仿真分析等现代设计方案设计微动结构；◆ 采用表面处理工艺，提高了适应工作环境的能力。

压电纳米定位台是一款三维运动的压电平 台，行程可高达 100μm，适用于小型样品的三维纳米定位应用。产品特点■ 高速响应■ 压电陶瓷驱动■ 较高的重复定位精度■ 纳米级位移分辨率■ 机体材料为铝合金■ 具有开环和闭环两种控制方式■ 采用数控、线切割等加工工艺，严格保证结构精度■ 采用计算机有限元仿真分析等现代设计方案设计微动结构■ 采用精机的表面处理工艺，提高了适应不同工作环境的能力

美国K-T公司是全球微纳米力学测试设备技术的开创者，全球第一台纳米力学测试系统于上世纪80年代初在公司前身诞生，多种测量方法和物理模型来自该公司。经过近40年不断努力和改进，该公司微纳米力学测试不仅实现了静态到动态的测试，同时实现了与光学、电学等设备连用的原位材料力学、微结构学甚至成份学的多手段原位测试功能。当前国标已经引入该公司专利的CSM连续刚度技术，在该领域具有很高的权威性。K-T在连续刚度（CSM）、高分辨、扫描成像、快速测试方面拥有独特技术。K-T是该领域著名跨国公司，中国设有地区总部，拥有最专业的技术支持和售后服务人员。更多信息，请联系我们以探讨您的需求。

选型指南：PB1000型微纳米力学综合测试系统是美国NANOVEA公司销量最高的一款微纳米力学测试系统测量系统，这款仪器采用模块化设计，可在一款仪器下实现纳米与微米/大载荷三个尺度下的压痕，划痕与摩擦磨损测试，进而可得到硬度、弹性模量、蠕变信息、弹塑性、断裂韧度、应力-应变曲线、膜基结合力、划痕硬度、摩擦系数、磨损率等微观力学数据。产品特性:◎可在一台仪器上实现纳米尺度、微米尺度及大载荷尺度下的压痕、划痕与摩擦测试 ◎压痕、划痕与摩擦磨损完全符合ASTM及ISO的国际标准◎模块化设计：可根据客户需求任意选择纳米/微米/大载荷模块的压痕/划痕/磨损功能◎专利的设计可保证系统具有高稳定性与高的精度◎可拓展性强：可随意升级已有设备到多种测试功能技术参数：◎工作台自动控制范围：150 mm×150mm ◎Z方向自动移动范围：50mm◎工作台定位精度：1μm◎光学显微物镜：5X,10X,20X,50X,100X可选◎总放大倍数：200X, 400X, 800X,2000X200X, 4000X可选◎纳米压痕仪/纳米划痕仪/纳米摩擦磨损仪◎微米压痕仪/微米划痕仪/微米摩擦磨损仪◎大载荷压痕仪/大载荷划痕仪/大载荷摩擦磨损仪可选件： ◎ 测量模块：客户需要自己选择纳米模块、微米模块与大载荷模块其中之一 ◎ 光学镜头：客户需要自己选择光学镜头的个数与倍率 ◎ 原子力显微镜产品应用： ◎薄膜及超薄膜(金属膜、陶瓷膜、Low k 膜、多层复合膜等) ◎复合材料(树脂基、陶瓷基、金属基、纤维增强材料表面及界面等) ◎聚合物 (共混物、共聚物等) ◎生物及仿生材料(细胞、骨组织、血管、牙齿、支架等) ◎金属及合金(晶面/晶界/组织相、金属玻璃、稀土等) ◎MEMS (微悬臂、微镜、微泵等) ◎陶瓷材料 ◎电子及半导体(硅片、蓝宝、硬脆及软脆材料等)

CB500型微纳米力学综合测试系统是美国NANOVEA公司推出的一款性价比高的微纳米力学测试系统测量系统，这款仪器采用模块化设计，可实现纳米/微米/大载荷三个尺度下的压痕，划痕与摩擦磨损测试，进而可得到硬度、弹性模量、蠕变信息、弹塑性、断裂韧度、膜基结合力，划痕硬度，摩擦系数等微观力学数据，用户可根据需要选择适合相应应用的功能模块。产品特性:◎可在一台仪器上实现纳米尺度、微米尺度及大载荷尺度下的压痕、划痕与摩擦测试 ◎压痕、划痕与摩擦磨损完全符合ASTM及ISO的国际标准◎模块化设计：可根据客户需求任意选择纳米/微米/大载荷模块的压痕/划痕/磨损功能◎专利的设计可保证系统具有高稳定性与高的精度◎可拓展性强：可随意升级已有设备到多种测试功能技术参数：◎工作台自动控制范围：100 mm×50mm ◎Z方向自动移动范围：25mm◎工作台定位精度：1μm◎光学显微物镜：5X,10X,20X,50X,100X可选◎总放大倍数：200X, 400X, 800X,2000X200X, 4000X可选◎纳米压痕仪/纳米划痕仪/纳米摩擦磨损仪◎微米压痕仪/微米划痕仪/微米摩擦磨损仪◎大载荷压痕仪/大载荷划痕仪/大载荷摩擦磨损仪可选件： ◎ 测量模块：客户需要自己选择纳米模块、微米模块与大载荷模块其中之一 ◎ 光学镜头：客户需要自己选择光学镜头的个数与倍率产品应用： ◎薄膜及超薄膜(金属膜、陶瓷膜、Low k 膜、多层复合膜等) ◎复合材料(树脂基、陶瓷基、金属基、纤维增强材料表面及界面等) ◎聚合物 (共混物、共聚物等) ◎生物及仿生材料(细胞、骨组织、血管、牙齿、支架等) ◎金属及合金(晶面/晶界/组织相、金属玻璃、稀土等) ◎MEMS (微悬臂、微镜、微泵等) ◎陶瓷材料 ◎电子及半导体(硅片、蓝宝、硬脆及软脆材料等)

Winner802光子相关纳米粒度仪产品简介： 光子相关纳米粒度仪Winner802是国家科技型中小企业技术创新基金项目（立项代码： 10C26213704395）成果产品，也是首批采用动态光散射原理的纳米粒度仪。该仪器采用动态光散射原理和光子相关光谱技术，因颗粒在悬浮液中做布朗运动，使得光强随时间产生脉动，利用微纳数字相关器技术处理脉冲信号，得到颗粒运动的扩散信息，利用Stokes-Einstein方程计算得出颗粒粒径大小及其分布。 光子相关纳米激光粒度仪Winner803是Winner802的升级款，配备双波长激光器，针对某些具有吸光属性和传统单一波长激光器无法检测的样品，可进行有效检测，Winner803纳米激光粒度仪专注于有色颗粒的粒度分布检测，想颜料、染料等。 产品优势: 高灵敏度和信噪比 采用动态光散射原理，利用灵敏度高和信噪比强的HAMAMATSU光电倍增管和自主研发的CR256数字相关器，在不破坏不干扰纳米颗粒体系的情况下，能够实时完成动态散射光的采集和函数运算，有效计算出颗粒粒径大小，保证测试结果的准确性。 抗干扰性强 采用光纤技术搭建的光路系统，使光子相关光谱探测系统不仅体积小，而且具有很强的抗干扰能力，保证了测试结果的稳定性。 可靠的温控系统 采用半导体温控系统，温度波动控制在±0.1 ℃，保证了样品在测试过程中始终处于恒温状态，避免因温度变化而引起的液体粘度和布朗运动速度的变化导致的测试偏差，从而保证了测试结果的可靠性。 双波长激光器，智能切换（Winner803特有性能） 采用双波长（λ=532 nm λ=405 nm）激光器，可智能切换，对某些具有吸光属性，单一波长激光器无法检测的样品，可进行有效检测。 产品技术参数: 产品型号Winner802Winner803执行标准GB/T 19627-2005/ISO13321:1996 GB/T29022-2012/ISO22412:2008测试范围1-10000nm (与样品相关)准确度误差≤1% （国家标准样品D50）重复性误差≤1% （国家标准样品D50）测试浓度0.1mg/mL——100mg/mL（与样品有关）激光器半导体激光器： λ=532nm 功率 P=1-40mW(可调)主光源：半导体激光器：λ=532nm 功率 P=1-40mW(可调) 辅助光源：蓝光激光器 λ=405nm 功率P＞2mW探测器光电倍增管（PMT）散射角90°样品池10×10×40mm （1—4mL）测试温度5—90 ℃温控精度±0.1℃测试速度＜5min产品体积600×380×230mm产品重量12Kg数字相关器产品型号CR256自相关通道256基数通道4物理通道数5000单位延迟时间100ns—10ms 应用领域： 纳米材料、纳米乳液、纳米粉末、纳米硼化物、纳米非金属、涂料、染料、颜料、药品、蛋白质、纳米碳酸钙、感光材料、添加剂、石墨、以及其他纳米颗粒等。

高分辨率微纳米工业CT EasyTom S / 产品概述测试特性：尺寸测量、材料表征、缺陷分析、内部结构无损检测适用领域：工业零部件可以对工件进行高分辨率内部可视化和测量分析，扫描体积为直径180mm、高度400mm，分辨率低至2μm，4轴高精度花岗岩机械结构，占地面积小易于集成，适合中小尺寸零件。高分辨率微纳米工业CT EasyTom S / 产品特点微焦点发生器：出色的CT分辨率2um高速探测器：较快扫描6秒增强的机械性能：能够长期稳定工作的花岗岩轴自动化扫描重建和检验工作流程多种采集模式：常规、螺旋、移位、堆积高可用性：低维护停机时间检测体积大(Φ185×H390mm）机柜尺寸（高X宽X直径）：1865mm x 1325mm x 890mm易于集成：占地面积小-即插即用1865×1325×890mm（高×宽×厚度）技术规格轴数4zui大SDD610 mm扫描体积Ø 180×400mmzui大样品重量5kg设备重量1020kg射线源数量1个外部尺寸1430×900×1870mm(W×D×H)辐射安全高级的 X 射线屏蔽柜集成保护（设备表面任何地方的辐射量0.5µ Sv/ 小时）软件所有设备都由 RX Solutions 自有的 X-Act 软件控制机械系统高级光学蜂窝面包板结构，确保了 CT 扫描的稳定性花岗岩底座，确保温度稳定性和良好的阻尼性能平板探测器（选配）像素矩阵1920x1536；像素间距127 µ m；尺寸25×20 cm像素矩阵2048x2560；像素间距124 µ m；尺寸32×25 cm相机探测器（选配）像素矩阵4008x2672；像素间距9 µ m；尺寸36×24 mmX射线管（选配）封闭管：zui大电压110微米；zui大功率16W；zui大分辨率2µ m封闭管：zui大电压130微米；zui大功率39W；zui大分辨率5µ m封闭管：zui大电压150微米；zui大功率75W；zui大分辨率5µ m