定量双折射成像系统

特性测量633 nm下最大半波(高达316 nm)的样品延迟和最大±90°的方位角(快轴方向)使用0.3 NA的10倍物镜(附带)时，空间分辨率为1.055 μm下方出售其他经过验证的精确物镜内置633 nm光源提供两种配置电动物镜安装臂(显微镜型号CM502)手动物镜安装臂(显微镜型号CM501) 定制工作波长请联系我们应用应力诱导双折射成像双折射敏感组织分析无染料、无标记成像结构成像病理诊断材料研究质量检验Thorlabs的Cerna双折射成像显微镜是测量双折射材料延迟和方位角的完整系统。这些显微镜提供低至±1 nm的延迟测量和低至±1°的方位角测量，使用附带物镜时的空间分辨率为1.055 μm，还具有灵活的Cerna平台，因此是双折射成像的多功能解决方案。CM50x显微镜设计用于学术研究、医疗诊断、工业制造和产品质量保证。由于其工作基于液晶器件，没有内部机械运动，因此能够稳定工作，且无振动。

双折射显微成像系统所属类别： ? 光学检测设备 ? Hinds偏振成像设备所属品牌：美国Hinds Instruments公司 产品简介双折射显微成像系统 生物组织/材料 双折射分布显微成像系统 Hinds Instruments 公司的偏振显微/双折射显微成像系统 可以精确测量多个波长下生物样本/材料双折射分布，并配合CCD多个像素元形成详细细致分布。结合不同组织的双折射偏振特性，可以用来分析检测生物样品/材料特定。 偏振显微成像系统、显微偏振成像系统、偏振显微镜、偏振成像、双折射显微成像 Hinds Instruments 公司的偏振显微/双折射显微成像系统，Hinds Instruments 公司的偏振显微/双折射显微成像系统可以精确测量多个波长下生物样本/材料双折射分布，Hinds Instruments 公司的偏振显微/双折射显微成像系统也可以并配合CCD多个像素元，从而Hinds Instruments 公司的偏振显微/双折射显微成像系统可以详细细致的显示这个分布。结合不同组织的双折射偏振特性，Hinds Instruments 公司的偏振显微/双折射显微成像系统可以用来分析检测生物样品/材料特定。 Hinds Instruments 公司的偏振显微/双折射显微成像系统可以配合多个波长实现多波长扫描的实现和应用（三波长或者四波长）。Hinds Instruments 公司的偏振显微/双折射显微成像系统在配合高速偏振调制成像和CCD多像素计算方案有着独到的解决技术。 产品特点? 不需要荧光/染料标记? 支持客户需求定制光谱扫描? 支持客户需范围求点/面/线成像? 同一幅面内双折射分布/强度分布/偏振角分布成像可选? 三色（可到2400nm谱段）四色（可到3500nm谱段成像）可选 相关产品 磁光克尔效应测量系统 成像型穆勒矩阵测量系统

PHL双折射测量仪PHL PA-110-T大面积应力双折射测量仪概述： 日本Photonic-lattice公司成立于1996年，以日本东北大学的光子晶体的研究技术为核心，成立的合资公司，尤其是其光子晶体制造技术，并由此开发出的测量仪器。 主要产品分四部分：n 光子晶体光学元件；双折射和相位差评价系统；膜厚测试仪；偏振成像相机。『相位差』『双折射』『内部应力』测量装置 WPA/PA系列快速定量测量透明材料和薄膜2维平面内的相位差、双折射和内部应力应变分布PA/WPA系统特点：操作简单/快速测定：独特的偏振成像传感器进行简单的和快速的操作即可测量相位差的分布2D数据的多方面分析功能：二维数据的强大分析功能，能够直观解释被测样品的特性。大相位差测试能力（WPA系列）：通过对三组不同波长的测量数据进行计算，WPA系统可以测量出几千nm范围内的相位差。 偏光图像传感器的结构和测试原理 PHL PA-110-T大面积应力双折射测量仪器PA-110-T可以对8英寸以上的样品测量双折射参数，在蓝宝石，SiC晶片等晶体缺陷方面具有广泛应用。蓝宝石或SIC等透明晶圆的结晶缺陷，会直接影响到其产品性能，故缺陷的检出和管理，是制程中不可欠缺的重要环节。 到目前为止，产线上的缺陷管理，多是使用偏关片，以目视方式进行缺陷检查。但是，这样的检查方式，因无法将缺陷定量化，当各批量间产生变动或缺点密度缓慢增加时，就无法以目视检查的方式正确找出缺陷。 PA-110-T，将特殊的高速偏光感应器与XY Stage组合起来，φ8inch晶圆仅需5分钟，即可取得整面的双折射分布资料。 藉由定量化的结晶缺陷评估，提高生产品质的稳定性。 PHL PA-110-T大面积应力双折射测量仪器特点： 使用PA-110-Rasterscan软体，操作简单，可进行精细的拼贴测量。 l XY自动Stage&拼贴功能针对大尺寸的Wafer数据，以拼贴方式自动合成。 l 使用大口径远心境头以垂直光线进行量测，因不受视觉影像，连书面周边区域都可高精度测量。 PHL PA-110-T大面积应力双折射测量仪器原理： l 当光穿透具有双折射特性的透明物质时，光的偏光状态会产生变化（光弹性效果）。换句话说，比较光穿透物体前之后的偏光状态，即可评估物质的双折射。 l 该设备装配的偏光感应器，使用了敝公司特有的Photonic结晶组装而成，能瞬间将偏光资讯以影像方式提取保存。再搭配专属的演算、画像处理软件，能将双折射分布数据定量化，变成可以分析的资料。 PHL PA-110-T大面积应力双折射测量仪器技术指标： 型号PA-110-T测量范围0-130nm重复性1.0nm像素数1120x868测量波长520nm尺寸650x700x683mm观测到的面积8英寸自身重量70kg数据接口千兆以太网（摄像机信号），RS-232C电压电流AC100-240V（50/60Hz）软件PA-View

双折射应力测量仪PA-110-T大面积应力双折射应力测量仪概述：日本Photonic-lattice公司成立于1996年，以日本东北大学的光子晶体的研究技术为核心，成立的合资公司，尤其是其光子晶体制造技术领先世界，并由此开发出的测量仪器。 主要产品分四部分：n 光子晶体光学元件；双折射和相位差评价系统；膜厚测试仪；偏振成像相机。『相位差』『双折射』『内部应力』测量装置 WPA/PA系列快速定量测量透明材料和薄膜2维平面内的相位差、双折射和内部应力应变分布PA/WPA系统特点：操作简单/快速测定：独特的偏振成像传感器进行简单的和快速的操作即可测量相位差的分布2D数据的多方面分析功能：二维数据的强大分析功能，能够直观解释被测样品的特性。大相位差测试能力（WPA系列）：通过对三组不同波长的测量数据进行计算，WPA系统可以测量出几千nm范围内的相位差。 偏光图像传感器的结构和测试原理 PA-110-T大面积应力双折射测量仪器PA-110-T可以对8英寸以上的样品测量双折射参数，在蓝宝石，SiC晶片等晶体缺陷方面具有广泛应用。蓝宝石或SIC等透明晶圆的结晶缺陷，会直接影响到其产品性能，故缺陷的检出和管理，是制程中不可欠缺的重要环节。 到目前为止，产线上的缺陷管理，多是使用偏关片，以目视方式进行缺陷检查。但是，这样的检查方式，因无法将缺陷定量化，当各批量间产生变动或缺点密度缓慢增加时，就无法以目视检查的方式正确找出缺陷。 PA-110-T，将特殊的高速偏光感应器与XY Stage组合起来，φ8inch晶圆仅需5分钟，即可取得整面的双折射分布资料。 藉由定量化的结晶缺陷评估，提高生产品质的稳定性。 PA-110-T大面积应力双折射测量仪器特点： 使用PA-110-Rasterscan软体，操作简单，可进行精细的拼贴测量。 l XY自动Stage&拼贴功能针对大尺寸的Wafer数据，以拼贴方式自动合成。 l 使用大口径远心境头以垂直光线进行量测，因不受视觉影像，连书面周边区域都可高精度测量。 PA-110-T大面积应力双折射测量仪器原理： l 当光穿透具有双折射特性的透明物质时，光的偏光状态会产生变化（光弹性效果）。换句话说，比较光穿透物体前之后的偏光状态，即可评估物质的双折射。 l 该设备装配的偏光感应器，使用了敝公司特有的Photonic结晶组装而成，能瞬间将偏光资讯以影像方式提取保存。再搭配专属的演算、画像处理软件，能将双折射分布数据定量化，变成可以分析的资料。 PA-110-T大面积应力双折射测量仪器技术指标： 型号PA-110-T测量范围0-130nm重复性1.0nm像素数1120x868测量波长520nm尺寸650x700x683mm观测到的最大面积8英寸自身重量70kg数据接口千兆以太网（摄像机信号），RS-232C电压电流AC100-240V（50/60Hz）软件PA-View

WPA-100镜头双折射应力测试仪快速定量测量透明材料的应力双折射分布相位差、双折射和内部应力分布操作简单/快速测定：独特的偏振成像传感器进行简单的和快速的操作即可测量相位差的分布2D数据的多方面分析功能：二维数据的分析功能，能够直观解释被测样品的特性。大相位差测试能力（WPA系列）：通过对三组不同波长的测量数据进行计算，WPA系统可以测量出几千nm范围内的相位差。 偏光图像传感器的结构和测试原理 小型镜头双折射分布測量系統WPA-100最适合用來检测手机镜头的双折射/相位差以雙折射/相位差結果為基準自動判定合格與否鏡片的雙折射現象，會造成鏡片的成像性能(MTF)下降。這是因為決定光線折射角度的折射率因入射偏光而呈現不穩定的狀態。智慧型手機所使用的鏡片需要高度解析度，因此減少雙折射現象，及掌控雙折射的數值，是製造智慧型手機鏡片時，不可缺少的動作。WPA-100-S正符合這樣的需求，並能以高速完成各項測量。 WPA-100小镜片双折射应力测试仪产品特点： 大的测试范围图表功能CSV格式输出快轴/慢轴可选择自动的合格与否判定 l 可升级至满足小于φ10mm的透镜的检测。l 自动选择图形区域和自动判定合格与否的功能。 WPA-100 小镜片双折射应力测试仪主要参数表：型号WPA-100-S测量范围0-4000nm重复性1.0nm像素数384x288（≒11万）pixels测量波长523nm,543nm,575nm产品尺寸200x275x309.5mm观测到的面积11.6x15.8mm自身重量和电源重量9kg和4kg电压电流AC100-240V（50/60Hz）软件WPA-View (for WPA-100-S)

150AT应力双折射测量系统所属类别： ? 光学/激光测量设备 ? 应力双折射测量仪所属品牌：美国Hinds Instruments公司 产品简介150AT全自动应力双折射测量系统 全自动应力双折射测量系统 150AT 应力双折射系统是Hinds应力双折射测量系统家族系列产品。该应力双折射测量系统既可作为实验室科研探索测量光学组件应力分布测量，也可用作诸如玻璃面板，透镜，晶体，单晶硅/多晶硅、注塑成品等工业生产中检测产品应力分布。产品软件直观显示待测样品应力情况，便于操作和日常监测。 150AT 应力双折射系统可以根据客户需求选择设置，使得测量更有针对性（高精度/大范围相位延迟量），系统有着很高的测量速度的同时也具有极高的测量分辨能力（1 mm grid spacing ），150AT应力双折射系统也提供倾斜位移平台等设计来帮助客户完成一些非常规扫描/测量需求。 产品特点自动X/Y位移平台扫描二维/三维图形/参数表格显示样品应力分布测量结果台式整机设计组装灵活位移平台设计，满足个性化定制需求强大数据拟合分析功能和友好用户界面 参数高精度测量系统选项大范围相位延迟量测量选项相位延迟量范围:0.005 to 120+ nm0.005 to 300+ nm相位延迟量测量分辨率/ 重复精度1, 2, 3:0.001 nm / ± 0.008 nm0.01 nm / ± 0.015 nm角度测量分辨率 / 重复精度1:0.01o / ± 0.05°0.01o / ± 0.07°测量速率 / 时间4:up to 100 pps / sample size dependent尺寸:910 mm (H) x 415 mm (W) x 700 mm (D)光源波长5:Various (632.8 nm standard)测量光斑6:Between 1 mm and 3 mm native (can be as low as 50 μm)内置测量调制频率:PEMLabsTM Photoelastic Modulator 50 kHz or 50/60 kHz解调分析技术:Hinds Instruments SignalocTM Lock-in Amplifier or Wave Form Capture Card测量单位:nm (retardation), ° (angle)1 Typical performance at 5 nm retardation2 Up to 0.8 nm, 1% thereafter3 Up to 1.5 nm, 1% thereafter4 Maximum data collection speed. Sample XY scan time dependent on stage movement parameters.5 Custom wavelengths available6Spot sizes of less that 1 mm native require optional high resolution detector module 选项: * Additional Polarization Parameters * 超高速扫描选项 * 光谱扫描测量和RGB测量 * 客户定制内置波长选项（紫外/红外） * 手动/自动倾斜位移平台装置 * 定制样品平台加持谁记 * 定制化显示界面 (UI or DLL) * 应力计算评估软件 相关产品 光弹调制器

PHL应力仪PHL应力双折射仪PHL WPA-100应力双折射测试仪器PHL应力双折射测试仪简介：PHL应力双折射仪，能够快速、精准测量双折射相位差及其空间分布和方向。广泛应用于玻璃、晶体、聚合物薄膜、镜片、晶片等质量分析和控制领域。日本Photonic-lattice 公司成立于1996 年，以日本东北大学的光子晶体的研究技术为核心，成立的合资公司，尤其是其光子晶体制造技术领先世界，并由此开发出的测量仪器。Photonic Lattice主要产品分四部分：Photonic Lattice光子晶体光学元件；Photonic Lattice双折射和相位差评价系统；Photonic Lattice膜厚测试仪；Photonic Lattice偏振成像相机。Photonic Lattice双折射测量系统 WPA-100，WPA-100-LPhotonic Lattice WPA-100 系列产品可以测量的相位差达几千纳米的样品。Photonic Lattice WPA-100-L 可观察更大视野范围PHL WPA-100应力双折射测试仪主要参数表：型号 WPA-100 WPA-100-L测量范围 0-4000nm重复性 1.0nm像素数 384x288测量波长 523nm,543nm,575nm产品尺寸 310x466x605.5mm 450x593x915.5mm观测到的最大区域 100x136mm 250x340mm重量 20kg 26kg数据接口 GigE（摄像机信号） RS232C（电机控制）电压电流 AC100-240V（50/60Hz）软件 WPA-View适合树脂成型镜片检测系统WPA-100-S专为小镜头（10mm）双折射测量而设计配备自动选择圆形区域，相位差值传递失败判断功能，特别适合树脂镜片成型的质量控制。主要参数表型号 WPA-100-S测量范围 0-4000nm重复性 1.0nm像素数 384x288测量波长 523nm,543nm,575nm产品尺寸 200x275x309.5mm观测到的最大面积 11.6x15.8mm自身重量和电源重量 4kg 和9kg电压电流 AC100-240V（50/60Hz）软件 WPA-View

关键词：应力仪 双折射测量系统 应力测量 应力双折射 应力测试 应力检测 玻璃应力 birefringence Hinds Instrument Hinds仪器 双折射（应力）测量系统-EXICOR OIA 最早的双折射测量系统是透镜、平行面、 曲面光学的倾斜角度评估。Hinds Instruments 的ExicorOIA是透镜、平行面光学、曲面光学在正常和斜入角度评估的主要双折射测量系统。该系统是建立在Hinds lnsrtuments 获奖光弹调制器（ PEM）基于Exicor双折射测量技术。新一代的双折射测量系统为该行业提供了分析和开发下一代光刻透镜、透镜毛坯和高价值精密光学的新能力。该系统利用PEM调制光束的偏振状态、先进探测和解调电子来测量光学如何改变偏振状态。这就导致了一个偏振状态相对于另一个偏振状态的光延迟测量结果是90°。利用这些数据可以对双折射、快速轴向和理论残余应力进行评估。在国际领先的平板透镜和己完成透镜的研究和生产中， HindsInstruments和Exicor斜入射角技术被用于评估光学双折射。我们的系统是无与伦比的！

应力仪 双折射测量系统 应力测量 应力双折射 应力测试 应力检测 玻璃应力 birefringence Hinds Instrument Hinds仪器 双折射（应力）测量系统-EXICOR OIA 最早的双折射测量系统是透镜、平行面、 曲面光学的倾斜角度评估。Hinds Instruments 的ExicorOIA是透镜、平行面光学、曲面光学在正常和斜入角度评估的主要双折射测量系统。该系统是建立在Hinds lnsrtuments 获奖光弹调制器（ PEM）基于Exicor双折射测量技术。新一代的双折射测量系统为该行业提供了分析和开发下一代光刻透镜、透镜毛坯和高价值精密光学的新能力。该系统利用PEM调制光束的偏振状态、先进探测和解调电子来测量光学如何改变偏振状态。这就导致了一个偏振状态相对于另一个偏振状态的光延迟测量结果是90°。利用这些数据可以对双折射、快速轴向和理论残余应力进行评估。在国际领先的平板透镜和己完成透镜的研究和生产中， HindsInstruments和Exicor斜入射角技术被用于评估光学双折射。我们的系统是无与伦比的！了解更多产品信息以及价格请联系北京昊然伟业光电科技有限公司！

美国Hinds成立于1971年，凭借其专利的PEM（光弹变调制）技术研发了高稳定的应力双折射测量系统，具有目前世界上最高的精度，可用于测量以下样品的双折射(快慢轴相位差/延迟度和快轴角度). ? 光学器件? 液晶玻璃基板, 液晶滤光片? 激光晶体? DVDs? 光刻机部件, 如氟化钙窗口, 融石英光学器件,光掩膜板等? 相机镜头? 太阳能硅片,半导体晶圆

主要简介： PA系列是日本Photonic lattice公司倾力打造的双折射/应力测量仪，PA系列测量双折射测量范围达0-130nm，可以测量的样品范围从几个毫米到近500毫米。PA系列双折射测量仪以其技术的光子晶体偏光阵列片，独有的双折射算法设计制造，得到每片样品仅需几秒钟的测量能力，使其成为业内，特别是工业界双折射测量/应力测量的选择。 主要特点：操作简单，测量速度可以快到3秒。视野范围内可一次测量，测量范围广。更直观的全面读取数据，无遗漏数据点。具有多种分析功能和测量结果的比较。维护简单，不含旋转光学滤片的机构。高达2056x2464像素的偏振相机。 应用领域：光学镜片智能手机玻璃基板碳化硅，蓝宝石等 技术参数：项次项目 具体参数1输出项目相位差【nm】，轴方向【°】，相位差与应力换算（选配）【MPa】2测量波长520nm3双折射测量范围0-130nm4测量最小分辨率0.001nm5测量重复精度1nm（西格玛）6视野尺寸27x36mm到99x132mm（标准）7选配镜头视野低至7x8.4（扩束镜头）8选配功能实时解析软件，镜片解析软件，数据处理软件，实现外部控制 测量案例：

在PA系类设备的基础上，加装晶圆专用的装置，可以高效精确的测量SIC和蓝宝石这类光学性能特殊的产品的双折射和残余应力的信息。 应力双折射测量仪主要特点：操作简单，测量速度可以快到3秒。视野范围内可一次测量，测量范围广。更直观的全面读取数据，无遗漏数据点。具有多种分析功能和测量结果的比较。维护简单，不含旋转光学滤片的机构。高达2056x2464像素的偏振相机。应力双折射测量仪应用领域: SIC 蓝宝石应力双折射测量仪技术参数： 项次 项目 具体参数1 输出项目 相位差【nm】，轴方向【°】，相位差与应力换算（选配）【MPa】2测量波长520nm3双折射测量范围0-130nm4测量最小分辨率0.001nm5测量重复精度1nm（西格玛）6视野尺寸40x48mm到240x320mm（标准）7选配镜头视野不适用8选配功能 实时解析软件，镜片解析软件，数据处理软件，实现外部控制

双折射分析仪的应用非常广泛，如钢化玻璃的应力分布分析、晶圆内结晶缺陷测量、塑料或玻璃镜片的双折射测量、薄膜生产的工程分析、透明成型品的注塑条件或模流分析等。WPA-100-S是专门测手机镜片等微小镜片双折射（应力）的机种，能以快速且高精度来测量视野范围内的大双折射分布。由于注塑成型的工艺而产生的双折射导致焦点扩散，进而成像出来的图像清晰度下降，这倾向像素越高越明显，因此在生产高阶镜头时，双折射的管理是必须的，而WPA-100-S在中国大陆已有相当多的实绩，在这个业界有实力的企业均有引进。技术参数：感应器--大双折射测量用偏光图像传感器像素--11万像素测量波长--523/ 543/ 575nm测量范围（双折射大小）--0~3500nm允许的产品尺寸范围--4.0*5.4~11.6*15.8mm（如需更大范围，请与我们联系）再现精度--σ1nm

双折射（应力）测量系统-Exicor 150ATHinds 仪器的Exicor双折射测量系统型号150AT是Exicor双折射测量系统系列产品的工作平台。 该系统具有足够的多功能性，在生产车间和研发实验室环境中均可胜任。 该模型广泛用于研究和工业中测量组件 如光掩膜和光刻胶、DVD空白、塑料薄膜、透镜毛坯、激光晶体、手机显示窗、注塑件等等。 台式设计和直观的自动扫描软件使该产品成为高价值精密光学元件和商品光学元件（高达150mm X 150mm）的日常评估的最佳选择。前沿灵敏度和重复性使用Hinds仪器专利光弹性调制器(PEM)技术，该系统提供最高水平双折射灵敏度。此外，PEM提供高速操作，以50千赫的速率进行调制。前沿灵敏度和重复性很容易提供亚纳米级的双折射测量，对许多应用至关重要。专为简单、直接的操作而设计一个大至6“x 6”（可选大尺寸）的光学样品可以通过手动或自动映射和图形显示进行表征。 一旦将样本放置在翻译阶段，直观的软件就可以指导操作员完成步骤测量过程。 用户界面软件计算延迟值和快轴角度，并以各种格式显示它们。 该软件还提供文件管理和校准功能。应用质量控制计量低水平双折射测量的有平滑玻璃科学光学元件 激光晶体DVDs光刻组件的质量验证，包括光掩模 熔石英光学元件 氟化钙镜片毛坯和窗口主要特点在低水平双折射测量中具有同时测量双折射幅度和角度精确度可重复性高速测量光学系统中无移动部件 可变尺寸光学元件的自动映 光弹调制器技术 简单、便于用户使用的操作Exicor 150AT测量通过正在研究的光学样品的光路上的延迟。它旨在测量和显示样品光学延迟的幅度和快轴取向。独特的设计（专利申请中）消除了光学系统中的移动部件，并避免了在测量角度之间切换的必要性。氦氖激光束被偏振然后由PEM调制。调制后的光束透过样品并由分光镜分开。每束光束通过分析仪、光学滤光片和光电探测器的组合。电子信号通过一个锁定放大器处理，提供非常低的信号检测。由Hinds 仪器公司开发的软件算法将来自电子模块的信号电平转换为可以确定线性双折射的参数。计算机从两个输入中选择，允许从两个信号通道进行连续测量。分析数据，然后显示延迟大小和轴角度并存储在文件中。当在自动映射模式下操作时，x-y平移阶段将把样本移动到下一个预定的测量位置。结果以用户指定的格式即时显示。

主要简介： PA系列是日本Photonic lattice公司倾力打造的双折射/应力测量仪，PA系列测量双折射测量范围达0-130nm，可以测量的样品范围从几个毫米到近500毫米。PA系列双折射测量仪以其专利技术的光子晶体偏光阵列片，独有的双折射算法设计制造，得到每片样品仅需几秒钟的测量能力，使其成为业内，特别是工业界双折射测量/应力测量的选择。 主要特点：操作简单，测量速度可以快到3秒。视野范围内可一次测量，测量范围广。更直观的全面读取数据，无遗漏数据点。具有多种分析功能和测量结果的比较。维护简单，不含旋转光学滤片的机构。高达2056x2464像素的偏振相机。 应用领域：光学镜片智能手机玻璃基板碳化硅，蓝宝石等 技术参数：项次项目 具体参数1输出项目相位差【nm】，轴方向【°】，相位差与应力换算（选配）【MPa】2测量波长520nm3双折射测量范围0-130nm4测量最小分辨率0.001nm5测量重复精度1nm（西格玛）6视野尺寸27x36mm到99x132mm（标准）7选配镜头视野低至7x8.4（扩束镜头）8选配功能实时解析软件，镜片解析软件，数据处理软件，实现外部控制 测量案例：

PHL应力双折射仪器PHL PA-micro显微型应力双折射仪PHL应力双折射仪器简介：应力双折射仪，能够快速、精准测量双折射相位差及其空间分布和方向。广泛应用于玻璃、晶体、聚合物薄膜、镜片、晶片等质量分析和控制领域。日本Photonic-lattice公司成立于1996年，以日本东北大学的光子晶体的研究技术为核心，成立的合资公司，尤其是其光子晶体制造技术领先世界，并由此开发出的测量仪器。PHL应力双折射仪在显微镜下快速测量PA-Micro：型号PA-Micro测量范围0-130nm重复性1.0nm像素数1120x868测量波长520nm尺寸250x487x690mm观测到的最大面积5倍物镜：1.1x0.8mm 10倍物镜：0.5x0.4mm；20倍物镜：270x200um 50倍物镜：110x80um 100倍物镜：55x40um.自身重量11kg数据接口千兆以太网（摄像机信号）电压电流AC100-240V（50/60Hz）软件PA-View（for Micro）

主要简介： PA系列是日本Photonic lattice公司倾力打造的双折射/应力测量仪，PA系列测量双折射测量范围达0-130nm，可以测量的样品范围从几个毫米到近500毫米。PA系列双折射测量仪以其专利技术的光子晶体偏光阵列片，独有的双折射算法设计制造，得到每片样品仅需几秒钟的测量能力，使其成为业内，特别是工业界双折射测量/应力测量的选择。主要特点：操作简单，测量速度可以快到3秒。视野范围内可一次测量，测量范围广。更直观的全面读取数据，无遗漏数据点。具有多种分析功能和测量结果的比较。维护简单，不含旋转光学滤片的机构。高达2056x2464像素的偏振相机。 应用领域：光学镜片、手机镜头智能手机玻璃基板碳化硅，蓝宝石等 技术参数：项次项目 具体参数1输出项目相位差【nm】，轴方向【°】，相位差与应力换算（选配）【MPa】2测量波长520nm3双折射测量范围0-130nm4测量最小分辨率0.001nm5测量重复精度1nm（西格玛）6视野尺寸27x36mm到99x132mm（标准）7选配镜头视野低至7x8.4（扩束镜头）8选配功能实时解析软件，镜片解析软件，数据处理软件，实现外部控制

关键词：应力仪 双折射测量系统 应力测量 应力双折射 应力测试 应力检测 玻璃应力 birefringence Hinds Instrument Hinds仪器双折射（应力）测量系统 EXICOR-GENLCD材料的超低阶双折射测量用于LCD的Exicor GEN系列在与全球领先的光学材料制造商合作多年后，Hinds 仪器公司推出了Exicor 1500AT系统，用于测量大面积光学材料，如用于LCD（高达1500mm x 1500mm）的光学材料。 随着液晶显示器材料规格的成熟，专业化的系统已经成为行业所需要的。Hinds现在提供从GEN5到GEN8的LCD玻璃尺寸系统，有可选的倾斜级（所有型号）以及厚度和翘曲测量（仅限GEN5和GEN6）。重要特点&bull 占地小 - 最大限度地减少设备所需的工厂空间&bull 创新的平台设计 - 专利设计使可测量面积最大化&bull 强大的自动化 - 质量阶段和硬件最大化正常运行时间&bull 稳定的服务支持 - 世界各地的支持和备件中心&bull 符合工业标准 - 符合S2 / S8和CE标准&bull 灵活的软件 - 优化的GUI软件。 自定义功能和DLL接口可用&bull 低维护设计 - 易于维修的组件&bull 负载辅助 - 倾斜阶段选项

主要简介： Photron集团公司是日本大型相机，视频，软件控制供应商，其旗下的高速/超高速摄像机业务应用非常广泛，欧屹科技代理的是其旗下KAMAKIRI品牌的双折射/残余应力测量设备，其高速相机CCD芯片与Photonic Lattice公司的偏光阵列片完美结合，研制在线双折射/残余应力测量仪，世界上仅有KAMAKIRI可以提供，广泛应用于光学薄膜，PVA,PC,COP和TAC等领域。主要特点：适用于薄膜等生产线上，实现各个环节的双折射测量LIVE实时输出双折射的信息OK/NG可以在执行Live监测的同时对异常点发出警报操作简单，可以调整色彩显示更直观的了解双折射分布实时记录双折射的数值数据，以进行进一步详细分析。可以通过在系统中增加偏光感应器来扩展测量的宽度。 应用领域：相位差薄膜（TAC/PC/PMMA/COC）保护薄膜（PET/PEN/PS/PI）树脂成型玻璃 技术参数: 项次项目具体参数1输出项目相位差【nm】，轴方向【°】2测量波长520nm3双折射测量范围0-130nm/0-260nm(选配)4主轴方位范围0-180°5测量重复精度1nm（西格玛）6测量宽度尺寸350mm7宽度方向测量点2560

主要简介： 汽车车窗玻璃幅面很大，一般桌面式测量双折射/残余应力测量仪无法测量，扫描测量由非常慢，无法满足实际使用，因此Photonic Lattece研制出超大幅面的WPA双折射测量仪，会根据客户样品定制大型圆偏振光光源系统，实现大幅面样品的高速测量。设备在日本的汽车厂商得到广泛应用。主要特点： 解决汽车车窗玻璃等大幅面产品的双折射/残余应力测量。测量速度快，可满足玻璃工厂研发或质量控制测量。采用523nm,543nm,575nm三种波长，相位差测量范围高达3000nm。采用广角偏振面阵传感器，一次得到测量结果。专用操作软件，功能强大，操作简单，便于做分析比较和品质判断。 主要参数：测量案例：

双折射分析仪的应用非常广泛，如钢化玻璃的应力分布分析、晶圆内结晶缺陷测量、塑料或玻璃镜片的双折射测量、薄膜生产的工程分析、透明成型品的注塑条件或模流分析等。PA-200能以快速且高精度来测量视野范围内的双折射分布，可应用于许多种产品的检查上，尤其如玻璃、蓝宝石、玻璃镜片（透镜）、PVA薄膜等小双折射透明件的高精度测量上最能发挥效用，主要是透明件便可取得数据。技术参数：感应器--标准偏光图像传感器像素--97万像素测量波长--520nm测量范围（双折射大小）--0~130nm允许的产品尺寸范围--3.6*4.8~99*132mm（如需更大范围，请与我们联系）再现精度--σ1nm

PA-300-L主要简介 PA系列是日本Photonic lattice公司倾力打造的双折射/应力测量仪，PA系列测量双折射测量范围达0-130nm，可以测量的样品范围从几个毫米到近500毫米。PA系列双折射测量仪以其专利技术的光子晶体偏光阵列片，独有的双折射算法设计制造，得到每片样品仅需几秒钟的测量能力，使其成为业内，特别是工业界双折射测量/应力测量的选择。 主要特点：操作简单，测量速度可以快到3秒。视野范围内可一次测量，测量范围广。更直观的全面读取数据，无遗漏数据点。具有多种分析功能和测量结果的比较。维护简单，不含旋转光学滤片的机构。高达2056x2464像素的偏振相机。应用领域：光学镜片智能手机玻璃基板A4纸尺寸的样品技术参数： 项次 项目 具体参数1输出项目 相位差【nm】，轴方向【°】，相位差与应力换算（选配）【MPa】2测量波长520nm3双折射测量范围0-130nm4测量最小分辨率0.001nm5测量重复精度1nm（西格玛）6视野尺寸40x48mm到240x320mm（标准）7选配镜头视野低至7x8.4（扩束镜头）8选配功能 实时解析软件，镜片解析软件，数据处理软件，实现外部控制 测量案例：

普创paratronix_双折射偏光应力仪SG-03产品介绍：普创paratronix_双折射偏光应力仪SG-03采用高精度角度编码器测量角度， 测量数据直接显示在显示屏上，具有测量精度高、直观易 读、无需校准、绿色节能等优点，是替代传统度盘式应力仪的最佳选择。测试原理：玻璃制品应力检查仪是应用偏振光干涉原理检查玻璃内应力或晶体双折射效应的仪器。由于仪器备有灵敏色片，并应 用1/4波片补偿方法，因此本仪器不仅可以根据偏振场中的干涉色序定性或半定量的测量玻璃的内应力，还可以准确的测 量出玻璃的内应力数值。产品特征：● 针对传统度盘式应力仪及数显应力仪进行了针对性改进，提高了测量精度和应用体验，具有测量精度高、无需校零及绿色节能等先进特点 ● 高精度测量： 本产品采用高精度绝对式角度编码器进行测量， 测量精度优于2nm ● LED显示屏双数值显示：显示窗采用高清晰 LED 显示屏，可同时显示测量角度及光程差数值， 用户可直观获得所需数据， 测量直观易读 ● 暗视场无需校准。采用了绝对式编码器， 偏振场的暗视场总是处于零角度点， 因此无需用户校对零点，避免了人为校对暗视场造成的误差 ● 绿色节能：采用更加节能环保的LED光源，相对传统光源节能80%以上 ● 产品模块化设计，符合人体工程学操作，便于维护和维修技术参数：测量精度 ±2nm 复零误差 ±2nm 光程差示值 0.1nm 角度示值 0.1゜ 偏振场直径 150mm 视场光亮度 120cd/m2 检偏镜旋转角度 360°（±180°） 偏振场间距调整范围 150-330mm 光源 LED 色温 3500K 功率 ＜8W 电压 AV 220V 50Hz 体积 270 L * 290 D * 530 H(mm) 重量 ＜8kg产品标准：● GB/T 4545 《玻璃瓶罐内应力检验方法》 ● GB/T 12415 《药用玻璃容器内应力检验方法》 ● GB/T 15726 《玻璃仪器内应力检验方法》● JC/T 655 《石英玻璃制品内应力检验方法》 ● YBB00162003 《国家药品包装容器（材料）方法标准 内应力测定法》 ● ASTM C148 (Standard Test Methods for Polariscopic Examination of ● Glass Containers)（玻璃容器偏振镜检查的试验方法）普创paratronix_双折射偏光应力仪SG-03 普创paratronix_双折射偏光应力仪SG-03

关键词：应力仪 双折射测量系统 应力测量 应力双折射 应力测试 应力检测 玻璃应力 birefringence Hinds Instrument Hinds仪器 双折射（应力）测量系统 EXICOR-SYSTERMS概述Exicor双折射测量技术于1999年推出，型号为150AT，为领先的客户提供世界上技术最先进，最具生产价值的测量双折射的能力。Exicor系统的前所未有的灵敏度是Hinds Instruments的PEMLabs&trade 技术的产品，该技术率先推出了超低双折射光弹性调制器（PEM）。PEM的调制纯度增强了Exicor屡获殊荣的灵敏度，这是调制器的谐振特性的结果。 PEM的调制频率为50 kHz，提供快速测量功能。双检测器光学系统的独特设计与PEM科学相结合，提供了一个重要特性：光学系统中没有移动部件。 移动部件的缺失产生高机械可靠性以及测量的可重复性，并允许同时测量幅度和角度。Exicor测量通过正在研究的光学样品沿着光路积分的延迟。它旨在测量并显示延迟轴的大小和方向。独特的设计（专利申请中）消除了光学系统中的移动部件，并避免了在测量角度之间切换的必要性。 氦氖激光束被偏振，然后被PEM调制。 调制后的光束通过样品传输并分配一个分光镜。 每束光束通过分析仪、光学滤光片和光电探测器的组合。 电子信号通过一个锁定放大器处理，提供非常低的信号检测。由Hinds仪器公司开发的软件算法将来自电子模块的信号电平转换为可以确定线性双折射的参数。计算机从两个输入中选择，允许从两个信号通道进行连续测量。 分析数据，然后显示延迟大小和轴角度并存储在文件中。 当在自动映射模式下操作时，x-y平移阶段将把样本移动到下一个预定的测量位置。 结果以用户指定的格式即时显示。EXICOR故事多年来，交叉偏振器代表了双折射测量技术的最新水平，研究人员以及质量控制专业人员都可以使用。虽然这个1或2 nm的灵敏度水平有时足够了，“像素”量化，计量水平重复性和统计数据分析能力缺失。 Hinds 仪器公司的科学家利用光弹性调制技术的二十多年经验，将这个相对快速（50 kHz），非机械，几乎纯正弦的“偏振切换器”应用于双折射测量挑战。与传统测量方法相比，现在获得专利的结果是测量灵敏度数量级的两倍，有时甚至提高了三倍。这项技术已被广泛发布和记录。交钥匙式Exicor系统使双折射测量变得直观和简单。它的第一个软件允许对双折射数据进行多重视图和统计分析。1998年，开发基于PEM的双折射测量系统，用于光学材料中的低水平残余双折射。1999， 推出ExicorTM双折射测量系统，提供突破性的低水平（0.005 nm）双折射能力。2000，Exicor获得CLEO 2000新产品奖。,2001，Exactor 150AT型号获得2000年光子学卓越奖。2001， Exicor获得2001年度R＆D 100奖。2003， Exicor DUV获得2003年度R＆D 100奖。2013， Exicor 450XT Mueller偏振计获得2013年度R＆D 100奖

关键词：应力仪 双折射测量系统 应力测量 应力双折射 应力测试 应力检测 玻璃应力 birefringence Hinds Instrument Hinds仪器 双折射（应力）测量系统 EXICOR-PV-Si在硅太阳能电池板的生产过程中，硅晶体中的应力在制作过程中往往没有被检测到，我们描述了一种测量硅锭的应力双折射仪，它可以是方形的，也可以是生长的，然后被锯成硅片，当这台仪器被用作质量控制工具时，在后续加工成本发生之前，可以识别出低质量的硅锭或钢锭。此外，该仪器还为硅晶体的生长提供了一种提高硅锭质量的工具，使其能够生产出较薄的硅片，降低了机械产量损失。Hinds仪器的’Exicor 双折射测量系统PV-Si是Exicor双折射测量系统系列产品的工作平台的扩展。本系统采用高质量的对称光弹性调制器、1550 nm激光器和Ge雪崩光电二极管探测器，实现了光伏和半导体工业中硅材料的高精度双折射测量，除硅外，还可测量蓝宝石、碳化硅、硒锌、镉等材料。PV-Si铸锭模型坚固、通用，可容纳和测量直径达8英寸的500毫米粗锭。台面设计和直观的自动扫描软件使该产品成为原材料改进、研发和日常评估的最佳选择，也是对原始硅锭和其他高技术材料进行评估的最佳选择。前沿灵敏度和重复性使用HiNDS仪器的专利光弹性调制器（PEM）技术，该系统可提供当今最高水平的双折射灵敏度。 此外，PEM提供高速操作，调制频率为50 kHz。 领先的前沿灵敏度和可重复性易于提供亚纳米水平的双折射测量，这对于许多应用至关重要。专为简单、直接的操作而设计直径200毫米，长500毫米的铸锭可以手动或自动绘制并以图形方式显示。 一旦样品被放置在翻译阶段，直观的软件指导操作员完成步骤测量过程。 用户界面软件计算延迟值和快轴角度，并以各种格式显示它们。 该软件还提供文件管理和校准功能。应用质量控制计量由硅和砷化镓等半导体材料生长的锭料的双折射测量主要特点在低水平双折射测量中具有前所未有的灵敏度同时测量双折射幅度和角度精度重复性高速测量光学系统中无移动部件可变尺寸光学元件的自动映射光弹调制器技术简单、便于用户使用的操作Exicor PV-Si通过所研究的光学样品沿光路径测量延迟。它旨在测量和显示样品光学延迟的幅度和快轴取向。在这个独特的设计中，铸锭保持固定，并且Exicor源和探测器模块由电脑控制台移动。 1550nm激光光束被偏振，然后由源模块中的PEM调制。调制光束通过样品传输，然后通过检测器模块，第二个PEM、分析仪和Ge-APD光电探测器的组合。电子信号通过三个并联的锁相放大器进行处理，提供非常低的信号检测。由Hinds 仪器公司开发的软件算法将来自电子模块的信号电平转换为可以确定线性双折射的参数。计算机对数据进行分析，然后显示迟滞幅度和轴角度并存储在文件中。当在自动绘图模式下操作时，源和检测器模块将被移动到下一个预定的测量位置。结果以用户指定的格式即时显示。

KAMAKIRI-WM Photonic Lattice online双折射测量仪产品简介： Photron集团公司是日本大型相机，视频，软件控制供应商，其旗下的高速/超高速摄像机业务应用非常广泛，欧屹科技代理的是其旗下KAMAKIRI品牌的双折射/残余应力测量设备，其高速相机CCD芯片与Photonic Lattice公司的偏光阵列片完美结合，研制在线双折射/残余应力测量仪，世界上仅有KAMAKIRI可以提供，广泛应用于光学薄膜，PVA,PC,COP和TAC等领域 Photonic Lattice online双折射测量仪主要特点：适用于薄膜等生产线上，实现各个环节的双折射测量。 LIVE实时输出双折射的信息。 OK/NG可以在执行Live监测的同时对异常点发出警报。 操作简单，可以调整色彩显示更直观的了解双折射分布。 实时记录双折射的数值数据，以进行进一步详细分析。可以通过在系统中增加偏光感应器来扩展测量的宽度。 Photonic Lattice online双折射测量仪应用领域：相位差薄膜（TAC/PC/PMMA/COC）保护薄膜（PET/PEN/PS/PI）树脂成型玻璃 Photonic Lattice online双折射测量仪技术参数：项次项目具体参数1输出项目相位差【nm】，轴方向【°】2测量波长520nm3双折射测量范围0-130nm/0-260nm(选配)4主轴方位范围0-180°5测量重复精度1nm（西格玛）6测量宽度尺寸350mm7宽度方向测量点2560

主要特点：适用于薄膜等生产线上，实现各个环节的双折射测量LIVE实时输出双折射的信息OK/NG可以在执行Live监测的同时对异常点发出警报操作简单，可以调整色彩显示更直观的了解双折射分布实时记录双折射的数值数据，以进行进一步详细分析。可以通过在系统中增加偏光感应器来扩展测量的宽度。应用领域：相位差薄膜（TAC/PC/PMMA/COC）保护薄膜（PET/PEN/PS/PI）树脂成型玻璃技术参数: 项次项目具体参数1输出项目相位差【nm】，轴方向【°】2测量波长520nm3双折射测量范围0-130nm/0-260nm(选配)4主轴方位范围0-180°5测量重复精度1nm（西格玛）6测量宽度尺寸350mm7宽度方向测量点2560

主要特点：适用于薄膜等生产线上，实现全长全款的双折射测量。 LIVE实时输出双折射的信息。 OK/NG 可以在执行Live监测的同时对异常点发出警报。 操作简单，可以调整色彩显示更直观的了解双折射分布。 实时记录双折射的数值数据，以进行进一步详细分析。 可以通过在系统中增加偏光感应器来扩展测量的宽度。 应用领域：相位差薄膜（TAC/PC/PMMA/COC）保护薄膜（PET/PEN/PS/PI）树脂成型玻璃技术参数： 项次项目具体参数1输出项目相位差【nm】，轴方向【°】2测量波长543nm（支持客制化）3双折射测量范围0-260nm4对应传送速度约30m/min(支持客制化)5测量重复精度1nm6视野尺寸全宽全长7选配镜头视野可扩展8选配功能可定制膜宽超过5m的系统

Photonic Lattice 红外双折射（内应力）测量仪 WPA-200-NIR 主要特点： 红外波长的双折射/相位差/内应力面分布测量硫系、红外透明树脂等的光学畸变评估小型、簡単操作、高速測量 WPA-200-NIR能高速的测量/分析波长为850nm的双折射分布安装既有的操作简单和实用的软件WPA-View可以自由分析任意线上的相位差分布图形、任意区域内的平均值等的定量数据可搭配流水线对应的『外部控制选配』，也可应用于量产现场 WPA-200-NIR的功能1. 高速测量面的双折射/相位差分布 NIR波长仅需操作鼠标数秒内就能获取高密度的双折射/相位差信息2. 测量数据的保存/读取 全部的测量结果都可以做保存/读取。易于跟过去的测量结果做比较等3. 丰富的图形创建功能 从测量后的面信息，可以自由制作线图形和直方图。 复数的测量结果可以在一个图形上做比较，也可以用CSV格式输出主要技术参数型号WPA-200-NIR测量范围0~3500nm重复精度1.0nm测量尺寸范围3×4mm~100×133mm像素数384*288 pixels测量波长810nm，850nm 870nm尺寸270x337x631mm自身重量13kg

主要简介： PHL双折射分析仪WPA系列可测量相位差高达3500nm，适合PC高分子材料，是Photonic lattic公司以其光子晶体制造技术开发的产品，独特的测量技术，高速而又精确的测量能力使其成为不可多得的光学测量产品。 该产品在测量过程中可以对视野范围内样品一次测量，全面掌握应力分布。WPA-200型更是市场上最适合用来测量光学薄膜或透明树脂。量化测量结果，二维图表可以更直观的读取数据。 主要特点:操作简单，测量速度可以快到3秒。采用ＣＣＤ Camera，视野范围内可一次测量，测量范围广。测量数据是二维分布图像，可以更直观的读取数据。具有多种分析功能和测量结果的比较。维护简单，不含旋转光学滤片的机构。市场占有率高的残余应力测量设备。 主要应用： 光学零件（镜片、薄膜、导光板） 透明成型品（车载透明零件、食用品容器） 透明树脂材料（PET PVA COP ACRYL PC PMMA APEL COC） 透明基板（玻璃、石英、蓝宝石、单结晶钻石） 有机材料（球晶、FishEve） 技术参数：项次项目具体参数1输出项目相位差【nm】，轴方向【°】，相位差与应力换算（选配）【MPa】2测量波长520nm、543nm、575nm3双折射测量范围0-3500nm4测量最小分辨率0.001nm5测量重复精度1nm（西格玛）6视野尺寸218x290mm-360×480mm（标准）7选配镜头视野无选配8选配功能实时解析软件，镜片解析软件，数据处理软件，实现外部控制，CD模式