低压等离子处理设备

产品描述Europlasma JuniorPLC 低压等离子表面处理设备可以实现产品的清洗, 功能性改性, 处理温度 40℃ 以下材料: 铝有效尺寸: 直径230mm x 深度250mm容积: 10.4升托盘: 订制根据处理材料设定不同的处理工艺参数JuniorPLC 低压等离子表面处理设备 技术参数：若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

Europlasma 低压等离子表面处理设备 CD 600 PLC上海伯东代理比利时 Europlasma 低压等离子表面处理设备 CD 600 PLC, 操作简单, 等离子腔容积 216 L , 根据样品应用选择 Nanofics@ 或无卤素涂层技术 PlasmaGuard 实现产品防水, 亲水, 疏油, 防腐, 等离子活化等功能.Europlasma 低压等离子表面处理设备 CD 600 PLC 参数腔室材料: 铝内部尺寸: 600 x 600 x 600 mm.容积：216L舱门: 装有可视窗口标准样品托盘: 5个 标准尺寸: 552 x 522 x 40 mm.真空度测量2个皮拉尼真空计真空泵干式真空泵泵组, 抽速 480 立方米每小时频射发生器根据客户应用需求定制控制系统PLC 可实现下列功能17 英寸触摸屏, 自动控制反应过程 根据处理材料设定不同的处理工艺参数 测定真空泵压力, 抽真空时间, 充气速度, 工作压力, 处理时间. 温度.频射发生器输入电压等指标 监测所有的运行指标, 保证各项参数在设定范围之内 设定操作进入密码.电源380V AC, 三相, 50Hz, 40A反应气体一个气体输入端口,含气体流量控制器（MFC）气体输入直径1/4英寸（6.45mm） 管道, 输入压力:1Bar尾气排放直径 28mm 输出端口性能急停开关 真空泵保护锁 高温保护锁 CE认证. Europlasma 低压等离子表面处理设备适用于涂覆如下产品:1. 可穿戴电子设备: 蓝牙耳机,,助听器, 手环, 手表等2. 薄膜: 锂电池行业, 精密仪器等3. 无纺布和功能性纺织物: 运动户外产品4. 无卤素 PCB 元器件5. 医用器材: 医用导管, 口罩, 针座活化, 其他防护设备等.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

Europlasma 低压等离子表面处理, 活化改性设备 CD 600 PLC上海伯东代理比利时 Europlasma 等离子表面处理设备 CD 600 PLC, 智能操作简单, 等离子腔容积 216 L , 适用于实验室和科研. 根据样品应用可选择 Nanofics@ 或无卤素涂层技术 PlasmaGuard 工艺, 实现样品表面的等离子活化改性, 超亲水纳米涂层 WCA 10°, 超疏水疏油涂层 WCA 120°, 满足样品防水, 亲水, 疏油, 防腐, 等离子活化等功能.Europlasma 低压等离子表面处理, 活化改性设备 CD 600 PLC 规格腔室材料: 铝内部尺寸: 600 x 600 x 600 mm.容积：216L舱门: 装有可视窗口标准样品托盘: 5个 标准尺寸: 552 x 522 x 40 mm.真空度测量2个皮拉尼真空计真空泵干式真空泵泵组, 抽速 480 立方米每小时频射发生器根据客户应用需求定制控制系统PLC 可实现下列功能17 英寸触摸屏, 自动控制反应过程 根据处理材料设定不同的处理工艺参数 测定真空泵压力, 抽真空时间, 充气速度, 工作压力, 处理时间. 温度.频射发生器输入电压等指标 监测所有的运行指标, 保证各项参数在设定范围之内 设定操作进入密码.电源380V AC, 三相, 50Hz, 40A反应气体一个气体输入端口,含气体流量控制器（MFC）气体输入直径1/4英寸（6.45mm） 管道, 输入压力:1Bar尾气排放直径 28mm 输出端口性能急停开关 真空泵保护锁 高温保护锁 CE认证.Europlasma 低压等离子表面处理, 活化改性设备适用于涂覆如下产品:1. 可穿戴电子设备: 蓝牙耳机, 助听器, 手环, 手表等2. 薄膜: 锂电池行业, 精密仪器等3. 无纺布和功能性纺织物: 运动户外产品4. 无卤素 PCB 元器件5. 医用器材: 医用导管, 口罩, 针座活化, 人体植入,细胞培养瓶活化.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

价格货期电议上海伯东代理比利时 Europlasma 低压等离子设备通过专利等离子体涂层技术 Nanofics@ 和无卤素涂层技术 PlasmaGuard, 可以活化和涂敷过滤介质, 实现亲水, 疏水等功能, 适用于过滤工业, 比如血液过滤介质, 呼吸用口罩等.Europlasma 等离子活化: 作为前处理工艺, 等离子活化只作用于材料外表面的分子层, 在聚合物分子链上建立新的化学基团, 增加材料表面能量. 表面能量越高, 表现为与水的接触角越小, 并具有良好的湿润性. 活化气体一般是 O2, N2, N2O 或者混合气体, 如 N2H2, 根据加工材料及其以后的应用而选择气体品种.Europlasma 等离子涂层技术: 在过滤介质产业, 等离子体涂层技术的应用较广泛,通过等离子体来聚合材料的单体, 纳米级涂层沉积在材料表面, 获得新的性能并具有持久的功能. 涂层具有高等级拒水, 拒油, 亲水, 易粘接, 涂覆, 低摩擦, 润滑等特点. 薄膜和织物的表面处理和涂层一般采用上海伯东 Europlasma 卷对卷低压等离子处理设备, 应用于柔性材料的等离子体处理.Europlasma 液体过滤介质应用: 在血液过滤介质处理中就使用持久亲水涂层工艺, 对样品聚丙烯 PP 或聚对苯二甲酸乙二醇酯 PBT 进行处理, 得到持久亲水涂层.Europlasma 气体过滤介质应用: 呼吸用口罩, 用几层熔喷 PP 材料作为过滤介质, 在加静电前应用等离子体疏水或拒油涂层, 可使材料对油性离子的过滤效率大大提高. 按 3M 的 AATCC 实验方法 118-1997 要求, 测得涂层材料一般的拒油水平达到 3-4 级, 下图显示了用邻苯二甲酸二辛脂 DOP 测试的肉眼可见的效果.未经和经过 Europlasma 等离子纳米涂层的过滤介质性能比较 过滤介质的过滤效果, 用 200mg 的 DOP 粒子载体测试初始渗透率和经过一定时间的延迟渗透率 测试仪器: Certiestest 8130样品: 驻极五层单层 PP低压等离子设备型号: CD 1800测试数据: 数据来源 Europlasma样品等离子体涂层处理情况渗透率供应者面密度 / g.m-2初始延迟128未经1.26.41128经过0.481.081122未经1.253.92122经过0.40.752225未经--225经过0.020.032注:1 经过 30min 后的延迟渗透率 2 经过 10min 后的延迟渗透率数据清楚地证明, 一层薄的等离子拒油涂层就能增加过滤介质的初始和最终过滤效率, 即经过涂层的 R95 过滤材料其性能可提升达到 R99 的过滤材料的性能.上海伯东代理比利时 Europlasma 常用卷对卷设备卷材宽幅为 1800mm, 卷材外径为 1000mm, 根据样品应用可选择 Nanofics@ 或无卤素涂层技术 PlasmaGuard 工艺, 实现样品表面的等离子活化改性, 超亲水纳米涂层 WCA10, 超疏水疏油涂层 WCA 120, 满足样品防水, 亲水, 疏油, 防腐, 等离子活化等功能.Europlasma CD 1800 /1000 卷对卷等离子机 Europlasma CD 650 / 450 卷对卷等离子机 真空条件下, 上海伯东 Europlasma 等离子机通过在材料浅表面实现低压等离子表面聚合或者原子层沉积, 从而赋予材料新的功能, 不影响材料本身的性能, 对三维结构以及复杂形状的材料表面都可实现均匀性涂覆. 产品一致性强, 循环周期最短, 可灵活集成到生产工艺中, 穿透复杂的结构, 并覆盖所有表面, 包括锐利的边缘 所有表面都覆盖, 包括液体涂层无法触及的区域, 如深空腔和其他难以触及的区域. 超薄纳米涂层不会改变元件的结构和性能, 如声学元件.若您需要进一步的了解 Europlasma 等离子机详细信息或讨论, 请查看官网或咨询叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

产品描述Europlasma CD500 Nanofics 低压等离子表面处理设备可以实现产品的清洗, 功能性改性, 通过 Nanofics 技术可以实现产品的防水, 防腐蚀, 防氧化处理, 处理温度 40℃ 以下.材料: 铝有效尺寸: 500 x 400 x 650mm容积: 129L托盘: 3个CD500 Nanofics 低压等离子表面处理设备 技术参数：反应舱材料:铝有效尺寸:500 x 400 x 650mm容积:129L舱门:装有可视窗口托盘:3个 尺寸:360 x 360mm真空度测量皮拉尼真空计真空泵干式真空泵泵组频射发生器根据客户应用需求定制控制系统PLC可实现下列功能:自动控制反应过程 根据处理材料设定不同的处理工艺参数 测定真空泵压力、抽真空时间、充气速度、工作压力、处理时间、温度、频射发生器输入电压等指标 监测所有的运行指标, 保证各项参数在设定范围之内 设定操作进入密码。电源380V AC, 三相, 50Hz, 40A反应气体一个气体输入端口, 含气体流量控制器（MFC）气体输入直径1/4英寸（6.45mm） 管道 输入压力:1Bar尾气排放直径28mm 输出端口性能急停开关 真空泵保护锁 高温保护锁 CE认证。CD500 Nanofics 低压等离子表面处理设备 应用领域：Nanofics涂层在消费电子, 纺织品处理, 过滤分离, 生物等领域有着广泛的应用.在消费电子方面, 运动无线蓝牙耳机, 蓝牙音箱, 手机, 智能穿戴, 运动AR眼镜, 无人机等相关电子产品的防水处理以及防汗液处理.在纺织品防水处理方面, 广泛应用于登山等户外运动服, 跑步装备, 游泳装备, 健走鞋, 军装等纺织品的处理.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

产品描述Europlasma CD400 Nanofics 低压等离子表面处理设备可以实现产品的清洗, 功能性改性, 通过 Nanofics 技术可以实现产品的防水, 防腐蚀, 防氧化处理, 处理温度 40℃ 以下.材料：铝有效尺寸：500 x 400 x 445mm容积：89L舱门：装有可视窗口托盘：2CD400 Nanofics低压等离子表面处理设备 技术参数：反应舱材料: 铝有效尺寸: 500 x 400 x 445mm容积: 89L舱门: 装有可视窗口托盘: 2个 尺寸: 360 x 360mm真空度测量皮拉尼真空计真空泵干式真空泵泵组频射发生器根据客户应用需求定制控制系统PLC可实现下列功能:自动控制反应过程 根据处理材料设定不同的处理工艺参数 测定真空泵压力、抽真空时间、充气速度、工作压力、处理时间、温度、射频发生器功率等指标 监测所有的运行指标, 保证各项参数在设定范围之内 设定操作进入密码.电源380V AC, 三相, 50Hz, 40A反应气体两个气体输入端口, 含气体流量控制器（MFC）反应单体独立液态单体输入系统气体输入直径1/4英寸（6.45mm） 管道 输入压力: 1Bar尾气排放直径28mm 输出端口性能急停开关 真空泵保护锁 高温保护锁 CE认证.CD400 Nanofics低压等离子表面处理设备 应用领域：Nanofics涂层在消费电子, 纺织品处理, 过滤分离, 生物等领域有着广泛的应用.在消费电子方面, 运动无线蓝牙耳机, 蓝牙音箱, 手机, 智能穿戴, 运动AR眼镜, 无人机等相关电子产品的防水处理以及防汗液处理.在纺织品防水处理方面, 广泛应用于登山等户外运动服, 跑步装备, 游泳装备, 健走鞋, 军装等纺织品的处理.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

产品描述Europlasma CD875 Nanofics 低压等离子表面处理设备可以实现产品的清洗, 功能性改性, 通过 Nanofics 技术可以实现产品的防水, 防腐蚀, 防氧化处理, 处理温度 40℃ 以下.材料: 铝有效尺寸: 1000 x 1260 x 695mm容积: 875L舱门: 装有可视窗口托盘: 4个 尺寸: 858 x 672mm, 托盘间距: 220mmCD875 Nanofics 低压等离子表面处理设备 技术参数：反应舱材料: 铝有效尺寸: 1000 x 1260 x 695mm容积: 875L舱门: 装有可视窗口托盘: 4个 尺寸: 858 x 672mm, 托盘间距: 220mm真空度测量Baratron真空计真空泵干式真空泵泵组频射发生器根据客户应用需求定制控制系统PLC可实现下列功能:自动控制反应过程 根据处理材料设定不同的处理工艺参数 测定真空泵压力、抽真空时间、充气速度、工作压力、处理时间、温度、频射发生器输入电压等指标 监测所有的运行指标, 保证各项参数在设定范围之内 设定操作进入密码。电源380V AC, 三相, 50Hz, 40A反应气体一个气体输入端口, 含气体流量控制器（MFC）气体输入直径1/4英寸（6.45mm） 管道 输入压力: 1Bar尾气排放直径28mm 输出端口性能急停开关 真空泵保护锁 高温保护锁 CE认证。CD875 Nanofics 低压等离子表面处理设备 应用领域：Nanofics涂层在消费电子, 纺织品处理, 过滤分离, 生物等领域有着广泛的应用.在消费电子方面, 运动无线蓝牙耳机, 蓝牙音箱, 手机, 智能穿戴, 运动AR眼镜, 无人机等相关电子产品的防水处理以及防汗液处理.在纺织品防水处理方面, 广泛应用于登山等户外运动服, 跑步装备, 游泳装备, 健走鞋, 军装等纺织品的处理.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

产品描述Europlasma CD681 Nanofics 低压等离子表面处理设备可以实现产品的清洗, 功能性改性, 通过 Nanofics 技术可以实现产品的防水, 防腐蚀, 防氧化处理, 处理温度 40℃ 以下.材料: 铝有效尺寸: 1000 x 980 x 695mm容积: 681L舱门: 装有可视窗口托盘: 4个 尺寸: 858 x 672mm，托盘间距: 150mmCD681 Nanofics低压等离子表面处理设备 技术参数：反应舱材料: 铝有效尺寸: 1000 x 980 x 695mm容积: 681L舱门: 装有可视窗口托盘: 4个 尺寸: 858 x 672mm, 托盘间距: 150mm真空度测量Baratron真空计真空泵干式真空泵泵组频射发生器根据客户应用需求定制控制系统PLC可实现下列功能:自动控制反应过程 根据处理材料设定不同的处理工艺参数 测定真空泵压力、抽真空时间、充气速度、工作压力、处理时间、温度、频射发生器输入电压等指标 监测所有的运行指标, 保证各项参数在设定范围之内 设定操作进入密码.电源380V AC, 三相, 50Hz, 40A反应气体一个气体输入端口, 含气体流量控制器（MFC）气体输入直径1/4英寸（6.45mm） 管道 输入压力:1Bar尾气排放直径28mm 输出端口性能急停开关 真空泵保护锁 高温保护锁 CE认证.CD681 Nanofics低压等离子表面处理设备 应用领域：Nanofics 涂层在消费电子, 纺织品处理, 过滤分离, 生物等领域有着广泛的应用.在消费电子方面, 运动无线蓝牙耳机, 蓝牙音箱, 手机, 智能穿戴, 运动AR眼镜, 无人机等相关电子产品的防水处理以及防汗液处理.在纺织品防水处理方面, 广泛应用于登山等户外运动服, 跑步装备, 游泳装备, 健走鞋, 军装等纺织品的处理.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

产品描述Europlasma CD1000PLC 低压等离子表面处理设备可以实现产品的清洗, 功能性改性, 处理温度 40℃ 以下.材料：铝有效尺寸：700 x 700 x 1000mm容积：490L托盘：8个CD1000PLC 低压等离子表面处理设备 技术参数： 反应舱材料：铝有效尺寸：700 x 700 x 1000mm容积：490L舱门：装有可视窗口托盘：8个 尺寸：591 x 697 x 40mm真空度测量皮拉尼真空计真空泵旋片初级真空泵和480m3 /h的机械增压泵频射发生器0~2500W可调。KHz发生器控制系统PLC可实现下列功能：自动控制反应过程；根据处理材料设定不同的处理工艺参数；测定真空泵压力、抽真空时间、充气速度、工作压力、处理时间、温度、频射发生器输入电压等指标；监测所有的运行指标，保证各项参数在设定范围之内；设定操作、维护密码。电源380V AC, 三相，50Hz, 40A反应气体一个气体输入端口，含气体流量控制器（MFC）气体输入直径1/4英寸（6.35mm） 管道；输入压力：1Bar尾气排放直径38mm 输出端口性能急停开关；真空泵保护锁；高温保护锁；CE认证。若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

产品描述Europlasma CD400PLC 低压等离子表面处理设备可以实现产品的清洗, 功能性改性, 处理温度40℃以下. 材料: 铝尺寸: 400 x 400 x 400mm容积: 64升舱门: 装有可视窗口托盘: 4个CD400PLC 低压等离子表面处理设备 技术参数：反应舱材料：铝尺寸：400 x 400 x 400mm容积：64升舱门：装有可视窗口托盘：4个 尺寸：305 x 360 x 40mm真空度测量皮拉尼真空计真空泵旋片式真空泵；30m3 /h；含真空泵油频射发生器0~600W可调，100KHz发生器控制系统PLC可实现下列功能：自动控制反应过程；根据处理材料设定不同的处理工艺参数；测定真空泵压力、抽真空时间、充气速度、工作压力、处理时间、温度、频射发生器输入电压等指标；监测所有的运行指标，保证各项参数在设定范围之内；设定操作进入密码。电源380V AC, 三相，50Hz, 40A反应气体一个气体输入端口，含气体流量控制器（MFC）气体输入直径1/4英寸（6.45mm） 管道；输入压力：1Bar尾气排放直径28mm 输出端口性能急停开关；真空泵保护锁；高温保护锁；CE认证。若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

真空式等离子处理系统CRF-VPO-8L-S名称（Name）真空式等离子处理系统型号（Model）CRF-VPO-8L-S控制系统（Control system）PLC+触摸屏电源（Power supply）380V/AC,50/60Hz,3kw中频电源功率（MF Power）600W/13.56MHz容量（Volume）80L（Option）层数（Electrode of plies）8（Option）有效处理面积（Area）400（L）*300（W）（Option）气体通道（Gas）两路工作气体可选： Ar、N2、CF4、O2 产品特点：超大处理空间，提升处理产能，采用PLC+触摸屏控制系统，有效控制设备运行。可按照客户要求定制设备腔体容量和层数，满足客户的需求。保养维修成本低，便于客户成本控制。高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持。应用范围：主要适用于生物医疗行业，印制线路板行业，半导体IC领域，硅胶、塑胶、聚合体领域，汽车电子行业，航空工业等。

Europlasma 低压等离子表面处理, 活化改性设备 CD 1000上海伯东代理比利时 Europlasma 等离子表面处理设备 CD 1000, 智能操作简单, 等离子腔容积 490 L, 标准 3个托盘设计, 可按需定制, PLC 控制, 方便集成于 ERP 系统, 适用于 PCB, 子组件或完全组装生产. 根据样品应用可选择 Nanofics@ 或无卤素涂层技术 PlasmaGuard 工艺, 实现样品表面的等离子活化改性, 超亲水纳米涂层 WCA10, 超疏水疏油涂层 WCA 120, 满足样品防水, 亲水, 疏油, 防腐, 等离子活化等功能.Europlasma 低压等离子表面处理设备 CD 1000 参数腔室材料：铝有效尺寸：1000 x 700 x700mm容积：490L舱门：装有可视窗口标准托盘：3至5个 尺寸:858 x 672mm真空度测量皮拉尼真空计真空泵干式真空泵泵组频射发生器根据客户应用需求定制控制系统PLC 可实现下列功能1. 17 英寸触摸屏, 自动控制反应过程 2. 根据处理材料设定不同的处理工艺参数 3. 测定真空泵压力, 抽真空时间, 充气速度, 工作压力, 处理时间. 温度. 频射发生器输入电压等指标 4. 监测所有的运行指标, 保证各项参数在设定范围之内 5. 设定操作进入密码.6. 可定制 ERP, SAP 系统接口电源380V AC, 三相，50Hz, 40A反应气体气体输入端口, 含气体流量控制器 (MFC), 最多可以 5个 MFC, 可多种工艺气体混合气体输入直径1/4英寸（6.45mm） 管道, 输入压力:1Bar尾气排放直径 28mm 输出端口, VOC 尾气处理装置性能急停开关 真空泵保护锁 高温保护锁 CE认证. Europlasma 低压等离子表面处理, 活化改性设备适用于涂覆如下产品:1. 可穿戴电子设备: 蓝牙耳机, 助听器, 手环, 手表等2. 薄膜: 锂电池行业, 精密仪器等3. 无纺布和功能性纺织物: 运动户外产品4. 无卤素 PCB 元器件5. 医用器材: 医用导管, 口罩, 针座活化, 人体植入,细胞培养瓶活化.Europlasma 在 PCB 生产领域的应用: 通过使用无卤素涂层技术 PlasmaGuard, 实现 PCB 防水.1. 多层板生产中内层的处理2. 高厚径比板的处理3. 微孔, 埋孔, 盲孔, 激光钻孔板的处理4. 使用新型树脂材料板的处理5. 铁弗龙基材板的处理 (只能用等离子技术处理)6. 软板的处理7. 成板焊接前处理Europlasma 在生物医疗活化的应用: 通过使用 Nanofics@, 实现超亲水特性 WCA＜10° 1. 对产品表面预清洁: O2 等离子体可以吸附附着在产品表面的微小颗粒物及其他污染物, 通过真空泵把混合气体抽出真空腔, 达到预清洁的效果2. 减小产品表面张力, 使得产品的水接触角明显减小, 匹配合适的等离离子能量和浓度, 可以做到产品表面水接触角 WCA＜10°, 3. O2 等离子体在产品表面发生化学反应, 产品表面可以增加很多功能性官能团, 包括羟基 (-OH ), 羧基 ( -COOH ), 羰基 ( -CO- ）, 氢过氧基 (-OOH ) 等, 这些活性官能团在细胞培养过程中可以提高反应速度和活性.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

上海伯东代理比利时原装进口 Europlasma 是基于低压等离子技术的创新超薄纳米涂层设备. 专利等离子体涂层技术 Nanofics@ 和无卤素涂层技术 PlasmaGuard. Europlasma 凭借超过25年的低压等离子体技术经验, 设计和生产真空等离子处理设备, 实现涂覆产品 IPX2 - IPX8 防水等级或医用产品亲水特性！Europlasma 提供各种规格的等离子表面处理设备, 等离子体室从 50升 到 2000升不等. 满足工业生产需要, Europlasma 还提供独特的卷绕涂层设备, 用于处理复杂电路, 薄膜, 织物和非织造布. 不论是非常小的特殊材料卷到大型织物卷 (宽度可达 2500毫米) 上海伯东 Europlasma 根据您产品的实际应用选择合适的机型和涂覆材料！CD 1000 ( 等离子体室 1000 x 700 x 700 mm ) CD 2400 ( 卷绕式 2400毫米 )Europlasma 等离子表面处理设备特点: 真空条件下, Europlasma 通过在材料浅表面实现低压等离子表面聚合或者原子层沉积, 从而赋予材料新的功能, 不影响材料本身的性能, 对三维结构以及复杂形状的材料表面都可实现均匀性涂覆.产品一致性强, 循环周期最短 可灵活集成到生产工艺中 穿透复杂的结构, 并覆盖所有表面, 包括锐利的边缘 所有表面都覆盖, 包括液体涂层无法触及的区域, 如深空腔和其他难以触及的区域 超薄涂层不会损坏被涂层的易碎物品, 如声学元件推出世界第一台 PlasmaGuard 无卤素涂层设备, 更加安全, 环保！Europlasma 拥有先进的技术和不断增长的各项专利申请, 提高纳米涂层设备工艺技术!Europlasma 等离子表面处理设备适用于涂覆如下产品:1. 可穿戴电子设备: 无线耳机, 手环, 手表, 助听器等2. 薄膜: 锂电池行业, 精密仪器等3. 无纺布和功能性纺织物: 运动户外产品4. PCB 元器件5. 医用器材: 医用导管, 口罩, 针座活化, 其他防护设备等.Europlasma 拥有各种类型的化学原料, 包括氟化学产品( Nanofics 120 含 PFOA, Nanofics 110 不含 PFOA ) 和无卤素化学产品 ( Nanofics 10 以及 PlasmaGuard 无卤素涂层技术), 提供定制设计. 同时姐妹公司 CPI 是基于薄膜基板的大气条件下, 提供高速等离子体卷绕解决方案的公司.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

等离子体清洗好处,对PTFE进行等离子活化处理,蚀刻工艺,为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺,并得到了应用,等离子体清洗与其它清洗方式对比表.等离子体清洗好处：　１、其除去了有机层（含碳污染物），其会受到例如， 氧气 和空气的化 腐蚀，通过超压吹扫，将其从表面去除。　　　通过等离子体中的高能量粒子，脏污会转化为 稳定的小型分子 ，并借此将其移除，处理过程中脏污的厚度只允许达到 几百纳米 ，因为等离子的清除速度仅能够达到每次几 nm。　　　脂肪含有诸如锂化合物之类的成分。仅能够除去其 有机成分 。这一点同样适用于指纹。故此，建议戴手套。　２、还原氧化物　　　金属氧化物会和工艺气体发生化学反应。作为工艺气体，使用了氢气和氩气或氮气的混合物。等离子体射流的热效应可能会导致进一步的氧化。故此建议在惰性气体环境下进行处理。常压等离子激活处理主要用于哪些方面？　　这种技术非常适用于以下工艺过程：　１、在粘合之前对塑料进行局部的等离子活化处理　２、在粘合、植绒、印刷（例如，汽车行业中的橡胶型材）之前，对弹性体进行等离子活化处理　３、在粘合或者粘接之前，对金属和陶瓷表面进行局部的等离子活化处理　４、极为适合在直接于移印机中移印之前，对塑料零部件进行处理。用常压等离子体进行活化处理能够为我们带来哪些主要优势？　技术适用于在线工艺，例如，在对连续型橡胶型材、软管进行印刷、胶粘，植绒或者涂层之前进行等离子活化。　等离子体清洗与其它清洗方式对比表：应用用途和特性低压等离子体的优点低压等离子体的缺点常压等离子体的优点常压等离子体的缺点普通的等离子体生成在等离子腔体室中均匀分布等离子体，腔室体积可变复杂的真空技术，在线等离子处理应用受到一定的限制可以直接在输送带上进行等离子处理，适用于在线处理，无需任何真空技术由于等离子体激发原理的原因，等离子处理痕迹有限，处理较大的对象的时候，必须使用多个喷嘴对金属进行处理可对易氧化的对象进行等离子清洗进行微波激发的时候，对象上可能会相应产生能量，这会造成对象过热对铝进行等离子处理的时候，可以生成很薄的氧化层对易氧化的对象进行等离子清洗，受到一定的限制对聚合物弹性体进行处理无法对PTFE进行等离子活化处理，蚀刻工艺，为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺，并得到了应用某些材料需要用到较大型的泵，以便达到必须的工艺压力无法对连续型对象进行预处理，工艺时间很短等离子射流的温度为约 200 - 300 °C。必须对表面的工艺温度进行很好的调节，以防止着火（很薄的材料）3D对象对等离子体腔室中的所有对象进行均匀处理。即使是中空腔室也可以从内部进行处理（例如，点火线圈、水箱等）未知可进行局部表面处理（例如，粘结槽口）需要使用复杂的多关节型机器人技术。常压等离子体的间隙渗透性受到一定的限制散装部件通过转鼓法可以对散装部件进行均匀的等离子处理。零部件的件数和体积可以有所不同其仅能够使用转鼓的 1/3 体积（建议）可以直接在输送带上处理对象对象必须极为精确的定位在输送带上电子，半导体技术借助低压等离子体对电子元件、电路板和半导体部件进行等离子处理是先进的技术。未知金属或者 ITO 触点可在粘接处理之前进行等离子预处理（例如，LCD、TFT 和芯片的生产）涂层工艺生成均匀的涂层。研发了很多 PECVD 和 PVD 工艺，并得到了应用可能会造成等离子体腔室的污染具有很多的工业用途尚不具有任何的工业用途

美国MARCH AP-600等离子系统——紧凑型、桌面式等离子处理设备 AP-600是特别设计的均匀清洗和处理的等离子设备，具有易操作性强、可靠性高、低成本的优点。AP-600是完全独立的系统，需要很小的空间。等离子腔体、控制设备、13.56MHz的等离子发生器和自动匹配网络都安装在底盘上，一个连锁的门和面板提供了维护通道。等离子腔体由耐用的高品质铝做成的，并且带有铝支架。腔体里有最多达7个可移动的、可调整的电源极或接地极支架，以适应更款范围的器件、组件或工装（盒、盘或舟）。 清洗、表面活化、改善粘性AP-600系统适合多种多样的等离子清洗、表面活化和改善粘性等应用，广泛应用在半导体器件制造、微电子封装和组装、医疗设备器件和生命科学器件的制造等。AP-600适合多种工艺气体，例如Ar、O2、H2、He及氟化合物气体，通过2个（标准配置）气体质量流量控制器控制气体的标准，系统还可以选配2个气体质量流量控制器来提高系统的控制性能。 半导体和微电子应用举例：粘片前进行处理，提高芯片附着力；键合前进行处理，提高键合强度；塑模和封装前进行处理，减少封装分层；倒装片采用底部填充工艺前进行处理，可以提高填充速度、减少空洞率、增加填充高度及一致性、增加填充物的附着力。 AP-600性能：触摸屏控制及图形用户界面，提供实时过程显示；灵活的支架，具有适应多种器件、组件及工装的能力；带有自动匹配网络的13.56MHz的RF发生器，保证设备优异过程一致性；设备满足简便的定期校准需要。 主要参数：组成高品质铝结构，带有热塑性塑料面板处理腔体、控制设备、RF发生器、匹配网络（真空泵）内置规格569W×704H×869D（mm）

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价格货期电议Europlasma 等离子表面亲水改性活化设备 CD 1200 PLC上海伯东比利时 Europlasma 等离子表面处理设备 CD 1200 PLC, 使用 Nanofics@ 技术, 实现材料表面水接触角 WCA 10°, 满足产品表面等离子活化改性, 高分子材料亲水, 细胞培养皿活化, TC 处理等工艺. Europlasma 等离子设备操作简单, 等离子腔容积 490 L, 标配 8个托盘, 整机原装进口.Europlasma 等离子表面亲水改性设备 CD 1200 PLC 技术参数真空腔室材料: 铝有效尺寸: 700 x 700 x 1200 mm.容积：490L舱门: 装有可视窗口标准样品托盘: 8个 标准尺寸: 620 * 675 mm亲水涂层厚度 10-50 nm真空度测量皮拉尼真空计真空泵干式真空泵泵组, 抽速 480 立方米每小时频射发生器根据客户应用需求定制控制系统PLC 可实现下列功能1. 17 英寸触摸屏, 自动控制反应过程 2. 根据处理材料设定不同的处理工艺参数 3. 测定真空泵压力, 抽真空时间, 充气速度, 工作压力, 处理时间. 温度. 频射发生器输入电压等指标 4. 监测所有的运行指标, 保证各项参数在设定范围之内 5. 设定操作进入密码.6. 可定制 ERP, SAP 系统接口电源380V AC, 三相, 50Hz, 40A反应气体气体输入端口, 含气体流量控制器 (MFC), 最多可以 5个 MFC, 可多种工艺气体混合气体输入直径1/4英寸（6.45mm） 管道, 输入压力:1Bar尾气排放直径 28mm 输出端口, VOC 尾气处理装置性能急停开关 真空泵保护锁 高温保护锁 CE认证.Europlasma 等离子表面亲水改性设备适用于 针座活化 细胞培养瓶 / 皿 / 板活化, 48孔, 96孔深孔板等活化 人体植入, 医用辅料, 微流量芯片, 过滤装置等 高分子材料亲水细胞培养瓶表面活化案例1. 对产品表面预清洁: O2 等离子体可以吸附附着在产品表面的微小颗粒物及其他污染物, 通过真空泵把混合气体抽出真空腔, 达到预清洁的效果2. 减小产品表面张力, 使得产品的水接触角明显减小, 匹配合适的等离离子能量和浓度, 可以做到产品表面水接触角 WCA＜10°, 3. O2 等离子体在产品表面发生化学反应, 产品表面可以增加很多功能性官能团, 包括羟基 (-OH ), 羧基 ( -COOH ), 羰基 ( -CO- ）, 氢过氧基 (-OOH ) 等, 这些活性官能团在细胞培养过程中可以提高反应速度和活性.表面活化前, 水接触角较大, 液体团聚 表面活化后, 水接触角变小, 液体扩散使用上海伯东 Europlasma 表面活化处理后测试：1. 样品经过 CD 1200 PLC 处理完后, 立即测试, 表面水接触角 WCA ＜28°, 满足客户要求2. 之后每天测试一次被处理样品的水接触角, 并记录水接触角的变化曲线和衰减, 连续检测一个月3. 测试一个月后, 最终的样品表面水接触角 WCA ＜42°, 满足客户要求, 且远远小于其他活化工艺结果！ 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗先生上海伯东版权所有, 翻拷必究！

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价格货期电议Europlasma 低压等离子表面处理设备 CD 600 PLC上海伯东代理比利时 Europlasma 低压等离子表面处理设备 CD 600 PLC, 操作简单, 等离子腔容积 216 L , 根据样品应用选择 Nanofics@ 或无卤素涂层技术 PlasmaGuard 实现产品防水, 亲水, 疏油, 防腐, 等离子活化等功能.Europlasma 低压等离子表面处理设备 CD 600 PLC 参数腔室材料: 铝内部尺寸: 600 x 600 x 600 mm.容积：216L舱门: 装有可视窗口标准样品托盘: 5个 标准尺寸: 552 x 522 x 40 mm.真空度测量2个皮拉尼真空计真空泵干式真空泵泵组, 抽速 480 立方米每小时频射发生器根据客户应用需求定制控制系统PLC 可实现下列功能17 英寸触摸屏, 自动控制反应过程 根据处理材料设定不同的处理工艺参数 测定真空泵压力, 抽真空时间, 充气速度, 工作压力, 处理时间. 温度.频射发生器输入电压等指标 监测所有的运行指标, 保证各项参数在设定范围之内 设定操作进入密码.电源380V AC, 三相, 50Hz, 40A反应气体一个气体输入端口,含气体流量控制器（MFC）气体输入直径1/4英寸（6.45mm） 管道, 输入压力:1Bar尾气排放直径 28mm 输出端口性能急停开关 真空泵保护锁 高温保护锁 CE认证. Europlasma 低压等离子表面处理设备适用于涂覆如下产品:1. 可穿戴电子设备: 蓝牙耳机,,助听器, 手环, 手表等2. 薄膜: 锂电池行业, 精密仪器等3. 无纺布和功能性纺织物: 运动户外产品4. 无卤素 PCB 元器件5. 医用器材: 医用导管, 口罩, 针座活化, 其他防护设备等.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东叶女士现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

价格货期电议Europlasma 等离子涂层设备 (无卤素涂层) CD 1200 PLC上海伯东代理比利时 Europlasma 等离子涂层设备(无卤素涂层) CD 1200 PLC, 操作简单, 等离子腔容积 490 L , 根据样品应用选择 Nanofics@ 或无卤素涂层技术 PlasmaGuard 实现 IPX5-IPX8 防水等级！Europlasma 等离子涂层设备操作简单.Europlasma 等离子涂层设备( 无卤素涂层) CD 1200 PLC 参数腔室材料: 铝有效尺寸: 700 x 700 x 1200 mm.容积：490L舱门: 装有可视窗口样品托盘: 8个 标准尺寸: 620 * 675 mm真空度测量皮拉尼真空计真空泵干式真空泵泵组, 抽速 480 立方米每小时频射发生器根据客户应用需求定制控制系统PLC 可实现下列功能17 英寸触摸屏, 自动控制反应过程 根据处理材料设定不同的处理工艺参数 测定真空泵压力, 抽真空时间, 充气速度, 工作压力, 处理时间. 温度.频射发生器输入电压等指标 监测所有的运行指标, 保证各项参数在设定范围之内 设定操作进入密码.电源380V AC, 三相, 50Hz, 40A反应气体一个气体输入端口,含气体流量控制器（MFC）气体输入直径1/4英寸（6.45mm） 管道, 输入压力:1Bar尾气排放直径 28mm 输出端口性能急停开关 真空泵保护锁 高温保护锁 CE认证. Europlasma 纳米涂层设备适用于涂覆如下产品:1. 可穿戴电子设备: 无线耳机, 手环, 手表等2. 薄膜: 锂电池行业, 精密仪器等3. 无纺布和功能性纺织物: 运动户外产品4. PCB 元器件5. 医用器材: 医用导管, 口罩, 其他防护设备等.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

NE-PE10 2、 设备简介NE-PE10是一款小型真空等离子处理系统，广泛应用于科研院校，企业研发单位和小批量生产打样。设备采用进口品牌高性能旋片真空泵快速产生一个小于1-2 Pa的真空压强，同时根据客户工艺要求，对真空反应腔室内通入不同的混合工艺气体，采用进口高品质等离子发生器，使得通入的工艺气体产生等离子体，并确保稳定产生高密度，高能量的离子。等离子体与材料发生复杂的物理，化学反应，可以实现不同的工艺功能，比如清洗，活化，刻蚀与涂敷等。等离子态显著的特点是高均匀性辉光放电，根据不同气体发出从蓝色到深紫色的色彩可见光。 NE-PE10 系统功能特点：&bull 耐用的高品质不锈钢结构和固定装置&bull 不锈钢托盘设计，双层处理空间&bull 8K镜面不锈钢腔体，卓越密封性&bull 数字高频等离子发生器，产生高密度等高子体，确保出众的清洗效果&bull PLC+触摸屏控制，过程参数实时监控&bull 方便定期校准设备连接验证过程中使用的要求&bull 支持各种工艺气体，包括氩气，氧，氢，氦和氟化气体&bull 通过联锁门或可移动的板&bull 两个标准的浮子针阀流量控制器，最佳气体控制&bull 性能卓越的双极旋片泵，高抽速，寿命长，耐腐蚀4、 设备技术参数序号项目型号规格参数1等离子体发生器功率0-300W可调抗辐射干扰高频匹配器自动阻抗匹配频率 40 KHz2真空反应腔室腔体材质进口 316 不锈钢，军工级密封腔体容积10L腔体尺寸200(L)*200(W)*270(D)mm电极数量2个镀金铝合金专用电极+ 2个铝合金托盘托盘尺寸W*D :180（W）×220（D）mm处理层数2层绝缘陶瓷进口高频陶瓷3气路控制气体流量控制器浮子针阀流量控制器， 0-500ML气路数量最小2路气体，支持氧气，氩气，氮气，氢气，四氟化碳等4真空测量真空计SMC 真空计5抽气系统真空泵飞越 16M3/H极限真空度0.1PA真空管路不锈钢管路+气动阀门6控制系统触摸屏4.3寸PLC松下PLC模块软件程序自主专利设计等离子控制系统7场务条件电源供应220V气管接口直径8mm气体纯度99.99%气体压力0.3-0.6Mpa排气口KF258整机参数整机功率1000W外形尺寸460（L）*460（W）*650（H）mm(不含三色灯高度)重量60kg

Femto Science 等离子清洗机 表面处理设备 CUTE图片简介CUTE系列等离子清洗机来自韩国Femto Science公司，是一款无损伤的等离子体处理表面处理系统，其独特的设计保证了高度稳定和均匀辉光放电等离子体产生，可应用于微流控、组织工程、石墨烯、2D材料等纳米科学以及微电子领域，适用于诸多材料表面清洁、疏水性增强、层间粘附、刻蚀等操作，标配一路自动气体流量计，可实现对工艺气体的准确控制。CUTE系列等离子清洗机，其舱体采用铝合金制作，坚固耐用且抗腐蚀，其舱体自带显示屏，配合显示屏下方的操作按钮，使用简单，方便快捷。规格参数项目参数舱体材质铝合金舱体内部尺寸140mm x 200mm x 110mm电源频率20~100kHz电源功率zui大100W 可自由调节标准气体输入1 x 气路额外气体输入2 x 空管道可供升级气体流速控制MFC自动控制zui大流速100sccm气体流速控制精度满量程的1%真空泵抽气速率80L/minzui小真空1 x 10-3 Torr真空测量范围大气压 ~ 5 x 10-5 Torr显示彩色触摸屏，图形化控制界面操作员分级2级操作人员分级程序可进行半自动控制和全自动编程控制参数存储zui大10组工艺参数储存，每组工艺包含zui多10个工艺步骤功能图解应用系统PDMS芯片制作石墨烯，2D材料表面处理Bio-MEMS组织工程食品科学

价格货期电议上海伯东代理比利时原装进口 Europlasma 无卤素等离子表面处理设备, 可在非织造, 薄膜, 网状物或纳米纤维网等材料上沉积超薄纳米涂层, 通过专利等离子体涂层技术 Nanofics@ 和无卤素涂层技术 PlasmaGuard, 实现产品疏水 WCA 120°, 亲水 WCA 10° , 疏油, 防腐, 等离子活化等功能, Europlasma 纳米防水涂层设备满足消费电子产品, 无卤素 PCB, 户外运动装备等产品 IPX2-IPX8 防水等级！Europlasma 等离子活化和亲水特性也适用于锂电池隔膜, 针座活化, 人体植入和细胞培养瓶活化等.Europlasma 真空条件下, 通过在材料浅表面实现低压等离子表面聚合或者原子层沉积, 从而赋予材料新的功能, 不影响材料本身的性能, 对三维结构以及复杂形状的材料表面都可实现均匀性涂覆.Europlasma 低压等离子表面处理设备 CD 600 PLC 参数腔室材料: 铝内部尺寸: 600 x 600 x 600 mm.容积：216L舱门: 装有可视窗口标准样品托盘: 5个 标准尺寸: 552 x 522 x 40 mm.真空度测量2个皮拉尼真空计真空泵干式真空泵泵组, 抽速 480 立方米每小时频射发生器根据客户应用需求定制控制系统PLC 可实现下列功能17 英寸触摸屏, 自动控制反应过程 根据处理材料设定不同的处理工艺参数 测定真空泵压力, 抽真空时间, 充气速度, 工作压力, 处理时间. 温度.频射发生器输入电压等指标 监测所有的运行指标, 保证各项参数在设定范围之内 设定操作进入密码.电源380V AC, 三相, 50Hz, 40A反应气体一个气体输入端口,含气体流量控制器（MFC）气体输入直径1/4英寸（6.45mm） 管道, 输入压力:1Bar尾气排放直径 28mm 输出端口性能急停开关 真空泵保护锁 高温保护锁 CE认证.Europlasma 低压等离子表面处理设备适用于涂覆如下产品:1. 可穿戴电子设备: 蓝牙耳机,,助听器, 手环, 手表等2. 薄膜: 锂电池行业, 精密仪器等3. 无纺布和功能性纺织物: 运动户外产品4. 无卤素 PCB 元器件5. 医用器材: 医用导管, 口罩, 针座活化, 人体植入,细胞培养瓶活化.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东叶女士,分机109

等离子沉积设备SI 500 D 高密度等离子体SI 500 D具有优异的等离子体特性，如高密度，低离子能量和低压等离子沉积介质膜。平行板ICP等离子体源SENTECH专利特有的平行板三螺旋天线(PTSA)ICP等离子体源实现了低功率耦合。优异的沉积性能低刻蚀速率，高击穿电压，低应力、不损伤衬底以及在低于100°C的沉积温度下的低界面态密度，使得所沉积的薄膜具有优异的性能。动态温度控制动态温度控制结合氦气背冷的衬底电极，以及衬底背面温度传感在从室温到+350°C的广泛温度范围内提供了优异稳定工艺条件。 SI 500 D等离子沉积设备代表了等离子体增强化学气相沉积的前沿技术，如介质膜、a-Si、SiC和其他材料。它基于PTSA等离子体源、独立的反应气体进气口、动态温度控制衬底电极、全自动控制的真空系统、采用远程现场总线技术的先进SENTECH控制软件，以及操作SI 500 D的用户友好的通用用户界面。SI 500 D等离子沉积设备可以加工各种各样的衬底，从直径高达200 mm的晶片到装载在载片器上的零件。单晶片预真空室保证了稳定的工艺条件，并实现在不同工艺之间的便捷切换。SI 500 D等离子增强沉积设备用于在从室温到350℃的温度范围内沉积SiO2、SiNx、SiONx和a-Si薄膜。通过液态或气态前驱体，SI 500 D可以为TEOS, SiC,和其它材料的沉积提供解决方案。SI 500 D特别适用于在低温下在有机材料上沉积保护层和在既定的温度下无损伤地沉积钝化膜。SENTECH提供不同级别的自动化程度，从真空片盒载片到一个工艺腔室或六个工艺模块端口，可用于不同的蚀刻和沉积工艺模块组成多腔系统，目标是高灵活性或高产量。SI 500 D也可用作多腔系统中的一个工艺模块。 SI 500 D ICPECVD等离子沉积设备 带预真空室 适用于200mm的晶片 衬底温度从室温到350?°C 激光终点检测 备选电极偏置

等离子体清洗好处,对PTFE进行等离子活化处理,蚀刻工艺,为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺,并得到了应用,等离子体清洗与其它清洗方式对比表.等离子体清洗好处：　１、其除去了有机层（含碳污染物），其会受到例如， 氧气 和空气的化 腐蚀，通过超压吹扫，将其从表面去除。　　　通过等离子体中的高能量粒子，脏污会转化为 稳定的小型分子 ，并借此将其移除，处理过程中脏污的厚度只允许达到 几百纳米 ，因为等离子的清除速度仅能够达到每次几 nm。　　　脂肪含有诸如锂化合物之类的成分。仅能够除去其 有机成分 。这一点同样适用于指纹。故此，建议戴手套。　２、还原氧化物　　　金属氧化物会和工艺气体发生化学反应。作为工艺气体，使用了氢气和氩气或氮气的混合物。等离子体射流的热效应可能会导致进一步的氧化。故此建议在惰性气体环境下进行处理。常压等离子激活处理主要用于哪些方面？　　这种技术非常适用于以下工艺过程：　１、在粘合之前对塑料进行局部的等离子活化处理　２、在粘合、植绒、印刷（例如，汽车行业中的橡胶型材）之前，对弹性体进行等离子活化处理　３、在粘合或者粘接之前，对金属和陶瓷表面进行局部的等离子活化处理　４、极为适合在直接于移印机中移印之前，对塑料零部件进行处理。用常压等离子体进行活化处理能够为我们带来哪些主要优势？　技术适用于在线工艺，例如，在对连续型橡胶型材、软管进行印刷、胶粘，植绒或者涂层之前进行等离子活化。　等离子体清洗与其它清洗方式对比表：应用用途和特性低压等离子体的优点低压等离子体的缺点常压等离子体的优点常压等离子体的缺点普通的等离子体生成在等离子腔体室中均匀分布等离子体，腔室体积可变复杂的真空技术，在线等离子处理应用受到一定的限制可以直接在输送带上进行等离子处理，适用于在线处理，无需任何真空技术由于等离子体激发原理的原因，等离子处理痕迹有限，处理较大的对象的时候，必须使用多个喷嘴对金属进行处理可对易氧化的对象进行等离子清洗进行微波激发的时候，对象上可能会相应产生能量，这会造成对象过热对铝进行等离子处理的时候，可以生成很薄的氧化层对易氧化的对象进行等离子清洗，受到一定的限制对聚合物弹性体进行处理无法对PTFE进行等离子活化处理，蚀刻工艺，为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺，并得到了应用某些材料需要用到较大型的泵，以便达到必须的工艺压力无法对连续型对象进行预处理，工艺时间很短等离子射流的温度为约 200 - 300 °C。必须对表面的工艺温度进行很好的调节，以防止着火（很薄的材料）3D对象对等离子体腔室中的所有对象进行均匀处理。即使是中空腔室也可以从内部进行处理（例如，点火线圈、水箱等）未知可进行局部表面处理（例如，粘结槽口）需要使用复杂的多关节型机器人技术。常压等离子体的间隙渗透性受到一定的限制散装部件通过转鼓法可以对散装部件进行均匀的等离子处理。零部件的件数和体积可以有所不同其仅能够使用转鼓的 1/3 体积（建议）可以直接在输送带上处理对象对象必须极为精确的定位在输送带上电子，半导体技术借助低压等离子体对电子元件、电路板和半导体部件进行等离子处理是先进的技术。未知金属或者 ITO 触点可在粘接处理之前进行等离子预处理（例如，LCD、TFT 和芯片的生产）涂层工艺生成均匀的涂层。研发了很多 PECVD 和 PVD 工艺，并得到了应用可能会造成等离子体腔室的污染具有很多的工业用途尚不具有任何的工业用途

等离子体清洗好处,对PTFE进行等离子活化处理,蚀刻工艺,为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺,并得到了应用,等离子体清洗与其它清洗方式对比表.等离子体清洗好处：　１、其除去了有机层（含碳污染物），其会受到例如， 氧气 和空气的化 腐蚀，通过超压吹扫，将其从表面去除。　　　通过等离子体中的高能量粒子，脏污会转化为 稳定的小型分子 ，并借此将其移除，处理过程中脏污的厚度只允许达到 几百纳米 ，因为等离子的清除速度仅能够达到每次几 nm。　　　脂肪含有诸如锂化合物之类的成分。仅能够除去其 有机成分 。这一点同样适用于指纹。故此，建议戴手套。　２、还原氧化物　　　金属氧化物会和工艺气体发生化学反应。作为工艺气体，使用了氢气和氩气或氮气的混合物。等离子体射流的热效应可能会导致进一步的氧化。故此建议在惰性气体环境下进行处理。常压等离子激活处理主要用于哪些方面？　　这种技术非常适用于以下工艺过程：　１、在粘合之前对塑料进行局部的等离子活化处理　２、在粘合、植绒、印刷（例如，汽车行业中的橡胶型材）之前，对弹性体进行等离子活化处理　３、在粘合或者粘接之前，对金属和陶瓷表面进行局部的等离子活化处理　４、极为适合在直接于移印机中移印之前，对塑料零部件进行处理。用常压等离子体进行活化处理能够为我们带来哪些主要优势？　技术适用于在线工艺，例如，在对连续型橡胶型材、软管进行印刷、胶粘，植绒或者涂层之前进行等离子活化。　等离子体清洗与其它清洗方式对比表：应用用途和特性低压等离子体的优点低压等离子体的缺点常压等离子体的优点常压等离子体的缺点普通的等离子体生成在等离子腔体室中均匀分布等离子体，腔室体积可变复杂的真空技术，在线等离子处理应用受到一定的限制可以直接在输送带上进行等离子处理，适用于在线处理，无需任何真空技术由于等离子体激发原理的原因，等离子处理痕迹有限，处理较大的对象的时候，必须使用多个喷嘴对金属进行处理可对易氧化的对象进行等离子清洗进行微波激发的时候，对象上可能会相应产生能量，这会造成对象过热对铝进行等离子处理的时候，可以生成很薄的氧化层对易氧化的对象进行等离子清洗，受到一定的限制对聚合物弹性体进行处理无法对PTFE进行等离子活化处理，蚀刻工艺，为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺，并得到了应用某些材料需要用到较大型的泵，以便达到必须的工艺压力无法对连续型对象进行预处理，工艺时间很短等离子射流的温度为约 200 - 300 °C。必须对表面的工艺温度进行很好的调节，以防止着火（很薄的材料）3D对象对等离子体腔室中的所有对象进行均匀处理。即使是中空腔室也可以从内部进行处理（例如，点火线圈、水箱等）未知可进行局部表面处理（例如，粘结槽口）需要使用复杂的多关节型机器人技术。常压等离子体的间隙渗透性受到一定的限制散装部件通过转鼓法可以对散装部件进行均匀的等离子处理。零部件的件数和体积可以有所不同其仅能够使用转鼓的 1/3 体积（建议）可以直接在输送带上处理对象对象必须极为精确的定位在输送带上电子，半导体技术借助低压等离子体对电子元件、电路板和半导体部件进行等离子处理是先进的技术。未知金属或者 ITO 触点可在粘接处理之前进行等离子预处理（例如，LCD、TFT 和芯片的生产）涂层工艺生成均匀的涂层。研发了很多 PECVD 和 PVD 工艺，并得到了应用可能会造成等离子体腔室的污染具有很多的工业用途尚不具有任何的工业用途

ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-800iP卓越的重复性和稳定性概要高密度等离子体蚀刻系统采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室，是一套完整的生产系统，具有优良的工艺重复性和稳定性。主要特点和优点新的ICP源 "HSTC&trade : Hyper Symmetrical Tornado Coil"。　可高效稳定地应用高射频功率（2千瓦以上），并实现良好的均匀性。大流量排气系统　排气系统直接连接到反应室，可以实现从小流量和低压范围到大流量和高压范围的广泛工艺窗口。下电极升降机构　晶片和等离子体之间的距离经过优化，以确保良好的平面内均匀性。易于维护的设计　TMP(涡轮分子泵)集成在设备中，便于更换应用GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度加工。SiC、SiO₂ 的高速加工。蚀刻铁电材料（PZT、BST、SBT、SBT）、电极材料（Pt、Au、Ru、Al）和其他难以蚀刻的材料。複合式半導體晶片的等離子切割和薄型化。

ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-800iPCExcellent process repeatability and stability概要高密度等离子体蚀刻系统采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室，是一套完整的生产系统，具有优良的工艺重复性和稳定性。主要特点和优点新的ICP源 "HSTC&trade : Hyper Symmetrical Tornado Coil"。　可高效稳定地应用高射频功率（2千瓦以上），并实现良好的均匀性。大流量排气系统　排气系统直接连接到反应室，可以实现从小流量和低压范围到大流量和高压范围的广泛工艺窗口。下电极升降机构　晶片和等离子体之间的距离经过优化，以确保良好的平面内均匀性。易于维护的设计　TMP(涡轮分子泵)集成在设备中，便于更换。应用GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度加工。SiC、SiO₂ 的高速加工。蚀刻铁电材料（PZT、BST、SBT、SBT）、电极材料（Pt、Au、Ru、Al）和其他难以蚀刻的材料。複合式半導體晶片的等離子切割和薄型化。

ICP-RIE等离子体蚀刻设备 RIE-400iPC节省空间的生产设备概要高密度等离子体蚀刻系统采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室，是一个具有优良工艺重复性和稳定性的全规模生产系统。该系统是直径4英寸等小直径晶圆的专用系统，可以在最小的洁净室空间内安装。主要特点和优点新的ICP源 "HSTC&trade : Hyper Symmetrical Tornado Coil"　可高效稳定地应用高射频功率（2千瓦以上），并实现良好的均匀性。大流量排气系统　排气系统直接连接到反应室，可以实现从小流量和低压范围到大流量和高压范围的广泛工艺窗口。端点监测　干涉法和发射光谱终点监测仪可用于目标薄膜厚度的终点检测。易于维护的设计　TMP(涡轮分子泵)已集成在一个单元中，便于更换。应用GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度加工SiC、SiO₂ 的高速加工蚀刻铁电材料（PZT、BST、SBT、SBT）、电极材料（Pt、Au、Ru、Al）和其他难以蚀刻的材料