氮化硅涂层沉积设备

TEM用亲水性/疏水性氮化硅窗口 有需求请联系上海昭沅仪器设备有限公司！ 021-35359028/29技术参数： 亲水性: 低应力氮化硅薄膜上镀有5nm厚度的亲水涂层 疏水性: 低应力氮化硅薄膜上镀有5nm厚度的疏水涂层 表面能：表面表面能 (mJ/m2)标准偏差氮化硅薄膜46.14.3亲水涂层76.12.2疏水图层24.64.4表面粗糙度：表面表面粗糙度 (nm)标准偏差氮化硅薄膜Rq=0.65Ra=0.450.060.02亲水涂层Rq=0.57Ra=0.400.040.03疏水涂层Rq=0.66Ra=0.400.030.05Rq=表面粗糙度 Ra= 平均粗糙度氮化硅薄膜窗规格 窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度50nm单窗口，500x500μmΦ3mm200μm200 nm单窗口，500x500μmΦ3mm200μm15 nm3x3，9窗口，窗口100x100μmΦ3mm200μm 详细资料请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

X射线透射显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： X-射线薄膜窗能够实现软X-射线(如真空紫外线)的最大透射率。主要用于同步辐射X射线透射显微成像时承载样品。 X-射线越软(能量越低)，穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特别在&ldquo 离轴&rdquo 状态工作（即薄膜与光束成一定角度）时，也需要较薄的薄膜窗口，便于X射线更好地穿透。 氮化硅薄膜窗口是利用现代MEMS技术制备而成，由于此种氮化硅窗口选用低应力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比计量式和ST氮化硅薄膜更坚固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常适合应用于透射成像和透射能谱等广泛的科学研究领域，例如，X-射线（上海光源透射成像/能谱线站）、TEM、SEM、IR、UV等。 现在提供X-射线显微成像/能谱（同步辐射）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸 (4种标准规格): &bull 5 mm x 5 mm (窗口尺寸：1.0 mm 或和 1.5 mm 方形) &bull 7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸：2.0 mm 或 2.5 mm) &bull 10 mm x 10 mm (窗口尺寸：3.0 mm 或 5 mm 方形) 边框厚度： 200µ m、381µ m、525µ m。 Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm 我们也可以为用户定制产品（30-500nm），但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 透光度： 对于X射线用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，对于软X射线（例如碳边吸收谱），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用户首选。 真空适用性： 真空适用性数据如下： 　 薄膜厚度 窗口面积 压力差 &ge 50 nm &le 1.0 x 1.0 mm 1 atm &ge 100 nm &le 1.5 x 1.5 mm 1 atm &ge 200 nm &le 2.5 x 2.5 mm 1 atm 表面平整度： 氮化硅薄膜窗口产品的表面平整性很稳定（粗糙度小于1nm），对于X射线应用没有任何影响。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 同步辐射X射线（紫外或极紫外）透射成像或透射能谱应用中是不可或缺的样品承载体。 2、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，利于制备理想的用于X射线表征用的自组装单层薄膜或薄膜（薄膜直接沉积在窗口上）。 3、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。 4、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 5、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 同步辐射X射线应用参考文献：PRL

TEM用氮化硅薄膜窗口氮化硅薄膜窗特点 低应力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撑膜：50nm厚的薄膜具有最大的视野范围；8nm和15nm厚的无孔氮化硅薄膜适用于TEM超高分辨率的应用 氮化硅支撑膜：低应力的LPCVD非化学计量比氮化硅薄膜，良好的平整度、绝缘性和疏水性良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡 均匀性：减少了不同区域的不均匀性 TEM断面成像应用的特殊窗口：适用于倾斜断层成像的0.5x1.5mm大窗口，倾斜度最大可达75° 多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm 可应用于多种显微技术：良好的机械稳定性使得同一种薄膜可应用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 薄膜和基底耐酸，不会被溶解：可以在酸性条件或常规条件下研究、制备样本 可应用于高温试验环境： 1000°C 可提供更对精确的分析，如样品中的碳含量，减少污染：可用于无碳环境中的TEM成像和分析 容易清洗：机械稳定性和化学稳定性使得薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量 良好的平整度：良好的纳米沉积基底和薄膜，无背景结构适合于SEM成像 超净加工，防止支撑膜上残留微粒：100级的超净间内包装 框架厚度：200 and 50μm ：200μm是标准的TEM支撑架；50μm是特殊的TEM支撑架 标准框架直径为3mm 同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性氮化硅薄膜窗规格单窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度20nm500x500μmΦ3mm100μm20/50nm500x500μmΦ3mm200μm50nm1000x1000μmΦ3mm200μm50nm100x100μmΦ3mm200μm15nm0.25x0.25mmΦ3mm200μm50nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm200nm0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mmΦ3mm200μm15/50/200nm0.25x0.25mmΦ3mm50μm50nm/200nm0.5x1.5mmΦ3mm50μm 多窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm15nm/50nm/200nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm50nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm50μm10nm/20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm10nm3x3阵列，8个窗口250X250μm，1个窗口250X500μmΦ3mm100μm20nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm200μm50nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm15nm/50nm/200nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm200μm50nm3x3阵列，窗口100X100μm，Φ3mm50μm8nm单窗口，窗口大小：0.6×0.6mm；25个网格，氮化硅支撑膜200nm；网格上的氮化硅薄膜8nm；网格大小：75μm ，网格间距：25μm；Φ3mm200μm 应用简介： 1、适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。2、大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。3、无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。4、背景氮化硅无定形、无特征。5、耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。6、生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。7、耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。8、适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细资料请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口 产品概述： 与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时NTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。 现在可以提供透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下： 外框尺寸: &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：30 nm) &bull 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm) 边框厚度： 200µ m、381µ m。 Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nm 可以为用户定制产品(30-200nm)，但要100片起订。 本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 技术指标： 表面平整度： 我们认为薄膜与其下的硅片同样平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为：0.6-2nm。完全适用于TEM表征。 亲水性： 该窗格呈疏水性，如果样品取自水悬浮液，悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理，可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试，但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格，但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。 温度特性： 氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。 化学特性： 氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。 应用简介和优点： 1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。 2、 大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。 3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。 4、 背景氮化硅无定形、无特征。 5、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。 6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。。 7、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。 8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。 详细请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

基于PELCO® 多孔氮化硅上的石墨烯支持膜这种石墨烯产品是由多孔氮化硅支撑，在0.5x0.5mm的窗口上铺了一层Si3N4，网格的孔径为2.5um，孔间距为4.5um。石墨烯的使用率为75%，可提供单层、2层、3-5层和6-8层石墨烯。适合UHR成像，或者作为一种实验平台。Example of nanopatterning of an atomically thin matter-wave beam splitter from a single-layer Graphene on Holey Silicon Nitride product. Ref: C. Brand, et. al. Nature Nanotechnology, Vol. 10, Oct. 2015 货号产品描述包装21712-5基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mm pkg/521712-10基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021712-25基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21722-5基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521722-10基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021722-25基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21742-5基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521742-10基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021742-25基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21772-5基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521772-10基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021772-25基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25

bruker afm探针氮化硅针尖ScanAsyst利用一种的曲线采集方法和复杂的算法，对图像质量进行持续的监测，并能自动地对参数进行适当的调整。因此无论用户的专业技术水平如何，图像自动优化都能更快获取更*的结果。-可直接控制力的强弱，调到超低力，从而保护易碎样品和针尖不受损坏。实现了悬臂调节的消除，定位调整，获得zui大优化让液态成像变得简单。仅适用于具有Scansyst成像的AFM。其中包含：DimensionIcon,Multimode8,BioscopeCatalyst,BioscopeResolve.【SCANASYST-AIR】brukerafm探针规格几何:旋转对称尖端高度h:2.5-8.0m前角FA:152.5背角BA:252.5侧角SA:17.52.5尖端半径Nom:2nm尖端半径最大:12nm尖端挫折TSBNom:5m尖端回缩TSBRNG:3-7m悬臂规范材料:氮化硅几何:三角悬臂梁数量:1悬臂厚度Nom:0.65m悬臂厚度RNG:0.6-0.7m背面涂层:反光铝

基于多孔氮化硅的氧化石墨烯支持膜氧化石墨烯铺在多孔氮化硅上，多孔氮化硅的孔径为2.5um，孔间距为4.5um， Si3N4的膜厚为200nm，窗口尺寸0.5x0.5mm 。 货号产品描述包装21812-5基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/5 21812-10基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/1021812-25基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/25货号产品描述包装21822-5基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/521822-10基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/1021822-25 基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/25

基于多孔氮化硅的氧化石墨烯支持膜氧化石墨烯铺在多孔氮化硅上，多孔氮化硅的孔径为2.5um，孔间距为4.5um， Si3N4的膜厚为200nm，窗口尺寸0.5x0.5mm 。 货号产品描述包装21812-5基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/5 21812-10基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/1021812-25基于多孔氮化硅的单层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/25货号产品描述包装21822-5基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/521822-10基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/1021822-25 基于多孔氮化硅的2层氧化石墨烯支持膜，孔径 2.5μm , 窗口0.5 x 0.5mmpkg/25

氮化硅膜主要用于纳米技术研究；支撑强度高，TEM与原子力电镜都可以使用。氮化硅膜极其稳定可以抵抗温度变化上升至1000摄氏度；但是，疏水性，如果需要亲水，建议用刻蚀法：等离子刻蚀，增加电荷。膜厚：100nm、50nm、30nm；孔：1mm×mm 膜粗糙度2nm。型号名称硅框架厚度（μm）窗口尺寸（mm）膜厚（nm）孔厚包装/个产地21505-10氮化硅膜2000.25 x 0.25mm50110美国21500-10氮化硅膜2000.5 x 0.550110美国21502-10氮化硅膜2001.0 x 1.0mm50110美国21525-10氮化硅膜2000.25 x 0.25mm200110美国21522-10氮化硅膜2001.0 x 1.0mm200110美国21524-10氮化硅膜2000.1 x 1.5200210美国21528-10氮化硅膜2000.1 x 1.5200210美国4112SN-BA氮化硅膜2001.0 x 1.0200110SPI4120SN-BA氮化硅膜2000.5 x 0.5200110SPI

基于PELCO® 多孔氮化硅上的石墨烯支持膜这种石墨烯产品是由多孔氮化硅支撑，在0.5x0.5mm的窗口上铺了一层Si3N4，网格的孔径为2.5um，孔间距为4.5um。石墨烯的使用率为75%，可提供单层、2层、3-5层和6-8层石墨烯。适合UHR成像，或者作为一种实验平台。Example of nanopatterning of an atomically thin matter-wave beam splitter from a single-layer Graphene on Holey Silicon Nitride product. Ref: C. Brand, et. al. Nature Nanotechnology, Vol. 10, Oct. 2015 货号产品描述包装21712-5基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mm pkg/521712-10基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021712-25基于多孔氮化硅的单层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21722-5基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521722-10基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021722-25基于多孔氮化硅的2层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21742-5基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521742-10基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021742-25基于多孔氮化硅的3-5层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25 货号产品描述包装21772-5基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/521772-10基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/1021772-25基于多孔氮化硅的6-8层石墨烯支持膜，孔径2.5um，窗口0.5x0.5mmpkg/25

多孔氮化硅TEM载网以高纯单晶硅为基底，超薄氮化硅(10-50nm)为支撑膜，可实现原子级分辨率。具有耐电子束辐照，电子束穿透率高，成像背景均匀和噪音小等优点。载网不含碳元素，避免积碳，尤其适合球差原子分辨表征。可以非常方便在不同分析仪器间转移分析，如TEM， AFM，XRD，EXAFS，Raman等。

多孔氮化硅薄膜窗口特点 ● 相对大的实验区域；● 增加了薄膜的弹性；● 孔的尺寸适合实验要求；● 薄膜边缘有25μm宽度是无孔的； 多孔氮化硅薄膜窗参数： 框架大小：Φ3mm； 框架厚度：200μm；薄膜厚度：50/100nm； 窗口大小：0.5x0.5mm；孔径：2.5μm； 孔间距：4.5μm；孔排列：100x100； 详细资料请咨询：上海昭沅仪器设备有限公司 021-35359028/29 admin@instsun.com

氮化硅膜主要用于纳米技术以及分子生物学的研究。该支持膜具有良好的平整度和疏水性。氮化硅为无定形态，无碳，无杂质；其良好的化学稳定性使图像分辨率和机械强度达到理想的平衡；良好的机械稳定性使同一种薄膜可应用于TEM、SEM、EDX、XPS、AFM等对同一区域的交叉对表征；薄膜和基底耐酸，可满足酸性条件下制备、研究样品；薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗；可应用于1000摄氏度高温环境。产品编号支持膜厚度窗格规格包装（枚/盒）YL-6055200nm0.5×0.5mm10枚/盒 150nm0.5×0.5mm10枚/盒 100nm0.5×0.5mm10枚/盒 200nm0.25×0.25mm 10枚/盒 150nm0.25×0.25mm 10枚/盒 100nm0.25×0.25mm 10枚/盒 150nm0.1×0.1mm10枚/盒 100nm0.1×0.1mm10枚/盒 200nm0.1×0.1mm10枚/盒

氮化硅窗口Silicon Nitride Window Grids 氮化硅TEM窗口在恶劣的实验室条件下表现良好，硅材料的框架100μm厚，适合标准的3mm支架和大多数双倾斜样品台，氮化硅窗口装在透明的凝胶盒中。l 等离子可清洗-可以耐受强力等离子清洗，移去有机污染层l 场到场的均匀性-整个薄膜厚度的变化小于0.5 nml 可容忍1000°C以上的温度-支持在高温下观察动态过程中使用l 经得起严酷的条件-提供理想的成像分辨率，化学稳定性和机械强度l 氮化硅采用LPCVD法制造，具有平坦，绝缘和疏水表面选择参考High Resolution Imaging:5nm76042-43, 1 square (25x25μm)76042-44, 9 squares (50x50μm)76042-45, 2 slots (50x1500μm)*Robust, Increased High Resolution:10nm76042-46, 9 squares (100x100μm)Everyday Imaging:20nm76042-49, 1 square (500x500μm)76042-50, 9 squares (100x100μm)Demanding Conditions:50nm76042-53, 1 square (100x100μm)76042-52, 1 square (500x500μm) 76042-51, 1 square (1000x1000μm)76042-50, 9 squares (100x100μm)Materials & Cryo-EM Suspension:Microporous76042-41, 1 square (500x500μm)76042-40, 1 square (500x500μm)*Coated with 1 nm of ultrahigh purity carbon to minimize charging产品选购：货号产品描述窗口尺寸厚度规格76042-40Silicon Nitride Microporous TEM Window Grid (2.0 μm pores with labeled grid)500μm sq.20nm10/pk76042-41Silicon Nitride Microporous TEM Window Grid (2.0 μm pores with labeled grid)500μm sq.50nm10/pk76042-42Silicon Nitride Nanoporous TEM Window Grid500μm sq.20nm10/pk76042-43Silicon Nitride TEM Window Grid25μm sq.5nm10/pk76042-44Silicon Nitride TEM Window Grid(8) 50μm sq., (1) 50x100μm 5nm10/pk76042-45Silicon Nitride TEM Window Grid(2) 50x1500μm5nm10/pk76042-46Silicon Nitride TEM Window Grid(8) 100 sq., (1) 100x350μm10nm10/pk76042-47Silicon Nitride TEM Window Grid(8) 250 sq., (1) 250x500μm10nm10/pk76042-48Silicon Nitride TEM Window Grid(8) 100 sq., (1) 100x350μm20nm10/pk76042-49Silicon Nitride TEM Window Grid500μm sq.20nm10/pk76042-50Silicon Nitride TEM Window Grid(9) 100μm sq.50nm10/pk76042-51Silicon Nitride TEM Window Grid1000μm sq.50nm10/pk76042-52Silicon Nitride TEM Window Grid500μm sq.50nm10/pk76042-53Silicon Nitride TEM Window Grid100μm sq.50nm10/pk

膜厚： 两面均含50nm超低张力氮化硅膜 圆片厚度： 200μm硅基底 圆片直径： 3mm

AFM配件，原子力探针，AFM探针，原子力探针针尖，显微镜探针针尖，原子力针尖，原子力显微镜探针针尖，接触探针，纳米压痕探针，氮化硅探针，硅探针，热探针，超尖探针，电子探针，显微镜针尖，原子力显微镜针尖，轻巧模式探针，AFM针尖，接触式探针，磁性探针，导电探针，显微镜探针，探针，布鲁克探针，原子力探针，BRUKER PROBE，AFM PROBE，BRUKER探针，原子力显微镜探针，AFM探针，VEECO探针作为一家能够提供AFM/SPM仪器和AFM/SPM探针的企业，布鲁克公司深刻理解每个单独的组件对于一整套性能AFM系统的价值。布鲁克公司以的生产工艺，专业的AFM领域背景，得天独厚的生产装备，赋予探针制造众多的优势，确保在应用领域中提供完整的AFM解决方案。布鲁克AFM探针制造优势：*Class100级别的无尘室*的设计、制造工序及制造工具*探针设计团队与AFM设备研发团队通力合作，配合紧密*训练有素的生产团队，制造出各种型号的探针*的质量管理体系，确保探针性能行业在实验中，用户所得到的数据取决于探针的质量及探针的重复性。布鲁克的探针具有严格的纳米加工控制，的质量测试，和AFM领域的专业背景。所以用户尽可放心，我们的探针不仅为您当前的应用提供所需的结果，同时也能为将来的研究提供参考数据。NameMountDescriptionPack SizeTip Radius (nm) OBL-10UnmountedAu Coated tips 2 Cantilevers, 0.006-0.03N/m, Au Reflective Coating1030

热解氮化硼坩埚 热解氮化硼（PBN）是特种陶瓷材料，是本公司在特殊设备上用化学气相沉积的工艺制得的。热解氮化硼的沉积过程，宛如“落雪”：氮化硼的六角型小雪片，一片一片的平行地落在石墨基体材料上，达到一定厚度后，最终冷却脱模而制成。 主要特点： ●　产品颜色在牙白至橙棕，无毒、无孔隙、易加工。●　纯度高达99.99％，表面致密，气密性好。●　耐高温，强度随温度升高，2200℃达到最大值。●　耐酸、碱、盐及有机试剂，高温与绝大多数熔融金属、半导体等材料不湿润、不反应。●　抗热震性好，热导性好，热膨胀系数低。●　电阻高，介电强度高，介电常数小，磁损耗角正切低，并具有良好的透微波和红外线性能。●　在力学、热学、电学等等性能上有着明显的各向异性。 产品应用1.半导体单晶及III－V族化合物合成用的坩埚、基座：原位合成GaAs 、InP 、GaP单晶的LEC系列坩埚。分子束外延用的MBE系列坩埚。 VGF、VB法系列坩埚。2.电子束源用的系列坩埚，金属熔炼蒸发坩埚等3.石英坩埚及舟皿等石墨器具上的涂层，MOCVD绝缘板。

带 pH 玻璃膜的组合式银环形电极，用作参比电极。银环具有硫化物 (Ag2S) 涂层，其适用于较高的灵敏度和更好的指示极限。该免维护电极适用于 pH 值恒定的沉积滴定（硝酸银滴定剂），例如： 氯化物、溴化物、碘化物硫化物硫化氢硫醇氰化物该电极存放在蒸馏水中。

超快非晶硅激光刻膜机配件是特别为太阳能产业光伏工业而设计的整套晶圆激光加工系统。可用于光伏电池激光加工,去除氮化硅膜氮化硅膜蚀刻,晶圆边缘隔离，有可以当作激光刻膜机,激光划片机使用。 提供如下四合一服务：SiNx/SiO2去除,去除二氧化硅,去除氮化硅 边缘隔离晶圆 背接触激光烧结和激光刻槽 激光打标 其中紫外飞秒激光用于SiNx/SiO2的选择性烧蚀或切除(氮化硅膜蚀刻),配备的紫外飞秒激光可以非常精密地剥蚀SiNx(去除氮化硅膜),同时在Si层的直接或热效应降低到最低，从而增加载流子寿命（少子寿命）,避免微裂纹。而配备的1064nm的纳秒激光工作非常稳定而快速，将用于晶片的快速激光边缘隔离，激光打标和激光烧结。 非晶硅激光刻膜机配备自动处理和扫描系统，支持5’’和6’’直径的硅晶片加工。同时配备机械视觉系统以随时调节激光束扫描,保持高度重复性和可靠性。配1级激光安装防护装置和灰尘消除系统，营造无尘加工环境，以保证飞秒激光的精密烧蚀和热效应影响的最小化。 非晶硅激光刻膜机配件特色 配备的激光器处理能力高达800个晶片/小时或350000px/s 加工量为425个晶片/小时,优化后可用于2.5MW/a产品的生产线 适用5' ’和6' ' 硅晶片 紫外飞秒激光和红外纳秒激光光源 机械视图系统可调节激光扫描场 精密激光光束定位 激光划线激光剥蚀激光熔化 为用户提供了无银敷金属技术生产太阳能电池 成功地装配到生产能力高达2.5MWp/a的生产线上。 使用飞秒激光对晶圆wafer的发射端进行介电层（SiNx)的选择性移除。SiNx厚度为50-90nm,覆盖发射端，必须精确移除而不伤害发射层。一种应用是消蚀SiNx层的同时，也产生bus bars和fingers开口，下一步,这些开口将被镍覆盖，这样就形成了高质量的前接触。它使用振镜扫描器控制激光束切割发射端，独具的机械视图功能能够探测晶圆位置。

通过利用原子层沉积技术（ALD），极大改善了硅氮支持膜的表面性能。疏水性膜非常适合制备溶解于有机溶剂的材料，而亲水性膜则对于溶于水溶剂中的材料非常有效。表面能量:表面表面能量 (mJ/m2)标准偏差硅氮支持膜46.14.3亲水性镀膜76.12.2疏水性镀膜24.64.4mj= millijoules表面粗糙度:表面表面粗糙度 (nm)标准偏差硅氮支持膜Rq=0.65 Ra=0.450.06 0.02亲水性镀膜Rq=0.57 Ra=0.400.04 0.03疏水性镀膜Rq=0.66 Ra=0.400.03 0.05Rq= 表面粗糙度 Ra= 平均粗糙度货号产品描述包装21553-10PELCO? 亲水性 15nm硅氮支持膜, 9 个0.1x0.1mm 窗10片/包21550-10PELCO? 亲水性50nm硅氮支持膜, 0.5 x 0.5mm窗10片/包21551-10PELCO?亲水性200nm 硅氮支持膜, 0.5 x 0.5mm窗10片/包21593-10PELCO?疏水性 15nm 硅氮支持膜, 9个0.1 x 0.1mm窗10片/包21552-10PELCO?疏水性 50nm硅氮支持膜, 0.5 x 0.5mm窗10片/包21591-10PELCO? 疏水性 200nm硅氮支持膜, 0.5 x 0.5mm窗10片/包21597-10硅氮支持膜套装 (10片不同膜)套

通过利用原子层沉积技术（ALD），极大改善了硅氮支持膜的表面性能。疏水性膜非常适合制备溶解于有机溶剂的材料，而亲水性膜则对于溶于水溶剂中的材料非常有效。表面能量:表面表面能量 (mJ/m2)标准偏差硅氮支持膜46.14.3亲水性镀膜76.12.2疏水性镀膜24.64.4mj= millijoules表面粗糙度:表面表面粗糙度 (nm)标准偏差硅氮支持膜Rq=0.65 Ra=0.450.06 0.02亲水性镀膜Rq=0.57 Ra=0.400.04 0.03疏水性镀膜Rq=0.66 Ra=0.400.03 0.05Rq= 表面粗糙度 Ra= 平均粗糙度货号产品描述包装21553-10PELCO? 亲水性 15nm硅氮支持膜, 9 个0.1x0.1mm 窗10片/包21550-10PELCO? 亲水性50nm硅氮支持膜, 0.5 x 0.5mm窗10片/包21551-10PELCO?亲水性200nm 硅氮支持膜, 0.5 x 0.5mm窗10片/包21593-10PELCO?疏水性 15nm 硅氮支持膜, 9个0.1 x 0.1mm窗10片/包21552-10PELCO?疏水性 50nm硅氮支持膜, 0.5 x 0.5mm窗10片/包21591-10PELCO? 疏水性 200nm硅氮支持膜, 0.5 x 0.5mm窗10片/包21597-10硅氮支持膜套装 (10片不同膜)套

金属涂层耐高温光纤是采用金属涂层工艺的耐高温光纤，金属涂层耐高温光纤具有抗化学腐蚀和抗机械弯曲的能力。 金属涂层耐高温光纤功能应用 金属涂层工艺这是金属的强机械粘附力直接到粘附二氧化硅包层，从而极大地提高光纤的耐高温，抗化学腐蚀和弯曲能力。 广泛应用于核辐射，高能强激光传输，焊接纤维束，和医疗应用，以及在高温或腐蚀性的环境中进行的化学反应。

有需求请联系上海昭沅仪器设备有限公司！ 021-35359028/29 氧化硅薄膜窗氧化硅薄膜窗RISUN推出新型二氧化硅薄膜窗系列产品。与氮化硅相比，氧化硅更易遭受化学侵蚀，且坚固性更差。但在X-射线显微镜中，由于没有N原子存在而倍受青睐。 氧化硅与氮化硅薄膜窗比较：相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中，如基片薄膜含氮，则会与样本造成混淆。 RISUN氧化硅薄膜窗特点许多研究纳米微粒，特别是含氮纳米微粒的人员发现此种薄膜窗格在他们实验中不可缺少。气凝胶和干凝胶的基本组成微粒尺寸极小，此项研究人员也同样会发现SPI氧化硅薄膜窗格的价值。 SEM应用中，薄膜背景不呈现任何结构和特点。 X射线显微镜中，装载多个分析样的唯一方法。 无氮 RISUN氧化硅薄膜窗规格 薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸型号50nm1.5X1.5mm5.0X5.0mmRISUN100nm1.5X1.5mm5.0X5.0mm200nm1.5X1.5mm5.0X5.0mm硅片厚度：200um、381um、525um； 定制系列RISUN也可以根据用户需求定制不同膜厚的氧化硅窗口。本产品为一次性产品，不建议用户重复使用；本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。 应用简介实际上，RISUN氧化硅薄膜应用范围非常广，但所有应用都有无氮要求（因样本中有氮存在）：1. 惰性基片可用于高温环境下，通过TEM、SEM或AFM（某些情况下）对反应进行动态观察。2. 作为耐用（如“强力”）基片，首先在TEM下，然后在SEM下对同一区域进行“匹配”。3. 作为耐用匹配基片，对AFM和TEM图像进行比较。4. 聚焦离子束（FIB）样本的装载。5．用作Ti、V、Mo等滤光器基质；用于X-射线光学设备中，如分光器定制服务：本公司接受特殊规格的产品预订，价格从优。详情请咨询：admin@instsun.com

无涂层直角棱镜用于90°或180°反射准直光束。因此用于改变成像方向，逆反射和作为外反射器。无涂层直角棱镜具有高品质的表面抛光，适合在高功率应用中使用。无涂层直角棱镜材料为N-BK7或UVFS，支持定制材料和尺寸。标准倒角：0.35mm@45°，角度公差：±3arc min。CVI提供了包括光束转向，成像图像调整，波长分离等多种类型的棱镜。适合于在高功率激光工业，科研应用。可以定制的材料和尺寸，也提供各种电介质和金属涂层镀膜的棱镜。棱镜在工业上有广泛应用，如通过光谱中实现激光跟踪和定位，测距和大气监测。其宽带宽、高损伤阈值，使得在激光系统中的色散补偿腔内使用或作为光束分离器。棱镜实现通过精抛光具有高表面质量、高面形精度和高激光损伤阈值，可选择镀低损耗抗增透膜。通过优秀的制造工艺，CVI的棱镜具有大的通光孔径，小尺寸公差，以及低角度偏差的优点。棱镜的使用材料包括N-BK7，熔融二氧化硅，Suprasil 1，晶体石英和N-F2，其他材料可根据要求提供。支持各种光学涂层。

几何三角 齿顶圆角半径(m)尺寸:2最大:12 频率(赫兹）尺寸:150最小:100最大:200 长度(um)尺寸:70最小:65最大:75 弹簧常量(N/m)尺寸:0.7最小:035最大:1.4 宽度(μm）笔名:10分钟:5马克斯:15 悬臂规范 材料：氮化硅几何：三角悬臂梁数量：1悬臂厚度(Nom):06um悬臂厚度(RNG:055~0.65um背面涂层：反光金表层背面：45±5nm的TAu

尺寸：5*10cm厚度：1.6mm铜基六方氮化硼薄膜采用化学气相沉积法（CVD），在高纯铜箔上沉积单层和多层h-BN薄膜。

聚乙烯醇类（PVA）涂层毛细管PVA 涂层毛细管包含一层聚乙烯醇的永久性吸收涂层。此涂层最大程度地降低了疏水性，以及静电溶质/管壁间的交互作用，并消除了电渗流（EOF）。通过采用专利沉积工艺，PVA 涂层在较大的pH 范围内，甚至在pH 2.5-9.5 的碱性条件下都是稳定的。这种稳定性允许使用各种常用的CE 缓冲液。由于覆盖了石英表面，因此就可以分析许多蛋白质和胺类，而不会像在未涂渍毛细管上那样形成拖尾峰。此外，由于消除了EOF，从而避免了繁琐的冲洗操作，而且改善了迁移时间的重现性。每批PVA 涂层毛细管都要经过安捷伦科技的严格测试，并且附有一张典型的电泳图谱以确保质量。毛细管（准直塞）和准直接口上均有颜色标记，使您可以轻松地实现毛细管与接口的正确相连。非安捷伦毛细管电泳系统的用户所用的毛细管具有无颜色标记的可拆装的准直塞。PVA 涂层毛细管可用于各种分离，包括在生理pH 条件下分析蛋白质、等电聚焦和小阴离子的分析，无需逆转电渗流的缓冲液添加剂。标准毛细管和扩展光程毛细管（“鼓泡”池毛细管用于高灵敏度分析）均可提供PVA 涂层的毛细管。两种类型的毛细管均可提供更长的长度，以便用于非安捷伦的系统。PVA 涂层毛细管还可用于高灵敏度检测池，以进一步将灵敏度提高到HPLC 的水平。此外，PVA 涂层毛细管也用于CE-MS 分析。毛细管还提供标准定位检测窗口，可实现UV-Vis 与质谱串联检测，以更好地进行样品鉴定。订货信息：用于非安捷伦CE 系统的PVA涂层毛细管*内径（μm）总长（cm）有效长度（cm）鼓泡因子光程长（μm）部件号507160050G160U-6121971603150G160U-6123910056450100G160U-6041971600100G160U-61419 *与硼酸盐缓冲液不相容注：在非安捷伦的系统上使用扩展光程毛细管时，如果轴向的狭缝宽度未减小，则可能会出现分离度下降。在安捷伦系统中，准直接口包含完全匹配的狭缝，以保持分离度

产品特点: PVA 涂层毛细管包含一层聚乙烯醇的永久性吸收层。此涂层减小了疏水性及静电溶质/管壁间的交互作用，并消除了电渗流(EOF)。通过采用专利沉积工艺，PVA 涂层可以在较大的pH 范围内（甚至在碱性条件下，pH 2.5-9.5）都是稳定的。这种稳定性允许使用各种常用CE 缓冲液。由于覆盖了石英表面，因此就可以分析许多蛋白质和胺类，而不会像在未涂层毛细管上那样形成拖尾峰。此外，由于消除了EOF，从而避免了繁琐的冲洗操作，而且改善了迁移时间的重现性。 每批PVA 涂层毛细管都要经安捷伦科技进行严格的测试，并且附有一张典型的电泳图谱以确保质量。 毛细管（准直塞）和准直接口上均有颜色标记，使您可以轻松地将毛细管与正确的接口相连。非安捷伦CE 系统用户的毛细管具有无颜色标记的可拆装的准直塞。 CEP 毛细管有永久键合聚合物涂层。这种CEP 涂层掩蔽了毛细管表面的硅醇基，避免了样品吸附。而且几乎消除了电渗流(EOF)，使毛细管适用于使用筛分聚合物缓冲液分离DNA类物质。EOF 的消除也简化了通过直接紫外检测分析阴离子和有机酸的方法。如果EOF 没有减小，高流动性离子（如硝酸根离子）就会像流动慢的长链酸一样向相反方向迁移。CEP 涂层毛细管在pH 2 到7-8 范围内稳定。它可以使用硼酸盐缓冲液提供不同的表面功能团，以减小样品的吸附。每批CEP 涂层毛细管都要经安捷伦科技的严格检验，而且每根毛细管都包括一张典型的电泳图谱，以确保产品质量。 订货信息: CEP 涂层毛细管，2 /包 内径(&mu m) 总长(cm) 有效长度(cm) 鼓泡因子 光程(&mu m) 部件号 7580.5 72 0 75 G1600-62318 为安捷伦毛细管电泳系统用户提供的PVA 涂层毛细管* 内径(&mu m) 总长(cm) 有效长度(cm) 鼓泡因子 光程(&mu m) 色标 部件号 50 64.5 56 0 50 绿色 G1600-61219 64.5 56 3 150 红色 G1600-61239 　 125 21.5 0 50 蓝色 G1600-67219 75 64.5 56 0 1200 G1600-68319 125 21.50 75 蓝色 G1600-67319 100 48.5 40 0 100 灰色 G1600-60419 　 64.5 56 0 100 灰色 G1600-61419 *与硼酸盐缓冲液不相容 注：用于CE/MS 的PVA 毛细管有一个蓝色的准直塞，与MS-UV 检测器的蓝色标记准直接口相匹配。用于CE/MS 的内径为50 &mu m 的PVA 毛细管的准直塞上有一个黑点以便于识别。 为非安捷伦毛细管电泳系统用户提供的PVA 涂层毛细管* 内径(&mu m) 总长(cm) 有效长度(cm) 鼓泡因子 光程(&mu m) 部件号 50 71 60 0 50 G160U-61219 71 60 3 150 G160U-61239100 56 45 0 100 G160U-60419 　 71 60 0 100 G160U-61419 *与硼酸盐缓冲液不相容 注：当在非安捷伦系统上使用扩展光程的毛细管时，如果轴向的狭缝宽度未减小，则可能会出现分辨率下降。在安捷伦系统中，准直接口包含完全匹配的狭缝，以保持分离度

透射电镜（TEM）用氧化硅薄膜窗格 氧化硅与氮化硅薄膜窗格比较： 相比氮化硅薄膜，氧化硅薄膜更适合用于含氮样本。在EDS研究中，如基片薄膜含氮，则会与样本造成混淆。 样本安置面：对多数用户来说，样本应安置在薄膜窗格的&ldquo 覆膜面&rdquo 而非&ldquo 蚀坑面&rdquo 。但我们也知道在一些特殊情况下，蚀坑面也可安置样本。除对样本进行原子力显微镜（AFM）观测外，蚀坑面本质上并非不可用于放置样本。实际上，没有一个显微镜的悬臂可以伸至蚀坑内&ldquo 看清&rdquo 薄膜表面。 产品规格： 氧化硅薄膜窗特点： 清洗：采用等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量； 均匀性：减少了不同区域的不均匀性； 稳定性： 耐高温，1000℃； 良好的化学稳定性：图像分辨率和机械强度达到理想的平衡； 化学计量比的SiO2：可用于氮气环境下的EDX分析； 氧化硅薄膜窗规格 窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度20nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm40nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm20nm3x3阵列，窗口100X100μmΦ3mm200μm40nm3x3阵列，窗口100X100μmΦ3mm200μm8nm窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24个网格，网格大小70x70μmΦ3mm200μm18nm窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24个网格，网格大小60x60μmΦ3mm200μm 40nm窗口0.5x0.5mm，氮化硅薄膜200nm；24个网格，网格大小50x50μmΦ3mm200μm 优点： SEM应用中，薄膜背景不呈现任何结构和特点。 x-射线显微镜中，装载多个分析样的唯一方法。 无氮 应用： 氧化硅薄膜应用范围非常广，甚至有时使不可能变为可能，但所有应用都有无氮要求（因样本中有氮存在）： ● 惰性基片可用于高温环境下，通过TEM、SEM或AFM（某些情况下）对反应进行动态观察。 ● 作为耐用（如&ldquo 强力&rdquo ）基片，首先在TEM下，然后在SEM下对同一区域进行&ldquo 匹配&rdquo 。 ● 作为耐用匹配基片，对AFM和TEM图像进行比较。 ● 聚焦离子束（FIB）样本的装载，我们推荐使用多孔薄膜，而非不间断薄膜。 氧化硅薄膜TEM网格操作使用： 如果正确操作，氧化硅薄膜将会拥有非常好的性能。相反，若用工具直接接触薄膜，则会即刻损坏薄膜。为防损坏，可用尖嘴镊子小心夹取，就像夹取其他TEM网格一样。 使用前清洁： 氧化硅薄膜窗格在使用前不需进行额外清洁。有时薄膜表面边角处会散落个别氧化物或氮化物碎片。由于单片网格需要从整个硅片中分离，并对外框进行打磨，因此这些微小碎片不可避免。尽管如此，我们相信这些碎片微粒不会对您的实验产生任何影响。 如果用户确实需要对这些碎片进行清理，我们建议用H2SO4 : H2O2 (1:1)溶液清洁有机物，用H2O:HCl: H2O2 (5:3:3)溶液清洁金属。 通常不能用超声波清洗器清洁薄膜，因超声波可能使其粉碎性破裂。 详细请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

201723代尔塔201723手套 乳胶涂层手套 棉手套 工作手套 劳保手套由上海书培实验设备有限公司提供，产品质量优越，价格实惠，欢迎客户来电咨询选购。产品介绍：丁腈涂层掌面和指尖，耐磨损性能极佳。弹性袖口，更好的贴合手腕，密封性能好。掌背无涂层，透气排汗，弹拉力好，佩戴舒适。超级柔软内衬，佩戴轻便舒适。产品特点：第一：超级柔软内衬，佩戴轻便舒适。第二：丁腈涂层掌面和指尖，耐磨损性能极佳。第三：弹性袖口，更好的贴合手腕，密封性能好。第四：掌背无涂层，透气排汗，弹拉力好，佩戴舒适。产品参数：名称：丁腈发泡无缝聚酰胺针织手套材质：合成纤维、丁腈涂层掌面和指尖颜色：黑色/灰色尺寸：25cm*11cm