大气等离子体处理机

等离子体表面处理（也称为大气等离子体）改善了聚合材料，橡胶，金属，玻璃，陶瓷等的润湿性能。修改难以粘合的材料的分子以获得更好的粘附性，而不会对表面造成伤害。等离子体表面处理（也称为大气等离子体）改善了聚合材料，橡胶，金属，玻璃，陶瓷等的润湿性能。修改难以粘合的材料的分子以获得更好的粘附性，而不会对表面造成伤害。等离子处理非常适用于三维塑料件，薄膜，橡胶型材，涂层纸板和较厚的材料，如泡沫和实心材料片材。该技术在许多工业领域，包括医疗，汽车，包装，FPC，手机和聚合物薄膜都是有效的。通常，泡沫，玻璃，塑料片和波纹材料具有较差的润湿性，需要用到等离子表面处理，常规的应用有：1、塑料片通常需要在整理应用前进行表面处理。2、玻璃表面的疏水性质引起许多粘合困难。3、在涂装，印刷或涂布之前，很多材料通常需要微处理。由于它们的材料组成和不平坦的表面，波纹塑料板和壁板抵抗后处理应用。等离子处理系统通过成熟的技术来处理这些问题，来实现高性能和高效的生产是可以的，因为我们的电晕和等离子体系统增加了油墨，涂料和粘合剂与基材的粘结。等离子清洗系统专为电晕处理多达3mm厚度和660 mm宽的塑料片而设计。 它非常适合生产线或手动处理站，用于简单，基于配方的操作，产生大量的等离子体，来增加表面性能活化处理效果，从而在基材和油墨，层压板，涂料和粘合剂之间形成牢固的粘合。 该系统可以在印刷或层压之前进行设置，也可以作为独立的手动系统使用。通过高能量电晕场。 内置传感器自动告知系统何时打开和关闭治疗。 过程控制界面提供均匀，可靠和可重复的表面处理。目 前，达因特已经创建了大气和真空两类不同的等离子处理专用系统，用于表面处理厚度达到2米宽的厚和敏感材料，如板，玻璃，挤压中空板，泡沫，蜂窝材料和印刷电子。 线性等离子体系统可以配置为产生无电位处理，防止对精细基板和嵌入式电路造成损坏。在电晕和等离子体表面处理系统中提供先进的技术，为客户提供真正，经济高效的粘合，印刷和涂层应用解决方案。1、 通过研究，专业知识，创新和经验将优质的产品带到国内市场。2 、提供全系列的标准和定制产品，以满足客户的需求，无论项目的规模和范围如何。3 、通过认真协作，优质的产品和优质的服务建立积极的，长期的客户关系。4 、培养在职业，道德和安全环境中提供员工工作满意度的工作环境。当需要将塑料材料粘合到金属或其他塑料上时，要在塑料，硅胶，橡胶，玻璃或复合材料表面上印刷或涂层，则成功的结果取决于对该表面的粘合性。等离子体表面处理改变了表面（人眼不可见），并改善了许多应用的粘合。粘合强度依赖于一种特定的性能：表面能或张力。

北京中海时代科技公司提供等离子plasma表面处理设备，致力于压电低温等离子体表面清洗处理、表面活化改性领域多年，等离子表面处理技术已被广泛应用到工业、医疗、科研等行业。我们为您提供可靠的等离子表面处理解决方案。 德国瑞龙进口手持常压等离子体表面处理仪活化清洗处理机优势 无需化学处理或机械处理 高效脉冲大气等离子体手持装置对大型部件灵活操作和完善品质 优化地易于使用和为操作者的安全 手推车设计方便工业环境的各处使用 完全自动的空气压缩机供应集成在设备内部 双手操作和信号灯先进保护和提醒操作者和第三方 特征 独立的单位 单人易搬运 无需配备PLC只需要电源插座 强大和易于使用 没有压缩空气或质量流量控制要求 不同工艺/基板/几何图形皆可表面处理可实行的应用 活化表面能 杀菌和消毒 涂层和喷涂 超精细清洗 去除氧化物 粘接预处理 应用以下工序预处理 胶粘 印刷 印染 铸造 层压 发泡 涂层 清洗 键合 密封

PlasmaDyne Pro 1000s Treating System 大气等离子体处理系统 采用大气等离子技术处理各种表面，如塑料，橡胶，玻璃，金属，纸板和复合材料。大气等离子体清洗去除杂质及表面有机污染物并改变基质分子结构，重新构造表面的化学性质，从而在基材与粘合剂，涂料，层压材料，涂料和油墨之间形成强大的粘合，提高表面能量。PlasmaDyne Pro 1000s采用大气等离子技术处理各种表面，如塑料，橡胶，玻璃，金属，纸板和复合材料。大气等离子体清洗去除杂质及表面有机污染物并改变基质分子结构，重新构造表面的化学性质，从而在基材与粘合剂，涂料，层压材料，涂料和油墨之间形成强大的粘合，提高表面能量。处理头内的高压电流通过加压将等离子体施加到基底上，针对各种应用调整功率及处理水平，固定处理头的宽度为10-12 mm。 可定制一个或多个固定或旋转头，可作为独立单元或合并到其他生产线中运行，先进的控制系统确保均匀的可重复性的表面处理工作。功能和特点：1．可调节的功率水平高达600W（以达到理想的处理水平 - 提高功率，提高抗性基板的表面能力，或降低精密基板的功率）。2.一个或多个固定处理头的标准独立单元包括紧凑，耐用的焊接和粉末涂层钢柜和控制系统，前门控制面板，侧面远程连接器，高压变压器，和处理头的空气供应系统。3.彩色触摸显示屏，用于监控所有系统参数，包括故障排除和提供故障日志并下载功能。4.结构紧凑，经济实惠。5.工作场所安全，不产生臭氧。6.紧凑的设计可轻松集成到新的或现有的生产线中。7.配备活动配件，可提供3/8“至1/2”的处理带或5/8“，1 1/2”，2的扩展宽度，带有旋转/宽喷嘴选项。8.独立的供气系统使用直流，低压的自动鼓风机，以避免其他系统产生的压缩空气污染。9.低/高等离子处理水平报警，以确保一致的质量结果。如果处理过程中受到损害，系统将停止运行。10.完全可定制，可满足您独特的表面处理应用，最多可配置20个处理头。PlasmaDyne易于使用，操作具有成本效益，可靠且安全。易于集成和操作 - 可轻松集成到机械臂或往复机上，更直观，提高生产率。减少停机时间和维护 - 最小元件和先进的组件相结合，意味着更平稳的操作和更长的系统寿命。专为快速更换应用而设计 - 轻松编程和调整配置可大限度地减少停机时间。环保 - 无需使用有毒的底漆和溶剂，减少VOC排放。便于使用紫外线技术。节省成本的耐用性和灵活性 - 这意味着对导电，半导电和非导电区域进行低维护和均匀处理。PlasmaDyne专为快速更换和产品定位而设计，可大限度地减少停机时间，同时提供一致的处理。 PlasmaDyne的旋转头可处理更广泛的区域，大气等离子体可为您的应用提供表面功能。有多种旋转头可供选择。 PlasmaDyne的固定头在机械臂的帮助下可处理狭窄的凹槽

北京中海时代科技公司提供等离子plasma表面处理设备，致力于压电低温等离子体表面清洗处理、表面活化改性领域多年，等离子表面处理技术已被广泛应用到工业、医疗、科研等行业。我们为您提供可靠的等离子表面处理解决方案。 德国瑞龙进口等离子发生器电源表面活化清洗处理机优势 操作简单直观确保清洁的环境通常的工作环境下等离子高效处理可选完全独立的空气供应和19英寸机架 可选过滤器清洗排气，不需外部抽吸装置该系统经测试并完全安装，简单即插即用可选软件和触摸屏，显示和存储所有的工作序列和参数根据应用程序，可以选项配件，所有选项都很容易升级 强大的笛卡尔轴系统和可靠的等离子体发生器的多功能性尽善尽美可实行的应用 活化表面能 杀菌和消毒 涂层和喷涂 超精细清洗 去除氧化物 粘接预处理 应用以下工序预处理 胶粘 印刷 印染 铸造 层压 发泡 涂层 清洗 键合 密封

北京中海时代科技公司提供等离子plasma表面处理设备，致力于压电低温等离子体表面清洗处理、表面活化改性领域多年，等离子表面处理技术已被广泛应用到工业、医疗、科研等行业。我们为您提供可靠的等离子表面处理解决方案。 德国瑞龙进口等离子发生器电源表面活化清洗处理机性能特点 高功率密度脉冲点火增加粘结可靠性和稳定性 易与生产线设备集成一体化 生产可控性强，品质一致性好易于CAN BUS通信控制系统集成 显著提高产品的表面预处理质量 不损害基体表面情况下改善活化性能 全程干燥处理，无需化工溶解剂和水可实行的应用 活化表面能 杀菌和消毒 涂层和喷涂 超精细清洗 去除氧化物 粘接预处理 应用以下工序预处理 胶粘 印刷 印染 铸造 层压 发泡 涂层 清洗 键合 密封

宽幅线性等离子清洗机SPK500S技术规格书 深入表面 魅力科学（1）产品简述（1.1）等离子清洗的作用等离子清洗的作用原理主要是：（A）对材料表面的刻蚀作用--物理作用等离子体中的大量离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子，作用到固体样品表面，不但清除了表面原有的污染物和杂质，而且会产生刻蚀作用，将样品表面变粗糙，形成许多微细坑洼，增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。（B）激活键能，交联作用等离子体中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的键能在0~10eV，因此等离子体作用到固体表面后，可以将固体表面的原有的化学键产生断裂，等离子体中的自由基与这些键形成网状的交联结构，大大地激活了表面活性。（C）形成新的官能团--化学作用如果放电气体中引入反应性气体，那么在活化的材料表面会发生复杂的化学反应，引入新的官能团，如烃基、氨基、羧基等，这些官能团都是活性基团，能明显提高材料表面活性。 （1.2）大气线性等离子清洗的优势等离子清洗作为重要的材料表面改性方法，已经在众多领域广泛使用。与传统的一些清洗方法，如超声波清洗、UV清洗等，具有以下优点：（A）处理温度低处理温度可以低至80℃、50℃以下，低的处理温度可以确保对样品表面不造成热影响。（B）处理全程无污染等离子清洗机本身是很环保的设备，不产生任何污染，处理过程也不产生任何污染。可以与原有生产流水线搭配，实现全自动在线生产，节约人力成本。（C）处理效果稳定等离子清洗的处理效果非常均匀稳定，常规样品处理后较长时间内保持效果良好。（D）可以完美搭配自动化流水线，提高生产效率根据用户现场需求，配置最优的流水线生产方案，大大提高生产效率。 （1.2）产品原理等离子清洗机的结构主要分为三大组成部分，分别是高压激励电源、等离子发生装置喷枪、控制系统。（A）高压激励电源：等离子体的产生需要高压激励，大气线性等离子采用射频电源进行激励，频率为13.56MH，激励均匀稳定。参数根据样品实际情况可进行调节，已达到最优的改性效果。（B）等离子发生装置喷枪：大气线性等离子发生装置采用进口设计的放电装置，放电效果均匀，处理高度高。（C）控制系统：控制系统作用在于控制整个大气线性等离子清洗设备的运行，以及整体系统的保护。 （1.3）晟鼎简介晟鼎精密，致力于为用户提供表面性能处理及检测整体解决方案，自主研发生产及销售等离子清洗设备、接触角测量仪、全自动百格刀、表面洁净度仪、达因笔等表面性能处理及检测产品。公司由多年从事表面性能研究的团队组成，立志发展民族工业品牌。坚守持续创新的宗旨，晟鼎精密通过不懈努力和过硬的产品品质，以及专业优质的服务，已经赢得国内外广大用户的一致认可。不但产品系列完善齐全，晟鼎精密还具有严格的产品生产标准，高精度的数控加工机床等精密生产设备、还有进口的质量检测工具，以及科学规范的管理体系，确保提供给用户的每一套产品都是精益求精。至今，晟鼎精密的产品已经广泛应用汽车制造、手机制造、玻璃光学、材料科学、电子电路、印刷造纸、塑料薄膜、包装技术、医疗医用、纺织工业、新能源技术、航天军工、手表首饰等等领域。晟鼎精密将继续孜孜不倦，为“向全球提供最具性价比的表面性能处理及检测整体解决方案”的奋斗目标而不懈努力！ （2）技术规格基本参数设备尺寸1750L * 1200W * 1500Hmm重量100KG输入电源220V，50/60Hz功率600W保护防护过载保护、短路保护、断路保护、温度保护电源参数电源功率600W可调电源频率13.56MHz放电装置参数有效处理宽度500mm处理高度5mm其它参数传送带传输速度0-60mm/s可调气路控制Ar、O2、N2，三路可选PLC控制西门子、松下系列（3）性能优势（1）德国电路技术：采用德国高压激励电源电路技术，产生高密度等离子体，确保出众的清洗效果。（2）全面安全防护：温度安全防护功能，过载防护功能，气压失常防护功能，短路断路报警防护功能，各种误操作保护功能。（3）独有放电技术：特殊处理及特殊结构的放电装置，确保形成稳定均匀的等离子体。（4）搭配流水线生产：根据用户现场需求，配置最优的流水线生产方案，大大提高生产效率。（5）优质产品部件：产品全部部件采用国内外顶尖优质部件，确保设备性能优越（6）线性清洗：满足不同场合温度要求，不对清洗产品造成温度影响（7）精密数控加工：进口精密CNC数控机床加工工艺，并配备进口三坐标测量仪进行质量监控.

等离子处理机批发公司：诚峰智造喷射型AP等离子处理系统CRF-APO-RP1020-D名称（Name）喷射型AP等离子处理系统型号（Model）CRF-APO-RP1020-D电源（Power supply）220V/AC,50/60Hz功率（Power）1000W/25KHz处理高度（Processing height）5-15mm处理宽幅（Processing width）20-80mm（Option）内部控制模式（Internal control mode）数字控制外部控制模式（External control mode）RS485/RS232数字通讯口、模拟量控制口工作气体（Gas）Compressed Air （0.4mpa）产品特点：可选配多种类型喷嘴，使用于不同场合，满足各种不同产品和处理环境；具有RS485/232数字通讯口和模拟量控制口，满足客户多元化需求。设备尺寸小巧，方便携带和移动，节省客户使用空间；可In-Line式安装于客户设备产线中，减少客户投入成本；使用寿命长，保养维修成本低，便于客户成本控制；应用范围：主要应用于电子行业的手机壳印刷、涂覆、点胶等前处理，手机屏幕的表面处理；国防工业的航空航天电连接器表面清洗；通用行业的丝网印刷、转移印刷前处理等。

等离子体发生器水处理气体转换反应器应用北京中海时代科技有限公司提供等离子plasma表面处理设备，致力于压电低温等离子体表面清洗处理、表面活化改性领域多年，等离子表面处理技术已被广泛应用到工业、医疗、新能源、化学、食品、科研等行业。我们为您提供优化的等离子表面处理解决方案。 冷等离子体发生器水处理气体转换反应器水处理应用特点&bull 使用大气空气减少运营成本&bull 按下按钮即可产生等离子体&bull 操作参数空间大 &bull 有效对抗有机和无机污染物&bull 结合水反应器对废水进行等离子体气泡催化 应用领域 &bull 药品&bull 染料&bull 抗生素&bull 杀虫剂&bull 微生物&bull 1,4-二恶烷&bull 内分泌干扰物 性能特点 操作参数范围大 激发冷等离子体 可进行生物催化应用 可进行气体催化应用 可进行液体催化应用 控制放电时间到秒级 可运行多个放电反应器 可互换反应器的多种应用 按下按钮即可产生等离子体 与水反应器配套催化产生等离子体气泡操作可使用空气、气体、活性水、溶液

PLASMA SURFACE TREATMENT等离子体表面处理HPT系列小型等离子体处理机/清洗机来自英国Henniker Scientific的HPT系列小型等离子处理装置是一款进行表面处理的理想装置，可用于多种材料的表面活化、清洗及改性，全自动5.7英寸液晶屏操作，两路的进气装置可使您选择很好的处理工艺，包括但不仅限于空气、氢气、氩气、氮气及其它气体，亦可对纯气体进气系统进行扩展至蒸汽进气，应用领域十分广泛。等离子体清洗表面活化改善粘着性功能涂镀等离子刻蚀PDMS & PEEK& PTFE表面处理金属、陶瓷、玻璃表面预处理聚合物沉积表面残留物去除优势- 桌上型紧凑结构- 简易TFT操作界面- 自动存储- 快速自动处理- 高精确性&高重复性

普特勒等离子清洗机综合应用领域等离子表面处理这门工艺现在正应用于LCD、LED、IC，PCB，SMT、BGA、引线框架、平板显示器的清洗和蚀刻等领域。、等离子表面清洗过的IC可显著提高焊线邦定强度，减少电路故障的可能性；溢出的树脂、残余的感光阻剂、溶液残渣及其他有机污染物暴露于等离子体区域中，短时间内就能清除。PCB制造商用等离子处理来去除污物和带走钻孔中的绝,缘物。对许多产品，不论它们是应用于工业还是电子、航空、健康等行业，其可靠性很大一部分都依赖于两个表面之间的粘合强度。不管表面是金属、陶瓷、聚合物、塑料或是其中的复合物，经过等离子处理以后都能有效地提高粘合力，从而提高最终产品的质量。等离子表面处理在提高任何材料表面活性的过程中是安全的、环保的、经济的。 金属陶瓷、塑料、橡胶、玻璃等表面常常会有油脂油污等有机物及氧化层，在进行粘接绑定油漆键合焊接铜焊和PVD、CVD涂覆前，需用等离子表面处理来得到完全洁净和无氧化层的表面。等离子表面清洗技术在半导体行业、航空航天技术、精密机械、汽车工业、医疗、塑料、考古、印刷、纳米技术、科研开发、液晶显示屏、电子电路、通讯及手机零部件等广泛的行业中有着不可替代的应用。

等离子体清洗好处,对PTFE进行等离子活化处理,蚀刻工艺,为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺,并得到了应用,等离子体清洗与其它清洗方式对比表.等离子体清洗好处：　１、其除去了有机层（含碳污染物），其会受到例如， 氧气 和空气的化 腐蚀，通过超压吹扫，将其从表面去除。　　　通过等离子体中的高能量粒子，脏污会转化为 稳定的小型分子 ，并借此将其移除，处理过程中脏污的厚度只允许达到 几百纳米 ，因为等离子的清除速度仅能够达到每次几 nm。　　　脂肪含有诸如锂化合物之类的成分。仅能够除去其 有机成分 。这一点同样适用于指纹。故此，建议戴手套。　２、还原氧化物　　　金属氧化物会和工艺气体发生化学反应。作为工艺气体，使用了氢气和氩气或氮气的混合物。等离子体射流的热效应可能会导致进一步的氧化。故此建议在惰性气体环境下进行处理。常压等离子激活处理主要用于哪些方面？　　这种技术非常适用于以下工艺过程：　１、在粘合之前对塑料进行局部的等离子活化处理　２、在粘合、植绒、印刷（例如，汽车行业中的橡胶型材）之前，对弹性体进行等离子活化处理　３、在粘合或者粘接之前，对金属和陶瓷表面进行局部的等离子活化处理　４、极为适合在直接于移印机中移印之前，对塑料零部件进行处理。用常压等离子体进行活化处理能够为我们带来哪些主要优势？　技术适用于在线工艺，例如，在对连续型橡胶型材、软管进行印刷、胶粘，植绒或者涂层之前进行等离子活化。　等离子体清洗与其它清洗方式对比表：应用用途和特性低压等离子体的优点低压等离子体的缺点常压等离子体的优点常压等离子体的缺点普通的等离子体生成在等离子腔体室中均匀分布等离子体，腔室体积可变复杂的真空技术，在线等离子处理应用受到一定的限制可以直接在输送带上进行等离子处理，适用于在线处理，无需任何真空技术由于等离子体激发原理的原因，等离子处理痕迹有限，处理较大的对象的时候，必须使用多个喷嘴对金属进行处理可对易氧化的对象进行等离子清洗进行微波激发的时候，对象上可能会相应产生能量，这会造成对象过热对铝进行等离子处理的时候，可以生成很薄的氧化层对易氧化的对象进行等离子清洗，受到一定的限制对聚合物弹性体进行处理无法对PTFE进行等离子活化处理，蚀刻工艺，为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺，并得到了应用某些材料需要用到较大型的泵，以便达到必须的工艺压力无法对连续型对象进行预处理，工艺时间很短等离子射流的温度为约 200 - 300 °C。必须对表面的工艺温度进行很好的调节，以防止着火（很薄的材料）3D对象对等离子体腔室中的所有对象进行均匀处理。即使是中空腔室也可以从内部进行处理（例如，点火线圈、水箱等）未知可进行局部表面处理（例如，粘结槽口）需要使用复杂的多关节型机器人技术。常压等离子体的间隙渗透性受到一定的限制散装部件通过转鼓法可以对散装部件进行均匀的等离子处理。零部件的件数和体积可以有所不同其仅能够使用转鼓的 1/3 体积（建议）可以直接在输送带上处理对象对象必须极为精确的定位在输送带上电子，半导体技术借助低压等离子体对电子元件、电路板和半导体部件进行等离子处理是先进的技术。未知金属或者 ITO 触点可在粘接处理之前进行等离子预处理（例如，LCD、TFT 和芯片的生产）涂层工艺生成均匀的涂层。研发了很多 PECVD 和 PVD 工艺，并得到了应用可能会造成等离子体腔室的污染具有很多的工业用途尚不具有任何的工业用途

低温等离子清洗机,达因特厂家生产,用于清洗的等离子体处理在医疗器械和许多工业中有许多好处，等离子体清洗可以通过标准化学聚合技术产生类似的性质。在低温等离子体发生器中的物理过程的研究中，研究紊流，对电弧的影响，及允许能达到电场强度的最高值，在很大程度上决定了建立大功率等离子体发生器的可能性，等离子体发生器和电流在气流中理论研究可以用两种方式进行，完全的分析解，导电气体的议程和某些相应关系考虑平均参数的紊流。最初在等离子体发生器中紊流流动的计算表明，随着电流的增加，即在等离子体发生器管道中放热的增加，此时的电场强度越来越接近于在 层流中的电场强度，到现在还弄不清楚的是，这是与实际的层流流动相联系，这是仅在数值上一致。当这个分子迁移的过程开始大大的超过涡流，我们认为紊流流动的层流化是一种物理现象，为了弄清楚实际上电弧的存在是否促进了分子迁移过程的增加，需要探讨在等离子体发生器中圆管道的定场流动。由于电弧放电的区域开成了热解离的等离子体混合物，所以存在离子和自由碳原子，而且碳可以沉积在电弧发生器的内表面，因此就存在一种阴极材料的自稳定过程，这个过程产生时，碳的离子流在电场力的作用下发生运动。而碳的反方向流动是在阴极表面的蒸发，这样它们之间就建立发动态平衡，在工业设备上，这个工况的实现就使得电极的连续运行时间大大增加，实验证明靠近阴极表面的流场显著影响了电极的工况，所以数学模拟的主要目的是研究气体动力学的详细图像以及它们对靠近阴极区域的过程的影响，这里必须弄清楚一个条件，即如何实现阴极的自恢复过程，同时要解释等离子体发生器的工况特性和结构对这些过程的影响，必须考虑化学激活等离子体，而且还包括对流换热和等离子体气体流动的特性，因这它们也发生在等离子体发生器的流动过程中。用于清洗的等离子体处理在医疗器械、电子和许多工业中有许多好处。沉积是用来将薄膜均匀地应用到基材上，从而在广泛的最终用途产品中呈现出独特的独特的表面特性，而不是天然地发生在原始基材的物理行为中。等离子体清洗机（或辉光放电清洗合）利用等离子体源产生气体放电，以激活或裂解气体或液体单体，通常含有乙烯基，以引发聚合。由这种技术形成的聚合物通常高度分枝，高度交联，并牢固地附着在固体表面上。这个过程的最大优点是聚合物可以直接连接到所需的表面，而链的生长，减少了其他涂层过程，如接枝所需的步骤。这是非常有用的无针孔涂层的几纳米到许多微米厚度与溶剂不溶性聚合物。等离子体清洗可以通过标准化学聚合技术产生类似的性质。适当控制等离子体参数可以保持单体的特性，从而产生具有预期功能特性的薄膜。官能团如羧基胺或非常有用，当接枝膜随后到或作为生物相容性表面。等离子聚合物有助于消除弹性体的粘性，可用于将表面由疏水改为亲水，反之亦然。当聚合物沉积在其它聚合物上时，等离子体聚合物作为屏障层非常有用。由于等离子体清洗直接从单体沉积，因此没有由于湿化学合成或溶剂而产生的废物流。等离子清洗可以精确控制薄膜厚度。达因特 等离子体清洗机产品系列增加了蒸汽输送能力，使液体单体前体可以被加热成蒸汽并通过蒸汽流量控制器传递到真空室。气态单体将通过标准质量流量控制器（MFC）传递到腔室，在前驱体单体传递到腔室之后，等离子体能量被接通，激发单体，引发聚合过程。聚合物在腔室内部的所有表面上形成，包括待处理的部分。这样的结果是非常均匀的膜处理过的部分，使在角落和缝隙，不会容易沉积，如果使用聚合物沉积的替代形式。

我公司新研发的《低温等离子表面处理机》是采用德国先进技术、在国内生产、机子内部好多器件是在国外采购，对是现在等离子表面处理机行业的高新技术产品。我公司等离子处理机应用领域广泛：可应用于刹车片处理。糊盒、湖箱、光缆厂、电缆厂、制鞋厂的鞋底与鞋帮得粘接、汽车玻璃涂覆膜之前的清洁，经过等离子机处理，使其更容易粘接牢固、汽车灯上的粘接工作、玻璃与铁的粘接、纺织、塑胶、纸张、印刷及光电材料还是金属等, 都能经由等离子处理技术，能充分满足后续制程的要求(如涂装、贴合、印刷)主要应用于印刷包装行业，直接与全自动糊盒机联机使用。主要用来对覆膜、uv上光、高分子、金属、半导体、橡胶、pcb电路板等各类复杂材料进行表面处理，杜绝开胶问题。在光缆电缆的应用去除毛刺、增大附着力、使字体更清晰、喷码等方面的应用。还可以清晰玻璃：去除油污、灰尘等以达到清晰的效果。还可以应用到汽车玻璃封条的粘接、经过等离子机处理可使玻璃张力增大；故玻璃封条粘接会更加牢固。经等离子处理机处理后可使物体表面改性，从而达到要处理的效果。也是糊盒机开胶克星。产品特点1，改性仅发生在材料的表面层，不影响基体同有性能，且处理均匀性好:2，作用时间短( 几秒到几十秒)，温度低，效率高: 3，对所处理的材料无严格要求，具有普遍适应性:4，不产生污染，无需进行废液，废气的处理，节省能源，降低成木:几何形状无限制:大或小，简单或复杂，部件或纺织品，均可处理5，工艺简单，操作方便。6，大幅提高表面的润湿性能，形成活性的表面7，不需要消耗其他能源(如煤气)，启动仪需220V电源和压缩空气。低温等离子表面处理、宽幅等离子表面清洗机、精密玻璃表面清洗、塑胶表面活化、复合材料表面改性应用领域★ 光电及电子行业应用 各种玻璃表面清洗，提高玻璃表面亲水性，优化玻璃镀膜、印刷、粘合及喷涂等工艺； 柔性和非柔性印刷电路板触点清洁、LED 荧光灯“触点”清洁及提高表面点胶的牢固性； 电子元件、PCB 清洗、IC 等表面清洁、活化增强绑定性等； LCD 端子贴合前等离子清洗；★ 汽车行业应用 汽车 EPDM 密封条、植绒和涂层前预处理替代使用底涂； 汽车车灯底座、沟槽、刹车片、保险杠等粘接、喷涂前等离子预处理； 汽车防扎轮胎打胶前预处理； 新能源汽车锂电池极片焊接、包膜前表面活化、清洗等；★ 塑料行业应用 PP、PVC、PET、PC、PE、 PTFE 等各类塑材料喷涂，印刷，电镀，粘接和植绒的前处理。 各种塑料、硅胶、橡胶、金属等材料喷涂，印刷，电镀，粘接前表面改性、去除表面污染物等； 手机、电脑、玩具等塑料外壳印字、喷漆前预处理，提高表面附着力； 塑料化妆品瓶印字前预处理，提高表面附着力可防字脱落提高产品质量；★ 包装行业应用 专业提高覆膜纸、上光纸、磨光、金银卡、镀铝纸、UV、OPP、PP、PET 等彩盒、彩箱表面糊盒的牢固性；奶粉罐、饮料罐焊接前等离子预处理等；★ 印刷及喷码行业应用 对塑料、金属、玻璃等复合材料表面移印、丝印、喷码前等离子预处理，提高材料表面对油墨的附着力； PE、PTFE、硅橡胶电线电缆喷码前处理； PVC、PET、ABS 智能卡片喷码前预处理；★ 家电行业应用 日用品、家电产品表面涂装、喷涂、粘结前等离子活化，提高产品表面附着力、接合力等。 养生壶发热盘等离子清洗增强胶水的粘接力、牢固度等；

Aurora Z10冷等离子体种子处理仪统提供“Activated Air”活性气体，就像雷击周围的空气一样，可以改善种子健康，提高整体植物产量。冷等离子体种子活化过程的核心优势是提高发芽的一致性和发芽率以及幼苗的生长速度，这反过来又提高了种植者的产量和产量。该系统是移动的，需要外部电源和互联网连接。系统通过云连接，远程机器监控易于掌控整个活化过程。特点：&minus CEA的先进种子健康系统，冷等离子体促进种子健康和作物产量&minus 仅使用空气和电力，不添加化学物质&minus 低工作功耗（200W）&minus 专为垂直农场和温室设计规格：样品仓：10L处理量：2升（1公斤）的种子10.4英寸触摸显示屏远程监控控制超低功耗小于200w重量：143Kg

等离子体热处理炉为德国生产，具有等离子清洗、表面处理、材料表面修饰、材料热处理的功能。 仪器特点及基本参数：具有等离子体清洗、表面修饰、表面处理、表面活化的功能；具有真空能力(10-5mbar)；芯片倒装凸点(Bump)；凸点焊接；键合；功率器件焊接；样品尺寸：170X200mm，或300x300mm；温度：650摄氏度；24支红外灯加热；2路MFC气路；

北京中海时代科技公司提供等离子plasma表面处理设备，致力于压电低温等离子体表面清洗处理、表面活化改性领域多年，等离子表面处理技术已被广泛应用到工业、医疗、科研等行业。我们为您提供可靠的等离子表面处理解决方案。性能特点 手持操作 专为敏感基材设计 等离子功率密度高 高效激发冷等离子体 产生温度 50 °C冷等离子体

北京中海时代科技公司提供等离子plasma表面处理设备，致力于压电低温等离子体表面清洗处理、表面活化改性领域多年，应用领域 接合技术 小批量生产加工 医疗和牙科技术 实验室的研发设备 原型和样品模型制造 生产流程的开发和优化 微生物、微流体以及食品生产 优势 可替换模块功率密度非常高 压电直接放电控制 小体积紧凑型便捷 气体分子的激发是高效而安全的 注重产品的可用性以及界面友好性 潜在用途精细清洁 杀菌消毒和祛除异味提高材料表面润湿性各种基础材料表面的活化加工处理 优化黏合、喷漆、印刷以及涂层处理工艺 塑料、玻璃、陶瓷、金属、半导体、天然纤维以及复合材料的表面加工处理技术参数供电电源：110-240伏 / 50-60 赫兹交流电功耗：18 瓦重量：110 克产品组成：手持式设备带电源线，集成风扇音量：45 分贝等离子体温度：不超过 50 摄氏度加工处理速度：5 平方厘米/秒加工处理距离：2 – 10 毫米加工处理宽度：5 – 29 毫米过程控制：秒表、定时器、节拍器

PE-75等离子体清洗机作用于材料表面，使表面分子的化学键发生重组，形成新的表面特性，对某些有特殊用途的材料，在超清洗过程中等离子体表面处理仪的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性，并可消毒和杀菌。广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。* 清洗晶体、天然晶体和宝石；* 清洗半导体元件、印刷线路板；* 清洗生物芯片、微流控芯片；* 清洗沉积凝胶的基片；* 高分子材料表面修饰；* 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌；* 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。 等离子体表面处理仪技术参数：设备型号：PE-75腔体尺寸：圆柱形腔体，内径10.75英寸（273mm）x深度10英寸（254mm）；腔体材质：T-6铝合金一体成型；腔体容积：13.8升；射频电源：13.56MHz；0~150W自动调节；工作压力范围：1-2000 mT；气体流量控制：0-25cc/min带精密针阀；皮拉尼真空计： 0-1Torr；选配：1、400W，50KHz；2、100W,13.56 MHz；（自动匹配网络） 3、300W,13.56 MHz；（自动匹配网络） 4、Venus PC控制功能，可以通过MFC控制气体；

FOR SURFACE MODIFICATION - CLEANING - ACTIVATION - ETCHING - DEPOSITION表面改性（亲水性和赤水性），等离子清洁，等离子活化，刻蚀以及反应离子刻蚀，等离子沉积等应用 GlowResearch是美国著名的真空系统解决方案供应商，其旗下的OptiGlow和AutoGlow全自动多功能等离子表面处理系统应用于小型生产及研发实验室的使用和发展历史已经超过了20年，随着研发提升及软硬件更新，现在的系统不但拥有使用的高稳定性和高效率外，其集成化设计和友好操作界面使得用户上手操作及参数调整都非常简易。其全球客户群已经超过了3000多套，遍布欧美各大著名的微纳米加工实验室及化学生物实验室，著名包括莱斯大学，麻省理工学院，哈佛大学，尤利希中心，法国生物化学与生物分子研究中心，法国应用光学研究所，德国生物技术研究所，德国航空航天研究所，德国马普所，英国国家工程实验室等等。射频等离子体是最广泛使用和通用性好的等离子体技术，它应用于医疗和半导体的宽广领域内。在通用工业/医疗行业，需要清洁、涂覆或化学改性的材料表面被浸入到射频等离子体的能量环境中，除了射频等离子体的强烈的化学作用外，其定向效应也起到了一个重要的作用。携带动量的粒子到达材料表面后可以物理地去除更加化学惰性的表面沉淀物（如金属氧化物和其它无机物沉淀）以及交联聚合物以锁定等离子体的处理。AutoGlow—高纯度石英样品室和石英样品托，3个气体流量质量控制器，150mm基底尺寸，13.56 MHz射频激发等离子体可变功率从10到300W，全自动协调校准，压力可读，氮气清洗，CE认证标识。电容耦合的，只需按一个按钮便可全自动操作整个处理流程。使用在等离子清洁，键合前处理包括活化胺化产生官能团, 刻蚀薄膜，去除有机物，光刻胶灰化等。桌面紧凑式设计，最低可在10W功率运行。 AutoGlow 200—可以处理200mm基底（8寸晶圆），和反应离子刻蚀RIE(可选ICP电感耦合等离子体源）和等离子体处理。3个气体流量质量控制器–氧气，氩气或氟化气体（CF4或SF6）, 13.56 MHz射频激发等离子体可变功率从10到600W，全自动协调校准，，压力可读，氮气清洗，CE认证标识，高品质铝样品室。使用在等离子清洁，键合前处理包括活化胺化产生官能团, 刻蚀薄膜，去除有机物，光刻胶灰化等。桌面紧凑式设计，最低可在10W功率运行。具有观察窗用来监控OES发射光谱和处理终点检测。 Rice University has an AutoGlow in the Halas Research Lab. The system is used for removal of polymer resists for applications in plasmonics and nanophotonics and prepare samples for surface-enhanced molecular spectroscopy. Harvard University’s AutoGlow system in the Gordon McKay lab. The system is used for organic removal, surface modification and serves the needs of several researchers working on DNA research and human genome sequencing. Pictured is the AutoGlow at the Microsystems Technology Lab at MIT. This AutoGlow is used for Photoresist removal, cleaning and surface modification. This lab does research in MEMS, BioMEMS, Nanotechnology and Photonics. 全自动控制系统可以使用户轻松进行操作处理样品, 一旦系统检测真空达到预设真空值后, 便自动开启并控制气体流量进入, 这个过程不需要任何其他操作因素. 系统也可配置两路或三路气源和同时使用不同比例的混合气源（比例可以任意调整）然后通过一个额外的阀门来自动调整任意比例两种不同混合气源.系统特别设计用于等离子体表面处理包括光刻胶灰化, 有机物去除, 清洗, 活化, 改性, 沉积和刻蚀, 具有功能多, 易操作性强, 全自动化无需调试, 可靠性高, 低成本等优点, 广泛应用于半导体制造, 微电子加工, 生命科学制造和前处理等. 可适用多种工艺气体, 如氩气Ar, 氧气, 空气及氟化合物如CF4或SF6, 通过两个气体质量流量控制气体以及特殊阀门控制任意气体混合比例. 除了结构紧凑和集成度高外, 出色的射频激发等离子体配合出色的工艺控制, 失效保护系统和数据采集系统使其很容易使用在实验室和生产环境中。 湿法刻蚀的缺点在于各向同性横向侧面刻蚀和垂直刻蚀是一致的速度。干法刻蚀的目的在于制作一个各向异性刻蚀-意味着刻蚀是定向的。一个各向异性刻蚀性能对于一个好的微纳图形转移是至关重要的。反应离子刻蚀RIE就是这种标准的干法刻蚀方式。RIE典型的反应气体是O2 和 CF4. 功能一：Plasma Cleaning等离子清洗： 应用于： - 金属表面超精细清洗 - 塑料与弹性体表面处理 - 一般玻璃表面陶瓷表面处理和清洗 - 去除样品表面氧化物和碳污染物 功能二：Plasma Surface Activation等离子表面活化功能三：Plasma Coating 等离子镀膜功能四：Plasma Surface Etching 等离子表面刻蚀-POM、PTFE、PEP、PFA -PTFE部件 -构建硅基结构 -光刻胶灰化

多功能TEM样品杆清洁仪等离子体表面处理仪(SEM及TEM样品/样品杆清洁专用等离子清洁仪)PIE Scientific专注研发先进的实验室用等离子仪器，用于SEM/TEM样品清洁、光刻胶蚀刻、等离子体增强沉积、表面处理与活化。我们的宗旨是：将半导体和核工程研究中开发的等离子技术集成到经济实用的实验室用等离子仪器。专为去除SEM & TEM样品的碳氢污染而设计。特有的双清洗模式（immersion和downstream）能够处理各种不同的样品，从严重污染的电子光学孔径光阑到各种脆弱易损样品，如石墨烯、碳纳米管、类金刚石碳膜以及多孔碳支持膜铜网上的TEM样品。石英样品托板上的孔洞可以安装标准SEM样品托。特别设计的适配器可以清洁不同厂家的TEM样品杆。 可用于煤的灰化。特点：1. 系统具有双等离子源。浸入式等离子源用于主动表面处理、光刻胶蚀刻。远程式等离子源用于温和的污染清除以及脆弱易损样品的表面活化2. 13.56MHz高频射频发生器3. 7英寸触摸屏控制界面，全自动操作4. 标配75W版本，可选150W版本5. 标配2路气体输入，可选第三路气体输入6. 可选与FEI、JEOL、HITACHI等TEM样品杆配套的专用适配器7. AC输入：通用(110~230V, 50/60Hz)除了多功能TEM样品杆清洁仪等离子体表面处理仪之外，PIE还提供Tergeo、Tergeo Plus、Tergeo Pro等一系列台式等离子清洁刻蚀灰化仪。

德国Diener electronic GmbH + Co. KG公司成立于1993年，专业从事等离子表面处理设备的研发与生产， Diener等离子清洗机可用于清洗、刻蚀、磨砂和表面准备等。可选择40kHz/80kHz/100kHz、13.56MHz和2.45GHz三种射频发生器，以适应不同的清洗效率和清洗效果需要。等离子产品线包含标准及特种设备，涵盖所有等离子表面处理应用领域,同时该公司接受非标定制及样品批量处理服务。Diener等离子清洗机 ZEPTO W6主要应用领域： 1、半导体元件、印刷线路板的清洗。 2、高分子材料表面修饰 3、生物芯片、微流控芯片的清洗 4、芯片、电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片等的清洗 5、各种形状的人工晶体、ATR元件、天然晶体和宝石的清洗。 6、光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片的清洗。 7、各种陶瓷、金属基片上的残留凝胶等杂质的清洗。 8、各种医疗器材和仪器的清洗。 9、增加复合材料、生物分子材料表面的结合力。 参数：1. 手动控制运行模式2. 常用工作气体空气、氩气、氮气或混合气体等3. 功能：表面清洁、激活及改性4. *发生器、控制器及舱体一体设计，根据工艺要求不同，可在主机上完成功率、气体流量的设置5. 双路工作气体，浮球气体流量计 6. *高硼硅玻璃反应舱，Dia.:160mm*L180mm，容积为4L7. *高周波射频频率13.56MHz 0~300W 功率连续可调8. 电极材质为铝/不锈钢,覆盖玻璃舱体外周,保证产生均匀的等离子体,分布精度+/-2%9. 外形尺寸：W425*D450*H185mm10. 电源电压：单相AC230V 16AOPTION：1.石英腔体2.发生器40kHz,0~100W3.石英舟4.真空计5.计时器6.真空泵：油泵/干泵

德国Diener electronic GmbH + Co. KG公司成立于1993年，专业从事等离子表面处理设备的研发与生产， Diener等离子清洗机可用于清洗、刻蚀、磨砂和表面准备等。可选择40kHz/80kHz/100kHz、13.56MHz和2.45GHz三种射频发生器，以适应不同的清洗效率和清洗效果需要。等离子产品线包含标准及特种设备，涵盖所有等离子表面处理应用领域,同时该公司接受非标定制及样品批量处理服务。Diener等离子清洗机 ZEPTO W6主要应用领域： 1、半导体元件、印刷线路板的清洗。 2、高分子材料表面修饰 3、生物芯片、微流控芯片的清洗 4、芯片、电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片等的清洗 5、各种形状的人工晶体、ATR元件、天然晶体和宝石的清洗。 6、光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片的清洗。 7、各种陶瓷、金属基片上的残留凝胶等杂质的清洗。 8、各种医疗器材和仪器的清洗。 9、增加复合材料、生物分子材料表面的结合力。 参数：1. 手动控制运行模式2. 常用工作气体空气、氩气、氮气或混合气体等3. 功能：表面清洁、激活及改性4. *发生器、控制器及舱体一体设计，根据工艺要求不同，可在主机上完成功率、气体流量的设置5. 双路工作气体，浮球气体流量计 6. *高硼硅玻璃反应舱，Dia.:160mm*L180mm，容积为4L7. *高周波射频频率13.56MHz 0~300W 功率连续可调8. 电极材质为铝/不锈钢,覆盖玻璃舱体外周,保证产生均匀的等离子体,分布精度+/-2%9. 外形尺寸：W425*D450*H185mm10. 电源电压：单相AC230V 16AOPTION：1.石英腔体2.发生器40kHz,0~100W3.石英舟4.真空计5.计时器6.真空泵：油泵/干泵

PlasmaProTM NGP80 – 下一代等离子体处理系统为等离子体刻蚀和沉积集合了开放式进样工具。多重处理技术：PlasmaPro NGP80在同一个平台上提供了通用的等离子体刻蚀和沉积技术解决方案，并且带有便利的开放式进样装置。系统集合了微足印（smallfootprint）技术，可方便地进行定位及使用，且不会对工艺质量产生不良影响。该设备是研发或小规模量产的理想工具，可处理从小块样品到直径200mm的晶片。开放式进样设计使晶片可以快速进片及退片，适合研究、原型开发及小量生产。PlasmaPro NGP80的优势：关键组建方便装卸有利于维护兼容Semi S2/S8安全标准新一代的总线控制系统可以极大地提升数据的检索、传送、重复匹配能力新的增强用户界面利用前端软件的错误及工具诊断功能实现快速的错误诊断自动的清洗功能可以清除管道内的有毒物质并对管道进行冲洗，通过前端软件实现安全且完全的自锁清洗控制工艺技术配置选项：PlasmaPro NGP80 RIEPlasmaPro NGP80 PECVDPlasmaPro NGP80 RIE/PE 牛津仪器具有广泛、可用的生长工艺。 有了在生长工艺发展上无比广泛的经验和我们应用工程师的支持， 牛津仪器向世界范围内的生产商和研发者提供生长工艺解决方案的经验为我们提供了世界上最强大的生长工艺库和工艺能力。以下是一些可供选择的关键工艺--请与我们联系，讨论您的需要，我们的专业销售和应用的工作人员将很高兴地帮助您选择合适的生长工艺和工具，以满足您的要求。请点击产品名，查看产品详细信息，谢谢Compound Semiconductors外延生长AlGaN&mdash 外延氮化铝镓外延生长InN&mdash 氮化铟外延材料外延生长InxGa1-xN&mdash 外延氮化铟镓 Nanotubes生长碳纳米管Nanowires生长Si纳米线&mdash 生长硅纳米线生长ZnO纳米线&mdash 生长氧化锌纳米线

大气压等离子清洗机如何量化等离子处理效果,如何检测等离子处理,通过接触角测量仪测量量化效果,等离子体技术的优势,材料在经过等离子处理之后,建议不要将零部件存放于露天环境中.　　　　1、大气压等离子清洗机接受过处理的零部件在进行后续加工之前可存放多久？　　 零部件的存放时间取决于活化时间和材料 ，最短为几分钟，最多可达到数月。因此，通常有必要进行现场试验。　　2、应如何存放经过处理的零部件？　　 在经过等离子处理之后，建议不要将零部件存放于露天环境中，因为其会吸附灰尘、有机污染物和湿气。用收缩膜包装的零部件较之于露天存放的零部件，明显具有更高的保质期。在与客户密切协商后，对由我们进行了表面处理的零部件进行包装，例如，经过测试认证的无硅 PE 包装袋、防静电包装 ，或者客户提供给我们的定制包装材料。　　3、为什么不允许触摸经过处理的零部件？　　 等离子体会去除有机污染物，但是无法去除无机污染物。例如，指纹的汗水中含有盐份（无机污染物），故此仅可以用手套接触零部件。　　4、如何量化等离子清洗后的效果？　　 接触角/湿润角　　 接触角是指三相交点处所观察到的静止液滴在固体上的投影与固体表面上液滴形状的相切夹角。按照物理定义，表面的接触角小于 90° 的为亲水性（润湿性）表面，如果 接触角大于 90° 则为疏水性（非润湿性）表面。通过等离子处理 ，接触角会发生变化（变大、变小）。通过适当的等离子工艺或者以等离子工艺进行适当的涂层处理， 亲水性表面会转变为 疏水性表面（进行亲水性涂层处理，则得到相反的效果）。　　　　4、如何检测等离子处理？　　 通过指示标签以及等离子指标-金属化合物，等离子设备的用户可以识别是否已进行过等离子处理。该项测试实际上不需要花费时间。其可应用于任何等离子设备的任何处理用途，无论是清洗、活化、蚀刻 或者涂层 。该指标可用于确认您的产品和半成品之前是否接受过等离子处理，即使已过了几周和几个月。　　 指示标签：胶粘标签是一种特别经过涂层处理的薄膜，其即可作为参考 直接 置于腔室中，也可以贴在零部件上。只要暗色的指示点消失，则表明已成功完成了等离子处理。然而，指示标签还可以用于设备测试。对于这种情况，可将标签置于空的真空腔室中，并点燃等离子体。　　 等离子指标-金属化合物　　 等离子指标是一种液态金属化合物，其在等离子体中会发生分解，从而使接受等离子处理的物体表面具有一层光泽的金属表面。滴涂在零部件本身或者一份 参考样本上的液滴，等离子处理时会在大部分表面上转化为光泽的金属涂层，并与最初的无色液滴形成鲜明的对比。等离子体中所产生的具有金色光泽的金属膜与物体所有其他颜色之间存在着 光学反射率，正是通过这种反射率能够对其进行明确的区分。　　5、.等离子体技术拥有哪些优势？　　 较之于诸如火焰处理或者湿式化学处理之类的其他方法，等离子体技术具有决定性的优势：　　 很多表面特性只能通过该种方法获得　　 一种普遍适用的方法： 具有在线生产能力，并可实现全自动化　　 一种极为环保的工艺方法　　 基本不受几何形状的限制，可对粉剂、小零件、片材、无纺布、纺织品、软管、中空体、印刷电路板等进行处理　　 零部件不会发生机械改动　　 零部件受热较少　　 极低的运行成本　　 较高的工艺安全性和作业安全性　　 一种极为理性的工艺。　　6、大气压等离子清洗机可用于以下用途：　　 通过等离子体射流中所含的活性粒子（自由基）的反应进行活化。此外，借助经压缩空气加速的等离子体射流可以去除表面散落的、附着性颗粒。专为预处理塑料模制零部件而设计，以便改善　　印刷油墨　　油漆　　胶粘剂　　泡沫等　　的附着现象。　　对于良好的表面处理而言，以下几点至关重要：　　仅可用于处理非导电性材料。　　对于实现所需的表面特性而言，处理速度以及电晕头与待处理表面之间的距离是最重要的参数。改动参数会彻底改变预处理效果。　　较低的速度和/或反复处理均会导致均匀的表面活化。

一、产品简介：常压室温等离子体(ARTP)同传统的低压气体放电等离子体源相比，具有等离子体射流温度低、放电均匀、化学活性粒子浓度高等特点，基于ARTP技术，我公司联合清华大学相关团队共同开发了世界上首台利用等离子体的手段对微生物进行诱变育种的专用仪器—ARTP诱变育种仪(ARTP　Mutagenesis Breeding Machine)。该仪器突变率高，并且结构紧凑、操作简便、安全性高、诱变速度快，一次诱变操作（数分钟以内）即可获得大容量突变库，极大地提高了菌种突变的强度和突变库容量；ARTP技术结合高通量筛选技术，可实现对生物快速高效的进化育种。二、应用领域原核生物（如细菌、放线菌等）、真核生物（如霉菌、酵母、藻类、高等真菌等）及植物细胞。 截止到2022年10月21日，中文文献411篇，英文文献169篇，专利269篇，学位论文176篇，共计1025篇。三、产品参数分类技术参数整机功率300W（MAX）放电技术大气压均匀辉光放电，等离子体射流均匀、稳定工作气体99.999%及以上高纯氦气气量控制范围0~15SLM（标准升/分钟）气量控制精度±1.0% F.S.（满量程）有效处理间距2 mm样品处理系统单样品处理冷却系统外接制冷系统等离子体射流温度≤37℃四、应用案例案例一：放线菌抗生素产量显著提高突变率、正突变率分别为30%、21%，获得一株阿维菌素B1a产量提高23%。（常压室温等离子体对微生物的作用机理及其应用基础研究[D].王立言.清华大学 2009）等离子体诱变前后阿维链霉菌的形态变化（注：W为野生菌株；G1-8为典型突变菌株）案例二：藻类正突变率高、突变库表型丰富总突变率和正突变率在特异增长率上分别达到45%和25%，并且突变库中表型丰富。（PLOS ONE，2013,8（10）：1-12）案例三：应用ARTP诱变大肠杆菌，提高苏氨酸产量获得一株苏氨酸高产菌株，摇瓶产酸达到50.6 g/L，与出发菌相比，提高了99.6%，经50次传代，遗传性稳定。（现代食品科技，2013，29(8)：1888-1892） a1 a2出发菌株与1905#突变菌的菌体形态

激光诱导击穿光谱技术(LIBS)，利用脉冲激光产生的等离子体烧蚀并激发样品（通常为固体）中的物质，并通过光谱仪获取被等离子体激发的原子所发射的光谱，以此来识别样品中的元素组成成分，进而可以进行元素鉴定、材料的识别、分类、定性以及定量分析。 CNI生产的激光诱导等离子体光谱仪中，激光器稳定可靠，光谱仪分辨率高，软件分析快速准确，是实验室、工业现场的实用分析仪器。■ 基本组成 脉冲激光器、光纤光谱仪、聚焦透镜、样品、转台、耦合透镜、光纤座、光纤。■ 激光器的选择固态物质LIBS检测金属样品(金属、合金、钢、矿石等组分检测)高能脉冲激光器E:100μJ~10mJ样品导热性好，激光器能量足够高即可非金属多组分样品(土壤中重金属、氮磷钾肥检测、煤质分析等)低频高能脉冲激光器E:10mJ~100mJ样品导热性，高温易化学反应或燃烧液态物质LIBS检测液体样品(海水、工业污水检测等)高能脉冲激光器E:100mJ~500mJ由于等离子体冲击波作用，液面波动影响探测稳定性气态物质LIBS检测气体或气溶胶(空气成分、大气污染物、汽车尾气、工业废气检测等)低频高能脉冲激光器E:100mJ~1000mJ气体击穿阈值大，需要高能激光作为激发光源

常压室温等离子体（ARTP）同传统的低气压气体放电等离子体源相比，具有等离子体射流温度低、放电均匀、化学活性粒子浓度高等特点，基于ARTP技术，我公司联合清华大学相关团队共同开发了世界上首台利用等离子体的手段对微生物进行诱变育种的专用仪器—ARTP诱变育种仪（ARTP Mutagenesis Breeding Machine）。该仪器突变率高，并且结构紧凑、操作简便、安全性高、诱变速度快，一次诱变操作（数分钟以内）即可获得大容量突变库，极大地提高了菌种突变的强度和突变库容量；ARTP技术结合高通量筛选技术，可实现对生物快速高效的进化育种。非转基因手段，保证生物的安全性使用范围广，突变性能高专有氦气等离子体诱变技术，能量高，基因损伤强度大操作简便安全，易维护、运行费用低 截止到2022年08月29日，中文文献404篇，英文文献167篇，专利230篇，学位论文165篇，共计966篇。分类技术参数整机功率1000W（MAX）放电技术大气压均匀辉光放电，等离子体射流均匀、稳定工作气体99.999%及以上高纯氦气气量控制范围0~15SLM（标准升/分钟）气量控制精度±1.0% F.S.（满量程）有效处理间距2 mm操作室环境洁净室（百级洁净无菌风）样品处理系统7个样品连续处理和自动收集冷却系统内置制冷系统等离子体射流温度≤37℃工作环境要求温度15~25℃，湿度≤60%应用范围原核生物（如细菌、放线菌等）、真核生物（如霉菌、酵母、藻类、高等真菌等)应用案例案例一：应用ARTP筛选耐高盐环境突变菌株经等离子体处理后，阴沟肠杆菌在含有7.5% NaCl的培养基中培养时出现耐盐突变株，对TPH的降解百分数比出发菌株高2.5倍，而且将突变株培养于LB + 9.0% NaCl条件下时，可快速地将K+积聚于细胞内、将EPS积聚于细胞外。（耐盐阴沟肠杆菌的选育及其在油盐污染土壤修复中的应用[D].花秀夫.清华大学 2009）案例二：细菌领域成果多、效果显著筛选到高产L-亮氨酸的突变株，产量达到18.55 mg/g，比出发菌株提高2.91倍。（Nature Communications，9（2018））案例三：霉菌产色素能力大幅度提升突变菌株产橙、黄色素能力比出发菌株分别提高136%、43%。（核农学报，2016,30（4）：654-661）

仪器介绍真空等离子清洗机是一种使用等离子体技术进行表面清洗和除污的专用设备。它利用气体放电产生的等离子体来处理工件表面，去除附着物、油污和有机物等。工作原理在真空环境中产生等离子体，通常使用氩气等惰性气体作为工作气体。当气体通入真空室并产生电弧放电时，放电释放的电子与气体分子碰撞，形成等离子体。等离子体中的离子和电子具有剧烈的化学活性，能够有效分解并去除工件表面的有机污染物。应用领域等离子清洗机在科学研究各方面已经取得了广泛的运用，涉及材料学、光学、电子学、医药学、环境学、生物学等不同领域，主要用于以下实验：◆表面清洁 ◆表面活化 ◆去除表面有机物 ◆键合 ◆疏水实验◆去 胶 ◆器械的消毒 ◆金属还原 ◆简单刻蚀 ◆镀膜前处理功能特点● 不锈钢腔体，具有良好的耐用性● 电极板上下可调，适应各种大小的样品● 触摸按键，液晶显示屏+双浮子流量计精准控制，经济实用● 结构稳定，密封性好● 一键启停，人性化设计，简单易学● 采用13.56MH射频电压，完成清洗去污的同时，还可以改善材料本身的表面性能● 无材料二次污染和环境污染，效率大大提高技术参数腔体材质不锈钢容积10L电极板水平电极板2层电极专用铝电极，上下可调结构设计单次处理时间工艺不同，处理时间不同,表面活化改性5-10分钟内工作真空度20-60Pa真空泵极限压力0.5Pa（空载测试）抽真空时间≤40秒（空载测试）破真空时间≤20秒等离子发生器采用13.56MHz射频电源，功率0-300W可调，射频电源和阻抗器模块化设计供气方式电磁阀式流量计调节范围0.3-3L/min操作方式人工取放工件，一键启动自动控制额定功率1kw机台供电AC-220V机台总重约75kg

常压室温等离子体(ARTP)同传统的低压气体放电等离子体源相比，具有等离子体射流温度低、放电均匀、化学活性粒子浓度高等特点，基于ARTP技术，我公司联合清华大学相关团队共同开发了世界上首台利用等离子体的手段对微生物进行诱变育种的专用仪器—ARTP诱变育种仪(ARTP　Mutagenesis Breeding Machine)。该仪器突变率高，并且结构紧凑、操作简便、安全性高、诱变速度快，一次诱变操作（数分钟以内）即可获得大容量突变库，极大地提高了菌种突变的强度和突变库容量；ARTP技术结合高通量筛选技术，可实现对生物快速高效的进化育种。 非转基因手段，保证生物的安全性 使用范围广，突变性能高 专有氦气等离子体诱变技术，能量高，基因损伤强度大 操作简便安全，易维护、运行费用低应用领域：原核生物（如细菌、放线菌等）、真核生物（如霉菌、酵母、藻类、高等真菌等）及植物细胞。 截止到2022年10月21日，中文文献411篇，英文文献169篇，专利269篇，学位论文176篇，共计1025篇。技术参数：分类技术参数整机功率500W（MAX）放电技术大气压均匀辉光放电，等离子体射流均匀、稳定工作气体99.999%及以上高纯氦气气量控制范围0~15SLM（标准升/分钟）气量控制精度±1.0% F.S.（满量程）有效处理间距2 mm样品处理系统6个样品连续处理和自动收集等离子体射流温度≤37℃应用范围原核生物（如细菌、放线菌等）、真核生物（如霉菌、酵母、藻类、高等真菌等）应用案例：案例一：应用ARTP诱变扭脱甲基杆菌AM1高产吡咯喹啉醌采用常压室温等离子体 (ARTP) 进行诱变，结合高通量快速筛选方法，得到以PQQ产量为指标的正向突变株。ARTP 诱变的菌株正突变率为31.6%，筛选得到的较优正突变株M. extorquens AM1(E-F3)，PQQ 产量达到54.0 mg/L，是出发菌株的近3 倍。（生物工程学报，2016,32(8)：1145-1149）案例二：应用ARTP茂源链轮丝菌，提高所产谷氨酰胺酶的酶活采用ARTP技术对链霉菌孢子进行诱变，突变率42.8%，正突变率20.6%，高产突变株G2-1酶活达到2.73U/mL，比出发菌株提高了82%。（微生物学通报，2010，37(11)：1642-1649）