德国韦氏纳米系统专门为大学,研究机构提供了一系列高真空/超高真空桌面型热蒸发镀膜工艺平台。特征:All in One 桌面型紧凑设计模块化易于操作灵活性高满足不同的要求的薄膜工艺VapourStation 高真空型-高真空 可切换换源夹紧系统NanoSphere扩展型--超高真空PicoSphere加强型-近超高真空 我公司专业销售高真空/超高真空热蒸发镀膜仪产品,并提供产品的售前售后服务,如您对高真空/超高真空热蒸发镀膜仪产品感兴趣,欢迎前来咨询!
ETD-80AF型热蒸发镀膜仪把待镀膜的基片或工件置于真空室内,通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。 配有高位定性的飞跃真空泵 ETD-80AF type thermal evaporation coating instrumentA process in which the substrate or workpiece is placed in a vacuum chamber to vaporized and vaporized by heating the coating material and deposited on the surface of the substrate or the workpiece to form a film or coating. Vacuum pump equipped with high quality 配套泵蒸发靶材蒸发电流操作真空样品仓尺寸样品台尺寸工作电压两升飞跃泵碳棒最大电流100A,工作电流0-80A2*10-2mbar直径 170,高120mm样品台尺寸直径150mm220V,50HZ 需要镀膜的样品 电子束敏感的样品非导电的样品新材料主要包括生物样品,塑料样品等。S EM中的电子束具有较高能量,在与样品的相互作用过程中,它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料,那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下,用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用,防止此类损伤;由于样品不导电,其表面带有“电子陷阱”,这种表面上的电子积累被称为“充电”。为了消除荷电效应,可在样品表面镀一层金属导电层,镀层作为一个导电通道,将充电电子从材料表面转移走,消除荷电效应。在扫描电镜成像时,溅射材料增加信噪比,从而获得更好的成像质量。非导电材料实验电极制作观察导电特性