超薄油膜厚度测定仪

[img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=102246]湿化学法制备氧化硅超薄膜及其成份和厚度的SRPES测定[/url]

请问一下大侠，塑料上面的油墨厚度，用什么仪器可以测，精度要求0.1um,塑料上面是很薄的铜，铜上面是油墨，油墨有磁性，进口测厚仪只能测到1微米。

求购:测量润滑油膜厚度,温度和压力的设备! 知情者请回复:wanghw689@126.com. 谢谢!

请教红外高手，告诉我如何用红外测定薄膜厚度？好像有人这样做。

检测薄板上油膜厚度的仪器，我们目前使用的是日本岛津公司生产的AEP-300椭圆仪（非椭偏仪），但已经停止生产。仪器使用多年故障逐渐增多。美国DONART公司有类似仪器，但是单片检测，不适合用于大生产。请问专家，还有没有同类仪器可供选择？

支持膜、微栅与超薄碳膜的区别： 大多数透射电镜样品在制样时，为了确保样品能搭载在“载网”上，会在“载网”上覆一层有机膜，称为“支持膜”。这种具有支持膜的载网，称为“载网支持膜”。当样品接触载网支持膜时，会很牢固的吸附在支持膜上，不至于从载网的孔洞处滑落，以便在电镜上观察。 当样品放在电镜中观察时，“载网支持膜”在电子束照射下，会产生电荷积累，引起样品放电，从而发生样品漂移、跳动、支持膜破裂等情况。所以，人们考虑在支持膜上喷碳，提高支持膜的导电性，达到良好的观察效果。这种经过“喷碳的载网支持膜”，简称“碳支持膜”，一般膜厚度为7-10nm。 从制作成本和使用效果看，铜网最经济实用，所以被普遍采用。因此，人们经常提到的“铜网支持膜”、“碳支持膜”、“碳膜”、“方华膜”等，甚至被误称的“铜网”，大多是指这种具有“铜网喷碳的支持膜”。通常称“碳支持膜”。 准确的说，微栅是支持膜的一个品种，它是在制作支持膜时，特意在膜上制作的微孔，所以也叫“微栅支持膜”，它也是经过喷碳的支持膜，一般膜厚度为15-20nm。它主要是为了能够使样品搭载在支持膜微孔的边缘，以便使样品“无膜”观察。无膜的目的主要是为了提高图像衬度，所以，观察管状、棒状、纳米团聚物等，常用“微栅”支持膜，效果很好。特别是观察这些样品的高分辨像时，更是最佳的选择。 超薄碳膜，也是支持膜的一种。它是在微栅的基础上，叠加了一层很薄的碳膜，一般为3-5nm。这层超薄碳膜的目的，是用薄碳膜把微孔挡住。这主要是针对那些分散性很好的纳米材料，如：10nm以下的样品，分散性极好，如果用微栅就有可能从微孔中漏出，如果在微栅孔边缘，由于膜厚可能会影响观察。所以，用超薄碳膜，就会得到很好的效果。

请教各位大侠：我想用XRF测试汽车玻璃上油墨的成分，可是油墨的厚度只有20um左右，请问这样会不会测到玻璃的成分？先谢谢了

具体要求如下:进口设备 1.可测量各种底材:铝、铁、钢、塑料、木材、混凝土、玻璃等表面上的涂层厚度 2.配有50倍带照灯的显微镜 3.配有特制切割刀具,可精确制作样板上的V型槽 4.附有三个切割刀刃,分别是1倍、2倍和10刀刃,最大涂层厚度依次是1250um、500um、75um,精度依次是±6um、±3um、±0.6um 5.可符合标准ASTM D 4138,DIN 50986,BS 3900,ISO 2808 6.随机配有三个切割刀刃,一支纤维笔,仪器携带箱,灯泡和电池请联系:0757-22333012 26233339 覃生 E-mail:fangming.x@163.com

在si片上镀一层纳米碳膜，碳膜表面光洁如镜面，采用椭偏仪测量薄膜的厚度，测量时选择基底材料为si，将k设为0（透明薄膜，不知是否准确或透明薄膜如何定义？），根据SEM测量得到的薄膜厚度拟合得到一个n值(2.0921），采用此n值对类似情况下制备的薄膜进行厚度测量，测量得到的结果还行，基本与肉眼看到的薄膜厚度差别相当。不知此方法是否正确？1.是否能采用透明膜的测量方法测量碳膜？2.采用同一n值测量厚度是否合适？希望高手指点，谢谢！

载网支持膜：大多数透射电镜样品在制样时，为了确保样品能搭载在“载网”上，会在“载网”上覆一层有机膜，称为“支持膜”。这种具有支持膜的载网，称为“载网支持膜”。当样品接触载网支持膜时，会很牢固的吸附在支持膜上，不至于从载网的孔洞处滑落，以便在电镜上观察。 碳支持膜：当样品放在电镜中观察时，“载网支持膜”在电子束照射下，会产生电荷积累，引起样品放电，从而发生样品漂移、跳动、支持膜破裂等情况。所以，人们考虑在支持膜上喷碳，提高支持膜的导电性，达到良好的观察效果。这种经过“喷碳的载网支持膜”，简称“碳支持膜”，一般膜厚度为7-10nm。从制作成本和使用效果看，铜网最经济实用，所以被普遍采用。因此，人们经常提到的“铜网支持膜”、“碳支持膜”、“碳膜”、“方华膜”等，甚至被误称的“铜网”，大多是指这种具有“铜网喷碳的支持膜”。通常称“碳支持膜”。微栅：准确的说，微栅是支持膜的一个品种，它是在制作支持膜时，特意在膜上制作的微孔，所以也叫“微栅支持膜”，它也是经过喷碳的支持膜，一般膜厚度为15-20nm。它主要是为了能够使样品搭载在支持膜微孔的边缘，以便使样品“无膜”观察。无膜的目的主要是为了提高图像衬度，所以，观察管状、棒状、纳米团聚物等，常用“微栅”支持膜，效果很好。特别是观察这些样品的高分辨像时，更是最佳的选择。超薄碳膜：也是支持膜的一种。它是在微栅的基础上，叠加了一层很薄的碳膜，一般为3-5nm。这层超薄碳膜的目的，是用薄碳膜把微孔挡住。这主要是针对那些分散性很好的纳米材料，如：10nm以下的样品，分散性极好，如果用微栅就有可能从微孔中漏出，如果在微栅孔边缘，由于膜厚可能会影响观察。所以，用超薄碳膜，就会得到很好的效果。（转自互联网）

本人的课题是聚合物超薄膜的构筑，在基底上基于层层组装技术在基片上沉积聚电解质，一层聚电解质膜的厚度只有几个纳米，我想用氟化钙做基底，然后再去做红外，我想问的是，由于量比较少，吸收的肯定也比较少，这样的超薄膜能做红外吗，样品的量是不是太少了，峰会不会被噪声干扰而无法识别？谢谢（由于仪器比较老，做不了衰减全发射，只能做最普通的红外测试，哎，真杯具啊）

我现在需要测量ITO薄膜的厚度，透明的薄膜，大概200纳米左右。用椭偏仪行不行？是不是还需要薄膜的折射率？希望各位大侠指导一下[em61] [em09]

摘要: 借助于不同的色散公式， 运用改进的单纯形法拟合分光光度计测得的透过率光谱曲线， 来获得薄膜的光学常数和厚度。用科契公式分别对电子束蒸发的T i O 2和反应磁控溅射的S i3 N 4，以及用德鲁特公式对电子束蒸发制备的I T O薄膜进行了测试， 结果表明测得的光学常数和厚度， 与已知的光学常数以及台阶仪测得的结果具有很好的一致性。这种方法不仅简便， 而且不需要输人任何初始值， 具有全局优化的能力， 对厚度较薄的薄膜也可行。采用不同的色散公式可以获得各种不同薄膜的光学常数和厚度， 这在光学薄膜、 微电子和微光机电系统中具有实际的应用价值。

听说可以用XRF来测量薄膜厚度，并且可以测多层膜的厚度，但是不知道原理是什么。请版上的各位老师介绍一下技术原理与操作时注意要点。 万分感谢！

1 概述HH-HD03/18型 纸张/纸板厚度测定仪 是根据接触测量法原理，广泛用于测量纸张、纸板和瓦楞纸板厚度的测量。仪器主要技术参数符合以下标准：《GB/T 451.3 纸和纸板厚度的测定法》、《GB/T 6547 瓦楞纸板厚度的测定法》等国家和行业标准。2 主要技术特性2.1　主要技术参数参 数 项 目HH-HD03型 纸张厚度测定仪HH-HD18型 纸板厚度测定仪测量范围（0～3）mm，分度值0.01mm（0～18）mm，分度值0.01mm接触压力（100±10）kPa（20±0.5）kPa接触面积（200±5）mm2（1000±20）mm2测量面平行度误差≤0.005mm≤0.035mm外型尺寸（长×宽×高）175mm×125mm×260mm170mm×130mm×330mm质量约5.5 kg约6.5 kg3 操作步骤3.1　拆箱与安装3.1.1　打开包装箱，取出仪器及随机技术文件。3.1.2　将仪器置放在水平的工作台面上并擦净，要求台面平整，高度适中（便于读数）。3.2　测试前准备3.2.1　按GB/T 6547规定采取并处理试样。3.2.2　从表盒中取出计量表，安装在仪器主体上，并进行置零操作，方法为：A 旋松锁紧螺钉，装入计量表；B 上下调整计量表位置，使读数约为0.45mm；C 旋紧锁紧螺钉，注意松紧适度（过松则计量表位置不稳定，过紧则影响计量表测杆运动灵活性）；D 左手拇指按下拨杆，抬起测量头；E 缓慢放松拨杆，下落测量头，至与量砧接触，松开左手拇指；F 检查读数是否为零，如不为零，则按计量表上的置零键，使其为零；G 反复起落三次测量头，至零位稳定。3.3　测试3.3.1 按下拨杆抬起测量头。3.3.2 将被测试样放在测量头与量砧之间。3.3.3 缓慢放松拨杆，使测量头均匀下落至与试样接触，松手。3.3.4 读取计量表示值。3.3.5 按下拨杆，抬起测量头，取出试样。3.3.6 重复以上步骤，进行下一次测试。4 维护保养4.1 各滑动、转动部位应经常加油润滑。4.2 测量头与量砧的测量面应防止锈蚀，使用完毕应用洁净汽油擦拭干净；长期不用时活动部位应涂防锈脂，从计量表左上方电池安装孔处拆下电池，延长电池使用寿命。4.3 坚持周期检定，保证仪器良好技术状态（检定周期一般不超过一年）。4.4 为保证测量结果的准确性，当计量表不符要求时，应停止使用，修理后经计量检定合格方可再用。

请问薄膜厚度的测试方法都有哪些啊？怎么测试啊？厚度约为几十至几百纳米。非常感谢！

我是新手,对X射线衍射仪 不太熟悉.听说用X射线衍射仪也可以测量薄膜厚度,不知道怎么测量?

[color=#000000]原位电镜（in situ transmission electron microscopy）是一种在电子显微镜下实时高空间分辨率观察和记录材料或样品在不同条件下变化的技术，这种技术的应用涵盖了多个领域，包括材料科学、纳米科技、生物学等。特别是得益于气体和液体环境的引入，大大的拓展了原位电镜技术的应用范畴，如腐蚀科学和催化反应等。电子显微镜本身具有非常高的真空工作环境，因此，[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]和[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/5p][color=#3333ff]液相[/color][/url]反应介质通常被密封在一个非常小的纳米反应器里面。由于氮化硅（SiNx）具有易于微纳米制造且在一定厚度下仍有可靠的力学特性及适度的电子透明度等优点，被广泛应用于原位电镜中芯片用的密封膜材料。[/color][color=#000000]在过去20年，基于像差校正器、单色器及直接探测器等硬件技术的发展，电子显微镜本身的性能包括空间和能量分辨率都得到显著提升。但是原位电子显微学直到目前为止，在空间分辨率上并无显著突破。关键原因是作为密封的SiNx膜材料限制了电镜本身及原位实验的品质因子。目前商用的SiNx膜的厚度一般为50 nm，而[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]和[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/5p][color=#3333ff]液相[/color][/url]电子显微学一般需要用两个原位芯片，这样仅密封膜的厚度就高达100 nm。如此厚的密封膜会造成非常高的有害电子散射，大大降低了原位电子显微学实验中采集的各种数据的信噪比。在原位电子显微学领域，学者们都一直认为降低SiNx膜的厚度非常必要，但是直到目前仍很难实现，因为仅通过刻蚀降低SiNx膜厚度，会造成力学性能的显著恶化。[/color][color=#000000]针对此问题，[b]美国西北大学的Xiaobing Hu[/b]和[b]Vinayak Dravid教授[/b]研究团队从自然界蜂窝结构稳定性获得灵感，巧妙利用[b]掺杂浓度对Si的刻蚀速率影响，在观察窗口区域引入了额外的微米尺度Si支撑图案，成功的将SiNx膜的厚度从50 nm降至10 nm以下。[/b]这种在窗口区域具有支撑图案的超薄原位芯片具有很多优点，如优异的力学性能、耐电子束辐照、充分大的可观察区域，保证了该超薄芯片在原位电子显微学上的广泛应用。基于Pd的储氢特性，作者系统了探索了超薄芯片对原位实验测量品质因子的影响，及Pd纳米颗粒的吸/析氢行为。[/color][align=center][img]https://img1.17img.cn/17img/images/202401/uepic/c12df4c5-8db9-4fce-8ddf-16d17cfd42fd.jpg[/img][/align][align=center][size=14px][color=#7f7f7f]图1. 超薄原位电镜用芯片的制备及其优异的力学稳定性和电子束耐辐照性能，插图A、C中标尺分别为10 mm, 100 μm[/color][/size][/align][color=#000000]图1A显示超薄芯片的制备过程，图1B显示了具有不同厚度的SiNx窗口的原位芯片。图1C的扫描透射模式下的暗场和明场像显示出超薄芯片窗口区域的蜂窝状特征。图1D显示出这种超薄芯片优异的力学特性，即使在5 nm厚的情况下，仍能承受1个大气压，完全满足绝大多数的[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]原位实验。图1E显示出超薄芯片非常好的耐电子束辐照特性，当厚度从50 nm降到10 nm时，临界电子束剂量几乎没有改变。图1E为用光学方法和电子能量损失谱测量的不同厚度的SiNx膜数据。[/color][align=center][img]https://img1.17img.cn/17img/images/202401/uepic/6f3b49eb-f7b1-4f8f-8a5f-362aa1e61846.jpg[/img][/align][align=center][size=14px][color=#7f7f7f]图2. 基于超薄原位芯片的[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]电子显微学实验品质因数的显著提升[/color][/size][/align][color=#000000]图2A为理论模拟不同厚度的SiNx对Au纳米颗粒明场像信噪比的影响，对于超薄原位芯片而言，即使在电子剂量比较低的情况下，仍可以拥有很好的信噪比，成像质量比较高。图2B、C显示出在一个大气压的Ar环境不同SiNx膜厚度下的高分辨像对比。可以看出与常规50 nm厚的原位芯片相比，超薄芯片的应用不仅提高了图像的信噪比，分辨率也从2.3 ?提高到1.0 ?。图2C显示出了能谱对比结果，可以看出在一个大气压的Ar环境下，当原位芯片窗口区域膜厚度从50 nm 降低到10 nm时，Ar/Si峰值比从0.59%升到8.3%，提高了14倍以上。图2E-G数据显示了超薄原位芯片显著提高了电子能量损失谱分析的灵敏度。[/color][align=center][img]https://img1.17img.cn/17img/images/202401/uepic/6d6e2657-12c9-4711-80d5-725e65b1eeb9.jpg[/img][/align][align=center][size=14px][color=#7f7f7f]图3. 基于超薄原位芯片电子显微学在储氢材料中应用[/color][/size][/align][color=#000000]图3A、3B为在不同支撑载体下纳米Pd颗粒的电子衍射对比图，可以看出超薄芯片显著压制了膜材料本身的有害电子散射，提高的电子衍射的信噪比。而这也允许研究人员在原位[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]实验中进行定量衍射分析。图3C-D的原位电子衍射，显示出Pd纳米颗粒在原位充氢、放氢过程中的相变行为。图3E的电子能量损失谱分析确认了相变产物PdHx的产生。[/color][color=#000000]基于[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]超薄原位芯片的设计与探索实验，作者提出这种超薄芯片的设计策略可大规模推广到[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/5p][color=#3333ff]液相[/color][/url]原位及其它基于SiNx的原位芯片上，大大提高原位电子显微学实验的品质因子，从而允许研究人员在原位实验过程中不单单观察形貌变化，可将其它先进电子显微学方法应用到原位实验上来。更进一步，这种超薄芯片也可拓展到原位X射线领域。可以说，超薄芯片的概念提出，将大大的影响整个原位实验领域。[/color][color=#000000]这一成果近期发表在[b][i]Science Advances[/i][/b]上，美国西北大学[b]胡肖兵研究副教授[/b]，[/color][color=#000000][b]Vinayak Dravid讲席教授[/b][/color][color=#000000]为文章的通讯作者，[b]Kunmo Koo博士[/b]为文章的第一作者。[/color][来源：材料学网][align=right][/align]

[img]http://www.instrument.com.cn/bbs/images/affix.gif[/img][url=http://www.instrument.com.cn/bbs/download.asp?ID=65301]GB-T 6672-2001 塑料薄膜和薄片厚度测定 机械测量法[/url]

请教诸位：透明塑料薄膜（比如PPS，厚度2微米）上涂敷一层胶水，胶水固化后厚度约1微米，透明，采用什么仪器能准确测量胶水厚度？先谢谢了。

我们有个布鲁克的XRF，我想用来测薄膜厚度，可是每次都计算不收敛，我薄膜主要是ITO玻璃上的TiO2，WO3等等。各位大侠请了。惭愧啊惭愧，

紫外分光光度计测薄膜的厚度nm级的,仪器是岛津UV3101,配有积分球,软件是老的,现在不能适WIN95以上的,求助有没有更新的软件

哪位朋友有铝箔试验方法　第7部分：铝箔厚度的测定 称量法，望上传一份，不胜感激

印刷过程中对油墨色相的控制主要是通过控制墨层厚度来实现。目前我司采用的全是[url=http://www.xrite.cn/categories/benchtop-spectrophotometers/ci7x00-family][color=#000000]进口色差仪[/color][/url]，测量发现在墨层厚度变化0.1μm左右时就会引起△E=1.5~4.5NBS的色差，显然这一影响是很大的。胶印的墨色再现和水墨平衡密度相关，在同样的墨量情况下，水大水小会影响颜色的深浅。正确掌握水墨平衡，特别注意润湿液的PH值至关重要。用水量大小的原则为不上脏的情况下，采用尽可能小的供水量。

塑料如PPS或PET(厚2微米)上的镀金层、镀镍层如何测量？本网上查到的测厚仪是用于：非磁性金属基体上非导电覆盖层采用涡流测厚法，而磁性金属基体上非导电覆盖层采用电磁感应测厚法，无法满足塑料膜上的磁性材料镀层厚度（镍）或非磁性材料镀层（金）厚度测量！先谢谢了！

电镜产生的电子束穿透能力很弱,必须把样本切成厚度小于200nm以下的薄片才适用,这种薄片称为超薄切片。在透射电镜的样品制备方法中,超薄切片技术是最基本?最常用的制备技术，主要步骤包括包埋聚合?切片、捞片等步骤。

求 FTIR投射普测试薄膜厚度方面得资料 谢谢各位老师

[color=#333333]液膜厚度影响柱子的保留特性和柱容量.厚度增加,保留也增加。[/color][color=#333333]0.02[/color][color=#333333]μm ：薄液膜厚度的毛细管柱比厚液膜的毛细管柱洗脱组分快,所需柱温度低,且高温下柱流失较小,适用高沸点的化合物的分析。[/color][color=#333333]0.25[/color][color=#333333]～0.5μm ：常用的液膜厚度。[/color][color=#333333]厚液膜：对分析低沸点的化合物较为有利。[/color]

请大家帮我分析一下，我想在玻璃或者硅上生长一层或多层金属氧化物薄膜，这些薄膜多数是半透明的，厚度在0.5-2微米之间，我希望能依靠一种光学显微镜对厚度有个大致的测量，然后根据结果改进我的实验参数，这就需要放大倍数在500倍以上，最好能达到1000倍甚至更高，但必须不能使用油镜。我看了江南永新和上海长方的显微镜资料，发现金相显微镜和偏光显微镜似乎对我有用，我对这两种显微镜的用途不甚了解，不知道该买哪一款。请热心的网友们帮我参谋参谋，谢谢了。