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电子显微镜

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电子显微镜相关的仪器

  • 扫描电子显微镜可对材料的表面进行高倍率观察及高精度元素分析,在纳米技术、生命科学、产品设计研发及失效分析等领域有着广泛的应用。 近年来,扫描电镜观察表面精细结构及元素分析的需求日趋增加,而越来越多的用户希望能在生产线、品保检验线和办公区等有限的空间里使用扫描电子显微镜。因此,体积小、操作简便、分辨率高的扫描电子显微镜备受关注。FlexSEM 1000主机宽450mm、长640mm,相比SU1510型号体积减小52%,重量减轻45%,功耗减小50%,且配备标准化的电源接口。主机与供电单元可分离,安装非常灵活。 FlexSEM 1000 II,凭借全新设计的电子光学系统和高灵敏度检测器,可在加速电压20 kV下实现4.0 nm的分辨率。全新开发的用户界面,具有亮度和对焦自动调节功能,可以在短时间内进行各种观察。此外,还搭载了全新的导航功能“SEM MAP”,这个功能可弥补电子显微镜上难以找准视野的缺点,实现最直观的视野移动。尽管是可放置在桌面上的小巧紧凑型*1电子显微镜,仍可实现4.0 nm的分辨率凭借独特的高灵敏度二次电子、背散射电子检测器、低真空检测器(UVD*2),可在低加速/低真空下观察时实现清晰的画质全新的用户界面,无论用户的熟练程度如何,都可实现高画质和高处理能力全新的定位功能“SEM MAP”,支持观察时的视野搜索和样品定位大直径(30毫米2)无氮EDS检测器,可快速进行元素分析*2*1设置到桌面上时,请将机体与电源盒分离*2选项
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  • 高速扫描电子显微镜 HEM6000HEM6000是一款可实现跨尺度大规模样品成像的高速扫描电子显微镜。采用高亮度大束流电子枪、高速电子偏转系统、高压样品台减速、动态光轴、浸没式电磁复合物镜等技术,实现了高速图像采集和成像,同时保证了纳米级分辨率。面向应用场景的自动化操作流程设计,使得大面积的高分辨率图像采集工作更高效、更智能。成像速度可达常规场发射扫描电镜的5倍以上。 产品优势 高速自动化 全自动上下样流程和采图作业,综合成像速度优于常规场发射扫描电镜的5倍大场低畸变跟随扫描场动态变化的光轴,实现了更低的场边缘畸变低压高分辨 样品台减速技术,实现低落点电压,同时保证高分辨率应用领域应用案例大规模成像规格书 关键参数 分辨率 1.3nm @ 3 kV,SE;2.2 nm @ 1 kV,SE; 1.9nm @ 3 kV,BSE;3.3 nm @ 1 kV,BSE;加速电压 100 V~6 kV(减速模式) 6 kV~30 kV(非减速模式) 放大倍率 66~1,000,000x 电子枪类型 高亮度肖特基场发射电子枪 物镜类型 浸没式电磁复合物镜 样品装载系统 真空系统 全自动控制,无油真空系统 样品监控 样品仓监控水平摄像头 ; 换样仓监控垂直摄像头样品最大尺寸 直径4英寸 样品台 类型 电机驱动3轴样品台(*可选配压电驱动样品台) 行程 X、Y轴:110mm;Z轴:28mm;重复定位精度 X轴:±0.6 um;Y轴:±0.3 um 换样方式 全自动控制 换样时间 <15 min 换样仓清洗 全自动控制等离子清洗系统 图像采集与处理 驻点时间 10 ns/pixel 图像采集速度 2*100 M pixel/s 图像大小 8K*8K 探测器和扩展 标配 镜筒内混合电子探测器 选配低角度背散射电子探测器 镜筒内高角度背散射电子探测器 压电驱动样品台 高分辨大场模式样品仓等离子清洗系统 6英寸样品装载系统主动减震台 AI降噪;大图拼接;三维重构 软件 语言 中文 操作系统 Windows 导航 光学导航、手势快捷导航 自动功能 自动样品识别、自动选区拍摄、自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散服务扫描电子显微镜实验室 我们在合肥、无锡、广州和上海设有扫描电子显微镜实验室,实验室配备多名电镜技术专家和高级电镜应用工程师,提供包含电 镜应用技术开发、样品拍摄在内的多种服务。主要应用领域有锂电池、新型纳米材料、半导体材料、矿物冶金、地质勘探、生物医药等。 实验室依托国仪量子电镜产品,在电镜应用领域开展具有自主知识产权的科研项目,致力于实现科学研究和人才培养的目标。与此同时,实验室也为有电镜应用需求的科研院所、大专院校、企事业单位提供优质的服务。
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  • 专用扫描透射显微镜HD-2700,配备了与德国CEOS GmbH公司(总经理Max Haider先生)共同开发的球差校正仪,显著提高了扫描透射电子显微镜的性能,更适合高级纳米技术研究。由于球差校正系统校正了限制电子显微镜的性能的球差,使其与标准型号显微镜相比,分辨率提高了1.5倍,同时,探针电流提高了10倍。最近,该显微镜还配备了高分辨率镜头和冷场发射电子枪,进一步提高了图像分辨率和电子束能量分辨率。同时,该型号系列还增加了一款不带球差校正的主机配置,可以以后加配球差校正进行升级。特点 高分辨率扫描透射电子显微镜成像HAADF-STEM图像0.136nm,FFT图像0.105nm(高分辨率镜头(*))HAADF-STEM图像0.144nm(标准镜头)明场扫描透射电子显微镜图像0.204nm(w/o球差校正仪)高速,高灵敏度能谱分析:探针电流× 10倍元素面分布更迅速及时低浓度元素检测操作简化自动图像对中功能从样品制备到观察分析实现无缝连接样品杆与日立聚焦离子束系统兼容配有各种选购件可执行各种评估和分析操作同时获取和显示SE&BF, SE&DF, BF&DF, DF/EDX面分布(*) 和DF/EELS面分布(*)图像。低剂量功能(*)(有效降低样品的损伤和污染)高精度放大校准和测量(*)实时衍射单元(*)(同时观察暗场-扫描透射电子显微镜图像和衍射图案)采用三维微型柱旋转样品杆(360度旋转)(*),具有自动倾斜图像获取功能。ELV-3000即时元素面分布系统(*)(同时获取暗场-扫描透射电子显微镜图像)(*) 选购件技术指标HD-2700球差校正扫描式透射电子显微镜项目描述图像分辨率w/o球差校正仪保证 0.204nm(当放大倍数为4,000,000时)w球差校正仪保证 0.144 nm(当放大倍数为7,000,000时)(标准镜头)保证 0.136nm(HAADF图像)保证0.105 nm(通过FFT)(当放大倍数为7,000,000时)(高分辨率镜头(*))放大倍数100倍 至 10,000,000倍加速电压200 kV, 120 kV (*)成像信号明场扫描透射电子显微镜:相衬图像(TE图像)暗场扫描透射电子显微镜:原子序数衬度图像(Z衬度图像)二次电子图像(SE图像)电子衍射(*)特征X射线分析和面分布(能谱分析)(*)电子能量损失谱分析和面分布(EV3000)(*)电子光学系统电子源肖特基发射电子源冷场致发射器(*)照明透镜系统2-段聚光镜镜头球差校正仪(*)六极镜头设计扫描线圈2-段式电磁感应线圈原子序数衬度收集角控制投影镜设计电磁图像位移± 1 &mu m试片镜台样品移动X/Y轴 = ± 1 mm, Z轴 = ± 0.4 mm样品倾斜单轴-倾斜样品杆:± 30° (标准镜头), ± 18° (高分辨率镜头(*))真空系统 3个离子泵,1个TMP极限真空10-8 Pa(电子枪), 10-5 Pa(样品室)图像显示个人电脑/操作系统PC/AT兼容, Windows XP监视器19-inch液晶显示器面板图像帧尺寸640 × 480, 1,280 × 960, 2,560 × 1,920 象素扫描速度快扫,慢扫(0.5至320秒/帧)自动数据显示记录序号,加速电压,下标尺,日期,时间 (*) 选购件
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  • 扫描电子显微镜SEM3200SEM3200是一款高性能、应用广泛的通用型钨灯丝扫描电子显微镜。拥有出色的成像质量、可兼容低真空模式、在不同的视场范围下均可得到高分辨率图像。大景深,成像富有立体感。丰富的扩展性,助您在显微成像的世界中尽情探索。产品特点(*为选配件)特色功能丰富拓展性扫描电子显微镜不仅局限于表面形貌的观察,更可以进行样品表面的微区成分分析。SEM3200接口丰富,除支持常规的二次电子探测器(ETD)、背散射电子探测器(BSED)、X射线能谱仪(EDS)外,也预留了诸多接口,如电子背散射衍射(EBSD)、阴极射线(CL)等探测器都可以在SEM3200上进行集成。背散射电子探测器二次电子成像和背散射电子成像对比背散射电子成像模式下,荷电效应明显减弱,并且可以获得样品表面更多的成分信息。应用案例产品参数型号SEM3200ASEM3200电子光学系统电子枪类型预对中型发叉式钨灯丝电子枪(灯丝电流3档可调,可显示灯丝更换时间)分辨率高真空3 nm @ 30 kV(SE)4 nm @ 30 kV(BSE)8 nm @ 3 kV(SE)*低真空3 nm @ 30 kV(SE)放大倍率1-300,000x(底片倍率)1-1000,000x(屏幕倍率)加速电压0.2 kV~30 kV探针电流≥1.2μA,可实时显示成像系统探测器二次电子探测器(ETD)*背散射电子探测器、*低真空二次电子探测器、*能谱仪EDS等图像保存格式TIFF、JPG、BMP、PNG真空系统真空模式高真空优于5×10-4 Pa*低真空5~1000 Pa控制方式全自动控制样品室摄像头光学导航样品仓内监控样品台配置三轴自动*五轴自动行程X: 120 mmX: 120 mmY: 115 mmY: 115 mmZ: 50 mmZ: 50 mm/R: 360°/T: -10°~ +90°能谱仪能谱仪探测器分析型SDD硅漂移电制冷探测器,有效面积≥30 mm2,晶体面积≥50 mm2,高分子超薄窗设计,无需液氮冷却,仅消耗电能能谱仪能量分辨率Mn Ka保证优于129eV元素分析范围B5~Cf98软件语言中文操作系统Windows导航光学导航、手势快捷导航、可自动叠加电镜图片自动功能自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散特色功能智能辅助消像散、*大图拼接(选配软件)安装要求房间长 ≥ 3000 mm,宽 ≥ 4000 mm,高 ≥ 2300 mm温度20 ℃~25 ℃湿度≤ 50 %电气参数电源AC 220 V(±10 %),50 Hz,2 kVA
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  • 2020年5月25日日本电子株式会社全球同步发布新款场发射扫描电子显微镜JSM-IT800系列。 JSM-IT800的场发射扫描电镜通用性强,可广泛应用于纳米材料、金属材料、半导体材料、化学化工、医学及生物学领域,可高效观察包括非导体样品及强磁性样品等。 JSM-IT800SHL分辨率可达0.5nm,成像能力强大。浸没式电子枪可提供500nA大电流,EDS和EBSD分析速度极快。 另外JSM-IT800系列还搭载了众多全新研发的电子光学技术,自动化程度极高。详情请咨询捷欧路(北京)科贸有限公司及其各地分公司。
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  • [ 产品简介 ]蔡司新一代场发射扫描电子显微镜Sigma系列,具有高质量的成像和分析能力,将先进的场发射扫描电子显微镜技术与优秀的用户体验完美结合。利用Sigma系列直观的4步工作流程,在更短的时间内获得更多的数据,提高测试与生产效率。可选配多种探测器,以满足半导体、能源等新材料、磁性样品、生物样品、地质样品等不同的应用需求。结合蔡司原位电镜实验平台,可以实现自动智能化的原位实验工作流程,高效率获取高通量、高质量的原位实验数据。领先的EDS几何设计保证了出色的元素分析性能,分析速度高、精度好、结果可靠。高分辨、全分析、多扩展、强智能、广应用,全新Sigma系列是助力于材料研究、生命科学和工业检测等领域的“多面手”。[ 产品特点 ]&bull 独特的Gemini镜筒设计,低电压高分辨,无漏磁&bull 广泛全面的应用场景&bull 丰富灵活的探测手段&bull 智能高效的工作流程&bull 先进可靠的分析系统&bull 强大完善的扩展平台[ 应用领域 ]&bull 材料科学,如纳米材料高分辨成像,高分子聚合物等不导电样品成像,电池材料成分衬度成像,二维材料分析&bull 生命科学,如生物样品超微结构成像,冷冻样品高分辨成像&bull 地质矿物学,如地质样品高分辨成像、成分分析以及原位拉曼联用分析&bull 工业应用,如组件失效分析,工艺诊断&bull 电子半导体行业,如质量控制与分析,6英寸Wafer快速换样,电子束曝光技术(EBL)&bull 钢铁行业,如夹杂物分析,金属材料自动原位成像分析&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复NanoVP lite模式下断裂的聚苯乙烯表面成像氧化铝颗粒高分辨二次电子成像ETSE探测器氧化锌枝晶成像InLens SE探测器氧化锆&氧化铁复合材料成像Sense BSD探测器刺毛苔藓虫超微结构成像aBSD探测器超导合金成像
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  • JSM-IT210钨灯丝扫描电镜,是日本电子株式会社在2023年7月推出的新型号数字化扫描电镜。是近几年销售名列前茅并深受好评的JSM-6000系列钨灯丝扫描电镜的升级产品,并保留了JEOL钨灯丝电镜系列良好的操作界面和出色稳定的控制系统,操作更加简单,堪称世界上最先进的钨灯丝扫描电子显微镜。主要特点为全数字化控制系统,高分辨率、高精度的变焦聚光镜系统、全对中样品台及高灵敏度半导体背散射探头;用于各种材料的形貌组织观察、金属材料断口分析和失效分析。该型号在很多大学、研究院所及制造业被广泛使用。JSM-IT210,软件更加强大。详情请咨询捷欧路(北京)科贸有限公司各分公司。
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  • GeminiSEM 系列产品高对比度、低电压成像的场发射扫描电子显微镜为对任意样品进行高水准的成像和分析而生蔡司GeminiSEM 系列产品具有出色的探测效率,能够轻松地实现亚纳米分辨成像。无论是在高真空还是在可变压力模式下,更高的表面细节信息灵敏度让您在对任意样品进行成像和分析时都具备更佳的灵活性,为您在材料科学研究、生命科学研究、工业实验室或是显微成像平台中获取各种类型样品在微观世界中清晰、真实的图像,提供灵活、可靠的场发射扫描电子显微镜技术和方案。GeminiSEM 500 具有出色的分辨率,在较低的加速电压下仍可呈现给您更强的信号和更丰富的细节信息,其创新设计的NanoVP可变压力模式,甚至让您在使用时拥有在高真空模式下工作的感觉;更强的信号,更丰富的细节GeminiSEM 500 为您呈现任意样品表面更强的信号和更丰富的细节信息,尤其在低的加速电压下,在避免样品损伤的同时快速地获取更高清晰度的图像。经优化和增强的Inlens探测器可高效地采集信号,助您快速地获取清晰的图像,并使样品损伤降至更低;在低电压下拥有更高的信噪比和更高的衬度,二次电子图像分辨率1 kV达0.9nm,500 V达1.0 nm,无需样品台减速即可进行高质量的低电压成像,为您呈现任意样品在纳米尺度上更丰富的细节信息;应用样品台减速技术-(Tandem decel),可在1 kV下获得高达0.8nm二次电子图像分辨率;创新设计的可变压力模式-NanoVP技术,让您拥有身处在高真空模式下工作的感觉。洞察产品背后的科技Gemini电子光学系统Gemini 1类型镜筒 -延续创新和发展如今,扫描电子显微镜(SEM)在低电压下的高分辨成像能力,已成为其在各项应用领域中的标准配置。低电压下的高分辨率成像能力,在以下应用领域中扮演着尤为重要的角色:电子束敏感样品不导电样品获取样品极表面的真实形貌信息Gemini的革新电子光学设计,应用高分辨率电子枪模式、Nano-twin lens物镜(GeminiSEM 500)、以及Tandem decel样品台减速技术(选配),有效提高了在低电压时的信号采集效率和图像衬度。高分辨率电子枪模式:缩小30%的出射电子束能量展宽,有效地降低像差;获得更小的束斑。Nano-twin lens物镜: 优化静电场和磁场的复合功效,在低电压下具有的更高的分辨率; 提高镜筒内Inlens探测器在低电压下的信号采集效率。Tandem decel样品台减速技术,进一步提高对适用样品在低电压甚至极低电压下的分辨率:Tandem decel减速技术将镜筒内减速和样品台偏压减速技术相结合,有效地实现低着陆电压;使用1 kV及以下更低电压时,镜筒内背散射探测器的检测效率获得更好地增强,低电压下的分辨率得到进一步提高。对适用的样品可以加载高达-5 kV的样品台偏压,在低电压下获得更高质量的图片优化静电场和磁场的复合功效,在低电压下具有的更高的分辨率;提高镜筒内Inlens探测器在低电压下的信号采集效率。技术参数:基本规格蔡司 GeminiSEM 500热场发射电子枪,稳定性优于0.2 %/h加速电压0.02 - 30 kV探针电流3 pA - 20 nA(100 nA配置可选)存储分辨率最高达32k × 24k 像素放大倍率50 – 2,000,000标配探测器镜筒内Inlens二次电子探测器样品室内的Everhart Thornley二次电子探测器可选配的项目NanoVP可变压力模式高效VPSE探测器(包含在NanoVP可变压力选件中)局部电荷中和器镜筒内能量选择背散射探测器环形STEM探测器(aSTEM 4)EDS能谱仪EBSD探测器(背散射电子衍射)可订制特殊功能样品台环形背散射电子探测器阴极射线荧光探测器
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  • 超快电子显微镜 400-860-5168转3926
    简介FAST-EM是一款超快的自动多束电子显微镜,旨在使复 杂且大型的显微观测项目变得简单高效。FAST-EM具有 自动数据采集功能,因此这种高通量系统非常适合对大 型或多个样本进行成像以进行定量分析。系统提供强大 的显微成像能力,同时极大地简化工作流程,使用户可 以将工作重点从显微镜操作转移到真正高价值的数据分 析上。FAST-EM可用于探索细胞结构,神经元回路网络以及生 命科学中的各种生物材料的分析。对于大规模3D结构解 析以及批量2D成像都十分有帮助。另外作为通用工具, 还可以显著加快日常其他常规显微成像工作的速度。64束电子显微成像为了实现高通量成像,FAST-EM使用64 束独立电子束。这些光束在样品上并行扫 描,并使用高速、高灵敏的硅光电倍增管 (SiPM)阵列记录光信号。这种方法可 以显着提高数据采集速度缩短驻留时间FAST-EM系统基于扫描透射电子显微镜 (STEM),将样品直接放在闪烁屏上, 使用STEM模式进行成像。闪烁体在受 到透过样品的电子撞击时会产生局域阴 极发光,利用高速高灵敏硅光电倍增管 (SiPM)阵列检测所得的光,并对其进 行处理获得最终的灰度图像。即使在短至 400 ns的驻留时间,独特的检测系统能获 得优异的信噪比。自动化软件使用强大的自动化功能和人性化原生软 件,您可实现轻松创建和管理FAST-EM 成像项目。可靠的显微系统和强大的自动化软件的 应用,操作员再也无需对电镜保姆式的 照管,系统可自动持续可靠运行。一次加载多个样品在电镜的工作流程中,主要消耗的辅助时 间主要是样品的更换。这意味着操作员必 须经常中断成像过程, 更换样品,等待 真空度到达工作状态,造成过多等待时 间。 FAST-EM允许同时装载多达九个基 板,每个基板可容纳数十个甚至数百个 超薄切片。一次装样,轻松实现长达72 小时的连续成像。
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  • 便携式扫描电子显微镜Mochii&trade 扫描电子显微镜是一个真正便携的化学识别和纳米成像平台。新款Mochii&trade S型扫描电子显微镜还集成了紧凑型能量色散X射线光谱仪。Mochii&trade 扫描电子显微镜 开箱即用,功能齐全,为您的探索做好准备。Mochii&trade 扫描电子显微镜凭借独特的无线平板电脑接口和轻巧的设计,可以带着您的平板电脑参加大楼里甚至全国各地的会议,也可在家或样品现场,随时随地探索您的纳米级样品。 Mochii&trade 扫描电子显微镜指标参数:界面 Apple iDevice (iOS 10 or higher)平台 Two-axis automated stage (base model) 20 x 20 x 20 mm sample size成像部分 Fully pre-aligned Source potential: 10 kV magnification: 5000x Quadrant backscatter array detector Auto-calibration物理参数 Dimensions: 210x210x265 mm Compact outboard supply unit Power: 110-240VAC, 50-60Hz Complete system weight: 13 kgMochii&trade 扫描电子显微镜实拍图例:更多详情请联系昊量光电/欢迎直接联系昊量光电关于昊量光电:上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商,产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等,涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学、生物显微、物联传感、激光制造等;可为客户提供完整的设备安装,培训,硬件开发,软件开发,系统集成等服务。
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  • 减震台:电子显微镜主动减震系统电子显微镜主动减振台/主动防振台电子显微镜Zui先进的主动减震系统KNS ArisMD主动减震模块/主动减震台,能够消除环境振动对电子显微镜造成的影响,使得电镜能够在Zui大的性能情况下持续工作,特别是扫描电子显微镜SEM和透射电子显微镜TEM。轻量级紧凑型结构设计使得ArisMD主动减震模块易于集成到电镜工作站中,安装简易,无须提高电镜以及重新调试。由在精密测量和精密制造领域富有经验的工程师、物理学家以及技术领Xian的工业顾问共同研发,ArisMD主动减震模块/主动减震台在电镜减震以及抗干扰方面的高效性标志着ArisMD已经成为革Ming性以及关键的产品。ArisMD产品主动优势:1、 性能: 6自由度主动减震 主动减震频率从0.5Hz起 解耦的结构体系 阻尼可变2、 轻量型紧凑型更美观的结构设计ArisMD结构尺寸:270mmX230mmX75mm3、 安装简易,易于集成到电镜工作站中,无须提高电镜及重新调试4、 价格低,性价比高5、 功能更高的制动器制动主动减震频率范围可通过软件调节可远程控制6、 内置实时诊断分析工具7、 高度可协调的减震控制:ArisMD能够匹配更具有挑战性的环境条件8、 灵活的内部结构体系,易于定制更满足要求的主动减震系统KNS ArisMD电镜主动减震系统安装方法:其它品牌电镜主动减震系统安装方法:电镜成像质量对比:(有无使用ArisMD主动减震系统) 实际应用案例: 电子显微镜主动减振台/主动防振台
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  • 技术参数:γ探测器: 2*2 的NaI 闪烁体,1.5*1.5LaBr能量范围:20keV~3MeV显示: 高度:320×240 亮度:32000 色3.5 英寸的液晶I/O: 移动存储卡或通过串行端口电池寿命:8 小时带电池- 6 个备用电池接头- AA 电池提供额外的小时重量: 2.6 千克(5.7 磅),以“2×2”NaI 探测器,2.4 公斤(5.3 磅),“1.5×1.5”LaBr外形尺寸:27.9 x 12 x 21.9 cm (11 x 4.7 x 8.6 英尺)温度: -20℃~50℃ (-4℉~122℉)控制: 可以带防护手套操作简单的菜单以及间隔7 键键盘警报: 在屏幕上显示音频和视频稳定: 自动和连续的天然钾不需要定期更换光源文库: 47 种同位素有6 个不同的触发列表,包括标准ANSI,ANSI+,安全,医疗,工业和用户自定义中子探测器:1.8×3.4 厘Ce 掺杂Cs2LiYCI6(CLYC)水晶功能: 同位素识别,谱分析,剂量率仪,定位器源代码大束科技是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场,此外,还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务,以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源(电子显微镜灯丝)、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。大束科技的技术服务团队也在不断地壮大,我们的工程师可以独立维修大部分型号的电子显微镜,同时也可以对大部分型号机器独立更换灯丝和离子源。
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  • 2016年,日立高新公司推出第一台大气压下扫描电子显微镜AeroSurf1500,其独特的设计可在大气压下得到清晰的扫描电子图像。特点:1、可在大气压(105Pa)下得到SEM图像;2、台式扫描电镜设计;3、低真空下成分分析;4、优质的图像处理控制;应用领域:1、食品检测;2、生物科技;3、刑侦医学;4、医药检测;5、环境监测。
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  • 光学显微镜和电子显微镜-江南永新品牌光学显微镜和电子显微镜【型号介绍】品牌:江南永新型号:BM-2000目镜规格:双目/三目放大倍数:1000倍物镜规格:平场消色差观察物体:细胞、细菌、金属、生物分子等等产地:南京国产光学显微镜和电子显微镜知名品牌江南永新【产品特点介绍】放大倍率范围:40X-1000X 物镜:平场消色差物镜:4X、10X、40X(弹簧)、100X(不油、弹簧)物镜转换器:内定位式,四孔转换机构粗微调焦:粗微同轴调焦,三角导轨,交叉滚柱导向机构,并有调焦限位装置。粗调范围25mm,微调刻值0.002mm,采用低位置共轴手轮 目镜筒:三目(倾斜角:45°,360°可旋转360°铰链式;瞳距47-75mm)照明系列:滤色片,聚光镜垂直移动范围为25mm 聚光镜中心可调 12V20W卤素灯,亮度可调BM2000生物光学电子显微镜——江南永新品牌【技术参数】1.型号:BM2000 2.光学系统:无限远光学系统 3.观察头:铰链式双目头,倾角30°,360°可转,瞳距 48-75mm; 铰链式三目头,倾角30°,360°可转,瞳距 48-75mm; 内置数码镜筒,300万像素; 4.目镜:WF10×/20、WF15×/16、WF20×/12 5.物镜:无限远平场消色差物镜 4×,10×,40×,100×/无限远平场消色差物镜 20×,60× 6.转换器:内向式四孔转换器/内向式五孔转换器 7.调焦系统 :同轴粗微调焦机构,微调格值0.002mm,粗动行程每圈37.7mm,微动行程每圈0.2mm,调焦范围24mm 8.载物台:机械移动式载物台230×150mm/78×54mm,无凸出,可夹持双切片 9.聚光镜:阿贝聚光镜 NA1.25(带孔径光栏),垂直移动范围为25mm,中心可调可装滤色片 10.照明系统 :12V/20W卤素灯,亮度可调/3W LED 11.选购:摄影装置,摄像装置,偏光装置,柯勒照明,相衬附件 江南永新BM2000电子生物显微镜【产品图片】学生用的便携式电子显微镜生产厂家【购机服务】全国各省份都有售后服务网点,24小时响应机器质保一年顺丰包邮南京江南永新品牌光学显微镜和电子显微镜【系列型号】BM1000、BM2000、BM2100、BM1000D、JSZ6、JSZ5D、BM5000AT等型号销量高医学、生物、电子显微镜国内哪些品牌知名度高?国产品牌:江南永新、宁波永新、上海光学、缔伦进口品牌:奥林巴斯、尼康、徕卡、蔡司等牌子
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  • SU-70电子显微镜是一种新概念扫描电子显微镜,它采用了日立经过实地验证的 "semi-in-lens"超高分辨率技术以及肖特基热场发射电子枪技术。除了具有超高分辨率(1.0 nm/15 kV,1.6 nm*/1 kV)的特点外,它还借助声名远播的SuperExB功能可观察减轻荷电图像,成分构成对比图像,超低加速电压图像*。肖特基场发射电子枪的探针电流为100 nA,可进行各种各样的分析操作(X 射线能谱仪*, X射线波谱仪*,电子背散射衍射系统*等)。
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  • 透射电子显微镜 H-9500 400-860-5168转4452
    原子分辨率300 kV透射电子显微镜在精细加工技术已进入到亚纳米级水平的半导体,先进材料的研发领域,原子分辨率电子显微镜正在成为日益重要的,不可或缺的工具。 特色用户友好型的操作系统和Windows兼容的图形用户界面设计快速的样品分析,1分钟换样,5分钟内升高压至(300 kV)高稳定性,高分辨率透射电子显微镜高稳定性,高分辨率透射电子显微镜点分辨率为0.18 nm,晶格分辨率为0.1 nm稳定可靠的5轴优中心测角台性能优异,可靠性高性能优异,可靠性高得到市场验证的10级加速器电子枪设计阻抗式高压电缆设计高档可选附件高档可选附件通用样品杆,在日立公司的TEM, FIB 和 STEM系统均可使用可为原子分辨率的动态研究提供加热,冷却和气体注入等多种样品杆备注:FPD(平板显示器)上的图像为模拟图像。规格项目说明分辨率0.10nm(晶格分辨率)0.18nm(点分辨率)加速电压300kV、200kV*1、100kV*1放大倍率连续放大模式1,000~1,500,000×选区模式4,000~500,000×低倍模式200~500×电子枪灯丝LaB6(六硼化镧灯丝,直流加热)灯丝交换自动升降式电子枪高压电缆阻抗电缆照射系统透镜四级透镜聚光镜光阑4孔可变探针尺寸微米束模式:0.05 - 0.2 μm(4级)纳米束模式:1 - 10 nm(4级)电子束倾斜±3°成像系统透镜五级透镜聚焦图像摇摆调整利用像散监视器进行正焦补偿聚焦优化物镜光阑4孔可变光阑选区光阑4孔可变光阑电子衍射 选区电子衍射纳米探针电子衍射会聚束电子衍射相机长度250 - 3,000 mm样品室样品台5轴优中心海帕测角台样品尺寸3mmΦ样品位置追踪X/Y = ±1mm, Z = ±0.3 mm通过CPU控制马达驱动样品位置显示自动驱动,自动跟踪样品倾斜α = ±15°, β = ±15°(日立双倾样品台*2)防污染冷阱烘烤功能中温烘烤功能观察室荧光屏主屏:110 mmΦ聚焦屏:30 mmΦ目镜7.5×照相室区域选择整张照相/半张曝光胶片25张(2套胶片盒)图形用户界面 操作系统:Windows XP显示器19英寸显示器功能数据库,测量,图像处理数码CCD 相机*3相机耦合透镜耦合有效像素1,024 × 1,024 像素A/D 分辨率12位真空系统电子枪离子泵:60 L/s镜筒涡轮分子泵:260 L/s观察室/照相室扩散泵:280 L/s前级泵:135 L/min × 3台*1:放大倍率校准为可选项*2:可选件*3:本规格适用于可选的1,024 × 1,024像素的数码CCD相机
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  • 透射电子显微镜 H-9500 400-860-5168转4452
    原子分辨率300 kV透射电子显微镜在精细加工技术已进入到亚纳米级水平的半导体,先进材料的研发领域,原子分辨率电子显微镜正在成为日益重要的,不可或缺的工具。 特色用户友好型的操作系统和Windows兼容的图形用户界面设计快速的样品分析,1分钟换样,5分钟内升高压至(300 kV)高稳定性,高分辨率透射电子显微镜高稳定性,高分辨率透射电子显微镜点分辨率为0.18 nm,晶格分辨率为0.1 nm稳定可靠的5轴优中心测角台性能优异,可靠性高性能优异,可靠性高得到市场验证的10级加速器电子枪设计阻抗式高压电缆设计高档可选附件高档可选附件通用样品杆,在日立公司的TEM, FIB 和 STEM系统均可使用可为原子分辨率的动态研究提供加热,冷却和气体注入等多种样品杆备注:FPD(平板显示器)上的图像为模拟图像。规格项目说明分辨率0.10nm(晶格分辨率)0.18nm(点分辨率)加速电压300kV、200kV*1、100kV*1放大倍率连续放大模式1,000~1,500,000×选区模式4,000~500,000×低倍模式200~500×电子枪灯丝LaB6(六硼化镧灯丝,直流加热)灯丝交换自动升降式电子枪高压电缆阻抗电缆照射系统透镜四级透镜聚光镜光阑4孔可变探针尺寸微米束模式:0.05 - 0.2 μm(4级)纳米束模式:1 - 10 nm(4级)电子束倾斜±3°成像系统透镜五级透镜聚焦图像摇摆调整利用像散监视器进行正焦补偿聚焦优化物镜光阑4孔可变光阑选区光阑4孔可变光阑电子衍射 选区电子衍射纳米探针电子衍射会聚束电子衍射相机长度250 - 3,000 mm样品室样品台5轴优中心海帕测角台样品尺寸3mmΦ样品位置追踪X/Y = ±1mm, Z = ±0.3 mm通过CPU控制马达驱动样品位置显示自动驱动,自动跟踪样品倾斜α = ±15°, β = ±15°(日立双倾样品台*2)防污染冷阱烘烤功能中温烘烤功能观察室荧光屏主屏:110 mmΦ聚焦屏:30 mmΦ目镜7.5×照相室区域选择整张照相/半张曝光胶片25张(2套胶片盒)图形用户界面 操作系统:Windows XP显示器19英寸显示器功能数据库,测量,图像处理数码CCD 相机*3相机耦合透镜耦合有效像素1,024 × 1,024 像素A/D 分辨率12位真空系统电子枪离子泵:60 L/s镜筒涡轮分子泵:260 L/s观察室/照相室扩散泵:280 L/s前级泵:135 L/min × 3台*1:放大倍率校准为可选项*2:可选件*3:本规格适用于可选的1,024 × 1,024像素的数码CCD相机
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  • 台式扫描电子显微镜 400-860-5168转2045
    JCM-6000型Neoscope台式扫描电子显微镜,补充和发展了光学显微镜和传统扫描电子显微镜。该Neoscope可像数码相机一样操作简单,在轻松获得大倍数图像的同时,保持着高分辨率和大景深,具有扫描电子显微镜的强大光学性能。 无论是熟练的电子显微镜操作人员将JCM-6000作为简单的筛选设备,还是实验室技术人员将JCM-6000作为高分辨率的显微镜来取代光学显微镜,该Neoscope都有助于加快在生命科学、刑事科学取证以及加工材料的缺陷分析方面的研究步伐;同时,也主要应用于岩石矿物、储藏、矿物鉴定、矿床、能源等研究必备仪器。 该Neoscope在自动对焦、自动衬比和自动亮度控制等基础方面,操作都非常简单。无需进行涂层或干燥等特殊的样品处理准备。高真空和低真空两种操作模式以及三种加速电压设置,适用于多种应用领域,所有这些都可在预先设定的方案文件中进行编程。 该Neoscope将时尚外观与超强性能融为一体,全新的触摸屏GUI界面,操作更加形象直观。无需变更透镜,能放大10X-40,000X的倍率,二次电子和背散射电子成像、三种可选的加速电压使从载样到成像的操作可在三分钟内完成。双画面显示,可以并列显示实时图像和储存图像,能一边比较图像一边进行观察。选配件-马达驱动倾斜/旋转样品架能够倾斜/旋转景深大、立体感强的图像进行观察.将时尚外观与超强性能融为一体 ● 新颖的“图形用户界面”(GUI),触摸屏操作舒适方便 ● 图像观察景深大、富有立体感。 ● 通过背散射电子像能够观察成分的分布 ● 具有尺寸测量功能 ● 能够倾斜、旋转样品进行观察(选配) 结构紧凑,安置方便,外观简约,设计时尚● JEOL标志灯点亮,表示电源启动成功● 简洁的机体正面,LED显示仪器的状态 全新的触摸屏GUI界面操作更加形象直观,不仅操作界面简明易懂,触摸式操作更加直观方便。双画面显示可以并列显示实时图像和储存图像。能一边比较图像一边进行观察。选配件 ● 马达驱动倾斜/旋转样品台( Tilting and Rotating Motor-Drive Holder) 选配件―马达驱动倾斜/旋转样品架深受好评, 能够倾斜和旋转景深大、立体感强的图像进行观察。观察实例(样品:印刷电路板的通孔 放大倍率:x30)7 倾斜后(30度) 倾斜前(0度)● 能谱仪(EDS) 能够进行元素分析。采用日本电子公司制造的EDS,安心可靠 。 售后服务反应迅速。 JCM-6000 规格放大倍数×10 &sim ×60,000 (二次电子)×10 &sim ×30,000 (背散射电子)观察模式高真空模式 / 低真空模式电子枪灯丝与韦氏帽集成一体的小型电子枪( filament and Wehnelt integrated grid)加速电圧15kV / 10kV / 5kV 3档切换 (二次电子)15kV / 10kV 2档切换 (背散射电子)样品台X-Y轴手动控制 X方向 35mm、Y方向 35mm最大样品尺寸直径70mm、高度50mm工作距离 (WD)7~53mm信号检测高真空(二次电子、背散射电子)、低真空(背散射电子)数据显示/ 显示内容加速电圧、倍率、微米条、微米值等文件格式BMP、TIFF、JPEG图像内存像素640x480像素、1280x960像素拍摄条件高速、低速1、低速2旋转功能扫描旋转(90°/步、1°/步可选)图像电位移电位移功能图像保存拍摄(扫描)结束后,能自动编号、自动保存文件。操作系统 OSWindows 7自动功能自动聚焦、自动消像散自动衬度/亮度、自动电子枪对中配置主机、电源箱、PC?LCD、机械泵操作触摸屏、鼠标选配件马达驱动倾斜/旋转样品架、能谱仪(EDS)主机330(W)×490(D)×430mm(H)输入电源单相AC100V(700VA)、120V(840VA)、220V(880VA)、240V(960VA)波动±10%以内、接地室温15℃~30℃湿度60%以下
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  • 低电压扫描透射电子显微镜具备多种成像模式:透射模式(TEM),扫描模式(SEM),透射扫描(STEM)分析模式:电子衍射模式:ED 能量色散光谱模式:EDS电子加速电压:10, 15, 25 kV空间分辨率:1nm采用Schottky场发射电子枪,高亮度和对比度观察生物样品无需染色,且对切片厚度无要求,成像结果对比度高。真空自闭锁技术,更换样品仅需3分钟。无需冷却水和电源,无需专业实验室,操作简单,维护成本极低。其他类应用: 生物研究方向实验室台式透射电子显微镜系统,支持多种成像模式观察生物样品无需染色,简易快速地获得观察结果无需专门隔震防磁使用环境,操作维护简单无需冷却水,无需专业实验室,维护成本低采用电子加速电压,避免了传统电镜的缺点和限制 在大型的透射电子显微镜系统中,电子加速电压一般在80-300 kV左右。在如此高的电压下,对于C,H,O,N等轻元素组成的样品(如高分子和生物样品等),只有经过重元素染色操作才可以得到较好的图像对比度。而LVEM25采用的电子加速电压范围在10-25 kV,较低的加速下,研究者不需要对样品进行染色,即可得到很高的图像对比度。同时在25 kV电压下,LVEM25还避免了低电压对样品厚度的限制要求,只需要研究者按照正常厚度要求制作样品切片即可。操作简单,维护成本极低。 LVEM25虽然和传统TEM一样遵循了相同的电子透镜基本原理,但是在产品结构上却有着显著的不同。这一创新性设计使得LVEM25的设备尺寸大大缩小,真正实现了TEM的“小型化,台式化"。LVEM25对设备安装环境没有任何要求,不需要高功率电源,无需磁屏蔽和减震装修,更不需要冷却水和液氮冷阱等复杂配置,日常维护成本极低。同时LVEM25操作界面简单友好,研究者经过相对简单的培训后即可执行日常操作。 优化的硬件配置,保证运行稳定可靠。 采用肖特基场发射电子枪 LVEM25采用了Schottky场发射电子枪,保证设备连续运行数千小时。同时为样品成像提供了更好的亮度和空间均匀度。 样品和电子枪附近采用离子泵抽真空 LVEM25在样品腔和电子枪附近配备了离子泵来达到超高真空环境,在保证设备运行稳定的同时,有效避免了外部机械振动。 电子透镜组由永磁体组成 LVEM25的电子透镜模块由永磁体构成,从而精简了一般大型电镜中的磁体电源系统,进一步提高了设备运行的稳定性和可靠性,同时大大降低了维护成本。 放大倍率:1,000 - 470,000 加速电压:10, 15, 25 kV分辨率:1 nm 类型:场发射规格:分析系统 加工定制:标准器电子枪:Schottky场发射电子枪 加速电压:5,10,15,25 kV成像模式:TEM、STEM、SEM、EDS和ED TEM分辨率:最高1.0 nm冷却水:不需要 压缩空气:不需要换样时间:最快2分钟 应用:材料、生物体积:小巧 操作维护:简单
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  • 日立高新扫描电子显微镜S-3700N适合用于研究大件,较重,较高的样品。 ▲最大样品直径达300mm。▲可观察范围直径达203mm。▲可对高达110mm的样品进行观察和能谱分析。▲通用型接口布局满足各种分析用途。 特点特大型的样品室可装载最大直径达300 mm的样品,还可同时安装EDX/WDX/EBSD等配件。其可载样品高度可达110 mm。5轴马达驱动优中心倾斜、旋转、图像导航系统、样品台追踪、轨迹存储与中心复位等样品台的马达控制功能一应俱全。S-4800,SU-70及S-3400N均具有用户友好的GUI设计,这使得操作者经过简单培训即可操作。显示系统有全屏显示,无闪烁,高像素和实时图像显示等优异的性能,它还可以实时信号混合并同时显示两个不同的检测器观测到的互不相同的样品信息。可变压模式不需要金属喷涂,可以直接观察不导电样品。高灵敏度半导体背散射电子检测器可以在快速扫描模式下运行,这使得寻找大尺寸样品中感兴趣的区域更为简单和便利。标准配备涡轮分子泵(TMP),其清洁和干燥的真空条件最大限度地减少了样品污染。区别于传统的扩散泵扫描电子显微镜,此款产品不需较大的加热功率或循环水箱,从而使得它成为一款节能,生态环保的扫描电子显微镜。规格项目描述分辨率二次电子分辨率30kV时,3.0nm(高真空模式)3kV时,10nm(高真空模式)背散射电子分辨率30kV时,340nm(低真空模式)放大倍率×5-×300,000加速电压0.3-30KV低真空范围6-270pa图形菜单图像移动±50μm(WD=10mm)最大样品尺寸Ф300mm样品台X150mmY110mmZ5-65mmR360°T-20°-90°观测区域Ф203mm(可旋转)最大高度110mm(WD=10mm)样品台控制计算机控制5轴马达驱动优中心电子光学电子枪预对中钨灯丝物镜光阑可移动式4孔物镜光阑枪偏压带可控4偏压检测器埃弗哈特 索恩利二次电子检测器高灵敏度半导体背散射电子探测器,五分割分析位置WD=10mm 取出角=35°显示器自动合轴自动设定束流,自动合轴自动图像调整自动聚焦,自动消像散/聚焦,自动调整亮度和对比度存储图像精度640×480像素,1280×960像素,2560×1920像素,5120×3840像素图像文件格式BMP,TIFF,JPEG图像显示模式全屏显示1280×960像素,小屏显示640×480像素,双屏显示640×480像素×2,信号混合模式真空系统操作全自动程序涡轮分子泵210L/sec.×1机械泵135L/min.(162L/min.60Hz)×1安全措施断电保护,漏电保护辅助功能光栅旋转,动态消像散动态聚焦/倾斜补偿功能自由排版打印功能,字母/数字功能三维动画维修指南导航,测量方便,倾斜画面
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  • 双探针扫描电子显微镜是一种将形貌表征技术(扫描电子显微镜)与电学测试技术(双探针电学测量系统)结合在一起的测试系统。双探针扫描电镜主要包括真空系统、电子光学系统、样品台和探针系统等四个组成部分,如图1所示。其中真空系统用于提供样品形貌表征和测试所需的真空环境,电子光学系统用于扫描电子成像,样品台可以提供特定的样品取向和温度控制,而探针系统可以提供样品电学测试所需的电极并且能够精确位移。通过以上各部分的精确配合可以实现低维纳米结构与微纳器件特性的局域物性测量。 图1 双探针扫描电子显微镜系统的示意图近年来,随着人们对低维材料光电特性研究的深入,对测试系统的成像分辨率、测量精度、温度变化、外场激发等条件要求越来越高。同时,该设备由于自身局限性以及部件老化问题,存在一些应用上的不足:1)电子光学系统的物镜直径达100mm,而工作距离只有0-20mm,因此探针竖直方向移动的空间十分有限,如图4所示;2)由于扩散泵的效率较低,而且工作寿命已达极限,因此腔体的真空度已经不能满足测量场发射等特性所需的真空条件;3)缺少研究材料光电特性的有效手段,而光电特性分析是研究材料的带隙特征的有效手段。技术创新完成后能够解决的具体科研问题及其意义改造后的双探针扫描电子显微镜系统可以解决原系统中高精度局域测量存在的诸多问题,具体可分为以下几个方面:(1)解决原系统成像分辨率低、对导电能力低的材料成像质量差的问题。宽带隙材料由于具有较高的击穿电压,电子饱和速率高等,是制备各种高功率、高频器件的理想材料。但是宽带隙材料的导电能力差,特别是对于纳米尺寸的材料,在电镜下的观察和定位较为困难。而且此系统组装年限较长,成像质量有所下降,对宽带隙材料的观察更为困难。通过改进电子光学系统可以有效提高对宽带隙材料的成像质量,有助于电学测试的定位。(2)解决原系统中探针定位精度低、可操控性差的问题。原系统物镜直径为100mm,而工作距离仅为0-20mm,电子光学系统物镜与样品之间空间较小,因此外加探针或者光路只能以接近水平方向靠近样品表面,样品的定位以及探针自由移动均受到非常大的限制。改造后的系统采用较小直径和较长焦距的物镜,样品上方空间增大,探针和光路能够以较小角度达到样品表面,增加了操作的自由度。同时新的探针系统位移精度增加,有助于低维纳米材料电学特性的测量。(3)引入新的光源后此系统可用于材料光电特性的测量,弥补了电子能带表征手段的不足。在半导体光谱的研究中,利用光激发的电子行为可以很好的表征材料的电子能带结构,因此引入激励光源可以更加有效的表征半导体材料电子能带的特征。同时,对于半导体晶体材料,不同晶面往往具有不同的光学和电学特性。利用探针的精确定位能力,可以研究微米乃至纳米尺寸半导体材料不同晶面的光电特性,避免了生长大面积晶体的技术困难。成果及应用领域 本项目通过对原系统的改造,提高了系统的成像分辨率、真空度和探针的精确定位能力,增大了探针移动的自由度,增添了激励光源,可以为纳米尺寸低维材料的场发射器件、光敏器件、能源器件等的物性测量提供服务。系统新功能的开发将会为固态量子、超导、纳米、表面、光学、半导体等多个领域中研究的开展起到重要的支撑与促进作用。
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  • 扫描电子显微镜 FlexSEM 1000 II“先进的SEM更为紧凑”宽幅仅为45 cm的紧凑型的设计,仍具备4.0 nm的图像分辨率。全新开发的用户界面和电子光学系统让您深切体验其高性能。FlexSEM 1000 II,凭借全新设计的电子光学系统和高灵敏度检测器,可在加速电压20 kV下实现4.0 nm的分辨率。全新开发的用户界面,具有亮度和对焦自动调节功能,可以在短时间内进行各种观察。此外,还搭载了全新的导航功能“SEM MAP”,这个功能可弥补电子显微镜上难以找准视野的缺点,实现直观的视野移动。 尽管是可放置在桌面上的小巧紧凑型*1电子显微镜,仍可实现4.0 nm的分辨率 凭借独特的高灵敏度二次电子、背散射电子检测器、低真空检测器(UVD*2),可在低加速/低真空下观察时实现高的画质 全新的用户界面,无论用户的熟练程度如何,都可实现高画质和高处理能力 全新的定位功能“SEM MAP”,支持观察时的视野搜索和样品定位
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  • 扫描电子显微镜(SEM)现今已经延伸到广大企业单位,不仅在学术研究领域,各行各业均有广泛应用,与此趋势相对应,用户需要观测和分析的样品种类也有所扩大。S-3700N的开发正是完全考虑了上述广泛的多元化应用的需求,此款产品的标准配置包含一个二次电子检测器,一个五段分割背散射电子(BSE)探测器和可变压力(VP)模式。这就使得绝大部分的样品观测,可以去除过去传统的扫描电镜必须的金属喷涂,可在自然状态下直接观察含水样品。S-3700N有一个巨大的样品室,可容纳直径达300 mm和高度达110 mm的样品。样品室设置有多种配件端口,可以适应电镜在当今极其广泛的应用需求,这些配件包EDX,WDX,EBSD,样品室监视装置,冷台等。此款产品的多功能性以及灵活的系统配置,能够很好地满足您现今以及未来的各项需求。特色特大型的样品室可装载最大直径达300 mm的样品,还可同时安装EDX/WDX/EBSD等配件。其可载样品高度可达110 mm。5轴马达驱动优中心倾斜、旋转、图像导航系统、样品台追踪、轨迹存储与中心复位等样品台的马达控制功能一应俱全。S-4800,SU-70及S-3400N均具有用户友好的GUI设计,这使得操作者经过简单培训即可操作。显示系统有全屏显示,无闪烁,高像素和实时图像显示等优异的性能,它还可以实时信号混合并同时显示两个不同的检测器观测到的互不相同的样品信息。可变压模式不需要金属喷涂,可以直接观察不导电样品。高灵敏度半导体背散射电子检测器可以在快速扫描模式下运行,这使得寻找大尺寸样品中感兴趣的区域更为简单和便利。标准配备涡轮分子泵(TMP),其清洁和干燥的真空条件最大限度地减少了样品污染。区别于传统的扩散泵扫描电子显微镜,此款产品不需较大的加热功率或循环水箱,从而使得它成为一款节能,生态环保的扫描电子显微镜。规格参数项目描述分辨率二次电子分辨率30 kV时,3.0 nm(高真空模式)3 kV时,10 nm(高真空模式)背散射电子分辨率30 kV时,4.0 nm(低真空模式)放大倍率×5 - ×300,000加速电压0.3 - 30 kV低真空范围6 – 270 Pa 图形菜单图像移动±50 μm (WD= 10 mm)最大样品尺寸Φ300 mm样品台X150 mmY110 mmZ5 - 65 mmR360°T-20° - 90°观测区域Φ203 mm(可旋转)最大高度110 mm (WD= 10 mm)样品台控制计算机控制5轴马达驱动优中心电子光学电子枪预对中钨灯丝物镜光阑可移动式4孔物镜光阑枪偏压带可控4偏压检测器埃弗哈特 索恩利二次电子检测器高灵敏度半导体背散射电子探测器,五分割分析位置WD = 10 mm, 取出角 = 35°显示器控制模式操纵杆,键盘和旋钮显示器19.1英寸液晶平面显示器(如有更改,恕不另行通知)自动合轴自动设定束流,自动合轴自动图像调整自动聚焦,自动消象散/聚焦,自动调整亮度和对比度存储图像精度640 × 480 像素, 1,280 × 960 像素2,560 × 1,920 像素, 5,120 × 3,840 像素图像文件格式BMP, TIFF, JPEG图像显示模式全屏显示:1,280 × 960 像素小屏显示:640 × 480 像素双屏显示:640 × 480 像素 × 2信号混合模式真空系统操作全自动程序涡轮分子泵210L/sec. × 1机械泵135 L/min.(162 L/min. 60Hz) × 1安全措施断电保护,漏电保护辅助功能光栅旋转,动态消像散动态聚焦/倾斜补偿功能自由排版打印功能,字母/数字功能三维动画维修指南导航,测量方便,倾斜画面
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  • 高速扫描电子显微镜 HEM6000HEM6000是一款可实现跨尺度大规模样品成像的高速扫描电子显微镜。采用高亮度大束流电子枪、高速电子偏转系统、高压样品台减速、动态光轴、浸没式电磁复合物镜等技术,实现了高速图像采集和成像,同时保证了纳米级分辨率。面向应用场景的自动化操作流程设计,使得大面积的高分辨率图像采集工作更高效、更智能。成像速度可达常规场发射扫描电镜的5倍以上。 产品优势 高速自动化 全自动上下样流程和采图作业,综合成像速度优于常规场发射扫描电镜的5倍大场低畸变跟随扫描场动态变化的光轴,实现了更低的场边缘畸变低压高分辨 样品台减速技术,实现低落点电压,同时保证高分辨率应用领域应用案例大规模成像规格书 关键参数 分辨率 1.3nm @ 3 kV,SE;2.2 nm @ 1 kV,SE; 1.9nm @ 3 kV,BSE;3.3 nm @ 1 kV,BSE;加速电压 100 V~6 kV(减速模式) 6 kV~30 kV(非减速模式) 放大倍率 66~1,000,000x 电子枪类型 高亮度肖特基场发射电子枪 物镜类型 浸没式电磁复合物镜 样品装载系统 真空系统 全自动控制,无油真空系统 样品监控 样品仓监控水平摄像头 ; 换样仓监控垂直摄像头样品最大尺寸 直径4英寸 样品台 类型 电机驱动3轴样品台(*可选配压电驱动样品台) 行程 X、Y轴:110mm;Z轴:28mm;重复定位精度 X轴:±0.6 um;Y轴:±0.3 um 换样方式 全自动控制 换样时间 <15 min 换样仓清洗 全自动控制等离子清洗系统 图像采集与处理 驻点时间 10 ns/pixel 图像采集速度 2*100 M pixel/s 图像大小 8K*8K 探测器和扩展 标配 镜筒内混合电子探测器 选配低角度背散射电子探测器 镜筒内高角度背散射电子探测器 压电驱动样品台 高分辨大场模式样品仓等离子清洗系统 6英寸样品装载系统主动减震台 AI降噪;大图拼接;三维重构 软件 语言 中文 操作系统 Windows 导航 光学导航、手势快捷导航 自动功能 自动样品识别、自动选区拍摄、自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散服务扫描电子显微镜实验室 我们在合肥、无锡、广州和上海设有扫描电子显微镜实验室,实验室配备多名电镜技术专家和高级电镜应用工程师,提供包含电 镜应用技术开发、样品拍摄在内的多种服务。主要应用领域有锂电池、新型纳米材料、半导体材料、矿物冶金、地质勘探、生物医药等。 实验室依托国仪量子电镜产品,在电镜应用领域开展具有自主知识产权的科研项目,致力于实现科学研究和人才培养的目标。与此同时,实验室也为有电镜应用需求的科研院所、大专院校、企事业单位提供优质的服务。
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  • 专用扫描透射显微镜HD-2700,配备了与德国CEOS GmbH公司(总经理Max Haider先生)共同开发的球差校正仪,显著提高了扫描透射电子显微镜的性能,更适合高级纳米技术研究。由于球差校正系统校正了限制电子显微镜的性能的球差,使其与标准型号显微镜相比,分辨率提高了1.5倍,同时,探针电流提高了10倍。最近,该显微镜还配备了高分辨率镜头和冷场发射电子枪,进一步提高了图像分辨率和电子束能量分辨率。同时,该型号系列还增加了一款不带球差校正的主机配置,可以以后加配球差校正进行升级。特点 高分辨率扫描透射电子显微镜成像HAADF-STEM图像0.136nm,FFT图像0.105nm(高分辨率镜头(*))HAADF-STEM图像0.144nm(标准镜头)明场扫描透射电子显微镜图像0.204nm(w/o球差校正仪)高速,高灵敏度能谱分析:探针电流× 10倍元素面分布更迅速及时低浓度元素检测操作简化自动图像对中功能从样品制备到观察分析实现无缝连接样品杆与日立聚焦离子束系统兼容配有各种选购件可执行各种评估和分析操作同时获取和显示SE&BF, SE&DF, BF&DF, DF/EDX面分布(*) 和DF/EELS面分布(*)图像。低剂量功能(*)(有效降低样品的损伤和污染)高精度放大校准和测量(*)实时衍射单元(*)(同时观察暗场-扫描透射电子显微镜图像和衍射图案)采用三维微型柱旋转样品杆(360度旋转)(*),具有自动倾斜图像获取功能。ELV-3000即时元素面分布系统(*)(同时获取暗场-扫描透射电子显微镜图像)(*) 选购件技术指标HD-2700球差校正扫描式透射电子显微镜项目描述图像分辨率w/o球差校正仪保证 0.204nm(当放大倍数为4,000,000时)w球差校正仪保证 0.144 nm(当放大倍数为7,000,000时)(标准镜头)保证 0.136nm(HAADF图像)保证0.105 nm(通过FFT)(当放大倍数为7,000,000时)(高分辨率镜头(*))放大倍数100倍 至 10,000,000倍加速电压200 kV, 120 kV (*)成像信号明场扫描透射电子显微镜:相衬图像(TE图像)暗场扫描透射电子显微镜:原子序数衬度图像(Z衬度图像)二次电子图像(SE图像)电子衍射(*)特征X射线分析和面分布(能谱分析)(*)电子能量损失谱分析和面分布(EV3000)(*)电子光学系统电子源肖特基发射电子源冷场致发射器(*)照明透镜系统2-段聚光镜镜头球差校正仪(*)六极镜头设计扫描线圈2-段式电磁感应线圈原子序数衬度收集角控制投影镜设计电磁图像位移± 1 &mu m试片镜台样品移动X/Y轴 = ± 1 mm, Z轴 = ± 0.4 mm样品倾斜单轴-倾斜样品杆:± 30° (标准镜头), ± 18° (高分辨率镜头(*))真空系统 3个离子泵,1个TMP极限真空10-8 Pa(电子枪), 10-5 Pa(样品室)图像显示个人电脑/操作系统PC/AT兼容, Windows XP监视器19-inch液晶显示器面板图像帧尺寸640 × 480, 1,280 × 960, 2,560 × 1,920 象素扫描速度快扫,慢扫(0.5至320秒/帧)自动数据显示记录序号,加速电压,下标尺,日期,时间 (*) 选购件
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  • 产品简介专用扫描透射显微镜HD-2700,配备了与德国CEOS GmbH公司(总经理Max Haider先生)共同开发的球差校正仪,显著提高了扫描透射电子显微镜的性能,更适合高级纳米技术研究。由于球差校正系统校正了限制电子显微镜的性能的球差,使其与标准型号显微镜相比,分辨率提高了1.5倍,同时,探针电流提高了10倍。最近,该显微镜还配备了高分辨率镜头和冷场发射电子枪,进一步提高了图像分辨率和电子束能量分辨率。同时,该型号系列还增加了一款不带球差校正的主机配置,可以以后加配球差校正进行升级。特点 高分辨率扫描透射电子显微镜成像HAADF-STEM图像0.136nm,FFT图像0.105nm(高分辨率镜头(*))HAADF-STEM图像0.144nm(标准镜头)明场扫描透射电子显微镜图像0.204nm(w/o球差校正仪)高速,高灵敏度能谱分析:探针电流×10倍元素面分布更迅速及时低浓度元素检测操作简化自动图像对中功能从样品制备到观察分析实现无缝连接样品杆与日立聚焦离子束系统兼容配有各种选购件可执行各种评估和分析操作同时获取和显示SE&BF, SE&DF, BF&DF, DF/EDX面分布(*) 和DF/EELS面分布(*)图像。低剂量功能(*)(使样品的损伤和污染程度降至最低)高精度放大校准和测量(*)实时衍射单元(*)(同时观察暗场-扫描透射电子显微镜图像和衍射图案)采用三维微型柱旋转样品杆(360度旋转)(*),具有自动倾斜图像获取功能。ELV-3000即时元素面分布系统(*)(同时获取暗场-扫描透射电子显微镜图像)(*) 选购件技术指标HD-2700球差校正扫描式透射电子显微镜项目描述图像分辨率w/o球差校正仪保证 0.204nm(当放大倍数为4,000,000时)w球差校正仪保证 0.144 nm(当放大倍数为7,000,000时)(标准镜头)保证 0.136nm(HAADF图像)保证0.105 nm(通过FFT)(当放大倍数为7,000,000时)(高分辨率镜头(*))放大倍数100倍 至 10,000,000倍加速电压200 kV, 120 kV (*)成像信号明场扫描透射电子显微镜:相衬图像(TE图像)暗场扫描透射电子显微镜:原子序数衬度图像(Z衬度图像)二次电子图像(SE图像)电子衍射(*)特征X射线分析和面分布(能谱分析)(*)电子能量损失谱分析和面分布(EV3000)(*)电子光学系统电子源肖特基发射电子源冷场致发射器(*)照明透镜系统2-段聚光镜镜头球差校正仪(*)六极镜头设计扫描线圈2-段式电磁感应线圈原子序数衬度收集角控制投影镜设计电磁图像位移±1 μm试片镜台样品移动X/Y轴 = ±1 mm, Z轴 = ±0.4 mm样品倾斜单轴-倾斜样品杆:±30°(标准镜头), ±18°(高分辨率镜头(*))真空系统3个离子泵,1个TMP极限真空10-8 Pa(电子枪), 10-5 Pa(样品室)图像显示个人电脑/操作系统PC/AT兼容, Windows XP监视器19-inch液晶显示器面板图像帧尺寸640 × 480, 1,280 × 960, 2,560 × 1,920 象素扫描速度快扫,慢扫(0.5至320秒/帧)自动数据显示记录序号,加速电压,下标尺,日期,时间 (*) 选购件
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  • 最近,该显微镜还配备了高分辨率镜头和冷场发射电子枪,进一步提高了图像分辨率和电子束能量分辨率。同时,该型号系列还增加了一款不带球差校正的主机配置,可以以后加配球差校正进行升级。特色 高分辨率扫描透射电子显微镜成像HAADF-STEM图像0.136 nm,FFT图像0.105 nm(高分辨率镜头*)HAADF-STEM图像0.144 nm(标准镜头)明场扫描透射电子显微镜图像0.204 nm(w/o球差校正仪)高速,高灵敏度能谱分析:探针电流×10倍元素面分布更迅速及时低浓度元素检测操作简化自动图像对中功能从样品制备到观察分析实现无缝连接样品杆与日立聚焦离子束系统兼容配有各种选购件可执行各种评估和分析操作同时获取和显示SE&BF, SE&DF, BF&DF, DF/EDX面分布*和DF/EELS面分布*图像。低剂量功能*(使样品的损伤和污染程度降至最低)高精度放大校准和测量*实时衍射单元*(同时观察暗场-扫描透射电子显微镜图像和衍射图案)采用三维微型柱旋转样品杆(360度旋转)*,具有自动倾斜图像获取功能。ELV-3000即时元素面分布系统*(同时获取暗场-扫描透射电子显微镜图像)* :选购件 规格HD-2700球差校正扫描式透射电子显微镜项目描述图像分辨率w/o球差校正仪保证 0.204 nm(当放大倍数为4,000,000时)w球差校正仪保证 0.144 nm(当放大倍数为7,000,000时)(标准镜头)保证 0.136 nm(HAADF图像)保证 0.105 nm(通过FFT)(当放大倍数为7,000,000时)(高分辨率镜头*)放大倍数100倍 至 10,000,000倍加速电压200 kV, 120 kV *成像信号明场扫描透射电子显微镜:相衬图像(TE图像)暗场扫描透射电子显微镜:原子序数衬度图像(Z衬度图像)二次电子图像(SE图像)电子衍射*特征X射线分析和面分布(能谱分析)*电子能量损失谱分析和面分布(EV3000)*电子光学系统电子源肖特基发射电子源冷场致发射器*照明透镜系统2-段聚光镜镜头球差校正仪*六极镜头设计扫描线圈2-段式电磁感应线圈原子序数衬度收集角控制投影镜设计电磁图像位移±1 μm试片镜台样品移动X/Y轴 = ±1 mm, Z轴 = ±0.4 mm样品倾斜单轴-倾斜样品杆:±30°(标准镜头), ±18°(高分辨率镜头*)真空系统 3个离子泵,1个TMP极限真空10-8 Pa(电子枪), 10-5 Pa(样品室)图像显示个人电脑/操作系统PC/AT兼容, Windows XP监视器19-inch液晶显示器面板图像帧尺寸640 × 480, 1,280 × 960, 2,560 × 1,920 象素扫描速度快扫,慢扫(0.5至320秒/帧)自动数据显示记录序号,加速电压,下标尺,日期,时间
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  • Hitachi S—3400N型扫描电子显微镜,采用TMP分子泵真空系统,节省占地面积和电源功耗。主要用于对材料的微观形貌、组织和成分进行有效分析。日立HitachiS-3400N扫描电子显微镜详细信息该设备具有新研制的电子光学系统和自动化功能显示系统有全屏显示,无闪烁,高像素和实时图像显示等优异的性能,它还可以实时信号混合并同时显示两个不同的检测器观测到的互不相同的样品信息。日立HitachiS-3400N扫描电子显微镜通过高画质提升扫描电镜的分析能力和操作性,高灵敏度半导体背散射电子检测器可以在快速扫描模式下运行,这使得寻找大尺寸样品中感兴趣的区域更为简单和便利。 日立扫描电子显微镜S -3400N型的特点 1. S-3400N具有强大的自动功能,包括自动灯丝饱和、4偏压、自动枪对中、自动束流设定、自动合轴自动聚焦和消像散、自动亮度对比度等。 2. 在3kV低加速电压时保证有10nm的分辨率。 3. 新型5分割高灵敏半导体式背散射探头。 4. S-3400N II型具有五轴马达台,倾斜角度可达-20度~+90度,样品zui高可达80mm。 5. 分析样品仓可以同时安装EDX , WDX 及EBSD。 6. 真空系统使用涡轮分子泵,洁净、高效。日立扫描电子显微镜S -3400N型的技术指标: 项目 描述 SE分辨率 3.0nm (30kV),高真空模式 / 10nm (3kV), 高真空模式 BSE分辨率 4.0nm (30kV),低真空模式 加速电压 0.3 ~ 30 kV 低真空范围 6 ~ 270 Pa 最大样品尺寸 直径200mm 样品台 I型 II型 X 0 ~ 80mm 0 ~ 100mm Y 0 ~ 40mm 0 ~ 50mm Z 5 ~ 35mm 5 ~ 65mm R 360o 360o T -20o~ +90o -20o ~ +90o T -20o~ +90o -20o ~ +90o 最大样品高度 35mm (WD=10mm) 80mm (WD=10mm) 驱动类型 手动 五轴马达驱动 灯丝 预对中钨灯丝 物镜光栏 可移动式4孔物镜光栏 枪偏压 固定比例偏压、手动偏压和自动4偏 检测器 二次电子检测器 高灵敏度半导体背散射电子检测器 分析位置 WD=10mm, TOA=35o 控制 鼠标、键盘,手动旋钮 自动调校 自动灯丝饱和、自动4偏压、自动枪对中、自动束流设定、自动合轴、自动聚焦 消像散、自动亮度对比度 日立扫描电子显微镜S -3400N扫描图像:
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  • Hitachi S—3400N型扫描电子显微镜,采用TMP分子泵真空系统,节省占地面积和电源功耗。主要用于对材料的微观形貌、组织和成分进行有效分析。日立HitachiS-3400N扫描电子显微镜详细信息该设备具有新研制的电子光学系统和自动化功能显示系统有全屏显示,无闪烁,高像素和实时图像显示等优异的性能,它还可以实时信号混合并同时显示两个不同的检测器观测到的互不相同的样品信息。日立HitachiS-3400N扫描电子显微镜通过高画质提升扫描电镜的分析能力和操作性,高灵敏度半导体背散射电子检测器可以在快速扫描模式下运行,这使得寻找大尺寸样品中感兴趣的区域更为简单和便利。 日立扫描电子显微镜S -3400N型的特点 1. S-3400N具有强大的自动功能,包括自动灯丝饱和、4偏压、自动枪对中、自动束流设定、自动合轴自动聚焦和消像散、自动亮度对比度等。 2. 在3kV低加速电压时保证有10nm的分辨率。 3. 新型5分割高灵敏半导体式背散射探头。 4. S-3400N II型具有五轴马达台,倾斜角度可达-20度~+90度,样品zui高可达80mm。 5. 分析样品仓可以同时安装EDX , WDX 及EBSD。 6. 真空系统使用涡轮分子泵,洁净、高效。日立扫描电子显微镜S -3400N型的技术指标: 项目 描述 SE分辨率 3.0nm (30kV),高真空模式 / 10nm (3kV), 高真空模式 BSE分辨率 4.0nm (30kV),低真空模式 加速电压 0.3 ~ 30 kV 低真空范围 6 ~ 270 Pa 最大样品尺寸 直径200mm 样品台 I型 II型 X 0 ~ 80mm 0 ~ 100mm Y 0 ~ 40mm 0 ~ 50mm Z 5 ~ 35mm 5 ~ 65mm R 360o 360o T -20o~ +90o -20o ~ +90o T -20o~ +90o -20o ~ +90o 最大样品高度 35mm (WD=10mm) 80mm (WD=10mm) 驱动类型 手动 五轴马达驱动 灯丝 预对中钨灯丝 物镜光栏 可移动式4孔物镜光栏 枪偏压 固定比例偏压、手动偏压和自动4偏 检测器 二次电子检测器 高灵敏度半导体背散射电子检测器 分析位置 WD=10mm, TOA=35o 控制 鼠标、键盘,手动旋钮 自动调校 自动灯丝饱和、自动4偏压、自动枪对中、自动束流设定、自动合轴、自动聚焦 消像散、自动亮度对比度 日立扫描电子显微镜S -3400N扫描图像:
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  • 仪器简介:Quanta x50系列扫描电子显微镜是FEI公司zui新一代的、真正的多用途扫描电镜,是zhu名的Quanta产品家族的第三代产品。 主要特点:1.FEI ESEM(环境扫描电镜)技术, 可在高真空、低真空和环境真空条件下对各种样品进行观察和分析。2.所有真空条件下的二次电子、背散射电子观察和微观分析。3.先进的系统结构平台,全数字化系统。4.可同时安装能谱仪、波谱仪和EBSP系统。5.可安装低温冷台、加热台、拉伸台等进行样品的原位、动态观察和分析。技术参数:1.分辨率: 二次电子:  高真空模式 3.0nm @ 30kV, 8nm @ 3kV  高真空减速模式 7nm @ 3kV (可选项)  低真空模式 3.0nm @ 30kV, 10nm @ 3kV  环境真空模式 3.0nm @ 30kV  背散射电子 4.0nm @ 30kV2.样品室压力zui高达2600Pa3.加速电压200V ~ 30kV,连续调节4.样品台移动范围 Quanta 250: X=Y=50mm Quanta 450: X=Y=100mm Quanta 650: X=Y=150mm
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