当前位置: 仪器信息网 > 行业主题 > >

紧凑磁控溅射镀膜机

仪器信息网紧凑磁控溅射镀膜机专题为您提供2024年最新紧凑磁控溅射镀膜机价格报价、厂家品牌的相关信息， 包括紧凑磁控溅射镀膜机参数、型号等，不管是国产，还是进口品牌的紧凑磁控溅射镀膜机您都可以在这里找到。 除此之外，仪器信息网还免费为您整合紧凑磁控溅射镀膜机相关的耗材配件、试剂标物，还有紧凑磁控溅射镀膜机相关的最新资讯、资料，以及紧凑磁控溅射镀膜机相关的解决方案。

紧凑磁控溅射镀膜机相关的论坛

  • 【求购】求购镀膜机

    最近单位要买一台磁控溅射镀膜机，不知国内外哪些厂家的设备比较好，因为镀膜机的部件比较多，又要求真空，出点小问题难免，所以售后方面得好。不知哪位比较有经验的，指点指点。

  • 扫描电镜不导电样品磁控溅射镀膜仪常见问题解决

    随着电镜技术和应用快速发展，越来越多电镜用户对样品前处理提出了更高的要求。其中磁控溅射镀膜仪就专用来给场发射扫描电镜不导电样品进行喷金镀膜。本作品主要从两大方面介绍磁控溅射镀膜仪。1.简易演示真空磁控

  • 【原创大赛】磁控溅射原理及TEM样品的制备

    当前，制备非晶的方法主要有淬火法和气相沉积法。快冷法又分为铸膜法和甩带法，适合于制备大块非晶。气相沉积法分为真空蒸发法、化学气相沉积法、脉冲激光沉积法和磁控溅射法。~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~磁控溅射法制备非晶样品有其独特的有点，下面主要介绍下磁控溅射制备非晶样品的原理。电子在电场E的作用下，在飞向基板的过程中与氩气原子发生碰撞，使其电离出氩离子和一个新的电子，电子飞向基片，氩离子在电场作用下飞向阴极靶，并以高能量轰击靶的表面，使靶材发生溅射。在溅射的过程中，溅射离子，中性的靶原子或分子即可在基片上沉积形成膜。综上所述，磁控溅射的基本原理就是以磁场来改变原子的运动状态，并束缚和延长原子的运动轨迹，从而提高电子对工作气体的电离几率和有效地运用了电子的能量。这也体现了磁控溅射低温、高效的原理。常用的TEM样品以TEM载网为基片。TEM载网是直径为3nm，厚为20μm，网格间距为80μm，最底下一层铜或者钼，上面覆盖一层约为5nm厚的无定形碳作为支撑膜。利用磁控溅射法制备沉积的薄膜就沉积在这种TEM载网的无定形碳的支撑膜上，为了减少非弹性散射对衍射数据的影响，在实验过程中尽可能制备厚度比较小的薄膜厚度，约为15nm-20nm，这样制得的样品就可以直接在透射电子显微镜中进行直接的表征。

  • 真空镀膜机

    最近需要购买一台热蒸发真空镀膜机，请问哪些厂家的比较好用？另外，有谁知道日立公司在北京的代理的联系方式？

  • 如何看镀膜机上的金靶(Target)消耗情况?

    如何看镀膜机上的金靶(Target)消耗情况?

    新接手一台Hummer的镀膜机（用于SEM样品镀金），请教如何判断金靶的消耗情况。我附上图片，请熟悉的同学帮忙指教，多谢了！http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2011/10/201110130944_323322_1608661_3.jpg

  • 难怪在镀膜上可以看到金颗粒，原来如此

    难怪在镀膜上可以看到金颗粒，原来如此

    如果在镀膜时所用的设备是直流溅射仪或磁控溅射仪而非离子束溅射仪，在放大倍率为几万倍下观察，就会看到镀膜结构。绝大多数用户所使用的离子溅射仪都属于前两种。下面的照片是我对三个文献有关内容的综合。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2013/01/201301262045_422846_1609375_3.jpg

  • 真空镀膜机中辅助挡板的作用

    真空镀膜机（DMP450)中有一个辅助挡板，设计的初衷是为了改善镀膜均匀性，但在实际生产过程中，原机辅助挡板并不能最大改善膜厚均匀性。一个半球形工件盘，基片卡槽分三圈排列，相同蒸发功率，相同时间下，相邻两圈的基片膜厚有差异。从理论上来说，如何通过修正挡板改善膜厚一致性和均匀性？

  • 出售磁控溅射仪（私聊）

    出售磁控溅射仪（私聊）

    磁控溅射仪（2019下半年购入，9成9新）[img=,690,920]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/10/202310091529314999_3303_5829706_3.jpg!w690x920.jpg[/img][img=,690,920]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/10/202310091529317199_6660_5829706_3.jpg!w690x920.jpg[/img][img=,690,920]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/10/202310091529323410_1965_5829706_3.jpg!w690x920.jpg[/img][img=,690,920]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/10/202310091529325843_2573_5829706_3.jpg!w690x920.jpg[/img]设备技术要求 1.样品基台：直径 6 英寸样品2.反应腔室：304 不锈钢材质3.靶座系统：3 英寸圆形靶座 4 个，位于腔室上部；靶与样品的距离90~110mm 可调4.真空系统：分子泵，机械泵5.真空测量：薄膜规（进口），全量程规（进口）6.气路系统：标配 2 路进气，种类和流量可定制；管路配件（进口）7.电源系统：500W/13.56MHz 自动匹配射频源 1 套（进口）；500W 直流电源 2 套（进口）8.样品载台：自转旋转 5-30rpm 可调；加热温度 300℃；可加射频偏压200V 预清洗基片9.真空性能：本底真空优于 6.67x10-5Pa10.控制系统：工控机；触摸屏，菜单自动/手动操作11.安全控制：异常报警12.工艺应用：金属薄膜和介质薄膜沉积13.不均匀性：≤±5%@6 英寸14.设备尺寸：一体型设备；占地面价（参考）1.0m*1.50m。[img=,554,628]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/10/202310091529103198_4423_5829706_3.png!w554x628.jpg[/img]运行需求：供电需求： 380V、三相五线制；设备总功率需求约为 15KW冷却水：＞1.5L/min压缩空气： 0.4~0.6Mpa

  • 【已应助】求助学位论文一篇成功，谢谢灰太狼！

    【序号】： 1【作者】： 光学工程【题名】： 基于ANSYS的（非）平衡磁控溅射镀膜机磁场模拟【期刊】： 优秀研究生学位论文【年、卷、期、起止页码】： 【全文链接】：http://edu.nulog.cn/detail.htm?306178谢谢！

  • 【分享】新西兰修订紧凑型荧光灯和电视机的能效标准

    2011年6月7日，新西兰经济发展部发布G/TBT/N/NZL/55号通报：能源效率（用能产品）法规2002的目录1和2修正提案。此次修订的产品是紧凑型荧光灯和电视机，其主要内容如下：紧凑型荧光灯l 能源效率（用能产品）法规2002的目录1修正提案将：1.将紧凑型荧光灯增加到“产品分类”栏，及2.列出了补充的标准，将规定紧凑型荧光灯的测试方法和新的最低性能标准(MEPS)。l 拟议的紧凑型荧光灯的补充标准是：1.澳大利亚/新西兰联合标准AS/NZS 4847.1:2010 普通照明用自镇流灯 – 第1部分：测试方法 – 能源性能将增加到目录1的“测试标准”栏中。2.澳大利亚/新西兰联合标准AS/NZS 4847.2:2010普通照明用自镇流灯 – 第2部分：最低能源性能标准(MEPS)要求将增加到目录1的最低能源性能标准(MEPS)栏中。电视机l 能源效率（用能产品）法规2002的目录1和目录2的修正提案将：1.将电视机增加到“产品分类”栏中；及2.列出了补充的标准，将规定电视机的测试方法，以及新的最低能源性能标准(MEPS)和标签规定。拟议的电视机补充标准是：1.澳大利亚/新西兰联合标准AS/NZS 62087.1:2010 音频、视频及相关设备的功率消耗- 第1部分：测量方法将增加到目录1和2的“测试标准”栏中。2.澳大利亚/新西兰联合标准AS/NZS 62087.2.2:2010音频、视频及相关设备的功率消耗- 第2.2部分：关于电视机的最低能源性能标准(MEPS)和能源等级标签要求将增加到目录1和2的最低能源性能标准(MEPS)栏中。受上述要求规管的、在新西兰制造或进口到新西兰的、并且在该标准生效之日或之后销售的所有设备，必须符合相关标准中规定的要求。该提议将不早于2011年8月28日生效。上述这些标准将协调新西兰的相关要求与澳大利亚已经生效的要求保持一致。电视机的测试方法与IEC 62087, Ed.2.0 (2008)保持一致。紧凑型荧光灯的方法也引用了国际标准，诸如国际电工委员会（IEC）和国际照明委员会（CIE）标准。现行的能源效率（用能产品）法规2002参见：http://www.legislation.govt.nz/regulation/public/2002/0009/latest/whole.html?search=ts_regulation_energy+efficiency_resel&p=1#dlm108730。

  • 溅射氧化铝薄膜的XRDf衍射峰分析？

    溅射氧化铝薄膜的XRDf衍射峰分析？

    http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2011/08/201108112134_309901_2355867_3.jpg这是磁控溅射制备的氧化铝薄膜，厚度30-50nm， S1是制备样品，P1是经过750度处理后的样品，想对比变化，可是峰位怎么都对不上啊？？ 基底材料用的是氧化硅wafer， 请这里的大师兄们给帮忙分析一下吧？？？ 急啊，老板要我解释呢 小师妹先在这里谢谢大家了！！

  • 无菌实验室玻璃隔断抗菌镀膜处理技术

    生物实验室、无菌间、重症监护病房装修会大量采用12MM厚钢化玻璃，未经特殊处理的钢化玻璃表面富含羟基，易于吸附水汽和有机物，成为微生物落脚生根繁殖的温床，这给保持无菌环境带来了不利影响。现有厂家专门生产的药物释放型抗菌玻璃，在机械强度、成本、制造工艺上无法代替建筑用厚钢化玻璃，因此对现有建筑用钢化玻璃进行表面特殊处理，使之获得一定程度的长效抗菌抑菌特性，是现有经济条件下的唯一选择。　　****Hanxion HK-2型玻璃抗菌抑菌玻璃镀膜液，能够在玻璃表面形成一层化学镀膜层，它是由特殊分子结构的有机聚合物organic polymer形成的网状结构，和玻璃表面的硅羟基silanophilic interaction牢固键接，在微观尺度上形成一种特殊的空间结构，这种结构对微生物具有强烈的致死作用，细菌、霉菌无法在这样的微观环境下生长、繁殖。经过镀膜液处理过后的玻璃，具有长时间稳定的抑菌、抗菌、防霉的性能，可以降低生物、医疗环境中各类玻璃表面上粘附的细菌、霉菌密度，更好的保持医用环境的洁净，降低清洁成本。可以有效抑制细菌的繁殖、生长，有效杀死与镀膜层直接接触的细菌、霉菌镀膜层厚度大约在十几个到几十个纳米之间，具有良好的光学性能，完全不影响玻璃的光线通透。和玻璃表面硅羟基发生化学键接，具有极佳的耐磨性，牢固度。能耐受各种洗涤剂、有机溶剂、强酸、弱碱的腐蚀；耐受正常的手指皮肤、纸巾、织物的反复擦拭而不脱落，可以长时间发挥抑菌、抗菌功能。可以使玻璃获得很强的疏水特性，保持玻璃干燥，无水汽吸附镀膜层完全不含有重金属银、铅、汞、镉、砷这几种成分，也不含有任何氟化物fluoride，不向外界释放抗生素物质和其它物质，完全无毒，具有极好的生物安全性。化学镀膜工艺简单，无需昂贵真空镀膜机，可以批量化规模化生产。适用于各类玻璃

  • 【原创大赛】薄膜的物理气相沉积——溅射法

    【原创大赛】薄膜的物理气相沉积——溅射法

    溅射制膜的过程：气体辉光放电、等离子体、靶、溅射、沉积到衬底（一）与蒸发法相比，溅射沉积的主要特点：①沉积原子能量高，因此薄膜的组织更致密，附着力也可以得到明显改善；②制备合金膜时，其成分的控制性能好；③靶材可以是极难熔的材料；④可利用反应溅射技术，从金属无素靶材制备化合物薄膜；⑤由于被沉积的原子均携带有一定的能量，因而有助于改善薄膜对于复杂形状表面的覆盖能力，降低薄膜表面的粗糙度。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151100_555534_2989334_3.jpghttp://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif（二）溅射沉积分类主要的溅射方式可以根据其特征分为四种：（1）直流溅射；（2）射频溅射；（3）磁控溅射；（4）反应溅射。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151102_555536_2989334_3.jpg图1 不同溅射方法的靶电流密度和靶电压的比较http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif（1）直流溅射直流溅射又称为阴极溅射或二极溅射图2直流溅射沉积装置示意图，其典型的溅射条件为：工作气压10Pa，溅射电压3000V，靶电流密度0.5mA/cm2，薄膜的沉积速率低于0.1μm/min直流溅射过程中常用Ar作为工作气体。工作气压是一个重要参数，它对溅射速率以及薄膜的质量都有很大影响直流溅射设备的优点和缺点：优点：简单缺点：使用的气体压力高，溅射速率较低，这不利于减小气氛中的杂质对薄膜的污染以及溅射效率的提高。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151105_555538_2989334_3.jpg图2直流溅射沉积装置示意图http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif（2 ）射频溅射直流溅射要求靶材有较好的导电性，可以很大方便地沉积各类合金膜。对于导电性很差的非金属材料的溅射，我们需要一种新的溅射方法—射频溅射。射频溅射是适于各种金属和非金属材料的一种溅射沉积方法射频场对于靶材的自偏压效应。在衬底或薄膜本身是绝缘体的情况下，采取对其施加一个射频电压的方法，也可以起到对其施加负偏压的作用。（3）磁控溅射相对于蒸发沉积来说，一般的溅射沉积方法具有两个缺点。第一，溅射方法沉积薄膜的沉积速度较低；第二，溅射所需的工作气压较高 这两个缺点的综合效果是气体分子对薄膜产生污染的可能性较高。而磁控溅射技术：沉积速度较高，工作气体压力较低。工作原理：磁场对电弧运动有一定的约束作用（绕磁场螺旋前进）；（1）电子的电离效率高，有效提高了靶电流密度和溅射效率，（2）较低气压下溅射原子被气体分子散射的几率较小（三）气体放电是离子溅射过程的基础（1）首先介绍直流电场作用下的物质的溅射现象预抽真空，充入适当压力的惰性气体，如Ar气，10-1～10Pa；在正负电极间外加电压的作用下，电极间的气体原子将被大量电离；Ar—→Ar++e，Ar+被电场加速后射向靶材，撞击出靶材原子（分子），靶材原子脱离靶时仍具有一定能量，飞向衬底，电子被电场加速飞向阳极；http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151107_555542_2989334_3.jpg图3直流气体放电体系模型及伏安特性曲线http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif电压进一步增大，发生极板两端电压突然降低，电流突然增大，并同时出现带有颜色的辉光，此过程称为气体的击穿；击穿后气体的发光放电称为辉光放电；这时电子和正离子是来源于电子的碰撞和正离子的轰击，即使自然游离源不存大，放电也将继续下去。而且维持辉光放电的电压较低，且不变，此时电流的增大显然与电压无关，而只与阴极板上产生辉光的表面积有关；正常辉光放电的电流密度与阴极材料和形状、气体种类和压强有关；由于正常辉光放电时的电流密度仍比较小，所以在溅射方面均是选择在非正常辉光放电区工作。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151110_555543_2989334_3.jpg图4示意性地画出了在离子轰击条件下，固体表面可能发生的物理过程http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151111_555544_2989334_3.jpg图5所示，不同能量离子与固体表面相互作用的过程不同当离子入射到靶材上时，对于溅射过程来说，比较重要的过程有两个：其一是物质的溅射；其二是二次电子发射：二次发射电子在电场作用下获得能量，进而参与气体分子的碰撞，并维持气体的辉光放电过程。http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gifhttp://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif （四）合金的溅射和沉积用溅射法沉积合金膜，比蒸发法易于保证薄膜的化学配比；溅射过程中入射离子与靶材之间有很大的能量传递。因此，溅射出的原子将从溅射过程中获得很大的动能，其数值一般可以达到5~20eV；一方面，溅射原子具有很宽的能量分布范围，其平均能量约为10eV左右；另一方面，随着入射离子能量的增加，溅射离子的平均能量也有上升的趋势；溅射过程还会产生很少的溅射离子，它们具有比溅射出来的原子更高的能量。能量较低的溅射离子不易逃脱靶表面的鞘层电位的束缚，将被靶表面所俘获而不能脱离靶材；由蒸发法获得的原子动能一般只有0.1eV，两者相差两个数量级；在溅射沉积中，高能量的原子对于衬底的撞击一方面提高了原子自身在薄膜表面的扩散能力，另一方面也会引起衬底温度的升高。

  • E+H紧凑型电导率测量仪表Smartec CLD134

    E+H紧凑型电导率测量仪表Smartec CLD134卫生型和无菌环境中环形电导率测量系统E+H紧凑型电导率测量仪表Smartec CLD134是适应于食品、饮料和生命科学领域的电感式电导率测量系统。传感器和变送器集成的紧凑式结构抗干扰且易于使用。系统本体采用食品天然PEEK材料，无接头、无缝结构设计，通过卫生型认证，可以满足上述行业中极其苛刻的卫生要求。Smartec CLD134是确保产品和过程最高安全性和质量的最佳选择。E+H紧凑型电导率测量仪表Smartec CLD134的优势独特的卫生型设计，无二次污染风险取得卫生型应用和无菌场合所有卫生认证生物适应性认证符合USP Cl.VI标准符合 EG 2023/2006 和 1935/2004标准CIP和SIP适用封装式，无接头设计，经久耐用E+H紧凑型电导率测量仪表Smartec CLD134是用于测量食品&饮料行业和生命科学领域的环形电导率：管道系统中介质/介质之间的相分离回流管道中的CIP处理过程控制CIP清洗剂重制过程中的浓度控制管道系统、灌瓶装置、质保系统中的产品监测泄露监测采用以下通信协议和接口：0/4...20mAHARTPROFIBUS DPPROFIBUS PA [color=#ffffff][b]更多参考：E+H http://www.china-endress.com[/b][/color]

  • 关于红外反射镜的镀膜。

    红外反射镜的镀膜材质有镀金、镀银、镀铝的，性能上相差多少呢？还有号称“金刚石加工切削整体合金反射镜,光路传输效率更高于一般金属镀层技术的反射镜”的，这种合金反射镜是什么材质的？

  • 气相色谱测混合溶剂出峰位置太紧凑

    [color=#444444]想测定一种混合溶剂，不知道里面是什么，做了[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]看看有几种物质，可是保留时间对于的峰太紧凑了，怎么才能让保留时间间隔大点好做[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/bp][color=#3333ff]气质联用[/color][/url]测定物质？大神求教啊[/color]

  • 【国产好仪器讨论】之厦门锐思捷科学仪器有限公司的锐思捷紧凑型中央纯水系统—INSPIRE (INSPIRE)

    http://www.instrument.com.cn/show/Breviary.asp?FileName=C225403%2Ejpg&iwidth=200&iHeight=200 厦门锐思捷科学仪器有限公司 的 锐思捷紧凑型中央纯水系统—INSPIRE (INSPIRE)已参加“国产好仪器”活动并通过初审。自上市以来，这款产品已经被多家单位采用，如果您使用过此仪器设备或者对其有所了解，欢迎一起聊聊它各方面的情况。您还可以通过投票抽奖、参与调研等方式参与活动，并获得手机电子充值卡。【点击参与活动】 仪器简介： 锐思捷RSJ新款紧凑型中央纯水系统——INSPIRE系列 产品介绍INSPIRE是锐思捷推出的最新一个系列的中等产量实验室中央纯水系统（70-200L/H）,适合中小规模实验室集中供水的需求。它不但集当今最先进的水纯化工艺于一身，同时也凝聚了锐思捷多年的纯水系统应用和设计经验。产品特色高度紧凑的模块化设计INSPIRE系统具有灵活的模块组合方式以适合不同客户的应用需求，利于摆放、易于升级。整机采用防锈工艺/材料，外部风格一致，底部制动脚轮的设计简便了设备的放置和安装，同时具备同等产量、配置最小占地的特点，全系列主机 + 500L水箱 + 双泵供水（如上图），设备占地2bar情况下，其产水主机功率500W），只相当于传统工艺的1/4。极低运行成本INSPIRE系统的日常消耗品极少，通常情况下，系统可达到Ⅱ级纯水产出平均消耗品￥0.02/升的水平。先进的技术应用INSPIRE-S200E采用先进的RO+EDI直连技术，RO产水直接作为EDI的进水，无需中间水箱和加压泵，减少中间处理环节的同时避免了二次污染。系统具有特色恒产量控制功能，能够很大程度上克服水温变化导致的系统产量波动。全数字指标监测数字信号实时监测进水压力、进水温度、工作压力、工作温度、回水流速、浓水流速、产水流速、RO膜截留率、RO进水电导率、RO产水电导率、EDI产水电导率及分配管网电导率等多达十数项指标。可靠的安全性能严格执行水电分离设计原则，同时配备水质不合格排放/报警、高/低压保护、高/低液位保护、电器过载保护、紫外失效报警、系统运行参数异常报警和保护，以及全方位漏水保护等功能。高性能控制系统INSPIRE系统使用西门子可编程控制器（PLC）实现自动控制，并采用7”彩色中文触控屏执行多级界面人机互动，系统全面采用数字化传感器实时监测各项运行指标，运行数据使用大容量SD卡记录，支持USB接口打印。同时，还支持有线/无线远程控制升级。技术参数 1. 进水要求：市政自来水； 2. 产水级别：GB6682 III级/II级/I级（超纯水） 3 . 系统产量：RO+RO——70/150L/H（25℃） RO+EDI——200L/H（5-35....【了解更多此仪器设备的信息】

  • [求助]请教球面镀膜镜片反射率测试问题

    想求助一个关于球面镀膜镜片反射率测试的问题，希望群里专家能帮我解答下，万分感谢！1.球面镜片表面镀了反射膜，想测反射率，这个一般测得是镜面反射还是漫反射，比如岛津的分光光度计配合积分球配合硫酸钡的标准白板测得是哪个？2.我用光谱仪配合积分球配合标准白板搭建系统测试反射率是否能达到一样的效果？

  • 【原创】真空镀膜在线监测设备---光密度在线检测仪

    真空镀铝膜生产几经波折后如今又在全国迅速发展，主要看重的是真空镀铝膜复合材料不仅在包装上具有很大前途，而且在工农业、通讯、国防和科研领域中得以广泛应用；真空镀膜产品在以后必将形成主流，具有很大的市场空间。 然而，在国内所有的真空镀膜生产厂家中能够生产出品质好的镀铝膜很少，所以才会出现上马快，下马也快的现象。 究其原因主要是真空镀膜行业还是处于一个发展的阶段，目前所有的真空镀膜厂家，都还没有使用一款合适的真空镀膜监测设备---真空镀膜光密度在线检测仪。所以在生产过程中很难控制好镀膜层厚度的均匀性，造成镀膜产品质量不过关，以至于镀膜品质不够好；而且生产效率低，真空镀膜生产厂家往往需要投入较大成本。 真空镀膜质量的影响因素较多，除了跟设备有关，还与操作人员的水平，技术人员的指导和合适的工艺条件有很大关系。 但是不可否认，决定真空镀膜产品品质的最重要因素是镀膜层厚度的均匀性；镀铝薄膜通常应用于具有阻隔性或遮光性要求的包装上使用，因此，镀铝层的厚度和表面状况以及附着牢度的大小将直接影响其镀铝膜性能。镀铝膜的检测主要体现在厚度、镀铝层牢度和镀铝层的表面状况等方面。 如果对镀铝膜检测方法有所了解的，就一定知道检测镀铝膜品质有一种方法叫光密度测量法，目前市场上深圳市林上科技已经研发生产出一款专门的光密度仪，它是用于直接测量镀铝膜的光密度值来判定镀铝膜产品品质的优劣。 薄膜表面镀铝的作用是遮光、防紫外线照射，既延长了内容物的保质期，又提高了薄膜的亮度，从一定程度上代替了铝箔，也具有价廉、美观及较好的阻隔性能。目前应用最多的镀铝薄膜主要有聚酯镀铝膜（VMPET）和CPP镀铝膜（VMCPP）。 由于真空镀铝薄膜上的镀铝层非常薄，因此不能用常规的测厚仪器检测其厚度，通常都是需要使用光密度法来检测。光密度（OD）定义为材料遮光能力的表征。它用透光镜测量。光密度没有量纲单位，是一个对数值，通常仅对镀铝薄膜和珠光膜进行光密度测量。 光密度是入射光与透射光比值的对数或者说是光线透过率倒数的对数。计算公式为D=log10（入射光/透射光）或OD=log10（1/透光率）。通常镀铝膜的光密度值为1－3（即光线透过率为10％－0.1％），数值越大镀铝层越厚，美国国家标准局的ANSI/NAPM IT2.19对试验条件做了详细规定。 但是对于国内众多真空镀膜厂家而言，需要在大批量的生产线上就能控制好镀膜产品的镀膜层厚度均匀性。那就需要使用透光率光密度在线检测仪，在真空镀膜生产线上实行连续监测，才能保证真空镀膜产品的质量，同时提高真空镀膜设备的在线生产效率，减少生产成本。

  • 求清華碩士學位論文1篇

    【序號】：1【作者】 : 杨勇【篇名】 : 工业磁控溅射镀膜中靶材利用率的提高【期刊】 : 清华大学,2006年【全文链接】 : http://0rz.tw/iVp1k

  • 怎么做Pt溅射镀膜厚度检查

    SEM版的朋友们大家好~我们的Pt sputtering coater通常使用范围是做2-10nm 厚的coating.溅射仪上有基于晶体震荡原理的thickness monitor, 但是我们不太相信. 想做独立的厚度检查.你们知道怎么测量这么薄(2-10nm)的镀层厚度吗? 基体为玻璃片.谢谢~

Instrument.com.cn Copyright©1999- 2023 ，All Rights Reserved版权所有，未经书面授权，页面内容不得以任何形式进行复制