宽束氩离子抛光系统

【Gatan】697 Ilion II Datasheet 宽束氩离子抛光系统 品牌： GATAN 名称型号：氩离子抛光系统Ilion II 697制造商： GATAN公司经销商：欧波同有限公司产品综合介绍 产品功能介绍氩离子抛光系统是一个用于样品的截面制备及平面抛光的桌面型制样设备，以便样品在SEM及其它设备上进行检测分析。可利用IlionII进行抛光加工的材料种类十分广泛，包括由多元素组成的试样，以及具有不同的机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。如焊缝截面，集成电路焊点，多层薄膜截面，颗粒、纤维断面，复合材料、陶瓷、金属及合金、岩石矿物及其他无机非金属等各种材料的SEM、EBSD样品。品牌介绍美国Gatan公司成立于1964年并于70年代末进入中国市场。Gatan公司以其产品的高性能及技术的先进性在全球电镜界享有极高声誉。作为世界领先的设计和制造用于增强和拓展电子显微镜功能的附件厂商，其产品涵盖了从样品制备到成像、分析等所有步骤的需求。产品应用范围包括材料科学、生命科学、地球物理学、电子学，能源科学等领域， 客户范围涵盖全球的科研院所，高校，各类检测机构及大型工业企业实验室，并且在国际科学研究领域得到了广泛认同。经销商介绍欧波同有限公司是中国领先的微纳米技术服务供应商，是一家以外资企业作为投资背景的高新技术企业，总部位于香港，分别在北京、上海、辽宁、山东等地设有分公司和办事处。作为蔡司电子显微镜、Gatan扫描电子显微镜制样设备及附属分析设备在中国地区最重要的战略合作伙伴，公司秉承“打造国内最具影响力的仪器销售品牌”的经营理念，与蔡司，Gatan品牌强强联合，正在为数以万计的中国用户提供高品质的产品与国际尖端技术服务。 产品主要技术特点氩离子抛光系统采用两支具有低能聚集的小型潘宁离子枪，可提供快速柔和的抛光效果。低至100eV的离子束提供更柔和的抛削效果，用于样品的终极抛光。新型低能聚焦电极使得离子束的直径在几乎整个加速电压范围内都保持恒定。每个枪都可准确独立地将离子束对中在样品上，从而产生极高的离子抛光速率。在操作过程中，可随时改变枪的角度。通过控制气体流量可将枪电流变化范围控制在0~100mA之间。在触摸屏上通过手动或者自动方式调节气体流量使每个枪的工作电流得到最优化。 集成的10英寸彩色触摸屏计算机可对Ilion II的所有操作参数进行完全控制。此界面不仅可以设定所有参数并能够监控抛光过程。所有的操作参数还可以存为配方，调用配方可获得高精度重复实验。 涡轮分子泵搭配两级隔膜泵保证了超洁净环境。Gatan专利的气动控制Whisperlock技术能实现快速样品交换（ 1分钟），省去了换样过程中必须完全泄真空至大气的烦恼。1. 气锁装置实现快速样品交换、始终保持洁净的高真空状态2. 10英寸触摸屏可对系统进行完全控制与监测3. 配方模式的控制界面，用于一键操作4. 质量流量控制器提供精确和可重复的氩离子电流的控制5. 枪电压范围为100V到8000V的三元（阴极、阳极与聚焦极）构造潘宁离子枪6. 每个枪的抛光角度可调范围为-10度~10度，增量为0.1度7. 扇形抛光角度可变且可程序化，范围从10度~90度8. 离子枪无需零件更换，寿命超过30,000小时9. Gatan专利的样品/挡板配置，装样简单，再次抛光位置准确10. 独特的离子束调制功能，可进行扇形抛光和平面抛光11. 洁净的真空系统，分子泵与隔膜泵搭配12. 操作简单，维护方便 抛光前- 俯视SEM图CuInSe2样品 抛光90S后SEM 图 CuInSe样品 产品主要技术参数： 1、 离子枪：两个配有稀土磁铁的三元构造（阴极、阳极与聚焦极）潘宁离子枪，聚焦离子束设计,高性能无耗材2、 抛光角度： +10° 到 -10° ，每个离子枪可独立调节3、 离子束能量：100 V 到 8.0 kV4、 离子束流密度：10 mA/cm2 峰值5、 抛光速度：300 μm/h（8.0 kV条件下对于硅试样）4.2样品台6、 样品装载： Ilion专利的样品挡板, 装样简单，再次抛光位置准确，可重复使用，配合Sample Stub可直接转至SEM中观察 7、样品旋转：0.5到6 rpm连续可调8、束流调制：独特的离子束调制功能，可进行扇形截面抛光（扇形角度为10到90度可调）和平面抛光。9、样品观察：数码变焦显微镜，配有PC及Digital Micrograph软件采集图像，通过Gatan Digital Micrograph软件可进行实时成像（300x–2,200x）与图像存储和分析10、液氮冷台：配置液氮冷台，样品最低温度可达-120°C,有效减少离子束对样品造成的损伤 4.3真空系统11、干泵系统：两级隔膜泵支持80升/秒的涡轮分子泵12、压力：5x10-6 托基本压力，8.5x10-5托工作压力13、真空规：冷阴极型，用于主样品室；固体型，用于前级机械泵14、样品空气锁： 独特的Whisperlok设计，样品更换时间1Min，无需破样品室真空4.4用户界面15、10 英寸触摸屏： 操作简单，且能够完全程序化控制所有参数可进行配方操作。16、配方操作模式：自定义不同的加工参数组合，实现一键操作。 产品主要应用领域： EBSD样品制备截面样品制备金属材料（合金，镀层）石油地质岩石矿物光电材料化工高分子材料新能源电池材料电子半导体器件PCB电路版截面抛光SEM图镀锌钢板截面抛光Zn晶粒 Fe晶粒

氩离子截面抛光仪 (Cross Section Polisher，简称CP)，凝聚了日本电子科技人员多年的梦想与实践，是扫描电镜、电子探针、俄歇电镜、EBSD分析等应用领域变革性创新发明。自2004年日本电子发明该仪器以来，在全世界迅速普及。用CP切割截面的方法甚至已经成为一种加工方法-CP法被定义下来，在很多论文里度可以查到。氩离子截面抛光仪顾名思义是使用氩离子束轰击样品表面进行样品加工，用其他方法难以制备的样品，软硬材质混合的复合材料，都能够制备出完美光滑的截面。除了表面极为平整外，被加工区域变形小、损伤小、无异物介入、结构无破坏是其主要特点。2017年1月JEOL推出新一代可监控智能化加工产品，型号IB-19530CP，加工质量和方便性大大提高。

1、离子平面抛光和离子切割一体化技术，一套系统实现两种模式，无需复杂的切换流程，简洁方便。2、动态离子切割技术，实现样品的往复平移和旋转，最大切割长度达10mm，有效减少投影/遮挡效应。3、超大的平面抛光装载尺寸50X25mm(直径x高)，为原位实验等大尺寸样品提供可能。4、能量0.5-10kv连续可调，既可满足低能区减少非晶层，又可兼顾高能区大幅提高制样效率。粗校准 → 样品抛光 → 观察抛光结果01将样品装入切割样品台，放入粗校准仪中进行校准，使样品平面与挡板平行，样品待切割面比离子束挡板上沿高出 10-200𝜇 𝑚 。02校准成功后将样品放入工作仓中，选择切割模式，点击每个离子枪的“步骤设置”，设置电压、电流和持续时间；选择“线性距离”，数值为样品半径或半宽。各参数均确认无误后，开启离子枪。03待设置的时间结束后，样品抛光完成，点击“返回常压“，取出样品即可进行后续电镜实验观察。

COXEM CP-8000+ 氩离子抛光是一种先进的样品制备工具，可使用氩离子束蚀刻样品的横截面。 该过程避免了物理变形和结构损坏，不需要复杂的化学过程。此外，该系统通过处理从几十微米到几毫米的大面积，简化了样品的横截面分析。 特 点● 每小时 700 μm 的高蚀刻速率（基于 Si，8 kV）● 能够保存/加载常用的配方● 具有自动执行功能的逐步操作配方● 使用智能样品架轻松装载样品● 通过腔室摄像头实时观察离子束状态和蚀刻状态● 便捷的操作——直观的GUI和简单的触摸屏● 通过离子束自动开/关功能减少热损伤● 使用内置数字显微镜通过离子束快速方便地对准样品● 配备低噪、隔振、无油隔膜泵● 具备平面铣削功能，可进行大面积平面蚀刻 CP抛光基本原理机械抛光 VS CP抛光 如果使用机械抛光装置进行抛光，由于物理损伤和污染，很难检查横截面的确切状态，但当使用离子束通过 CP 进行横截面加工时，可以观察微表面结构，样品无结构损坏和污染。 FIB 抛光 VS CP抛光 与聚焦离子束 (FIB) 相比，使用 CP-8000+ 蚀刻同一样品的截面时，您可以在更短的时间内蚀刻更宽的横截面，从而极大地节省时间和成本。 以下图像是同一样本在同一时间段内以两种不同方式（FIB 和 CP）铣削的结果。 数码显微镜 使用数字显微镜，可以通过屏幕轻松对准离子束的位置和样品的位置。仓室内摄像头 您可以通过腔室内的摄像头检查离子束的状态，并实时检查截 面蚀刻的程度。自动离子束开/关模式 该功能旨在通过根据设置的离子束开/关计时器打开和关闭离子束，减少离子束造成的热损伤。在蚀刻聚合物和纸张等热敏样品时，它对于获得准确的横截面条件非常有用。配方模式 常用的蚀刻条件可以存储在配方列表中，以便在需要时轻松应用设置值。此外，还可以使用分步模式来存储多个配方并自动执行它们来蚀刻样品。 平面抛光模式 CP-8000+ 可以使用专用支架在平面上处理样品。 当样品安装在专用支架上并使用平面铣削功能时， 离子束会基于旋转中心轴蚀刻几个平方毫米的区域。 在此刻，由于抛光速度、面积和深度根据离子束 撞击样品表面的入射角而变化，因此应通过旋转和调整样品的角度来实现均匀的表面抛光。 由于离子束照射的面积较大，可以蚀刻氧化层或异物，因此可用于大面积样品的预处理。 产品参数 加速电压2 to 8kV抛光速率700㎛ /h (at 8kV on Si wafer)样品台摆动角度±35° 尺寸20(W) × 10(L) × 5.5(T)mm16(W) × 10(D) × 9.5(H)mm样品移动范围X axis movement : ±1.5mm / Y axis movement : ±2mm平面样品台倾斜角度范围40° to 80°平面台样品尺寸Ø 30 × 11.4(H)mm操作方式7 inch 触控屏用于样品定位的数码显微镜Mag. x5, x10, x20, x40 用于监控的室摄像机Mag. x5, x10, x20, x404档亮度调节离子束观察模式(LED Off离子枪气体Argon gas (99.999%)气压0.1 Mpa (14.5psi)气压控制Mass Flow Control真空系统分子泵, 隔膜泵外形尺寸607(W) × 472(D) × 277.5(430.5)(H) mm重量主机 36kg / 隔膜泵 6.5kg 特点Auto Beam On/Off modeStep by step mode

●不再手持物料研磨, 不再人工设定研磨机与抛光各项参数●系统自动取放物料, 对物料进行粗磨, 细磨,清洗以及抛光●自动控制研磨机与抛光机开关, 自动设定研磨的尺寸与精度●系统自动记录物料所有数据, 用于后续分析●可按要求将数据自动上传至实验室主系统

氩离子截面抛光仪 (Cross Section Polisher，简称CP)，凝聚了日本电子科技人员多年的梦想与实践，是扫描电镜、电子探针、俄歇电镜、EBSD分析等应用领域变革性创新发明。自2004年日本电子发明该仪器以来，在全世界迅速普及。用CP切割截面的方法甚至已经成为一种加工方法-CP法被定义下来，在很多论文里度可以查到。氩离子截面抛光仪顾名思义是使用氩离子束轰击样品表面进行样品加工，用其他方法难以制备的样品，软硬材质混合的复合材料，都能够制备出完美光滑的截面。除了表面极为平整外，被加工区域变形小、损伤小、无异物介入、结构无破坏是其主要特点。2017年1月JEOL推出新一代可监控智能化加工产品，型号IB-19530CP，加工质量和方便性大大提高。

IMP220离子减薄抛光仪配置两把宽束氩离子枪，可为透射电镜样品制备离子减薄样品，也可对平整表面样品进行直径20mm以上的大面积离子束抛光，去除表面污染、机械划痕和应力损伤层。两把宽束氩离子枪，更低的样品热损伤和非晶化损伤Long Scope IMP220 的宽束氩离子枪对样品进行离子减薄，可获得比聚焦型离子枪更低损伤和更大可观察面积的薄区，选配冷冻台附件可高质量加工热敏感材料样品。大样品仓和样品台移动范围，兼顾离子减薄和离子抛光Long Scope IMP220配置多种样品台，适用常温或冷冻条件下的离子减薄，和用于扫描电镜样品的大面积离子束抛光，兼顾广泛类型的材料电镜样品。配置真空冷冻样品转移仓，真空或保护气氛条件下转移样品Long Scope IMP220通过真空冷冻样品转移仓装载、转移或卸载样品，维持样品仓处于高真空洁净状态，样品离子加工之后可在真空或保护气氛条件下转移至电镜仓内。

价格货期电议KRI 考夫曼离子源典型应用 IBF 离子束抛光工艺 离子束抛光加工 Ion Beam Figuring, IBF 已逐渐成为光学零件表面超精加工常用的最后一道工艺, 离子源是离子束抛光机的核心部件. 上海伯东美国 KRI 直流电源式考夫曼离子源 KDC 系列成功应用于光学镀膜离子束抛光机 IBF Optical coating 及晶体硅片离子束抛光机 IBF Clrystalline )工艺.考夫曼离子源通过控制离子的强度及浓度, 使抛光刻蚀速率更快更准确, 抛光后的基材上获得更平坦, 均匀性更高的薄膜表面. KDC 考夫曼离子源内置型的设计更符合离子源于离子抛光机内部的移动运行. 上海伯东是美国 KRI 考夫曼离子源中国总代理.KRI 离子源离子束抛光实际案例一:1. 基材: 100 mm 光学镜片2. 离子源条件: Vb: 800 V ( 离子束电压 ), Ib: 84 mA ( 离子束电流 ) , Va: -160 V ( 离子束加速电压 ), Ar gas ( 氩气 ).离子束抛光前平坦度影像呈现图离子束抛光后平坦度影像呈现图KRI 离子源离子束抛光实际案例二:1. 基材: 300 mm 晶体硅片2. 离子源条件: Vb: 1000 V ( 离子束电压 ), Ib: 69 mA ( 离子束电流 ), Va: -200 V ( 离子束加速电压 ) Ar gas ( 氩气 )离子束抛光前平坦度影像呈现图离子束抛光后平坦度影像呈现图 KRI 离子源实际安装案例一: KDC 10 使用于光学镀膜离子束抛光机KRI 离子源实际安装案例二: KDC 40 使用于晶体硅片离子束抛光机上海伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 系列根据客户离子抛光工艺条件提供如下型号:型号KDC 10KDC 40KDC 75KDC 100KDC 160电压DC magnetic confinement- 阴极灯丝11222- 阳极电压0-100V DC电子束电子束- 栅极专用,自对准- 栅极直径1 cm4 cm7.5 cm12 cm16 cm 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.若您需要进一步的了解 KRI 考夫曼离子源, 请查看官网或咨询叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

德国NTG公司有30年的离子束设备研发和生产经验，是专业的离子束抛光机制造商，在世界范围拥有众多的知名用户。产品型号IBF100，IBF200，IBF300，IBF450，IBF500，IBF700以及超大型IBF1500，IBF2000等。加工精度PV值最高达1/100波长，RMS 1nm,最大加工直径2000mm.详细信息：0216148208013501902109w.zhang@oec-shangh.com

技术特色： 专利电磁聚焦离子枪设计 超宽加速电压范围（可达10keV），抛光效率高 电压范围不高于100eV，修复后近乎无损 配备液氮冷台（可持续制冷超过18小时），去除热损伤 同时具备截面切割和平面抛光功能 可选配真空转移

Aries-2211 514/25常用氩离子激光系统若使用密封氩离子激光管必须具有刚性底座的封装，而轴向高流量风扇设计可以为激光管提供安静有效的冷却，还可以提供远程冷却选项。Aries-2211激光头使用先进的LPS-1300电源，激光头通过高柔性连接线连接到该电源，Aries-2211旨在替代JDSUTM2211系列激光头源。 激光器参数波长（单线）514.5nm最大输出功率25mW光束模式TEM00光斑直径0.70mm@1/e2光束发散角0.90mrad光斑指向稳定性＜30urad功率漂移（预热后）＜±1%噪声＜1%RMS偏振比＞250:1预热时间5minutes工作电压/频率105VAC-120VAC/50Hz-60Hz功耗＜1200W重量4.1Kg

徕卡三离子束切割仪您是否需要制备硬的，软的，多孔，热敏感，脆性和/或非均质多相复合型材料，获得高质量样品表面，以适宜于扫描电子显微镜(SEM)分析和原子力显微镜(AFM)检测。 Leica EM TIC 3X 的宽场离子束研磨系统非常适合能谱分析EDS、波谱分析WDS、俄歇分析Auger、背散射电子衍射分析EBSD。离子束研磨技术是一个适用于任何材质样品，获得高质量切割截面或抛光平面的解决方案。使用该技术对样品进行处理，样品受到形变或损伤的可能性低，可暴露出样品内部真实的结构信息。徕卡三离子束切割仪 可以灵活选择多种样品台，不仅适用于高通量实验，也适合于特定制样需求实验室。依据您具体需求，每一台Leica EM TIC 3X都可装配多种可切换样品台，如标准样品台、三样品台、旋转样品台或冷冻样品台，应用于常规样品制备，高通量样品制备，以及某些高分子聚合物，橡胶或生物材料等温度极敏感样品制备。其与Leica EM VCT环境传输系统相连接，可以实现将冷冻的生物样品表面受保护地被真空冷冻传输进入镀膜仪或冷冻扫描电镜(Cryo-SEM中，或者应用于地质或工业材料样品，实现真空传输。操控性能方面创新特点：★★★ 可获得高质量切割截面，区域尺寸可达4x1mm★★★ 多样品台设计可一次运行容纳三个样品★★★ 可容纳大样品尺寸为50x50x10mm或直径38mm★★★ 可简易准确地完成将样品安装到载台上以及调节与挡板相对位置的校准工作★★★ 通过触摸屏进行简单操控，不需要特别的操作技巧★★★ 样品处理过程可实时监控，可以通过体视镜或HD-TV摄像头观察★★★ LED4分割照明，便于观察样品和位置校准★★★ 内置式，解耦合设计的真空泵系统，提供一个无振动的观察视野★★★ 可在制备好的平整的切割截面上可再进行衬度增强作用，即离子束刻蚀处理★★★ 几乎适用于任何材质样品，使用冷冻样品台，挡板和样品温度可降至-160℃★★★ 通过USB即可进行参数和程序的上传或下载★★★ 一体化解决方案，大大节约用户的干预时间高效所谓真正的高效是一台离子束研磨仪既可以获得高质量结果，又可高通量制样。除了散焦三离子束超越传统，使样品制备结果优化并有效缩减工作时间，我们将离子束研磨速率提高至原来的2倍。一次运行可容纳三个样品。使用一款样品台就既可实现离子束切割又可离子束抛光。一体化解决方案确保样品被安全而高效地转移至后续制备设备或分析仪器中。灵活：装配您的系统现在的科研实验室往往寻求快速简单的样品制备方法同时又不放弃高质量高标准要求。Leica EM TIC 3X三离子束切割仪的创新技术正为这一类有着高期望值的实验室提供解决方案，以实现你们的目标。根据应用需求，Leica EM TIC 3X可以由您装配用于标准类型样品制备，高通量样品制备以及特殊的热敏感型样品在低温下样品制备（如聚合物、橡胶，甚至生物材料等）。样品可被真空冷冻传输进入冷冻扫描电镜Cryo-SEM为满足个性化应用需求，共提供五种可切换样品台:★★ 旋转样品台 ★★ 三样品台 ★★ 标准样品台 ★★ 冷冻样品台 ★★ 真空冷冻传输对接台与制样流程的兼容性使用一款样品载台，样品可以从Leica EM TXP精研一体机中机械预制备，Leica EM TIC 3X中离子束研磨，再到SEM中检测都保持原位。另外，Leica EM TIC 3X可以用来制备环境敏感型样品，例如将Leica EM VCM放置于手套箱中，这类预制备好的样品可以不更换样品载台，通过Leica EM VCT传输舱被直接传输进入带有VCT接口的离子研磨仪Leica EM TIC 3X中。经过离子束加工后，样品可以不暴露到空气环境中，再直接被转移进入后续步骤技术手段。例如进Leica EM ACE600进行镀膜，和/或SEM检测。可复制的结果Leica EM TIC 3X 三离子束切割仪可制备横切面和抛光表面，用于扫描电子显微镜 (SEM)、微观结构分析 (EDS、WDS、Auger、EBSD) 和 AFM 科研工作。使用 Leica EM TIC 3X，您几乎可以在室温或冷冻条件下，对任何材料实现高品质的表面处理，尽可能显示样品近自然状态下的内部结构。

氩离子截面抛光仪 (Cross Section Polisher，简称CP)，凝聚了日本电子科技人员多年的梦想与实践，是扫描电镜、电子探针、俄歇电镜、EBSD分析等应用领域变革性创新发明。自2004年日本电子发明该仪器以来，在全世界迅速普及。用CP切割截面的方法甚至已经成为一种加工方法-CP法被定义下来，在很多论文里度可以查到。氩离子截面抛光仪顾名思义是使用氩离子束轰击样品表面进行样品加工，用其他方法难以制备的样品，软硬材质混合的复合材料，都能够制备出完美光滑的截面。除了表面极为平整外，被加工区域变形小、损伤小、无异物介入、结构无破坏是其主要特点。2017年1月JEOL推出新一代可监控智能化加工产品，型号IB-19530CP，加工质量和方便性大大提高。

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科正600A等离子电桨抛光机去毛刺设备主要用于眼镜、卫浴、手表、饰品、精密五金等产品的加工。等离子抛光技术主要是针对上前市场上不锈钢，锌合金，铜合金及铝合金等抛光的难题耐研发的，该技术可以去除产品表面毛刺，不锈钢产品可达到表面镜面抛光效果。抛光样品图：等离子抛光去毛刺设备特点如下：一、等离子电浆抛光机适合6种以上金属材质抛光传统的设备只能抛光不锈钢材质产品，但是如今，不仅仅可以抛光不锈钢产品，还可以抛光铜，镁合金，锌合金，不锈铁，铝合金，金银等金属材质产品。一台设备就可以完成多种材质产品的抛光处理。为企业剩下了高昂的购机成本。二、等离子抛光去毛刺设备应用行业广泛1、卫浴餐具行业2、眼镜行业3、钟表行业/五金饰品行业4、手机电子行业5、小家电行业6、航天航空行业7、等其他要求精度高标准的行业 三、抛光去毛刺设备机8大优势技术突破后的等离子抛光设备效率极高。传统人工抛光的方式对于小五金件，一个熟手一天也难处理好100件，但是，本设备一分钟即可抛光100多件产品。优势一、抛光效果镜面高亮精度可达0.002mm，粗糙度（RMS)可达0.01微米优势二、生产效率100件/分钟优势三、低耗电70度/小时优势四、一机多用可抛光：锌合金，镁合金，黄铜，不锈钢，金银等材质产品优势五、三重 保障1. 电压电流过载预警保护2. 温度实时检测和补偿保护3. 防漏电触电门保护优势六、环保 无污染优势七、不伤产品不会伤害产品优势八：生产效率有很大的提升1台设备每天产量超过100个人工作产量咨询：13724587140设备图供参考：

三脚抛光器（Tripod Polisher又名楔入式抛光器、抛光具）由IBM公司科学家设计，是一款用于SEM和TEM电镜制样的精密仪器。它大大降低了样本对离子减薄的依赖，缩短了制备时间，某些时候它可以省去离子减薄工序。Model 590三脚抛光器（tripod polisher）即可用于平面样本的制作，也可用于截面样本。适用于多种材料，比如陶瓷、高分子、金属、地矿物质材料等。EMS公司推出三款三脚抛光器，Model 590TEM、Model 590SEM、Model 590TS。产品信息：货号产品名称规格50115-10Tripod Polisher , Model 590 TEM个50115-20Tripod Polisher , Model 590 SEM个50115-30Tripod Polisher , Model 590TS (SEM &TEM)个主件介绍：主机：含有3个测微计带delrin脚，无论是圆形样品还是L形架在抛光时都可以与主机连接。 圆形样品安装器：圆形样品安装器中心有一个pyrex棒，用于使TEM样品平行抛光，pyrex插件使样品可在透射光下进行观察，以测量其厚度。 L形架：L形架可容纳SEM柱及pyrex插件。 SEM拄：SEM螺柱适用于大部分SEM的样品。 Pyrex插件：用于更换SEM柱，pyrex插件使样品可在透射光下进行观察，以测量其厚度。 平直工具：平直工具与60μm金刚砂研磨胶片一起使用，用于将delrin脚与抛光主机平行。还出售各类金属抛光膏。

VibroMet™ 2 振动抛光机仪器简介：该振动抛光机为标乐公司第二代振动抛光产品。目前，已广泛的应用与各大企事业单位和研究院所大学。对于SEM扫描电镜EBSD分析用样品的制备非常有效！技术参数：1、 防腐蚀、防冲撞的整体设计；2、 前置触摸式液晶显示屏：操作简单，易行，操作包括：启/停显示（灯）和振动速度控制；3、 数字式液晶屏可清晰地显示振动电流变化的柱状曲线；4、 透明的抛光盘防尘罩可保证抛光盘的洁净；5、 可快速更换的抛光盘；6、 宽大的抛光盘（12英寸直径）可承载多至18个镶嵌样品或较大的无需镶嵌的样品；8、 无需操作者参与的全自动工作过程；9、 可调节电流的水平振动驱动系统，转速可达7200转/秒。10、有不同尺寸的样品卡持器供选择：（1）用于镶嵌好的直径为：1”, 11/4”, 11/2” 的样品的卡持器；（2）用于不镶嵌样品的配重。 制样能力强大，可同时制备多达18个样品 一系列适用于不同镶嵌样品的卡具和配重 大型未镶嵌试样可轻易抛光。样品一旦装载便无需操作员过多留心。 标准配置：1、 振动抛光系统；2、 试用品：少量抛光布、0.05微米的氧化铝抛光粉、0.02微米的氧化硅抛光液；3、 说明书主要特点：Vibromet 2型振动抛光机对于较难制备的材料以及需要充分去除应力和整体不允许有任何破坏的精密元器件等样品的表面抛光工作非常适合，从而充分的满足材料样品微观分析（尤其是EBSD分析）的需要。包括，并不限于以下应用：1、较软材料，如：铝、铜、镍等；2、表面镀层；3、整体不允许做任何破损的精密元器件；4、高科技超合金；5、岩相超薄片样品的制备：抛光后的样品厚度可达至5~10微米EBSD应用说明：对于多相（基体+其他相）的材料（不限于多相材料），如果通过观察检验，变形层还存在，那么，就需要利用振动抛光机（Buehler VibroMet 2 Vibratory Polisher）再进行20~30分钟的振动抛光以充分的去除变形层，从而获取符合高品质的EBSD实验图形要求的样品制备结果。所有的金属材料，即使是硬质合金材料，皆可通过振动抛光来充分的去除残余变形，从而提高EBSD实验图形的品质。 VibroMet™ 2 振动抛光机 规格频率50/60电压115/220相数1如需了解更多有关 SimpliVac的技术参数、附件及耗材信息欢迎咨询！ 关于标乐（Buehler） 标乐（Buehler）是材料制备、图像分析和硬度测试所用仪器、附件、耗材和相关技术的出色供应商。标乐（Buehler）产品涵盖众多行业，包括金属、汽车、航空航天、电子、医疗、能源等。 标乐公司与 ASM International（美国材料信息学会）、American Society for Testing and Materials（美国材料和测试协会）和 International Metallographic Society（国际金相学学会）等联盟机构保持着行业合作伙伴传统。标乐公司自 1946 年起便赞助 ASM Francis F. Lucas Metallographic Award 金相奖，并赞助了 International Metallographic Society（国际金相学学会）的 Pierre Jacquet Award 奖项，为材料科学的研究做出贡献。 标乐（Buehler）隶属于美国ITW集团（伊利诺伊工具公司），总部坐落在美国伊利诺伊州莱克布拉夫市。ITW是一家美国财富200强企业，在全球从事增值耗材、特种设备的工业产品制造并提供相关服务。 标乐公司于1936年建立，是最早为材料分析行业制造科学设备和材料的厂商。2011年标乐和威尔逊硬度计合并，提供了更全的材料制备和分析检测设备。标乐现已在9个国家成立办事处、在100多个国家设立销售网点并拥有超过45个标乐解决方案中心。- 标乐中国 -依工测试测量仪器（上海）有限公司标乐（Buehler）&威尔逊（Wilson）厂家

LaboSystem快速实现可靠且可调节的研磨和抛光LaboSystem 事实锥盘系统椭圆状的防溅环和碗持久耐用性方便操作人员可满足您不断变化的需求LaboSystem 旨在在实验室或生产线旁实现快速且可靠的手动和半自动研磨和抛光，可随时执行检测操作。LaboSystem 是一种组装式研磨和抛光系统，有三种 LaboPol 抛光机、三种 LaboForce 移动盘和两种 LaboDoser 配料装置供选择。这三种装置有七种不同的组合，因此可充分满足要求苛刻的生产环境中不断变化的需求。Struers LaboSystem 还具备连续生产所需的耐用性和速度，有助于更加快速可靠的制备样品。可靠LaboPol 是由耐腐蚀和抗冲击的材料制造而成。全新的 LaboSystem 产品均已通过 40,000 次循环的耐用性测试以及在四个不同国家开展的为期六个月的现场测试。快速LaboSystem 是一款易于学习的系统，即使是没有操作经验的操作人员，也可在数分钟内完全掌握操作要领，实现全速制备。适应性强LaboSystem 的模块化设计允许用户根据自己的需求自由定制制备或研磨/抛光设备。可随时更新 LaboSystem，以满足新的要求。机型号LaboSystem 有许多型号，详细信息请参见规格。LaboPol-20：LaboPol-20： 可変速 (50-500 rpm) 的研磨/抛光机，适用于直径为 200 毫米的盘。配置手动防溅板和碗型衬板。LaboUI 控制面板和盘 要单独订购。可以安装试样移动盘 LaboForce-50。LaboPol-30：LaboPol-30： 可変速 (50-500 rpm) 的研磨/抛光机，适用于直径为 230、250 或 300 毫米的盘。配置手动防溅板和碗型衬板。LaboUI 控制面板和盘需要单独订购。可以安装试样移动盘 LaboForce-50/-100/Mi。LaboPol-60：LaboPol-60： 可変速 (50-500 rpm) 的研磨/抛光机，适用于直径 250 或 300 毫米的 2 种盘。每个盘均配有自动水阀、手动防溅板和碗型衬板。LaboUI 控制面板和盘需要单独订购。可以安装一个试样移动盘 LaboForce-50/-100。详情也可 点击此处 进入官网了解更多。

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传统的机械研磨方式制备样品断面，断面不可避免的存在机械损伤和磨料嵌入样品引起的污染。使用氩离子束切割样品制备，可以制备出没有机械损伤和表面污染的平整断面，非常适用于 制备电池材料和部件的断面样品，从而进行扫 描电子显微镜结构表征分析。Thermo Scientific CleanMillTM 为电池断面样品提供了完善的氩离子束研磨方案，可实现对电子束敏感材料和空气敏感材料本真状态下的SEM成像和表征分析。 Thermo Scientific CleanMillTM 氩离子束断面研磨系统（BIB-CP）旨在为精确的表征提供优质高效的样品制备方案。其标配的 16 keV 超高能离子源在保证研磨质量下具有更强的溅射能力和更高的研磨效率。同时，低能量离子源可实现对具有精细结构和易受离子束辐照损伤样品的无损精抛和清洁。 诸多电池材料和部件具备电子束敏感和空气敏感的特性。Thermo Scientific CleanMillTM 与 CleanConnectTM 兼容，使得 Thermo Scientific IGST 工作流程完善。CleanConnect 样品转移系 统提供了一套超高性价比的集成化解决方案，允许样品在惰性气体 / 真空下快速转移至电子显微镜样品仓内。这种真空联锁解决方案采用直径达 25mm 的标准样品台，极大地简化了不同样品在 SEM/DualBeam 系统转移的工作。样品可在手套箱内装载至 CleanConnect 样品仓内，进而通过 CleanConnect 转移至 CleanMill 中进行断面样品制备。随后，将CleanMill中制备好的 断面样品采用CleanConnect 转移至 Thermo Scientific SEM 中进行微观结构表征。整个过程中样品都处于惰性气体保护状态以保证其断面完整性。该工作流程极大地简化了样品转移工作，提高 了结果获取速度，实现了在本真状态下对空气敏感材料的结构表征。 关键优势 高能量离子枪可实现快速研磨和抛光 采用专用90°样品台制备截面样品 自动化参数设置和操作，可实现样品旋转和摆动操作 可进行空气敏感材料的样品制备，使得赛默飞惰性气体样品转移工作流程（IGST）更为完善 配备高分辨CMOS相机和触控屏，可实时观察样品研磨过程 可选配低能量离子枪，实现对具有精细结构和易受辐照损伤样品的 无损精抛和清洁。 可选配冷台，在进行电子束敏感样品的冷冻研磨时可实现自动液氮加注 Thermo Scientific CleanMill 与 CleanConnect 和全套 IGST 工作流程兼容，实现对空气敏感材料在本真状态下的表征分析。规格参数 离子枪选择标配超高能量离子枪，加速电压连续可调 2 – 16 keV 离子束电流范围：20 – 500 A 溅射速率： 500 m/hr 选配低能量离子枪 加速电压：100 eV – 2 keV 自动化的离子源设置成像系统带有固定X10放大功能的高分辨CMOS相机，其数字放大功能可实 现连续调至X120样品台 样品倾斜：0°到180°，0.1°增量 样品旋转：面内旋转 360°样品摆动：面内摇摆，从±1°到 ±180°，1°/步样品托种类和可承载尺寸 标准型表面抛光样品托 承载样品尺寸Ø 30 mm x 15 mm CleanConnect兼容样品托： 表面抛光o 承载样品尺寸Ø 28 mm x 3 mmo 可互换样品托可承载样品尺寸Ø 20.5 mm x 8.5 mm 截面抛光o 90° 样品托：承载样品尺寸 10 mm (长) x 10 mm (宽) x 3 mm (高)真空系统 无油隔膜泵和涡轮分子泵，带（皮拉尼/潘宁）真空计气体供应体统 氩气 （纯度99.999%） 高精度气体流量控制系统计算机控制系统 易操作的触控屏图形用户界面（Touch GUI）o 系统设置o 研磨参数设置o 操作控制 Touch GUI采用Windows 11系统可选配件 带有自动加注功能的液氮制冷台，可实现无间断冷冻磨抛 样品调节定位装置 其他备件和易耗损件 适用于可加载CleanConnect的手套箱端口装置保修和培训 1年保修 设计简化，仅需简单培训 包含使用说明的用户手册安装要求 预留安装端口 (其他附件不能共用此端口) 环境：与普通显微镜的要求相同，见预安装手册 仪器右侧必须留有足够空间，以便使用CleanConnect转移杆 系统尺寸： 70 cm (宽) x 70 cm (深) x 61 cm (高) 由CleanMill制备的NMC阴极极片截面，采用Apreo 2S成像

500-2050nm宽波段稳频激光系统我们专长于用户定制姓名：郭工(Barry)电话：（微信同号）邮箱：Stable Laser System 自豪地为用户提供多种完备的激光稳频系统以满足其需求。我们的高性能稳频激光可以在室温的条件下实现1 Hz 的线宽并且日频率漂移 20 kHz。 稳频激光系统的优异表现基于组装在超低漂移的支撑系统及真空室中的圆柱形腔体及高精细度反射镜。系统的可靠表现通过以下几方面得以保证：在安装前对腔体进行测量，仔细检测腔体温度及输出功率（对波长小于1100 nm使用腔横模成像）， 主动隔振平台，光纤耦合输出，腔体稳定于热膨胀系数为零的温度， 等等。我们为用户提供的激光稳频系统经过严谨的设计，使其可以方便地与新的研究领域进行衔接。我们关于真空室及腔体支撑的专业知识，以及对各个波长的激光及光学知识是每一个系统的核心。每一台稳频激光输出的频率稳定度必如您所需-我们可以保证。用户定制的817 nm激光稳频系统。该波长为镱离子光钟钟跃迁频率的亚谐波。同时该系统集成了435.5 nm 倍频模块。监视输出• PDH 误差信号• 腔反射的光功率• 腔透射的光功率 （对波长小于1100 nm 采用腔模成像）• 真空度• 真空室温度系统性能波长范围• 基于用户定制及适用的激光光源• 可用的波长包括698, 729, 1032,1064, 1156, 1550, & 1756 nm 及其他.。 其他波长可依• 据用户需求输出功率＞10 mW稳频激光线宽 1 Hz (测量积分时间1 秒，光外差拍频并移除线性漂移) 或更好频率漂移在工作温度范围内 20 kHz /天工作温度范围18-25 °C温度漂移在室温下 7 mK/K隔热系统导热率在室温下 小于 0.3 W/K腔体支撑精度真空室主轴1 mm 内真空度 3×10-7 Torr腔热膨胀系数过零点温度直接测量腔体温度。选项： 为达到zui好的稳定度，该温度保证高于室温机械与光学激光光源光纤激光，钛宝石激光，半导体激光或外腔式半导体激光隔振系统Herzan AVI-350ML光学谐振腔ATF-6020-2 圆柱型切边腔或ATF-6300球型腔。精细度大于500000，依赖与波长。腔镜由平面镜和凹面镜（曲率半径50 厘米）组成真空室全铝制。前法兰由Viton O-ring 密封，后法兰，通光窗口及不锈钢制三通由铟丝密封。三通具有两个1.33 英寸刀口法兰用于连接离子泵和金属阀门。通光窗口与真空室主轴夹角为2度；镀有防反膜，反射率 0.1%真空室与平台连接尺寸 80 x 80 x 40 cm主要光学部件尺寸 80 x 80 x 40 cm, 重量 40-120 kg电子设备工作电压110/115/230 VAC功率消耗 100 W线路频率50-60 Hz制冷需求无热敏电阻两个，在 25 °C 为10 k ohm加温电阻6 ohm, 30 W

一、产品特点： 1、加工面积大：样品尺寸：0~?25mm； 2、样品表面更均匀； 3、加工时样品表面能量低，特别对于薄膜、高分子样品（对温度敏感性高的样品）损伤小； 4、控制精度高，实验结果精准可控重复性高； 5、配备专用截面样品台； 6、可实现多种功能：离子减薄、等离子清洗、截面样品抛光、离子刻蚀、EBSD样品制备； 7、专用挡板； 8、制备单个样品可实现不同能量自动调整； 9、数字化自动控制系统。二、技术参数： 1、真空度：极限真空度5*10-3Pa （不通氩气）； 2、*高压：（1）200~10000V； 3、样品台可旋转； 4、具有自保护功能； 5、双离子枪可独立控制； 6、样品冷却：半导体冷却（ 选配件）。

一、仪器介绍MT-PM100电极探针精密抛光仪是一款满足石英及玻璃材质探针以及超微电极抛光需求的精密抛光仪，配备高精密电动直线滑台控制探针（或超微电极）的上下移动，通过可调速微型电机驱动磨盘均匀且稳定地旋转，实现探针（或超微电极）针尖的精密抛光。还配备了电子显微镜和高清显示器，实时监控抛光过程，确保针尖抛光的精确性。另外，配置了高灵敏度阻抗检测单元，可以用来原位监测玻璃封装（尖端绝缘）的金属纳米电极的导电暴漏。二、主要参数抛光范围空心石英管/玻璃管、玻璃封装金属电极、碳纳米电极等磨盘面型λ/4@633 nm磨盘转速0-300 r/min可调阻抗检测响应时间1 ms制备直径范围实心电极（≥20 nm）；空心管（≥1 um）步进速度0.001~30 um/s可调显微镜HDMI接口，含位置测量软件，可观测10 um的物体三、仪器构成及使用方法电极探针精密抛光仪整体构成如上图所示，主要由以下部分构成：电子显示屏（1）；电源开关（2）；磨盘正反向旋转按钮（3）；磨盘转速显示器（4）；磨盘转速调节器（5）；磨盘停止旋转按钮（6）；触屏显示器（7）；皮带（8）；光源（9）；步进电机（10）；电动直线滑台（11）；探针固定器（12）；抛光磨盘（13）；滤纸（14）；滤纸固定器（15）；电极夹（16）；电子显微镜（17）。电极探针精密抛光仪的触屏显示器页面如上图所示，包括手动模式和阻抗模式两种模式。“手动模式”使用系统配备的测量工具，手动测量探针需抛光的长度，设定步进距离控制探针的抛光，主要用于空心石英管/玻璃管的抛光。“阻抗模式”使用系统检测并响应阻抗的变化以控制超微电极的抛光，主要用于玻璃封装的金属电极、碳纳米电极的抛光。“Z轴回原”使探针/超微电极回到系统设定的初始高度。手动模式的使用方法：打开仪器和灯源开关，通过按钮使磨盘开始正向旋转，将配套的滤纸用去离子水润湿（通过虹吸作用在磨盘上形成一层水膜，并阻拦抛光过程中产生的碎屑），再通过按钮使磨盘停止转动以便于后续观察。将探针尾部插入通有氩气的通气管，固定在探针固定器凹槽内，设置步进距离，通过高精密电动直线滑台控制探针向下移动，直到在显微镜下观察到探针针尖及其在磨盘上的影像。使用显微镜工具页面中的“测量工具”测量并计算步进距离，下移探针至探针尖端与磨盘接触。启动磨盘转动，根据需求调节磨盘转速、探针移动速度以及步进距离，开始抛光。待剩余距离和时间归零，探针停止下移，抛光结束。阻抗模式的使用方法：打开仪器和灯源开关，将待抛光的超微电极和镍丝固定并连接电极夹，设置步进距离，步进电机向下移动，直到在显微镜下可以观察到超微电极尖端及其在磨盘上的影像。当超微电极尖端与其影像的距离接近5 um时，滴加KCl电解质溶液以覆盖超微电极和镍丝尖端。根据需求调节磨盘转速、超微电极移动速度以及步进距离，开始抛光。当仪器检测到超微电极阻抗时，会立即停止抛光并自动回原。

新升级的美国Allied精密研磨抛光机 MultiPrep™ 高精密研磨系统，采用7寸LCD触摸屏完成所有操作，研磨系统精度能够达到1um，适用于高精密（金相，SEM，TEM，AFM等）样品的前处理 Allied精密研磨抛光机 MultiPrep™ 系统适用于高精密（金相，SEM，TEM，AFM等）样品的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光，精确角度抛光，定点抛光或几种方式结合抛光；它解决了操作者之间的不一致性，提供可重复的结果，而不管他们的技能如何； MultiPrep 无须手持样品，保证只有样品面与研磨剂接触。 双测微计（倾斜度和摆动度）允许相对于研磨盘进行精确的样品倾斜度调整；精密的Z-轴指示器保证在整个研磨/抛光过程中维持预定义的几何方向。 数字指示器可以量化材料的去除率，可以实时监测或进行预先设定的无人操作。可变速的旋转和振荡，能够最大限度地提高整个研磨/抛光盘的使用和减少手工制样。可调负荷控制，扩大了其从小样品（易碎样品）到大样品的全方位处理能力。 常见的应用包括并联电路层级，横截面，楔角抛光等特征MultiPrep定位头特点：前数字指示器显示实时的材料去除率（样品的行程），1微米分辨率精确主轴设计保证样品垂直于研磨盘，使之同时旋转双轴测微计控制样品角坐标设置（斜度和摆度），+10°/-2.5°幅度， 0.02° 增量。后置的数字指示器显示垂直位置（静态），具有归零功能，1微米分辨率6倍速样品自动摆动齿轮传动主轴应用于要求较高的转动力矩，如较大或封装的样品凸轮锁紧钳无需其他辅助工具，方便用户重新设置工作夹具8倍速样品自动旋转样品调整范围：0-600克（100克增量）美国ALLIED设计制造研磨/抛光机特点：研磨盘速度范围：5-350 RPM（5转速增量）数字计时器和转速表7“LCD触摸屏，带键盘输入控制所有功能顺时针/逆时针研磨盘旋转可选的AD-5 ™ 自动操作流体分配器调节阀电子控制冷却液0.5 HP（375 W），高扭矩马达稳定的RIM，铝和不锈钢结构腐蚀/耐冲击盖一年保修符合欧盟CE标准由美国Allied设计制造 项目＃描述15-2200MultiPrep™ 精密抛光系统，用于8”研磨盘，100-240 V 50/60 Hz 1相包括：飞溅环和压板盖，刻度盘指示器校准套件，夹具/附件存储盒Dims: 15" W x 26" D x 20" H (381 x 660 x 508 mm)Weight: 95 lb. (43 kg)15-2200-TEM带O型环驱动的MultiPrep™ 系统，用于8”研磨盘，100-240 V 50/60 Hz 1相 - 专为透射电子显微镜而设计样品制备精致材料研磨抛光包括：飞溅环和压板盖，刻度指示器校准套件，夹具/附件存储盒Dims: 22" W x 26" D x 21" H (560 x 660 x 535 mm)Weight: 125 lb. (57 kg) 产品附件注：夹具/磁性研磨盘，设备及配件单独出售。请从下面附件列表中选择，以保证一个完整的系统配置的报价。项目＃配件图片描述15-1005用于 #15-1010, #15-1010-RE, #15-1013上的凸轮锁连接器15-1010含有3.1mm可拆卸扫描电镜样件的横截面扁板15-1010-RE用于#15-1005, #69-50000, #69-41000, #69-41005上的含有基准线的横截面扁板15-1013含有5.3 mm宽 x 3.5 mm深的耐热玻璃插件的TEM楔形/FIB 上用减薄夹具15-1014TEM楔形/FIB 夹具和4个 #69-40015耐热玻璃插件15-1018含有 0.5” 直径x 0.4” 高的耐热玻璃插件的SIMS/TEM 上用减薄夹具15-10202.25" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1020-803" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1020-1004" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1025可镶嵌40 mm大小件的泪滴状夹具15-1035重量块套件包含：1个200克 和1个100克桶形重量块,1个200克1个100克和1个 50克 槽形重量块及1个固定杆15-10452.00" 宽 x 1.00" 高 x 0.75" 深 袋形多功能夹具15-104645°对角线方向, 2.00" 宽 x 1.00" 高 x 0.80" 深 袋形多功能夹具15-10471.00" 宽 x 0.40" 高 x 0.45" 深 袋形多功能夹具15-104845° 对角线方向, 1.00" 宽 x 0.40" 高 x 0.45" 深 袋形多功能夹具15-1050有0.63" 宽 x 0.10" 高x 0.25" 深的袋形 夹式横截面扁板15-1051对角线方向夹式横截面扁板120-30015含花岗岩底座的数显指示器测量系统10-10058“英寸（203毫米）铝研磨盘10-1005M8“英寸（203毫米）磁性研磨盘5-8100研磨盘、砂纸、抛光布储物柜，最大可放置12”大小5-8105铝制托盘/架子

新升级的美国ALLIED MultiPrep高精密研磨系统，采用7寸LCD触摸屏完成所有操作，研磨系统精度能够达到1um，适用于高精密（金相，SEM，TEM，AFM等）样品的前处理 MultiPrep™ 系统适用于高精密（金相，SEM，TEM，AFM等）样品的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光，精确角度抛光，定点抛光或几种方式结合抛光；它解决了操作者之间的不一致性，提供可重复的结果，而不管他们的技能如何； MultiPrep 无须手持样品，保证只有样品面与研磨剂接触。 双测微计（倾斜度和摆动度）允许相对于研磨盘进行精确的样品倾斜度调整；精密的Z-轴指示器保证在整个研磨/抛光过程中维持预定义的几何方向。 数字指示器可以量化材料的去除率，可以实时监测或进行预先设定的无人操作。可变速的旋转和振荡，能够最大限度地提高整个研磨/抛光盘的使用和减少手工制样。可调负荷控制，扩大了其从小样品（易碎样品）到大样品的全方位处理能力。 常见的应用包括并联电路层级，横截面，楔角抛光等特征MultiPrep定位头特点：前数字指示器显示实时的材料去除率（样品的行程），1微米分辨率精确主轴设计保证样品垂直于研磨盘，使之同时旋转双轴测微计控制样品角坐标设置（斜度和摆度），+10°/-2.5°幅度， 0.02° 增量。后置的数字指示器显示垂直位置（静态），具有归零功能，1微米分辨率6倍速样品自动摆动齿轮传动主轴应用于要求较高的转动力矩，如较大或封装的样品凸轮锁紧钳无需其他辅助工具，方便用户重新设置工作夹具8倍速样品自动旋转样品调整范围：0-600克（100克增量）美国ALLIED设计制造研磨/抛光机特点：研磨盘速度范围：5-350 RPM（5转速增量）数字计时器和转速表7“LCD触摸屏，带键盘输入控制所有功能顺时针/逆时针研磨盘旋转可选的AD-5 ™ 自动操作流体分配器调节阀电子控制冷却液0.5 HP（375 W），高扭矩马达稳定的RIM，铝和不锈钢结构腐蚀/耐冲击盖一年保修符合欧盟CE标准由美国Allied设计制造项目＃描述15-2200MultiPrep™ 精密抛光系统，用于8”研磨盘，100-240 V 50/60 Hz 1相包括：飞溅环和压板盖，刻度盘指示器校准套件，夹具/附件存储盒Dims: 15" W x 26" D x 20" H (381 x 660 x 508 mm)Weight: 95 lb. (43 kg)15-2200-TEM带O型环驱动的MultiPrep™ 系统，用于8”研磨盘，100-240 V 50/60 Hz 1相 - 专为透射电子显微镜而设计样品制备精致材料研磨抛光包括：飞溅环和压板盖，刻度指示器校准套件，夹具/附件存储盒Dims: 22" W x 26" D x 21" H (560 x 660 x 535 mm)Weight: 125 lb. (57 kg)产品附件注：夹具/磁性研磨盘，设备及配件单独出售。请从下面附件列表中选择，以保证一个完整的系统配置的报价。项目＃配件图片描述15-1005用于 #15-1010, #15-1010-RE, #15-1013上的凸轮锁连接器15-1010含有3.1mm可拆卸扫描电镜样件的横截面扁板15-1010-RE用于#15-1005, #69-50000, #69-41000, #69-41005上的含有基准线的横截面扁板15-1013含有5.3 mm宽 x 3.5 mm深的耐热玻璃插件的TEM楔形/FIB 上用减薄夹具15-1014TEM楔形/FIB 夹具和4个 #69-40015耐热玻璃插件15-1018含有 0.5” 直径x 0.4” 高的耐热玻璃插件的SIMS/TEM 上用减薄夹具15-10202.25" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1020-803" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1020-1004" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1025可镶嵌40 mm大小件的泪滴状夹具15-1035重量块套件包含：1个200克 和1个100克桶形重量块,1个200克1个100克和1个 50克 槽形重量块及1个固定杆15-10452.00" 宽 x 1.00" 高 x 0.75" 深 袋形多功能夹具15-104645°对角线方向, 2.00" 宽 x 1.00" 高 x 0.80" 深 袋形多功能夹具15-10471.00" 宽 x 0.40" 高 x 0.45" 深 袋形多功能夹具15-104845° 对角线方向, 1.00" 宽 x 0.40" 高 x 0.45" 深 袋形多功能夹具15-1050有0.63" 宽 x 0.10" 高x 0.25" 深的袋形 夹式横截面扁板15-1051对角线方向夹式横截面扁板120-30015含花岗岩底座的数显指示器测量系统10-10058“英寸（203毫米）铝研磨盘10-1005M8“英寸（203毫米）磁性研磨盘5-8100研磨盘、砂纸、抛光布储物柜，最大可放置12”大小5-8105铝制托盘/架子

由QATM设计和开发的紧凑型Qpol 300BOT完全实现了试样制备过程中研磨和抛光环节的自动化。简单的触摸屏控制可以访问所有的参数和程序。Qpol 300BOT 确保每个试样都得到适当的处理，保证结果的可重复性，此外还有更多的空间用于样品分析。Qpol 300BOT 的要素来自于系统实验室的柜子和设备。在坚固的铝制外壳内，可以安装4至8个系统工作站。可以为特定的应用编程和排序，最多可达11种不同的操作。选项包括预磨、研磨和抛光以及任何组合的清洁和干燥。Qpol 300BOT 自动地从一个步骤进行到下一个步骤，消除了在步骤之间清洁每个样品夹具的手动和耗时的任务。Qpol 300BOT 采用模块化结构，其性价比很高，即使对于低样品量的实验室来说，也是一个经济有效的系统。优点全自动研磨和抛光系统单独配置样品夹具位坚固的铝制结构可交叉移动的形象化的触摸屏可交叉移动的形象化的触摸屏光阻功能确保操作人员的安全

智能便捷的使用体验先进的操作界面提供了从初学者到专家用户的最佳操作模式。并且 SEMPrep2 提供了全自动的预设参数，使得用户可以一键进行几乎无需干预的样品制备。用户也可以无限制地创建、编辑、保存和加载众多参数文件（可与您的合作方共享这些参数文件！）。出厂的软件中可根据您的样品需求包含适配的预设参数。“快速且无损”基于 Technoorg Linda 独家的离子枪技术，SEMPrep2 的两支离子枪提供了市面上最广的能量范围。在超高能量范围中(10 keV 以上)，该系统可达到极高的溅射速率。进行快速高能量研磨之后，专利性的低能离子枪可用来轻柔地清洁样品表面，以获得完全光滑无损的样品表面。样品冷却为了满足所有可能存在的需求，SEMPrep2 提供了两种不同的冷却方式选项：建议对热敏感或冷冻样品进行液氮冷却。使用此选项，可以大大降低样品温度并将其控制在零度以下范围内。 珀耳帖冷却（电制冷）是防止过热的轻柔保护，它有助于将样品保持在室温附近。快速自动的换样过程独特的真空锁和电动样品台设计提供了快速、简便的换样操作，且不需要太多的人为操作。 真空锁可保护工作腔中的真空度，从而为用户节省大量时间和精力。独特的样品台范围为了提供最佳的配置便于使用，SEMPrep2 提供了各种各样的样品台。对于截面抛削，可以使用 30°、45° 和 90° 的预倾角样品台。专业用户和特殊应用可使用精度为 2 μm 的电动样品台。新一代的平面抛光样品台可提供令人印象深刻的研磨面积，其研磨面积即使是工业用户也满足需求。

仪器简介：DIGIPREP 250 可编程及全自动研磨抛光系统 基础单元带有 0.75HP 电机，磨盘速度 50-600 rpm，完全皮带传动，正向和反向旋转，软启动和停止， 250 毫米直径铝轮和防溅圈、 250 毫米特殊磁贴膜与薄金属板、 进水供应和排水管。 微处理器控制的自动头，可编程样品制备参数、 中心力和/或单点力应用、 液晶显示屏、 钢安装柱、 样品夹具旋转速度为150rpm, 90 w 直流电机、 快速安装卡紧设计，发声报警讯号， Lubomat 系统集合了各种研磨液的供给和流量调整阀、 空气供应管。技术参数：工作盘数量：1电机功率：0.75匹转速：50-600可调研磨盘直径：250毫米电力：单相220V,50Hz主要特点：DIGIPREP 250/300 自动头控制压力精确加载和保证每次都是相同的，独立的操作技能。 存储并记忆在液晶显示屏上的制备程序能够得到相同一致的结果。 高水平的自动化可以提高效率和给操作者空闲时间以便于在实验室中进行其他任务。 通过添加 DOSIMAT 喷液单元可以进一步自动化控制和有效控制消耗品并进一步提高效率。

Nicomp 380 蓝宝石抛光液检测仪采用动态光散射原理检测分析颗粒系的粒度及粒度分布，粒径检测范围0.3nm – 10μm。粒度分析复合采用Gaussian单峰算法和拥有技术的NiComp多峰算法，对于多组分、粒径分布不均匀液态分散体系的分析以及胶体体系的稳定性分析具有独特优势，其优异的解析度及重现性是其他同类产品无可比拟的。整机采用模块化设计,可灵活方便地扩展Zeta电位等其它功能。Nicomp 380 蓝宝石抛光液检测仪 基本概述：Nicomp 380是纳米粒径分析仪器，采用现在先进的动态光散射原理，利用的Nicomp多峰算法可以很准确的分析比较复杂多组分混合样品。为实验室的研究提供最好的分析技术。 测试范围：0.3 nm – 10μm。 产品介绍： Nicomp 380 采用动态光散射原理检测分析颗粒系的粒度及粒度分布，粒径检测范围 0.3 nm- 10 μm。粒度分析复合采用 Gaussian 单峰算法和拥有技术的 Nicomp 多峰算法，对于多组分、粒径分布不均匀液态分散体系的分析以及胶体体系的稳定性分析具有独特优势，其优异的解析度及重现性是其他同类产品无可比拟的。 蓝宝石抛光液检测仪 工作原理：动态光散射法(DLS)，有时称为准弹性光散射法（QELS），是一种成熟的非侵入技术，可测量亚微细颗粒范围内的分子与颗粒的粒度及粒度分布，使用最新技术，粒度可小于1nm。 动态光散射法的典型应用包括已分散或溶于液体的颗粒、乳剂或分子表征。 悬浮在溶液中的颗粒的布朗运动，造成散射光光强的波动。 分析光强的波动得到颗粒的布朗运动速度，再通过斯托克斯-爱因斯坦方程得到颗粒的粒度。 蓝宝石抛光液检测仪 仪器参数： 粒径测量范围粒度分析：0.3 nm - 10 μm分析方法粒度分析：动态光散射，Gaussian 单峰算法和 NiComp 无约束自由拟合多峰算法pH值范围2 - 12温度范围0℃ - 90 ℃检测角度（可选）粒度分析：90°或 多角度（10°- 175°，可选配）高浓度样品背散射175°背散射可用溶剂水和绝大多数有机溶剂样品池4 mL（标准，石英玻璃或有机玻璃）；500μL（高透光率微量样品池）分析软件Windows 运行环境，符合 21 CFR Part 11 规范分析软件电压220 – 240 VAC，50Hz 或100 – 120 VAC，60Hz外形尺寸56 cm * 41 cm * 24cm重量约26kg（与配置有关）蓝宝石抛光液检测仪 配件：大功率激光二极管PSS使用一系列大功率激光二极管来满足更多更苛刻的要求。使用大功率激光照射，以便从小粒子出货的足够的入射光。15mW, 35mW, 50mW, 100mW –波长为635nm 的红色二极管。20 mW 50 mW 和 100 mW 波长为 514.4nm的绿色二极管。 雪崩光电二极管检测器（APD Detector）提供比普通光电倍增管(PMT)高20倍的灵敏度。Zeta 电位模块Zeta电位是确定交替系统稳定性的重要参数，决定粒子之间静电排斥力大小，从未影响粒子间的聚集作用及分散系的稳定。该模块使用电泳光散射（ELS）技术，通过测量带点粒子在外加电场中的移动速度，即电泳迁移率、推算出Zeta电位，实现了粒子的粒径与Zeta电位，实现了粒子的粒径与Zeta电位测定的同机操作。 自动稀释系统模块将初始浓度较高的样本自动稀释至可检测的的浓度，可稀释初始固含量为50%的原始样品，本模块收保护，其可免除人工稀释样品带来的外界环境的干扰和数据上的误差，此技术被用于批量进样和在线检测的过程中。 多角度检测系统模块提供多角度的检测能力。使用高精度的步进电机和针孔光纤技术可对散射光的接收角度进行调整，可为微粒粒径分布提供可高分辨率的多角度检测。对高浓度样品（≤40%）以及大粒子多分散系的粒径提供了提供15至175度之间不同角度上散射光的采集和检测。 自动进样器批量自动进样器能实现最多76个连续样本的分析而无需操作人员的干预。因此它是一个非常好的质量控制工具，能增大样品的处理量。大大节省了宝贵的时间。 自动滴定模块样品的浓度及PH值是Zeta电位的重要参数，搭配瑞士万通的滴定仪进行检测，真正实现了自动滴定，自动调节PH值，自动检测Zeta电位值。免除外界的干扰和数据上的误差，精确分析出样品Zeta电位的趋势。 蓝宝石抛光液检测仪 应用领域：适用于检测悬浮在水相和有机相的颗粒物。 1）磨料 磨料既有天然的也有合成的，用于研磨、切削、钻孔、成形以及抛光。磨料是在力的作用下实现对硬度较低材料的磨削。磨料的质量取决于磨料的粗糙度和颗粒的均匀性。 2）化学机械抛光(CMP) 化学机械抛光是半导体制造加工过程中的重要步骤。化学机械抛光液是由腐蚀性的化学组分和磨料(通常是氧化铝、二氧化硅或氧化铈)两部分组成。抛光过程很大程度上取决于晶片表面构型。晶片的加工误差通常以埃计，对晶片质量至关重要。抛光液粒度越均匀、不聚集成胶则越有利于化学机械抛光加工过程的顺利进行。 3）陶瓷 陶瓷在工业中的应用非常广泛，从砖瓦到生物医用材料及半导体领域。在生产加工过程中监测陶瓷颗粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制最终产品的性能和质量。 4）粘土 粘土是一种含水细小颗粒矿物质天然材料。粉砂与粘土类似，但粉沙的颗粒比粘土大。粘土中易于混杂粉砂从而降低粘土的等级和使用性能。ISO14688定义粘土的颗粒小于63μm。 5）涂料 涂料种类繁多，用途广泛。涂料的颗粒大小及粒度分布直接影响涂料的质量和性能。 6）污染监测 粒度检测分析在产品的污染监测方面起着重要作用，产品的污染对产品的质量影响巨大。绝大多数行业都有相应的标准、规程或规范，必须严格遵守和执行，以保证产品满足质量要求。 7）化妆品 无论是普通化妆品还是保湿剂、止汗剂，它们的性能都直接与粒度的大小和分布有关。化妆品的颗粒大小会影响其在皮肤表面的涂抹性能、分布均匀性能以及反光性能。保湿乳液(一种乳剂)的粒度小于200纳米时才能被皮肤良好吸收，而止汗剂的粒度只有足够大时才能阻塞毛孔起到止汗的作用。 8）乳剂 乳剂是两种互不相溶的液体经乳化制成的非均匀分散体系，通常是水和油的混合物。乳剂有两种类型，一种是水分散在油中，另一种是油分散在水中。常见的乳剂制品有牛奶（水包油型）和黄油（油包水型），加工过程中它们均需均质化处理到所需的粒径大小以期延长保质期。 9）食品 食品的原料（粉末及液体）通常来源于不同的加工厂，不同来源的原料必须满足某些特定的标准以使最终制品的质量均一稳定。原料性质的任何波动都会对食品的口味和口感产生影响。用原料的粒度分布作为食品质量保证和质量控制（QA/QC）的一个指标可确保生产出质量均以稳定的食品制品。 10）液体工作介质/油 液体工作介质（如：油）越来越昂贵，延长液体介质的寿命是目前普遍关心的问题。机械设备运转过程中会产生金属屑或颗粒落入工作介质中（如：油浴润滑介质或液力传递介质），因此需要一种方法来确定介质（油）的更换周期。通过监测工作介质（油）中颗粒的分布和变化可以确定更换工作介质的周期以及延长其使用寿命。 11）墨水 随着打印机技术的不断发展，打印机用的墨水变得越来越重要。喷墨打印机墨水的粒度应当控制在一定的尺度以下，且分布均匀，大的颗粒易于堵塞打印头并影响打印质量。墨水是通过研磨方法制得的，可用粒度检测分析仪器设备监测其研磨加工过程，以保证墨水的颗粒粒度分布均匀，避免产生聚集的大颗粒。 12） 胶束 胶束是表面活性剂在溶液中的浓度超过某一临界值后，其分子或离子自动缔合而成的胶体尺度大小的聚集体质点微粒，这种胶体质点与离子之间处于平衡状态。 乳液、色漆、制药粉体、颜料、聚合物、蛋白质大分、二氧化硅以及自组装TiO_2纳米管(TNAs)等

GIB 精修离子束系统用于扫描电镜 / 双束电镜的氩离子束方案Technoorg Linda 的低能氩离子枪（GIB） 适用于表面减薄、其他表面处理后的后处理、清洁以及去除无定形和氧 化物表面层。 当低能氩离子枪集成到扫描电镜中时 ，其作用尤为明显。有了集成离子枪 ，就可以在研究之前对样品 进行精修。 实现高质量样品的另一个重要应用是在双束 SEM / FIB 系统中进行 FIB 样品制备后，对 TEM 样品进行最 终抛光和温和的表面清洁。可与扫描电镜集成带波纹管的传输系统可通过连接管安装到扫描电镜上。连 接管输出法兰的尺寸与相应的 SEM 端口尺寸相匹配。通 过线性传输系统提供的离子源流动性，可实现理想的工作 距离（15-30 mm）。低能量氩离子枪低能量离子枪的直径和长度均为 50mm。氩离子束的能 量范围：100eV - 2kV。 2kV 时的最大束流为 70µ A。离 子束为宽束，半最大全宽（FWHM）为 2mm。半管支架低能量离子枪安装在半管支架中。