宽束氩离子抛光系统

Allied研磨抛光系统MetPrepTM和DualPrepTM 系列研磨抛光机适用于手工样品制备和半自动样品制备，可配置PH系列研磨头。不同的组合提供理想的解决方案，适应任何应用程序、实验室或材料。它的微处理器能够编程控制25个菜单程序，包括研磨盘的转速、方向，时间，样品的转速，研磨样品的力度（开/关，%），液体配送和喷淋控制。强力的传动电动机能够保证充足的扭矩，可以满足各种应用需求。研磨盘可以自由选择顺时针或逆时针旋转的速度。在工作启动前，独特的研磨盘轻推设计可以控制研磨剂和添加剂。采用一个电子螺线管供应冷却剂，并用一个控制阀轻易的实现流控制。本机附带所有常用研磨头，用户可以根据需要自由更换。可选设备AD-5的自动液体配送功能,用于在无人操作条件下自动完成预置的工作。特点： 采用触摸按键控制所有功能。研磨盘可随意的顺/逆时针旋转。背射光 LCD 显示。坚固的铝/钢机身结构。新式研磨盘设计，阳极电镀处理，耐磨损耐腐蚀。保护罩抗腐蚀抗冲击。研磨盘速度范围：10-400RPM。轻推速度范围：10-150RPM。电子冷却采用阀门调节控制。密码保护功能。15"宽× 27"深× 23"高（381 × 686 × 584毫米）。重量：136lb.（62kg）。美国设计制造。规格： PH系列研磨头规格：AD-5液体自动配送器提供自动的，无人值守的应用于研磨抛光悬浮液或润滑剂。它的功能可以应用于ALLIED的MetPrep3、MetPrep 4和DualPrep3研磨/抛光机，或者可以作为一个独立的系统，使用于任何品牌的抛光机。定时、量控、可变频率分配可以消除操作者之间的不一致，提供良好重复性的结果，这增加了在实验室的生产率和效率，同时降低耗材使用。直观的菜单导航和简单的逻辑编程，使自动配送器很方便的被使用。AD-5有5个定位配送装置，其中两个包含一个冲洗周期，以防止使用胶体悬浮液时堵塞。蠕动泵技术使得抛光表面不会产生雾气水滴。

OptiPrepTM光学元件抛光系统—OptiPrepTMOptical element Polishing SystemOptiPrepTM抛光系统设计用于多种光学部件的抛光，包括：1) 套圈（Ferrules）：陶瓷、玻璃、不锈钢、塑料2) 连接器（Connectors）：MT/MT-RJ，ST，SC/FC（APC）3) 波导（Waveguides）4) 硅V形槽（Silicon V-groove）5) 光学芯片（Optical chip）6) 毛细管/玻璃镜片（Capillary/Glass Lenses）7) 光纤束（Fiber Bundles）8) 带状光纤（Ribbon Fiber）9) 裸光纤（Bare Fiber）双测微计（俯仰和侧滚）设计允许精密样品相对于抛光平面进行倾斜调整。刚性的Z向主轴确保预置的几何角度在整个研磨或抛光工艺过程都保持稳定。数字指示器设计使得量化材料去除量成为可能，一方面可以实时监测，另一方面可以在无人值守时进行预置。可变的转动和摆动速度，可以最大限度地利用整个研磨抛光盘，减少人为痕迹。可调负载控制扩展了设备性能，既可以处理精密的小样品，也可以处理大样品。特点：1) 可变转速：5-350 RPM，增量5 RPM；2) 触控开关控制所有功能；3) 1/4 HP（190W）电机，具持久减速齿轮箱，提供高扭矩输出；4) 数字计时器和转速表；5) 为OptiPrep?定位装置的操作集成控制；6) 研磨盘可以顺/逆时针旋转；7) 快速更换研磨盘设计，阳极氧化抗磨损和腐蚀；8) 耐腐蚀/冲击表面；9) 碗型冲洗防止碎片堆积；10) 带有调节阀的电子冷却控制装置；11) 前置数字指示器显示实时材料去除量（样品行程）；12) 后置数字指示器显示垂直定位（静态），具有调零功能，分辨率1μm；13) 精密主轴设计确保样品垂直于研磨盘，并可以同时旋转；14) 6倍速样品自动摆动，可调节；15) 8倍速样品自动/半自动旋转；16) 凸轮紧锁系统，无需工具，可以精确定位夹具；17) 尺寸：15" W x 26" D x 20" H (381 x 660 x 508 mm)；18) 重量：95 lb. (43 kg)；19) 装运尺寸：33" W x 31" D x 15" H (838 x 787 x 381 mm)；20) 装运重量：125 lb. (57 kg)；21) 符合CE标准；22) 美国Allied公司设计制造。产品附件：

总览Cila 2.0 连接器和电缆组件光纤抛光和检查系统可以利用精密机器设计、专业开发的抛光菜单和在线明场检查来抛光和检查所有商业和军用风格的光纤电缆组件。自动化、耐用、低运营成本和人体工程学是 Cila 的主要优势。技术参数产品特点坚固耐用、符合人体工程学的设计和构造自动化，按钮操作自动气磨功能取代了大多数其他机器的手动去毛刺操作通用、UPC型工件夹具将容纳所有商用光纤连接器，包括FC、ST、SC、LC、MU、SMA型，以及所有圆形、环保、公母MIL型连接器专用于FC/APC、SC/APC、LC/APC和MIL型斜角终端的工作支架抛光端面的明视场视频检测高产能工艺的一致性–通常是45秒的产能/UPC连接器符合行业公认的端面公差，常见一次通过率为98%下面的图表详细说明了在Cila 2.0上抛光的二十个SC连接器，然后对其进行干涉检查。左:MIL样式 右:LC/UPC、SC/UPC、FC/APC、SMA气隙

Wenol金属抛光膏广泛应用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统及日常的实验室应用。Wenol为油基，不含硅脂，载液可溶解大多数碳氢化合物；用于清洁抛光如不锈钢等硬金属表面，不建议用于铝等软金属。

UNIPOL抛光膏配方与WenolL抛光膏相似，被广泛用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统、衬底及日常的实验室应用。UNIPOL抛光膏配方对于硬金属（如不锈钢、镀铬表面）均能得到满意效果，UNIPOL抛光膏亦适用于清洁抛光控制电极。UNIPOL抛光膏为油基、不含硅脂，溶解大多数碳氢化合物。不建议UNIPOL抛光膏应用于铝等软金属。

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UNIPO金属抛光膏的配方与Wenol金属抛光膏相似，UNIPO金属抛光膏被广泛用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统、衬底及日常的实验室应用。UNIPO金属抛光膏的配方对于硬金属（如不锈钢、镀铬表面）均能得到满意效果，UNIPO金属抛光膏亦适用于清洁抛光控制电极。UNIPO金属抛光膏为油基、不含硅脂，溶解大多数碳氢化合物。不建议UNIPO金属抛光膏应用于铝等软金属

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美国QMAXIS磨盘更换系统原装进口美国QMAXIS磨盘更换系统，包括铝盘、磁性盘、铁盘、特氟龙特盘、橡胶盘和砂纸卡箍，选择多样，组合灵活，可快速更换不同的研磨、抛光材料，省时、省力。订货信息：类型产品描述包装规格产品编号8in[203mm]10in[254mm]12in[305mm]Aluminum Platen铝盘工作铝盘，用于粘贴磁性盘；不带背胶的砂纸用砂纸卡箍直接固定在铝盘上1个/包GPA-08GPA-10GPA-12MagDisc磁性盘带背胶，用于吸附铁盘、特氟龙铁盘或橡胶盘，也可以直接吸附带磁性背衬的金刚石磨盘或抛光布1片/包GPM-08GPM-10GPM-12MetDisc铁盘标准金属盘，用于粘贴带背胶的金刚石磨盘、砂纸或抛光布5片/包GPI-08GPI-10GPI-12TefDisc特氟龙铁盘带特氟龙不粘涂层，易于粘贴和移除带背胶的金刚石磨盘、砂纸或抛光布5片/包GPT-08GPT-10GPT-12RubberDisc橡胶盘磁性/带背胶，与磁性盘配合使用，用于粘贴不带背胶的砂纸。替代金属盘，弥补金属盘盘面易变形、盘边易出现凸凹或毛刺等缺陷。防腐、耐用，更经济5片/包GPR-08GPR-10GPR-12PaperBand砂纸卡箍用于固定不带背胶的砂纸个GPB-08GPB-10GPB-12

安捷伦生产了多种用于 7500 ICP-MS 系列产品的优质离子透镜。静电离子透镜在离子穿过真空系统进入质谱仪和检测器，即最后一个真空室时将它们聚焦成密集的“离子束”。离子透镜还能将离子从光子和残留的中性物质中分离出来与其他配置相比，“离轴”离子透镜的离子传输效率更高，质量数范围也更宽。离轴透镜中并没有使用光子挡板，所以仪器总体的离子传输效率更高。还提供各种离轴透镜的组件和附件。离子传输效率极高的离轴或 omega 透镜能够将带正电荷的离子与光子和中性颗粒分开。可提供两种提取透镜。提取透镜的位置正好在截取锥后面，安装在截取锥基座上。它们的作用是提取正离子并将正离子加速传输到 Einzel 透镜。Omega 透镜由 5 个透镜（omega 偏置、omega (+)、omega (-)、QP 聚焦和板偏置）组成，其作用是将光子和离子分开，引导离子进入四极杆质谱仪。提供用于提取透镜或 omega 透镜的螺钉和垫片。可提供各种额外的组件和消耗品：透镜清洁及抛光组件包、八极杆和八极杆组件以及用于反应气的管线。

【产品详情】Wenol金属抛光膏特别推荐用于电子显微镜SEM/TEM、离子束刻蚀系统、真空镀膜系统等各种设备的主要金属部件清洁擦亮剂。Wenol金属抛光膏为石油基清洁剂，不含硅基，清洁后的残余物很容易清除，更适用于如不锈钢等硬金属的表面，不建议用于铝等软金属。【规格详情】管装容量100ml产品详细价格及资料，请登录电镜耗材在线商城网站查看。

Radian™ 系统能够以用户可选择的可变角度抛光光纤。可互换适配器适用于各种直径和材料类型的光纤。高速加工可对裸光纤、玻璃棒或光纤束进行抛光。旋转台可与各种工件夹具互换，用于抛光光纤连接器。 Radian™ 是实验室、研发和小批量制造应用的理想选择。将 Radian' s™ 的多功能性扩展到裸光纤处理之外。适配器可用于抛光各种行业标准和定制连接器/套圈类型，以及杆/透镜。将组件抛光成平面、UPC 和有角度的几何形状。技术参数研磨光纤参数角度范围0度至45度角度重复性± 0.5度研磨速度可用户调节研磨片尺寸4”备注：Radian™ 研磨机的精密转动平台可以连续调节以实现大范围光纤尖部角度研磨研磨角度可调可支持连接头研磨 示例图相关问答总结1、你好，60°可以抛光吗？也许使用更长的光纤支架？是的。 Radian 和 NOVA 均提供适配器，可将抛光角度扩展至 60 度。我们将直接通过电子邮件发送两个系统的报价单。2、Radian 和 NOVA 裸纤抛光机有什么区别？基本上，NOVA 具有 Radian 的所有功能，并增加了 1) 视频检测 2) 自动化和可编程 3) 多光纤支持，4) 连接器支持等等。3、抛光速度是否可调？是的，压板旋转速度可由用户控制。产品特点● 角度可以调节（0-45deg）● 可付费升级更换成裸芯片研磨机● 精度高● 抛光速度可调产品应用光纤激光器半导体加工

广泛应用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统及日常的实验室应用。Wenol?为油基，不含硅脂，载液可溶解大多数碳氢化合物；用于清洁抛光如不锈钢等硬金属表面，不建议用于铝等软金属

广泛应用于电镜、离子束系统、真空镀膜系统及日常的实验室应用。Wenol?为油基，不含硅脂，载液可溶解大多数碳氢化合物；用于清洁抛光如不锈钢等硬金属表面，不建议用于铝等软金属

美国QMAXIS磨盘更换系统美国QMAXIS磨盘更换系统，包括工作铝盘、磁性盘、铁盘及橡胶盘等，满足各工艺阶段不同研磨、抛光材料的更换。精工制造的品质，人性化的设计，无需工具即可快速更换，省时、省力、耐用。订货信息如下：

胶状二氧化硅悬浮液，非结晶0.02微米的胶状二氧化硅的配方用于SEM / TEM分析，可满足超细表面光洁度的要求。它是非结晶的，PH值为9.8。0.05微米的胶状二氧化硅的配方可满足多种材料的最后抛光优秀光洁度的要求，特别是有色金属，印刷电路板和集成电路。它是非结晶的，PH值为9.8。编号产品描述180-400150.02 um, 16盎司(480 mL)180-400100.02 um, 32盎司(950 mL)180-400000.02 um, 128盎司(3.8 L)180-200150.05 um, 16盎司(480 mL)180-200100.05 um, 32盎司(950 mL)180-200000.05 um, 128盎司(3.8 L)胶状二氧化硅悬浮液，不粘/可冲洗配方可用于大多数材料的最后抛光的悬浮液，该pH值为10的专有配方的特点是即使它干了以后也非常容易从样品和设备进行清洗。干燥的较慢，使它成为需要长时间抛光如EBSD的理想选择。与化学溶剂混合可能会使pH值改变以提高显微结构的对比度。编号产品描述180-250150.04 um, 16盎司(480 mL)180-250100.04 um, 32盎司(950 mL)180-250000.04 um, 128盎司(3.8 L)胶状二氧化硅/氧化铝悬浮液独特的胶状二氧化硅和氧化铝的混合物，pH值为8.5。与单独胶状二氧化硅相比，添加伽马氧化铝可以提高机械抛光性能。用于黑色金属和有色金属、金属基复合材料和各种非金属材料的最后抛光编号产品描述180-700150.05 um, 16盎司(480 mL)180-700100.05 um, 32盎司(950 mL)180-700000.05 um, 128盎司(3.8 L)胶状氧化铝悬浮液pH值为3.5的酸性氧化铝悬浮液用于抛光有色金属和陶瓷。不会堵塞的配方使它很容易通过自动输配液系统，可以用去离子水稀疏到3∶1编号产品描述180-300000.05 um, 128盎司(3.8 L)180-300100.05 um, 32盎司(950 mL)180-300150.05 um, 16盎司(480 mL)180-800000.03 um, 128盎司(3.8 L)180-800100.03 um, 32盎司(950 mL)180-800150.03 um, 16盎司(480 mL)

产品简介：磁性树脂金刚石研磨抛光盘适用于UNIPOL系列研磨抛光机。产品型号磁性树脂金刚石研磨抛光盘技术参数1、粒度：80#、120#、150#、180#、240#、320#、400#、500#、600#、800#、1200#、1500#、1800#、2000#2、直径：Φ200mm、Φ300mm、Φ381mm如有特殊要求请与我司销售人员联系！

无锡吉致电子25年研发生产——碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介：为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方法：1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。2.稀释后，粗抛时调节PH11左右，精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。3.循环抛光可以用原液。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液价格：吉致电子的碳化硅晶圆抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。

总览Bare Fiber Polishing and Inspection,Cila 2.0裸光纤抛光和检测系统可以有效地获取、对齐、定位和抛光大量形状奇特的裸光纤。内置检测系统，提供高分辨率成像和参考，使其在对公差要求高的应用方面有突出表现，如在抛光角度、径向对准(PM光纤)和精确光纤突出长度等方面。技术参数产品特点该配置支持高价值光纤组件的单组抛光用于过程监控和检测的高分辨率视频检测系统。角度精度:±0.05度，线性精度:±5um可在0-82度范围内通过数字读数进行精确角度调整未切割的裸光纤抛光(单层或带状)保偏光纤对准和抛光刻面、雕花和其他复杂的端面抛光精确测量长度、角度和径向对准的计量选项 可调角度抛光读数 PM光纤用强力构件进行角度抛光，以实现角度对准 裸光纤抛光-棱纹、凿纹、锥形、直形、角形 在线端面检查和轮廓观察AOL开放实验室报告单 以下由AOL实验室人员填写：测试日期2021.12.20测试工程师 戴佳豪测试产品MP-BFPS裸纤研磨及观察系统、塑料光纤审核 王秀祥实验目的测试MP-BFPS裸纤研磨及观察系统研磨塑料光纤效果实验仪器MP-BFPS裸纤研磨及观察系统、塑料光纤 塑料成像光纤，直径0.5mm研磨前端面检测图1um金刚石研磨后端面检测图最终抛光后端面检测图

精密抛光具可用于光学显微镜，扫描电子显微镜及原子力显微镜样品的常规制备，也可通过有角度的研磨抛光得到楔形样品进行透射电镜表征观察和聚焦离子束微纳加工，再研磨抛光的过程中可适时在光镜下观察样品的状态。

M5-2100抛光机，用于手动样品制备，单盘无级调速式研磨、抛光多用机。调速范围为25-500转/分钟。可实现试样从粗磨、精磨、粗抛光至精抛光的整个制样过程。台式结构，可放于工作台上。外形小巧，采用不锈钢外壳。磨盘直径：Φ203mm 尺寸：宽381 x深660 x高229 mm 重量：65 kg

磁性树脂金刚石研磨抛光盘适用于UNIPOL系列研磨抛光机。技术参数1、粒度：80#、120#、150#、180#、240#、320#、400#、500#、600#、800#、1200#、1500#、1800#、2000#2、直径：Φ150mm、Φ200mm、Φ250mm、Φ300mm、Φ320mm、Φ381mm

抛光套件的抛光带，用于超痕量石墨电极Polishing tape to Polishing Set for Ultra Trace Electrode订货号：6.2802.030抛光套件的抛光带，用于超痕量石墨电极。 粒径 12 μm. 在抛光筒中使用。 每套50件。技术参数宽度（mm）9长度（mm）140

高效金刚石金相抛光剂采用优质的金刚石微粉，以独特的介质与助剂，融物理与化学作用于一体研制而成；粒度分布均匀，颗粒形貌呈球形八面体，故研磨效果好、不易产生划痕；硬度极高，刃口尖锐锋利，对硬软材料都有良好的研磨作用，只产生研磨作用而无滚压，不产生扰乱层； 主要用于机械研磨、抛光硬质合金、合金钢、高碳钢等高硬材料制件以及金相和岩相试样的精研等。使用方法01. 使用前抛光织物需用清水湿透，避免磨擦热。 02. 启动抛光盘后将抛光剂轻摇后倒置喷出。 03. 喷撒抛光剂时，应以抛光盘中心为圆心，沿半径方向喷出3--5s即可。 04. 新织物喷撒时间相应延长，以使织物的磨削能力更完美。粒度：W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2.5、W3.5、W5、W7、W10、W14、W20、 W28、W40包装：每罐250克、350毫升。附注：W为微米μm，国际通用标准。

无锡吉致电子25年研发生产——氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液/氧化物CMP研磨液/氧化物化学机械抛光液/半导体CMP抛光液/氧化层lapping研磨抛光液/氧化层slurry/氧化层抛光液抛光浆料/氧化层集成电路抛光液/氧化层CMP化学机械抛光液slurry/氧化层抛光液slurry 磨料类型：半导体cmp抛光液slurry磨料粒径：纳米级SiO2产品特点：纳米级SiO2磨料，粒径均一稳定，去除速率稳定，金属离子含量低，通过CMP工艺可有效去除表面氧化层，达到理想平坦度。吉致电子Oxide Slurry与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点。吉致电子氧化层抛光液/OxideSlurry抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射及冻结，零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠抛光解决方案！

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点： 1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效抛光解决方案！

MetaDi钻石悬浮液和浆料是高质量的单晶和多晶金刚石抛光产品，可提供可重复的性能并提供出色的样品质量。 严格控制Buehler的MetaDi钻石悬浮抛光剂和糊剂产品，以防止粒径或浓度出现任何偏差。 这样可确保每个样品的抛光结果均具有可重现性，并具有高质量的表面光洁度。 基于微米尺寸的颜色编码的钻石悬浮液和糊剂有助于防止抛光表面上的交叉污染。 由于对水的敏感性或钻石的嵌入，某些材料与传统的水基悬浮液不兼容。 与水敏感的材料一起使用时，油基MetaDi单晶金刚石悬浮液以及MetaDi金刚石浆料提供了多种选择。最终抛光悬浮液旨在去除表面变形的最后一层，并准备样品进行分析。 肉眼可能看不到变形，但是对于某些标本分析技术，必须将其消除。金刚石抛光金刚石悬浮液及研磨膏 规格产品金刚石类型材料去除表面变形应用MetaDi Supreme 多晶金刚石悬浮液多晶最佳极小最快的材料去除和最小的表面变形MetaDi Supreme 无色多晶金刚石悬浮液多晶最佳极小适用于容易被染色且会影响图像分析的材料MetaDi 单晶金刚石悬浮液单晶较好小对于大多数材料来所去除效果较好MetaDi 油基单晶金刚石悬浮液单晶较好小适用于水敏感的材料MetaDi Suspension 稀释单晶金刚石悬浮液单晶较好小与自动化系统一起使用时，悬浮液和增量液组合可保持一致性MetaDi 超多晶研磨膏多晶较好极小适用于需要高效去除且容易嵌入金刚石颗粒的软材料MetaDi 单晶研磨膏 (天然)单晶好小高浓度的金刚石研磨膏适用于容易嵌入金刚石颗粒的材料MetaDi II 单晶研磨膏 (合成)单晶好小中等高浓度的金刚石研磨膏适用于非常容易嵌入金刚石颗粒的材料最终抛光产品类型范围应用MasterPrep 氧化铝氧化铝终抛液0.05µ m~8.5pH较适合铸铁、钢、不锈钢、铜、聚合物、矿物质、微电子、贵金属MasterMet 硅胶硅胶终抛液0.06µ m~10pH化学-机械的抛光方法，较适合铝、难熔金属、微电子中的硅、陶瓷MasterMet 2 非结晶硅胶非结晶硅胶终抛液适用于抛光液配送系统0.02µ m~10.5pH化学-机械的抛光方法，较适合铝、难熔金属、微电子中的硅、陶瓷MasterPolish 终抛混合高浓度氧化硅和硅胶的终抛液0.05µ m~9pH含有极少量水分，适用于水敏感材料，适用于大多数镁合金、钴合金、大多数铁合金、镍和金属基复合材料MasterPolish 2 终抛氧化铁抛光液0.06µ m~10pH化学-机械的抛光方法，适用于蓝宝石、玻璃、氧化铝、氮化硅和金属/陶瓷复合材料MicroPolish Alumina 氧化铝团聚氧化铝终抛液与相同颗粒尺寸的其他氧化铝终抛液相比，具有更高的去除率颗粒尺寸可选： 0.05µ m、0.3µ m、 1µ m适用于镁、铅及其合金，提供抛光液和抛光粉两种选择MicroPolish II Alumina 氧化铝高质量的非团聚氧化铝终抛液比结晶氧化铝终抛液可得到更高质量的表面颗粒尺寸可选：0.3µ m、 1µ m适用于大多数矿物和金属，提供抛光液和抛光粉两种选择

AKO金属抛光膏不含硅树脂，适于清洁EM零件。AKO在工业领域和家用等领域也得到了广泛地使用，如挤出机，滚筒等工业机械部件。AKO金属抛光膏可以用来抛光和保养基本上所有材料的金属部件，如不锈钢、镀铬、铝、铜、黄铜、银(不使用油漆或电镀金属上)。 Wenol金属抛光膏适用于抛光所有的金属表面。欢迎登陆海德公司网站或来电获取详细信息。订购信息：货号产品名称规格71830AKO Metal Polish,AKO金属抛光膏100ml71832Wenol Metal Polish，WENOL金属抛光膏100ml

产品分类：吉致电子抛光垫产品名称：阻尼布抛光垫/碳化硅SIC精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优势。产品工艺及用途：柔软表面与特殊微孔洞结构，适用于碳化硅SIC衬底、各类晶圆、IC制造等CMP工艺高精细、高平坦化的制程。具有缓冲与晶背保护的效果。吉致电子碳化硅抛光垫价格：吉致电子抛光垫生产引进国外技术，可以媲美进口抛光垫PAD/阻尼布抛光垫产品（Politex/Fujiba/SUBA/环球等国产替代）品质稳定。选择吉致电子抛光垫产品，价格美丽，比进口抛光垫/精抛垫便宜，交货期稳定，性价比更高！