宽束氩离子抛光系统

氩离子抛光原理氩离子切割技术是一种利用宽离子束（〜1mm）来切割样品，以获得宽阔而精确的电子显微分析区域的样品表面制备技术。一个坚固的挡板遮挡住样品的非目标区域，有效的遮蔽了下半部分的离子束，创造出一个侧切割平面，去除样品表面的一层薄膜。氩离子抛光技术是对样品表面进行抛光，去除损伤层，从而得到高质量样品，用于在 SEM，光镜或者扫描探针显微镜上进行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC 或其它分析。针对不同的样品的硬度，设置不同的电压、电流、离子枪的角度、离子束窗口，控制氩离子作用的深度、强度、角度、这样精准的参数，有利于制备成研究者理想的材料样品，这样的样品不仅表面光滑无损伤，而且还原材料内部的真实结构，正如页岩内部的细微孔隙在SEM下放大到10K时也能看得清清楚楚，以及材料内部的不同物质分层都能看的分界线明显。另外，氩离子抛光设备中的离子枪部分是采用世界最先进的氩离子枪，聚焦离子束设计，并且保证无耗材，不仅能够大大节约了制样时间，而且还能够很好的节约后期的应用成本。有些氩离子抛光机具备样品切割和抛光两项功能；配温控液氮冷却台，去除热效应对样品的损伤，有助于避免抛光过程中产生的热量而导致的样品融化或者结构变化；配碳/铬镀膜，对于同一个样品，可在同一真空环境下完成抛光及镀膜，防止样品氧化，可以用于SEM/FIB导电镀膜样品制作。氩离子抛光在材料制样的特出优点：（1）对由硬材料和软材料组成的复合材料样品, 能够很精细地制作软硬接合部的截面, 而使用传统方法制样是很困难的。（2）比FIB方法的抛光面积更大（~1mm以上）。氩离子抛光机可以用于各种材料样品（除了液态）的制备，适应大多数材料类型，对大面积、表面或辐照及能量敏感样品尤佳钢铁、地质、油页岩、 锂离子电池、光伏材料、 薄膜、半导体、EBSD、生物材料等包括平面抛光与截面抛光，氩离子束抛光：§适合各类样品o软硬金属材料皆可o同一样品含软硬不同材料 o多孔材料o湿或油性样品：油页岩o有机物氩离子束抛光：具体应用领域有：• EBSD 样品• 光伏、半导体• 金属(氧化物, 合金)• 陶瓷• 地质样品，油页岩• 高分子，聚合物• CL附图为氩离子抛光在材料领域的运用贡献http://muchongimg.xmcimg.com/data/bcs/2016/1109/w86h2435577_1478659527_893.pnghttp://muchongimg.xmcimg.com/data/bcs/2016/1109/bw186h2435577_1478659528_259.pnghttp://muchongimg.xmcimg.com/data/bcs/2016/1109/bw175h2435577_1478659538_984.pnghttp://muchongimg.xmcimg.com/data/bcs/2016/1109/bw169h2435577_1478659540_585.pnghttp://muchongimg.xmcimg.com/data/bcs/2016/1109/w134h2435577_1478659569_857.pnghttp://muchongimg.xmcimg.com/data/bcs/2016/1109/w139h2435577_1478659579_417.pnghttp://muchongimg.xmcimg.com/data/bcs/2016/1109/bw133h2435577_1478659582_790.jpghttp://muchongimg.xmcimg.com/data/bcs/2016/1109/w142h2435577_1478659586_523.jpg

【网络讲座】：氩离子抛光在石油地质中的应用 【讲座时间】：2016-12-27 14:00【主讲人】：谷立新，中国科学院与地质与地球物理研究所 电子显微镜实验室工程师长期从事电子显微学的研究，并精通相关的切割抛光、离子减薄、离子抛光、FIB双束等多种样品制备方法；同时对石油地质尤其是页岩气孔隙发育和微观形态结构方面有很丰富的经验。【会议简介】氩离子抛光是一种精细抛光制样技术，在材料科学、石油地质学等领域有着非常广泛的应用，尤其对于成分、软硬度不均匀的样品有着非常好的抛光效果，且具有加工速度快、可以选择我们需要观察的位置进行定点抛光等优点。获得的纳米级的抛光截面和平面样品以便进行电子显微学的观察和分析。 本次讲座，会展示氩离子抛光技术在石油地质科学方面的一些实验结果，并就目前热门的页岩气样品的制备和关心的科学问题加以详细阐述，希望能促进页岩气的开发和氩离子抛光技术在这一方面的应用。-------------------------------------------------------------------------------1、报名条件：只要您是仪器网注册用户均可报名参加。2、报名参会：http://www.instrument.com.cn/webinar/meeting/meetingInsidePage/2232 4、报名及参会咨询：QQ群—290101720，扫码入群“电镜”http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/01/201701191701_669677_2507958_3.gif

传统EBSD制样方法如电解抛光及振动抛光均存在抛光液废弃难回收的问题，而氩离子抛光制样可以简化工作流程，且对操作人的实验技能要求低。由于铁素体-马氏体双相钢含有铁素体与马氏体两种硬软度不同的相，在电化学腐

大家使用的离子束抛光仪是哪家的，有推荐么。目前用的品牌确实很烦心。我们所20年底安装了一台进口某知名品牌的离子束抛光仪，才使用两年多毛病不断，使用一年多就更换了一个平面旋转样品台（3万多，经沟通还好给免费更换），同类型的另一台也是用了没多久，也换了一台样品台；22年底设备又出现故障，经厂家排查需更换隔膜泵（感觉质量太差，工作十几年没遇到过，用两年就坏的），需要费用6万多，花费确实有点大；总共没正常使用多长时间。希望大家也引以为戒啊！

FIB用于截面观察的优势是能够对特定微区进行分析，但是缺点是观察区域较小，最大不超过10μm。用离子束抛光+SEM进行观察是不是在很大程度上可以替代FIB的功能呢。

求推荐一款研磨抛光机，机械 自动款谢谢

目的为去除金相磨面上因细磨而留下的磨痕，使之成为光滑、无痕的镜面。金相试样的抛光可分为机械抛光、电解抛光、化学抛光三类。机械抛光简便易行，应用较广。 　　（1）机械抛光 　　机械抛光是在专用的抛光机上进行的，抛光机主要是由电动机和抛光圆盘（Ф200～300mm）组成，抛光盘转速为200～600r/min以上。抛光盘上铺以细帆布、呢绒、丝绸等。抛光时在抛光盘上不断滴注抛光液。抛光液通常采用Al2O3、MgO或Cr2O3等细粉末（粒度约为0.3～1μm）在水中的悬浮液。机械抛光就是靠极细的抛光粉末与磨面间产生相对磨削和液压作用来消除磨痕的。 操作时将试样磨面均匀地压在旋转的抛光盘上，并沿盘的边缘到中心不断作径向往复运动。抛光时间一般为3～5min。抛光后的试样，其磨面应光亮无痕，且石墨或夹杂物等不应抛掉或有曳尾现象。这时，试样先用清水冲诜 ，再用无水酒精清洗磨面，最后用吹风机吹干。 　　（2）电解抛光 　　电解抛光是利用阳极腐蚀法使试样表面变得平滑光高的一种方法。将试样浸入电解液中作阳极，用铝片或不锈钢片作阴极，使试样与阴极之间保持一定距离（20～30mm），接通直流电源。当电流密度足够时，试样磨面即由于电化学作用而发生选择性溶解，从而获得光滑平整的表面。这种方法的优点是速度快，只产生纯化学的溶解作用而无机械力的影响，因此，可避免在机械抛光时可能引起的表层金属的塑性变形，从而能更确切地显示真实的金相组织。但电解抛光操作时工艺规程不易控制。 　　（3）化学抛光 　　化学抛光的实质与电解抛光相类似，也是一个表层溶解过程。它是一种将化学试剂涂在试样表面上约几秒至几分钟，依靠化学腐蚀作用使表面发生选择性溶解，从而得到光滑平整的表面的方法。

1 机械抛光 机械抛光是靠切削材料表面塑性变形去掉被抛光物质而得到平滑面的抛光方法，以手工操作为主，一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，表面质量 要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工表面上，作高速旋转运动。光学镜片模具常采用这种方法。2 化学抛光 化学抛光是让材料在化学介质中部分需要处理的表面溶解，从而得到平滑面。这种方法的主要优点可以同时抛光很多工件，效率高。同时不需复杂设备，化学抛光的关键是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数 10 μ m 。3 电解抛光 电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。电化学抛光过程分为两步：第一步是宏观整平 溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙下降， Ra ＞ 1 μ m 。第二步是微光平整 阳极极化，表面光亮度提高， Ra ＜ 1 μ m 。4 磁研磨抛光 磁研磨抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷，对工件磨削加工。这种方法加工效率高，质量好，加工条件容易控制，工作条件好。采用合适的磨料，表面粗糙度可以达到 Ra0.1 μ m 。5 流体抛光 流体抛光是依靠高速流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的。流体动力研磨是由液压驱动，使携带磨粒的液体介质高速往复流过工件表面。介质主要采用在较低压力下流过性好的特殊化合物（聚合物状物质）并掺上磨料制成，磨料可采用碳化硅粉末。常用方法有：磨料喷射加工、液体喷射加工、流体动力研磨等。6 超声波抛光 将工件放入磨料悬浮液中并一起置于超声波场中，依靠超声波的振荡作用，使磨料在工件表面磨削抛光。在溶液腐蚀、电解的基础上，再施加超声波振动搅拌溶液，使工件表面溶解产物脱离，表面附近的腐蚀或电解质均匀；超声波在液体中的空化作用还能够抑制腐蚀过程，利于表面光亮化。超声波加工宏观力小，不会引起工件变形，但工装制作和安装较困难。超声波加工可以与化学或电化学方法结合。

1.机械抛光是一种古老而又最具实用价值的抛光方法，可分为粗抛、中抛和精抛3类： 粗抛是用硬轮对制品表面进行磨削、磨光或研磨，因此粗抛也称为研磨或磨光。它主要用来除去零件表面的毛刺、划痕、锈痕、氧化皮、砂眼、气泡、焊瘤、焊渣和各种宏观的缺陷，以提高表面平整度和降低表面粗糙度。粗抛后的制品表面只能达到平整到平滑的程度，并不能得到光亮的表面，其表面粗糙度在数微米至数百微米之间。 中抛是用较硬的抛光轮对经过粗抛的表面进一步的加工，除去粗抛时留下的划痕，产生平滑至中等光亮的表面。其表面粗糙度在零点几微米到数微米之间。 精抛是抛光的最后一道工序，它是用涂有抛光膏的软轮对零件表面进行加工的方法。由于它是在已经比较平整的表面上进行的，它可以进一步降低表面粗糙度，已达到微观整平的目的，因而可以获得十分光亮的表面，而且抛光时对基材没有明显的磨耗，其表面粗糙度可达到0.01μm左右，可以真正达到镜面效果。2.机械抛光的机理： 机械抛光时，抛光机上的抛光轮在作高速旋转，操作者将被抛光的制件表面以适当压力按压在抛光轮上，这时因摩擦作用而产生高温，使被抛光表面容易发生变形而形成一层“加工变质层”。在旋转着的摩擦力的作用下，一方面表面的某些凸出部分被削去，同时金属制件表面也会产生塑性变形，凸起部分被压入，或移动一段距离后填入凹陷部位。这种削凸填凹的整平过程，以高速度大规模地反复进行，加上抛光膏地光亮化作用，结果就使原来较粗糙地制件表面，变得平滑而光亮。

电解抛光知识：整流器选择建槽规格及成本核算 一.电化学抛光理论： 1.电化学抛光定义（即什么是电解？）： 以被抛工件为阳极，不溶性金属为阴极，两极同时浸入到电解槽中，通以直流电而产生有选择性的阳极溶解，从而达到工件表面光亮度增大的效果。 2.电解原理： 电解原理现在世界各界人士争论很多，被大家公认的主要为黏膜理论。 工件上脱离的金属离子与抛光液中的磷酸形成一层磷酸盐膜吸附在工件表面，这种黏膜在凸起处较薄，凹处较厚，因凸起处电流密度高而溶解快，随黏膜流动，凹凸不断变化，粗糙表面逐渐被整平。 3.电解抛光优点： ⑴内外色泽一致，光泽持久，机械抛光无法抛到的凹处也可整平。 ⑵生产效率高，成本低廉。 ⑶增加工件表面抗腐蚀性。

如题，厂家总会死出一系列选择让你选，可是这里我想问问，预磨机、磨抛机、抛光机到底有什么区别。据我所知磨抛机换抛光布或砂纸即可抛光又可磨样，可是看看预磨机也没什么区别呀，是不是也可以这样用呢？大家有什么想法或实践请给小妹指点一二，谢谢啦！

焊接不锈钢的电化学抛光曹经倩,刘炳根,周　雅(南昌航空工业学院材料系,江西南昌330034)0 前　言　　　　不锈钢具有较高的耐蚀性和装饰性,被广泛运用于各领域之中。有关不锈钢表面的抛光工艺,前人进行了大量的研究,工业上常用于不锈钢电化学抛光的电解液主要有Ｈ3ＰＯ4 Ｈ2ＳＯ4体系、ＨＣｌＯ4 Ｃ2Ｈ5ＯＨ体系、ＨＣｌＯ4 冰醋酸体系、Ｈ2ＣｒＯ4 ＨＮＯ3体系等[1],目前使用较多的是Ｈ3ＰＯ4 Ｈ2ＳＯ4体系。然而,目前对有焊缝的不锈钢抛光则研究甚少,也未见一个完整的处理工艺报导。不锈钢焊缝因有严重的氧化黑皮和焊渣,利用常规抛光工艺难以达到技术要求。江西景德镇市某厂就因不锈钢产品结构复杂,造成焊缝的焊渣难以实施手工机械抛光而成为一攻关难题。作者经反复实验后,确定了以电化学去氧化皮→电化学抛光的不锈钢表面抛光工艺,经该工艺处理后,不锈钢表面及焊缝均达镜面光亮且不腐蚀不锈钢表面。1　试验方法1.1 试验材料　　1Ｃｒ18Ｎｉ9Ｔｉ奥氏体不锈钢(规格100ｍｍ×58ｍｍ,中间有焊缝)。1.2 工艺流程　　除油→水洗→去氧化皮→水洗→酸洗→水洗→光亮浸蚀→水洗→电化学抛光→钝化→水洗→吹干。1.3 去氧化皮处理液及工艺条件　　ＮａＯＨ　95～105ｇ/Ｌ,Ｎａ2ＣＯ3　100～200ｇ/Ｌ,ＫＭｎＯ4　80～90ｇ/Ｌ。化学处理法:温度　95～110℃,时间　1.5～3.0ｈ。电化学处理法:温度　60～70℃,时间　7～9ｍｉｎ,ＪＡ=35～45Ａ/ｄｍ2,阴极为铅板。1.4 电化学抛光液及操作条件的优选　　经试验优化,最佳工艺配方确定为:Ｈ3ＰＯ4(85%)　740～770ｍＬ/Ｌ,Ｈ2ＳＯ4(98%)　180～210ｍＬ/Ｌ,ＣｒＯ3　50ｇ/Ｌ,添加剂(明胶)8～10ｍＬ/Ｌ,溶液密度1.70～1.78ｇ/ｃｍ3,温度55～65℃,ＪＡ=35～45Ａ/ｄｍ2,电压10～20Ｖ,时间4～5ｍｉｎ,阴极为铅板。1.5　检测方法　　(1)目测法　经上述工艺抛光后,目测表面有无划痕、变形、方向性、不锈钢及其焊缝光亮性。(2)耐蚀性测定　抛光后在3%的ＮａＣｌ溶液中浸泡一周,检测不锈钢表面是否出现黄色锈点。2　结果与分析2.1 去氧化皮处理　　不锈钢焊接区由于高温氧化作用,局部表面生成一层致密的难溶氧化铁铬(ＦｅＯＣｒ2Ｏ3)黑皮和焊渣。去除该层氧化皮的方法较多,工业上主要采用化学处理法[2],主要借助氧化剂(ＫＭｎＯ4、ＮａＮＯ3、ＨＮＯ3、Ｈ2Ｏ2等)的作用使低价铁铬等氧化物转变为高价化合物,转变过程中,氧化膜的结构发生变化,附着力降低以致脱落。这种处理方法需2ｈ以上,生产效率低,更重要的是不锈钢焊接区的粗糙、疏松表面易遭受过腐蚀。本文对3种处理方法进行了实验对比,结果见表所示。[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2006/11/200611152116_32335_1634962_3.gif[/img]试验结果表明,采用化学处理法均未能达到预期效果 酸性化学处理法尽管时间较短,温度较低,但易出现过腐蚀现象 而碱性化学处理法则使用温度高,处理时间长 电化学抛光所得结果则优于两种化学处理法。究其原因,是在通电情况下,促使低价金属氧化物向高价氧化物转化的动力,主要是阳极电解所产生的初生态的氧原子[Ｏ],而氧化剂的作用已降为次要地位,即:ＦｅＯＣｒ2Ｏ3→[Ｏ]ΔＦｅ2Ｏ3ＣｒＯ3,使难溶的氧化铁铬疏松和分离 又由于初生的氧原子[Ｏ]能与基体金属表面作用,生成新生氧化膜,这种氧化膜在电场力的作用下以及在酸性介质中可以随生随灭,最终使黑皮和焊渣疏松,而溶液中的氧化剂更重要的是对不锈钢表面的钝化作用,保护了不锈钢表面免遭腐蚀。在电化学处理液中,增加氧化剂浓度和提高阳极电流密度,均有利于氧化黑皮的去除。但均不能过度,一般高锰酸钾控制在80～90ｇ/Ｌ,电流密度以35～45Ａ/ｄｍ2为佳。2.2 电化学抛光试验　　选用了抛光质量较好、溶液使用寿命较长的Ｈ3ＰＯ4 Ｈ2ＳＯ4体系[3]进行研究,配方组成和工艺参数如下:Ｈ3ＰＯ4(85%)540ｍＬ/Ｌ,Ｈ2ＳＯ4(98%)400ｍＬ/Ｌ,ＣｒＯ350ｇ/Ｌ,明胶8～10ｍＬ/Ｌ,密度1.75～1.82ｇ/ｃｍ3,ＪＡ=35Ａ/ｄｍ2,温度50～60℃,槽压10～20Ｖ,时间4～5ｍｉｎ,阴极为铅板。试验发现,该配方存在易吸水、不锈钢表面产生点蚀等缺陷,尤其是存放一段时间后,当溶液密度低于1.75ｇ/ｃｍ3时,会造成不锈钢表面的过腐蚀。我们对磷酸、硫酸和铬酸的含量比进行了重新分析,并通过正交试验确定了最佳工艺配方。　　实验还发现硫酸是影响电化学抛光质量最重要的因素,并对此作了进一步分析,结果当硫酸含量为100ｍＬ/Ｌ时,试片表面平整性、光亮度较差 含量为150ｍＬ/Ｌ时,试片表面平整、光亮 含量为200ｍＬ/Ｌ时,试片表面平整、光亮 含量为250ｍＬ/Ｌ时,稳定性差,试片易产生点蚀。可见当硫酸含量低于100ｍＬ/Ｌ时,抛光后零件光亮度较差,达不到镜面光亮 高于250ｍＬ/Ｌ时,抛光液稳定性较差, 易吸水,抛光表面出现点蚀。一般控制在180～210ｍＬ/Ｌ为宜。磷酸是公认的粘膜理论中电化学抛光的主要成分,既能起溶解作用又能在不锈钢表面形成磷酸盐保护膜,阻止不锈钢表面发生过腐蚀。其含量变化较宽,但以750ｍＬ/Ｌ左右为佳。铬酐在电化学抛光液中以Ｈ2Ｃｒ2Ｏ7形式存在,有很强的氧化性,能使不锈钢表面钝化,避免抛光表面产生过腐蚀,有利于提高抛光表面的光亮度,试验表明其含量应控制在50～60ｇ/Ｌ。所施加的电抛光工艺参数如电流密度、温度、阴阳极间距等,也会对抛光表面质量产生影响。提高抛光温度,会提高抛光速度,但过高会腐蚀表面或使表面产生气带条纹,影响抛光质量 温度过低,抛光整平效果明显下降。电流密度对抛光质量的影响亦较大,当ＪＡ=25Ａ/ｄｍ2时,试片表面光亮,有少量清晰的磨痕 ＪＡ=40Ａ/ｄｍ2时,试片表面光亮 ＪＡ=55Ａ/ｄｍ2时,试片表面光亮,抛光液升温速度快。可见,ＪＡ以40Ａ/ｄｍ2左右为宜。3 结　论　　通过试验研究和生产应用表明,按最佳工艺条件:Ｈ3ＰＯ4740～770ｍＬ/Ｌ,Ｈ2ＳＯ4180～210ｍＬ/Ｌ,ＣｒＯ350ｇ/Ｌ,明胶8～10ｍＬ/Ｌ,ＪＡ=35～45Ａ/ｄｍ2,温度55～65℃,时间4～5ｍｉｎ,阴板为铅板,对不锈钢焊逢实施抛光后能使不锈钢表面及其焊缝达到镜面光亮,且不会腐蚀基体。碱性电化学法去除氧化黑皮效率高、清除快 试验所得的抛光液具有稳定性高、使用寿命长、能耗低的特点,在含有少量水分(80ｍＬ/Ｌ)的情况下亦有较好的抛光效果,不会产生点蚀。

[b]概 述[/b]欧波同材料分析研究中心分析测试业务于年初正式上线，受到业内广泛关注。近期中心收到很多客户的咨询，询问一些特殊样品的制样方法或解决方案。我们根据客户咨询和反馈，整理了相关的案例分享给大家，希望能给大家点思路。一、微纳米颗粒 （针对200μm以下样品）[b][color=#0080ff]应用范围：微纳米材料内部结构分析例 如：锂电池阳极材料、微纳米颗粒[/color][/b]颗粒类的样品多数利用扫描电镜检测形貌、粒度统计、能谱并做一些长度测量，但是一旦涉及内部结构观察普通制样方式很难达到要求。[align=center][/align][table=590][tr=linear][td=1,1,155]制样方式[/td][td=1,1,357]缺点[/td][/tr][tr][td]研钵研磨/刀片压碎[/td][td=1,1,335]只能看到断面的情况，而且成功率不高，电镜观察需要费时寻找[/td][/tr][tr][td]镶嵌包埋[/td][td=1,1,335]需要机械抛光，容易脱落；耗时；需考虑镶嵌料对样品影响[/td][/tr][/table][align=left][/align][align=left]举例来讲，图1是客户要求观察颗粒表面和断面形貌，研钵研磨后，结果并不理想，视野内可见大量碎裂颗粒，且断面情况各异更无法进行测量等工作。[/align][align=center][img]http://img1.17img.cn/17img/images/201707/uepic/6cf7b66d-9593-40d3-a774-0e8c80ea62ca.jpg[/img][/align][align=center]图 1[/align][align=center][/align][align=left]图2是用Gatan Ilion II设备抛光后结果，可见视野内颗粒全部切开，截面平整，易于观察测量；图3为局部放大，颗粒内部结构一览无余。[/align][align=center][img]http://img1.17img.cn/17img/images/201707/uepic/1410d468-b986-41c9-8e01-2eca49a92911.jpg[/img][/align][align=center][color=#3e3e3e]图 2[/color][/align][align=center][img]http://img1.17img.cn/17img/images/201707/uepic/4c11d7bb-f522-4d2a-88ca-df8a16ace503.jpg[/img][/align][align=center]图 3[/align][align=center][/align]二、多层复合材料/镀层/高分子薄膜[b][color=#0080ff]应用范围：分层材料、薄膜或其他柔性材料例 如：锂电池隔膜、镀层等[/color][color=#0080ff][/color][/b]多层复合材料其实在我们生活中应用极为广泛，比如各种触摸屏。这类材料主要看截面分层情况，但是由于其柔性大，普通方式比如剪切、液氮脆断等都会导致分层扭曲、断面不齐整等问题，影响后续用电镜进行分层测量。举个例子-样品为电池极板（图4、图5）：图4是剪刀剪切后的电镜结果，可以看到由于剪切力的影响，层次不够分明，无法进行精确测量，无法提供有效的信息。[b][color=#0080ff][/color][/b][align=center][img]http://img1.17img.cn/17img/images/201707/uepic/d6b05262-0f70-4efd-9204-9a784560bcd9.jpg[/img][/align][align=center]图 4[/align][align=center][/align][align=left]图5为Gatan Ilion II抛光后结果，层次清晰，可进行精确测量。[/align][align=left][/align][align=center][img]http://img1.17img.cn/17img/images/201707/uepic/f681f7b1-8773-45c3-8b4a-7421c47d036a.jpg[/img][/align][align=center]图 5[/align][align=center][/align]三、电子元器件[b][color=#0080ff]应用范围：各类微元器件[/color][/b]电子元器件由于其越来越微小、越来越复杂，其失效时很难定位，也很难用普通手段看清其内部结构（图6）。图中结果用Ilion II 进行处理，局部放大图片能够看到几十个nm结构，后续进行分析带来极大便利。[align=center][img]http://img1.17img.cn/17img/images/201707/uepic/3842cfdd-fb05-49b8-9434-db36b6e6881f.jpg[/img][/align][align=center]图 6[/align][align=center][/align]我们再来看一例（图7）[align=center][img]http://img1.17img.cn/17img/images/201707/uepic/50d94bcf-473c-4015-90a8-9c5105ef9898.jpg[/img][/align][align=center]图 7[/align]红框1局部放大，可见有10层结构[align=center][img]http://img1.17img.cn/17img/images/201707/uepic/e2dbeeae-1d93-4489-ab19-790b1161a157.jpg[/img][/align][align=center]图 8[/align][align=center][/align][align=left]红框2局部放大，一目了然[/align][align=center][img]http://img1.17img.cn/17img/images/201707/uepic/f4f1741a-3c45-443b-866c-b0ed55228bec.jpg[/img][/align][align=center]图 9[/align][align=left][/align]后 记[color=#5898f9][/color]以上是小编本期分享的内容，希望对大家有帮助。

[color=#DC143C][size=1][size=4][font=黑体][font=楷体_GB2312][B] 钴铬合金如何电解抛光呢 ？ 电解抛光钴铬合金用什么配呀？？[/B][/font][/font][/size][/size][/color][em0811] [size=4][font=隶书][color=#00008B]其中：Co: 63.50%Cr: 27.00%Mo: 5.50%Fe: 2.00%Ni: 0.99%如何配置呢？？？？？？？？[/color]

机械抛光的磨料通常为抛光粉和抛光膏、常用的施光粉为Al2O3、Cr2O3 ，它价格便宜，适用性强。 抛光膏一般是人造金刚石为好，抛光效果理想，但价格贵，不适合大专院校的学生实验用。笔者使用的是Al2O3抛 光粉，由于经验不足，制成悬浮液的稠稀适度和在抛光时倒入量掌握不好，加之悬浮液易使粒度不均，抛光效果也不理想，且浪费大。为了改变抛光粉的使用状况，笔者进行了一些探讨。金刚石抛光膏之所以抛光效果好，不仅是金刚石磨料硬度高，尖角锋利，还由于将粉制成膏剂后可以沾嵌在抛光织物上，有利试样的磨面接触磨料磨削，这样即可抛出理想的试样，浪费也少。根据抛光膏的原理，我们将Al2O3抛光粉配制成抛光膏。使用方法同研磨膏一样。使用效果良好。配制方法：将10ml甘油＋6g 硬脂酸＋60ml水混合加热完全乳化后，再加入100g Al2O3粉，不断搅拌直至冷到室温即可。还可加人少量油酸，以增加其润滑。

1.验证可逆性是用铁氰化钾溶液还是铁氰化钾和亚铁氰化钾的混合溶液2.a-氧化铝抛光粉该如何使用。我把粉和水混在一起后不会形成稳定的悬浊液，粉会沉淀。把粉和水的浆液一起倒到抛光织物上后，发现因为表面张力，浆液在织物上呈球状，不能很好的浸润，打磨时感觉是电极在和织物摩擦，效果也似乎比砂纸磨后不经过抛光效果差。[em38]

请问哪里有电化学抛光呀，我是中科大的

MultiPrep™ 配套研磨设备http://www.zxbairui.com/UploadFile/2007131172846698.jpgMultiPrep™ 系统适用于高精微（光镜，SEM，TEM，AFM，etc）样品的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光，精确角抛光，定址抛光或几种方式结合抛光。它保证良好的重现性，可以解决多用户使用的矛盾。 MultiPrep 无须手持样品，保证只有样品面与研磨剂接触。 TechPrep™ 为MultiPrep™ 的定位装置提供电源。人性化的控制面板设计控制MultiPrep™所有功能。研磨盘转速范围（顺/逆时针）为5到350PRM。除触摸开关控制所有功能外，还有数字触摸键盘用于设置研磨盘速度、计时器、摆动与旋转设置。此系统用水符合冷却标准；自动滴液给料系统适用研磨悬浮液和润滑剂。特点：测微计控制样品的设置精确轴设计保证样品垂直于研磨盘，使之同时旋转。数字千分表显示样品行程，增量1微米。（实时）双轴测微计控制样品角坐标设置（斜度和摆度），10°幅度， 0.02° 增量。6倍速样品自动摆动。8倍速样品自动旋转。样品调整范围：0-600克（100克增量）数字记时器与转速计凸轮锁紧钳无需其他辅助工具，方便用户重新设置工作夹具。

[color=#DC143C][size=4][font=黑体][center]手工抛光到自动抛光能否代替一个质的飞跃[/center][/font][/size][/color] [color=#DC143C][font=楷体_GB2312][center] Lylsg555[/center][/font][/color] 凡是做金相分析的朋友都知道，要想在显微镜下获得一个良好的，清晰的观察面，试件的抛光制备是最为重要的。试件的抛光是件不容易的事情，要考虑到多方面的因素，如抛光织物的选择，抛光磨料的选择，抛光的旋转速度及抛光手给予试件压力的大小。而且还包含了人的因素，个人技术，个人在抛光中的偏好等等。 手工抛光最主要的要求是试样面没有划痕，凹坑，光亮如镜，为此许多检验人员在抛光上下了很多功夫，技术达到了炉火纯青的地步。 现在随着科学进步和先进设备的快速发展，在金相领域的制样方面，现代化的自动抛光设备也孕育而生。有进口的，国产的。虽然我还没有接触过这样先进的设备，但从各方的介绍来看，基本上以都是电脑程序控制，自磨自抛，自动送磨料，自动定时等等，大大地提高了工作效率，解放了劳动力。 然而，这是否就意味着自动抛光将取代手工抛光呢？理论上，试件在抛光后期，对手持试件旋转的方向，手给予试件的压力大小都有严格的要求，如稍微操作不当，便可产生划痕，尤其是在分析金属夹杂物方面，会产生“曳尾”现象，给分析带来麻烦。因为自己没有操作过自动抛光机，带着这个疑问，查找了一些文献资料。从资料方面来看，进口产品似乎可以达到要求，国产的就存在出现划痕现象。且存在着抛光质量的问题。 手工抛光到自动抛光能否代替一个质的飞跃？我想每个人都有自己的答案，尤其是使用过自动抛光设备的朋友是最有发言权的。不是吗？ 2008．6．17

1.氧化铝，是广泛应用的磨料，它有高的硬度，莫氏硬度达９，有低的化学反应能力，与被磨制的材料一般不起化学反应．它可制作砂轮、砂带、砂纸等用于磨光，制作散装的细粉或罐装研磨用于抛光，均有良好的效果。2.金刚石磨料具有极高的硬度，莫氏10，颗粒尖锐锋利，有良好的磨削作用，是很理想的抛光磨料。这种磨料有三个优点：1）磨料硬度极高而且极尖锐，无论对软的或硬的材料都具有良好的磨削作用。合金组织中如果有软硬相差悬殊的不同相，用金刚石粉抛光可以得到良好的结果。如铸铁中的石墨，钢中的夹杂物，钢表面的硬化层，镀锌钢板以及复合材料等，用金刚石粉抛光可以得到其他磨料所得不到的良好的结果，此外如硬质合金只有用金刚石粉才能有效的抛光。2）磨料基本上是纯粹的磨削作用，而无滚压作用，所以试样表层形变扰乱金属层基本不产生。3）磨粒的切削寿命很长，切削能力很高，所以磨料消耗极少，制备的样品又好。金刚石粉是天然金刚石的下脚料或人造金刚石制成的，粒度一般在45-0.25um之间，15um以下适用于金相抛光。使用较多的是10um,6um,3um和1um.目前，散装金刚石粉用作金相磨料者很少，多半制成研磨膏使用。金刚石研磨膏是硬脂酸、三乙醇胺、肥皂乳剂（润湿剂）和金刚石粉制成的。待续……

一、电解抛光 碳素钢和低合金钢，广泛采用磷酸-铬酐型抛光溶液。其工艺规范见表2-2-1。阳极均用铅材，电源电压均可为12V。 配制溶液时先用少量的水，分别溶解铬酐、EDTA和草酸，然后加入磷酸并在不断搅拌下加入硫酸。计算各组分的用量时，应先测定所用磷酸和硫酸的密度，根据密度，分别查得质量百分浓度，然后，按下式计算这两个组分的需要量：http://www.microscopy.com.cn/data/attachment/portal/201106/08/154542ngpb6tobohk1vzg2.jpg式中 A——配制1L溶液所需磷酸或硫酸的毫升数； d——配制好的溶液的密度； d1——实际测得的配制所用磷酸或硫酸的密度； b——根据d1查得的磷酸或硫酸的质量百分含量； α——配方中磷酸或硫酸的规定含量（质量百分比）。 配制后的溶液需测量其密度，当其密度低于规定时，可将溶液在115～200℃下，加热浓缩，以除去多余的水分。 新配制的溶液，需在阴极面积大于阳极面积几倍的情况下，进行通电处理，使一部分六价铬还原为三价铬，这时阳极电流密度为30～40A/dm2，通电量为5～6A·h/L。经通电处理后，即可进行电解抛光。 溶液在使用过程中，会由于阳极溶解而不断积累铁离子，与此同时，零件抛光后的光亮度将会下降，当铁含量（按Fe2O3计算）达到7%～8%时，溶液需部分或全部更换。 http://www.microscopy.com.cn/data/attachment/portal/201106/08/154717cfz8sr2h3fh2e8fr.jpg 溶液中三价铬积聚过多时（Cr2O3超过2%），同样会使抛光后的零件表面光亮不足。这时，可以在阳极面积大于阴极面积几倍的情况下，进行通电处理（阳极用石墨），阴极最好用素烧陶瓷予以隔离，通电处理完毕时，除去阴极室内三价铬化合物。 溶液中磷酸、铬酐、硫酸和三价铬的含量，应定期分析和调整，溶液的密度应经常测定，并及时加水或浓缩溶液，校正密度。 不锈钢的电解抛光，广泛采用磷酸-硫酸型溶液。几种常见的溶液的工艺规范，如表2-2-2所列。 http://www.microscopy.com.cn/data/attachment/portal/201106/08/1547207pk4b7b1f1xs15gb.jpg需要指出的是，配制1号溶液时，应将磷酸和硫酸依次加入水内，冷至室温后，测量密度，并分析各组分的含量。溶液应在70～80℃下，以60～80A/dm2的阳极电流密度，进行通电处理，待通电量达40A·h/L后，即可使用。配制3号溶液时，应将磷酸与硫酸混合，铬酐与水混合溶解，然后将磷酸和硫酸混合液倒入铬酐的水溶液中加热至80℃，在搅拌下慢慢加入明胶，此时溶液反应激烈，大约1h反应完毕，溶液变为均匀的草绿色。测定并校正溶液的密度，密度合格后，在低的阳极电流密度下，通电处理数十分钟，即可用于生产。 在使用过程中，需经常测定和调整溶液的密度。磷酸和硫酸含量要定期分析和调整。由于阳极溶解，溶液中的铁含量将会逐渐聚集升高，当铁含量（按Fe2O3计算）超过7%时，溶液便逐渐失去抛光能力，这时，溶液应部分或全部予以更换。二、化学抛光 低碳钢零件，可以在含有双氧水的弱酸性溶液中，进行化学抛光。其工艺规范如表2-2-3所列。 操作中应注意事项： 1.由于溶液浓度较低以及双氧水分解较快，双氧水的含量需要及时补充（每次约5～10g/L），在补充的同时，还需按4～6g/L补充氢氟酸（指配方2、配方3溶液而言），使溶液的pH值保持在2.1左右，当铁含量较高时，pH应控制在1.7～2.1。配方1溶液中草酸的补充量，约为双氧水补充量的一半。 2.溶液中铁离子含量不应超过35g/L，铁含量过高时，抛光速度和抛光质量都将下降，补充双氧水和其它成分，都不能恢复溶液的功能，这时，溶液应更换。 3.溶液温度最好控制在15～25℃。温度过高，会使双氧水加速分解，影响溶液的寿命。以上抛光过程，是一个放热反应过程，溶液的温度将会升高，需进行冷却降温。 低、中碳钢和低合金钢零件，还可以在以下溶液中进行化学抛光： 磷酸（H3PO4）（密度1.70） 60%（体积） 硫酸（H2SO4）（密度1.84） 30%（体积） 硝酸（HNO3）（密度1.40） 10%（体积） 铬酐（CrO3） 5～10g/L 温度 120～140℃ 时间 ＜10min http://www.microscopy.com.cn/data/attachment/portal/201106/08/154723dzp2c0pbabffsa0b.jpg 溶液中水含量过多，会导致抛光后的零件表面被腐蚀和失去光泽。所以，抛光前的零件，必须在干燥并加热至同溶液温度接近后再进槽。溶液经一段使用后，如果发现抛光过程中NO2的逸出减少，则可酌量加入2%～8%（体积）密度为1.40的硝酸。 不锈钢则可在下列溶液中进行化学抛光： 配方（1） 硫酸（H2SO4）（密度1.84）227mL 盐酸（HCl）（密度1.19） 67mL 硝酸（HNO3）（密度1.40） 40mL 水 660 mL 温度 50～80℃ 时间 3～20min 抛光时要抖动零件，避免气泡在表面停滞。加入甘油，可以改善抛光质量。 配方（2） 盐酸（HCl） 66～77g/L 硝酸（HNO3） 180～200g/L 氢氟酸（HF） 70～90g/L 硝酸铁（Fe（NO[su

我们实验室抛光剂就是氧化铝，抛光布一种红色的，一种黑色的，请问这有什么区别哦，问了只是说黑的适合磨铝合金，红的适合磨其他硬的金属，还有这个腐蚀剂应该怎么选，比如 NiV AlCu AlCr AlNd 这些合金应该用什么抛光布抛光剂，腐蚀剂，砂纸用是不是必须#01到#10，中间跳过几号会不会影响效果？

公司需要分析复合材料，就是树脂+纤维（玻纤或碳纤）+填料。通过包埋和抛光，发现要想得到好的观察界面，需要抛到1μm以下。现存在以下几个问题：1，制样时间很久。我的设备同时可以抛光4个样品。完成抛光制样，大概需要1天，太耗时间。但是加大压力，和增加转速，又担心纤维会碎裂。目前压力20N2,样品难以清洗干净。每道抛光完成后，都需要对样品进行超声清洗，洗去此道的磨抛膏。中间的步骤清洗要求不高，但是最后一步，需要清洗干净以避免对观察的干扰。扫描电镜观察，大概可以放大10000×。所以最后的清洗非常关键。不知道有没有清洗液可以推荐？

抛光机是什么呢？其实我也不怎么懂的。抛光机是不是把地面抛的光光的机器啊。还是让我们就来读读这篇文章看看到低是怎么一回事吧。抛光机操作安全：一、使用高速抛光机前：应对环境做以下检查；操作者的手、脚要远离旋转的抛光头；操作者不得踩住电源线或将电源线缠入抛光头内；操作者必须安全着装；抛光区域不得超过电源线的长度；操作者不得擅自将操作手柄脱手，停机时必须在高速抛光机完全停止旋转后，方可松开手柄；不能使用粘有灰尘、污垢的抛光垫抛光；积垢太多的抛光垫无法清洗干净时，用及时更换；更换、安装抛光垫时，必须切断电源。　　二、高速抛光机的存放：切断电源；向后倾斜，后轮着地存放；不得在室外存放，并应存放在干燥处。三、发现以下情况，不得使用高速抛光机操作者未受过专业培训，操作者未学习过“安全操作”，高速抛光机运转不正常