冷场发射扫描显微镜

FE-SEM获得的图像分辨率高，信息丰富，样品处理相对简单，并且它可以观察、测量并分析样品的细微结构，因此被广泛应用于纳米技术、半导体、电子器件、生命科学、材料等领域。近年来，以Materials Integration为代表，其应用领域及用途在不断扩展，短时间内获取大量数据，减轻作业负荷成为市场的一大需求。为满足这一需求，此次特推出的SU8600系列秉承了Regulus8200系列的高质量图像、大束流分析及长时间稳定运行的冷场成像技术，同时还大大提升了高通量、自动数据获取能力。　在细微结构分析中，SU8600可以实现低加速电压观察，对高分子等易受电子束照射影响的材料进行高分辨观察。该系列产品的特点如下：1．支持自动获取数据在FE-SEM的观察和分析中，需要根据测量样品与需求调整观察条件。调整所需时间的长短取决于用户的操作熟练度，这是造成数据质量与效率差异的因素之一。此系列产品标配自动调整功能，可避免人为操作导致的差异。此外，随着仪器性能的提升，需要获取的数据种类与数量也在增加，手动获取各种大量数据会大大增加用户的作业负担。此系列产品可选配“EM Flow Creator”，用户可根据自身需求设定条件，自动获取数据，这对于未来通过获取大量数据实现数据驱动开发起到重要作用。2．增加获取信息的种类与数量通过SEM能够收集到多种信号，且此系列产品最多可以同时显示和存储6个检测器的信号。在减少图像获取次数的同时能够获取多种信息。此外，为一次性获取大量信息，像素扩展到了40,960 x 30,720（选配），是之前型号的64倍。利用这一功能，可凭借一张数据图像有效评估多处局部的细微结构。3．增强信号检测能力　SU8600开发了多个新型选配检测器，加强了对凹凸信息、发光信息的检测能力。此外，还提高了背散射电子信号检测的响应速度。

[ 产品简介 ]蔡司新一代场发射扫描电子显微镜Sigma系列，具有高质量的成像和分析能力，将先进的场发射扫描电子显微镜技术与优秀的用户体验完美结合。利用Sigma系列直观的4步工作流程，在更短的时间内获得更多的数据，提高测试与生产效率。可选配多种探测器，以满足半导体、能源等新材料、磁性样品、生物样品、地质样品等不同的应用需求。结合蔡司原位电镜实验平台，可以实现自动智能化的原位实验工作流程，高效率获取高通量、高质量的原位实验数据。领先的EDS几何设计保证了出色的元素分析性能，分析速度高、精度好、结果可靠。高分辨、全分析、多扩展、强智能、广应用，全新Sigma系列是助力于材料研究、生命科学和工业检测等领域的“多面手”。[ 产品特点 ]&bull 独特的Gemini镜筒设计，低电压高分辨，无漏磁&bull 广泛全面的应用场景&bull 丰富灵活的探测手段&bull 智能高效的工作流程&bull 先进可靠的分析系统&bull 强大完善的扩展平台[ 应用领域 ]&bull 材料科学，如纳米材料高分辨成像，高分子聚合物等不导电样品成像，电池材料成分衬度成像，二维材料分析&bull 生命科学，如生物样品超微结构成像，冷冻样品高分辨成像&bull 地质矿物学，如地质样品高分辨成像、成分分析以及原位拉曼联用分析&bull 工业应用，如组件失效分析，工艺诊断&bull 电子半导体行业，如质量控制与分析，6英寸Wafer快速换样，电子束曝光技术（EBL）&bull 钢铁行业，如夹杂物分析，金属材料自动原位成像分析&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复NanoVP lite模式下断裂的聚苯乙烯表面成像氧化铝颗粒高分辨二次电子成像ETSE探测器氧化锌枝晶成像InLens SE探测器氧化锆&氧化铁复合材料成像Sense BSD探测器刺毛苔藓虫超微结构成像aBSD探测器超导合金成像

仪器简介： JSM-7600F是日本电子株式会社2008年下半年推出的兼顾冷场的高分辨率和热场大束流为一体的热场发射扫描电镜，它几乎集成了当今扫描电镜的全部前沿技术，最大200nA的大电流在保证高分辨率的同时，得到高速样品分析结果，空间分辨率极高，对导电性差的样品也有很多解决办法。JSM-7600F自动化程度高，操作直观方便，可以称得上是一款高档次的场发射扫描电镜。 2021年该型号升级为JSM-IT800i和is，分辨率更高，操作更加简单方便，详情请咨询日本电子株式会社各地事务所。技术参数：1.分辨率：0.5/0.6nm(15kV)/0.7/1.0nm(1kV)2.加速电压：0.1KV-30kV3.放大倍数：25-200万倍4.样品室尺寸：最大200mm直径样品5.束流强度：1pA到300nA/500nA主要特点： 长寿命高亮度电子枪,寿命保3年,最大电流300nA以上兼顾超高分辨和大电流标配的五轴马达驱动全对中样品台全自动样品更换气锁（选配）全自动样品台监控系统全自动物镜光阑多通道显示系统减速系统标准配置能量过滤器标准配置可以选配扫描投射探头（STEM）

2020年5月25日日本电子株式会社全球同步发布新款场发射扫描电子显微镜JSM-IT800系列。 JSM-IT800的场发射扫描电镜通用性强，可广泛应用于纳米材料、金属材料、半导体材料、化学化工、医学及生物学领域，可高效观察包括非导体样品及强磁性样品等。 JSM-IT800SHL分辨率可达0.5nm,成像能力强大。浸没式电子枪可提供500nA大电流，EDS和EBSD分析速度极快。 另外JSM-IT800系列还搭载了众多全新研发的电子光学技术，自动化程度极高。详情请咨询捷欧路（北京）科贸有限公司及其各地分公司。

GeminiSEM 系列产品高对比度、低电压成像的场发射扫描电子显微镜为对任意样品进行高水准的成像和分析而生蔡司GeminiSEM 系列产品具有出色的探测效率，能够轻松地实现亚纳米分辨成像。无论是在高真空还是在可变压力模式下，更高的表面细节信息灵敏度让您在对任意样品进行成像和分析时都具备更佳的灵活性，为您在材料科学研究、生命科学研究、工业实验室或是显微成像平台中获取各种类型样品在微观世界中清晰、真实的图像，提供灵活、可靠的场发射扫描电子显微镜技术和方案。GeminiSEM 500 具有出色的分辨率，在较低的加速电压下仍可呈现给您更强的信号和更丰富的细节信息，其创新设计的NanoVP可变压力模式，甚至让您在使用时拥有在高真空模式下工作的感觉；更强的信号，更丰富的细节GeminiSEM 500 为您呈现任意样品表面更强的信号和更丰富的细节信息，尤其在低的加速电压下，在避免样品损伤的同时快速地获取更高清晰度的图像。经优化和增强的Inlens探测器可高效地采集信号，助您快速地获取清晰的图像，并使样品损伤降至更低；在低电压下拥有更高的信噪比和更高的衬度，二次电子图像分辨率1 kV达0.9nm，500 V达1.0 nm，无需样品台减速即可进行高质量的低电压成像，为您呈现任意样品在纳米尺度上更丰富的细节信息；应用样品台减速技术-（Tandem decel），可在1 kV下获得高达0.8nm二次电子图像分辨率；创新设计的可变压力模式-NanoVP技术，让您拥有身处在高真空模式下工作的感觉。洞察产品背后的科技Gemini电子光学系统Gemini 1类型镜筒 -延续创新和发展如今，扫描电子显微镜（SEM）在低电压下的高分辨成像能力，已成为其在各项应用领域中的标准配置。低电压下的高分辨率成像能力，在以下应用领域中扮演着尤为重要的角色：电子束敏感样品不导电样品获取样品极表面的真实形貌信息Gemini的革新电子光学设计，应用高分辨率电子枪模式、Nano-twin lens物镜(GeminiSEM 500)、以及Tandem decel样品台减速技术（选配），有效提高了在低电压时的信号采集效率和图像衬度。高分辨率电子枪模式：缩小30%的出射电子束能量展宽，有效地降低像差；获得更小的束斑。Nano-twin lens物镜： 优化静电场和磁场的复合功效，在低电压下具有的更高的分辨率； 提高镜筒内Inlens探测器在低电压下的信号采集效率。Tandem decel样品台减速技术，进一步提高对适用样品在低电压甚至极低电压下的分辨率：Tandem decel减速技术将镜筒内减速和样品台偏压减速技术相结合，有效地实现低着陆电压；使用1 kV及以下更低电压时，镜筒内背散射探测器的检测效率获得更好地增强，低电压下的分辨率得到进一步提高。对适用的样品可以加载高达-5 kV的样品台偏压，在低电压下获得更高质量的图片优化静电场和磁场的复合功效，在低电压下具有的更高的分辨率；提高镜筒内Inlens探测器在低电压下的信号采集效率。技术参数：基本规格蔡司 GeminiSEM 500热场发射电子枪，稳定性优于0.2 %/h加速电压0.02 - 30 kV探针电流3 pA - 20 nA（100 nA配置可选）存储分辨率最高达32k × 24k 像素放大倍率50 – 2,000,000标配探测器镜筒内Inlens二次电子探测器样品室内的Everhart Thornley二次电子探测器可选配的项目NanoVP可变压力模式高效VPSE探测器（包含在NanoVP可变压力选件中）局部电荷中和器镜筒内能量选择背散射探测器环形STEM探测器（aSTEM 4）EDS能谱仪EBSD探测器(背散射电子衍射)可订制特殊功能样品台环形背散射电子探测器阴极射线荧光探测器

[ 产品简介 ]蔡司场发射扫描电子显微镜Gemini系列，具有出色的探测效率，能够轻松实现亚纳米分辨成像，适用于多种材料的高分辨成像与分析。其优异的低电压成像能力与表面细节灵敏度，让您在对任意样品进行成像和分析时都具备更佳的灵活性，可获取各类样品在微观世界中清晰、真实的图像。为生命科学研究实验室、工业实验室、成像测试平台、高校或研究机构提供灵活、可靠的场发射扫描电子显微技术与方案。[ 产品特点 ]&bull 出色的检测效率&bull 优异的低电压分辨率和表面灵敏度&bull 灵活的探测手段获取高分辨的图像&bull 独特的无漏磁镜筒，轻松应对磁性材料表征&bull 丰富的扩展性[ 应用领域 ]&bull 材料科学，如纳米材料表征&bull 工业应用，如失效分析，性能分析&bull 生命科学，如大体积细胞高通量成像&bull 电池领域，如老化分析、电池材料表征&bull 电子半导体领域，如半导体器件失效研究与分析&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复InLens SE探测器磁性FeMn纳米颗粒成像 InLens SE探测器NCM622正极颗粒成像InLens SE 探测器和EsB 探测器同时对包埋在沸石中的银纳米颗粒成像aBSD探测器FinFET结构成像 NanoVP模式下不导电玻璃片上的光刻胶样品成像 小鼠大脑成像

专用扫描透射显微镜HD-2700，配备了与德国CEOS GmbH公司（总经理Max Haider先生）共同开发的球差校正仪，显著提高了扫描透射电子显微镜的性能，更适合高级纳米技术研究。由于球差校正系统校正了限制电子显微镜的性能的球差，使其与标准型号显微镜相比，分辨率提高了1.5倍，同时，探针电流提高了10倍。最近，该显微镜还配备了高分辨率镜头和冷场发射电子枪，进一步提高了图像分辨率和电子束能量分辨率。同时，该型号系列还增加了一款不带球差校正的主机配置，可以以后加配球差校正进行升级。特点 高分辨率扫描透射电子显微镜成像HAADF-STEM图像0.136nm，FFT图像0.105nm（高分辨率镜头（*））HAADF-STEM图像0.144nm（标准镜头）明场扫描透射电子显微镜图像0.204nm（w/o球差校正仪）高速，高灵敏度能谱分析：探针电流× 10倍元素面分布更迅速及时低浓度元素检测操作简化自动图像对中功能从样品制备到观察分析实现无缝连接样品杆与日立聚焦离子束系统兼容配有各种选购件可执行各种评估和分析操作同时获取和显示SE&BF, SE&DF, BF&DF, DF/EDX面分布（*） 和DF/EELS面分布（*）图像。低剂量功能（*）（有效降低样品的损伤和污染）高精度放大校准和测量（*）实时衍射单元（*）（同时观察暗场-扫描透射电子显微镜图像和衍射图案）采用三维微型柱旋转样品杆（360度旋转）（*），具有自动倾斜图像获取功能。ELV-3000即时元素面分布系统（*）（同时获取暗场-扫描透射电子显微镜图像）（*） 选购件技术指标HD-2700球差校正扫描式透射电子显微镜项目描述图像分辨率w/o球差校正仪保证 0.204nm（当放大倍数为4,000,000时）w球差校正仪保证 0.144 nm（当放大倍数为7,000,000时）（标准镜头）保证 0.136nm（HAADF图像）保证0.105 nm（通过FFT）（当放大倍数为7,000,000时）（高分辨率镜头（*））放大倍数100倍 至 10,000,000倍加速电压200 kV, 120 kV （*）成像信号明场扫描透射电子显微镜：相衬图像（TE图像）暗场扫描透射电子显微镜：原子序数衬度图像（Z衬度图像）二次电子图像（SE图像）电子衍射（*）特征X射线分析和面分布（能谱分析）（*）电子能量损失谱分析和面分布（EV3000）（*）电子光学系统电子源肖特基发射电子源冷场致发射器（*）照明透镜系统2-段聚光镜镜头球差校正仪（*）六极镜头设计扫描线圈2-段式电磁感应线圈原子序数衬度收集角控制投影镜设计电磁图像位移± 1 &mu m试片镜台样品移动X/Y轴 = ± 1 mm, Z轴 = ± 0.4 mm样品倾斜单轴-倾斜样品杆：± 30° （标准镜头）, ± 18° （高分辨率镜头（*））真空系统 3个离子泵，1个TMP极限真空10-8 Pa（电子枪）, 10-5 Pa（样品室）图像显示个人电脑／操作系统PC/AT兼容, Windows XP监视器19-inch液晶显示器面板图像帧尺寸640 × 480, 1,280 × 960, 2,560 × 1,920 象素扫描速度快扫，慢扫（0.5至320秒／帧）自动数据显示记录序号，加速电压，下标尺，日期，时间 （*） 选购件

新一代200kV冷场发射冷冻电镜CRYO ARM&trade 200 II (JEM-Z200CA)正式发售2022/02/18日本电子株式会社（JEOL Ltd.）2022年2月18日正式公布新一代200KV冷场发射冷冻电镜CRYO ARM&trade 200 II (JEM-Z200CA), 主要用于蛋白质的单颗粒分析，该电镜已于2022年1月陆续发货。研发背景不同的研究目的对电镜配置要求各异，在结构生物学中亦是如此。Tomography研究与单颗粒分析对电镜的要求也有区别，由于近年对我公司单颗粒分析电镜的需求猛增，我们专门设计了一款极具针对性的产品。 CRYO ARM&trade 200 II (JEM-Z200CA)不但配置了冷场发射电子枪，镜筒内的欧米伽能量过滤器等日本电子的独门绝技，还专门研制了一款高分辨极靴。主要特点1. 为单颗粒分析研究优化的电子光学系统 全新的高分辨极靴色差系数(Cc) 1.8 mm， 球差系数(Cs) 1.5mm，可获得高分辨兼顾高衬度的数据。配合冷场发射电子枪和欧米伽能量过滤器，CRYO ARM&trade 200 II可获得更好高分辨数据。2. 更好的可操作性 CRYO ARM&trade 200 II增加了欧米伽过滤器的自动校正系统和菲涅尔光环消减系统提高了可操作性。3. 更高的稳定性 CRYO ARM&trade 200 II的真空系统和冷冻系统进行了进一步优化,提高了整体的稳定性。主要技术指标电子枪冷场发射电子枪(Cold FEG)最高加速电压200 kV能量过滤器内置式欧米噶能量过滤器(New Omega Filter)样品冷却温度≤100K样品储存最多可储存12个样品.选购件JEOL 单颗粒自动采集软件(JADAS)等详情请咨询日本电子株式会社在中国的子公司捷欧路（北京）科贸有限公司及其分支机构

SEM5000X是一款超高分辨率场发射扫描电子显微镜，其分辨率达到了突破性的0.6 nm@15 kV和1.0 nm@1 kV。高分辨物镜设计、高压隧道技术（SuperTunnel）以及镜筒工艺升级，实现了低电压分辨率的进一步提升。全新设计的样品仓，扩展接口增加至16个，快速换样仓最大支持8寸晶圆（最大直径208 mm），极大扩展应用范围。高级扫描模式和自动功能增强，带来了更强的性能和更好的体验。产品优势超高分辨率成像，达到了突破性的0.6 nm@15 kV和1.0 nm@1 kV样品台减速和高压隧道技术组合的双减速技术，挑战极限样品拍摄场景高精度机械优中心样品台、超稳定性的机架减震设计，可搭配整体罩壳设计，极大减弱环境对极限分辨率的影响最大支持8寸晶圆(最大直径208 mm)的快速换样仓，满足半导体和科研应用需求应用案例产品参数

FE-1050系列场发射扫描电子显微镜，国内首款领势旗舰机型。 在新一代电子光学镜筒的加持下，展现低电压、高分辨的卓越性能。 27个端口拓展、大舱室，轻松应对各类成像、分析需求。 极简化操作、自动化交互、智能化特征识别统计，成倍提高工作效率。 终身售后保障，7*24售后响应。以“质”为先，以“优”为本，助力微观世界的探索与发现。贴近用户设计的系统交互操作，最大简化系统操作，即使没有电镜使用经验的用户也可轻松上手。软硬件结合的智能化操作流程能够真正将用户从繁琐的重复操作中解放出来。

日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000是专门为电子束敏感样品和需最大300万倍稳定观察的先进半导体器件，高分辨成像所设计。新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。0.4nm / 30kV（SE）0.7nm / 1kV（SE）0.34nm / 30kV（STEM）用改良的高真空性能和无与伦比的电子束稳定性来实现高效率截面观察。采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。

日立高新热场式场发射扫描电镜SU5000--搭载全新用户界面，向所有用户提供高画质图像-- 日立高新技术公司（以下简称：日立高新）8月4日开始发售的肖特基式场发射扫描电子显微镜"SU5000"，搭载了全新的用户界面和"EM Wizard"，无论用户的操作技巧是否娴熟都可以拍出好的照片。 扫描电子显微镜在纳米技术领域、材料领域、医学生物等领域均被广泛使用。但随着近年来仪器性能的大幅提升，以及用户群体的不断扩大，使得用户对不需要任何经验和技术就能得到好照片的需求迅速扩增。而且，由于观察对象的样品的不断多样化，对样品的大小和性质的无制约观察变得尤为重要。 这次新开发的"SU5000"对用户没有任何操作技巧上的要求，通过”EM Wizard“只要选择好观察目的就可以得到好照片。"EM Wizard"以人为本的设计理念使电镜的操作性大幅上升，对于用户来说，再也不用去讨论该用什么条件进行观察，只要按照观察目的选择”表面细节观察“或是”成分分布“等就可以自动将适合的观察条件设置好。除此之外，使用经验丰富的操作人员也可以像往常一样自由的选择观察条件，按照自己的操作习惯进行设置。”EM Wizard“对于初学者或者使用经验尚浅的客户来说，它独有的操作简易性和各种学习工具可以帮助您迅速成长起来；对使用经验丰富的客户来说，开放了丰富的可设置选项，会令您操作起来更加得心应手。这正是"EM Wizard"的价值所在。 另外"SU5000"的寻找视野功能"3D MultiFinder"更是独一无二的。不但可大幅提高做样速度，更使视野再现性得到大大提高。并且，为了能适应各种分析的需求，最大束流可达到200nA。再加上全新设计的背散射电子探头和低真空二次电子探头等，都使该款电镜无论在是观察样品还是分析都具备了超强的功能与强大的扩展性。 日立高新在8月3日至8月7日在美国康涅狄格州举办的"Microscopy & Microanalysis"，9月3日至9月5日在日本千叶县幕张国际展览中心举办的"JASIS 2014"，9月7日至9月12日在捷克举行的"18th International Microscopy Congress"上都做了实机展出。*：肖特基式场发射电子显微镜：高亮度、大束流、超强稳定性汇聚一身肖特基式场发射电子显微镜。分辨率高和可做各种定量定性分析。 肖特基式场发射电子显微镜"SU5000" "EM Wizard"画面样式【主要参数】 电子枪ZrO/W 肖特基式场发射电子枪加速电压0.5~30kV着陆电压0.1~2kV分辨率2.0nm@1kV（*1）、1.2nm@30kV、3.0nm@15kV 低真空模式（*2）放大倍率底片倍率：10~600000倍、显示倍率：18~1000000倍5轴马达台X：0~100mm、Y：0~50mm、Z：3~65mm、T：-20~90°、R：360° *1：减速模式是选配项 *2：低真空模式是选配项 2014年，日立高新技术公司（以下简称：日立高新） 新型肖特基场发射扫描电镜*"SU5000"作为工业用设备荣获由公益财团法人日本设计振兴会颁发的GOOD DESIGN AWARD 2014”(2014年度最佳设计奖)。

2020年02月14日，日本电子（JEOL Ltd.）总裁兼首席运营官Izumi Oi宣布发布全新原子分辨率分析电子显微镜JEM-ARM300F2（GRAND ARM&trade 2），该电子显微镜将于2020年2月发布。■ 主要特点1 超高空间分辨率与能谱分析的组合优化。新开发的FHP2物镜极靴的特点如下：1）提高了能谱分析效率到两倍以上。2）低光学系数，低Cc系数和低Cs系数使得超高空间分辨率和高灵敏度X射线分析能够在一定范围的加速电压下执行。（保证的STEM分辨率：300kV时53pm，80kV时96pm）**在配置STEM扩展轨迹像差（ETA）校正器时2 用于物镜的超宽极靴（WGP）能谱分析灵敏度超高，原位扩展极强。1）WGP极靴的能谱固体角为2.2 sr。2）WGP极靴宽度可达6mm，更方便进行各种类型的原位实验。3 JEOL开发的12极子球差（Cs）校正器和自动校正软件。1）FHP2极靴，GRAND ARM&trade 2在300 kV时的STEM分辨率达到53 pm。2）WGP极靴，GRAND ARM&trade 2在300 kV时的STEM分辨率达到59 pm。3）JEOL COSMO&trade （自动校正软件）使快速，轻松执行像差校正成为可能。4 新式冷场发射枪（Cold-FEG）。GRAND ARM&trade 2配备了新式Cold-FEG，可从电子源提供较小的能量散布。稳定性更好。5 减轻外部干扰的外壳这种新外壳是减少外部干扰（例如气流，室内温度变化和噪音）的标准。■ 主要规格保证分辨率HAADF-STEM图像：53pm（带ETA校正器和FHP2）电子枪：冷场发射枪（Cold-FEG）加速电压标准：300kV和80kV能量色散X射线光谱仪大面积SDD（158mm 2）：可以使用双探测器

"Regulus系列"是日立高新技术的FE-SEM的全新品牌，包括作为SU8010的后续机型开发的 "Regulus8100" 以及SU8200系列的升级 "Regulus8220" "Regulus8230" "Regulus8240"，共4个机型，均实现了分辨率和操作性的强化。　　扫描电子显微镜（SEM）被广泛应用于纳米技术，半导体?电子行业，生命科学，材料科学等领域的材料结构观察。近年来，新一代的电子器件应用中受到广泛期待的新型碳材料，高分子材料，复合材料等的研究作为先进科学技术的中坚技术，在全世界范围内受到热捧。扫描电子显微镜广泛用于这些材料的观察?评价，但仅仅具有超高分辨率还远远不够。还要求能在低加速电压下对表面细微结构的观察和高灵敏度的元素分析。除此之外，在长期的研究过程中还追求电镜的性能的持续稳定和信赖性。　　本次发布的新品牌 "Regulus系列" 电子光学系统进行了最优化处理，使得着陆电压在1kV时分辨率较前代机型提高了约20％。"Regulus8220/8230/8240"达到0.7nm，"Regulus8100"为0.8 nm的分辨率。另外，最适合低加速电压下高分辨观察的冷场电子枪可将样品的细节放大，并获得高质量的图片。最大放大倍率也由之前的100万倍提高到了200万倍。　　除此之外，为了能更好的应对不同样品的测试和保持并发挥出高性能，还对用户辅助工能进行了强化，如信号检测系统的操作辅助功能，维护辅助功能等。主要特点搭载了色差极小的适合低加速电压高分辨率观察的冷场电子枪跟前代机型相比分辨率大约提高了20%（Regulus8220/8230/8240：0.7 nm/1 kV，Regulus8100：0.8 nm/1 kV）最大倍率从原来的100万倍提高到200万倍*1用户辅助功能，帮助用户把仪器的高性能完全发挥出来主要参数名称Regulus8100Regulus8240/8230/8220二次电子分辨率0.7 nm（加速电压 15 kV）0.8 nm（着陆电压 1 kV）*20.6 nm（加速电压 15 kV）0.7 nm（着陆电压 1 kV）*2加速电压0.5~30 kV0.5~30 kV着陆电压*20.1~2 kV0.01~20 kV倍率20~1,000,000倍*320~2,000,000倍*3马达台控制3轴自动*45轴自动*1 仅限 Regulus8240/8230/8220*2 减速模式观察*3 127 mm × 95 mm 视野的画面倍率*4 5轴马达台为选配项

优秀新品获奖理由：全新发布的日立新型场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）全新品牌 "Regulus系列"，机型包括作为SU8010的后续机型开发的 "Regulus8100" 以及SU8200系列的升级版"Regulus8220" "Regulus8230" "Regulus8240"，共4个机型，均实现了分辨率和操作性的强化。"Regulus系列" 电子光学系统进行了最优化处理，使得着陆电压在1kV时分辨率较前代机型提高了约20％。"Regulus8220/8230/8240"达到0.9nm，"Regulus8100"为1.1 nm的分辨率。另外，最适合低加速电压下高分辨观察的冷场电子枪可将样品的细节放大，并获得高质量的图片。最大放大倍率也由之前的100万倍提高到了200万倍。除此之外，为了能更好的应对不同样品的测试和保持并发挥出高性能，还对用户辅助工能进行了强化，如信号检测系统的操作辅助功能，维护辅助功能等。 产品简介 "Regulus系列"是日立高新技术的FE-SEM的全新品牌，包括作为SU8010的后续机型开发的 "Regulus8100" 以及SU8200系列的升级 "Regulus8220" "Regulus8230" "Regulus8240"，共4个机型，均实现了分辨率和操作性的强化。 扫描电子显微镜（SEM）被广泛应用于纳米技术，半导体?电子行业，生命科学，材料科学等领域的材料结构观察。近年来，新一代的电子器件应用中受到广泛期待的新型碳材料，高分子材料，复合材料等的研究作为先进科学技术的中坚技术，在全世界范围内受到热捧。扫描电子显微镜广泛用于这些材料的观察?评价，但仅仅具有超高分辨率还远远不够。还要求能在低加速电压下对表面细微结构的观察和高灵敏度的元素分析。除此之外，在长期的研究过程中还追求电镜的性能的持续稳定和信赖性。 本次发布的新品牌 "Regulus系列" 电子光学系统进行了最优化处理，使得着陆电压在1kV时分辨率较前代机型提高了约20％。"Regulus8220/8230/8240"达到0.9nm，"Regulus8100"为1.1 nm的分辨率。另外，最适合低加速电压下高分辨观察的冷场电子枪可将样品的细节放大，并获得高质量的图片。最大放大倍率也由之前的100万倍提高到了200万倍。除此之外，为了能更好的应对不同样品的测试和保持并发挥出高性能，还对用户辅助工能进行了强化，如信号检测系统的操作辅助功能，维护辅助功能等。主要特点搭载了色差极小的适合低加速电压高分辨率观察的冷场电子枪跟前代机型相比分辨率大约提高了20%（Regulus8220/8230/8240：0.9 nm/1 kV，Regulus8100：1.1 nm/1 kV）最大倍率从原来的100万倍提高到200万倍*1用户辅助功能，帮助用户把仪器的高性能完全发挥出来

仪器简介　　SU8200 系列冷场扫描是日立高新经过多年潜心钻研，巨额投入而研发出来的新一代革新性冷场电镜，此系列扫描电镜在完全秉承以往冷场发射扫描电镜全部优点的同时，将探针电流进行了大幅提高，电流稳定性得到了极大增强，同时避免了灯丝Flash 后的采图等待时间，可以说其弥补了以往冷场电镜的所有弱势，成为一款真正的超高分辨分析型冷场扫描电镜，上演了一部现实版的王者归来!主要特点：　　日立高新新研发的冷场电子枪1.利用电子枪轰击后的高亮度稳定期，束流更大更稳定，高分辨观察和分析兼顾2.大幅提高分辨率(1.1nm/1kV、0.8nm/15kV)3.减轻污染的高真空样品仓4.通过顶部过滤器(选配项)实现多种材料对比度可视化

产品概要：随着快速数据采集和数据处理技术的发展，电子显微镜进入了一个不仅重视数据质量，而且重视其采集过程的时代。SU8600秉承了Regulus8200系列的高质量图像、大束流分析及长时间稳定运行的冷场成像技术，同时还大大提升了高通量、自动数据获取能力。基本信息：SU8600仪器采用最新型电子枪,在高亮度区域也可以稳定发射电子束。即使在低加速电压下,也可以获得高信噪比的图像,同时支持长时间测试以及大电流分析。在面对不同的样品和分析目的时,需要调节SEM的许多参数。SU8600配备了自动电子光路调节功能,从光路对中到象散校正的一系列调整工作可以自动完成，可减少操作人员作业时间。技术优势：1、先进的自动化功能自动电子光学调节自动化数据采集,更高的检测效率采用高精度的压电样品台*可提高导航、回溯及大范围连续成像的准确性 2、兼具超高分辨率及分析扩展能力搭载日立的新型高亮度冷场发射电子源,即使在低加速电压下也可获得超高分辨的图像基于ExB的高效率信号采集系统。多种新型电子探测器*和丰富的选配项，满足更多的观测需求 3、强大的显示及交互特性原生支持双显示器,提供灵活、高效的操作空间6通道同时显示与保存,实现快速的多信号观测与采集,带来更多信息单次扫描最高支持40,960X30,720的超高像素*应用方向：主要应用于半导体器件、材料科学、生命科学等领域。

日立2011年新推出了SU9000超高分辨冷场发射扫描电镜，达到扫描电镜世界顶级二次电子分辨率0.4nm和STEM分辨率0.34nm。日立SU9000采取了全新改进的真空系统和电子光学系统，不仅分辨率性能明显提升，而且作为一款冷场发射扫描电镜甚至不需要传统意义上的Flashing操作，可以高效率的快速获取样品超高分辨扫描电镜图像。特点：1. 新型电子光学系统设计达到扫描电镜世界最高分辨率：二次电子0.4nm（30KV），STEM 0.34nm（30KV）。2. Hitachi专利设计的E×B系统，可以自由控制SE和BSE检测信号。3. 全新真空技术设计使得SU9000冷场发射电子束具有超稳定和高亮度特点。4. 全新物镜设计显著提高低加速电压条件下的图像分辨率。5. STEM的明场像能够调整信号检测角度，明场像、暗场像和二次电子图像可以同时显示并拍摄照片。6. 与FIB兼容的侧插样品杆提高更换样品效率和高倍率图像观察效率。项目技术指标二次电子分辨率0.4nm （加速电压30kV，放大倍率80万倍）1.2nm （加速电压1kV，放大倍率25万倍）STEM分辨率0.34nm（加速电压30kV，晶格象）观测倍率底片输出显示器输出LM模式80~10,000x220~25,000xHM模式800~3,000,000x2,200~8,000,000x样品台侧插式样品杆样品移动行程X±4.0mmY±2.0mmZ±0.3mmT±40度标准样品台平面样品台：5.0mm×9.5mm×3.5mmH截面样品台：2.0mm×6.0mm×5.0mmH专用样品台截面样品台：2.0mm×12.0mm×6.0mmH双倾截面样品台：0.8mm×8.5mm×3.5mmH信号检测器二次电子探测器TOP 探测器（选配）BF/DF 双STEM探测器（选配）

产品介绍：Regulus8100是日立冷场发射扫描电镜的全新系列，Regulus8100保留了SU8010易维护、易操作等优点，进一步提高性能，1kV减速模式下分辨率达到了0.8nm，15kV达到0.7nm，高低电压均可满足高分辨的观察。主要特点：1. 配备加速电压减速功能，很好的低加速电压成像能力，1kV分辨率可达0.8nm2. 日立专利E×B技术，无需喷镀，可直接观测不导电样品3. 配备电子枪内置加热器，物镜光阑具有自清洁功能4. SE与BSE任意比例搭配功能样品：AlTiC基板加速电压：1kV倍率：2万倍应用领域：1、 纳米材料；2、 半导体器件；3、 高分子材料；4、 生物医学；5、 新能源。

品详细介绍核心参数：产品类型：落地式/传统大型 电子枪种类：冷场发射 二次电子图象分辨率：0.6 nm@15kV；0.7nm@1kV放大倍数：20-2,000,000x加速电压：0.5-30kV（标准模式）背散射电子图像分辨率：nm创新点1．支持自动获取数据在FE-SEM的观察和分析中，需要根据测量样品与需求调整观察条件。调整所需时间的长短取决于用户的操作熟练度，这是造成数据质量与效率差异的因素之一。此系列产品标配自动调整功能，可避免人为操作导致的差异。此外，随着仪器性能的提升，需要获取的数据种类与数量也在增加，手动获取各种大量数据会大大增加用户的作业负担。此系列产品可选配“EMFlow Creator”，用户可根据自身需求设定条件，自动获取数据，这对于未来通过获取大量数据实现数据驱动开发起到重要作用。2．增加获取信息的种类与数量通过SEM能够收集到多种信号，且此系列产品*多可以同时显示和存储6个检测器的信号。在减少图像获取次数的同时能够获取多种信息。此外，为一次性获取大量信息，像素扩展到了40,960 x30,720（选配），是之前型号的64倍。利用这一功能，可凭借一张数据图像有效评估多处局部的细微结构。 3．增强信号检测能力　SU8600开发了多个新型选配检测器，加强了对凹凸信息、发光信息的检测能力。此外，还提高了背散射电子信号检测的响应速度。上市时间：2021年12月产品介绍：FE-SEM获得的图像分辨率高，信息丰富，样品处理相对简单，并且它可以观察、测量并分析样品的细微结构，因此被广泛应用于纳米技术、半导体、电子器件、生命科学、材料等领域。近年来，以MaterialsIntegration为代表，其应用领域及用途在不断扩展，短时间内获取大量数据，减轻作业负荷成为市场的一大需求。为满足这一需求，此次特推出的SU8600系列秉承了Regulus8200系列的高质量图像、大束流分析及长时间稳定运行的冷场成像技术，同时还大大提升了高通量、自动数据获取能力。　在细微结构分析中，SU8600可以实现低加速电压观察，对高分子等易受电子束照射影响的材料进行高分辨观察。该系列产品的特点如下：1．支持自动获取数据在FE-SEM的观察和分析中，需要根据测量样品与需求调整观察条件。调整所需时间的长短取决于用户的操作熟练度，这是造成数据质量与效率差异的因素之一。此系列产品标配自动调整功能，可避免人为操作导致的差异。此外，随着仪器性能的提升，需要获取的数据种类与数量也在增加，手动获取各种大量数据会大大增加用户的作业负担。此系列产品可选配“EMFlow Creator”，用户可根据自身需求设定条件，自动获取数据，这对于未来通过获取大量数据实现数据驱动开发起到重要作用。2．增加获取信息的种类与数量通过SEM能够收集到多种信号，且此系列产品*多可以同时显示和存储6个检测器的信号。在减少图像获取次数的同时能够获取多种信息。此外，为一次性获取大量信息，像素扩展到了40,960 x30,720（选配），是之前型号的64倍。利用这一功能，可凭借一张数据图像有效评估多处局部的细微结构。3．增强信号检测能力　SU8600开发了多个新型选配检测器，加强了对凹凸信息、发光信息的检测能力。此外，还提高了背散射电子信号检测的响应速度。

产品简介"Regulus系列"是日立高新技术的FE-SEM的全新品牌，包括作为SU8010的后续机型开发的 "Regulus8100" 以及SU8200系列的升级 "Regulus8220" "Regulus8230" "Regulus8240"，共4个机型，均实现了分辨率和操作性的强化。 扫描电子显微镜（SEM）被广泛应用于纳米技术，半导体?电子行业，生命科学，材料科学等领域的材料结构观察。近年来，新一代的电子器件应用中受到广泛期待的新型碳材料，高分子材料，复合材料等的研究作为先进科学技术的中坚技术，在全世界范围内受到热捧。扫描电子显微镜广泛用于这些材料的观察?评价，但仅仅具有超高分辨率还远远不够。还要求能在低加速电压下对表面细微结构的观察和高灵敏度的元素分析。除此之外，在长期的研究过程中还追求电镜的性能的持续稳定和信赖性。 本次发布的新品牌 "Regulus系列" 电子光学系统进行了优化处理，使得着陆电压在1kV时分辨率较前代机型提高了约20％。"Regulus8220/8230/8240"达到0.9nm，"Regulus8100"为1.1 nm的分辨率。另外，最适合低加速电压下高分辨观察的冷场电子枪可将样品的细节放大，并获得高质量的图片。最大放大倍率也由之前的100万倍提高到了200万倍。除此之外，为了能更好的应对不同样品的测试和保持并发挥出高性能，还对用户辅助工能进行了强化，如信号检测系统的操作辅助功能，维护辅助功能等。主要特点搭载了色差极小的适合低加速电压高分辨率观察的冷场电子枪跟前代机型相比分辨率大约提高了20%（Regulus8220/8230/8240：0.9 nm/1 kV，Regulus8100：1.1 nm/1 kV）最大倍率从原来的100万倍提高到200万倍*1用户辅助功能，帮助用户把仪器的高性能完全发挥出来主要参数名称Regulus8100Regulus8240/8230/8220二次电子分辨率0.8 nm（加速电压 15 kV）0.7 nm（加速电压 15 kV）1.1 nm（着陆电压 1 kV）*20.9 nm（着陆电压 1 kV）*2加速电压0.5~30 kV0.5~30 kV着陆电压*20.1~2 kV0.01~20 kV倍率20~1,000,000倍*320~2,000,000倍*3马达台控制3轴自动*?5轴自动*1 仅限 Regulus8240/8230/8220*2 减速模式观察*3 127 mm × 95 mm 视野的画面倍率*? 5轴马达台为选配项

产品详情日本JEOL场发射透射电子显微镜JEM-F200 以节能环保、减排低碳为理念开发的JEM-F200场发射透射电子显微镜，不仅提高了空间分辨率和分析性能，还采用了新的操作系统可满足多种使用途径，易用性强，外观设计精炼，能为不同层次的用户提供新奇的操作体验。 产品规格：超高分辨极靴高分辨极靴分辨率TEM点分辨率0.19 nm0.23 nmSTEM-HAADF 像0.14 nm @冷场枪0.16 nm @冷场枪0.16 nm @热场枪0.16 nm @热场枪加速电压200 , 80 kV200 , 80 kV主要选配件能谱仪（EDS）、电子能量损失谱仪（EELS）、CCD相机、TEM/STEM断层扫描系统 产品特点： 以节能环保、减排低碳为理念开发的JEM-F200场发射透射电子显微镜，不仅提高了空间分辨率和分析性能，还采用了新的操作系统可满足多种使用途径，易用性强，外观设计精炼，能为不同层次的用户提供新奇的操作体验。 外观设计精炼 精炼的外型，全新的视觉感受。为分析型电镜全新设计的GUI，使操作更加直观方便。JEOL长年积累的丰富经验在设计上得到了充分的体现，与旧机型相比，电镜的机械性和电气稳定性都得到了很大的提高。 四级聚光镜系统 现在的电子显微镜需要支持范围广泛的成像技术--- 从明场/暗场的TEM成像到使用各种检测器的STEM技术。 该设备采用新型四级聚光镜照射光学系统-“Quad-Lens condenser system”，通过分别控制电子束强度和汇聚角，能满足各种研究的需求。 高端扫描系统 JEM-F200可以实现大视野的STEM-EELS分析，该设备在常规的照明系统的电子束扫描功能之上，增加了新的扫描系统-“Advanced Scan System” 即成像系统的电子束扫描功能（选配）。 皮米样品台驱动 JEM-F200 采用能以皮米级步长移动样品台的Pico stage drive（不用压电驱动），能在宽动态范围移动视野-从样品的整个栅网视野移动到原子级图像视野移动都能进行。 SpecPorter（自动插入和拔出样品杆的装置） 插入和拔出样品杆，对电镜初学者来说一直是高难度的操作。 JEM-F200配备的SpecPorter，即使新手也能轻松掌握，将样品杆安装在指定的位置上，只用一个按钮即能安全地插入或拔出。 改进的冷场发射电子枪 JEM-F200能安装高稳定性、高亮度和高能量分辨率的冷场发射电子枪（选配），该枪的利用可以进行EELS化学结合状态分析，高亮度的电子束缩短了分析时间，并且还降低了来自光源的色差，实现了高分辨率的观察。 双能谱（SDD） JEM-F200能同时安装两个大口径、分析灵敏度高的硅漂移检测器（SDD）（选配件）。 凭借更高的灵敏度，EDS分析速度更快，对样品的损伤更小。 环保节能 JEM-F200是第一个标配了ECO模式的透射电子显微镜。ECO模式系统能将能源消耗降低到正常模式时的1/5，可以在装置不运行时，以最小的能耗保持着电镜的最佳条件。该设备具有排程功能，能在指定的时间将电镜从ECO模式恢复到工作状态。

产品简介日立驰名的冷场发射电子源和300 kV加速电压技术共同打造了超高分辨率成像和高灵敏度分析功能。双棱镜全息技术，空间分辨电子能量损失谱以及高精度平行纳米电子束衍射技术开辟了高效，高精度样品分析的新途径。分辨率：0.1 nm（晶体点阵）0.19 nm（点对点）0.13 nm（信息极限）放大倍数：200倍 至 1,500,000倍加速电压：300 kV, 200 kV （*）, 100 kV （*）（*） 选购附件 解决方案 立扫描透射电镜HF3300在原位催化中的应用 应用领域：石油/化工检测项目：热性能检测样品：化工原料 方案优势近年来，在催化领域中，真实的催化反应过程成为广大学者的研究热点。原位扫描透射电镜能够实现实时观察样品的反应过程，监测样品的变化。其中日立的冷场300KV的HF3300型扫描透射电镜配备了独特的真空系统(差分泵) 。气体可以直接通入样品室与样品进行反应，到达样品表面的压力最 高能够达到10Pa；配备的新型冷场枪更加稳定，亮度更强，发射电流更加稳定；宽真空范围二次电子探头的加入，能够实现同时观察样品的明场，暗场及二次电子像，从而实现对催化反应过程全方位的了解。实验设备：HF-3300场发射透射电子显微镜

日本JEOL场发射冷冻电子显微镜JEM-Z200FSC 场发射冷冻电子显微镜 JEM-Z200FSC CRYO ARM 200标配冷场发射电子枪、柱体内能量过滤器（Ω能量过滤器）、液氮冷却样品台和12位自动样品更换系统。新设计的Ω能量过滤器与无孔位相板的完美组合，进一步提高了生物样品的衬度。 主要技术参数 主机 电子枪 冷场发射电子枪 加速电压 200kV 能量过滤器 柱体内Ω能量过滤器 最大样品倾斜角 ±70o ※ 热场发射电子枪也可以配置样品台/自动样品更换系统样品台 制冷方式 液氮、液氮自动供给系统 样品冷却温度 100k以下 温度测定位置 样品，cryoshield, LN2tank样品移动 X, Y, Z方向 X:Motor驱动（移动范围±1mm) Y:Piezo元件（移动范围±0.5um) Z:Motor驱动（移动范围±0.2mm) 倾斜 Motor驱动（倾斜范围±70o) 样品旋转 0o或者90o 换样装置 气锁方式， 自动控制冷冻传输系统 样品冷却温度（换样室） 105k以下 换样量 一次最多换4个样 样品台载样量 最多载样12个产品特点：场发射冷冻电子显微镜 JEM-Z200FSC CRYO ARMTM 200标配冷场发射电子枪、柱体内能量过滤器（Ω能量过滤器）、液氮冷却样品台和12位自动样品更换系统。新设计的Ω能量过滤器与无孔位相板的完美组合，进一步提高了生物样品的衬度。主要特点◇ 自动样品更换系统该系统由一个液氮冷冻样品台和冷冻传输系统构成， 该冷冻传输系统能够自动地将冷冻样品传送到冷台，液氮也是按照 需要自动地供应给液氮箱。在样品更换系统内可以保管12个被冷冻的样品，在取出和更换一个或几个样品的同时，其他的冷冻样品仍然保存在自动样品更换系统内。 ◇ 冷场发射电子枪冷场发射电子枪能够产生高亮度低能量散射的电子束，CRYO ARMTM 200能够获得高分辨、高衬度图像 ◇ 柱体内能量过滤器（Ω能量过滤器）CRYO ARMTM 200配备柱体内能量过滤器（Ω能量过滤器），能够获取能量过滤像和能量损失谱图，而且零损失像的衬度高色差低。 ◇ 单粒子分析用自动图像获取软件CRYO ARMTM 200配备单粒子分析用自动图像获取软件。能够自动地检出样品栅格小孔，有效采集单粒子图像。 ◇ 无孔位相板（选配件）该无孔位相板有效用于衬度低的生体样品，可以获得较高的衬度。 ◇ 自动调整功能（使用底插CCD情况下）可以使用自动聚焦、自动无像差校准、自动平行光等自动功能，在优化条件下获取图像。 场发射冷冻电子显微镜 JEM-Z200FSC CRYO ARM 200标配冷场发射电子枪、柱体内能量过滤器（Ω能量过滤器）、液氮冷却样品台和12位自动样品更换系统。新设计的Ω能量过滤器与无孔位相板的完美组合，进一步提高了生物样品的衬度。 主要技术参数 主机 电子枪 冷场发射电子枪 加速电压 200kV 能量过滤器 柱体内Ω能量过滤器 最大样品倾斜角 ±70o ※ 热场发射电子枪也可以配置样品台/自动样品更换系统样品台 制冷方式 液氮、液氮自动供给系统 样品冷却温度 100k以下 温度测定位置 样品，cryoshield, LN2tank样品移动 X, Y, Z方向 X:Motor驱动（移动范围±1mm) Y:Piezo元件（移动范围±0.5um) Z:Motor驱动（移动范围±0.2mm) 倾斜 Motor驱动（倾斜范围±70o) 样品旋转 0o或者90o 换样装置 气锁方式， 自动控制冷冻传输系统 样品冷却温度（换样室） 105k以下 换样量 一次最多换4个样 样品台载样量 最多载样12个产品特点：场发射冷冻电子显微镜 JEM-Z200FSC CRYO ARMTM 200标配冷场发射电子枪、柱体内能量过滤器（Ω能量过滤器）、液氮冷却样品台和12位自动样品更换系统。新设计的Ω能量过滤器与无孔位相板的完美组合，进一步提高了生物样品的衬度。主要特点◇ 自动样品更换系统该系统由一个液氮冷冻样品台和冷冻传输系统构成， 该冷冻传输系统能够自动地将冷冻样品传送到冷台，液氮也是按照 需要自动地供应给液氮箱。在样品更换系统内可以保管12个被冷冻的样品，在取出和更换一个或几个样品的同时，其他的冷冻样品仍然保存在自动样品更换系统内。 ◇ 冷场发射电子枪冷场发射电子枪能够产生高亮度低能量散射的电子束，CRYO ARMTM 200能够获得高分辨、高衬度图像 ◇ 柱体内能量过滤器（Ω能量过滤器）CRYO ARMTM 200配备柱体内能量过滤器（Ω能量过滤器），能够获取能量过滤像和能量损失谱图，而且零损失像的衬度高色差低。 ◇ 单粒子分析用自动图像获取软件CRYO ARMTM 200配备单粒子分析用自动图像获取软件。能够自动地检出样品栅格小孔，有效采集单粒子图像。 ◇ 无孔位相板（选配件）该无孔位相板有效用于衬度低的生体样品，可以获得较高的衬度。 ◇ 自动调整功能（使用底插CCD情况下）可以使用自动聚焦、自动无像差校准、自动平行光等自动功能，在优化条件下获取图像。

[ 产品简介 ]蔡司新一代场发射扫描电子显微镜Sigma系列，具有高质量的成像和分析能力，将先进的场发射扫描电子显微镜技术与优秀的用户体验完美结合。利用Sigma系列直观的4步工作流程，在更短的时间内获得更多的数据，提高测试与生产效率。可选配多种探测器，以满足半导体、能源等新材料、磁性样品、生物样品、地质样品等不同的应用需求。结合蔡司原位电镜实验平台，可以实现自动智能化的原位实验工作流程，高效率获取高通量、高质量的原位实验数据。领先的EDS几何设计保证了出色的元素分析性能，分析速度高、精度好、结果可靠。高分辨、全分析、多扩展、强智能、广应用，全新Sigma系列是助力于材料研究、生命科学和工业检测等领域的“多面手”。[ 产品特点 ]&bull 独特的Gemini镜筒设计，低电压高分辨，无漏磁&bull 广泛全面的应用场景&bull 丰富灵活的探测手段&bull 智能高效的工作流程&bull 先进可靠的分析系统&bull 强大完善的扩展平台[ 应用领域 ]&bull 材料科学，如纳米材料高分辨成像，高分子聚合物等不导电样品成像，电池材料成分衬度成像，二维材料分析&bull 生命科学，如生物样品超微结构成像，冷冻样品高分辨成像&bull 地质矿物学，如地质样品高分辨成像、成分分析以及原位拉曼联用分析&bull 工业应用，如组件失效分析，工艺诊断&bull 电子半导体行业，如质量控制与分析，6英寸Wafer快速换样，电子束曝光技术（EBL）&bull 钢铁行业，如夹杂物分析，金属材料自动原位成像分析&bull 刑侦、法医学&bull 考古学、文物保护与修复NanoVP lite模式下断裂的聚苯乙烯表面成像氧化铝颗粒高分辨二次电子成像ETSE探测器氧化锌枝晶成像InLens SE探测器氧化锆&氧化铁复合材料成像Sense BSD探测器刺毛苔藓虫超微结构成像aBSD探测器超导合金成像

仪器简介： JSM-7600F是日本电子株式会社2008年下半年推出的兼顾冷场的高分辨率和热场大束流为一体的热场发射扫描电镜，它几乎集成了当今扫描电镜的全部前沿技术，最大200nA的大电流在保证高分辨率的同时，得到高速样品分析结果，空间分辨率极高，对导电性差的样品也有很多解决办法。JSM-7600F自动化程度高，操作直观方便，可以称得上是一款高档次的场发射扫描电镜。 2021年该型号升级为JSM-IT800i和is，分辨率更高，操作更加简单方便，详情请咨询日本电子株式会社各地事务所。技术参数：1.分辨率：0.5/0.6nm(15kV)/0.7/1.0nm(1kV)2.加速电压：0.1KV-30kV3.放大倍数：25-200万倍4.样品室尺寸：最大200mm直径样品5.束流强度：1pA到300nA/500nA主要特点： 长寿命高亮度电子枪,寿命保3年,最大电流300nA以上兼顾超高分辨和大电流标配的五轴马达驱动全对中样品台全自动样品更换气锁（选配）全自动样品台监控系统全自动物镜光阑多通道显示系统减速系统标准配置能量过滤器标准配置可以选配扫描投射探头（STEM）

产品简介"Regulus系列"是日立高新技术的FE-SEM的全新品牌，包括作为SU8010的后续机型开发的 "Regulus8100" 以及SU8200系列的升级 "Regulus8220" "Regulus8230" "Regulus8240"，共4个机型，均实现了分辨率和操作性的强化。 扫描电子显微镜（SEM）被广泛应用于纳米技术，半导体?电子行业，生命科学，材料科学等领域的材料结构观察。近年来，新一代的电子器件应用中受到广泛期待的新型碳材料，高分子材料，复合材料等的研究作为先进科学技术的中坚技术，在全世界范围内受到热捧。扫描电子显微镜广泛用于这些材料的观察?评价，但仅仅具有超高分辨率还远远不够。还要求能在低加速电压下对表面细微结构的观察和高灵敏度的元素分析。除此之外，在长期的研究过程中还追求电镜的性能的持续稳定和信赖性。 本次发布的新品牌 "Regulus系列" 电子光学系统进行了优化处理，使得着陆电压在1kV时分辨率较前代机型提高了约20％。"Regulus8220/8230/8240"达到0.9nm，"Regulus8100"为1.1 nm的分辨率。另外，最适合低加速电压下高分辨观察的冷场电子枪可将样品的细节放大，并获得高质量的图片。最大放大倍率也由之前的100万倍提高到了200万倍。除此之外，为了能更好的应对不同样品的测试和保持并发挥出高性能，还对用户辅助工能进行了强化，如信号检测系统的操作辅助功能，维护辅助功能等。主要特点搭载了色差极小的适合低加速电压高分辨率观察的冷场电子枪跟前代机型相比分辨率大约提高了20%（Regulus8220/8230/8240：0.9 nm/1 kV，Regulus8100：1.1 nm/1 kV）最大倍率从原来的100万倍提高到200万倍*1用户辅助功能，帮助用户把仪器的高性能完全发挥出来主要参数名称Regulus8100Regulus8240/8230/8220二次电子分辨率0.8 nm（加速电压 15 kV）0.7 nm（加速电压 15 kV）1.1 nm（着陆电压 1 kV）*20.9 nm（着陆电压 1 kV）*2加速电压0.5~30 kV0.5~30 kV着陆电压*20.1~2 kV0.01~20 kV倍率20~1,000,000倍*320~2,000,000倍*3马达台控制3轴自动*?5轴自动*1 仅限 Regulus8240/8230/8220*2 减速模式观察*3 127 mm × 95 mm 视野的画面倍率*? 5轴马达台为选配项

1、产品介绍KYKY-EM8010 场发射扫描电子显微镜 低电压下能够保持较好的亮度和较高的分辨率，束流稳定度高、色散小，适宜长时间的各种精确分析，一键standby功能，维护更方便，软件操作简便，提升用户使用体验。为科研高校、生命科学，新能源等领域客户提供稳定可靠，超高性价比的产品解决方案。2、产品特点l1.5nm@15Kv (SE)，3nm@30kV (BSE) l低加速电压保持较好的亮度和分辨率 l低加速电压不导电样品可直接观测，无需喷金l肖特基电子枪亮度高、单色性好、电子束斑小、寿命长l束流稳定度高，色散小，适宜于长时间的各种精确分析l一键standby 维护更方便l具备光学导航，快速样品定位3、KYKY-EM8010 场发射扫描电子显微镜技术指标：分辨率1.5nm@15KV（SE）； 3nm@30KV（BSE）放大倍数光学放大倍数4-100倍；电子学放大8-800000倍 电子枪肖特基热场发射电子枪加速电压0.2～30kV自动调整功能聚焦，亮度/对比度、消像散、电子束对中探测器高真空二次电子探测器；红外CCD摄像头；一体化背散射探测器；光学导航探测器样品台五轴全自动中型样品台行程： X=80mm,Y=50mm,Z=30mm，T=-5°～+70°,R=360°最大样品直径: Ф175mm；最大样品高度：20mm 样品台具有碰撞报警功能。选配探测器BSE、EDS、EBSD、CL、EBIC等4、应用领域半导体、生命科学、材料、新能源、金属、刑侦、地质、功能材料、高分子材料。

最近，该显微镜还配备了高分辨率镜头和冷场发射电子枪，进一步提高了图像分辨率和电子束能量分辨率。同时，该型号系列还增加了一款不带球差校正的主机配置，可以以后加配球差校正进行升级。特色 高分辨率扫描透射电子显微镜成像HAADF-STEM图像0.136 nm，FFT图像0.105 nm(高分辨率镜头*)HAADF-STEM图像0.144 nm(标准镜头)明场扫描透射电子显微镜图像0.204 nm(w/o球差校正仪)高速，高灵敏度能谱分析：探针电流×10倍元素面分布更迅速及时低浓度元素检测操作简化自动图像对中功能从样品制备到观察分析实现无缝连接样品杆与日立聚焦离子束系统兼容配有各种选购件可执行各种评估和分析操作同时获取和显示SE&BF, SE&DF, BF&DF, DF/EDX面分布*和DF/EELS面分布*图像。低剂量功能*(使样品的损伤和污染程度降至最低)高精度放大校准和测量*实时衍射单元*(同时观察暗场-扫描透射电子显微镜图像和衍射图案)采用三维微型柱旋转样品杆(360度旋转)*，具有自动倾斜图像获取功能。ELV-3000即时元素面分布系统*(同时获取暗场-扫描透射电子显微镜图像)* ：选购件 规格HD-2700球差校正扫描式透射电子显微镜项目描述图像分辨率w/o球差校正仪保证 0.204 nm(当放大倍数为4,000,000时)w球差校正仪保证 0.144 nm(当放大倍数为7,000,000时)(标准镜头)保证 0.136 nm(HAADF图像)保证 0.105 nm(通过FFT)(当放大倍数为7,000,000时)(高分辨率镜头*)放大倍数100倍 至 10,000,000倍加速电压200 kV, 120 kV *成像信号明场扫描透射电子显微镜：相衬图像(TE图像)暗场扫描透射电子显微镜：原子序数衬度图像(Z衬度图像)二次电子图像(SE图像)电子衍射*特征X射线分析和面分布(能谱分析)*电子能量损失谱分析和面分布(EV3000)*电子光学系统电子源肖特基发射电子源冷场致发射器*照明透镜系统2-段聚光镜镜头球差校正仪*六极镜头设计扫描线圈2-段式电磁感应线圈原子序数衬度收集角控制投影镜设计电磁图像位移±1 μm试片镜台样品移动X/Y轴 = ±1 mm, Z轴 = ±0.4 mm样品倾斜单轴-倾斜样品杆：±30°(标准镜头), ±18°(高分辨率镜头*)真空系统 3个离子泵，1个TMP极限真空10-8 Pa(电子枪), 10-5 Pa(样品室)图像显示个人电脑／操作系统PC/AT兼容, Windows XP监视器19-inch液晶显示器面板图像帧尺寸640 × 480, 1,280 × 960, 2,560 × 1,920 象素扫描速度快扫，慢扫(0.5至320秒/帧)自动数据显示记录序号，加速电压，下标尺，日期，时间

KYKY-EM8100场发射扫描电子显微镜产品特点：高性能肖特基场发射电子枪，亮度高、单色性好、束斑小、寿命长具备卓越的低加速电压成像性能超大样品腔室，更多扩展接口，满足多探测器、多功能联用、多嵌入原位测试束流稳定，满足长时间工作需求非导体试样或电子束敏感试样可不喷涂导电膜直接观测技术指标：分辨率0.9nm@30KV（SE） 3.0nm@1KV（SE） 2.5nm@30KV （BSE）放大倍率2-3000000 倍电子枪肖特基热场发射电子枪加速电压0.2～30kV透镜系统多级高性能透镜系统，低像差锥形物镜样品台五轴全自动预对中样品台探测器高真空二次电子探测器（具备防碰撞功能）应用领域：电池材料、半导体、复合材料、高分子、动植物、微生物、粉末冶金、矿物、金属行业、建筑材料、化工材料、陶瓷材料