面精密微米级制膜器

美国Micronix 公司成立于2006 年，总部位于美国加州圣塔安那市，专注于微米和纳米定位机构的生产和研发，主要产品包括压电马达微位移平台，步进电机驱动位移台和直线电机驱动位移台。产品种类丰富，满足不同客户的需求， 特别是生物医学领域得到广泛应用。可以提供整套的解决方案，所有位移机构都有配套的控制系统。压电马达微米级位移平台特点： 超大行程 超高稳定性 超高精密，纳米级精度 可以使用在真空和无磁的环境中（需要发货前特殊处理）

更大的仪器化压入（IIT）测试范围根据仪器化压入测试 (IIT) 的要求，微米压痕仪非常适合于对硬度和弹性模量等机械性能的测量。它适用于块状样品和薄膜，从软材料到硬材料（金属、陶瓷、聚合物），可以进行大位移测量（最大 1 mm）。可以根据需求添加划痕测试模式。主要特点仪器化压入测试 (IIT) 用于测量硬度和弹性模量位移-仪器化压痕：持续测量与施加的载荷和相关的位移，获得材料硬度和弹性模量一台仪器即可进行从纳米到宏观尺度的压痕从小位移（几纳米）到大位移（最大 1 mm）的压痕大载荷范围（从10 mN 到 30 N）以满足样品特性的要求大载荷范围 对测量粗糙表面尤为有用高精度的位移和载荷可进行精确的微米压痕测量两个独立的传感器：一个用于载荷，一个用于位移，来进行准确的计量测量高框架刚度：2 x 108 N/m，更高的位移准确度材料性能的位移曲线连续多周期 (CMC) 的位移曲线：硬度和弹性模量与压入位移的关系压入载荷和位移控制模式可视点阵模式通过显微镜观察对样品进行多点定位测试通过多个测试模式：可使用用户自定义程序根据需要设置测试参数载荷最大载荷30 N分辨率6 μN本底噪音100 [rms] [μN]*位移最大位移1000 μm分辨率0.03 nm本底噪音1.5 [rms] [nm]*载荷框架刚度 107 N/m国际标准ISO 14577, ASTM E2546, ISO 6507, ASTM E384

针对高需求用户范围广泛的的测试仪主要特点全景成像模式：将所有传感器进行同步，轻松快速地分析涂层结合力和耐划伤性能安东帕持有美国专利 8261600 和欧洲专利 2065695。全景模式是划痕仪软件最重要的特征。划痕后，您可以选择用选配的自动同步的传感器：声发射、位移、载荷和摩擦力传感器来记录全景。当采用全景成像模式记录时，可以随时重新分析划痕。粘弹性材料表征使用前扫描和多次后扫描测量专利模式 (US 6520004)在划痕之前、过程中和之后，位移传感器 (Dz) 一直记录样品的表面的轮廓。因此，它可以在划痕过程中和划痕之后评估针尖的划入深度。根据时间进行多次后扫描让您可以获得随时间变化聚合物的粘弹性恢复。即使在曲面和粗糙表面也可进行测试由于采用了独特的力传感器控制技术，微米划痕系统可检测载荷偏差，并且通过主动力反馈系统来修正该偏差。微米划痕系统即使在粗糙表面和曲面上也可获得可靠的测量。多种划痕测试功能具有多个测试模式渐近的、恒定的或插入的载荷多次磨损测试可使用单次或多次可以快速轻松地更换夹具上的划痕针尖可使用不同类型的划痕针尖：球形、锥形、维氏、努氏、刀具等高质量光学成像系统带“自动跟踪聚焦”集成显微镜包括配置高质量物镜的转塔和 USB 照相机。“跟踪聚焦”功能可以将进行多个划痕的 Z 样品台自动聚焦到正确位置。技术指标划痕深度精细量程最大量程最大位移 [μm]1001000位移分辨率 [nm]0.050.5本底噪音 [rms] [nm]*1.5法向载荷精细量程最大量程最大载荷 [N]1030载荷分辨率 [mN]0.010.03本底噪音 [rms] [μN]*100摩擦力精细量程最大量程最大摩擦力 [N]1030摩擦力分辨率 [mN]0.010.03*理想实验室条件下规定的本底噪音值，并使用减震台。

产品详细介绍：4面精密微米级制膜器是一款精密的刮膜器，有4个面，每个面的涂覆厚度分别具有不同的涂膜厚度，详见表2。该种制膜器主要有两种宽度，一种为宽度100㎜制膜宽度为80㎜的制膜器。另一种为宽度为190㎜，有效制膜宽度为160㎜的制膜器。该制膜器主要用于在平坦的底材上涂布均匀的油漆、粘结剂及其它类似的产品；四面制膜器具有制膜的多样性、可涂布四种不同规格的湿膜，精度高，主要适用于与我公司的AFA-Ⅰ、AFA-Ⅲ和AFA-ⅢD刮膜机的配套使用。 产品型号4面精密微米级制膜器主要特点1、采用优质不锈钢制作，比普通的304不锈钢更加耐磨耐腐蚀。2、制备出的薄膜厚度均匀，适用于制备漆膜或厚膜。制膜器的精度规格51015202537.55075100125150200250300400500精度±1±1±2±2±3±3±3±3±3±4±4±5±5±6±8±10 制膜器的规格与参数序号涂膜厚度（μm）微米涂抹宽度（㎜）总宽度（㎜）15-10-15-2080100210-15-20-25320-40-60-80425-50-75-100530-60-90-120650-75-100-150750-100-150-2008100-150-200-2509100-200-300-40010250-500-750-10001120-40-60-801601901225-50-75-1001330-60-90-1201450-100-150-20015100-150-200-30016100-200-300-400

中图仪器CP系列微米到纳米尺度表面形貌接触式台阶测量仪用于测量台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数，是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器。它采用了线性可变差动电容传感器LVDC，具备超微力调节的能力和亚埃级的分辨率，同时，其集成了超低噪声信号采集、超精细运动控制、标定算法等核心技术，使得仪器具备超高的测量精度和测量重复性。CP系列微米到纳米尺度表面形貌接触式台阶测量仪应用场景适应性强，其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求，能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位，其对表面微观形貌参数的准确表征，对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。工作原理测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面，测针的垂直位移距离被转换为与特征尺寸相匹配的电信号并最终转换为数字点云信号，数据点云信号在分析软件中呈现并使用不同的分析工具来获取相应的台阶高或粗糙度等有关表面质量的数据。产品功能1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料；2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数；3）翘曲与形状：能够测量样品表面的2D形状或翘曲，如在半导体晶圆制造过程中，因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化，或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1）自定义测量模式：支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式；2）导航图智能测量模式：支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机，可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示，进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能CP系列微米到纳米尺度表面形貌接触式台阶测量仪配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴，可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节，提高测量精度及效率。性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率，结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰，确保仪器具有良好的测量精度及重复性；2.超微力恒力传感器1-50mg可调，以适应硬质或软质样品表面，采用超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的接触式测量；3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨，杜绝运动中的细微抖动，真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。在太阳能光伏行业的应用台阶仪通过测量膜层表面的台阶高度来计算出膜层的厚度，具有测量精度高、测量速度快、适用范围广等优点。它可以测量各种材料的膜层厚度，包括金属、陶瓷、塑料等。针对测量ITO导电薄膜的应用场景，CP200台阶仪提供如下便捷功能：1）结合了360°旋转台的全电动载物台，能够快速定位到测量标志位；2）对于批量样件，提供自定义多区域测量功能，实现一键多点位测量；3）提供SPC统计分析功能，直观分析测量数值变化趋势；部分技术参数型号CP200测量技术探针式表面轮廓测量技术探针传感器超低惯量，LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)样品R-θ载物台电动，360°连续旋转单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm（6吋）,200mm（8吋）尺寸（L×W×H）mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC，50/60 Hz，200W使用环境相对湿度：湿度 （无凝结）30-40% RH温度：16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动：6.35μm/s（1-100Hz）音频噪音：≤80dB空气层流：≤0.508 m/s（向下流动）恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

多功能台式　微米和纳米加工制造仪 适合各式纳米材料及薄膜的表面粗糙度或表面形貌量测。● 无需抽真空及快速的量测取得量测图像。● 直觉性的操作接口。● 一键扫描的快速功能。ACST为科研人员和教育工作者带来了一种先进的、多功能的台式微米和纳米制造的仪器，可以作为研究和教育工具。不仅帮助科研人员拓展他们现有的工作向不同的领域发展，而且还可以帮助教育工作者打夯实基础，教育学生掌握工业用的微米和纳米加工制造技术。COSMOS nanoFAB是一个加工制造仪器，这对我们培养纳米科学家的教育计划至关重要，也为学生在日益增长的微制造和纳米技术领域提供丰富的就业机会。 COSMOS nanoFAB采用了一种非常成熟的设计，充分考虑到其性能、成本和多样性。模块化设计理念允许在不同的技术中使用通用型的机械元件/电子元件，从而保证了使用方便和成本低廉。该仪器完全有能力成为快速j加工或新研究的实验验证工具。在教育领域，COSMOS nanoFAB可应用于表面化学、材料科学、工业应用、电子元件和半导体器件制造、生物分子固化和生物传感应用等领域的教学和应用。可被应用于高解析影像和测量需求，特别是具备次奈米级的 Z 轴分辨率。其低噪声和开回路设计于一体的扫描仪可以快速地针对样本进行扫描。独特光像散式的光路模块提供业界最小的雷射光点，让用户可运用于更小且快速的AFM 探针，COSMOS nanoFAB提供了在纳米和微米加工制造技术方面的功能，这并且在业界得到了很好的认可：★ 紫外线光刻: 通过一系列的实验，学生们学习了紫外线光刻技术的概念；半导体行业的基本技术★ 微接触印刷（μCP）： 学生们了解这一传统简易的技术，使用有机、无机和生物材料进行纳米/微米的图案加工。★ 纳米压印加工技术（NIL）： 学生操作和实践纳米压印加工技术。业内专家认为，作为半导体行业未来的市场需求，纳米 压印加工技术（NIL）是最具前景的一项技术。 总之，COSMOS nanoFAB可以应用的领域包括：● 表面化学● 材料科学● 工业应用● 半导体器件的电子元件制造● 生物固定和生物传感应用● 直觉式的数据撷取软件 PSX 可提供用户在最基本教育训练下，即可直接操作。值得一提的是，一键扫描功能可自动地设定参数与进行扫描，用户同样能够快速获得高质量的扫描结果。PSX 内建的扫描库管理功能有效地简化扫描数据的整理，以方便用户删除或输出扫描图文件。● 永效性的光路校准系统---雷射点实时维持在四象限二极管中心，不须另外校正。● 一键扫描- 藉由智能预测算法，即可轻松点击按键便可进行全自动扫频、下针、做力图曲线、以及扫描样品等相关流程。 应用案例和模块信息介绍-微接触印刷（μCP）: 描述：微接触印刷(μCP)是一种非光刻技术，也是“软刻蚀技术”的前身。μCP是一种常有吸引力的、可以应用于生物技术领域的、用于微米和纳米图案/结构制备的技术。它使用弹性印章，通过将各种分子（从有机分子到大的生物物质）点印到固体基底上，以生成二维的微米和纳米结构。这项技术包括两个主要步骤：印章的制作及印刷，如图所示。包被靶标分子的弹性印章通过预施加的控制来接触基底表面，从而将靶标分子转移到基底上。不同的大小和形状的几何图形可以生成各种各样的印章，例如可以使用大的平面印章或滚动印章(类似于油漆辊)在平面和非平面表面上点印，从而轻松地对很大的区域进行图案制备。印章是由弹性体聚合物制成，如聚二甲基硅氧烷(PDMS)，聚氨酯，聚酰亚胺和树脂等等。 应用：微接触印刷是一个从下而上的加工技术,由于简单方便，高通量和成本低廉，现广泛应用于多个领域，如光学、MEMS、高密度分子电路、微流体、微阵列和生物传感器点印寡核苷酸、固定细胞来研究细胞-细胞和细胞-基底表面的相互作用、生成肽阵列研究免疫实验和生物传感器实验的蛋白质和生物配体。 我们客户还可以探索如何在大尺寸和纳米尺度上点印计算机芯片或者如何制作生物传感器。例如，在实验室里，可以使用大尺寸和纳米尺度的印章，用光刻技术制作纳米印章模板和聚合物。印章将被包被有机小分子与黄金等贵金属，然后点印在黄金薄膜的基底上，随后的是金的湿蚀刻，没有被有机分子保护的区域将被蚀刻。在这样的一个实验中，印章上的结构将被复制到基底上。 应用案例和模块信息介绍-光刻技术: 光刻技术是当今世界上最成功的精密加工技术之一。自1959年发明以来，它就是最有价值和最有利润的行业，最初是开发出来用于微电子工业（集成电路平面技术），现在也被用来制造微型器件（硅晶体平面的三维结构材料刻蚀)。从那以后，这个行业一直在广泛需求中不断发展，包括单个电路元件和整合的半导体材料，基本上所有的集成电路是用光刻技术制造的。光刻工艺概述如图所示，预先设计的图案是从光掩模（例如用电子束光刻法）传送到靶标的硅基底。该程序包括以下常用的步骤: 1、在硅片层基底上包被一层薄薄的紫外线敏感的聚合物抗蚀剂（光刻胶）（图2a，图2b）。 2、随后紫外光透过有图案的印章（图2c）进行照射，只有部分抗蚀剂暴露在紫外线下，这引起了抗蚀溶解度的变化。然后将印章放置于离样品尽可能近的地方但是不接触，如图2c所示。由于光衍射，辐射面积会增大一些，大于印章对应的开口区域（这将导致分辨率降低）。这种光刻蚀程序只能用于创建尺寸小于辐射波长的图案和器件。因此，半导体工业也开始使用更短波长的光线来做辐射。 3、紫外线曝光后，将样品浸入显影剂中，以便从显影剂中除去光刻胶暴露在光线下的地方（图2d）。 4. 硅晶片上的抗蚀图案随后被用来从裸片上蚀刻材料（将硅晶片暴露于蚀刻剂）（图2e）或沉积电路设计需要的其他材料。最后光刻胶完全脱离硅晶片（图2）。 在这四个步骤之后，抗蚀剂（光刻胶）上的图案特征被转移到硅晶片的基底上（步骤f）。整个过程可以按电路设计要求重复多次。 用途：光刻蚀是一种从上而下的制作工艺，选择光刻蚀工艺是因为它可以产生小到几十纳米的图案，并提供精确的控制形状，大小，并且制备成本非常低。 光刻技术被广泛应用于从微电子到生命科学的各个行业，在可预见的未来，它还将是微处理器、存储器和其他微电子设备信息技术的基础。此外，它还用于许多设备的制造业和小型化，从而带来了高性能、可移植性、节约时间、节省成本、节省试剂、提高生产通量、改善功耗、提高检测限度以及新功能的开发。 应用案例和模块信息介绍-纳米压印加工技术（NIL）: 描述：纳米压印加工技术（NIL）是基于一种与传统微加工有着根本区别的原理，该技术具有高通量，小于10纳米分辨率和低成本的优点，是目前其他现有刻蚀方法无法达到的。在压印过程中，图案被热敏或紫外光复制到抗蚀剂中，然后被转移到下面的基底上。在热敏纳米压印加工技术（NIL）(T-NIL)工艺中，将表面具有纳米结构的模具压入基底上铸造的薄层抗蚀剂中。抗蚀剂是一种热敏塑料，由于粘度低，在玻璃化温度（Tg）以上时容易变形。当抗蚀剂冷却到Tg以下时，模具被移除，模具的图案被复制在抗蚀剂中。在光固化纳米压印加工技术（UV- NIL）中，将模具在室温下，压入顶层的UV光刻胶中，然后紫外照射交联抗蚀剂，最后模具复制品转移到底层的抗蚀剂和基底上。 在这两个过程中，模具表面都涂上了钝化层，以防止在分离过程中抗蚀剂粘在模具上。在图案转移过程中，利用反应离子刻蚀~RIE等各向异性刻蚀工艺去除压缩区域的残余抗蚀剂，将压印中产生的厚度对比图案转移到整个抗蚀剂中。 应用：为了加快纳米结构的研究和商业化，必须有一个高通量和低成本的纳米加工技术，来实现尺寸、形状和间距完全自由化的设计。这就是为什么纳米压印会快速发展，并且它已经扩展到许多学科，如微电子学、生物学、化学、医学和信息存储。还有希望应用于光学器件、磁存储器、微电子机械系统、生物技术、微波器件的三D打印、生物技术中使用的微流控通道、存储器VRAM的环形结构、无源光学元件等。

1.采用高功率高稳定紫外激光器直接烧蚀气化材料，μm级加工孔径，μm级热影响区；2.通过进口精密振镜高速高精度控制光束偏移，实现高速小幅面精密微孔加工；3.通过微米级高速直线电机平台平移实现高速高精度大幅面微孔加工；4. Z轴电动可调，以适应不同厚度材料，满足特定锥度孔加工要求；5.旁轴超分辨率工业相机用于振镜全幅面误差校正、超高精度的对焦、以及在线测量，保证系统长期使用稳定性和精度；6.系统采用大理石台面，提升系统的综合稳定性，所有机械部件精心选配以保证长期精度；7.最小加工微孔孔径5μm，整体加工精度±4μm，局部特征精度＜3μm，加工幅面300*300mm；8.用于金属、陶瓷、硅片、玻璃、有机物等材料精密微加工，如微孔加工、精密切割。激光精密微孔加工相比电火花微细孔加工、机械钻孔、化学腐蚀、机械冲孔等等，具有以下优点：高速（最高每秒4000孔）高精度（＜3μm）无材料限制（金属、陶瓷、硅片、有机物等等）孔型可编程（最小5μm、特定锥度孔）分布可定制（加工幅面300mm*300mm)，无需模具和掩膜无污染无耗材直接加工成型

1.5~2微米激光器1500nm~2100nm光纤激光器具有高效率、高功率、高光束质量、高可靠性等输出特点，可广泛应用于科研、医疗、工业加工等领域，连续和脉冲工作模式可选。详情请咨询

NMI iMicro 桌面式微米压痕原位力学测试系统 Nanomechanics 当材料测试要求需要灵活性，数据准确性和易于使用就显得至关重要，IMicro 纳米压痕仪在这方面始终如一。 这家iNano公司的老大哥具有开创性，他测试了可靠性，用户友好型软件和仪器功能，然后通过高负载纳米压痕提升性能，这是全球质量控制和研发实验室不可分割的特性更高的负载和更广泛的应用使IMicro成为世界上研究实验室的唯一选择；允许进行广泛的测试，包括但不限于特定频率的实验、存储和损失模量、模量和硬度（Oliver和Pharr）和恒定应变率。多功能执行机构可用于测试任何材料，从超软凝胶到硬涂层。 可用的划痕选项，最大负载为50mN，最大划痕偏差为2.5mm，最大划痕速度为500um/s。 电磁制动器适用于包括IMicro在内的纳米力学公司生产的所有系统,这些执行器是一种坚固的线性装置，具有固定的解耦力和位移。最大的力为1N，分辨率为6nN，最低噪音200nN。 IMicro的时间常数为20us，是唯一一种能满足规格要求，最大压痕为80um噪声小于0.1nm，数字分辨率为0.04nm，漂移率0.05nm/s IMicro包括InView软件，它提供了一个非常强大和直观的实验脚本平台，可以用于设计新颖的实验。有经验的用户可以使用IMicro进行几乎所有小规模的机械测试。 样品台移动Z轴为25 mm，X为100 mm，Y轴为150 mm，可测试各种样品高度和大样品区。 载荷刚度3,500,000N/m 独特的TiP-calibration系统集成到软件中，可以快速、准确、自动的对尖端进行校准。可选择NanoBlitz地形和断层扫描软件来执行3D

PTL-UMB微米级恒温提拉涂膜机是以微米为计量、专为在液相中浸渍提拉涂膜而设计的，通过将基片浸渍在装料杯中一定时间再垂直提拉出来，使浸渍在液相中的样件表面生长出薄膜。本机采用PLC程序控制系统，以彩色触摸屏为数据输入输出端，显示提拉速度、提拉高度、提拉往返次数、浸渍时间、干燥时间等参数。本机配备恒温干燥箱，使薄膜生长过程在一个恒定的温度下进行，且有利于薄膜的固化。PTL-UMB微米级恒温提拉涂膜机体积小巧，可节省实验室空间；操作简单，适合初学者使用；清理方便。因此，本机主要用于材料研究、表面处理及其它材料的提拉涂膜，更是广大高等院校、研究院所涂膜的理想设备。1、采用彩色触摸屏，界面清晰，方便参数设置。2、浸渍提拉涂膜的全过程在恒温温度场内进行，有利于薄膜形成及固化。3、操作安全可靠，简单易懂。4、采用悬空电机的技术来进行减震。5、采用高精度步进电机。6、已通过CE认证。产品名称 PTL-UMB微米级恒温提拉涂膜机产品型号 PTL-UMB安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：不需要2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：不需要4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm(H),承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：220V2、提拉速度：1µ m/s-500µ m/s3、温度：RT-100℃3、有效浸渍长度：60㎜4、浸渍、干燥时间设置：1-999s5、可提拉次数：1-20次6、样件尺寸：75mm×25mm×2.5mm恒温箱技术参数：1、温度范围：室温+5~100℃2、温度波动：±1.5℃3、外形尺寸：460×510×695产品规格 尺寸：460mm×510mm×970mm标准配件 1、涂膜卡具1套2、载料杯1个3、提拉丝3条

2微米激光模块具备轻小型化、高效率、高光束质量等优点，可广泛应用于科研、医疗、军工、工业加工等领域，连续、脉冲工作模式可选。

PTL-UMB01伺服微米提拉涂膜机是以微米为计量、专为在液相中浸渍提拉涂膜而设计的，通过将基片浸渍在装料杯中一定时间再垂直提拉出来，使浸渍在液相中的样件表面生长出薄膜。本机采用PLC程序控制系统，以彩色触摸屏为数据输入输出端，显示提拉速度、提拉高度、提拉往返次数、浸渍时间、干燥时间等参数。本机配备恒温干燥箱，使薄膜生长过程在一个恒定的温度下进行，且有利于薄膜的固化。PTL-UMB01伺服微米提拉涂膜机体积小巧，可节省实验室空间；操作简单，适合初学者使用；清理方便。因此，本机主要用于材料研究、表面处理及其它材料的提拉涂膜，更是广大高等院校、研究院所涂膜的理想设备。采用彩色触摸屏，界面清晰，方便参数设置。浸渍提拉涂膜的全过程在箱体内进行，减小了外界空气流动对薄膜的影响。操作安全可靠，简单易懂。采用进口伺服电机搭配高精密滚珠丝杠，速度精度高，运行平稳。采用不锈钢料液槽，防止液体外溅到箱体内，可在料液槽中放置小料液盒位置可调式卡具，可根据样品尺寸对卡具位置进行上下调节采用不锈钢料液盒，更耐腐蚀产品名称 PTL-UMB01伺服微米提拉涂膜机产品型号 PTL-UMB01安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：不需要2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：不需要4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm(H),承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：220V2、提拉速度：1um/S-8000um/S，速度分辨率1μm3、配有加热和除湿功能：加热温度RT-50℃4、有效行程：220㎜ 5、可提拉最大样品尺寸：200×150×5㎜6、浸渍、干燥时间设置：1-999s7、可提拉次数：1-20次8、提拉负荷：≤1000g产品规格 10、产品规格：尺寸：480mm×480mm×880mm重量：60kg序号名称数量图片链接1涂膜卡具1套-2料液盒1个-

1.5~2微米激光器1500nm~2100nm光纤激光器具有高效率、高功率、高光束质量、高可靠性等输出特点，可广泛应用于科研、医疗、工业加工等领域，连续和脉冲工作模式可选。

中图仪器VT6000微米级工件共聚焦3d测量显微镜基于光学共轭共焦原理，以转盘共聚焦光学系统为基础，能在样品表面进行快速点扫描并逐层获取不同高度处清晰焦点并重建出3D真彩图像，从而进行分析。一般用于略粗糙度的工件表面的微观形貌检测，可分析粗糙度、凹坑瑕疵、沟槽等参数。自设计之初，VT6000微米级工件共聚焦3d测量显微镜便定下了“简单好用"四字方针的目标。1）结构简单：仪器整体由一台轻量化的设备主机和电脑构成，控制单元集成在设备主机之内，亦可采用笔记本电脑驱动，实现了“拎着走"的便携式设计；2）真彩图像：配备了真彩相机并提供还原的3D真彩图像，对细节的展现纤毫毕现；3）操作便捷：采用全电动化设计，并可无缝衔接位移轴与扫描轴的切换，图像视窗和分析视窗同界面的设计风格，实现了所见即所得的快速检测效果；4）采用自研的电动鼻轮塔台，并对软件防撞设置与硬件传感器防撞设置功能进行了优化，确保共聚焦显微镜在使用高倍物镜仅不到1mm的工作距离时也能应对。产品功能(1)设备具备表征微观形貌的轮廓尺寸及粗糙度测量功能；(2)设备具备自动拼接功能，能够快速实现大区域的拼接缝合测量；(3)设备具备一体化操作的测量与分析软件，预先设置好配置参数再进行测量，软件自动统计测量数据并提供数据报表导出功能，即可快速实现批量测量功能；(4)设备具备调整位置、纠正、滤波、提取四大模块的数据处理功能；(5)设备具备粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)设备具备一键分析和多文件分析等辅助分析功能，可实现批量数据文件的快速分析功能；VT6000微米级工件共聚焦3d测量显微镜可广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。应用领域对各种产品、部件和材料表面的面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、平面度、粗糙度、波纹度、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例：功能特点1、测量模式多样单区域、多区域、拼接、自动测量等多种测量模式可选择，适应多种现场应用环境；2、双重防撞保护功能Z轴上装有防撞机械电子传感器、软件ZSTOP防撞保护功能，双重保护；3、分析功能丰富3D：表面粗糙度、平整度、孔洞体积、几何曲面、纹理方向、PSD等分析；2D：剖面粗糙度、几何轮廓测量、频率、孔洞体积、Abbott参数等分析。在材料生产检测领域中，共聚焦显微镜在陶瓷、金属、半导体、芯片等材料科学及生产检测领域中也具有广泛的应用。应用场景1、镭射槽测量晶圆上激光镭射槽的深度：半导体后道制造中，在将晶圆分割成一片片的小芯片前，需要对晶圆进行横纵方向的切割，为确保减少切割引发的崩边损失，会先采用激光切割机在晶圆表面烧蚀出U型或W型的引导槽，在工艺上需要对引导槽的槽型深宽尺寸进行检测。2、光伏在太阳能电池制作工程中，栅线的高宽比决定了电池板的遮光损耗及导电能力，直接影响着太阳能电池的性能。VT6000可以对栅线进行快速检测。此外，太阳能电池制作过程中，制绒作为关键核心工艺，金字塔结构的质量影像减反射焰光效果，是光电转换效率的重要决定因素。共聚焦显微镜具有纳米级别的纵向分辨能力，能够对电池板绒面这种表面反射率低且形貌复杂的样品进行三维形貌重建。3、其他部分技术指标型号VT6100行程范围X100mmY100mmZ100mm外形尺寸520*380*600mm仪器重量50kg测量原理共聚焦光学系统显微物镜10× 20× 50× 100×视场范围120×120 μm~1.2×1.2 mm高度测量宽度测量XY位移平台负载10kg控制方式电动Z0轴扫描范围10mm物镜塔台5孔电动光源白光LED恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

产品简介：液体颗粒微米计数器清洗剂液体颗粒计数仪液体颗粒微米计数器清洗剂液体颗粒计数仪，采用英国普洛帝核心技术创新型的第八代双激光窄光颗粒检测传感器，双精准流量控制-精密计量柱塞泵和超精密流量电磁控制系统，可以对清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片等产品的在线或离线颗粒监测和分析，目前是英国普洛帝分析测试集团向水质领域及微纳米检测领域的重要产品。液体颗粒计数器化学品液体粒子计数仪产品优势：应用：创新性油水双系型、多用途、多模块条件；技术：第八代双激光窄光检测技术应用；软件：分析测试和校准计量相分离消除干扰；输出：IPAD数据采集技术使用；标准：民用标准和军用标准分离。在线优势：清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片等产品的在线颗粒监测和分析，都是PMT-2微纳米监测仪的经典应用场所，并为生产线上的重要组成部分。在线、实时、连续取样、报警提示，能够即时掌握颗粒污染诊断和趋势。离线优势：移动测量和固定测量颗粒大小及多少双模式，解决连续跟踪监测的生产过程难题，无论您是即时测量还是清洁跟踪监测，都会为您提供完善的测试方案，让您的测试更加快捷。液体颗粒微米计数器清洗剂液体颗粒计数仪应用范围：可以对清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片、手机零部件、纯水机、纳米过滤、微米过滤等领域进行固体颗粒污染度检测，及对有机液体、聚合物溶液进行不溶性微粒的检测。液体颗粒微米计数器清洗剂液体颗粒计数仪技术参数：订制要求：各类液体检测要求；传感器：第八代双激光窄光检测器；测试软件：V8.3分析测试软件集成版&PC版；检测标准：满足中国药典2015&2020版、美国药典、欧洲药典、英国药典、GB8368等标准；测试标定：JJG1061或乳胶球或ISO21501；操作方式：彩色液晶触摸屏操作&无线键鼠组合；检测范围：0.1-0.5um；特殊检测：自定义1~100μm或者4~70µ m（c）微粒，0.1μm或者0.1µ m（c）任意检测；取样方式：精准计量泵；进样精度：±1%精确度： ±3%典型值；重合精度：1000粒/mL（2.5%重合误差）；模拟输出：4mA～20mA接口；并带超标报警功能（可定制）； 报告方法：颗粒数/ml及污染度等级；输入电压：100V～265V,50Hz～60Hz；售后服务：普洛帝服务中心/中特计量检测研究院。

1.5~2微米激光器1500nm~2100nm光纤激光器具有高效率、高功率、高光束质量、高可靠性等输出特点，可广泛应用于科研、医疗、工业加工等领域，连续和脉冲工作模式可选。详情请咨询

C11665-01 微米膜厚测量仪 C11665-01型光学微米测厚仪是一款非接触薄膜测厚仪器，它将光源、探测器和数据分析模块集成到一个箱体里，实现了紧凑型设计。在半导体行业，TSV技术的广泛应用使得基底测厚成为至关重要的方面，与此同时半导体薄膜工业正将连接层制作的越来越薄。这些领域的进步需要1 μm到300 μm范围内高准确度的膜厚测量。C11665-01可对多种类型的材料（硅基底，薄膜等等）进行测厚，测量范围为0.5 μm 到 700 μm，这也是半导体和薄膜制造领域经常使用应用的厚度。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息！特性无参照物工作尺寸紧凑，节省空间高速、高准确度不整平薄膜精确测量分析光学常数（n,k）可外部控制参数型号C11665-01可测膜厚范围（玻璃）0.5 μm to 700 μm*1可测膜厚范围（硅）0.5 μm to 300 μm*2测量可重复性（硅）0.1 nm*3 *4测量准确度（硅）±1 %*4 *5光源LED测量波长940 nm to 1000 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*4工作距离5 mm*4可测层数最大10层分析FFT 分析，拟合分析，光学常数分析测量时间19 ms/点*6光纤接口形状FC外部控制功能RS-232C / Ethernet电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗85W*1：SiO2薄膜测量特性*2：Si薄膜测量特性*3：测量6 μm厚硅薄膜时的标准偏差*4：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率*5：在标准量具的测量保证范围内*6：连续数据采集时间不包括分析时间

C11011-01W 微米膜厚测量仪 C11011-01W型光学微米膜厚测量仪利用激光相干度量学原理，测量速度达60Hz，适用于产品线上在线测量。此外，选配的映射系统可以测量指定样品的厚度分布。C11011-01W应用广泛，比如用于产品制造过程监控或质量控制。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息！特性利用红外光度测定进行非透明样品测量测量速度高达60 Hz测量带图纹晶圆和带保护膜的晶圆长工作距离映射功能可外部控制参数型号C11011-01W可测膜厚范围（玻璃）25 μm to 2900 μm*1可测膜厚范围（硅）10 μm to 1200 μm*2测量可重复性（硅）100 nm*3测量准确度（硅） 500 μm: ±0.5 μm； 500 μm: ±0.1 %*3光源红外LED（1300 nm）光斑尺寸φ60 μm*4工作距离155 mm*4可测层数一层（也可多层测量）分析峰值探测测量时间22.2 ms/点*5外部控制功能RS-232C / PIPE接口USB2.0电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗50W*1：SiO2薄膜测量特性*2：Si薄膜测量特性*3：测量6 μm厚硅薄膜时的标准偏差*4：可选配1000mm工作距离的模型C11011-01WL*5：连续数据采集时间不包括分析时间

1、微米级局域激光退火系统产品简介微米级局域激光退火系统可定向修饰量子比特的频率参数 ，提高量子芯片的良品率，解决多比特扩展中比特频率拥挤的问题。该系统可配置高真空退火腔体和惰性气体退火腔体，实现量子芯片的真空局域退火和惰性气体氛围退火功能。该系统亦可适用于半导体芯片、材料表面改性处理等领域。 2、微米级局域激光退火系统产品特点比特频率修饰准确性超过99%（300个比特样品） 激光功率0~2.5W可调，功率稳定性RMS优于0.5%（10h内） 退火目标区域定位精度达百纳米级 系统全自动化控制，可多点一键退火，人机交互便捷 微米级光斑，激光光斑形状尺寸可定制3、微米级局域激光退火系统产品参数退火重复性：常温电阻修饰准确性超过 99%（300 个比 特退火比例标准差）激光波长：532 nm 激光输出功率：支持可变功率 0-2.5W，最小调节单位 0.01W 功率稳定性：激光功率稳定性 RMS 0.5% （10h 内） 激光光斑：直径 20μm±2μm（有效退火范围），支持 定制形状尺寸 退火时间控制：最短退火时间 40ms 可处理芯片尺寸：2inch（其他规格形状可定制） 芯片定位精度：±0.25μm （X/Y 方向）

产品简介：0.5微米过滤袋是辉龙工厂研发生产的高精度过滤袋。目前市面供应的过滤袋精度基本在1微米以上，这个受到针刺滤料生产设备所局限。辉龙过滤作为国内知名的、悠久的滤材生产厂家，吸收FSI、伊顿等知名过滤产品，相继研发出0.5微米过滤袋、0.22微米过滤袋、0.1微米过滤袋等高精度过滤袋。该系列过滤袋可以满足高精度的同时，又保证了过滤面积大、流量大的特性。一经推出受到客户的一致好评！ 技术参数：材质耐温℃强酸弱酸强碱弱碱油脂类芳香类醇醚类有机溶液水微生物聚酯（PE）120-150******聚丙烯（PP）60-90** *****尼龙（NMO）150-170*****聚四氟（PTFE）250-300********* 尺寸规格：滤袋尺寸直径长度设计流量水 m3/h过滤面积m2体积L01#7〃(180mm)17〃(450mm)200.25802#7〃(180mm)32〃(810mm)400.51703#4〃(108mm)9〃(230mm)60.091.304#4〃(108mm)15〃(380mm)120.162.505#6〃(152mm)20〃(520mm)120.188*压差及其他因素会影响流量。 行业应用：汽车涂料和油漆水净化和水处理制药餐饮精细化工石油化工产品别名： 关联产品：过滤袋：除尘布袋：袋式过滤器：

产品型号：Unipol-1502产品简介：Unipol-1502型精密研磨抛光机可用于加工制备各种晶体材料、陶瓷材料及金属材料而设计的新一代产品。该机配有直径381毫米的研磨抛光盘和三个加工工位。可研磨抛光直径&ge 100毫米或矩形的平面。采用UNIPOL1502型精密研磨抛光机及选购的附件，可自动批量生产高质量的平面磨抛产品。主要特点：1、超平抛光盘（平面度为每25毫米× 25毫米小于0.3微米） 2、超精旋转轴（托盘端跳小于8微米） 3、三个加工工件 4、带有数字式显示的无级调速 5、可自动停止工作的定时器 6、可配备自动送液的滴料器或循环泵技术参数：电源：交流110V或220V 速度：无级调速 定时器：定时范围为1分钟～99.99小时 外形尺寸：650mm× 510mm× 300mm（长× 宽× 高） 重量：95千克尺寸：810mm x 800mm x800mm 200kgs产品附件：150× 200&ldquo 00&rdquo 级精密花岗岩测厚仪； 自动混料及送液的滴料器； 搅拌循环泵； 各种配重块，以调整抛光和研磨的压力（100克-2000克）； 用于精细研磨抛光的铜及锡合金抛光盘； 易粘贴的抛光垫； 可根据客户要求设计载料块的大小。可选配件：二个直径381毫米的研磨抛光盘（铸铁盘和铸铝盘各一个） 三个修整环 三个载料块 三个支持修整环的支架 一本操作规程手册具体信息请点击查看：

高功率2~3微米激光器2040nm~2500nm激光器具有高效率、高功率、高光束质量、高可靠性等输出特点，可广泛应用于科研、医疗、工业加工等领域，针对不同客户的需求，可提供高性能、紧凑化的产品。详情请查看官网

PMT-2液体微米颗粒计数器化学品液体粒子计数仪采用英国普洛帝核心技术创新型的第八代双激光窄光颗粒检测传感器，双精准流量控制-精密计量柱塞泵和超精密流量电磁控制系统，可以对清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片等产品的在线或离线颗粒监测和分析，目前是英国普洛帝分析测试集团向水质领域及微纳米检测领域的重要产品。产品优势：应用：创新性油水双系型、多用途、多模块条件；技术：第八代双激光窄光检测技术应用；软件：分析测试和校准计量相分离消除干扰；输出：IPAD数据采集技术使用；标准：民用标准和军用标准分离。在线优势：清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片等产品的在线颗粒监测和分析，都是PMT-2微纳米监测仪的经典应用场所，并为生产线上的重要组成部分。在线、实时、连续取样、报警提示，能够即时掌握颗粒污染诊断和趋势。离线优势：移动测量和固定测量颗粒大小及多少双模式，解决连续跟踪监测的生产过程难题，无论您是即时测量还是清洁跟踪监测，都会为您提供完善的测试方案，让您的测试更加快捷。应用范围：可以对清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片、手机零部件、纯水机、纳米过滤、微米过滤等领域进行固体颗粒污染度检测，及对有机液体、聚合物溶液进行不溶性微粒的检测。技术参数：订制要求：各类液体检测要求；传感器：第八代双激光窄光检测器；测试软件：V8.3分析测试软件集成版&PC版；检测标准：满足中国药典2015&2020版、美国药典、欧洲药典、英国药典、GB8368等标准；测试标定：JJG1061或乳胶球或ISO21501；操作方式：彩色液晶触摸屏操作&无线键鼠组合；检测范围：0.03-3000um；（传感器可选型）特殊检测：自定义1~100μm或者4~70µ m（c）微粒，0.1μm或者0.1µ m（c）任意检测；取样方式：精准计量泵；进样精度：±1%精确度：±3%典型值；重合精度：1000粒/mL（2.5%重合误差）；模拟输出：4mA～20mA接口；并带超标报警功能（可定制）； 报告方法：颗粒数/ml及污染度等级；输入电压：100V～265V,50Hz～60Hz；售后服务：普洛帝服务中心/中特计量检测研究院。

90Plus亚微米激光粒度分析仪基于动态光散射原理，是一种快速、便捷的纳米、亚微米粒度分析测试仪器。详细说明：NanoBrook产品系列项目90Plus90Plus ZetaZetaPlus功能粒度测量功能●●○分子量测量功能●●○Zeta电位测量功能○●●技术参数粒度测量范围0.3nm-6μm○分子量测定范围342～2×107Dalton○散射角15°与90°○相关器4×522个物理通道，4×1011个线性通道○适用粒度范围○1nm～100μmZeta电位测量范围○－500mV～500mV电导率范围○0-20S/m电泳迁移率范围○10-10～10-7m2/V.s电极○开放式永久型电极系统参数温控范围与精度－5～110℃，±0.1℃激光源35mW固体激光器检测器PMT或APD分析软件Particle Solution粒度与Zeta电位分析软件大小及重量233mm（H）×427mm（W）×481mm（D），15kg选件BI-ZTU自动滴定仪可对PH值、电导率和添加剂浓度作图BI-870介电常数仪直接测量溶剂的介电常数值BI-SV10粘度计用于测量溶剂及溶液的粘度●代表“有” ○代表“无”动态光散射原理 由于颗粒在悬浮液中的布朗运动，使得光强随时间产生脉动。采用数字相关器技术处理脉冲信号，可以得到颗粒运动的扩散信息后，进而利用Stokes－Einstein方程计算得出颗粒粒径及其分布。典型应用1.蛋白质/complex/DNA2.聚合物胶乳3.药物制备4.油/水、水/油乳液5.油漆、涂料、颜料6.油墨、调色剂7.化妆品技术指标1.粒度范围：0.3nm～6μm（与折射率，浓度，散射角有关）2.典型精度：1％3.样品类型：任何胶体范围大小的颗粒（悬浮于清液中）4.样品体积：1～3ml5.分子量测定范围：1×103～2×107Dalton6.温控范围：-5℃～110℃，±0.1℃7.pH值测量范围：1-148.激光源：35mW固体激光器（可选5mW He-Ne激光器）9.检测器：PMT或APD10.自动趋势分析：对时间、温度及其他参数11.散射角：15°与90°

技术参数：全自动微空精密加工装置飞机发动机等叶片上打孔用，0.5x0.5mm2面积上 全自动打30微米孔100个！ 号称世界第一。主要特点：1。全自动，效率高2。孔小精度高 0.5x0.5mm2面积上 全自动打30微米孔100个

MP-micro微米级颗粒包衣实验室流化床半世纪以来，日本派沃斯Powrex公司一直致力于粉末、颗粒工艺处理设备的研发与制造，涉及了从原料粉碎到分类、混合、制粒、上料、干燥、制粒、包衣、筛分、检测、转运、集尘等。 随着科技的发展，根据工艺需求，Powrex软件开发能力迅速提高，我们可以根据工艺通用需求来构建粉末制粒包衣技术。此外，我们一直寻求探索顶尖技术，在日本与世界各地顶尖级专业制造商结成技术联盟，不断努力，提升自身研发、生产、加工能力。 Powrex对硬件，软件，仪器和控制的全面支持。借助最新的传感技术和控制技术，我们实现了高度强劲的系统，可满足广泛的用户需求，并支持无人值守、省力、全自动的安全稳定的工艺生产操作。 此外，我们还积极致力于制造过程的管理和分析，例如使用各种在线测量技术介绍最新的过程控制技术。近年来，随着新能源科技的发展，Powrex流化床制粒、包衣技术广泛应用于锂电池行业包埋、肠道微生物包埋处理工艺，并获得了业内用户普遍认可。 MP-micro 是一款针对实验室批次规模应用的包衣流化床，适用于小批量制粒包衣产品，通过参数设置调整，可实现如下功能：1） 控制释放和溶解特性：控制产品溶出速率、适用于缓释产品工艺采用。2） 增加湿度：提高分散和崩解性能3） 增加处理样品流动性和附着性能：降低颗粒表面能，范德华力4） 增加抗光性和抗紫外能力：有效防止老化，延长有效期5） 掩盖气味：防止异味/恶臭6） 改善颗粒硬度：防止颗粒破坏MP-micro技术参数有效工作容积0.06L设备尺寸900mm*600mm*800mm重量120Kg应用制粒、粉末包衣

FR-uProbe是涂层表征应用的解决方案，要求光斑尺寸小至极小微米，例如微图案表面，具有不规则表面的样品，其表现出高水平的散射光和许多其它。使用FR-uProbe，在UV / Vis / NIR上的局部薄膜厚度，光学常数，反射率，透射率和吸光度测量只需点击即可。白光反射光谱（WLRS）测量在一定波长范围内从薄膜或多层叠堆反射的光量，入射光垂直于（垂直于）样品表面。通过来自界面的干涉产生的测量的反射光谱用于确定自支撑和支撑（在透明或部分/全反射基板上）薄膜堆叠的厚度，光学常数（n和k）等。应用o大学和研究实验室o半导体（氧化物，氮化物，硅，抗蚀剂等）o MEMS器件（光刻胶，硅膜等）o LEDo数据存储o阳极氧化o弯曲基板上的硬/软涂层o聚合物涂料，粘合剂等o生物医学（聚对二甲苯，气球壁厚等）特征o 单击分析（无需初始猜测）o 动态测量o 集成USB摄像头o 保存视频进行演示o 350+不相同的材料o 3年免费软件更新o 在Windows 7/8/10上运行

实验动物用 高性能X射线微米级计算机断层扫描系统Micro CT100是一台微焦点计算机断层扫描仪，除X射线管和数字平板探测器外，均为中国研发和制造，主要应用领域包含新药与疾病模式开发之临床前小动物科学研究领域、农业、工业。●载床一键安装,系统自动识别实验标本类型并快速设定滤片和FOV模式 ●载床识别防撞,带热风控制/气麻回收系统以及防逃脱设计 ●自动选择滤镜和FOV模式 ●独特的不同实验模式选择主要功能●能进行骨相关研究成像,包括关节炎、骨质疏松、骨损伤修复、骨再生、重塑等领域，可进行骨密度、骨微结构、骨小梁定量分析 ●能进行脂肪研究成像，能够分离出皮下脂肪、内脏脂肪、棕色脂肪，并对脂肪体积含量进行定量测定；●能进行呼吸道研究成像，获取正常或疾病状态时肺部及支气管影像，并对体积等参数进行定量分析 ；●能进行心脏研究成像，包括心梗、心肌肥大、动脉粥样硬化、心脏血管病变等研究，可获取舒张期及收缩期心脏体积参数及左心室射血分数等功能参数；●能进行全身血管成像研究，获得高分辨率的血管造影影像；●能进行肝、脾、肾等内脏的成像研究，获得体积、表面积等定量参数。产品优势●仪器体积小巧，安装方便，使用简单●高度自动化，从测量到定量一键操作●（最）佳空间分辨率为2μm，高清晰度成像●CT外壳自带铅屏蔽，无需做额外防护●一键自动识别载床并快速选择滤镜与FOV模式●智能扫描模式：一次性预设好实验条件，无需配备专业人员●载床设计，可以自动识别、防撞，防逃脱●载床罩具备防夹设计，使用更放心●太空舱式多功能载床系统，具备气麻、ECG、体温、摄像机，可调控热风系统，残余气麻回收系统●CT配置6个金属过滤片，滤片自动配置，使用更安全，减少对实验动物的损害●快速动物扫描时间为2秒（高速模式），动物受辐射小●可进行持续扫描，缩短扫描时间，保护动物，提高仪器使用效率●仪器运行安静，独有的风扇设计降低噪音●高精度平台，硬件机械式校正，得到准确，更清晰的实验结果技术参数X射线球管 40～90KV，50W，焦点尺寸为15μm@6W附加过滤片 五种附加滤过片可供选择数字平板探测器 1536×1944,14bits CMOS探测器空间分辨率 44.9, 22.5， 15.0，9.0 ，2.0μm有效视野 80×200mm重建像素尺寸 单次扫描：1944×1944×1536扫描时间 标准扫描：20秒，快速扫描：2秒仪器尺寸 880mm(W)×1500mm(D)×1500mm（H）重量 ＜950kg辐射安全 扫描时距表面10公分处剂量小于1μSv/h 产品配件●QRM原厂假体（水假体、羟基磷灰石假体）●载床×3（大鼠载床、小鼠载床、离体载床）●心电图量测与显示功能●DICOM档案格式●3D影像显示、距离与面积量测等功能●骨密度与形态分析软体、脂肪分析软体●气体麻醉系统，不断电系统（选配）

什么是微纳米气泡 按照国际标准化组织（ISO）的定义，微纳米气泡（Fine Bubble）就是液体中直径小于100微米的气泡，根据气泡的大小又分为微米尺寸的微米气泡（Micro-Bubble；MB）和纳米尺寸的纳米气泡（Ultrafine-Bubble；UFB）两种。微纳米气泡之所以单独分为一类，是因为它和一般见到的毫米级微小气泡（Milli-Bubble）具有截然不同的特点，参见图2。（图2） 近年来，微纳米气泡的很多优异功能被发现，如比表面积大、停留时间长、界面zeta电位高等。除了其本身的性质外，由这些性质产生的效果也很独特，如自身增压溶解、产生自由基、强化传质效率等，因此微纳米气泡在环境保护、农业、胶片制作、医学诊断与治疗、浮选、污水处理、土壤改良、采油及冶金工业等诸多领域中得到很好的应用，在美日中德等世界各国发展迅猛，万亿市场可期。 2013年，国际标准化组织（ISO）设立新的技术委员会-微泡技术委员会、以及相应的标准组：ISO/TC281。2018年10月，中国颗粒学会微纳气泡专业委员会成立。2019年11月，国家标准化管理委员会决定成立全国微细气泡技术标准化委员会。ZYWNP-WJS-1型水下在线微米气泡实时动态观测系统 微纳米气泡技术的应用场景极其丰富：水产养殖、栽培、灌溉、施肥、膜生物反应器、含塑料废水处理、稳定塘、城市污水处理、固-液和液-液分离污水处理设备、牛奶厂废水、肉加工厂、高尔夫球场水塘、啤酒厂污水处理、增氧泥浆细菌分解池、虾场、池塘泻湖、藻类控制、养牛场、鱼类运输、鱼类保鲜、环境保护、农业、浮选、污水处理、土壤改良、蔬菜种植、无土栽培、纳米气泡洗浴花洒、纳米气泡水龙头、医疗、健康养生，等等。 正因为微纳米技术应用广泛，制备方法多样、发生设备多种，微纳米气泡直径不同性能效用差别巨大，因此人们迫切希望有检测微纳米气泡直径的设备。目前有一些实验室仪器可以检测到水样中微纳米气泡的直径，但是当微纳米气泡水样从科研生产实践的实体中取出，送往实验室的途中，微米级气泡基本散失、纳米级气泡也有部分灭失和状态改变，检测结果不能反映科研生产的实践水体中微纳米气泡的真实作用状态，使得科研没有实时数据支撑，也就无法量化指导生产实践中气泡尺寸控制的效果状态。 JXWNP-WJS-1型水下在线微米气泡实时动态观测系统（纳米气泡另有型号），正是为了解决科研生产实践中、“水下”“在线实时”“动态”“可甄别”这几个关键词而开发的检测设备。 JXWNP-WJS-1型水下在线微米气泡实时动态观测系统适用在流体环境中观测悬浮的微米级颗粒、胶体、气泡类物质，进行在线、连续、原位地观测。由于采用显微实像技术，检测结果完全是“所见即所得”，不仅数据真实可靠，还可甄别颗粒、胶体、气泡类物质，比如测量气泡时可以采用“含孔自动切分分析”手段自动排除固体颗粒、胶体等干扰物质。该设备大大丰富了易失样品的观测、检验手段，帮助我们更为简易地了解此类微小物体的生成、运动、作用模式。 该设备同样广泛适用于纤维工业、油脂、造纸、墨水、食品、橡胶、合成树脂、制药、采油、石油及其它高分子工业等的各种液体微粒悬浮体系，是大专院校、工矿企业等单位在科研生产实践过程中在线监视和控制产品性能，稳定及提高产品质量的新型手段。 该设备具有结构紧凑、使用维护方便，观测迅速、结果可靠等特点。（图3）主要技术指标 图像分辨率：0.6～4 微米/像素 测量范围：1微米～100微米（其实数百微米也可测量，这个范围是考虑ISO关于微气泡的定义） 物距：13毫米（外壳最外层玻片到观测样品的距离） 变倍：0.7～4.5物理变倍、9档电动变倍 CCD摄像头：60帧（标配）～2000帧（选配） ***注：选配高速摄影需要配套专业软件、高亮灯光以及固态硬盘 外形尺寸L×W×H ：600×200×200（毫米） 防水：机头IPX7 仪器重童：约10公斤 电源：AC 220V ±10 %，50Hz ±1% 配套专业影像分析软件（图4）软件设置界面-放大倍率可调设备构成和工作原理 1 、设备构成 仪器主体由CCD摄像头，显微放大镜头，密闭透明外壳，防水数据线和机电控制箱组成。 并配备微机工作站，专业测量软件进行图像采集和分析。 2 、工作原理 仪器使用针对环境的结构设计，保证密闭环境下的密封、防蚀的工作需求。通过在液体中的显微镜头获得实时的样品图像。图像传至微机工作站中对图像进行筛选分辨，测量，统计数据。示例 提示1、气源为空气时，可以直接在环境中采集气源；气源为纯氧、臭氧、氢气时，需要准备好相应的气源钢瓶或发生器。 提示2、200帧/秒及以上的高速摄影需要高亮光源；计算机需要配固态硬盘。（图5）打开测量图片（图6）标定图片（图7）单阈值目标选取 （图8）分析目标选取并着色 （图9）目标分析选项 （图10）自动切分分析 （图11）分析结果参数列表

英国真尚有_光栅尺 | 微米级光栅尺 | AE0xAE0x微米级光栅尺设计用于测量和检查工程物体的位移、尺寸、跳动、表面轮廓和变形。主要特点：◇ 0.1 µm 分辨率◇ 最高±2 µm 精度◇ 测量范围从 3 到 55 mm◇ 可应用范围广，对被测物本身无限制（低反射率、镜面、透明… … 都不影响）◇ 绝对测量的创新技术◇ 增量编码器信号的仿真应用领域：技术规格：