纳米图像束曝光系统

微纳米图形的制作已成为半导体器件、微机电系统和纳米科学等研究中的基本手段。但传统设备昂贵、庞大，NanoPattern图形发生器可以利用电子束/离子束/探针具有容易控制和分辨率高的特点方便地获得微纳米图形。而且不像普通光刻机需要先制作掩膜，并且有更高的分辨率和灵活性。NanoPattern图形发生器可利用扫描电镜/聚焦离子束/扫描透射电镜的外接扫描口、束流测量装置和二次电子检测输出等而使其升级获得微纳米图形制作的功能并且不损失电镜原来的任何功能。结合扫描电镜/聚焦离子束/扫描透射电镜上的其他功能如电子

在扫描电镜、聚焦离子束和双束 系统上进行纳米操纵和测量的最 佳方案. 主要应用 纳米结构的电学测量和表征 纳米结构的力学测量和表征 微米纳米尺度组装 透射电镜、拉曼和其它分析仪器 的样品制备 表面科学实验和研究 纳米连接技术研发 原位纳米尺度样品定位

纳米颗粒分析仪配件用于观测和分析液体中的微小颗粒的布朗运动速率与尺寸分布相关，采用纳米颗粒跟踪分析（NTA）技术，通过激光散射装置（纳米观测）与超显微镜ultra-microscope和NTA软件的相结合，生成纳米颗粒图像，是全球领先的纳米粒度分析仪。纳米颗粒分析仪配件 纳米观测原理纳米颗粒分析仪使用纳米透视Nano-Insight 激光散射模块，可以通过顶眼超显微镜观测到液体中的纳米粒子。采用不同激光散射颗粒在矩阵中表现为模糊点。模糊点根据其各自的布朗运动而移动。液体中有不同的布朗运动粒子。小粒子比大粒子受到相邻粒子的影响更少。因此，在超显微图像中，较大的粒子有大的模糊外观。 NTA能够追踪粒子的相应路径。纳米观测模块纳米观测模块的设计，可以使其安装在超显微镜，顶眼纳米的底板。可以通过Mishell软件来控制该模块。Mishell软件控制着纳米观测模块以及照相机。根据应用决定在纳米观测模块装备一个或多个激光器。激光器以一种特殊的方式排列。左侧图片上展示的是纳米观测图。较小的粒子比较大的粒子移动更快。我们用摄像机同时跟踪每个粒子。顶眼超显微镜顶眼超显微镜将进入模糊点的散射光可视化。用适当的时间分辨跟踪，模糊云可被分配并与各自的粒径相关。粒子的布朗运动图像是唯一的。下面将给出例子。每个模糊点代表单个粒子。NTA 软件上图展示的是NTA分析的典型图像。散射激光被捕获到模糊点，要根据时间函数跟踪模糊点。我们跟踪每个模糊点。跟踪每个粒子的方法，得到的技术结果是高分辨率。我们正在寻找与图像相关的量，当我们知道相关的量后，我们就可以极其精确地确定各种粒子的浓度。该技术将会带起许多可能的应用。例如，可能也可以使用荧光激光器。使用荧光激光器，可以瞄准复杂的基质里的一个粒子。该技术带来的好处是，用户可以在视觉上检查并且通过观察相应图像验证所有可能的应用。MiNan是Mishell® 内的一个模块- 扩展图像分析软件包，被认为是市场上最先进的图像分析软件。MiNan是一个子程序，可以进行Morphious纳米粒子分析的全部描述。MiNan是自带Morphious纳米系统的软件，研发用于纳米粒子的可视化以及纳米粒子的大小、形状（形态）和浓度的测量。每个粒子是一个个体，但通过观测扩散同时被分析。这种一个粒子后接一个粒子的方法产生高分辨率的结果，即粒子的尺寸分布和浓度分辨率高，同时视觉验证让用户对数据有了额外的信心。当荧光模式检测标记粒子时，粒子尺寸和浓度，蛋白质聚集和粘度都可以被分析。纳米颗粒分析仪配件应用?在制药或复合产业研发药物?用于病毒筛查?用于开发纳米生物标记物或毒物筛查?用于蛋白质聚集的动力学模型研究?用于通过膜泡的表征研究疾病?用于促进纳米复合材料的发展纳米颗粒分析仪配件特色?在同一时间多粒子高通量表征?实时视觉展示粒子，允许用户评估试验，无需额外复杂性?方便和易于使用的软件，允许用户通过宏设置任何实验?添加像高通量自动采样器，泵或加热和制冷配件?自适应模块化系统构建任何复杂的应用程序，操作轻松舒适?超级高效和购买成本低?该系统提供高分辨率的粒度特性来研究复杂的多分散矩阵?激光波长可选择?通过给过滤器添加电动轮，得到自适应荧光分析纳米颗粒分析仪配件参数?尺寸10 nm - 2000 nm*?浓度 106 - 109 粒子/ mL?荧光检测纳米颗粒分析仪配件规格温度范围15-40 °C电源230V AC/115V AC, 50/60 Hz摄像机USB3 CMOS分辨率：1936x1216 161帧/秒，像素尺寸5.86μm：颜色校准模块功耗18W激光波长405nm（紫色），488nm（蓝），532nm（绿），642nm（红色）尺寸范围从10 nm到2000 nm (取决于材料)焦点电脑控制电动调焦个人计算机SDD亿康II SDSSDHII-120G-G25HDD西数蓝WD10EZEX1 TB|主板千兆字节GA-Z97X-UD3H|内存金士顿骇客神条怒黑| HX318C10FBK2/1616 GB DDR3-RAM处理器英特尔® 酷睿™ i7 i7-4790K四核4×4.0 GHz显卡 PNY VCQK2200-PB 4GB电源 酷冷至尊G750M 750w机箱 酷冷至尊黑软件Windows® ＆（或更高）.由Mishell® 供电Mishell是Microptik BV公司的注册商标。Windows是微软公司的注册商标。MiNan尖端程序在Mishell下运行，以充分体现由Morphious纳米获得的纳米粒子尺寸（长×宽×高）20 x 18 x 30 cm重量10.5 kg

GATTA-SIM NANORULER来自德国GATTA-SIM系列Nanorulers（纳米尺）是检查您的SIM系统（单分子定位超分辨显微镜）分辨率的完美样本。单色纳米尺子携带两个由高量子产率染料分子密集排列而成的荧光标记。此外，我们提供了一种新的设计，包含两个不同的荧光团三个发光点，允许获取非常引人注目的图像。单色GATTA-SIM纳米尺120纳米-120nm尺寸只有蓝色可供选择140纳米-黄色和蓝色160纳米-颜色为红色(ATTO 647N)，黄色(Alexa Fluor568)或蓝色(Alexa Fluor488)多色纳米尺有三个发射点，尺寸：140纳米(Alexa Fluor 568 & Alexa Fluor 488)160纳米(ATTO 647N & Alexa Fluor 568或ATTO 647N & Alexa Fluor 488)我们还可以根据您的要求设计特殊的解决方案。所有纳米样品都将是GATTA-SIM超分辨率图像，在密封玻片上交付，您可以舒适地直接放在显微镜上。

紫外曝光机配件非常适合对紫外光敏感层的处理，是理想的紫外掩曝光机系统和掩模准直机，适合光学，生物，微纳科技，光刻等领域需要1-2掩膜的应用。紫外曝光机配件特点1)完美的单色曝光，曝光带宽小于10nm 2)冷紫外曝光，衬底环境温度实时控制，从而实现均匀曝光，消除热效应；3）超强的功率密度4） 紫外LED寿命更长，高达10000小时；5）方便用户使用的触摸屏配置；6） 不需要预热；7）计算机控制紫外光源强度调节；8）自动晶圆装载和卸载功能；9）超低能耗；紫外曝光机配件参数分辨率：2微米发射光谱：365+/-5nm, 385+/-5nm4英寸晶圆照明： 25mW/cm^2 +/-10%暴晒时晶圆温度加热:暴晒循环：1秒~18小时记忆的曝光循环数： 10个功率：180W重量：8.2kg尺寸: 260x260x260mm^2电源： 110V/230v50Hz

多功能纳米压痕仪配件通过扫描材料表面实现对材料力学性能的纳米尺度的高精度测量，精确给出硬度，弹性模量，杨氏模量等材料力学性能。多功能纳米压痕仪配件特色最高位移测量能力可达300mkm, 最高负载科大100mN。实现静态压痕和动态压痕测量以及sclerometry测量具备原子力显微镜和纳米硬度测量仪的功能采用模块化设计，可广泛集成原子力显微镜，光学显微镜，激光干涉仪器等尖端材料表面测量仪器，为用户提供综合性材料微观力学测试方案。多功能纳米压痕仪配件选型4D紧凑型多功能纳米压痕仪4D紧凑型是全球结构最为紧凑小巧的纳米硬度测试仪，它采用纳米压痕法测量材料硬度和弹性模量（杨氏模量），负载高达2N,广泛用于材料力学性能测量研究。也非常适合大学或研究单位的纳米压痕仪测量硬度的教学或演示教学。4D标准型多功能纳米压痕仪4D标准型具有测量材料硬度，弹性模量和其它力学性能的功能。它采用静态和动态纳米压痕技术以及sclerometry方法测量材料性能。并且可以接触式或半接触式地测量材料表面形貌，采用光学显微镜高精度地对压头和样品进行精确互动性定位。多功能纳米压痕仪4D标准型还可以接入另外的传感器或测量模块，实现对材料表面进行其它测量。4D+增强型多功能纳米压痕仪4D+增强型配置是全球功能最多的多功能纳米硬度测量仪器。它具有纳米压痕仪和原子力显微镜的功能，具备了所有的物理和力学性能测量能力。它具有原子力显微镜测量模块，能够以纳米级分辨率研究压痕后留下的表面痕迹和图像，并能够全自动测量，可以批量处理分析测量结果。

GATTA-PAINT NANORULER纳米尺GATTA-PAINT系列的纳米尺是任何类型的基于定位的超分辨率显微镜的理想分辨尺。由于基于DNA PAINT技术的闪烁动力学机制，样品几乎没有光漂白。此外，包含三个发射点的设计可以获得非常引人注目的图像。我们为GATTA-PAINT纳米尺子提供40纳米和80纳米尺寸的标记距离。两种尺寸都有红色(ATTO 655)、绿色(ATTO 542)或黄色(ATTO 565)以及红色/绿色(ATTO 655和ATTO 542)或红色/黄色(ATTO 655和ATTO 565)可供选择。80nm纳米尺40nm 纳米尺80nm和40nm组合纳米尺

产品特点：GATTA-PAINT 系列纳米标尺是适用于各种定位技术的超高分辨显微镜的理想标尺。因为采用DNA PAINT技术实现亮暗转换，GATTA-PAINT 纳米标尺几乎不会淬灭。此外，标尺的设计中包含了三个荧光发射点，可以获取到醒目的图像。荧光标记间的距离有如下几个尺寸：20nm, 40nm, 80nm。每种距离都有如下几种颜色可供选购：红色（ATTO 647N），绿色（ATTO 542）或蓝色（Alexa Fluor 488），或者红/绿组合(ATTO 655/ ATTO 542)纳米标尺，AFM纳米标尺，原子力显微镜纳米标尺，共聚焦显微镜纳米标尺，超高分辨显微镜纳米标尺，SIM纳米标尺，STED纳米标尺，STORM纳米标尺，电镜纳米螺旋标尺，金纳米螺旋标尺，显微镜亮度灵敏度标尺，显微镜纳米标尺技术参数：

孚光精仪品牌的多功能纳米硬度计配件通过扫描材料表面实现对材料力学性能的纳米尺度的高精度测量，精确给出硬度，弹性模量，杨氏模量等材料力学性能。多功能纳米硬度计配件特色具备原子力显微镜和纳米压痕仪的功能实现静态压痕和动态压痕测量以及测量最高位移测量能力可达300mkm, 最高负载科大100mN。采用模块化设计，可广泛集成原子力显微镜，光学显微镜，激光干涉仪器等尖端材料表面测量仪器，为用户提供综合性材料微观力学测试方案。多功能纳米硬度计配件选型4D紧凑型纳米硬度计4D紧凑型是全球结构最为紧凑小巧的纳米硬度测试仪，它采用纳米压痕法测量材料硬度和弹性模量（杨氏模量），负载高达2N,广泛用于材料力学性能测量研究。也非常适合大学或研究单位的纳米压痕仪测量硬度的教学或演示教学。4D标准型纳米硬度计4D标准型具有测量材料硬度，弹性模量和其它力学性能的功能。它采用静态和动态纳米压痕技术以及sclerometry方法测量材料性能。并且可以接触式或半接触式地测量材料表面形貌，采用光学显微镜高精度地对压头和样品进行精确互动性定位。纳米硬度计4D标准型还可以接入另外的传感器或测量模块，实现对材料表面进行其它测量。4D+增强型纳米硬度计4D+增强型配置是全球功能最多的多功能纳米硬度测量仪器。它具有纳米压痕仪和原子力显微镜的功能，具备了所有的物理和力学性能测量能力。它具有原子力显微镜测量模块，能够以纳米级分辨率研究压痕后留下的表面痕迹和图像，并能够全自动测量，可以批量处理分析测量结果。

纳米升降台,纳米升降平台由中国领先的进口光学精密仪器旗舰型服务商-孚光精仪进口销售,精通光学，服务科学，先后为北京大学,中科院上海光机所,中国工程物理研究院,航天3院,哈工大,南开,山东大学等单位提供优质进口的纳米升降台,纳米升降平台,精密升降台。这款纳米升降台是美国进口的短行程的精密升降台,Elevator Stage,纳米升降平台特别适合竖直的Z轴应用，它具有极佳的上下定位功能，超高分辨率，超高重复精度和机械稳定性。产品特色：这款纳米升降台采用高密度交叉滚珠导向系统用于竖直导向，确保最大的稳定性。单立柱式的X滚珠导向系统提供了适度的高刚性，使得这款纳米定位台具有极小的滞后和相当大的承载能力。纳米升降台应用：这款纳米定位台比较适合对Z轴垂直升降精度较高要求的应用。比如，光学成像系统中焦平面的准直，半导体测试，视频测量等。纳米升降台参数行程：4mm驱动系统：无刷伺服-丝杆驱动最大速度：20mm/s最大负载；10kgTTL分辨率：100nm, 50nm, 25nm, 12.5nm, 10nm, 1nm重复精度：5x分辨率

GATTA-STED NANORULER作为第一种超分辨率显微镜技术，STED(受激辐射损耗技术）方法彻底改变了光学显微镜。有了GATTA-STED系列的纳米尺子，现在终于有了足够的校准探针。单色纳米尺子携带两个由高量子产率染料ATTO 647N密集排列而成的荧光标记。我们提供50纳米，70纳米，90纳米和120纳米尺寸的标记距离。此外，我们还提供了一种新的设计，包含两个不同荧光团的三个发射点，可以获得非常引人注目的图像。多色纳米尺有三个发射点，尺寸为140 nm (ATTO 647N和ATTO 594)。我们还可以根据您的要求设计特殊的解决方案。所有的纳米样品将在一个密封的玻璃载片上，你可以舒服地直接放在你的显微镜上。订购选单

上海屹持光电技术有限公司专业提供各种微纳结构加工服务典型案例： FIB加工微纳结构 紫外光刻微纳结构单晶硅反应离子刻蚀图片 ICP刻蚀微纳结构纳米压印点线图微流控细胞打印EBL 刻写微纳阵列FIB用于器件电极沉积激光直写图案激光直写器件微纳结构加工主要设备1，电子束曝光系统；2，聚焦离子束/ 扫描电子显微镜双束系统；3，双面对准接触式紫外光刻机；4，单面对准紫外光刻机；5，金属高密度等离子体刻蚀机；6，硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机；7，反应等离子体刻蚀机；8，纳米压印机。

纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒LIGHTSMYTH屹持光电提供各种纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒，为工业和科研提供低成本的纳米光子学研究。基板可用于光学、生物学、化学、物理学（例如中子散射）、聚合物研究、纳米压印、微流体等各种应用。如果需要，可以用金属或介电涂层涂覆基底。大多数表面特征具有略微梯形的横截面轮廓，具有直平行台面和沟槽。也可以使用格状结构。提供多种特征尺寸和沟槽深度。可以在发货之前拍摄基板的SEM图像以验证确切的轮廓。表中显示的尺寸代表目标值。周期的精度优于0.5％，而沟槽深度和线和空间的宽度可能与目标值相差15％。SEM用于说明目的。可定制更精确尺寸信息。纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒LIGHTSMYTH规格描述值基材宽度和高度公差标准公差±0.2 mm通光孔径（CA）距基板边缘0.5 mm（图案可延伸至基板边缘）基材厚度0.675±0.050mmCA表面质量P / N “-P”：60/40，最高20/10CA表面质量P / N “-S”：80/100CA外表面质量无要求材料单晶硅，反应离子蚀刻1、线性纳米棒（线+间隔）P/N周期（nm）凹槽深度（nm）工作周期1线宽度2（nm尺寸3（mm）SNS-C72-1212-50-P1395050％69.512.5×12.5×0.7SNS-C72-2525-50-P1395050％69.525×25×0.75SNS-C36-1212-110-P27811050％13912.5×12.5×0.7SNS-C24-1212-110-P416.611050％20812.5×12.5×0.7SNS-C20-0808-150-D45-P50015044％2208×8.3×0.7SNS-C20-0808-350-D45-P50035044％2208×8.3×0.7SNS-C20-0808-150-D60-P50015060％3008×8.3×0.7SNS-C20-0808-350-D60-P50035060％3008×8.3×0.7SNS-C18-2009-110-D50-P555.511050％27820×9×0.7SNS-C18-2009-140-D50-P555.514050％27820×9×0.7SNS-C18-2009-110-D29-P555.511029％15820×9×0.7SNS-C18-2009-140-D29-P555.514029％15820×9×0.7SNS-C16.7-0808-150-D45-P60015043％2608×8.3×0.7SNS-C16.7-0808-350-D45-P60035043％2608×8.3×0.7SNS-C16.7-0808-150-D55-P60015055％3308×8.3×0.7SNS-C16.7-0808-350-D55-P60035055％3308×8.3×0.7SNS-C16.5-2912-190-P60619050％30329×12×0.7SNS-C16.5-2912-190-S460619050％30329×12×0.7SNS-C16.5-2924-190-P60619050％30329×24.2×0.75SNS-C14.8-2410-170-P67517032％21824×10×0.7SNS-C14.8-2430-170-P67517032％21824×30.4×0.75SNS-C14.3-0808-150-D45-P70015047％3308×8.3×0.7SNS-C14.3-0808-350-D45-P70035047％3308×8.3×0.7SNS-C14.3-0808-150-D55-P70015055％3758×8.3×0.7SNS-C14.3-0808-150-D55-P70015055％3758×8.3×0.7SNS-C12-1212-200-P833.320050％41612.5×12.5×0.7SNS-C12-2525-200-P833.320050％41625×25×0.75SNS-C11.7-1212-200-P85520050％42812.5×12.5×0.7SNS-C11.7-2525-200-P85520050％42825×25×0.75纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒LIGHTSMYTH1 占空比表示线（台面）宽度与周期的比率。2 表示台面的宽度值。3 第二维对应于凹槽长度。4 以“-S”结尾的是“科研”等级。它至少有80％的可用面积。可能存在高达80/100表面质量值。5 可提供更大的自定义尺寸2、2D纳米图案（矩形和六边形网格）P/N周期（nm）格子类型凹槽深度特征宽度（nm）尺寸（mm）S2D-24B3-0808-150-P700矩形1502608×8.3×0.7S2D-24B3-0808-350-P700矩形3502608×8.3×0.7S2D-18B3-0808-150-P700矩形1503508×8.3×0.7S2D-18B3-0808-350-P700矩形3503508×8.3×0.7S2D-24C2-0808-150-P600六角1501658×8.3×0.7S2D-24C2-0808-350-P600六角3501658×8.3×0.7S2D-18C2-0808-150-P600六角1502408×8.3×0.7S2D-18C2-0808-350-P600六角3502408×8.3×0.7S2D-24C3-0808-150-P700六角1502208×8.3×0.7S2D-24C3-0808-350-P700六角3502208×8.3×0.7S2D-18C3-0808-150-P700六角1502908×8.3×0.7S2D-18C3-0808-350-P700六角3502908×8.3×0.7S2D-24D2-0808-150-P600六角孔1501808×8.3×0.7S2D-24D2-0808-350-P600六角孔3501808×8.3×0.7S2D-18D3-0808-150-P700六角孔1502008×8.3×0.7S2D-18D3-0808-350-P700六角孔3502008×8.3×0.7S2D-24D3-0808-150-P700六角孔1502908×8.3×0.7S2D-24D3-0808-350-P700六角孔3502908×8.3×0.7rect posthex posthex hole相关产品：脉冲压缩透射光栅高功率光束组合光谱衍射光栅光通信透射衍射光栅纳米单晶硅衬底2D线性纳米棒

产品特点：GATTA-SIM系列的纳米标尺可以用于检测您的SIM系统的分辨率。该纳米标尺带有两个荧光标记，这些荧光标记都是来自于密集排列的高量子效率的染料分子。两个荧光标记之间的距离固定，尺寸包括120nm，140nm和160nm。我们为您提供带有以下颜色的不同尺寸的纳米标尺，包括：红色（ATTO 647N），黄色（Alexa Fluor 568）或蓝色（Alexa Fluor 488）。纳米标尺，AFM纳米标尺，原子力显微镜纳米标尺，共聚焦显微镜纳米标尺，超高分辨显微镜纳米标尺，SIM纳米标尺，STED纳米标尺，STORM纳米标尺，电镜纳米螺旋标尺，金纳米螺旋标尺，显微镜亮度灵敏度标尺，显微镜纳米标尺技术参数：

SPIP软件目前支持多种仪器的96种格式数据文件Image Metroogy 由Dr.Jan Friis J rgensen于1998年创立。Image Metrology是一所以客户为导向，不断发展的公司。公司位于离丹麦首都哥本哈根不远的城市。Image Metrology的主要产品，SPIP是可视化、修正，分析以及SPM数据报告方面的软件包。此软件包被SPM数据研究分析人员奉为标准。SPIP对于扫描电镜以及透射电镜、共聚焦显微镜、光学轮廓仪以及干涉仪等的图像分析也是很强大的。SPIP软件图像研究机构，在高新科技研发以及高校研究所运用。SPIP是专业的纳米以及微尺度图像处理的高科技软件公司，目前产品被应用于60多个国家的各个主要研究机构。SPIP95文件格式支持各种仪表类型,包括:SPM、AFM、扫描隧道显微镜、SEM、TEM、干涉仪共焦显微镜和光学显微镜,分析器。SPIP是一个模块化软件包，可提供包含14个具有特定功能的模块。SPIP应用，主要应用包括半导体检验、物理、化学、生物学、计量和纳米技术等方面。SPIP 三维图像处理软件：多年来，SPIP扫描探针图像处理软件，已成为纳米尺度的图像处理的实质意义的标准。SPIP图像处理软件是一个模块化的软件包，提供一个基本的软件模块和14个可选的用于特定的目的软件附件。是一个资申用户或刚刚学习图像分析的入门新手，使用SPIP图像处理软件，您只需点击几下鼠标即可获得您需要的分析结果。SPIP图像分析软件被用于，包括半导体物理，化学，生物学检验，计量，纳米技术等各种领域。您可从我们客户应用的经历获知更多应用领域。SPIP图形分析软件亦被用于学术研究和论文出版。在SPIP网站您可以看到824篇使用SPIP进行图形分析的论文列表。SPIP软件目前支持多种仪器的96种格式数据文件。包括： 扫描探针显微镜（SPM），原子力显微镜（AFM），扫描隧道显微镜（STM） 扫描电子显微镜（SEM），透射电子显微镜（TEM） 干涉仪 共焦显微镜 三维轮廓仪RoughnessPro——轮廓粗糙度 使用RoughnessPro您可以根据ISO标准来评估个别剖面及剖面集合的轮廓粗糙度。RoughnessPro——三维图像缝合 topoStitch是表面形貌图像缝合的简单及准确的方法。您可以从原子力显微镜（AFM），扫描探针显微镜（SPM），干涉仪（Profilers,），共焦显微镜及其他更多的设备上进行三维图像及表面形貌缝合。

纳米位移平台,真空纳米位移台由中国领先的进口光学精密仪器旗舰型服务商-孚光精仪进口销售,先后为北京大学,中科院上海光机所,中国工程物理研究院,航天3院,哈工大,南开,山东大学等单位提供优质进口的纳米位移平台,真空纳米位移台,纳米位移台.这款纳米位移平台是美国进口的高速高精度真空纳米位移台,它采用先进技术设计, 具有单轴或精密的双轴配置两种选择, 适合高真空环境和非磁性定位应用.美国进口高精度低价格系列纳米定位台，采用了陶瓷伺服电机驱动，非常适合要求精度达到纳米或压纳米的高精度和高重复精度的应用，例如：精密生命科学仪器、显微成像、纳米准直、微纳加工、光学精确定位等。X-TRIM 系列纳米位移台特色 10nm分辨率非接触线性编码系统双驱动任选:线性伺服或压电驱动高密度滚珠传导增加稳定性超紧凑的单轴或双轴纳米位移台紧凑型封装可真空使用超强工作能力，大吞吐量采用无铁芯直接驱动直线电机,驱动轴位于纳米位移台的中心线, 这种设计消除了非中心驱动导致的偏航,空回等问题.纳米位移台集成了一个高分辨率(12.5nm)非接触式线性编码器,它为闭环的伺服系统工作操作提供了精密反馈, 它的标准配置就可以提供纳米精度的定位.纳米位移平台使用能够了精密的滚珠导向系统确保了位移平台高精度性能和严格的轨迹控制。纳米位移平台也适合OEM使用,它具有较低抛面和较小尺寸，采用模块化设计，用户可堆叠使用创建多轴多部件系统。这款纳米位移平台使用了非接触式直接驱动技术，提供坚固，精确，高速的定位，满足高频率大工作量的需要。纳米定位平台使用了先进的无铁直线电机直接确定技术，确保最优异的纳米级定位性能。这款纳米定位台提供了高速度，高精度，高分辨率，高性能的卓越表现。它与传统的丝杠驱动或压电驱动相比，具有更大的工作效率和吞吐量。参数行程(mm): 25和50mm(单轴或双轴)驱动系统: 无铁芯直线电机或陶瓷伺服电机最大加速度: 由负载决定最大速度: 200mm/s (无负载时)最大推力: 24N最大负载: 2Kg精度: +/-1um/25mmTTL分辨率: 1-100nm/脉冲构造材料: 铝合金主体, 灰色氧化镀膜重复精度: 5倍精度XT 25XT 50XT 2525XT 5050Travel Length (mm)25 mm50 mm25 x 25 mm50x 50 mmTrajectory ControlAccuracyLinear Encoder± 1.0 &mu m± 2.0 &mu m± 2.0 &mu m± 4.0 &mu mStraightness/Flatness± 1.0 &mu m± 1.0 &mu m± 2.0 &mu m± 2.0 &mu mYaw/Pitch/Roll5 arc-sec5 arc-sec10 arc-sec10 arc-sec2 axis systemOrthogonalityStandard GradeNANA5 arc-sec5 arc-secHigh PrecisionNANA2 arc-sec2 arc-secExtra High PrecisionNANA1 arc-sec1 arc-sec

英诺色谱现提供新型的Polymicro纳米石英毛细管，实现了传统产品一微米尺寸上的突破。 Polymicros的纳米毛细管产品线中管路内径（ID）范围为200至1,000 纳米（0.2至1.0微米）。传统的毛细管产品内径不小于1微米。在纳米毛细管开发之前，对于科学、工业以及医疗界来说，小于 1 微米直径基板的主要选择包括湿式蚀刻或离子铣，这两种技术的成本都极为高昂，相对来说难以采用。 Polymicro的毛细管建立在行业领先的功能之上，在小于1微米的尺寸内可以实现高性价比的高性能毛细管产品。这类毛细管已被证实可作为封装完整性和泄漏试验的基板，还具有单分子研究和分析的潜力。通过SEM验证可以确保对直径的控制。 合成熔融石英具有镜面般光滑的内表面，可实现液体和气体的稳定流动。材料的金属离子含量较低，使内表面产生惰性，便于有效的断裂或切割操作，达到定制的管路长度。此外，管路外部的聚酰亚胺涂层在搬运和使用过程中具有出色的的耐磨性，使管路可用于-65oC至+350oC的温度。 有关科学应用包括分析化学、层析技术、纳米流体力学、直接进样口监控、基于倏逝波吸收的传感，以及同轴光学和射流元件。工业应用则包括管壳泄漏试验、蒸发冷却系统、石油分析以及催化研究。医疗应用包括药物递送、流量控制系统、临床和诊断设备，以及可穿戴式药物递送设备。零件号产品号内径*(nm)外径(μm)涂层厚度(μm)每卷最大包装(m)1068150033TSP000.2375NC200 +200/-100363 ± 1020101068150035TSP000.6375NC600 ± 200363 ± 1020101068150037TSP001.0375NC1000 ± 500363 ± 102010*以线盘标签上标识的实际内径测量尺寸为准。

钙离子成像系统配件是测量显微镜下的生物样本中荧光强度的变化仪器高速钙成像系统,兼具高灵敏度和高速度的优势钙离子成像系统配件有单探测器和双探测器两种配置，分别对应于单发射和双发射实验，并且为比例测量提供特殊的双激发模式。钙成像系统特别适合： 测量或双发射实验 高灵敏度或高速实验 FRET测 无缝对接荧光和电生理学的实验是测量荧光强度变化的高速钙成像系统，可用于钙离子浓度测,钙离子成像.钙离子成像系统配件基本配置包括可编程控制光源(用于安装到显微镜上)取景器（用于选择测量区域）荧光探测器（基于光电二极管技术）控制单元（具有信号处理功能）对于采集速度大于1KHz的实验，可使用光电倍增管替代光电二极管以满足高速测量的要求，但是这仅适用于单发射钙离子成像系统配件配置方案单通道荧光测光系统配置光源（多色光源rome V）取景器（配带相机和显示器）取景器显微镜适配器探测器配带控制单元一个或多个双发射滤波片立方体一个或多个双发滤波片组件钙离子成像系统配件特色取景器控制测量区域测量区域的大小和位置可通过取景器的视场自由定位视频可视化调节测量区域同时进行样品荧光测量和红光可视化测量区域重叠显示在样品的发射图像上光电二极管探测---高灵敏度且承受过度曝光具有超高灵敏度和极低噪音，量子效率高达97％耐用不怕过度曝光最大采集速率高达1KHz，使用光电倍增管可获得更高的速度控制单元带有荧光探测模块---简化数据采集钙离子成像系统配件应用 测量分子内离子浓度（钙离子，镁离子，钾离子，PH等）FR ET测量单波长染料不需要空间分辨率的所有荧光测量

LightSmyth提供了大量的纳米加工单晶硅衬底，为工业和学术机构提供了一个低成本的纳米光子学研究入口。基底可用于光学、光子学、生物学、化学、物理学（如中子散射）、聚合物研究、纳米印迹、微流体学等领域。如果需要，基板可以涂上金属或介质涂层。大多数地表特征具有略微梯形的横截面轮廓，具有直线平行的台地和沟渠。晶格状结构也可用。提供了许多特征尺寸和沟槽深度。基板的扫描电镜图像可以在装运前拍摄，以验证准确的轮廓。产品特点Nanopatterned Silicon StampsII-VI offers a large variety of nanomachined single crystal silicon substrates providing a low-cost entry into nanophotonics research for industry and academic institutions. The substrates may be used in a variety of applications in optics, photonics, biology, chemistry, physics (e.g. neutron scattering), polymer research, nanoimprinting, microfluidics and others. If desired, the substrates can be coated with metallic or dielectric coating. Most of the surface features have slightly trapezoidal cross-section profiles with straight parallel mesas and trenches. Lattice-like structures are available as well. A number of feature sizes and trench depth is available. SEM images of the substrates may be taken prior to shipment to verify the exact profile.Dimensions shown in the table represent target value. Period has accuracy better than 0.5% while groove depth and the width of line and space may differ from the target values by 15%. SEM are given for illustration purposes. If more precise dimensional information is required, we may provide an SEM of the specific piece of nanostamp you order as an optional service通用参数(LightSmyth Nanopatterned Silicon Stamps 纳米图案硅片)描述数据基材宽度高度误差标准公差±0.2 mm净孔径（CA）距基板边缘0.5 mm（图案可延伸至基板边缘）基底厚度0.675 ± 0.050 mmCA的表面质量P／N以“p”结尾：划痕/挖：最大划痕宽度，最大最大直径。可提供高达20/10的规格CA的表面质量P/N以“-S”结尾：由于表面质量而打折的等级。至少有80%的可用面积。可能出现80/100划痕/挖痕/颗粒和不规则基底形状CA外表面质量无要求Material材料单晶硅，反应离子刻蚀2D NanostampsPart Number周期Period(nm)晶体类型Lattice Type槽深Groove Depth(nm)特征宽度Feature Width(nm)Size(mm)S2D-18B2-0808-350-P600Rect Post3502758.0 x 8.3S2D-18B3-0808-350-P700Rect Post3503508.0 x 8.3S2D-18C2-0808-350-P600Hex Post3502408.0 x 8.3S2D-18C3-0808-150-P700Hex Post1502908.0 x 8.3S2D-18C3-0808-350-P700Hex Post3502908.0 x 8.3S2D-18D3-0808-350-P700Hex Hole3502008.0 x 8.3S2D-24B2-0808-150-P600Rect Post 1501958.0 x 8.3S2D-24B2-0808-350-P600Rect Post 3501958.0 x 8.3S2D-24B3-0808-150-P700Rect Post 1502608.0 x 8.3S2D-24B3-0808-350-P700Rect Post 3502608.0 x 8.3S2D-24C2-0808-150-P600Hex Post1501658.0 x 8.3S2D-24C2-0808-350-P600Hex Post3501658.0 x 8.3S2D-24C3-0808-150-P700Hex Post1502208.0 x 8.3S2D-24D2-0808-150-P600Hex Hole1501808.0 x 8.3S2D-24D2-0808-350-P600Hex Hole3501808.0 x 8.3S2D-24D3-0808-150-P700Hex Hole1502908.0 x 8.3S2D-24D3-0808-350-P700Hex Hole3502908.0 x 8.3

Kleindiek纳米操纵仪配件是为外部电子显微学制备样品而设计的超精密样品拾取装卸系统，它在纳米尺度灵活微操纵样品。Kleindiek纳米操纵仪配件安装安装有一根微夹钳，一个四轴辅台，在表面有一个允许快速接近的小型CCD摄像头。Kleindiek纳米操纵仪是由安装在一个超小型平台上的一个四轴辅台构成。在辅台上安装了一个微夹钳，促进提取。操作该辅台将预切样品放置在微夹钳下。在这之后，微夹钳夹住样品并轻轻地固定住样品，固定要足够牢固，只要使辅台向旁边下落，就可以将样品从大量材料提取出。一旦分离，在TEM网格上，将样品与SEM兼容胶水接触，并且用离子束固化。Kleindiek纳米操纵仪配件规格：取样室兼容平台上的辅台最大样品尺寸：30mm行程：X和Y =10mm行程：Z轴为3mm行程：R =360°（无限）速度：可达1mm/秒分辨率：笛卡尔运动没有反弹或翻转是大多数SEM和FIB工具的简单取样室装置几乎不受震动影响微夹钳运输和组装微型物体的高分辨率夹持器抓握区域：（5至10 μm）分辨率：20nm夹持力：5至5000μN（变量）最大跨度范围：20?40 μmSemCam样品表层的小相机允许快速接近包括显示器和LED照明

更快更成熟的培养细胞和组织纳米仿生拓扑结构培养皿建构培养细胞和组织，以提高生理相关性。 与在常规培养皿中培养的细胞相比，在纳米仿生培养皿中培养的细胞表现出增强的结构和表型发育。纳米仿生地形诱导细胞骨架重组和细胞对齐。 NanoSurface仿生培养皿沿用标准的应用于高质量成像的1.5号玻璃底。单皿 35mm Ø dish (20mm Ø pattern area)6孔板 35mm Ø wells (20mm Ø pattern area)24孔板 20mm Ø wells (full well area patterned)96孔板 5mm Ø wells (full well area patterned)No. 1.5 玻片NanoSurface纳米仿生拓扑培养皿快速建构和成熟以下众多细胞类型。骨骼肌细胞平滑肌细胞内皮细胞人类胚胎干细胞诱导多功能干细胞间充质干细胞成纤维细胞上皮细胞癌细胞如果没有仿生表面形貌，心肌细胞在常规培养表面上呈现随机取向，紊乱的收缩模式和不成熟的功能表型。仿生纳米级表面形貌模仿天然细胞外基质的对齐结构。纳米表面拓扑图案培养表面提供模拟天然细胞外基质的排列结构的细胞微环境，促进细胞结构和功能发育原生心肌的基础基质具有对齐的结构 (标尺 10 µ m)。

更快更成熟的培养细胞和组织纳米仿生拓扑结构培养皿建构培养细胞和组织，以提高生理相关性。 与在常规培养皿中培养的细胞相比，在纳米仿生培养皿中培养的细胞表现出增强的结构和表型发育。纳米仿生地形诱导细胞骨架重组和细胞对齐。 NanoSurface仿生培养皿沿用标准的应用于高质量成像的1.5号玻璃底。单皿 35mm Ø dish (20mm Ø pattern area)6孔板 35mm Ø wells (20mm Ø pattern area)24孔板 20mm Ø wells (full well area patterned)96孔板 5mm Ø wells (full well area patterned)No. 1.5 玻片NanoSurface纳米仿生拓扑培养皿快速建构和成熟以下众多细胞类型。骨骼肌细胞平滑肌细胞内皮细胞人类胚胎干细胞诱导多功能干细胞间充质干细胞成纤维细胞上皮细胞癌细胞如果没有仿生表面形貌，心肌细胞在常规培养表面上呈现随机取向，紊乱的收缩模式和不成熟的功能表型。仿生纳米级表面形貌模仿天然细胞外基质的对齐结构。纳米表面拓扑图案培养表面提供模拟天然细胞外基质的排列结构的细胞微环境，促进细胞结构和功能发育原生心肌的基础基质具有对齐的结构 (标尺 10 µ m)。

透射电镜CCD图像系统,从128万像素到1350万像素的像机供用户 选择。所有相机均采用电制冷以降低热噪声，提高信噪比。与同类 相机相比图像读取速度快、图像明锐清晰。特殊设计的光学系统 使相机具有紧凑的结构和极小的体积，能适合于绝大部分透射电 镜侧装和底装。光学系统的高分辨率和锐度（MTF）以及高光通量 （F1.4）是系统高性能的基础。相机具有抗邻近像素溢出（antiblooming） 的硬件设计，能消除个别特亮点在某些相机中易引起 的电子饱和溢出，同时YAG单晶荧光屏耐电子束轰击，为材料的衍 射图形观察和记录提供方便的手段。 特点: ◇ 最高可达 13.5 百万像素 ◇ 良好的图像对比度 ◇ 高灵敏度,皮尔特电制冷 ◇ 大视场 ◇ 高效简洁的系统设计 ◇ 快速读出电路 ◇ 抗邻近像素溢出 ◇ 根据加速电压优化的闪烁体ZJKY-2000 提供两种TEM接口 侧装接口(主镜筒两侧): 侧装 最大的优点是采集的图像有 很大的视场，但放大倍数较 低。 底装接口(电镜底部): 视场较 小。适合于希望有较高的放 大倍数的场所。底装后的放 大倍数会因电镜镜筒长度不 同而有差别，介于1 . 2倍至 2.0倍之间。

碳具有 的特性： 按照质量，碳是宇宙中第4丰富的元素，也是 化学活性的元素之一。碳不仅能与其他元素结合，而且可与自身结合，形成最坚硬的金刚石和最软的石墨。碳还是有机化学和所有已知生命的根基。碳有几乎无限的应用。近年来，包括石墨烯（碳的二维形式）和单壁碳纳米管（主要为柱状石墨烯）在内的形态表现出非凡的属性，鼓舞着世界各地的科学家寻找各种用途。与石墨烯一样，单壁碳纳米管的属性充满前途，甚至有可能改变全球产业的面貌。与石墨烯不同的是，2014 年开始就有大量单壁碳纳米管在全球范围内供货。TUBALL由单壁碳纳米管构成，“成品”杂质含量极低（SWCNT含量≥75％），且在大多数应用中无需进一步的纯化。TUBALL具有独特的物理属性，可提高大多数材料的强度、导电性和/或导热性，包括聚合物复合材料、橡胶、金属和许多其他材料。与多壁碳纳米管、碳纤维和大多数类型的碳黑不同，TUBALL在添加 0.001％-0.1％ 的重量后即可显著改善材料属性。产品特点：填料重量含量达到 0.001％ 时开始展现功效同时提高材料属性（机械强度、导电性和导热性）各种潜在应用： 聚合物复合材料、橡胶、金属和许多其他材料高质量的SWCNT含量（数量 ≥ 75％，G/D大于50）无定形碳含量小（低于 1％）铁 (Fe) 催化剂颗粒包封在碳外壳中在大多数应用中，无需对生产过程做任何额外更改市场价格比具有同类质量和属性的所有其他产品低50倍技术参数规格计量单位数值评价方法碳含量wt.%85TGA, EDXCNTwt.%≥75TEM, TGA碳纳米管的层数单位1-2TEM碳纳米管的平均外径nm1.8±0.4拉曼光谱, TEMCNT长度um5AFM金属杂质wt.%EDX, TGA根据特定客户的要求，可对任何所需数量的TUBALL进一步纯化与功能化，从而达到以下规格：

仪器简介： 德国Linos工业镜头，包括激光系统镜头，机器视觉镜头等工业光学部件，秉承德国设计严谨、工艺精湛的工业产品特点产品及业务:大幅照相机镜头专业数码相机镜头专业摄影滤镜非球面的镜片放大机及打印机镜头技术参数： 德国著名的光学产品制造商，其著名的Rodenstock镜头在德国以及世界机器视觉领域，堪与蔡司和施耐德比肩。德国Linos工业镜头，包括激光系统镜头，机器视觉镜头等工业光学部件，秉承德国设计严谨、工艺精湛的工业产品特点。德国LINOS公司是活跃于全球的精密光学仪器制造商，市场涉及激光、照相洗印服务、测量技术、医学、生物工程及半导体等方面的应用。世界闻名的Rodenstock普通镜头及放大镜头是LINOS公司图像处理市场的重磅产品。几十年的丰富经验以及最前沿的技术知识，充分满足了现代化的数码设备对镜头的高度要求。Rodenstock普通镜头（如Sironar系列和Grandagon系列）和Rodenstock放大镜头（如Apo-Rodagon系列和Rodagon系列）因其杰出的成像性能而世界驰名。德国Linos Photonics公司以其丰富多样的光学系统而闻名世界。其远心式合成材料透镜，即F-Theta透镜，适用于激光标刻、 专门用于小型、快速扫描头的新型物镜，同时在725 nm至1050 nm范围内近红外线的新型激光扩径系统上也可适用该透镜。激光扫描 F-&theta 透镜，扩束镜,适合波长1064nm,532nm,355nm,266nm等

仪器简介：德国Linos工业镜头，包括激光系统镜头，机器视觉镜头等工业光学部件，秉承德国设计严谨、工艺精湛的工业产品特点产品及业务:大幅照相机镜头专业数码相机镜头专业摄影滤镜非球面的镜片放大机及打印机镜头技术参数：德国著名的光学产品制造商，其著名的Rodenstock镜头在德国以及世界机器视觉领域，堪与蔡司和施耐德比肩。德国Linos工业镜头，包括激光系统镜头，机器视觉镜头等工业光学部件，秉承德国设计严谨、工艺精湛的工业产品特点。德国LINOS公司是活跃于全球的精密光学仪器制造商，市场涉及激光、照相洗印服务、测量技术、医学、生物工程及半导体等方面的应用。世界闻名的Rodenstock普通镜头及放大镜头是LINOS公司图像处理市场的重磅产品。几十年的丰富经验以及最前沿的技术知识，充分满足了现代化的数码设备对镜头的高度要求。Rodenstock普通镜头（如Sironar系列和Grandagon系列）和Rodenstock放大镜头（如Apo-Rodagon系列和Rodagon系列）因其杰出的成像性能而世界驰名。德国Linos Photonics公司以其丰富多样的光学系统而闻名世界。其远心式合成材料透镜，即F-Theta透镜，适用于激光标刻、 专门用于小型、快速扫描头的新型物镜，同时在725 nm至1050 nm范围内近红外线的新型激光扩径系统上也可适用该透镜。激光扫描 F-&theta 透镜，扩束镜,适合波长1064nm,532nm,355nm,266nm等

Made in UK, 英国EM Resist Ltd出品的光刻胶（1%-17% PMMA、SML系列电子束曝光阻剂），PMMA是常用的普通正阻剂；SML系列阻剂是高分辨率高深宽比的正阻剂。高档的SML正阻剂特点：无需邻近效应校正，低加速电压下也能使用，可提高EBL设备能力并制作出传统PMMA做不出来的新颖微纳器件，特别适合科研应用；有SML50、SML100、SML300、SML600、SML1000、SML2000等系列型号（数字表示光刻胶涂布厚度）。[资料]PMMA (Polymethyl – Methacrylate；聚甲基丙烯酸甲酯；positive tone, polymer chain scission type for Electron beam, DUV, x-ray and multi-level lithography) is a widely used, versatile resist that is used for many imaging (and non-imaging) micro-electronic applications as well as a protective coating for wafer thinning, a bonding adhesive and as a sacrificial layer, but is commonly used as a high resolution positive resist for direct write with e-beam. EM Resist Ltd specialises in electron beam lithography resists and applications. We develop and manufacture electron beam resists in a purpose built clean-room facility to ensure maximum quality and performance.Our products and expertise are the result of many years research by experienced physicists and material scientists in both academia and industry. EM Resist products are provided in a clean room compatible box, if you need Material Safety Data Sheets, Process Information, Example design files and other useful information, please contact with our Chinese Distributor(www.tansi.com.cn).PMMA Product Options. First,select which solvent(Anisole or Chlorobenzene) best suits your application. Second,select which solid percentage(1%-17%, 20nm-3500nm) of thickness required.Third,choose a volume to suit your usage needs.

COSMOSIL CNT 碳纳米管分离特殊色谱柱 09195-71?COSMOSIL CNT 系列色谱柱是理想的基于纳米管尺寸大小而分离的色谱柱。COSMOSIL CNT系列色谱柱填充了亲水基团键合硅胶填料。色谱柱的设计可以避免碳纳米管被硅胶媳妇，并且保证最大的分离能力和回收率。COSMOSIL CNT系列色谱柱有3种不同的孔径可供选择，分别为 300 ?, 1000 ? and 2000 ?。填料特性应用数据● 碳纳米管COSMOSIL CNT 色谱柱通过串联3只不同孔径填料色谱柱，对DNA缠绕碳纳米管提供了出色的分离性能。订购信息● 分析柱 (粒径 5 μm)COSMOSIL CNT-300 色谱柱色谱柱尺寸 内径 x 长度 (mm)货号7.5×30009195-71COSMOSIL CNT-300 保护柱色谱柱尺寸 内径 x 长度 (mm)货号7.5×5009194-81COSMOSIL CNT-1000 色谱柱色谱柱尺寸 内径 x 长度 (mm)货号7.5×30009197-51COSMOSIL CNT-1000 保护柱色谱柱尺寸 内径 x 长度 (mm)货号7.5×5009196-61COSMOSIL CNT-2000 色谱柱色谱柱尺寸 内径 x 长度 (mm)货号7.5×30009199-31COSMOSIL CNT-2000 保护柱色谱柱尺寸 内径 x 长度 (mm)货号7.5×5009198-41

飞秒激光微加工系统配件是美国制造商专业为大学和研究机构而研发的世界级领先产品，具有超高的精度和灵活性和多功能性，非常适合实验室多通途飞秒激光科学研究和微加工研究。我们专注于超快激光的研究和应用，在全球率先开发出成熟的飞秒激光微细加工系统配件，使得超快激光技术在实验室中成熟，并成功用于工业生产，专业为科研机构的实验室而设计，配备高达纳米精度和分辨率的线性定位平台，配备超高性能的扫描振镜以及多功能的控制软件。 我们提供的参数配置是激光脉宽科研级微加工系统满足了科研人员的诸多应用，它可以直接安装到光学平台上，大大节省实验时间，并能够快速培训新操作人员。是科研机构进行激光微加工实验的不二选择。 这套系统是各种研究所进行激光微加工实验的理想选择。我们经验丰富的工程师可以与国内广大研究所合作，把我们的经验和知识与您共享，为您提供优质的用户定制化服务和产品。提供的系统搭建服务：1）提供精密的用户定制化的目标定位系统，还可以提供软件。2）对飞秒激光器和定位系统进行集成和同步控制3）提供用户友好界面的软件用于各种激光扫描和定位系统。为工业/科研用户提供的定制化服务：1）为广大客户提供用户定制化的飞秒激光微加工解决方案2）如果您已经有飞秒激光器，我们可以为您提供自动化控制和同步控制以及精密定位等服务。飞秒激光微细加工系统配件特色：*高速微加工*亚微米分辨率处理高度复杂样品*飞秒微加工模式对加工区的热影响最小化* 纳米精度的定位* 精密激光束传导系统* 非常方便改变激光参数* 软件控制所有的硬件 飞飞秒激光微加工系统软件控制功能：* 控制XYZ定位平台*控制扫描振镜* 控制激光参数* 控制机械视图* 偏振态* 控制激光在工作区的功率应用* 表面微结构加工，微纳结构加工，微结构构造，微纳结构构造；* 透明材料的折射率改变；* 太阳能面板加工；* 2.5D铣销加工* 三维多光子聚合 * 光致刻蚀；* 激光划线飞秒激光加工案例参考 强劲优势：* 高达4倍频的4种波长激光光源* 改变聚焦光学器件* 定位聚焦光束× 自动聚焦光束到样品表面* 自动确认样品的倾斜程度* 对加工过程进行成像监控

该标样是在Si基底表面附着粒径均 一，分散性良好的纳米金颗粒。适 用于SEM、FESEM和FIB/SEM系统的分 辨率测试。该标样有两种规格： CP680 粒径30nm，适用高分辨； CP681 粒径15nm，适用超高分辨 率辨。