微波生物陶瓷烧结炉

该系类产品通过纯微波加热、传统电加热、两者混合加热三种加热功能集成合一。可实现金属试验材料在内的热压烧结，短时升温速率可达1000℃该系列产品解决了防微波泄漏、防微波干扰、精确测温及快速降温等关键技术难题。http://www.chinesevacuum.com/ShowArticle.aspx?id=50601 新成立的巨源微波仪器公司是主要从事实验室级和工业级微波能加热仪器研发、制造和销售高科技企业，推出了微波材料学工作站等一些列微波加热产品，申报了多项国家发明专利，在国际上率先提出了“微波材料学”“混合加热、~传统电加热、微波加热”“微波材料学工作站”等一系列新概念。目前，微波能真空系列热压烧结炉系列产品已进入70多家高校实验室，企业具备年产2000台的生产能力。

滨州创元设备机械制造有限公司全权代理的日本著名高端研究设备生产厂家富士电波公司的新型SPS-211Lx烧结炉近期在盐城工学院投标中标.已经签定技术协议.正在签定外贸易合同. 20-400KN双电源单体化动态金属热模拟装置静态全自动相变仪 formastor-FII/薄板全自动相变仪 formastor-Ft微波加热金属纳米粉末装置高频真空感应融化炉高频感应熔化炉高温摩擦磨损试验装置滚动高温摩擦试验装置实物透平机叶片热应力疲劳试验研究装置薄板热处理模拟装置,线材热处理模拟装置全自动精密热循环模拟装置快速加热/冷却热循环模拟装置表面融化/快速焊接装置高温真空滚焊装置扩散焊接装置磁悬浮熔化装置水平方向区域熔化精炼装置垂直方向区域熔化精炼装置半融化型短纤维增强金属炉超细粉装置双辊型非晶金属制做装置单辊型非晶金属制做装置以上业务主要由该富士电波公司第2事业部负责.随着公司业务发展,该公司于2011年收购了日本最早开始SPS烧结装置研究生产的住友SPS系统公司.弥补了富士电波公司在陶瓷领域高端研究设备的不足.受柳桥社长的委托,创元公司除了代理上述富士电波公司第2事业部产品以外,也自然成为该公司SPS 事业部的中国代理.经过1年多努力,终于成功中标盐城工学院材料系.新型SPS-211Lx烧结炉主要是针对科研院校而开发的研究型烧结装置.取名为Dr.Sinter.Lab,Jr Spark Plasma Sintering System.从其命名即可知道它特别适合作为高校研究所的实验设备.它性能高而稳定,再现性好,体积小,耗电少,重量轻,价格合理,价格已经接近中国国产同类产品价格.一经推出深受国内外同行青睐.相信该装置将风靡中国.将成为中国新材料研发,尤其是纳米材料烧结,梯度材料烧结,非真空烧结,各种复合材料烧结等领域不可缺少的研究设备.其主要构成和技术参数如下设备主要构成 烧结主机烧结用DC脉冲电源真空系统烧结操作和控制系统设备主要技术指标 最高温度 2500℃升温速度 1-500℃/分,但是对不同温度区间和不同烧结体尺寸,数值有所不同最大压力 20kN最大功率 28kVA此外,该公司还可以提供更大吨位的SPS设备,如50KN的SPS-511S, SPS-515S100KN的SPS-615,SPS-625200KN的SPS-3.20MK-Ⅳ250KN的SPS-725,SPS-825,SPS-925500KN的SPS-5.40MK-Ⅳ1MN的SPS-7.40MKⅣ1.5MN的SPS-8.40MK VII3MN的SPS-9.40MK-VIII5MN的SPS-10.40MK-VIII最近还可以提供优生产型的Sinter Expert SPS 30300T.已经成功用于生产.详细请参阅附件1. 最新SPS-211Lx彩页 2 SPS综合彩页

为广泛征求用户的意见和需求，了解中国科学仪器市场的实际情况和仪器应用情况，仪器信息网自2008年6月1日开始，对不同行业有代表性的“100家实验室”进行走访参观。近日，仪器信息网工作人员参观访问了本次活动的第四十六站：清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室(以下简称：陶瓷实验室)。　　清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室是国家教育部系统唯一从事高性能陶瓷材料领域科学研究与人才培养工作的国家重点实验室。在清华大学无机非金属材料重点学科的基础上，1988年陶瓷实验室被列为世行贷款重点学科发展项目，1991年正式批准建设，1995年11月通过国家验收对外开放。清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室　　陶瓷实验室主任潘伟教授介绍到：“陶瓷实验室位于清华大学逸夫技术科学馆二段内。实验室现有固定科研人员42人，其中中国工程院院士2名，中国科学院院士1名，博士生导师25人，杰出青年基金获得者7人，长江学者4人，新世纪优秀人才支持计划获得者2人。” 实验室还分别于2005年和2006年获得国家教育部创新团队和国家自然科学基金委创新研究群体科学基金支持。　　“陶瓷实验室以高温结构陶瓷、信息功能陶瓷、陶瓷基复合材料、能源环境材和生物陶瓷等作为主要研究方向，属于应用基础研究类型的国家重点实验室，主要瞄准陶瓷新材料领域的科学发展前沿和国民经济、社会发展中的重大需求，进行集中研究。”　　目前，陶瓷实验室主要承担国家973、863、国家自然科学基金等国家部委重大、重点项目，以及国际合作和横向项目等。特别值得一提的是，陶瓷实验室在铁电压电陶瓷材料、结构陶瓷材料的增强增韧机理、陶瓷胶态成型技术、陶瓷基复合材料结构设计等基础研究方面，取得了国际高水平的科研成果。　　陶瓷实验室占地约6000m2，有各种功能齐全、水平先进的大型工艺装备和实验仪器86台(套)，总价值10000万余元，如高分辨透射电子显微镜、扫描电子显微镜、原子力显微镜、激光共聚焦显微镜、高温显微镜、X射线衍射仪、DSC/TG分析仪、激光共聚焦拉曼光谱分析仪、频谱和介温谱自动测试系统、电滞回线测试装置，高温力学测试机、颗粒分布自动分析仪、高温综合热分析仪、高温导热系数测试仪、高温力学性能测试系统、放电等离子烧结炉、气压烧结炉和多功能高温烧结炉等。安捷伦B1505A功率器件分析仪/曲线追踪仪 (对材料进行特性分析，使其达到效能与安全需求) HORIBA JY公司LabRAM HR型号高性能拉曼光谱仪(通过拉曼光谱对材料进行定性、定量分析以及结构分析)日本岛津S7000型X射线衍射仪(主要功能：物相分析/1200℃以下的相变分析/残余应力分析/纤维取向分析/薄膜样品分析)日本岛津SSX-550扫描电子显微镜(SEM)(主要用于进行各类物体的显微形貌分析、微区成份分析及显微组织结构分析) 德国耐驰DSC/TG分析仪(主要用于真空条件下的差热实验和热失重实验，测试陶瓷材料的收缩曲线及膨胀系数)德国FRITSCH A22激光粒度仪 (适用于金属氧化物、陶瓷、粘土、催化剂以及其他无机材料颗粒的粒度分布特性测试。) 美国布鲁克海文ZETAPLUS0 Zeta电位仪(适用于Zeta电位和粒度的测试，用来表征胶体体系稳定性和颗粒表面带电性能的重要参数。)　　此外，陶瓷实验室还设精细陶瓷分室(在清华大学核研院)，占地2500m2，现有在编人员20人。该分室两次被评为一级实验室，也是北京高技术实验室。在开展生物陶瓷、纳米陶瓷、超细粉体、精细陶瓷及无损评价上取得出了明显成果，其中获得部级一、二、三等奖九项。建成了三个中试中心，包括超细粉体、精细陶瓷部件及生物陶瓷制品研究中心，还与美国企业建立了生物功能材料中心。　　通过了解，陶瓷实验室在进行基础和应用基础研究的同时，也十分注重科技成果的转化以及产业化工作。　　(1)在新型陶瓷的制备技术，信息功能陶瓷元器件等领域成功进行了应用转化。利用陶瓷胶态成型新工艺成果建立了陶瓷胶态(注射)成型中试基地，研制成功具有自主知识产权的工艺装备，开发了造纸机全陶瓷脱水元件、高功率金红石陶瓷电容器、超大功率新型复合陶瓷臭氧发生器薄壁管、高性能陶瓷系列微珠等产品。在河北邯郸高新技术产业开发区建立陶瓷胶态注射成型成果转化和规模化生产基地，占地166亩，现已建成近万平米的生产车间和年产5000吨陶瓷微珠生产线，预计实现年产值2亿元。　　(2)在功能陶瓷领域进展显著，所研制的高性能铁电压电陶瓷材料，其成果已在广东风华公司和深圳宇阳公司等片式元件产业化基地实现了成果转化，取得了显著经济与社会效益。另外，高性能低烧多层陶瓷压电变压器及背光电源已在西安康鸿公司实现产业化，这一具有自主知识产权的创新性成果在国家有关部委及国家863计划的支持下，在西安建立了具有国际先进水平的片式压电陶瓷变压器和多层压电陶瓷驱动器的研发与产业化基地，对推动西部经济建设发挥了重要作用。陶瓷实验室依托单位-清华大学材料系所获奖项　　附录1：清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室　　http://www.mse.tsinghua.edu.cn/ceramiclab/index.htm　　附录2：潘伟教授简介　　潘伟，清华大学教授，博士生导师。1987年在日本名古屋大学获工学硕士学位，1990年在日本名古屋大学获工学博士学位。1990～1991年在日本神户制钢公司钢铁技术研究所工作。1991年回国工作，至今在清华大学材料科学与工程系目前在新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室工作。先后担任材料科学与工程系党委副书记，副系主任，系主任，系教学委员会主任。现任清华大学材料科学与工程系党委书记，新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室主任，清华大学教代会提案委员会主任委员，清华大学学位委员会委员，材料科学与工程学位分委员会主席。　　兼任中国硅酸盐学会常务理事，中国硅酸盐学会特种陶瓷分会常务副理事长兼秘书长，中国复合材料学会理事，《硅酸盐通报》、《复合材料学报》、《无机材料学报》、《过程工程学报》、“Journal of The Ceramic Society of Japan”、“Composites Science and Technology”等杂志编委。　　近期主要研究：高温陶瓷热障涂层材料、透明陶瓷材料、可加工陶瓷复合材料、有机无机功能复合材料、陶瓷微波烧结、梯度功能陶瓷材料，陶瓷生物仿生,纳米复合陶瓷材料，纳米功能纤维及敏感器件等研究。并从事《材料化学》和《材料合成热力学》的教学工作。先后负责多项国家自然科学基金以及国家“863”课题研究。　　获得清华大学学术新人奖励，北京市科学技术二等奖，国务院政府特殊津贴，获得授权发明专利15项，发表论文350余篇，其中SCI收录论文220篇。　　附录3：新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室所获奖项荣誉　　1978年“高压钠灯”全国科学大会奖 　　1987年“陶瓷分离环”等获两项国家科技进步二等奖，清华大学无机非金属材料学科被评为国家重点学科 　　1988年“复合氮化硅陶瓷刀具”国家技术发明二等奖，重点实验室立项 　　1995年 国家重点实验室通过正式验收开放 　　1996年“高性能铁电压电陶瓷材料组成及低烧技术”国家技术发明二等奖 　　1998年 国家教委所属重点实验室评估中被评为优秀 　　2002年 以实验室为基础的“材料学”评为重点学科, 全国第一 　　2004年“陶瓷胶态成型新工艺”国家技术发明二等奖 　　2005年“高性能低温烧结软磁铁氧体”国家技术发明二等奖 　　2005年“非均质材料显微结构与性能关联”国家自然科学二等奖 　　2007年 以实验室为基础的重点学科“材料学”评估全国第一。

日本新型SPS-625烧结炉中科院重庆绿色研究院贸易合同签定完毕 滨州创元设备机械制造有限公司全权代理的日本著名材料高端研究设备生厂家富士电波公司的新型SPS-625烧结炉近期经过艰苦谈判终于顺利签定正式外贸合同.预计4个月后该装置将落户中科院重庆绿色研究院.相信配合该院3D打印技术研究一定会取得丰硕高科技成果.参见附属SPS-625等离子体烧结炉详细技术规格. SPS-625等离子体烧结设备技术参数1.工作条件：工作环境温度: 7° ~ 35° C。工作环境湿度：20~80%,无结露工作电源：三相电 380V海拔：低于1000m避免处于易燃和易腐蚀环境.要求放置环境应防电干扰,防尘防污.远离SEM系统以防电磁波干扰SPS系统的CRT.2. 设备用途,生产厂家及型号：设备用途：本设备主要用于原料粉末在脉冲放电作用下的低温快速烧结。广泛应用于金属、陶瓷、纳米材料、非晶材料、复合材料、功能/成分梯度材料的快速、高品位烧结。设备生产厂家：富士電波工機株式会社设备型号：SPS-625 3. 技术规格：3.1 液压系统 3.1.1 压力：100 kN； 3.1.2 压头行程：&ge 150mm，可自动控制实现连续位移； 3.1.3 压头行程分辨率：&le 0.01mm； 3.1.4 压力控制系统：带反馈控制； 3.2 炉体 3.2.1 炉体大小：可放入外径150mm的模具 3.2.2 炉体：双层炉体，带水冷； 3.2.3 炉内可通保护气； 3.3 脉冲电源系统3.3.1 脉冲电流输出上限：5000A3.3.2 输出电压上限：10V3.3.3 脉冲电源开/关时间可调，可编程；3.3.3 最小时间分辨率优于3.3毫秒；3.4 温控 3.4.1 两套测温系统：低温用热电偶，型号为K, 产地为日本高温用红外测温仪,型号为IR-AHU2产地为日本 3.4.2 最高工作温度：&ge 2500摄氏度3.4.3 最大升温速率：&ge 800oC/分钟3.5 抽真空系统3.5.1 冷态真空：&le 6Pa 3.5.2 配备真空计；Pirani和Bourdon管式压力计 3.5.3 抽速：室温下从1个大气压抽到6Pa，用时&le 10分钟机械泵由日本Ulvac公司生产, 型号为VD3013.6 冷却水装置 3.6.1冷却水装置功率及流量需与仪器本身所需冷却水相匹配。冷却水装置为日本产（Orion机械社製 RKE3750A-V）.3.7 控制系统 3.7.1 电源、压力及温度的监控有自动记录功能，且实验参数可简单导出； 3.7.2 装载有紧急停机系统，过载保护系统以及报警系统。3.8 变压器 SPS装置所需变压器均为日本東洋技研社製/TP17K-4C109。4. 备件及消耗品：4.1. 高密度高纯石墨模具：内径：&Phi 10 5个，&Phi 20 5个, &Phi 30 5个, &Phi 40 1个, &Phi 50 1个 (富士电波产) 4.2 高纯石墨纸：10张(富士电波产) 4.3 炉体密封圈：一套4.4 石墨隔热垫：一套4.5 氮化硼喷剂：4瓶4.6 备用保险丝一套4.7 备用K型热电偶：3支4.8 气路备用卡箍一套 日本新型SPS-625烧结炉中科院重庆绿色研究院贸易合同签定完毕 滨州创元设备机械制造有限公司全权代理的日本著名材料高端研究设备生厂家富士电波公司的新型SPS-625烧结炉近期经过艰苦谈判终于顺利签定正式外贸合同.预计4个月后该装置将落户中科院重庆绿色研究院.相信配合该院3D打印技术研究一定会取得丰硕高科技成果.参见附属SPS-625等离子体烧结炉详细技术规格. SPS-625等离子体烧结设备技术参数1.工作条件：工作环境温度: 7° ~ 35° C。工作环境湿度：20~80%,无结露工作电源：三相电 380V海拔：低于1000m避免处于易燃和易腐蚀环境.要求放置环境应防电干扰,防尘防污.远离SEM系统以防电磁波干扰SPS系统的CRT.2. 设备用途,生产厂家及型号：设备用途：本设备主要用于原料粉末在脉冲放电作用下的低温快速烧结。广泛应用于金属、陶瓷、纳米材料、非晶材料、复合材料、功能/成分梯度材料的快速、高品位烧结。设备生产厂家：富士電波工機株式会社设备型号：SPS-625 3. 技术规格：3.1 液压系统 3.1.1 压力：100 kN； 3.1.2 压头行程：&ge 150mm，可自动控制实现连续位移； 3.1.3 压头行程分辨率：&le 0.01mm； 3.1.4 压力控制系统：带反馈控制； 3.2 炉体 3.2.1 炉体大小：可放入外径150mm的模具 3.2.2 炉体：双层炉体，带水冷； 3.2.3 炉内可通保护气； 3.3 脉冲电源系统3.3.1 脉冲电流输出上限：5000A3.3.2 输出电压上限：10V3.3.3 脉冲电源开/关时间可调，可编程；3.3.3 最小时间分辨率优于3.3毫秒；3.4 温控 3.4.1 两套测温系统：低温用热电偶，型号为K, 产地为日本高温用红外测温仪,型号为IR-AHU2产地为日本 3.4.2 最高工作温度：&ge 2500摄氏度3.4.3 最大升温速率：&ge 800oC/分钟3.5 抽真空系统3.5.1 冷态真空：&le 6Pa 3.5.2 配备真空计；Pirani和Bourdon管式压力计 3.5.3 抽速：室温下从1个大气压抽到6Pa，用时&le 10分钟机械泵由日本Ulvac公司生产, 型号为VD3013.6 冷却水装置 3.6.1冷却水装置功率及流量需与仪器本身所需冷却水相匹配。冷却水装置为日本产（Orion机械社製 RKE3750A-V）.3.7 控制系统 3.7.1 电源、压力及温度的监控有自动记录功能，且实验参数可简单导出； 3.7.2 装载有紧急停机系统，过载保护系统以及报警系统。3.8 变压器 SPS装置所需变压器均为日本東洋技研社製/TP17K-4C109。4. 备件及消耗品：4.1. 高密度高纯石墨模具：内径：&Phi 10 5个，&Phi 20 5个, &Phi 30 5个, &Phi 40 1个, &Phi 50 1个 (富士电波产) 4.2 高纯石墨纸：10张(富士电波产) 4.3 炉体密封圈：一套4.4 石墨隔热垫：一套4.5 氮化硼喷剂：4瓶4.6 备用保险丝一套4.7 备用K型热电偶：3支4.8 气路备用卡箍一套

创元公司全权代理的日本著名材料领域高端设备生产厂家富士电波工机株式会社生产的SPS-211Lx烧结炉近期在清华大学顺利中标并且一次性购买2台。1991年日本住友石炭公司推出的SPS烧结炉首次登陆中国。经过9年孕育期之后，2000年清华大学，中国科学院硅酸盐研究所和武汉理工大学同年各自分别购买了SPS-1050T,SPS-2040和SPS-1050。时隔14年后清华大学再次购买日本富士电波公司（2011年收购了原住友石炭/SPS SINTEX公司）SPS-211Lx，说明了清华大学的材料科学研究人员对于该型设备优异品质的充分肯定。近年我们的国内用户不断快速增多，我们从心里感到由衷的高兴。感谢广大用户一直以来的支持和信赖，真诚地希望能和广大材料科学研究人员有更多的合作。

中科院福建物质结构研究所成为富士电波等离子放电烧结炉SPS-925新用户 日本富士电波等离子放电烧结炉SPS-925(250KN,10000A)近期以绝对优势在中国科学院福建物质结构研究所国际招标中胜出。说明了日本富士电波的烧结炉设备广受国内材料研究者的认可。富士电波公司SPS烧结炉除了在国际上起步最早之外,另外一个特点是用户已经遍布全世界,在世界上拥有350多家用户。在中国也已经拥有30多家用户。远远多于竞争对手。该公司不仅生产实验室专用的小型设备如，SPS-211Lx,331Lx,630Lx等，还生产SPS-925这样兼顾实验和生产的中型设备以及大型批量生产型SPS30300T等烧结设备。在日本已经有10余家公司使用该公司设备生产各种过去难以制造的产品，这表明该公司在SPS烧结技术方面日趋成熟已为工业界所接受,进入了新的发展阶段。希望国内广大用户根据自己需求选择自己喜欢的SPS装置。注：该公司主要SPS产品如下,供您参考： 1.SPS-211Lx,20KN,1000A 研究型2.SPS-331Lx,30KN,3000A 研究型3.SPS-630Kx,60KN,3000A 研究型4.SPS-515s,50KN,1000-1500A研究型5.SPS-615,100KN,3000A 研究型6. SPS-625,100KN,5000A 研究型7.SPS-725,250KN，5000A 研究型8.SPS-825,250KN，8000A 研究型9.SPS-925，250KN，1000A半研究半生产型 10.SPS-3.20MK-Ⅳ，200KN，8000A半研究半生产型11.SPS-5.40MK-Ⅳ,500KN,8000A半研究半生产型12.SPS-5.40MK-VI,500KN,15000A半研究半生产型13.SPS-7.40MK-V,1MN,10000A半研究半生产型14.SPS-8.40MK-VII,1.5MN,20000A半研究半生产型15.SPS-9.40MK-VII,3MN,20000A半研究半生产型16.SPS-9.40MK-VIII,3MN,30000A 半研究半生产型17.SPS-10.40MK-VIII,5MN,30000A 半研究半生产型 18.Sinter Expert SPS 30300T 批量生产型 3MN,30000A,可烧结出高质量φ300xH250mm产品

南方科大订购的最新双电源放电等离子烧结炉SPS-625HF近日顺利出横滨港南方科技大学何佳清教授订购的日本富士电波工机株式会社制造的世界最新高双电源放电等离子烧结炉SPS-625HF近日顺利从日本横滨港发出，预计今日抵达蛇口。该装置一台设备可以作为3台烧结炉（单脉冲电源烧结，单高频电源烧结，混合电源烧结）使用。尤其是在电磁波和直流脉冲双重热效应的作用下它的加热速率可达1000度/分，从而使纳米材料的烧结在更短的时间内或更低温度下完成，或者说更细晶粒的新纳米材料可以被合成出来。此外双电源使得用户更方便地用它制作各种梯度材料。第4个特点是它还可以大幅度提高加热均匀性。因此人们期待着用它探讨新的材料合成机理进而创制出各种新材料。和重庆大学，东莞理工大学等导入的SPS-212HF装置相比，南方科技大学的SPS-625HF装置最大脉冲电流和载荷分别提高了5倍，即最大压力和脉冲电流分别是100KN和5000A。此外何教授5年前曾导入我司同样品牌不同型号的小型SPS-211Lx，此次是第2次导入我司产品，南方科技大学的其他2位教授也紧随何教授之后分别导入SPS-211Lx。由此足以看出我司产品在南科大具有良好的口碑。希望广大用户来电垂询！

SPS-211 Lx放电等离子烧结炉在中国石油大学顺利验收　日本富士电波的SPS烧结设备已经广为人知，强大的烧结能力，精良的制造工艺，脉冲电源性能稳定烧结再现性好等方面得到广大用户一致好评，近日SPS-211 Lx放电等离子烧结炉在中国石油大学顺利验收。350多家遍布世界的用户也充分表明了富士电波公司在这个领域遥遥领先的地位。如您需要开展纳米材料和梯度功能材料快速烧结研究或生产的话，日本富士电波的SPS烧结设备将是您的最佳选择。注：该公司主要SPS产品如下,供您参考： 1.SPS-211Lx,20KN,1000A 研究型2.SPS-331Lx, 30KN,3000A 研究型3.SPS-630Kx,60KN,3000A 研究型4.SPS-515s,50KN,1000-1500A研究型5.SPS-625,100KN,3000-10000A 研究型6.SPS-725,100-250KN，5000A 研究型7.SPS-825,100-250KN，8000A 研究型8.SPS-925，100-250KN，5000-15000A半研究半生产型 9.SPS-3.20MK-Ⅳ，200KN，8000A半研究半生产型10.SPS-5.40MK-Ⅳ,500KN,8000A半研究半生产型11.SPS-5.40MK-VI,500KN,1500A半研究半生产型12.SPS-7.40MK-V,1MN,10000A半研究半生产型13.SPS-8.40MK-VII,1.5MN,20000A半研究半生产型14.SPS-9.40MK-VII,3MN,20000A半研究半生产型15.SPS-9.40MK-VIII,3MN,30000A 半研究半生产型16.SPS-10.40MK-VIII,5MN,30000A 半研究半生产型 17.Sinter Expert SPS 30300T 批量生产型

p日本富士电波工机株式会社制造的双电源SPS-211Lx放电等离子烧结炉近期在重庆大学中标，这是一台全新技术的放电等离子烧结设备，具有无可比拟的加热速率，在双电源致热效应的作用下，加热速率可达15度/秒，可以使纳米材料的烧结在更短的时间内完成。我公司所代理的SPS放电等离子烧结设备近几年来被众多大学及研究机构所采购，说明SPS烧结设备在材料创新领域越来越受到科研人员的欢迎。SPS设备可以广泛应用于各种新材料的制备和研究，尤其是在纳米烧结和功能梯度材料烧结方面。双电源SPS-211Lx以其小巧的设计，精良的制造工艺，优异的烧结性能和经济适用的特点尤其广受青睐。br/ 富士电波工机株式会社还提供更多型号的SPS烧结设备，敬请垂询。br/br//pp /ppbr//p

黑龙江科技大学订购的最新双电源型放电等离子烧结炉SPS-211H近日顺利出东京港黑龙江科技大学订购的日本富士电波工机株式会社制造的世界最新型高双电源放电等离子烧结炉SPS-211H近日顺利从日本东京港发出，预计下周到达天津新港。我司全权代理的日本富士电波公司SPS-211H装置是日本富士电波公司推出的世界最新型可扩展为双电源放电等离子烧结炉。SPS-211H以其精巧的设计，精良的制造工艺，优异的烧结性能和经济适用的特点正在引领SPS行业向新的方向进军。等离子放电装置SPS-211H可以根据客户需要将来追加高频电源等扩展为双电源放电等离子烧结炉SPS-211HF。后者具有比较前者更快的加热速率，在双电源复合磁热效应的作用下，加热速率可达1000度/分，可以使纳米材料的合成在更短的时间和更低温度进行得以完成。同时一台烧结设备可以当作3种烧结设备使用也进一步提高研究效率。近年来上海硅酸盐研究所，北京科技大学，厦门大学等陆续导入该装置。希望大家来电咨询！

富士电波放电等离子烧结炉SPS-211Lx和日本Advance-riko公司(原日本真空理工公司)热电特性评价装置ZEM-3在北京师范大学同时中标，我公司所代理的SPS放电等离子烧结设备近几年来被众多大学及研究机构所采购，说明SPS烧结设备在材料创新领域越来越受到科研人员的欢迎。SPS设备可以广泛应用于各种新材料的制备和研究，尤其是在纳米烧结和功能梯度材料烧结方面。对于研究热电材料的科学家来说ZEM-3是不可或缺的试验装置。ZEM-3可以精确地测定半导体材料、金属材料及其他热电材料(BiTe, PbTe, Skutterudites等)的Seebeck系数及电导率。该产品在该领域处于No.1的地位。主要原理和特点如下 该装置由高精度，高灵敏度温度可控的红外线金面反射炉和控制温度用的微型加热源构成。通过PID程序控温，采用四点法的方式精确测定半导体材料及热电材料的Seebeck系数及电导率、电阻率。试样与引线的接触是否正常V-1装置可以自动检出。期待北京师范大学在两台设备的配合下取得更加卓越的成果。

2021年9月27-29日，第四届新型陶瓷技术与产业高峰论坛在郑州隆重举行。欧美克仪器携拳头产品Topsizer出席本次会议，与近400名新型陶瓷产业链相关企业和科研院校的专家共同交流，助力科研单位企业成果转化，共同推动行业发展！先进陶瓷作为国家大力发展的新材料行业重要分支，近年来发展迅速，结构陶瓷、功能陶瓷、电子陶瓷市场都在快速拓展。新型陶瓷又称为特种陶瓷或精细陶瓷，不同于以天然岩石、矿物、粘土等原料的传统陶瓷，它是采用人工合成的高纯度无机化合物为原料，在严格控制的条件下经成型、烧结和其他处理而制成具有微细结晶组织的无机材料，具有一系列优越的物理、化学和生物性能，其应用范围是传统陶瓷远远不能相比的。新型陶瓷按化学成份分为氧化物陶瓷（如Al2O3、ZrO2、MgO、CaO、BeO、ThO2等）和非氧化物陶瓷（如碳化物、硼化物、氮化物和硅化物等）；按性能特征分为高温陶瓷、超硬质陶瓷、高韧陶瓷、半导体陶瓷、电解质陶瓷、磁性陶瓷、导电性陶瓷等；按其应用可分为结构陶瓷和功能陶瓷。结构陶瓷又称工程陶瓷，主要利用陶瓷的强度、刚度、韧性、耐磨性、硬度、疲劳强度等力学性能的陶瓷材料，主要种类有高强度陶瓷、(超)高温陶瓷、(超)低温陶瓷、高韧性陶瓷、超硬度陶瓷和纳米陶瓷等。功能陶瓷是利用陶瓷的电磁光声热等性能及其藕合效应的陶瓷材料，包括电子陶瓷、敏感陶瓷、光学陶瓷、生物陶瓷、磁性陶瓷和超导陶瓷等。随着新型陶瓷陶瓷生产工艺的不断进步，新型陶瓷越来越广泛地应用到新能源汽车、高铁、半导体装备、航空航天、风电、石油化工、冶金等众多领域。随着新型陶瓷产业的高速发展，粒度、粒形分析仪器在新型陶瓷的研发和生产应用领域越来越多地发挥出高性能的检测分析功能。在制备新型陶瓷时，物料粉体的形状、粒度大小、粒度分布等工艺参数直接影响粉料的流动性和堆积密度。堆积密度较大的、粒度分布合理的圆形颗粒能够制成优质的坯料。而当颗粒形状不规则，且细颗粒较多时，容易造成拱桥效应，降低粉料的容重和流动性。因此，需要准确把握陶瓷粉体物料的各项参数。经过近30年的粒度粒形深耕发展，欧美克形成了包括激光粒度分析仪、纳米粒度仪分析仪、电阻法颗粒计数器、颗粒图像分析处理仪、动态图像仪、ASD近红外光谱仪、粉体特性测试仪等七大系列产品线，能够提供专业、完善的粒度粒形解决方案，并在传统陶瓷和新型陶瓷行业积累了一大批忠实用户。在会议期间，新老朋友纷纷来到欧美克展台，共同交流激光粒度分析仪在新型陶瓷行业的应用心得。在本次展会上，欧美克现场展示了拳头产品Topsizer激光粒度分析仪。Topsizer激光粒度分析仪是广受客户欢迎的国产高性能激光粒度分析仪，是一款全自动干、湿二合一激光粒度分析仪，采用红蓝双色光源设计和定制光电控测器，确保仪器具有宽广的测试范围、高灵敏度、良好的重现性和重复性，优异的测试性能能够满足绝大多数固体粉末或乳液中颗粒的粒度分布检测要求。Topsizer激光粒度分析仪而LS-609激光粒度分析仪是欧美克新一代基础款的全自动湿法激光粒度分析仪，其采用水平直线光路布置、透镜后傅立叶变换结构、全自动对中机构以及智能、友好、实用的软件功能，良好的测试性能也一直备受陶瓷行业用户的青睐。LS-609激光粒度分析仪欧美克仪器作为国内行业标杆的粒度检测设备生产企业，始终致力于为陶瓷粉料工业提供专业、完善的粒度解决方案。面对陶瓷元件市场的持续火爆和国产替代市场的巨大潜力，欧美克仪器不断创新拓展、优化产品线，用更丰富的产品和更优质的服务竭尽全力助力陶瓷粉料行业的新发展、新方向！

新诺仪器热烈祝贺第三届半导体行业用陶瓷材料技术研讨会取得圆满成功 新诺仪器参加了4月25日第三届半导体行业用陶瓷材料技术研讨会，旨在为半导体和先进陶瓷行业搭建沟通平台，交流先进技术，互通行业信息，促进产业链合作，推动国产替代进程。本届会议主要议题涉及电子陶瓷材料、半导体封装用陶瓷材料、碳化硅、氮化硅及氮化铝陶瓷在半导体行业的应用、先进陶瓷的制备与应用等议题。参加本次会议的有来自半导体、陶瓷行业的专家、学者、企业界代表、技术人员等共计300多人。4月25日大会日程上午8:30-9:00潘 伟 清华大学教授静电卡盘-半导体设备关键陶瓷零部件原理、结构与性能9:00-9:30肖汉宁湖南大学教授半导体封装用陶瓷材料研究进展9:30-10:00孔令兵深圳技术大学特聘教授氮化铝陶瓷粉体制备、烧结及性能研究进展10:15-10:45张伟儒中材高新股份有限公司教授氮化硅陶瓷在半导体行业应用及发展重点10:45-11:15刘培新淄博科浩热能工程有限公司总经理科浩热能原位排胶烧结一体化大气烧结炉在泛半导体陶瓷制品烧成中的应用11:15-11:45马冲潮州三环(集团)股份有限公司精密陶瓷事业部副总经理先进陶瓷的制备与应用下午13:30-14:00李江中国科学院上海硅酸盐研究所研究员陶瓷无孔化制备与性能提升研究14:00-14:30余文俊南京欣坤公司 &南京悠乐经理论异质嵌套粘接共烧复合基板不同陶瓷无缝嵌套工艺及应用14:30-15:00韦国文江苏瑞邦高热制品有限公司总经理兼技术总监电炉与电热式气炉对小原晶粉体陶瓷大件的烧成出现开裂的原因分析和应对措施15:00-15:30吕辰培上海微电子装备(集团)股份有限公司国产化项目经理上海微电子陶瓷零部件需求汇报15:45-16:15姚斌皓越科技总经理卓越新品,开启新篇章:皓越科技真空炉设备新品发布16:15-16:45胡元云 嘉兴佳利电子有限公司院长电子陶瓷材料及元器件在5G通讯领域的应用16:45-17:15马康夫山西烁科晶体有限公司总经理助理8 英寸 SiC 单晶衬底发展浅析 本次会议，新诺仪器携医诺凯箱体带来了新升级的自动压片机、热压机及干燥箱、培养箱等仪器设备，新诺展位吸引了众多参会嘉宾驻足咨询。新诺仪器作为仪器行业的供应商，专注于粉未成型解决方案，是集实验室通用仪器的研发、生产、定制代理、销售和服务为一体的综合型科技公司。 公司主营:压片机、热压机、等静压机、红外压片机、荧光压样机、纽扣电池封口机、以及冷热压模具等红外荧光光谱仪配套设备。 新诺在小众领域做到专而精，精而强，勇于创新，信守承诺，做一个积极向上靠谱的仪器公司。助力科研，支持国产，替代进口，新诺在路上。源头工厂，可提供OEM，期待您更多合作！

p style="text-indent: 2em "新型陶瓷在性能上有其独特的优越性。在热和机械性能方面，有耐高温、隔热、高硬度、耐磨耗等；在电性能方面有绝缘性、压电性、半导体性、磁性等；在化学方面有耐腐蚀等功能；在生物方面，具有一定生物相容性能，可作为生物结构材料等。但也有它的缺点，如脆性。因此研究开发新型功能陶瓷是材料科学中的一个重要领域。下面让我们来了解一下国内研究新型陶瓷的国家重点实验室。/pp style="text-indent: 2em "strong清华大学：新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室/strong/pp style="text-indent: 2em "新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室致力于发展新型陶瓷科学与技术，开拓新型材料领域的学科前沿。实验室的主要研究方向包括：信息功能陶瓷材料、功能复合材料设计与新材料探索、高性能结构陶瓷、陶瓷材料先进制备工艺、能源与环境材料、生物陶瓷材料。/pp style="text-indent: 2em "成立契机/pp style="text-indent: 2em "新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室的前身-清华大学无机非金属材料学科于1987年被评为重点学科，1988年列为世行贷款重点学科发展项目，1991年开始建设“新型陶瓷与精细工艺”国家重点实验室，于1995年通过国家验收正式对外开放。/pp style="text-indent: 2em "科研队伍/pp style="text-indent: 2em "实验室拥有一支学术水平高、教学和科研经验丰富的固定科研人才队伍。现任实验室主任为潘伟教授，学术委员会主任为中国工程院院士李龙土教授。实验室现有研究人员53人，其中教授27人（包括中国科学院院士2人，中国工程院院士2人），副教授19人，高工及其他人员7人。研究队伍中具有博士学位者43人（占总数约80％）。/pp style="text-indent: 2em "科研成果/pp style="text-indent: 2em "在透明氧化铝陶瓷与高压钠灯、复合氮化硅陶瓷刀具、高性能铁电压电陶瓷及低烧技术、陶瓷胶态成型新工艺、高性能低温烧结软磁铁氧体、纳米骨修复材料以及复合材料的结构与性能关联等方面取得了多项重大成果，先后获得全国科学大会奖、国家技术发明奖和国家自然科学奖等国家级科技奖励，其中国家自然科学二等奖2项、国家技术发明二等奖7项、国家科技进步二等奖2项和省部级奖励五十余项。/pp style="text-indent: 2em "通过十几年来的建设和发展，实验室已逐步建成为我国在新型陶瓷材料与精细制备工艺，特别是信息功能陶瓷材料、高性能结构陶瓷材料以及陶瓷基复合材料等领域的重要科学研究与人才培养基地。/pp style="text-indent: 2em "strong中国科学院上海硅酸盐研究所：高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室/strong /pp style="text-indent: 2em "成立契机/pp style="text-indent: 2em "为促进我国高性能陶瓷的研究和发展，扩大我国在该领域中的影响，1988年4月，经国家计委和中国科学院批准，在中科院上海硅酸盐研究所建立高性能陶瓷和超微结构开放实验室；1989年1月实验室正式对外开放；1991年纳入国家重点实验室系列，更名为高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室；1995年11月通过国家验收。/pp style="text-indent: 2em "科研队伍/pp style="text-indent: 2em "目前，两院院士严东生先生任实验室名誉主任，陈立东研究员任实验室主任，中国工程院院士江东亮先生任实验室学术委员会主任。实验室现有固定人员78人，其中院士3人（含两院院士1人），研究员39人。35岁以下的青年研究人员占全室人员的45％。自实验室建立以来，先后有2人当选第三世界科学院院士，5人当选世界陶瓷科学院院士，6人获得“国家杰出青年基金”，2人入选“国家新世纪百千万人才工程”，2人入选中组部“千人计划”；23人入选中国科学院“百人计划”。/pp style="text-indent: 2em "科研成果/pp style="text-indent: 2em "（1）高性能陶瓷材料设计及其力学性能研究/pp style="text-indent: 2em "（2）氮化物相图研究/pp style="text-indent: 2em "（3）大尺寸钨酸铅闪烁晶体研究/pp style="text-indent: 2em "（4）扫描电声成像系统及其相关器件和材料/pp style="text-indent: 2em "（5）纳米微粒及纳米复相陶瓷的制备科学与性能研究/pp style="text-indent: 2em "（6）新型介孔及低维纳米复合材料研究/pp style="text-indent: 2em "（7）计算材料科学研究与能量转换材料的微观设计/pp style="text-indent: 2em "以上这些重要的研究进展和成果先后荣获国家和省部级科技奖励24项，发表2000余篇高质量学术论文，获授权国家发明专利130余项，取得了良好的经济效益和社会效益。/pp style="text-indent: 2em "strong武汉理工大学：硅酸盐建筑材料国家重点实验室/strong/pp style="text-indent: 2em "实验室概况/pp style="text-indent: 2em "硅酸盐建筑材料国家重点实验室是在原硅酸盐材料工程教育部重点实验室的基础上、于2011年10月获科技部批准立项建设的国家重点实验室。实验室依托的材料科学与工程学科是国家重点学科、“211工程”首批及“双一流”重点建设学科，国家第四轮学科评估结果为A+，进入世界ESI学科排名前1%；其硅酸盐材料专业至今已有50多年的建设历史。1992年由原国家建材局批准成立硅酸盐材料部门开放实验室，2000年成立硅酸盐材料工程教育部重点实验室。/pp style="text-indent: 2em "科研队伍/pp style="text-indent: 2em "实验室现有固定人员90人，其中研究人员80人，技术支撑人员7人，管理人员3人；78人具有博士学位（占比98%）；研究人员中有正高职称65人、副高职称13人。形成了一支由国家杰青、长江学者和千人计划专家领衔的结构合理、科研能力强，富于创新的高水平学术队伍。/pp style="text-indent: 2em "科研成果/pp style="text-indent: 2em "技术成果在全国千余条水泥、玻璃、陶瓷、墙体材料等生产线，以及港珠澳大桥、武汉天兴洲大桥、南海岛礁等一大批“一带一路”控制性重难点工程应用，取得显著的社会环保与经济效益，近五年获国家自然科学奖1项（排2、5）、国家技术发明二等奖1项（排1、4）、国家科技进步二等奖2项（单位排2和4）、省部级一等奖和特等奖15项（9项排第1）、二等奖19项。/pp style="text-indent: 2em "新型陶瓷的研究还需要继续深入，也希望越来越多优秀的人才能加入新型陶瓷研究的队伍当中。/p

日本富士电波公司等离子放电烧结装置SPS-211H在厦门大学顺利中标。 我司全权代理的日本富士电波公司SPS-211H装置在厦门大学顺利中标并于近日签订商务合同。该装置是日本富士电波公司推出的世界最新型可扩展为双电源放电等离子烧结炉。放电等离子烧结炉SPS-211H以其精巧的设计，精良的制造工艺，优异的烧结性能和经济适用的特点正在引领SPS行业向新的方向进军。等离子放电装置SPS-211H可以根据客户需要将来追加高频电源等扩展为双电源放电等离子烧结炉SPS-211HF。后者具有比较前者更快的加热速率，在双电源复合磁热效应的作用下，加热速率可达1000度/分，可以使纳米材料的合成在更短的时间和更低温度进行得以完成。同时一台烧结设备可以当做3种烧结设备使用也进一步提高研究效率。

日本SUGA公司自SPS-放电等离子烧结技术诞生以来，一直伴随着SPS技术在全世界的发展，1997年开始代工生产SPS设备，经过多年的技术积累，现推出Sx、Rx系列SPS放电等离子烧结炉。 SPS-放电等离子烧结炉是当今世界上先进的快速热压炉之一，由于工件直接由热流脉冲加热，所以烧结工艺周期可以缩短至几分钟，因此具备烧结速度快，样品致密度高等优点，是烧结纳米相材料，梯度功能材料，介孔纳米热电材料，稀土永磁材料，合金非平衡态材料及生物材料最有力的工具。SPS-225Sx 主机压力系统立式单轴伺服电机最大压力20 kN最小压力0.5kN最高烧结温度2500℃加压行程50 mm开放高度200mm烧结电极特殊的密封水冷结构真空腔水冷腔脉冲电源电源AC 200V, 3相，50/60Hz输出电流2500A脉冲控制On 1～999 ms, Off 1～99 ms创新点：1.采用Tie-Bar框架，保证压力装置更稳固；2.匹配中国电源要求，无需用户再配置变压器；3.优于同行业的真空技术，可3min内从常压抽到5Pa；4.多种安全措施，保证设备安全运行；如：烧结腔室门未关闭，烧结电源无法启动；

2019年5月25-29日，由中国硅酸盐学会发起的第十一届先进陶瓷国际研讨会（CICC-11）于云南省昆明市完美落幕。此次会议邀请到了来自33个国家和地区的1450名代表参会，CICC已然发展成为亚洲最大、国际知名的陶瓷领域学术盛会。本届CICC-11设置了24个专题研讨会，交流范围基本涵盖了整个特种陶瓷领域及相关学科，汇集业内知名专家学者与会做大会报告、主旨报告及邀请报告。 弗尔德仪器作为陶瓷产品的仪器应用翘楚，应邀赞助第十一届先进陶瓷国际研讨会，为CICC-11的成功举办增砖添瓦。陶瓷领域研究离不开样品前处理、热处理以及理化分析等实验操作，弗尔德仪器应陶瓷行业所需，能够为陶瓷样品的研磨粉碎、热处理、氧/氮/氢/碳/硫元素分析提供先进完善的仪器解决方案。弗尔德仪器旗下产品包括德国Retsch（莱驰）粉碎研磨筛分设备、德国Retsch Technology（莱驰科技）粒度粒形分析仪、德国Eltra（埃尔特）元素分析仪、CarboliteGero（卡博莱特盖罗）烘箱、马弗炉。n 陶瓷制品的研磨粉碎处理对烧结陶瓷的半成品进行检验，需要先对半成品进行研磨粉碎处理。针对不同陶瓷原料、陶瓷粉末以及成品，行星式球磨仪PM 400可以实现陶瓷样品的细粉碎。高能水冷球磨仪Emax优于常规球磨仪能够在更短时间内实现陶瓷样品的纳米研磨。n 陶瓷制品的元素分析、热重分析熔点高达2700℃的碳化硅是陶瓷制品的重要原材料。德国Eltra（埃尔特）元素分析仪特别适用于含碳化硅的陶瓷制品的质量控制。ELEMENTRAC CS-i采用高频感应燃烧法能够对陶瓷样品中的碳含量进行精准测量。ELEMENTRAC ONH-p采用惰性保护气氛熔融技术对陶瓷制品中的氧氮氢元素进行精准可靠的测量。热重分析仪TGA Thermostep由可编程炉连内置天平，加热称重在同一台仪器上完成，大大简化了人工操作，能够一次测量出陶瓷样品的水分、灰分、挥发分。n 陶瓷制品的热处理工艺陶瓷粉末注射成型（CIM）是一种新型陶瓷成型技术，在成型形状复杂的零件和精确控制零件尺寸上有着其他工艺无可比拟的优势。陶瓷注射成型的整个过程主要包括原材料的混合，喂料的注射成型，生胚的排胶和烧结。在CIM工艺过程中，排胶过程最重要的使温度缓慢上升，大量的粘结剂才会析出。CarboliteGero（卡博莱特盖罗）热壁炉——GLO系列，能满足此应用。其加热元件位于炉膛外侧，整个炉膛相当于一个容器。加热元件直接加热炉膛外侧，并向内传导热量，整个炉膛壁是热的，所以叫做热壁炉，也可选配带氢气供气系统的全自动控制系统。退火炉GLO 烧结是CIM工件成形前的最后一个工艺，是一个把粉状物料转变为致密体的传统工艺过程。还有一种工艺是排胶和烧结使用同一台炉子，这样的炉子我们称之为“排胶烧结一体炉”。HTK陶瓷纤维炉，是排胶烧结一体炉，能够在空气环境下排胶和烧结，最高温度2200°C。排胶烧结一体炉HTKn 陶瓷粉末的粒度粒形分析陶瓷粉末注射成型（CIM）对粉末特殊的要求，以使喂料在达到高装载量的同时满足一定的流动性。较理想的粉末一般要求散装密度高、无团聚、颗粒形状为球形、平均粒径小、颗粒内全致密无内孔等。Retsch Technology（莱驰科技）干湿两用多功能粒径及形态分析仪CAMSIZER X2能够满足CIM工艺对陶瓷粉末粒度粒形的检测需求。采用所见即所得的双镜头（CCD）专利技术，能够对陶瓷颗粒的粒径、球形度、纵横比、对称性等粒径粒形参数进行测量与分析。干湿两用多功能粒径及形态分析仪CAMSIZER X2

p style="text-align: justify " 碳化硅（SiC）陶瓷具有耐高温、耐磨损、耐腐蚀、耐辐照、抗氧化、热膨胀率小和热导率高等优异的综合性能，在航空航天、核电、高速机车、武器装备等关键领域具有重要的应用价值。SiC陶瓷因其极高的热稳定性和强度，成型加工困难。/pp style="text-align: justify " 目前，国际上陶瓷材料的制备主要采用传统的粉末成型方法，包括微粉制备、成型（压延、挤塑、干压、等静压、浇注、注射等方式）、烧结（热压烧结、反应烧结、常压烧结、气氛压烧结、热等静压烧结、放电等离子体烧结等方式）、加工等过程。最近30年，陶瓷材料新型制备工艺层出不穷，在各个环节上均有所突破，但仍存在局限性，制备温度高（虽然添加烧结助剂可降低烧结温度，但烧结助剂又会影响陶瓷的性能）、不易获得均匀的化学成分与微观结构、难以进行精加工以及陶瓷材料高脆性难以解决等问题。/pp style="text-align: justify " 先进的陶瓷制备技术必须在原料制备、成型、烧结等方面有所突破。自1975年Yajima等利用聚碳硅烷制备出SiC陶瓷纤维后，先驱体转化陶瓷技术进入人们的视野。根据BCC Research调查报告，2017年全球陶瓷先驱体市场为4.376亿美元（其中，SiC陶瓷先驱体占40.4%市场份额），预计到2022年将达到7.124亿美元，年均增长10.2%。所谓先驱体转化陶瓷是首先通过化学合成方法制得可经高温热解转化为陶瓷材料的聚合物，经成型后，再通过高温转化获得陶瓷材料。其具有诸多优点：分子的可设计性：可通过分子设计对先驱体化学组成与结构进行设计和优化，进而实现对陶瓷组成、结构与性能的调控；良好的工艺性：陶瓷先驱体属于有机高分子，继承了高分子加工性好的优点，例如可溶解浸渍、可纺丝、可模塑成型、可发泡、可3D打印等，因此能用于制备传统粉末烧结工艺难以获得的低维材料和复杂构型，例如陶瓷纤维、陶瓷薄膜、复杂立体构件等；可低温陶瓷化，无需引入烧结助剂；可制备三元和多元共价键化合物陶瓷；可获得纤维增韧的陶瓷材料，从而解决陶瓷材料高脆性问题。/pp style="text-align: justify " 先驱体转化陶瓷技术可以灵活控制和改善陶瓷材料的化学结构、相组成、原子分布和微结构等，具有传统陶瓷制备技术无法比拟的优势。以先驱体转化法制备陶瓷材料，其关键之处在于能否制备出合适的先驱体，这直接决定了是否能成功制备出优异性能的陶瓷材料。目前成功开发并应用的SiC陶瓷先驱体主要是固态聚碳硅烷（PCS）。但PCS作为SiC陶瓷先驱体仍存在不足，如PCS中C/Si为2，其热解产物富碳，最终影响SiC陶瓷的性能；PCS陶瓷产率较低；其在室温下为固体，用于形成复合材料中陶瓷基体时，浸渍过程中需要二甲苯、四氢呋喃等溶剂，而在裂解之前又需要蒸发这些溶剂，导致制备周期长和工艺繁琐等。/pp style="text-align: justify " 近日，中国科学院宁波材料技术与工程研究所核能材料工程实验室经过研究，制备出一种流动性好（复数粘度0.01～0.2Pa· S）、存储时间长（＞6个月）、氧含量低（～0.1 wt%）、陶瓷产率高（1600℃陶瓷产率达～79wt%）、陶瓷产物中C/Si为～1.1，且1500℃静态氧化后质量变化小于3%的液态超支化聚碳硅烷（LHBPCS）。样品品质获得多个应用单位的肯定。此外，该研究团队在LHBPCS固化交联机理上也有深入研究，能够实现其光固化成型和低温热固化成型，凝胶化时间仅数分钟，且结构致密无泡孔。/pp style="text-align: justify " 相关研究成果发表在J. Eur. Ceram. Soc.、Adv. Appl. Ceram.、J. Am. Ceram. Soc.等期刊上。相关研究得到了国家自然科学基金重大研究计划、中科院重点部署项目等的资助。/pp style="text-align: center "img src="http://img1.17img.cn/17img/images/201808/insimg/9ac36bf1-5a4d-425e-8eea-cf053400b28a.jpg" title="45194.jpg"//pp style="text-align: center "图1.制备的LHBPCS及交联固化与烧结后致密形貌/pp/pp style="text-align: center "img src="http://img1.17img.cn/17img/images/201808/insimg/27cabeb1-60bb-4654-a4ce-51691bd77624.jpg" title="13639.jpg"//pp style="text-align: center "图2.制备的LHBPCS在不同热引发剂（TBPB）含量下交联速率变化/ppbr//p

陶瓷纤维马弗炉在产品质量和安全性方面的多重益处在现代科学研究和工业生产中，高温炉是不可或缺的实验设备之一。上海喆图科学仪器有限公司推出的1000度陶瓷纤维马弗炉TMF-7.2-10T以其卓越的性能和可靠性，成为了实验室和工业应用中的热门选择。一、产品质量的多重益处：精密控温：TMF-7.2-10T型号的马弗炉具备微电脑PID控制器和大屏幕液晶显示，操作简便，控温精确，精度达到±1℃，保证实验的精确性。快速升温：该型号的马弗炉能够实现快速升温，至950℃仅需30分钟，显著提高工作效率。节能保温：采用真空微孔隔热耐高温的陶瓷纤维板，重量轻，保温效果好，实现节能省电。结构优化：炉体与控制器结构合理，温场均衡，升温迅速，环保节能。安全特性：具备双级安全报警系统，包括超高温报警和断电记忆功能，确保使用安全。耐用性设计：加厚外壳和优质耐火材料，确保炉膛在频繁使用中的稳定性和耐用性。多功能性：适用于多种高温实验和工艺，如元素分析测定、材料烧结与退火等。智能操作：具有自动检测环境温度功能，智能计算起始温度，加快升温速度，提高效率。易于维护：炉门内侧装有优质耐火材料制成的挡热板，减少热量散失，同时易于清洁维护。可选配件丰富：提供多种可选配件，如排气烟囱、操作台、微型打印机等，以满足不同实验需求。二、安全性的多重益处：开门断电功能：在加热过程中如需临时取放样品，开门即自动停止加热，关门后自动恢复，防止意外伤害。内置式二级超温保护装置：具备断电记忆功能，来电后可自动恢复记忆，确保设备安全运行。数字直读显示：电气线路中的电压、电流值以数字直读方式显示，便于及时发现电路异常。炉门锁扣设计：经典设计确保炉门炉膛贴合紧闭，防止热量丢失，同时保障操作安全。耐火材料挡热板：炉门内侧装有耐火材料挡热板，减少热量散失，提高炉膛温度均匀性，同时保护操作者安全。安全报警系统：具备超高温报警系统，具有断电、缺相、断偶报警功能，确保使用过程中的安全性。

p strong仪器信息网讯 /strong2016年10月10-12日，第八届慕尼黑上海分析生化展(analytica China 2016)在新国际博览中心召开，吸引了来自全球25个国家和地区的848家企业参展。在本届展会上，众多业内知名厂商纷纷展出了各自的新产品和解决方案，南京先欧携多款新产品精彩亮相。/pp style="text-align: center "img title="image.jpg" src="http://img1.17img.cn/17img/images/201610/insimg/996145ed-4d8a-44fc-a036-fc74ed574e58.jpg"//pp style="text-align: center "span style="color: rgb(0, 112, 192) "南京先欧展位/span/pp　　在本届展会上，南京先欧特别展出了新推出的几款新产品，分别是XO-SM100超声波微波协同作用工作站、ATPIO-6T智能微波消解仪，以及XO-1000D 智能超声波细胞破碎仪。/pp style="text-align: center "img title="thumb_IMG_0564_1024.jpg" src="http://img1.17img.cn/17img/images/201610/insimg/9b61e31f-9331-4a6d-b3a8-1e196a1cf162.jpg"//pp style="text-align: center "span style="color: rgb(0, 112, 192) "XO-SM100超声波微波协同作用工作站/span/pp　　XO-SM系列超声波微波协同反应系统是由南京先欧与南京航空航天大学历经多年合作开发的新型专利产品(国家发明专利号：ZL201320424003.9)，在化工制备与检测领域内，首次将超声与微波技术无干扰结合，实现了超声波与微波的协同处理。/pp　　该系列产品具有超声波和微波功率独立可调、定时定温全程视窗控制等功能，系统同时实现了可视化界面控制、高精度程序控温、多通道数据储存，以及定向传输等功能。产品适用于快速、高效、靶向合成指定化工单体及目标混合物，可应用于中草药物有效成分的萃取，有机无机化合物、药物中间体以及纳米材料的合成，能源燃料及其新能源产品的开发等应用领域。/pp style="text-align: center "img title="thumb_IMG_0565_1024.jpg" src="http://img1.17img.cn/17img/images/201610/insimg/89a1745e-1cd9-43b8-bd22-ef209d41f663.jpg"//pp style="text-align: center "span style="color: rgb(0, 112, 192) "ATPIO-6T智能微波消解仪/span/pp　　ATPIO-6T智能微波消解仪采用完全自主知识产权的大炉腔设计，可同时防止1-12个100mL超高压消解罐。同时，仪器配置插入式高灵敏度铂金电阻温度传感器和高精度高温熔体压力传感器，实现温度、压力双重测控，精确控制，主动防止超温超压，其中测温范围0-300℃，测温精度± 0.1℃，测压范围0-10MPa，测压精度0.01MPa。/pp　　此外，ATPIO-6T可以选择多种材质和不同容量的消解罐，包括全氟消解罐或FT双层消解罐，其中FT消解罐内罐采用PTFE(聚四氟乙烯)，护套由全进口材料PEEK一次性压铸制成，耐高温、高压及强酸腐蚀，且拆装方便、冷却快。/pp style="text-align: center "img title="thumb_IMG_0566_1024.jpg" src="http://img1.17img.cn/17img/images/201610/insimg/8ac3b794-50a5-4c30-8640-137f60dee048.jpg"//pp style="text-align: center "span style="color: rgb(0, 112, 192) "XO-1000D 智能超声波细胞破碎仪 /span/ppspan style="color: rgb(0, 112, 192) "span style="color: rgb(0, 0, 0) " 此外，南京先欧在本届展会上还展出了新推出的XO-1000D 智能超声波细胞破碎仪。该款产品采用中央微机集中控制，超声时间、功率任意设定，样品温度检测显示、实际频率显示、频率微机跟踪、故障自动报警等所有功能都显示在液晶大屏幕中。/span/span/pp　　XO-1000D 智能超声波细胞破碎仪可用于各种动植物细胞、病毒细胞、细菌及组织的破碎，也可用于各类无机物质的破碎重组，还可用来乳化、分离、匀化、提取、消泡清洗及加速化学反应等，广泛应用于生物化学、微生物学药理学、物理学、动物学、农学、医学、制药等领域的教学、科研、生产。br//pp　　a title="" href="http://www.instrument.com.cn/netshow/SH101871/" target="_blank"strong南京先欧仪器制造有限公司/strong/a创立于2009年，是一家致力于超声波、微波、温度控制系列产品的研发生产销售为一体的综合性创新型企业。公司技术力量雄厚，开发出具有自主知识产权的XO-SM、XOKP、ATPIO等一系列超声波微波(调频)催化合成/萃取/消解仪、微波高温气氛烧结炉(实现高温区域搅拌旋转)、-120℃超低温检定槽以及应用设备。目前公司已申请专利二十余项，获得国家级和省市级科技奖励5项，其中，超声波微波紫外光组合反应系统获第十七届中国专利优秀奖、2013年南京市科技进步奖、2015年教育部科技进步奖，多用途微波真空高温烧结炉获2015年江苏省科技进步奖、2015年南京市科技进步奖。/ppbr//p

在材料科学领域，材料的制备和应用对于众多工业部门，如冶金、陶瓷、电子、医药和化工等，都至关重要。随着科技进步和工业需求的不断提升，对材料质量和性能的要求也日益严格。这就要求在材料配方设计和实验工艺流程中实现更高的精度和效率。尤其在配方研究中，涉及到多种粉末材料的精确配比，粉末加料过程因而成为了一个复杂且耗时的步骤。传统的粉末称量方法主要依赖于人工操作，这不仅效率低，而且结果的准确性易受操作者技能水平的影响，导致加料精度不稳定。同时，人工操作还可能引起粉尘污染和物料浪费。此外，不同粉末的物理特性（如流动性、粒径分布、密度等）对称量过程的影响是显著的，这进一步增加了称量过程的复杂性。因此，传统的人工称量方法已难以满足现代材料研发对于粉末称量精度和效率的严格要求。随着自动化技术的不断发展，自动化粉末称量系统成为了解决这一问题的关键技术。自动化系统能够实现高精度的重量控制和高效率的称量操作，显著提高了材料配比的准确性和可重复性。自动化粉末称量系统通过精密的控制设备和算法，确保了粉末的精确加料，同时减少了粉尘污染和物料浪费，为新材料的研发提供了有力的技术支持。自动化系统通常具备易于操作的界面，能够适应不同粉末特性的变化，并且可以与其他实验室自动化设备无缝集成，进一步提升了实验室的整体工作效率。在陶瓷材料的研发过程中，通常涉及对 5 至 8 种不同的原始粉末进行精确称量，随后执行一系列实验步骤，包括研磨、烧结等。这些步骤之后，还需进行造粒、分装等操作，这些环节往往是劳动强度高且重复性强的工作。传统的手工操作不仅耗费大量的实验人员时间和精力，而且效率低下，且难以保证实验结果的重复性和一致性，容易引入人为误差。高通量自动化固体加样技术的应用，能够有效解决这些问题。该技术通过自动化设备精确控制原料粉末的称量和分配，确保了实验的高效性和准确性。自动化系统的使用显著提升了实验操作的重复性和一致性，同时减少了人为误差的可能性，从而保障了实验数据的可靠性和科研过程的科学性。我们选取了 17 种常用的原料粉末，使用晶泰科技桌面型固体加样仪 ChemPlus 进行加样测试。目标加样量：500mg、1000mg、2000mg，测量数据如下：除了对原始粉末进行测试，我们还对球磨烧结后的造粒粉末进行了相应测试。鉴于造粒粉末对精度的要求没有特别严格，通常情况下，偏差在 10% 以内即可满足工艺标准。因此，我们选择了 300mg 和 3000mg 这两个不同的加粉量，进行了多轮测试。测试结果显示，使用 ChemPlus，可以非常有效地分装造粒粉末，并且在加样过程中不会破坏粉末原有的颗粒状结构。测试结果表明，在不同材料场景下进行粉末加样时，ChemPlus 能够将标准偏差有效控制在 ±0.5mg 以内。加样时间会根据粉末的具体性状而有所变化，但所有类型的粉末加样合格率均高达 98% 以上。此外，该加样过程还能够很好的处理造粒后的粉末，确保其结构的完整性得到保持。ChemPlus桌面型固体加样仪ChemPlus 桌面型固体加样仪，支持多种固体原料和接收容器，无需人工值守，自动完成重复耗时的固体称重加样操作。 &bull 高通量：可放置多种固体原料和接收容器，全面提升效率；&bull 适用范围广：样品无需特殊处理，覆盖吸潮结块、较大颗粒、蓬松、流动性差的粉末；&bull 智能算法参数调节：自适应加粉算法，多类型粉末智能识别；&bull 压电陶瓷激振技术：多类型粉末出粉更流畅；&bull 除静电：有效降低静电效应，加样更准确；&bull 成本可控：耗材价格低廉，节省成本；&bull 占地小：整机尺寸小，桌面型；&bull 兼容性广：可兼容多种实验室常用尺寸小瓶；&bull 数据追踪：条形码或二维码样品管理，支持审计追踪。ChemPlus 桌面型固体加样仪是一种专为不同固体粉末设计的自动化加样设备。该设备可以实现精确加样、提升加样效率、操作界面友好，使用安全，有效降低了物料浪费和人工成本。ChemPlus 的引入为实验室提供了一个高效能、可靠性强和经济性高的固体加样解决方案，特别适用于需要高通量和重复性的粉末处理场景。通过自动化技术，该设备确保了加样过程的一致性和可追溯性，同时减少了潜在的人为误差，从而提升了整体实验流程的质量和产出，对新材料的研发具有重要的意义。

摘要：为了减少环境污染、打造绿色经济，高效地利用电力变得越来越重要。电力电子设备是实现这一目标的关键技术，已被广泛用于风力发电、混合动力汽车、LED 照明等领域。这也对电子器件中的散热基板提出了更高的要求，传统的陶瓷基板如 AlN、Al2O3、BeO 等的缺点也日益突出，如较低的理论热导率和较差的力学性能等，严重阻碍了其发展。相比于传统陶瓷基板材料，氮化硅陶瓷由于其优异的理论热导率和良好的力学性能而逐渐成为电子器件的主要散热材料。关键词：半导体 陶瓷基板 氮化硅 热导率然而，目前氮化硅陶瓷实际热导率还远远低于理论热导率的值，而且一些高热导率氮化硅陶瓷(＞150 W/(mK))还处于实验室阶段。影响氮化硅陶瓷热导率的因素有晶格氧、晶相、晶界相等，其中氧原子因为在晶格中会发生固溶反应生成硅空位和造成晶格畸变，从而引起声子散射，降低氮化硅陶瓷热导率而成为主要因素。此外，晶型转变和晶轴取向也能在一定程度上影响氮化硅的热导率。如何实现氮化硅陶瓷基板的大规模生产也是一个不小的难题。现阶段，随着制备工艺的不断优化，氮化硅陶瓷实际热导率也在不断提高。为了降低晶格氧含量，首先在原料的选择上降低氧含量，一方面可选用含氧量比较少的 Si 粉作为起始原料，但是要避免在球磨的过程中引入氧杂质 另一方面，选用高纯度的 α-Si3N4 或者 β-Si3N4作为起始原料也能减少氧含量。其次选用适当的烧结助剂也能通过减少氧含量的方式提高热导率。目前使用较多的烧结助剂是 Y2O3-MgO，但是仍不可避免地引入了氧杂质，因此可以选用非氧化物烧结助剂来替换氧化物烧结助剂，如 YF3-MgO、MgF2-Y2O3、Y2Si4N6C-MgO、MgSiN2-YbF3 等在提高热导率方面也取得了非常不错的效果。研究发现通过加入碳来降低氧含量也能达到很好的效果，通过在原料粉体中掺杂一部分碳，使原料粉体在氮化、烧结时处于还原性较强的环境中，从而促进了氧的消除。此外，通过加入晶种和提高烧结温度等方式来促进晶型转变及通过外加磁场等方法使晶粒定向生长，都能在一定程度上提高热导率。为了满足电子器件的尺寸要求，流延成型成为大规模制备氮化硅陶瓷基板的关键技术。本文从影响热导率的主要因素入手，重点介绍了降低晶格氧含量、促进晶型转变及实现晶轴定向生长三种提高实际热导率的方法 然后，指出了流延成型是大规模制备高导热氮化硅陶瓷的关键，并分别从流延浆料的流动性、流延片和浆料的润湿性及稳定性等三方面进行了叙述 概述了目前常用的制备高导热氮化硅陶瓷的烧结工艺现状 最后，对未来氮化硅高导热陶瓷的研究方向进行了展望。关键词：半导体 陶瓷基板 氮化硅 热导率00引言随着集成电路工业的发展，电力电子器件技术正朝着高电压、大电流、大功率密度、小尺寸的方向发展。因此，高效的散热系统是高集成电路必不可少的一部分。这就使得基板材料既需要良好的机械可靠性，又需要较高的热导率。图 1 为电力电子模块基板及其开裂方式。研究人员对高导热系数陶瓷进行了大量的研究，其中具有高热导率的氮化铝(AlN)陶瓷(本征热导率约为320 W/(mK))被广泛用作电子器件的主要陶瓷基材。图 1 电力电子模块基板及其开裂方式但是，AlN 陶瓷的力学性能较差，如弯曲强度为 300～400 MPa，断裂韧性为 3～4 MPam1/2，导致氮化铝基板的使用寿命较短，使得它作为结构基板材料使用受到了限制。另外，Al2O3 陶瓷的理论热导率与实际热导率都很低，不适合应用于大规模集成电路。电子工业迫切希望找到具有良好力学性能的高导热基片材料，图 2 是几种陶瓷基板的强度与热导率的比较，因此，Si3N4 陶瓷成为人们关注的焦点。图 2 几种陶瓷基板的强度与热导率的比较与 AlN 和 Al2O3 陶瓷基板材料相比，Si3N4 具有一系列独特的优势。Si3N4 属于六方晶系，有 α、β 和 γ 三种晶相。Lightfoot 和 Haggerty 根据 Si3N4 结构提出氮化硅的理论热导率在200～300 W/(mK)。Hirosaki 等通过分子动力学的方法计算出 α-Si3N4 和 β-Si3N4 的理论热导率，发现Si3N4 的热导率沿 a 轴和 c 轴具有取向性，其中 α-Si3N4 单晶体沿 a轴和 c轴的理论热导率分别为105 W/(mK)、225W/(mK)；β-Si3N4 单晶体沿a轴和c轴方向的理论热导率分别是 170 W/(mK)、450 W/(mK)。Xiang 等结合密度泛函理论和修正的 Debye-Callaway 模型预测了 γ-Si3N4 陶瓷也具有较高的热导率。同时 Si3N4 具有高强度、高硬度、高电阻率、良好的抗热震性、低介电损耗和低膨胀系数等特点，是一种理想的散热和封装材料。现阶段，将高热导率氮化硅陶瓷用于电子器件的基板材料仍是一大难题。目前，国外只有东芝、京瓷等少数公司能将氮化硅陶瓷基板商用化(如东芝的氮化硅基片(TSN-90)的热导率为 90 W/(mK))。近年来国内的一些研究机构和高校相继有了成果，北京中材人工晶体研究院成功研制出热导率为 80 W/(mK)、抗弯强度为 750 MPa、断裂韧性为 7.5MPam1/2 的 Si3N4 陶瓷基片材料，其已与东芝公司的商用氮化硅产品性能相近。中科院上硅所曾宇平研究员团队成功研制出平均热导率为 95 W/(mK)，最高可达 120 W/(mK)且稳定性良好的氮化硅陶瓷。其尺寸为 120 mm×120 mm，厚度为 0.32 mm，而且外形尺寸能根据实际要求调整。目前我国的商用高导热 Si3N4 陶瓷基片与国外还是存在差距。因此，研发高导热的 Si3N4 陶瓷基片必将促进我国 IGBT(Insula-ted gate bipolar transistor)技术的大跨步发展，为步入新能源等高端领域实现点的突破。近年来氮化硅陶瓷基板材料的实际热导率不断提高，但与理论热导率仍有较大差距。目前，文献报道了提高氮化硅陶瓷热导率的方法，如降低晶格氧含量、促进晶型转变、实现晶粒定向生长等。本文阐述了如何提高氮化硅陶瓷的热导率和实现大规模生产的成型技术，重点概述了国内外高导热氮化硅陶瓷的研究进展。01晶格氧的影响氮化硅的主要传热机制是晶格振动，通过声子来传导热量。晶格振动并非是线性的，晶格间有着一定的耦合作用，声子间会发生碰撞，使声子的平均自由程减小。另外，Si3N4 晶体中的各种缺陷、杂质以及晶粒界面都会引起声子的散射，也等效于声子平均自由程减小，从而降低热导率。图 3 为氮化硅的微观结构。图 3 氮化硅烧结体的典型微观结构研究表明，在诸多晶格缺陷中，晶格氧是影响氮化硅陶瓷热导率的主要缺陷之一。氧原子在烧结的过程中会发生如下的固溶反应:2SiO2→ 2SiSi +4ON+VSi (1)反应中生成了硅空位，并且原子取代会使晶体产生一定的畸变，这些都会引起声子的散射，从而降低 Si3N4 晶体的热导率。Kitayama 等在晶格氧和晶界相两个方面对影响 Si3N4晶体热导率的因素进行了系统的研究，发现 Si3N4晶粒的尺寸会改变上述因素的影响程度，当晶粒尺寸小于 1μm时，晶格氧和晶界相的厚度都会成为影响热导率的主要因素 当晶粒尺寸大于 1μm 时，晶格氧是影响热导率的主要因素。而制备具有高热导率的氮化硅陶瓷，需要其具有大尺寸的晶粒，因此通过降低晶格氧含量来制得高热导率的氮化硅显得尤为关键。下面从原料的选择、烧结助剂的选择和制备过程中碳的还原等方面阐述降低晶格氧含量的有效方法。1.1 原料粉体选择为了降低氮化硅晶格中的氧含量，要先得从原料粉体上降低杂质氧的含量。目前有两种方法:一种是使用低含氧量的 Si 粉为原料，经过 Si 粉的氮化和重烧结两步工艺获得高致密、高导热的 Si3N4 陶瓷。将由 Si 粉和烧结助剂组成的 Si的致密体在氮气气氛中加热到 Si熔点(1414℃)附近的温度，使 Si 氮化后转变为多孔的 Si3N4 烧结体，再将氮化硅烧结体进一步加热到较高温度，使多孔的 Si3N4 烧结成致密的 Si3N4 陶瓷。另外一种是使用氧含量更低的高纯 α-Si3N4 粉进行烧结，或者直接用 β-Si3N4 进行烧结。日本的 Zhou、Zhu等以 Si 粉为原料，经过 SRBSN 工艺制备了一系列热导率超过 150W/(mK)的氮化硅陶瓷。高热导率的主要原因是相比于普通商用 α-Si3N4 粉末，Si 粉经氮化后具有较少的氧含量和杂质。Park 等研究了原料Si 粉的颗粒尺寸对氮化硅陶瓷热导率的影响，发现 Si 颗粒尺寸的减小能使氮化硅孔道变窄，有利于烧结过程中气孔的消除，进而得到致密度高的氮化硅陶瓷。研究表明，当 Si 粉减小到 1μm 后，氮化硅陶瓷的相对密度能达到 98%以上。但是在 SRBSN 这一工艺减小原料颗粒尺寸的过程中容易使原料表面发生氧化，增加了原料中晶格氧的含量。Guo等分别用 Si 粉和 α-Si3N4 为原料进行了对比试验。研究发现，以 Si 粉为原料经过氮化后能得到含氧量较低(0.36%,质量分数)的 Si3N4 粉末，通过无压烧结制得热导率为 66.5W/(mK)的氮化硅陶瓷。而在同样的条件下，以 α-Si3N4 为原料制备的氮化硅陶瓷，其热导率只有 56.8 W/(mK)。用高纯度的 α-Si3N4 粉末为原料，也能制得高热导率的氮化硅陶瓷。Duan 等以 α-Si3N4 为原料，制备了密度、导热系数、抗弯强度、断裂韧性和维氏硬度分别为 3.20 gcm-3 、60 W/(mK)、668 MPa、5.13 MPam1/2 和 15.06 GPa的Si3N4 陶瓷。Kim 等以 α-Si3N4为原料制备了热导率为78.8 W/(mK)的氮化硅陶瓷。刘幸丽等以不同配比的 β-Si3N4/α-Si3N4 粉末为起始原料，制备了热导率为108 W/(mK)、抗弯强度为 626 MPa的氮化硅陶瓷。结果表明:随着 β-Si3N4 粉末含量的增加，β-Si3N4柱状晶粒平均长径比的减小使得晶粒堆积密度减小，柱状晶体积分数相应增加，晶间相含量减少，热导率提高。彭萌萌等研究了粉体种类(β-Si3N4或 α-Si3N4)及 SPS 保温时间对氮化硅陶瓷热导率的影响。研究发现，采用 β-Si3N4粉体制备的氮化硅陶瓷的热导率比采用相同工艺以 α-Si3N4为粉体制备的氮化硅陶瓷高 15% 以上，达到了 105W/(mK)。不同原料制备的Si3N4材料的热导率比较见表1。表 1 不同原料制备的 Si3N4材料的热导率比较综合以上研究可发现，采用 Si 粉为原料制得的样品能达到很高的热导率，但是在研磨的过程中容易发生氧化，而且实验过程繁琐，耗时较长，不利于工业化生产 使用高纯度、低含氧量的 α-Si3N4粉末为原料时，由于原料本身纯度高，能制备出性能优异的氮化硅陶瓷，但是这样会导致成本增加，不利于大规模生产 虽然可以用 β-Si3N4 取代 α-Si3N4为原料，得到高热导率的氮化硅陶瓷，但是 β-Si3N4的棒状晶粒会阻碍晶粒重排，导致烧结物难以致密。1.2 烧结助剂选择Si3N4属于共价化合物，有着很小的自扩散系数，在烧结过程中依靠自身扩散很难形成致密化的晶体结构，因此添加合适的烧结助剂和优化烧结助剂配比能得到高热导率的氮化硅陶瓷。在高温时烧结助剂与Si3N4表面的 SiO2反应形成液相，最后形成晶界相。然而晶界相的热导率只有 0.7～1 W/(mK)，这些晶界相极大地降低了氮化硅的热导率，而且一些氧化物烧结添加剂的引入会导致 Si3N4晶格氧含量增加，也会导致热导率降低。目前氮化硅陶瓷的烧结助剂种类繁多，包括各种稀土氧化物、镁化物、氟化物和它们所组成的复合烧结助剂。稀土元素由于具有很高的氧亲和力而常被用于从 Si3N4晶格中吸附氧。目前比较常用的是镁的氧化物和稀土元素的氧化物组成的混合烧结助剂。Jia 等在氮化硅陶瓷的烧结过程中添加复合烧结助剂 Y2O3-MgO，制备了热导率达到 64.4W/(mK)的氮化硅陶瓷。Go 等同样采用 Y2O3-MgO为烧结助剂，研究了烧结助剂 MgO 的粒度对氮化硅微观结构和热导率的影响。研究发现，加入较粗的 MgO 颗粒会导致烧结过程中液相成分分布不均匀，使富 MgO 区周围的 Si3N4晶粒优先长大，从而导致最终的 Si3N4陶瓷中大颗粒的 Si3N4晶粒的比例增大，热导率提高。然而，加入氧化物烧结助剂会不可避免地引入氧原子，因此为了降低晶格中的氧杂质，可以采用氧化物 + 非氧化物作为烧结助剂。Yang 等以 MgF2-Y2O3为烧结添加剂制备出性能良好的高导热氮化硅陶瓷，发现用 MgF2可以降低烧结过程中液相的粘度，加速颗粒重排，使粉料混合物能够在较低温度(1600℃)和较短时间(3 min)内实现致密化，而且低的液相粘度与高的 Si、N 原子比例有助于 Si3N4 的 α→β 相变和晶粒生长，从而提高 Si3N4 陶瓷的热导率。Hu 等分别以 MgF2-Y2O3和 MgO-Y2O3为烧结助剂进行了对比试验，并探究了烧结助剂的配比对热导率的影响。相比于 MgO-Y2O3，用 MgF2-Y2O3作为烧结助剂时 Si3N4陶瓷热导率提高了 19%，当添加量为 4%MgF2 -5%Y2O3时，能达到最高的热导率。Li 等以 Y2Si4N6C-MgO 代替 Y2O3 -MgO 作为烧结添加剂，通过引入氮和促进二氧化硅的消除，在第二相中形成了较高的氮氧比，导致在致密化的 Si3N4 试样中颗粒增大，晶格氧含量降低，Si3N4 -Si3N4 的连续性增加，使Si3N4 陶瓷的热导率由 92 W/(mK)提高到 120 W/(mK)，提高了 30.4%。为了进一步提高液相中的氮氧比，降低晶格氧含量，通常还采用非氧化物作为烧结助剂。Lee 等研究了氧化物和非氧化物烧结添加剂对 Si3N4 的微观结构、导热系数和力学性能的影响。以 MgSiN2 -YbF3 为烧结添加剂，制备出导热系数为 101.5 W/(mK)、弯曲强度为822～916 MPa 的 Si3N4 陶瓷材料。经研究发现，相比于氧化物烧结添加剂，非氧化物 MgSiN2 和氟化物作为烧结添加剂能降低氮化硅的二次相和晶格氧含量，其中稀土氟化物能与 SiO2 反应生成 SiF4，而SiF4 的蒸发导致晶界相减少，同时也会导致晶界相 SiO2 还原，降低晶格氧含量，进而达到提高热导率的目的。不同烧结助剂制备的氮化硅陶瓷热导率比较见表 2，显微结构如图 4所示。表 2 不同烧结助剂制备的 Si3N4材料的热导率比较图 4 氧化物添加剂(a)MgO-Y2O3 和(d)MgO-Yb2O3、混合添加剂(b)MgSiN2 -Y2O3 和(e)MgSiN3 -Yb2O3 、非氧化物添加剂(c)MgSiN2 -YF3 和(f)Mg-SiN2 -YbF3 的微观结构目前主流的烧结助剂中稀土元素为 Y 和 Yb 的化合物，但是有些稀土元素并不能起到提高致密度的作用。Guo等分别用 ZrO2 -MgO-Y2O3和 Eu2O3 -MgO-Y2O3作为烧结助剂，制得了氮化硅陶瓷，经研究发现 Eu2O3 -MgO-Y2O3的加入反而抑制了氮化硅陶瓷的致密化。综合以上研究发现，相比于氧化物烧结助剂，非氧化物烧结助剂能额外提供氮原子，提高氮氧比，促进晶型转变，还能还原 SiO2 起到降低晶格氧含量、减少晶界相的作用。1.3 碳的还原前面提到的一些能高效降低晶格氧含量的烧结助剂，如Y2Si4N6C和 MgSiN2 等，无法从商业的渠道获得，这就给大规模生产造成了困扰，而且高温热处理也会导致高成本。因此，从工业应用的角度来看，开发简便、廉价的高导热 Si3N4 陶瓷的制备方法具有重要的意义。研究发现，在烧结过程中掺杂一定量的碳能起到还原氧杂质的作用，是一种降低晶格氧含量的有效方法。碳被广泛用作非氧化物陶瓷的烧结添加剂，其主要作用是去除非氧化物粉末表面的氧化物杂质。在此基础上，研究者发现少量碳的加入可以有效地降低 AlN 陶瓷的晶格氧含量，从而提高 AlN 陶瓷的热导率。同样地，在 Si3N4 陶瓷中引入碳也可以降低氧含量，主要是由于在氮化和后烧结过程中，适量的碳会起到非常明显的还原作用，能极大降低 SiO 的分压，增加晶间二次相的 N/O 原子比，从而形成双峰状显微结构，得到晶粒尺寸大、细长的氮化硅颗粒，提高氮化硅陶瓷的热导率。Li 等用 BN/石墨代替 BN 作为粉料底板后，氮化硅陶瓷的热导率提升了 40.7%。研究发现，即使 Si 粉经球磨后含氧量达到了 4.22%，氮化硅陶瓷的热导率依然能到达 121 W/(mK)。其原因主要是石墨具有较强的还原能力，在氮化的过程中通过促进 SiO2 的去除，改变二次相的化学成分，在烧结过程中进一步促进 SiO2 和 Y2Si3O3N4 二次相的消除，从而使产物生成较大的棒状晶粒，降低晶格氧含量，提高 Si3N4 -Si3N4 的连续性。研究表明，虽然掺杂了一部分碳，但是氮化硅的电阻率依然不变，然而最终的产物有很高的质量损失比(25.8%)，增加了原料损失的成本。Li 等发现过量的石墨会与表面的 Si3N4 发生反应，这是导致氮化硅陶瓷具有较高质量损失比的关键因素。于是他们改进了制备工艺，采用两步气压烧结法，用 5%(摩尔分数) 碳掺杂 93%α-Si3N4 -2%Yb2O3 -5%MgO 的粉末混合物作为原料进行烧结实验。结果表明，碳的加入使 Si3N4 陶瓷的热导率从 102 W/(mK)提高到 128 W/(mK)，提高了 25.5%。在第一步烧结过程中，碳热还原过程显著降低了氧含量，增加了晶间二次相的N/O比，在半成品 Si3N4样品中，有Y2Si4O7N2第二相出现，β-Si3N4 含量较高，棒状 β-Si3N4 晶粒较大。在第二步烧结过程中，第二相Y2Si4O7N2与碳反应生成了 YbSi3N5，极大降低了晶格氧含量，得到了较粗的棒状晶粒和更紧密的 Si3N4 -Si3N4 界面，使得 Si3N4 陶瓷的热导率有了显著的提升，所制备的Si3N4 的 SEM 图如图 5 所示。图 5 最后的Si3N4陶瓷样品抛光表面和等离子刻蚀表面的 SEM 显微照片:(a)SN 和(b)SNC 的低倍图像 (c)SN 和(d)SNC 的高倍图像在制备高导热氮化硅陶瓷中加入碳是降低晶格氧含量的有效方法，该方法对原料含氧量和烧结助剂的要求不高，降低了高导热氮化硅陶瓷的制备成本，随着技术的不断改进，有望在工业化生产中得到应用。02晶型转变、晶轴取向的影响2.1 晶型转变对热导率的影响及改进方法β-Si3N4因为结构上更加对称，其热导率要高于 α-Si3N4。在高温烧结氮化硅陶瓷的过程中，原料低温相 α-Si3N4会经过溶解-沉淀机制转变为高温相 β-Si3N4，但是在烧结过程中晶型转变并不完全，未转变的 α-Si3N4会极大地影响氮化硅陶瓷的热导率。为了促进晶型转变，得到更高的 β/(α + β)相比，目前比较常用的方法是:(1)在烧结制度上进行改变，如提高烧结温度和延长烧结时间及后续的热处理等 (2)在α-Si3N4中加入适量的 β-Si3N4棒状晶粒作为晶种。图6为加入晶种后氮化硅陶瓷的双模式组织分布。图 6 加入晶种后 β-Si3N4陶瓷的双模式组织分布Zhou 等探究了不同的烧结时间对氮化硅陶瓷热导率、弯曲强度、断裂韧性的影响。由表 3 可见，随着烧结时间的延长，氮化硅陶瓷的热导率逐渐升高。这主要是由于随着溶解沉淀过程的进行，晶粒不断长大，β-Si3N4含量不断增加，晶格氧含量降低。童文欣等研究了烧结温度对 Si3N4热导率的影响，发现经 1600℃烧结后的样品既含有 α 相又含有 β 相。在烧结温度升至 1700℃及 1800℃后，试样中只存在 β 相。随着烧结温度的升高，样品热导率呈现增加的趋势，可能是晶粒尺寸增大、液相含量降低以及液相在多晶界边缘处形成独立的“玻璃囊”现象所致。表 3 不同烧结时间下Si3N4的性能比较Zhu 等发现在烧结过程中加入 β-Si3N4作为晶种，能得到致密化程度和热导率更高的氮化硅陶瓷。为了进一步促进晶型转变，得到大尺寸的氮化硅晶粒，可以采用 β-Si3N4代替α-Si3N4为起始粉末制备高导热氮化硅陶瓷。梁振华等在原料中加入了 1%(质量分数)的棒状 β-Si3N4颗粒作为晶种，氮化硅陶瓷的热导率达到了 158 W/(mK)。刘幸丽等探究了不同配比的 β-Si3N4/α-Si3N4对氮化硅陶瓷热导率和力学性能的影响，结果表明，当原料中全是 β-Si3N4时氮化硅陶瓷有最高的热导率，达到了108 W/(mK)，但是抗弯强度也降低。综合以上研究发现，适当提高烧结温度和延长烧结时间都能在一定程度上促进晶型转变 加入适量的 β-Si3N4晶种用来促进晶型转变可以在较短的时间内提高 β/(α+β)相比，使晶粒生长更加充分，得到高热导率的氮化硅陶瓷。2.2 晶轴取向对热导率的影响及改进方法由于 c 轴的生长速率大于 a 轴，各向异性生长导致了 β-Si3N4呈棒状，也导致了其物理性质的各向异性。前面叙述了氮化硅晶粒热导率具有各向异性的特征，β-Si3N4单晶体沿a 轴和c 轴的理论热导率分别为170 W/(mK)、450 W/(mK)，因此在成型工艺中采取合适的方法可以实现氮化硅晶粒的定向排列，促进晶粒定向生长。目前能使晶粒定向生长的成型方法有流延成型、热压成型、注浆成型等。在外加强磁场的作用下，氮化硅晶体沿各晶轴具有比较明显的生长差异。这主要是由于氮化硅晶体沿各晶轴方向的磁化率差异，在外加强磁场的作用下，氮化硅晶体会受到力矩的作用，通过旋转一定的角度以便具有最小的磁化能，氮化硅晶粒旋转驱动能量表达式如下:Δχ = χc -χa,b (2) (3)式中:V 是粒子的体积，B 是外加磁场，μ0 是真空中的磁导率，χc 和 χa，b 分别表示氮化硅晶体沿 c 轴和 a，b 轴的磁化率，|Δχ |是晶体沿各晶轴方向的磁化率差值的绝对值。而粒子的热运动能量 U 的表达式为:U=3nN0kB (4)式中:n 是物质粒子的摩尔数，N0 是阿伏伽德罗常数，kB 是玻尔兹曼常数，T 是温度。当 ΔE 大于 U 时，粒子可以被磁场旋转。由图 7 可知，若 c 轴具有较高的磁化率，棒状粒子将与磁场平行排列 若 c 轴的磁化率较低，棒状粒子将垂直于磁场排列。图 7 磁场对晶格中六边形棒状粒子排列的影响示意图:(a)χc ＞ χa,b (b) χc＜χa,b 在弱磁性陶瓷成型过程中引入强磁场，可以制备出具有取向微结构的样品。由于氮化硅晶粒沿各轴的磁化率 χc＜χa,b可以在旋转的水平磁场中通过注浆成型等技术制备具有 c 轴取向的氮化硅陶瓷，制备原理如图 8 所示。图 8 磁场中制备具有晶轴取向的陶瓷杨治刚等用凝胶注模成型取代了传统的注浆成型，在6T 纵向磁场中制备出具有沿 a 轴或 b 轴取向的织构化氮化硅陶瓷，并研究了烧结温度和保温时间对氮化硅陶瓷织构化的影响规律。结果表明，升高烧结温度促进了氮化硅陶瓷织构化，而延长烧结时间对织构化几乎没有影响。Liang 等在使用热压烧结制备氮化硅陶瓷时，发现氮化硅晶粒{0001}有沿 z 轴生长的迹象，有较强的取向性。这有利于制备高导热的氮化硅陶瓷。Zhu 等在 12T 的水平磁场中进行注浆成型，得到热导率为 170 W/(mK)的高导热氮化硅陶瓷。研究发现，在注浆成型的过程中模具以 5 r/min 的转速旋转形成一个旋转磁场，从而导致 β-Si3N4在凝结过程中具有与磁场垂直的 c 轴取向，c 轴取向系数为0.98。图9 为磁场和模具旋转对棒状氮化硅晶粒取向的影响。图 9 磁场和模具旋转对棒状氮化硅晶粒取向的影响现阶段，在大规模生产中很难实现氮化硅晶粒的取向生长，目前文献报道的定向生长的氮化硅陶瓷仅限于实验室阶段，需要通过合适的方法，在工业化生产中实现氮化硅晶粒的取向生长，这对制备高导热氮化硅陶瓷是极具应用前景的。03陶瓷基片制备工艺3.1 成型工艺由于电力电子器件的小型化，对氮化硅陶瓷基板材料的尺寸和厚度有了更加精细的要求，商业用途的氮化硅陶瓷基板的厚度范围是 0.3～0.6 mm。为了实现大规模生产氮化硅陶瓷基板材料，选择一种合适的成型方法显得尤为重要。目前制备氮化硅陶瓷的成型方法很多，如流延成型、热压成型、注浆成型、冷等静压成型等。但是为了同时满足小型化、精细化的尺寸要求和实现氮化硅晶粒的定向生长，流延成型无疑是实现这一目标的关键。图 10 是流延成型工艺的流程图，下面对流延成型制备氮化硅陶瓷基板材料进行叙述。图 10 流延成型工艺流程图流延成型的浆料是决定素坯性能最关键的因素，浆料包括粉体、溶剂、分散剂、粘结剂、增塑剂和其他添加剂，每一种成分对浆料的性能都有重要影响，并且浆料中的各个组分也会互相产生影响。虽然流延成型相比于其他成型工艺有着独特的优势，但是在实际操作中由于应力的释放机制不同，容易使流延片干燥时出现弯曲、开裂、起皱、厚薄不均匀等现象。为了制备出均匀稳定的流延浆料和干燥后光滑平整的流延片，在保持配方不变的情况下，需要注意浆料的润湿性、稳定性和坯片的厚度等因素。通过流延成型制备氮化硅流延片时，Otsuka 等和Chou 等分别提出了理论液体的流动模型，流延成型过程中流延片厚度 D 与各流延参数的关系如式(5)所示：(5)式中:α 表示湿坯干燥时厚度的收缩系数，浆料的粘度和均匀性对其影响较大 h 和 L 分别表示刮刀刀刃间隙的高度和长度 η 表示浆料的粘度 ΔF 表示料斗内压力，一般由浆料高度决定 v0 表示流延装置和支撑载体的相对速度。为了制备超薄的陶瓷基片，需要在保持浆料的粘度适中和均匀性良好的情况下，适当地调整刮刀间隙和保持浆料的液面高度不变。在有机流延成型中，一般使用共沸混合物作为溶剂，溶解效果更佳，这样就需要保证溶剂对粉体颗粒有很好的润湿性，这与溶剂的表面张力有关，可以用式(6)解释： (6)式中:θ 为润湿角 γsv、γsl、γlv 分别表示固-气、固-液、液-气的表面张力。由式(6)可知，γlv 越小，则 θ 越小，表明润湿性越好。润湿作用如图 11 所示。图 11 润湿作用示意图为了保证流延浆料均匀稳定，需要加入分散剂，其主要作用是使粉体颗粒表面易于润湿，降低粉体颗粒表面势能使之更易分散，并且使颗粒之间的势垒升高，从而使浆料稳定均匀。浆料的稳定性可以通过 DLVO 理论来描述:UT=UA+UR (7)式中:UA 为范德华引力势能 UR 为斥力势能。当 UR大于 UA时，浆料稳定。为了保证浆料的均匀稳定，分散剂的用量也要把控。若用量过多，则产生的粒子很容易粘结，不利于获得珠状颗粒 若用量过少，容易被分散成小液滴，单体不稳定，随着反应的进行，分散的液滴也可能凝结成块。Duan 等先采用流延成型工艺制备了微观结构均匀、相对密度达 56.08%的流延片，然后经过气压烧结得到了相对密度达 99%、热导率为 58 W/(mK)的氮化硅陶瓷。Zhang等采用流延成型工艺和气压烧结工艺制备了热导率为 81W/(mK)的致密氮化硅陶瓷。研究发现分散剂(PE)、粘结剂(PVB)、增塑剂/粘结剂的配比和固载量分别为 1.8%(质量分数)、8%(质量分数)、1.2、33%(体积分数)时能得到最高的热导率。张景贤等先通过流延成型制备 Si 的流延片，然后通过脱脂、氮化、烧结制备出热导率为 76 W/(mK)的氮化硅陶瓷。目前关于流延成型制备的氮化硅陶瓷热导率还不高，远低于文献报道的水平(＞150 W/(mK))，通过改善工艺、优化各组分的配比，制备出均匀稳定、粘度适中、润湿性良好的浆料，是大规模制备高导热氮化硅陶瓷的关键。3.2 烧结工艺目前，制备氮化硅陶瓷的主要烧结方法有气压烧结、反应烧结重烧结、放电等离子烧结、热压烧结等，每种方法各有优劣，下面对一些常用的烧结方法进行简要概述。气压烧结(GPS)能在氮气的氛围中通过加压、加热使氮化硅迅速致密，促进 α→β 晶型的快速转变，有助于提高氮化硅陶瓷的热导率。Li 等以 α-Si3N4为原料，通过两步气压烧结法，制备了高导热的氮化硅陶瓷。先将混合粉末在1 MPa的氮气压力下加热到 1500℃ 烧结 8h，然后在 1900℃下烧结 12h，通过两步气压烧结的反应，极大促进了 α→β-Si3N4的晶型转变，氮化硅陶瓷的热导率达到了128 W/(mK)。Kim 等采用气压烧结的方法在 0.9 MPa 的氮气氛围中加热到 1900 ℃，保温 6h，最后得到的氮化硅陶瓷的热导率为 78.8 W/(mK)。Li 等用 Y2Si4N6C-MgO 为烧结助剂，采用气压烧结方法制备了热导率为 120 W/(mK)的氮化硅陶瓷。放电等离子烧结(SPS)工艺是一种实现压力场、温度场、电场共同作用的试样烧结方式，具有升温速率快、烧结温度低、烧结时间短等优点。Yang 等以 MgF2-Y2O3为烧结添加剂，采用 SPS 工艺制备了热导率为 76 W/(mK)、抗弯强度为 857.6 MPa、硬度为 14.9 GPa、断裂韧性为 7.7 MPam 1/2的Si3N4陶瓷。实验表明，由于外加电场的作用，颗粒之间容易滑动，有利于颗粒间的重排，从而得到大晶粒颗粒，使Si3N4在较低温度下达到较高的致密化。Hu 等通过 SPS工艺，以 MgF2-Y2O3和 MgO-Y2O3为烧结添加剂，制备了热导率为 82.5 W/(mK)、弯曲强度为(911±47) MPa、断裂韧性为(8.47±0.31) MPam1/2的Si3N4陶瓷材料。SPS 工艺还可以解决上文提到的以 β-Si3N4为原料制备氮化硅陶瓷难烧结致密的问题。彭萌萌等采用 SPS 工艺在 1600℃ 下烧结5 min，然后在 1900℃ 下保温 3h，获得了致密的氮化硅陶瓷，其热导率高达 105 W/(mK)。Liu 等以不同配比的β-Si3N4 /α-Si3N4粉末为起始原料，采用 SPS 和热处理工艺成功制得致密度高达 99%的高导热氮化硅陶瓷。烧结反应重烧结(SRBSN)由于是以 Si 粉为原料经过氮化得到多孔的 Si3N4 烧结体，进而再烧结形成致密的氮化硅陶瓷，比一般以商用 α-Si3N4为原料制备的氮化硅陶瓷具有更低的氧含量而受到研究者的青睐。Zhou 等采用 SRBSN工艺制备了热导率高达 177 W/(mK)的 Si3N4 陶瓷。结果表明，通过延长烧结时间，进一步降低晶格氧含量，可以获得更高的导热系数。此外，他们还研究了高导热性 Si3N4陶瓷的断裂行为，发现其具有较高的断裂韧性(11.2 MPam1/2 )。Zhou 等采用 SRBSN 工艺，以Y2O3和 MgO 为添加剂制备了Si3N4陶瓷。研究发现Y2O3 -MgO 添加剂的含量和烧结时间都会影响Si3N4的热导率。当添加剂的含量为 2%Y2O3 -4%MgO 时，在烧结 24 h 后，得到热导率为 156 W/(mK)的Si3N4陶瓷，相比于烧结时间 6h 得到的Si3N4陶瓷(128 W/(mK))，热导率提升了21%。Li 等采用 SRBSN 工艺，以Y2O3-MgO 为烧结助剂制备了热导率高达 121 W/(mK)的 Si3N4 陶瓷。采用其他烧结方式也能制备出高导热的氮化硅陶瓷。Jia 等采用超高压烧结制备出热导率为 64.6 W/(mK)的氮化硅陶瓷。Duan 等以 10%的 TiO2 -MgO 为烧结添加剂，在1780℃下低温无压烧结，制备了热导率为60 W/(mK)的氮化硅陶瓷。Lee 等采用热压烧结工艺制备出热导率为 101.5 W/(mK)的氮化硅陶瓷。综合上述研究可发现，虽然烧结方式不一样，但都可以制备出性能优异的氮化硅陶瓷。在实现氮化硅陶瓷大规模生产时，需要考虑成本、操作难易程度和生产周期等因素，因此找到一种快速、简便、低成本的烧结工艺是关键。04结语Si3N4 陶瓷由于其潜在的高导热性能和优异的力学性能，在大功率半导体器件领域越来越受欢迎，有望成为电子器件首选的陶瓷基板材料。但是有诸多限制其热导率的因素，如晶格缺陷、杂质元素、晶格氧含量、晶粒尺寸等，导致氮化硅陶瓷的实际热导率并不高。目前，就如何提高氮化硅的实际热导率从而实现大规模生产还存在一些待解决的问题:(1)原料粉体的颗粒尺寸对制备性能优异的氮化硅陶瓷有着重要影响，但是在减小粉末粒度的同时也会使颗粒表面发生氧化，引入额外的氧杂质，因此需要在减小粒度的同时避免氧杂质的渗入。(2)目前，烧结助剂的非氧化、多功能化成为研究的热点，选用合适的烧结助剂不仅能促进烧结，减少晶界相，还能降低晶格氧含量，促进晶型转变。因此，高效的、多功能的烧结助剂也是重要的研究方向。(3)为了降低晶格氧含量，在制备过程中加入具有还原性的碳能起到不错的效果。故在氮化或烧结中制造还原性的气氛或添加具有还原性的物质是将来研究的热点。(4)实现氮化硅基板的大规模生产，流延成型是一个不错的选择。可是由于有机物的影响，氮化硅基体的致密度不高，而且流延成型的氮化硅晶粒定向生长不明显，如何实现流延片中的氮化硅颗粒定向生长和提升其致密度必将成为研究热点。

应用范围：（1）热加工、水泥、建材行业,进行小型工件的热加工或处理。（2）医药行业：用于药品的检验、医学样品的预处理等。 （3）分析化学行业：作为水质分析、环境分析等领域的样品处理。也可以用来进行石油及其分析。 （4）煤质分析：用于测定水分、灰份、挥发份、灰熔点分析、灰成分分析、元素分析。也可以作为通用灰化炉使用。 设备特点升 温 快: 1000oC炉型由100oC升温至1000oC，小于30分钟 1700oC炉型由100oC升温至1700oC，小于90分钟效率高: 作实验炉用时，可开进出风孔，加烟筒，有利于补进新鲜氧气，加速试验。重 量 轻: 6升炉型仅重50公斤 9升炉型仅重65公斤 （总体重量）容量大: 型号齐全6L 9L 20L 30L 60L（炉膛体积） 非标产品可根据用户需求定做。节能安全: 6升、9升炉型采用16A/220V标准电源. 20、30升炉型采用16A/380V三相电源。由于采用新型陶瓷纤维炉膛，保温效果好，升温至1000oC，并保持1小时后外壳表面不烫手，避免烫伤。（约45-55oC根据使用环境定）产品特点：● 炉体、智能控制器分体设计，美观、大方，炉门采用侧开门设计。● 采用两侧衬板式加热元件，便于更换炉丝，采用进口超高温发热体，抗氧化性能更加优异，大大增加使用寿命。● 采用陶瓷纤维绝热，大幅度的提高了升温速度，并减少了热能消耗，与传统的马弗炉相比重量减轻1/2,升温速度提高1倍，大大节约能源，寿命提高3.5倍；保温效果好，炉外表温度低● 采用进口温控仪表，全新数字显示，数字设定温度，智能控制输出，可减少视读和人为操作误差，大大提高工作效率。● 设有多种保护装置，提高了安全性及可靠性● 独立控制系统，方便维修更换● 炉体上开有排气孔（可根据用户要求增设气体保护进、排气空）● 可根据用户需要定做其他规格产品.各种非标管式炉、井式炉、箱式炉备：可根据用户需求定制各种规格异型加热装置，加热炉膛！ 序号型号技术参数配置1TL0610容积为6L,最高温度 1000℃主机一台，控温一套，备件一套，2TL0910容积为9L, 最高温度 1000℃主机一台，控温一套，备件一套，3TL0612容积为6L, 最高温度 1200℃主机一台，控温一套，备件一套，4TL0912容积为9L, 最高温度 1200℃主机一台，控温一套，备件一套，5TL0614容积为6L, 最高温度 1400℃主机一台，控温一套，备件一套，6TL0914容积为9L, 最高温度 1400℃主机一台，控温一套，备件一套，7TL2010容积为20L, 最高温度1000℃主机一台，控温一套，备件一套，8TL3010容积为30L, 最高温度 1000℃主机一台，控温一套，备件一套，9TL6010容积为60L, 最高温度 1000℃主机一台，控温一套，备件一套，10TL2012容积为20L, 最高温度 1200℃主机一台，控温一套，备件一套，11TL3012容积为20L, 最高温度 1200℃主机一台，控温一套，备件一套，12TL6012容积为60L, 最高温度 1200℃主机一台，控温一套，备件一套，13TL2014容积为20L, 最高温度 1400℃主机一台，控温一套，备件一套，14TL3014容积为30L,最高温度 1400℃主机一台，控温一套，备件一套，15TL0217容积为2L, 最高温度 1700℃主机一台，变压器一台，控温一套，备件一套，16TL0417容积为4L, 最高温度1700℃主机一台，变压器一台，控温一套，备件一套，17TL0617容积为6L, 最高温度1700℃主机一台，变压器一台，控温一套，备件一套，18TL0917容积为9L, 最高温度 1700℃主机一台，变压器一台，控温一套，备件一套， 创新点：炉膛整体采用陶瓷纤维凹凸槽瓶装粘结成型，减小龟裂。分体式设计操作更加安全，发热体采用镶嵌可更换模式安装，如有腐蚀性气氛，可单独更换，无需更换炉膛总成，更换简单方便。大大减小用户使用成本。可选配，进口，国产智能液晶温控仪表。陶瓷纤维马弗炉

材料决定科技发展的上限，而国家重点实验室作为我国的科创“国家队”，无疑要承担起原始创新和关键核心技术领域突破的重任。现如今，我国材料科学领域的国家重点实验室一共有21个，分属于20个高校及科研院所，归属于教育部、工信部、中科院、河北省科技厅等4个部门。这些材料类的国家重点实验室涉及的研究领域有复合材料、高分子材料、超硬材料、粉末冶金材料、发光材料、光电材料、固体润滑材料、硅材料、金属材料、晶体材料、硅酸盐建筑材料、陶瓷材料等、信息功能材料、亚稳材料等，详情如图1所示：图1我国材料领域国家重点实验室名单详情做材料研究，仪器不仅不可或缺，对仪器的质量和创新的要求也更高。据了解，仅2020年上半年，就有20家国家重点实验室采购了近150类仪器设备。那么对于在材料领域耕耘的国家重点实验室，常用的主要仪器设备都有哪些呢？仪器信息网特汇总分析了上述实验室的主要仪器设备明细，现正式绘制并推出我国材料领域国家重点实验室仪器配置清单，供读者参考（注：文中标出的数字为该类仪器在对应国家重点实验室的型号种类数，并不是该类仪器的数量）。综合分析各大材料类国家重点实验室的仪器配置清单可以看出，分析材料微观形貌的扫描电子显微镜成为材料研究“国家队”当之无愧的左膀右臂。根据上述统计，有11家材料领域国家重点实验室配备有扫描电子显微镜。仅武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室就配置有5种不同型号的场发射扫描电子显微镜。紧随扫描电镜其后的最高频配置仪器是X射线衍射仪，上述统计中，共有10家国家重点实验室配置了该类仪器。另外，显微镜家族的其他成员也高频出现，扫描探针显微镜、原子力显微镜、透射电子显微镜在各国家重点实验室中的配置频率也分列3至5位。在材料领域国家重点实验室高频配置的仪器名单如下（点击仪器名称进入相关仪器专场了解详情）：扫描电子显微镜X射线衍射仪扫描探针显微镜原子力显微镜透射电子显微镜试验机硬度计差示扫描量热仪傅里叶变换红外光谱仪同步热分析仪荧光光谱仪紫外可见分光光度计X射线光电子能谱仪电化学综合测试仪红外光谱仪激光导热仪激光粒度分析仪密度测定仪我国材料领域各国家重点实验室的仪器配置详情汇总如下：武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类场发射扫描电子显微镜5惰性气体操作系统1脉冲激光沉积设备1扫描电子显微镜4惰性气体纯化仪(手套箱)1喷雾干燥机1X射线衍射仪2放电等离子烧结系统1喷雾热分解设备1放电等离子烧结装置2傅里叶变换红外光谱仪1热等静压烧结炉1燃料电池测定系统2高效液相/凝胶渗透色谱1热电效率测定装置1ARES高级扩展流变仪(电磁流变仪)1高性能双面对准光刻机1热压烧结炉1超高真空磁控溅射镀膜设备1高真空热压烧结炉1三维光学轮廓仪1超声波扫描显微镜1高真空双室镀膜设备1扫描探针显微镜1大尺寸高温化学气相沉积系统1核磁共振波谱仪1石英微天平分析仪1大尺寸块体材料热电性能快速扫描测试装置1霍尔效应测试仪1手套箱-蒸镀膜系统1大型熔体旋甩超快冷却系统1激光导热仪1双加热模式高温快速压力烧结系统1低温激光导热仪1晶体结构及物相分析系统1涂布机1低温真空探针台1精密平面磨削机1微波电磁参数测试系统1低压气压烧结炉1精密数控平面磨床1下降式高真空温梯炉1电输运性质测量系统1冷等静压机1氧氮分析仪1圆二色谱仪1原子层沉积系统1液态急冷非晶纳米晶制备系统1液相色谱-四级杆-飞行时间串联质谱仪1原位漫反射傅里叶变换红外光谱仪1武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类X射线衍射仪2高速离心喷雾干燥机1扫描探针显微镜1付立叶红外光谱分析仪2固体核磁共振波谱仪1时间分辨荧光光谱仪1热常数分析仪2光电测试系统1水泥熟料烧成与性能检测系统13D喷釉打印机1光学薄膜分析系统1伺服液压沥青混合料动态测试系统1YAG宽光谱激光器1红外热像仪1台阶仪（轮廓仪）1比表面孔径分析仪1激光共聚焦显微镜1弯曲梁流变仪1玻璃强化飞秒激光加工及检测系统1激光共聚焦显微拉曼光谱仪1微机控制电子万能试验机1差示扫描量热仪1集料图像测量系统1维氏硬度计1场发射环境扫描电镜1挤出机械（真空压力系统）1析晶炉1超景深三维显微镜1结构扫描仪1旋转式压实仪1磁控溅射仪1控制温度吸附氧化化学仪1压汞仪1等离子电炉1沥青多功能试验仪1荧光性能测试系统1等离子体增强化学气相沉积设备1沥青多全自动组分分析仪1原子吸收光谱仪1低场核磁仪1纳米压痕仪1约束可调单轴温度-应力实验机1电化学综合测试仪1气体吸附分析仪1粘滞系数测试仪1动态剪切流变仪1气体吸附仪1紫外可见近红外分光光度计1动态力学分析仪1全自动混凝土冻融仪1自动热喷涂系统1动态疲劳试验加载系统1全自动显微硬度仪1高分辨三维X射线显微成像系统1非接触式高温显微镜综合分析仪1热分析系统1热重红外联用分析仪1吉林大学超硬材料国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类600MHz超导傅立叶变换宽腔高功率固体核磁共振谱仪1高压超快光谱测试系统1两面顶Walker型6-8压机1X射线衍射仪1高压霍尔效应测试系统1六面顶液压机1场发射扫描电子显微镜1高压三级联拉曼光谱仪1热灯丝金刚石薄膜沉积系统1场发射透射电子显微镜1高压时间分辨光谱测试系统1热膨胀仪1单晶X射线衍射仪1高压荧光光谱分析系统1双束电子显微镜1刀具检测系统1高压原位低温磁电测量系统1显微共聚焦高压拉曼光谱仪1电输运测量型金刚石对顶砧压机1高压原位低温磁光实验测试系统1新一代大型超高压产生装置1电子探针1高压原位精密聚焦显微激光加温系统1真空镀膜设备1多面砧大腔体压机1高压阻抗测量系统1震动样品磁强计1高品级立方氮化硼膜外延生长实验平台1铰链式六面顶液压机1综合热分析仪1高温高压布里渊散射系统1金刚石刀具刃磨设备1综合物理测试系统1高温激光热导仪1宽波段显微光路高压真空红外光谱仪1中南大学粉末冶金国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类真空热压机（炉）1碳/硫分析仪1真空粉末挤压成形机1真空气压烧结炉1自动比表面分析仪1金相实验室制样设备（4台件）4氮/氧分析仪1万能金相显微镜──图相分析仪1中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类全自动四站比表面积及孔径分析仪1高性能计算服务器扩充（开放共享型）1高分辨活体动物X射线断层扫描系统1全自动压汞仪1TEM低温样品杆、电和力性能原位测试样品杆1多功能生物分子成像仪1zeta电位/粒度分析仪1高真空温控型纳米热电多参量原位表征系统1多功能酶标仪1电化学综合工作站1虚拟仿真三维可视化软件及X射线源1流式细胞仪1离心/重力沉降粒度仪1化学气相沉积炉真空系统1低能离子减薄仪1台式扫描电镜1连续式氮化铝粉体合成炉1氩离子截面抛光仪1多功能烧结炉1复合型激光加热浮区晶体生长炉1超高温强度试验机1智能烧结炉1高通量材料合成/检测系统1卷对卷磁控溅射镀膜设备1超高温炉1连续氧化铝纤维制备设备1热蒸发、磁控溅射及靶材制备系统1结构功能一体化多层陶瓷复合材料制备装置1固态输运高温气相沉积系统1多功能复合表面改性系统1高真空气压烧结炉设备1活塞-圆筒高温超高压装置1电学性能测试综合装置1颗粒增强化学气相沉积系统1织构化新材料合成用强磁场设备1火焰环境高温拉伸/蠕变测试仪1MCR301流变仪1中科院兰州物理化学研究所固体润滑国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类原子力显微镜4非接触式光学轮廓仪1石英晶体微天平分析仪1红外光谱仪2高分辨X射线衍射仪1双模式三维表面轮廓仪1扫描电子显微镜2高温原位材料结构分析系统1台阶膜厚仪1X荧光能谱仪1高压差示扫描量热仪1同步热分析仪1测量显微镜1激光动态散射仪1透射电子显微镜1电化学独立扫描隧道探针显微镜系统1气相色谱质谱联用仪1显微共焦拉曼光谱仪1多功能电子能谱仪1热分析仪1紫外可见分光分度计1非接触三维表面轮廓仪1扫描探针显微镜1紫外可见光谱仪1浙江大学硅材料国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类扫描探针显微镜1原子力显微镜1傅里叶红外光谱仪1周期式脉冲电场激活烧结系统1热台偏光显微系统1微波光电导衰减寿命测试仪1振动样品磁强计1近场光学显微镜1变温高磁场测试系统1针尖增强半导体材料光谱测试系统1光度式椭圆偏振光谱仪1同步热分析仪1低维硅材料的原位扫描隧道显微分析系统1高真空热压烧结炉1铸造炉1热常数分析仪1等离子体增强化学气相沉积法1扫描电子显微镜1超高温井式冷壁气密罐式炉系统1磁控溅射镀膜系统1高分辨透射电子显微镜1角分辨X射线光电子能谱仪1深能级瞬态谱仪1西安交通大学金属材料强度国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类疲劳试验机7冲击试验机1纳米显微力学探针系统1扫描电子显微镜6倒置金相显微镜1纳米压痕动态测量系统1电子拉伸试验机3电化学综合测试系统1纳米压痕仪1透射电子显微镜3电液伺服动静试验机1热重同步差热分析仪1X-射线衍射仪1傅里叶变换红外光谱仪1扫描电镜纳米力学测量系统1X-射线应力仪1固体薄膜zeta电位及粒度分析仪1双束显微镜1凹坑仪1光纤激光器1透射电镜1半导体特性分析系统及纳米探针台1聚集离子束联用纳米力学测量系统1微小力试验机1彩色3D激光显微镜1可控温拉伸机1荧光光谱仪1差热分析仪1纳米操纵仪1原子力显微镜1超高温持久蠕变试验机1纳米力学测量系统1真空沉积炉应力测试系1超声相控阵检测系统1纳米探针增强拉曼光谱仪1真空摩擦仪1真空三体磨损试验机1东华大学纤维材料改性国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类双折射检查仪9超景深显微镜1热台偏光显微镜1密度测定仪6超声波细胞粉碎机1热重红外联用仪1声速取向测定仪6单丝纱线强伸度仪1熔喷无纺布机1宝石显微镜5电化学综合测试仪1扫描电子显微镜1差示扫描量热仪5电脑平板硫化机1色差仪1平板硫化机4电子万能材料试验机1上吹薄膜机组1微型注塑机4纺丝机1数字式电导仪1傅立叶红外光谱仪3复丝纱线强伸度仪1数字式粘度计1接触角测定仪3干燥牵伸定型一体化设备1双料筒毛细管流变仪1结晶速度测量仪3高聚物扭矩流变仪1双螺杆纺丝机1偏振显微镜3高温荷软测试仪1双螺杆挤出机1微型共混仪3高阻仪1双折射检查仪J1半自动压力成型机2光谱分析仪1双组份复合纺丝机1玻璃软化温度实验装置2恒温震荡器1水份测定仪1差热分析仪2激光粒度分析仪1塑料成型注射机1差热膨胀仪2接触角测量仪1塑料成型注塑机1单丝纤维强伸度仪2解偏振测试仪1塑料硬度计1复丝氨纶弹性仪2介电常数仪1酸度计1固体密度仪2金相镶嵌机1同步热分析仪1光学解偏振仪2进口紫外分光光度仪1微电脑相位差测试仪1光学轮廓仪2静电纺丝机1微粒粒径测试仪1缕纱测长机2抗热震性试验机1微喷射式自由成型系统1凝胶渗透色谱仪2可塑性测定仪1微型机控制纤维缠绕机1强力测试仪2快速水份测定仪1微型台式双螺杆挤出机1热重分析仪2拉挤成型机1纤维细度仪1熔融指数测试仪2冷场发射扫描电子显微镜1氙灯耐气候老化试验箱1熔体流动速率测试仪2冷冻超薄切片机1显微热分析仪1湿法纺丝机2冷离子体改性处理仪1显微硬度计1数码偏光显微镜2冷热台显微镜1橡胶密炼机1梯温析晶炉实验装置2炼胶机1肖氏硬度计1万能材料试验机2流变仪1小型共混挤出机及注塑机1万能制样机2洛氏硬度计1小型挤出机1微控电子万能试验机2毛细管流变仪1旋转式粘度计1织物厚度仪2密度测定仪1旋转粘度计1智能液体密度仪2纳米粒度与电位分析仪1压差法水分测定仪1自动电位滴定仪2凝胶色谱仪1荧光/磷光/发光光度计1X射线光电子能谱仪1偏振数码显微镜1荧光显微镜1摆锤冲击仪1平板导热仪1原子力显微镜1表面处理仪1平行牵伸机1匀胶机1玻璃应力与退火实验仪1全数字化核磁共振谱仪1粘度仪1布洛维硬度计1全液压四缸精密注塑机1振动样品磁强计1布氏硬度计1热变形维卡软化点温度仪1浊度分析仪1材料烧结温度测定仪1热导仪1紫外分光光度仪1材料应力与退火温度测定仪1热机械分析仪1紫外光刻机1缠绕机1热老化试验箱1紫外可见分光光度计1场发射透射电子显微镜1热膨胀仪1紫外可见近红外分光光度计1自动比表面和空隙度分析仪1北京科技大学新金属材料国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类高温原位疲劳试验机2多功能X射线衍射仪1热力模拟试验机1磁质伸缩参数自动测量仪1腐蚀疲劳裂痕测试系统1蠕变持久试验机1材料疲劳试验机1高频疲劳试验机1软磁材料磁性测量系统1差扫描热分析仪1高温电子万能试验机1扫描电镜1场发射高分辨透射电子显微镜1高温硬度计1双光束紫外可见分光光度计1超声波材料弹性常数测量仪1高真空单辊旋淬系统1物理模拟试验机1单室磁控溅射系统1局部电极三维原子探针系统1雾化沉积成形系统1电子探针显微分析仪1聚焦离子束场发射扫描双束电镜1显微维氏硬度计1定向凝固及区域熔炼定向凝固系统1纳米力学探针1永磁不同温度特性测量系统1清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类矢量网络分析仪4傅里叶变换红外光谱仪1切/磨/抛体机1X射线衍射仪3高温力学试验机（动态）1全光纤太赫兹时域光谱仪1Zeta电位仪2高温力学试验机（静态）1软磁材料B-H分析仪1高温综合热分析仪2高温热分析仪1三维扫描测振仪1精密阻抗分析仪2高温热机械分析仪1扫描探针显微镜1BET比表面分析仪1高温热膨胀仪1射频辉光放电光谱仪1S参数网络分析仪1光电子光谱仪1数字光学显微镜1半导体特性分析系统1激光导热仪1台阶仪1场发射扫描电子显微镜1激光粒度仪1太赫兹时域光谱仪1沉降粒度仪1介电频谱温谱分析系统1铁电分析仪1冲击试验机1精密器件图示分析仪1椭偏仪1等离子清洗仪1聚焦离子束显微镜1维氏硬度计1低温综合物性测试系统1宽频介电阻抗谱仪1稳态瞬态荧光光谱仪1多功能离子减薄仪1拉曼光谱仪1显微硬度计1多功能氩离子刻蚀/镀膜仪1离子溅射/蒸碳镀膜仪1压电材料多场测试系统1多样品温谱频谱测试系统1离子溅射镀膜仪1压汞仪1真密度仪1紫外/可见/近红外光谱仪1燕山大学亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类扫描电子显微镜2离子溅射仪1傅立叶红外/拉曼光谱仪1X射线荧光光谱仪1热膨胀分析仪1环境气氛球差校正场发射透射电子显微镜1X射线衍射仪1北京化工大学有机无机复合材料国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类平板硫化机3辊筒式磨耗机1双辊炼塑机1双辊开炼机2可在线多段取料双螺杆挤出机1水平/垂直燃烧测定仪1万能材料试验机2冷等离子体表面改性装置1无转子硫化仪1密炼机1门尼黏度测定仪1橡胶动态压缩疲劳机1阿克隆磨耗机1盘式硫化仪1橡胶复合挤出机1超高阻计1气透性仪1橡胶滚动阻力测定仪1单螺杆挤出机1三辊研磨机1橡胶加工分析仪1动态力学分析仪1数字式直流电桥1橡胶摩擦磨损测定仪1氧指数测定仪1橡胶曲挠疲劳机1华南理工大学制浆造纸工程国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类离子色谱仪2动态渗透分析仪1生化分析仪1纳米微射流均质机2高压液相色谱仪1实验室用压力盘磨机1气相色谱-质谱联用仪2光学性能测试仪1数字式纸页撕裂度仪1液相色谱仪2光泽度测定仪1双夹头耐折度仪1L&W厚度仪1红外光谱仪1透湿性测试仪1L&W白度仪1环压强度测定仪1弯曲挺度测定仪1L&W抗张强度仪1火焰原子吸收光谱仪1微波合成仪1L&W耐破度测定仪1激光粒度分析仪1微细胶粘物分析系统1L&W撕裂度仪1近红外光谱仪1卧式湿扩张强度测试仪1L&W透气度仪1卡伯值自动检测仪1纤维筛分仪1L&W压溃测试仪1颗粒电荷分析仪1压差法气体渗透仪1lGT印刷适性仪1可勃吸水性测试仪1压光机1比表面积孔径分析仪1快速卤素水分测试仪1研究级体视显微镜1表面抗水动态渗透分析仪1拉伸压缩材料试验机1研究级正置显微镜1别克式平滑度仪1量热仪1音盆杨氏模量与损耗因数测定系统1残余油墨/白度测定仪1零距抗张强度测试仪1印刷适性仪1残余油墨测定仪1流动电位法ZETA电位仪1荧光光谱仪1层间结合强度仪1纳米纤维膜性能测试仪1元素分析仪1超高压纳米均质机1耐折度仪1原子力显微镜1尘埃匀度仪1凝胶成像系统1粘胶物测定仪1粗糙度和透气度测定仪1凝胶色谱仪1纸张表面粗糙度测定仪1蛋白纯化系统1气相色谱仪1纸张表面匀度及墨斑分析系统1电脑柔软度仪1切割式研磨仪1转子粘度计1顶空气相色谱仪1三离子束切割仪1浊度仪1动态滤水分析仪1扫描电镜1紫外-可见分光光度计1华南理工大学发光材料与器件国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类超纯水系统2QE-R太阳能电池光谱响应量测系统1凝胶渗透色谱仪1探测器光谱响应度测试系统1纳秒瞬态吸收光谱系统1高温凝胶渗透色谱仪1光致发光量子效率测试系统1瞬态荧光光谱测试系统1扫描隧道显微镜1电致发光效率及分布角测试系统1开尔文探针台1热重分析仪1高纯水系统1台阶仪1差示扫描量热仪1小型等离子清洗机1分光辐射度计1高分辨超导核磁共振谱仪1150W太阳光模拟器1光刻机1液相色谱质谱联用仪1纯水系统1X射线衍射仪1离子淌度高清质谱仪1手套箱蒸镀系统1多靶磁控溅射镀膜机1单晶X射线衍射仪1探针式表面轮廓仪1原子力显微镜1小角X射线散射仪1紫外可见分光光度计1荧光光谱仪1微波反射光电测试系统设备1飞秒光学参量振荡装置1紫外-可见光-近红外分光光度仪1电子顺磁共振(EPR)波谱仪1阻抗分析仪1圆偏振荧光光谱仪1有机真空沉积系统1瞬态荧光光谱仪1高效液相色谱仪1激光分子束外延系统1山东大学晶体材料国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类X射线单晶衍射仪1场发射高分辨透射电镜1热机械分析仪1X射线光电子能谱仪1多功能X射线衍射仪1热重/差热分析仪1Ｘ射线荧光光谱仪1傅立叶变换红外-拉曼光谱仪1扫描电子显微镜1半导体测试仪1高分辩X射线衍射仪1扫描探针显微镜1波导棱镜耦合仪1激光热导仪1荧光分光光度计1差热扫描量热仪1全自动高精度折射率测量仪1紫外可见分光光度计1以上为16大材料领域国家重点实验室的仪器配置清单。另外，中山大学光电材料与国家重点实验室、上海交通大学金属复合材料国家重点实验室、西北工业大学凝固技术国家重点实验室、四川大学高分子材料工程国家重点实验室、中科院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室这个5个材料领域国家重点实验室的仪器配置清单在公开平台无法查询，仪器信息网也将进一步关注各国家重点实验室接下来的动态。

脉实独家代理的SNOL品牌马弗炉荣登英国BBC广播电视台节目！ 脉实科技于2015年7月1日成功取得欧洲思诺尔SNOL热处理公司高温炉的中国总代理, 主要产品线： 实验室炉（马弗炉、箱式炉、陶瓷纤维炉等） 实验室烘箱 工业炉（烧结炉等） 工业烘箱 按需定制的炉体和烘箱 保温材料 存储结构建设（货架系统，栈板料架）

SPEX MIXER/MILL 8000系列高能球磨仪可将坚硬或易碎样品粉碎至可分析细度，部分样品研磨精度可达纳米级别。采用独家专利的∞式三维立体运动模式研磨，360°立体无死角，非正反转方式，可以在最短的时间内向样品输送最高的机械能量，为目前世界上所有球磨仪中能量最高、速度最快的球磨机。SPEX以其在球磨机研发和生产超过60年的经验以及在球磨机创新领域所做出的突出贡献，成为美国球磨机行业标准的制定者。SPEX高能球磨仪可用于岩石、矿物、金属合金、陶瓷、催化剂、玻璃、沙子、水泥、炉渣、医药、植物和动物组织、谷物、种子、油漆和油墨、电子、RoHS样品等分析用样品研磨。 下文将介绍SPEX高能球磨仪用于分析纳米晶体材料中的颗粒尺寸效应。该应用源自: S. Indris, D. Bork, P. Heitjans, J. Mater. Synth. Process 8, 245 (2000),经汉诺威大学物理化学和电化学研究所P.Heitjans教授同意。原文献阅读请联系科尔帕默公司。✦ ++高能球磨法制备纳米晶氧化陶瓷SPEX 高能球磨仪分析纳米晶体材料中的颗粒尺寸效应需要一种可以调节颗粒尺寸的技术。在本研究中，使用球磨机(8000M Mixer/Mill, SPEX SamplePrep；配备有氧化铝和氧化锆小瓶)。球磨特别适合这项任务，因为它易于使用，并允许研磨相对大量的材料以及各种不同的材料。分析介质为：Li2O、LiNbO3、LiBO2、B2O3、TiO2和Li2O：B2O3混合物。通过研磨时间测定平均粒径，随后通过X射线衍射（XRD）和透射电子显微镜（TEM）进行分析。选择含锂材料是因为它们作为固体电解质的潜在用途。TiO2在用作光催化剂方面是令人感兴趣的。对于吸湿性材料，在氩气气氛中填充氧化铝研磨瓶并将其放入密封的不锈钢容器中。► 颗粒大小不同的氧化物表现出不同的研磨特性，但最小粒径约为在研磨8至10小时后获得20nm.通过XRD分析和TEM数据确定颗粒尺寸。差示扫描量热法（DSC）表明，纳米晶样品是亚稳态的，加热导致颗粒生长。在烧结过程中，当要生产固体致密陶瓷时，要考虑到这一点。其他研究小组先前的研究表明，两步烧结特别适合在第二步中使用较低的温度。通过两种方法分析，TiO2在研磨过程中发生了部分相变。当进行球磨时，包含另外杂质的金红石以较小粒径的纯金红石（不含杂质）形式获得。► 化学反应陶瓷组分的混合和随后的压制产生具有多个不同边界层的材料。这种不同界面的晶格可以通过改变颗粒尺寸来改变。在分析Li2O∶B2O3的50∶50混合物的过程中，检测到由于该化学-机械过程引起的化学变化。在短时间后，用XRD分析仅检测到原始化合物的谱线，而在4小时后出现新的谱线。新形成的产物是Li2B4O7。这表明反应的最终产物并不取决于混合物的组成，而是取决于边界层的条件。► 结论高能球磨特别适用于颗粒尺寸的减小以及后续化学和物理变化的研究。颗粒尺寸减小和随后生长的特征与所有分析的氧化物相似。开始时微晶材料没有发生化学反应，经过研磨后：一些材料表现出相变；另一些材料则表现出化学反应。更多推荐：SPEX8200高能行星式球磨机Spex 8200行星球磨机通过机械运动研磨样品，沿一个方向旋转震击器，而平台（太阳轮）沿相反方向旋转。机械磨具以2:1的比例进行，使容器相对于太阳轮的每一次旋转旋转两次。当容器移动时，相对离心力被传递到磨球上，使磨球以圆周运动的方式相互移动，并抵靠容器壁，从而研磨样品。

2016年4月27-29日，美国康塔仪器公司将携其全自动比表面积及孔径分析仪NOVAtouch和图像法粒度粒形分析仪、真密度仪等产品亮相“第九届上海国际粉末冶金、硬质合金与先进陶瓷展览会”。欢迎大家莅临我们展位，共同探讨粉末冶金、陶瓷粉末表面改性处理以及多孔陶瓷微观结构表征分析等应用。展位号:A215，凡关注“康塔仪器”微信公众号的观众，可现场领取精美礼品一份。 表征多孔结构的主要参数是：孔隙度、平均孔径、最大孔径、孔径分布、孔形和比表面，这恰是全自动比表面和孔径分析仪的主要功能。NOVAtouch系列全自动比表面积及孔径分析仪作为康塔仪器专利产品，是高质量高性能气体吸附分析系统的代表，共有8个型号，采用彩色触摸屏，完全自动化、操作简单，因为可以不使用氦气，运行成本低；一次可以分析多个样品，因而测量效率高，可充分满足科研或质量控制实验室的需要。 除材质外，材料的多孔结构参数对材料的力学性能和各种使用性能有决定性的影响。由于孔隙是由粉末颗粒堆积、压紧、烧结形成的；因此,原料粉末的物理和化学性能,尤其是粉末颗粒的大小、分布和形状，是决定多孔结构乃至最终使用性能的主要因素。多孔结构参数和某些使用性能（如渗透率等）可以用压汞法等来测定，上图为美国康塔仪器公司的全自动压汞仪，可以同时测定两个样品。 烧结多孔材料的力学性能不仅随孔隙度、孔径的增大而下降，还对孔形非常敏感。孔隙率不变时，孔径小的材料透过性小，但因颗粒间接触点多，故强度大。过滤精度即阻截能力是指透过多孔体的流体中的最大粒子尺寸，一般与最大孔径值有关。孔径分布是多孔结构均匀性的判据。对于过滤材料要求在有足够强度的前提下，尽可能增大透过性与过滤精度的比值。根据这些原理，发展出用分级的球形粉末为原料，制成均匀的多孔结构，用粉末轧制法制造多孔的薄带和焊接薄壁管，发展出粗孔层与细孔层复合的双层多孔材料。康塔Porometer 3G孔径分析仪代表了先进的气体渗透法孔径分析技术：是基于电脑的强大软件控制，拥有卓越性能的紧凑型台式分析测量仪。它提供四种型号，适用于不同的压力（即孔径）和流速范围，以实现材料特性和仪器性能（灵敏度、准确度、再现性）的极佳匹配。精确测定施加于样品上的压力对孔隙分布分析至关重要，而这正是Porometer 3G孔径分析仪的优势所在。 多孔材料的孔径、强度等性能在很大程度上取决于所选用粉末的平均粒度、粒度分布、颗粒形状等；为了制出预定性能的材料，通常要对粉末进行预处理，如退火、粒度分级、球化和球选以及加入各种添加剂(造孔剂、润滑剂、增塑剂)等。粒度粒形分析仪，则可以对这个过程进行监控把关。康塔仪器所提供的欧奇奥图像法粒度粒形分析仪500NANOXY，干法湿法两用，具备颗粒计数功能，可提供50个以上的粒径/形貌分析参数，无疑是满足此类应用的优选产品。

【前言】国家食品药品监督管理局于2003年成立，推动我国的食品药品安全监管；2018年3月21日，成立国家药品监督管理局，负责药品监督管理，划归新成立的国家市场监督管理局。对食品、药品领域的相关标准进行修订，并逐步实施替换原有标准。其中关于饲料的元素检测部分标准于2018年12月1日起开始实施。 【正文】饲料中金属和非金属元素测定相关国家标准2018年5月14日颁布，并于2018年12月1日起正式实施，由全国饲料工业标准化技术委员会（SAC/TC 76）提出并归口且同国家市场监督管理局和国家标准化管理委员会监督。其中包括，《GBT6436-2018饲料中钙的测定》、《GBT13083-2018饲料中氟的测定 离子选择性电极法》、《GBT13884-2018饲料中的钴的测定 原子吸收光谱法》、《GBT18633-2018 饲料中钾的测定 火焰光度法》，下面就其内容简要介绍。 1、GBT6436-2018饲料中钙的测定本标准按照GB/T1.1-2009给出的规则修改，代替GBT6436-2002饲料中钙的测定，修改了标准的使用范围、钙的定量限、采样和试样制备的方法、称样量。本标准规定了饲料中钙含量测定的高锰酸钾法和乙二胺四乙酸二钠络合滴定法，适用于饲料原料、配合饲料、浓缩饲料、精料填充料和添加剂预混合饲料中钙的测定。本标准检出限为0.015%，定量限为0.05%。 2、GBT13083-2018饲料中氟的测定 离子选择性电极法本标准按照GB/T1.1-2009给出的规则修改，代替GBT13083-2002饲料中氟的测定，扩大了标准的适用范围，修改为“本标准适用于饲料、饲料原料、磷酸盐及以硅铝酸盐为载体的缓和型饲料添加剂”、修改了方法的检测限、原理的描述、酸度计、氟离子选择性电极的测量范围、饲料原料石粉试样的制备方法、增加了以硅铝酸盐类为载体的混合型饲料添加剂试样的制备方法，结果由表示0.1mg/kg，修改为1mg/kg。本标准检出限为3mg/kg（取试样1g，定容至50ml）。 3、GBT13884-2018饲料中的钴的测定 原子吸收光谱法 本标准按照GB/T1.1-2009给出的规则修改，代替GBT13884-2018饲料中的钴的测定 原子吸收光谱法，修改了定量限、检出范围、称样量、标准曲线的调整、计算公式的表述等。本标准规定了饲料中钾测定的火焰光度法，适用于饲料原料、配合饲料、浓缩饲料、精料填充料和添加剂预混合饲料中钴的测定。本标准检出限为0.03mg/kg，定量限为0.1mg/kg。 4、GBT18633-2018 饲料中钾的测定 火焰光度法 本标准按照GB/T1.1-2009给出的规则修改，代替GBT18633-2002饲料中钾的测定 火焰光度法，修改了标准的使用范围、定量限、采样和试样制备的方法、计算公式的表述等。本标准规定了饲料中钾测定的火焰光度法，适用于饲料产品为配合饲料、浓缩饲料、精料填充料和添加剂预混合饲料。本标准检出限为2.00mg/kg，定量限为200mg/kg。 【样品前处理】 ?干法灰化高温炉推荐设备1：美诚TM系列 分体式陶瓷纤维马弗炉设备参数：最高温度1000℃或1200℃；炉膛容积6L、9L、20L、30L PID控温精密，开门断电安全可靠。 高温炉推荐设备2：美诚TE系列 一体式式陶瓷纤维马弗炉设备参数：型号TE0910或TE0912；炉膛容积9L ? 湿法电热消解器推荐设备：美诚 DR系列 石墨消解器设备参数：最高温度260℃，加热材料特氟龙涂层高纯石墨，耐腐蚀，恒温性能好 ? 分析实验室用水标准GB/T 6682 分析实验室用水规格和试验方法实验室纯水推荐设备：美诚MW系列 超纯水器设备参数：纯水、高纯水双路出水，产水速率10L/h、20L/h、30L/h、50L/h 本文标准内容说明援引自相关国家标准，其他内容为美诚采编原创；版权所有，如需转载请联系美诚010-53275836 更多精彩内容，敬请关注美诚官方微信注：请您关注并分享美诚官方微信公众账号，我们的进步离不开您的帮助与支持 了解更多产品详情，您还可访问美诚公司官网 http://www.bjmichem.com北京安合(盈安)美诚科学仪器有限公司致力于样品前处理，是国内主要实验室常用设备生产厂商。主要产品有陶瓷纤维马弗炉、微波消解/萃取/合成仪，石墨消解器、冷却水循环器、超纯水器、氩气净化器等实验室常用设备。美诚所追求的目标是为我们的客户提供高品质的适用产品以及专业级的技术支持与服务。更多精彩资讯，敬请关注美诚，美诚为您提供更多资讯

美国Thermal Technology公司（简称TT），是真空炉的创始者，高温炉设计的改造者。从创立至今已有半个多世纪的历史，在全球40多个拥有超过3000多家用户。TT公司具有丰富的专业经验，在高温加工技术领域一直享有盛誉。 Quantum Design公司作为全球知名的科学仪器制造商，现全面引进TT公司高温炉。TT公司生产的高温设备有：放电等离子烧结炉（SPS）、直流型等离子烧结炉(DCS)、热压炉(HPF)、自动热处理炉(APF)、陶瓷热处理炉(CPF)、电弧炉(AMF)、石墨高温炉(GHZ)、金属高温炉（MHZ）等。此外，TT公司可根据顾客需求提供创新性的设备和问题解决方案。 放电等离子烧结炉 SPS 只需几分钟即可达到热处理所需的高温环境 快速成型且无需粘结剂，微纳结构保持 直流型等离子烧结炉 DCS 直流电源，系统简单，高稳定性 更短的加工时间，更低的成本 热压炉 HPF 交换式热区单元选件，可用热区：石墨、钨、钼 电弧炉 AMF 高温度：＞3000℃ 石墨高温炉 适用于各种实验室应用及小规模生产 高可定制温度达3000℃ 金属高温炉 适用于各种实验室应用及小规模生产 高可定制温度达3000℃ TT的高温炉在设计上采用了的加热系统以及好的液压、真空和控制系统，对技术和制造工艺的精益求精，使得TT产品具有高质量、高可靠性的特点。希望Quantum Design公司的高精度物性测量和表征平台和TT公司的高质量高温炉系统可以相辅相成，相互促进，为中国科学工作者提供更好的服务。相关产品TT 自动热处理炉 / 陶瓷热处理炉：http://www.qd-china.com/products2.aspx?id=332TT 电弧熔炼炉：http://www.qd-china.com/products2.aspx?id=333TT 实验室真空高温炉：http://www.qd-china.com/products2.aspx?id=334TT 放电等离子烧结炉（SPS/DCS）：http://www.qd-china.com/products2.aspx?id=335TT 热压炉：http://www.qd-china.com/products2.aspx?id=336关于Quantum Design Quantum Design是的科研设备制造商和仪器分销商，于1982年创建于美国加州圣迭戈。公司生产的 SQUID 磁学测量系统 (MPMS) 和材料综合物理性质测量系统 (PPMS) 已经成为公认的测量平台，广泛的分布于上几乎所有材料、物理、化学、纳米等研究领域的实验室。2007年，Quantum Design并购了欧洲大的仪器分销商LOT公司，现已成为著名的科学仪器领域的跨国公司。目前公司拥有分布于英国、美国、法国、德国、巴西、印度，日本和中国等地区的数十个分公司和办事处，业务遍及全球一百多个和地区。中国地区是Quantum Design公司活跃的市场，公司在北京、上海和广州设有分公司或办事处。几十年来，公司与中国的科研和教育领域的合作有成效，为中国科研的进步提供了先进的设备以及高质量的服务。

本文作者:Aileen Sammler德国耐驰公司（NETZSCH-Gerätebau GmbH）将在2022年正式庆祝公司成立60周年的纪念日。为此，我们将关注耐驰仪器背后的故事——耐驰分析仪器及其在过去几十年中的发展。1月份，我们将从膨胀计开始，它是德国耐驰历史上最古老的仪器之一。1962年，德国耐驰公司（NETZSCH-Gerätebau GmbH，NGB）在塞尔布成立。在过去的60年里，德国耐驰已经成为世界领先的热分析制造商之一。我们为我们的员工感到自豪，他们以非凡的决心和毅力推动着耐驰前进。我们感谢与我们的客户和合作伙伴间彼此信任和富有成效的合作。我们共同倡导质量、专业、创新和可持续性，并将在未来几十年继续坚守。德国耐驰多年来一直由Thomas Denner博士和Jürgen Blumm博士成功地管理。Thomas Denner博士非常清晰地记得他在塞尔布的开始：“当我2004年开始在耐驰工作时，我对员工的积极特别印象深刻。从公司成立的第一天起，我还偶然结识了一些同事。一方面，我感觉到他们有着精明的头脑，另一方面非常愿意探索未知。他们对过去取得的成就的自豪感和可持续发展的追寻今天也能感受得到。这将使我们能够在未来几个月里向你们展示我们的许多不同的系统和设备，它们最初出现在热的材料表征，目前采用了当今最先进的技术延续至今。我们将从一个仪器开始，这个仪器在很多年前就已经是一篇博士论文的焦点，最近又在一篇论文的背景下得到了解决，并立即带来了专利技术。我自豪地期待着接下来的耐驰60年主题月。”耐驰历史回顾早在20世纪50年代，在Netzsch兄弟的管理下，就建立了完整的陶瓷产品生产线。在向精细陶瓷行业的客户提供完整的生产设备的过程中，这些客户还要求能够购买相关的测试或实验室设备。这就是决定开发和制造用于建立陶瓷实验室的专用仪器的原因。这种设备的开发最初是从小规模做起的：这些想法被纳入了前耐驰公司（Maschinenfabrik Gebrüder Netzsch）学徒车间的测试仪器中。为了加强“测试仪器”部门的开发、生产和销售活动，耐驰公司（NETZSCH-Gerätebau GmbH）于1962年6月27日成立，总部设在塞尔布。随后，最早陶瓷行业实验室仪器的研制成果之一是：通过热膨胀测量装置，促进陶瓷碎片和釉料膨胀系数的协调。为此，研制了膨胀计。膨胀计——过去和现在德国耐驰膨胀计（简称DIL）的发展可以追溯到瓷器行业，也可以追溯到耐驰的诞生地——德国上Upper Franconi的塞尔布。使用膨胀计的目的是能够准确了解瓷碟在烧制过程中可能发生的膨胀，以防止裂纹和断裂的形成，并确定最终产品的准确尺寸。如今，膨胀计是研究陶瓷、玻璃、金属、复合材料和聚合物以及其他建筑材料长度变化的首选方法。它用于获取有关热行为和工艺参数或烧结和交联动力学的信息。膨胀计用于质量保证、产品开发和基础研究。第一台膨胀计在塞尔布使用图：60年代最早使用的膨胀计之一，曾在Rosenthal使用，现在在塞尔布Porzellanikon德国陶瓷博物馆展出（Porzellanikon德国陶瓷博物馆，位于象征欧陆三百年瓷器发展的历史重镇—德国塞尔布市（Selb），由德国名瓷罗森塔（Rothantal）1866年创立的厂房改建，总占地11,000平方米。Porzellanikon不仅是德国首家陶瓷博物馆，更是全欧洲最大的陶瓷博物馆，其不同于一般博物馆，展示的不只是瓷器的过去，更是它的现在与未来，从艺术、历史、商业到尖端科技，勾勒出一个清晰完整的瓷器现代新风貌，更是承载着欧洲陶瓷历史与艺术的珍贵宝库。）塞尔布——世界瓷都。Rosenthal、Hutschenreuther或Villeroy&Boch等名字在国际上都很有名，与Upper Franconia的这座小城有着密切的联系。60多年前，这家瓷器厂的前所有者Philipp Rosenthal给Erich Netzsch打电话。“我们杯子的把手在烧制过程后会断裂。我们需要一些东西来确定瓷器的膨胀行为，以优化生产过程，”这次谈话可能就是一切的开始。这就是膨胀计的诞生！顺带一提，在Rosenthal工作了近30年后，第一台测量设备于1996年移交给了塞尔布Porzellanikon德国陶瓷博物馆，在那里仍然可以欣赏它。从X-Y绘图仪的打印输出到Digital Proteus评估图：Stefan Thumser（前排，左三）和服务部门的同事（1997年）Stefan Thumser于1984年开始他作为能源设备的机电和电子技术员的学徒生涯。作为德国耐驰客户服务部门的长期支柱，他负责耐驰设备的调试、故障排除和基础培训，目前拥有38年的经验和专业知识。几十年来，他积极参与了膨胀计的开发，今天，他随时报告膨胀计取得的进展。Stephan Thumser回忆道：“过去操作膨胀计是真正的手工工作。除了插入样本，许多设置都必须手动选择。这些有时就要花一个小时。如今，你不必再担心这个问题了。只需插入样本，然后通过软件控制开始测量。”图：1979年为陶瓷制造商 Rosenthal定制的膨胀计。这种膨胀计仍然可以在塞尔布的Rosenthal 直销中心看到。“在膨胀计的历史发展过程中，最显著的差异是在测量评估领域。这过去是通过记录仪器以模拟格式进行的，例如2通道记录仪、X-Y绘图仪或所谓的KBK-6彩色点阵打印机。获得的测量数据无法 1:1转换为测量结果，因为样品架和推杆的固有膨胀作为误差包含在记录中。而手动校正这些测量值很费力，通常需要数小时的详细工作。如今，只需点击鼠标和/或通过Proteus软件即可完成。在测量后的几秒钟内，自动校正后完整曲线出现在计算机上。一次测量的准备工作，包括设置测量范围和开始位置，以及通过质量流量控制器调节气体，现在只需按下一个按钮即可完成。”即使在早期，质量、创新和客户满意度也是耐驰的首要任务。因此，膨胀计多年来不断改进。Stefan Thumser接着说：“2015年，随着新的DIL 402 Expedis仪器系列的开发，在一台仪器上安装两个熔炉也成为可能，可以进行更快、更灵活的操作。”图：用于手动测量评估的旧KBK打印机（6色多通道打印机）点击下方链接直达：热膨胀仪专场德国耐驰展位