亚纳米级三维扫描台

纳米级微球颗粒标准品（Particle-Size Standards）直径大小高度均一，具有NBS 的NIST认证，属于Duke Scientific公司荣誉出品Nanosphere Size Standards?系列产品中的聚合体微球标准品（苯乙烯单体聚合而成）。纳米级微球颗粒标准品应用广泛，电子显微镜领域、气液相微粒研究、色谱柱、激光散射研究等等，20-1000nm范围内的微球颗粒可以用来测量细菌、病毒、核糖体和细胞亚显微结构的大小。该产品以水溶液瓶装形式出售。聚合体密度为1.05g/ml；Refractive index of 1.58 @ 589 nm (25°C)。 订购信息：货号正常直径Certified Mean Dia.Size Uniformity Std. Dev.&C.V固体百分比7088120nm19nm+/-1.5nmNA1%7088350nm50nm+/-2.0nmNA1%70885100nm102nm+/-3.0nm7.6nm (7.5%)1%70886200nm204nm+/-3.1nm3.1nm (1.5%)1%70887300nm304nm+/-6.0nm4.5nm (1.5%)1%70888400nm404nm+/-4.0nm5.9nm (1.5%)1%70889500nm486nm+/-5.0nm5.4nm (1.1%)1%70890600nm600nm+/-5.0nm6.6nm (1.1%)1%70891700nm701nm+/-6.0nm9.0nm (1.3%)1%70892800nm802nm+/-6.0nm9.6nm (1.2%)1%70893900nm895nm+/-8.0nm9.1nm (1.0%)1% 下面推荐的是最高级别测量标准品，对直径1-40um的颗粒来说，以下产品极具竞争力。订购信息：货号Nominal diameterCertifiedMean Dia.Size UniformityStd. Dev.&C.V.SolidsContent708941.0μm0.993+/-0.0210.010μm (1.0%)1.0%708952.0μm2.013+/-0.0250.022μm (1.1%)0.5%708963.0μm3.063+/-0.0270.03μm (1.0%)0.5%708975.0μm4.991+/-0.0350.06μm (1.2%0.3%7089810.0μm9.975+/-0.0610.09μm (0.09%)0.2%

蔡司ZEISS标记点，GOM三维扫描仪标记点，GOM标记点，三维扫描仪标记点

孚光精仪品牌的多功能纳米硬度计配件通过扫描材料表面实现对材料力学性能的纳米尺度的高精度测量，精确给出硬度，弹性模量，杨氏模量等材料力学性能。 多功能纳米硬度计配件特色具备原子力显微镜和纳米压痕仪的功能实现静态压痕和动态压痕测量以及测量最高位移测量能力可达300mkm, 最高负载科大100mN。采用模块化设计，可广泛集成原子力显微镜，光学显微镜，激光干涉仪器等尖端材料表面测量仪器，为用户提供综合性材料微观力学测试方案。 多功能纳米硬度计配件选型4D紧凑型纳米硬度计4D紧凑型是全球结构最为紧凑小巧的纳米硬度测试仪，它采用纳米压痕法测量材料硬度和弹性模量（杨氏模量），负载高达2N,广泛用于材料力学性能测量研究。也非常适合大学或研究单位的纳米压痕仪测量硬度的教学或演示教学。 4D标准型纳米硬度计4D标准型具有测量材料硬度，弹性模量和其它力学性能的功能。它采用静态和动态纳米压痕技术以及sclerometry方法测量材料性能。并且可以接触式或半接触式地测量材料表面形貌，采用光学显微镜高精度地对压头和样品进行精确互动性定位。纳米硬度计4D标准型还可以接入另外的传感器或测量模块，实现对材料表面进行其它测量。 4D+增强型纳米硬度计4D+增强型配置是全球功能最多的多功能纳米硬度测量仪器。它具有纳米压痕仪和原子力显微镜的功能，具备了所有的物理和力学性能测量能力。它具有原子力显微镜测量模块，能够以纳米级分辨率研究压痕后留下的表面痕迹和图像，并能够全自动测量，可以批量处理分析测量结果。

台式扫描电子显微镜配件是为客户提供的欧洲最高性价比扫描电镜，完全改变了动辄百万人民币的电镜价格，它为用户提供低价亚微米和纳米尺度的电子显微镜工具。台式扫描电子显微镜配件特点：具有传统显微镜20倍的分辨率，提供高分辨率成像，非常适合科研人员，工程师获取高质量的亚微米分辨率图像，非常容易使用，用户接受培训10分钟即可独立操作，非常适合材料科学，微电子等领域获取高分辨率图像。台式扫描电子显微镜配件参数放大倍数：24-24000X图像分辨率：高达2048x2048像素空间分辨率：高达30nm样品加载：小于30秒自动样品控制功能超低能耗总重量：55kg台式扫描电子显微镜配件构成系统主要部件：成像模块，17' ' 触摸屏显示器，旋转手柄，真空泵，USB接口驱动光学放大：固定24X放大电学放大：120-24000X可调光学探测：彩色CCD相机电学探测：高灵敏度背散射探测器图像输出格式：JPEG,TIFF, BMP，图像分辨率：456 x 456, 684 x 684, 1024 x 1024 and 2048 x 2048可选数据存储：优盘样品台：计算机控制电动XY台样品容纳大小：直径25mm ，高度30mm样品加载时间：光学成像5s , 电学成像30s减震桌要求：120x75cm 尺寸以上的减震桌

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纳米位移平台,真空纳米位移台由中国领先的进口光学精密仪器旗舰型服务商-孚光精仪进口销售,先后为北京大学,中科院上海光机所,中国工程物理研究院,航天3院,哈工大,南开,山东大学等单位提供优质进口的纳米位移平台,真空纳米位移台,纳米位移台.这款纳米位移平台是美国进口的高速高精度真空纳米位移台,它采用先进技术设计, 具有单轴或精密的双轴配置两种选择, 适合高真空环境和非磁性定位应用.美国进口高精度低价格系列纳米定位台，采用了陶瓷伺服电机驱动，非常适合要求精度达到纳米或压纳米的高精度和高重复精度的应用，例如：精密生命科学仪器、显微成像、纳米准直、微纳加工、光学精确定位等。X-TRIM 系列纳米位移台特色 10nm分辨率非接触线性编码系统双驱动任选:线性伺服或压电驱动高密度滚珠传导增加稳定性超紧凑的单轴或双轴纳米位移台紧凑型封装可真空使用超强工作能力，大吞吐量采用无铁芯直接驱动直线电机,驱动轴位于纳米位移台的中心线, 这种设计消除了非中心驱动导致的偏航,空回等问题.纳米位移台集成了一个高分辨率(12.5nm)非接触式线性编码器,它为闭环的伺服系统工作操作提供了精密反馈, 它的标准配置就可以提供纳米精度的定位.纳米位移平台使用能够了精密的滚珠导向系统确保了位移平台高精度性能和严格的轨迹控制。纳米位移平台也适合OEM使用,它具有较低抛面和较小尺寸，采用模块化设计，用户可堆叠使用创建多轴多部件系统。这款纳米位移平台使用了非接触式直接驱动技术，提供坚固，精确，高速的定位，满足高频率大工作量的需要。纳米定位平台使用了先进的无铁直线电机直接确定技术，确保最优异的纳米级定位性能。这款纳米定位台提供了高速度，高精度，高分辨率，高性能的卓越表现。它与传统的丝杠驱动或压电驱动相比，具有更大的工作效率和吞吐量。参数行程(mm): 25和50mm(单轴或双轴)驱动系统: 无铁芯直线电机或陶瓷伺服电机最大加速度: 由负载决定最大速度: 200mm/s (无负载时)最大推力: 24N最大负载: 2Kg精度: +/-1um/25mmTTL分辨率: 1-100nm/脉冲构造材料: 铝合金主体, 灰色氧化镀膜重复精度: 5倍精度 XT 25 XT 50 XT 2525 XT 5050 Travel Length (mm) 25 mm 50 mm 25 x 25 mm 50x 50 mm Trajectory Control Accuracy Linear Encoder ± 1.0 &mu m ± 2.0 &mu m ± 2.0 &mu m ± 4.0 &mu m Straightness/Flatness ± 1.0 &mu m ± 1.0 &mu m ± 2.0 &mu m ± 2.0 &mu m Yaw/Pitch/Roll 5 arc-sec 5 arc-sec 10 arc-sec 10 arc-sec 2 axis system Orthogonality Standard Grade NA NA 5 arc-sec 5 arc-sec High Precision NA NA 2 arc-sec 2 arc-sec Extra High Precision NA NA 1 arc-sec 1 arc-sec

产品名称：陶瓷抛光液/氧化锆抛光液/氧化铝抛光液/氮化硅抛光液/氮化铝抛光液陶瓷抛光液作用: 吉致电子陶瓷类抛光液适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光，通过CMP抛光工序可得到理想镜面效果，表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。产品特点：吉致可提供各陶瓷类的镜面抛光液1、纳米级抛光液，抛光后具有较优的粗糙度2、抛光液绿色环保、不含卤素及重金属元素3、抛光液可循环使用，根据工艺要求可添加去离子水稀释可定制化：可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务 包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)

该电动三维位移台是一款无刷直线伺服电机驱动的电动直线位移台，融合了高速高精度的特点，具有亚微米的定位精度,三维位移平台可以为用户带来高工作量/吞吐量,最大负载高达50kg，最高速度高达3m/s.主要特色：三维位移台精确导向系统为高速度长行程提供稳定的定向和导向保障 三维位移台强大的直线电机提供高负载能量和大驱动力；三维移动台高分辨率直线编码器（光栅尺）提供精确的定位反馈和闭环数字伺服控制；三维移动台具有美国制造的坚固耐用特性，高可靠性，长期工作。产品特色：这款三维位移平台采用直接驱动的直线电机用于位移台的定位。这种技术与传统的导螺杆驱动的位移台相比，具有明显的优势：三维位移平台没有螺杆驱动系统中出现的弹性形变问题，可保障更为复杂而精密的定位轨迹，更短的设置和行进时间，更高的重复精度，更快的伺服反应。*三维位移台,三维移动台,三维位移平台这种技术没有旋转惯性，可获得更高的加速度和行进速度。*三维位移台,三维移动台,三维位移平台台消除了旋转部件的磨损问题，具有更高的可靠性，更长的工作时间和寿命，更长的检修间隔时间，大大降低用户的使用成本。*三维位移台,三维移动台,三维位移平台这种直接驱动的直线电机具有高分辨率的编码器,可以精确调节速度，这种直线电机和其它部件可经过特殊处理具有真空兼容性，用于真空环境。产品描述：这款三维位移台,三维移动台,三维位移平台的所有结构材料都是高强度的铝合金材料，材料表面经过精密机械加工，并进行硬质阳极氧化镀膜（涂层）成浅灰色。电动直线位移台采用两个带有再循环线性轴承的精密方形导轨作为承载部件，它由预加载的滚珠器件精密导引，这种导向系统只需要标准的润滑服务，不需要其他维护。这款三维位移台,三维移动台,三维位移平台尺寸紧凑，驱动电机不单独外悬，直线电机,编码器和电缆等驱动部件安装于位移台底座，这种设计从而避免了那些外悬电机等核心部件受冲击等损害，具有更为安全的结构。这款三维位移台,三维移动台,三维位移平台采用再循环轴承系统并配带精密导轨支撑位移台高速度，高精度运动。三维位移台,三维移动台,三维位移平台使用的高强度铝合金材料，精密机械加工工艺把电动位移台的刚度和稳定性发挥到极致。三维位移台,三维移动台,三维位移平台对于铝材料的标准处理是阳极氧化硬质涂层，对于不修钢部件采用抛光处理，对于特殊要求，比如Teflon特氟隆浸渍硬质涂层，非阳极氧化处理，化学镀镍等都可为用户提供。产品应用：这个系列三维位移台,三维移动台,三维位移平台是无刷直线电机（Brushless linear motor)驱动的电动位移台, 即使在高负载情况下也有超高可靠性和精密定位能力，是高负载,高精度高可靠性的最佳电动直线位移台。三维位移台,三维移动台,三维位移平台具有超高加速能力和行进速度.这种电动直线位移台具有更小的惯性,比传统的罗杆驱动等机械传动的位移平台更适合应用.根据牛顿定律可知,负载的轻重直接影响到加速度,这款直线电动位移台,具有较高的加速度和运行速度, 能够帮助用户减少时间而提供工作量.直线电动位移台,电动直线位移台,电动位移台。产品规格和型号参数行程范围：125-750mm驱动系统：无刷直线电机最大加速度： 取决于负载最大速度：3米/秒（无负载时）最大峰值力：800N最大连续力：160N最大负荷：XY平台50Kg，Z轴25kg反馈系统：非接触式直线编码器系统TTL分辨率：5 μm, 1μm, 0.5μm,0.25μm, 0.2μm,100 nm & 50 nm重复精度：5x分辨率构造：铝合金主体，硬质灰色阳极镀膜 型号LX-8125LX-8375LX-8500LX-8625LX-8750行程（mm)125375500625750精度 Standard SP 标准型± 11μm± 12μm± 16 μm± 18μm± 22 μm High Precision HP高精度型± 5 .5μ± 7 μm± 8 μm± 10 μm± 11 μm平整度 Standard SP标准型± 6 μm± 12 μm± 20 μm± 28 μm± 36 μm High Precision HP高精度型± 4 μm± 6 μm± 10 μm± 14 μm± 18 μmYaw/Pitch/Roll Standard SP20 arc-sec20 arc-sec20 arc-sec20 arc-sec20 arc-sec High Precision HP10 arc-sec10 arc-sec10 arc-sec10 arc-sec10 arc-sec2 axis systemOrthogonalityStandard SP20 arc-sec20 arc-sec20 arc-sec20 arc-sec20 arc-secHigh Precision HP5 arc-sec5 arc-sec5 arc-sec5 arc-sec5 arc-secExtra High Precision XHP3 arc-sec3 arc-sec3 arc-sec3 arc-sec3 arc-sec

台式扫描电子显微镜配件是为客户提供的欧洲最高性价比扫描电镜，完全改变了动辄百万人民币的电镜价格，它为用户提供低价亚微米和纳米尺度的电子显微镜工具。台式扫描电子显微镜配件具有传统显微镜20倍的分辨率，提供高分辨率成像，非常适合科研人员，工程师获取高质量的亚微米分辨率图像，非常容易使用，用户接受培训10分钟即可独立操作，非常适合材料科学，微电子等领域获取高分辨率图像。扫描电子显微镜配件参数放大倍数：24-24000X图像分辨率：高达2048x2048像素空间分辨率：高达30nm样品加载：小于30秒自动样品控制功能超低能耗总重量：55kg扫描电子显微镜配件规格系统主要部件：成像模块，17' ' 触摸屏显示器，旋转手柄，真空泵，USB接口驱动光学放大：固定24X放大电学放大：120-24000X可调光学探测：彩色CCD相机电学探测：高灵敏度背散射探测器图像输出格式：JPEG,TIFF, BMP，图像分辨率：456 x 456, 684 x 684, 1024 x 1024 and 2048 x 2048可选数据存储：优盘样品台：计算机控制电动XY台样品容纳大小：直径25mm ，高度30mm样品加载时间：光学成像5s , 电学成像30s减震桌要求：120x75cm 尺寸以上的减震桌

场发射电子源921 5736 ，这个型号的场发射灯丝，适用于原厂H机型。场发射扫描电子显微镜其实它是电子显微镜的一种，扫描电镜是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观形貌观察手段，可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。广泛用于生物学、医学、金属材料、高分子材料、化工原料、地质矿物、商品检验、产品生产质量控制、宝石鉴定、考古和文物鉴定及公安刑侦物证分析。可以观察和检测非均相有机材料、无机材料及在上述微米、纳米级样品的表面特征。优点：1、有较高的放大倍数，20-30万倍之间连续可调；2、有很大的景深，视野大，成像富有立体感，可直接观察各种试样凹凸不平表面的细微结构；3、试样制备简单，目前的扫描电镜都配有X射线能谱仪（EDS）装置，这样可以同时进行显微组织形貌的观察和微区成分分析。大束科技是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场，此外，还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务，以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源（电子显微镜灯丝）、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。

三维表面形貌仪配件是德国进口的高精度多功能表面轮廓测量仪器，也是一款光学表面形貌仪,非常适合对表面几何形状和表面纹理分析。 三维表面形貌仪配件根据国际标准计算2D和3D参数，使用最新的ISO 25178 标准表面纹理分析，依靠最新的 ISO 16610 滤除技术进行计算，从而保证了国际公信力，以标准方案或定制性方案对二维形貌或三维形貌表面形貌和表面纹理，微米和纳米形状，圆盘，圆度，球度，台阶高度，距离，面积，角度和体积进行多范围测量，创造性地采用接触式和非接触式测量合并技术，一套表面形貌仪可同时具有接触式和非接触式测量的选择。 三维形貌仪配件参数： 定位台行程范围：X: 200 mm Y: 200 mm Z: 200 mm (电动) 接触式测量范围： 范围0.1mm, 分辨率2nm, 速度 3mm/s 范围2.5mm 分辨率40nm, 速度3mm/s 非接触式测量范围： 范围：300um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围：480um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围：1mm, 分辨率5nm, 速度30mm/s 范围：3.9mm , 分辨率15nm, 速度30mm/s 表面形貌仪配件应用：测量轮廓，台阶高度，表面形貌，距离，面积，体积 分析形态，粗糙度，波纹度，平整度，颗粒度 摩擦学研究，光谱分析 磨料磨具，航天，汽车，化妆品，能源，医疗，微机电系统，冶金，造纸和塑料等领域。

场发射电子源9213915/9217251，这两个灯丝的外形一样，适用的扫描电镜型号不同，需要了解扫描电镜的具体型号。场发射扫描电子显微镜其实它是电子显微镜的一种，扫描电镜是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观形貌观察手段，可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。广泛用于生物学、医学、金属材料、高分子材料、化工原料、地质矿物、商品检验、产品生产质量控制、宝石鉴定、考古和文物鉴定及公安刑侦物证分析。可以观察和检测非均相有机材料、无机材料及在上述微米、纳米级样品的表面特征。优点：1、有较高的放大倍数，20-30万倍之间连续可调；2、有很大的景深，视野大，成像富有立体感，可直接观察各种试样凹凸不平表面的细微结构；3、试样制备简单，目前的扫描电镜都配有X射线能谱仪（EDS）装置，这样可以同时进行显微组织形貌的观察和微区成分分析。大束科技是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场，此外，还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务，以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源（电子显微镜灯丝）、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。

工业级飞秒激光微纳加工系统配件专业为工业微加工研究和生产而研发的成熟的技术，可用于飞秒激光打孔,飞秒激光蚀刻,飞秒激光多光子聚合等微纳加工应用。飞秒激光微纳加工系统配件具有非常绝佳的可靠性和超高的加工速度，飞秒激光器由于激光脉冲超短，提供了常见激光无以伦比的激光功率密度，其加工效果远远超过纳秒和皮秒激光。光束所到之处能够瞬间将材料汽化，由于激光脉冲超短，激光能量无法在如此短的时间内扩散到周围材料中，所以对加工区域周围影响微乎其微,是一种冷加工技术,加工效果堪称一流。飞秒激光微纳加工系统配件采用高达10W的Yb:KGW(1030nm)飞秒激光器作为激光光源,重复频率在1--1000KHz范围内可调，结合一流的精密扫描振镜,提供超高的微加工速度。系统配备Arotech公司高分辨率的定位平台，并同步激光光束扫描振镜和脉冲选择器, 在空间，时间和能量上提供全方位高精度控制。从而提供超高难度的加工能力，并达到亚微米精度的分辨率和重复性。配备机械视图系统,使用高分辨率的相机监控加工过程。飞秒激光微纳加工系统配件使用了贴别为微加工而设计的飞秒激光器，它比市场上出售的商业飞秒激光器具有更多优势，具有更高的稳定性和可靠性，达到工业使用的标准，飞秒激光放大器具有更短的脉冲(振动器80fs， 放大器280fs)，飞秒激光器具有更高的平均功率（振荡器高达2W, 放大器为6W），而且激光重复频率可调，计算机监控并控制激光。飞秒激光微纳加工系统配件规格 激光放大器参数 波长 1030nm 平均功率 6W 重复频率 1-1000KHz可调 脉宽 280fs-10ps计算机控制 最大脉冲能量 1mJ 输出稳定性1% 光束质量M2 2 脉冲选择器 多种频率选择 SH, TH,FH可选 激光振荡器参数 功率 1W 脉宽 80fs 重复频率 76MHz飞秒激光微纳加工系统配件特色 超高加工速度：高达350000像素 飞秒微细加工模式下具有最小的热影响区 工作面积高达：150x150mm 使用高性能振镜控制精密激光光束 激光脉冲数可控（1-350KHz)飞 飞秒激光微纳加工系统涉及技术 飞秒激光钻孔，飞秒激光切割，飞秒激光打孔 飞秒激光烧蚀,飞秒激光蚀刻,飞秒激光雕刻 2.5D铣，自定义模型划线, 表面微纳结构价格 改变材料的折射率,飞秒激光材料改性 飞秒激光三维多光子聚合 光学微操作…… MEMS制造掩膜制造和修理微片修复 燃料电池材料制造LIBWE,医疗应用激 光诱导扩散微光学、光子晶体、衍射光学元件制造波导和微透镜的制备

三维表面轮廓仪配件是德国进口的高精度多功能表面轮廓测量仪器，也是一款光学轮廓仪,非常适合对表面几何形状和表面纹理分析。 三维表面轮廓仪配件根据国际标准计算2D和3D参数，使用最新的ISO 25178 标准表面纹理分析，依靠最新的 ISO 16610 滤除技术进行计算，从而保证了国际公信力，以标准方案或定制性方案对2D轮廓或三维轮廓表面形貌和表面纹理，微米和纳米形状，圆盘，圆度，球度，台阶高度，距离，面积，角度和体积进行多范围测量，创造性地采用接触式和非接触式测量合并技术，一套表面轮廓仪可同时具有接触式和非接触式测量的选择。 三维轮廓仪配件参数： 定位台行程范围：X: 200 mm Y: 200 mm Z: 200 mm (电动) 接触式测量范围： 范围0.1mm, 分辨率2nm, 速度 3mm/s 范围：2.5mm 分辨率40nm, 速度3mm/s 非接触式测量范围： 范围：300um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围：480um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围：1mm, 分辨率5nm, 速度30mm/s 范围：3.9mm , 分辨率15nm, 速度30mm/s 表面轮廓仪配件应用：测量轮廓，台阶高度，表面形貌，距离，面积，体积分析形态，粗糙度，波纹度，平整度，颗粒度 摩擦学研究，光谱分析磨料磨具，航天，汽车，化妆品，能源，医疗，微机电系统，冶金，造纸和塑料等领域。

工业级飞秒激光微纳加工系统配件专业为工业微加工研究和生产而研发的成熟的技术，可用于飞秒激光打孔,飞秒激光蚀刻,飞秒激光多光子聚合等微纳加工应用。飞秒激光微纳加工系统配件具有非常绝佳的可靠性和超高的加工速度，飞秒激光器由于激光脉冲超短，提供了常见激光无以伦比的激光功率密度，其加工效果远远超过纳秒和皮秒激光。光束所到之处能够瞬间将材料汽化，由于激光脉冲超短，激光能量无法在如此短的时间内扩散到周围材料中，所以对加工区域周围影响微乎其微,是一种冷加工技术,加工效果堪称一流。飞秒激光微纳加工系统配件采用高达10W的Yb:KGW(1030nm)飞秒激光器作为激光光源,重复频率在1--1000KHz范围内可调，结合一流的精密扫描振镜,提供超高的微加工速度。系统配备Arotech公司高分辨率的定位平台，并同步激光光束扫描振镜和脉冲选择器, 在空间，时间和能量上提供全方位高精度控制。从而提供超高难度的加工能力，并达到亚微米精度的分辨率和重复性。配备机械视图系统,使用高分辨率的相机监控加工过程。飞秒激光微纳加工系统配件使用了贴别为微加工而设计的飞秒激光器，它比市场上出售的商业飞秒激光器具有更多优势，具有更高的稳定性和可靠性，达到工业使用的标准，飞秒激光放大器具有更短的脉冲(振动器80fs， 放大器280fs)，飞秒激光器具有更高的平均功率（振荡器高达2W, 放大器为6W），而且激光重复频率可调，计算机监控并控制激光。飞秒激光微纳加工系统配件规格 激光放大器参数 波长 1030nm 平均功率 6W 重复频率 1-1000KHz可调 脉宽 280fs-10ps计算机控制 最大脉冲能量 1mJ 输出稳定性1% 光束质量M2 2 脉冲选择器 多种频率选择 SH, TH,FH可选 激光振荡器参数 功率 1W 脉宽 80fs 重复频率 76MHz飞秒激光微纳加工系统配件特色 超高加工速度：高达350000像素 飞秒微细加工模式下具有最小的热影响区 工作面积高达：150x150mm 使用高性能振镜控制精密激光光束 激光脉冲数可控（1-350KHz)飞 飞秒激光微纳加工系统涉及技术 飞秒激光钻孔，飞秒激光切割，飞秒激光打孔 飞秒激光烧蚀,飞秒激光蚀刻,飞秒激光雕刻 2.5D铣，自定义模型划线, 表面微纳结构价格 改变材料的折射率,飞秒激光材料改性 飞秒激光三维多光子聚合 光学微操作…… MEMS制造掩膜制造和修理微片修复 燃料电池材料制造LIBWE,医疗应用激 光诱导扩散微光学、光子晶体、衍射光学元件制造波导和微透镜的制备

秒激光直写光刻系统配件是专业为微纳结构的激光蚀刻而设计的激光直写光刻机，基于多光子聚合技术，适合市场上的各种光刻胶，能够以纳米精度和分辨率微纳加工各种三维结构。秒激光直写光刻系统配件特点激光光刻机3D模型制备直写光刻机直接激光刻划 激光光刻机整套系统到货即可使用激光光刻机提供100nm-10um的分辨率直写光刻机超小尺寸 激光光刻机3D模型的制备 这套三维光刻机由激光微加工系统软件控制，简单的3D模型通过这种软件即可生成，对于比较复杂的3D模型，用户可以通过Autodesk, AutoCAD等软件制作，然后导入到三维光刻机的软件中，这个软件支持.stl, dxf等格式的文件用于3D结构的制造。 激光光刻机激光直接读写 这套激光光刻机由飞秒激光光源，精密的3轴定位台和扫描镜组成。首先，待刻录的图形通过激光光刻机精密的激光聚焦系统直接从CAD设计中导入到光刻胶上。聚合物的双光子或多光子吸收用于形成高质量表面的3D结构。100nm的尺寸可自形成结构，200nm-10um尺寸的结构可以控制并重复，这套激光蚀刻机提供纳米尺度分辨率和对聚合物的广泛选择，从而可以适合微纳光学,微流体,MEMS,功能表面制作等各种应用. 与CAD设计等同的3D结构形成后，未固化的光刻胶剩余物由有机溶剂洗掉,这样只留下蚀刻的微纳结构呈现在基板上。 激光光刻机后续工序： 在所需的微纳结构形成后，它被浸入到几种不同的溶剂中，以除去蚀刻过程中留下的液态聚合物。激光光刻机全部过程都是自动化的，重要参数可以根据要求而设定：浸入时间,温度等.对于特殊的样品或加工对象，可以使用紫外光或干燥机处理。秒激光直写光刻系统配件应用 ?激光光刻机用于纳米光子器件（三维光子晶体） ? 三维光刻机用于微流控芯片 ? 三维光刻机用于微光学（光学端面微结构制作） ? 激光光刻机制作机微机械 ?激光蚀刻机制作微型光机电系统 ? 激光光刻机,三维光刻机用于生物医学

高分辨率扫描探针显微镜配件是欧盟革命性的高分辨率扫描探针显微镜，SPM显微镜， 它具有目前世界上最为紧凑的机构构成，同时可作为扫描探针显微镜和原子力显微镜使用。高分辨率扫描探针显微镜配件有不同类型的纳米定位平台，包括各种扫描位移台，以确保用户大面积扫描样品，扫描探针显微镜具有最佳的多功能性，可提供EFM, MFM, STM, Phase Imaging, CAFM, KPM 等诸多模式供用户使用。 高分辨率扫描探针显微镜配件特色双光学样品观察（正置和倒置）扫描尺度高达 250 μm全自动样品拾取X-Y 扫描尺寸100 x 100μm (高压模式) 10 x 10 μm (低压模式)高电压模式闭环分辨率: 2 nm高电压模式开环分辨率: 0.2 nm闭环线性： 0.1%.Z 方向扫描尺寸:10 μm (高压模式)1 μm (l低压模式)分辨率: 0.16 nm (高压模式), 0.02 nm (低压模式)高分辨率扫描探针显微镜配件特色 适合样品大小: 可容纳不同结构的直径最高达到30mm的样品。扫描探针显微镜控制系统： 数字控制器和模拟反馈系统，具有高分辨率和低噪音的特点。扫描探针显微镜,SPM显微镜采集软多窗口应用的基于Windows 系统开发的软件，控制所有的硬件工作。

所属类别： 激光器 短脉冲激光器所属品牌：法国Horus Laser公司1.HLX-I系列1064nm亚纳秒微片激光器: Horus Laser公司的HLX-I系列产品是一款基于全固态泵浦的被动调Q激光器。得益于我们的专利设计，该款1064nm激光器能够产生600ps的脉宽，重复频率可达100KHz, 平均功率可达500mW, 单脉冲能量可达20uJ。具有高度可靠性的微片设计是先进的OEM工业与科研应用的理想选择。紧凑型的设计也适于大多数的系统集成。特点：被动调Q、具有专利技术的微片设计、1064nm亚纳秒脉冲（600ps to 2ns)、脉冲纯度高（无次生脉冲）、重复频率可达100KHz 、平均功率可达500mW、峰值功率可达30kW、外触发功能可选、驱动电源具有模拟与数字控制功能应用：超连续波生成、光纤放大的种子光源、光探测与测距、3D扫描与成像、生物医学、CARS泵浦、污染物检测、大气科学、微机械加工与金刚石压花2. HLF-I系列1064nm光纤耦合输出亚纳秒微片激光器: Horus Laser公司的HLF-I系列产品是一款基于全固态泵浦被动调Q技术的单模光纤耦合激光器。得益于我们的专利设计，该款1064nm激光器能够产生600ps的脉宽，重复频率可达100KHz, 平均功率可达320mW, 单脉冲能量可达12uJ。具有高度可靠性的微片设计是先进的OEM工业与科研应用的理想选择。紧凑型的设计也适于大多数的系统集成。特点：被动调Q&单模光纤输出、具有专利技术的微片设计、1064nm亚纳秒脉冲（600ps to 2ns)、脉冲纯度高（无次生脉冲）、重复频率可达100KHz 、平均功率可达320mW、峰值功率可达15kW、外触发功能可选、驱动电源具有模拟与数字控制功能应用：超连续波生成、光纤放大的种子光源、光探测与测距、3D扫描与成像、生物医学、CARS泵浦、污染物检测、大气科学、微机械加工与金刚石压花3. HLX-G系列532nm亚纳秒微片激光器: Horus Laser公司的HLX-G系列产品是一款基于全固态泵浦的被动调Q激光器。得益于我们的专利设计，该款532nm激光器能够产生600ps的脉宽，重复频率可达50KHz, 平均功率可达150mW, 单脉冲能量可达10uJ。具有高度可靠性的微片设计是先进的OEM工业与科研应用的理想选择。紧凑型的设计也适于大多数的系统集成。特点：被动调Q、具有专利技术的微片设计、532nm亚纳秒脉冲（600ps to 1ns)、脉冲纯度高（无次生脉冲）、重复频率可达50KHz 、平均功率可达150mW、峰值功率可达15kW、外触发功能可选、驱动电源具有模拟与数字控制功能应用：MALDI、微解剖学、光探测与测距、生物医学、激光诱导荧光、激光诱导解析光谱、拉曼光谱、大气科学、微机械加工与金刚石压花

科研级飞秒激光微加工平台FemtoLAB 科研级飞秒激光微加工平台FemtoLAB是科学实验精密微加工的优秀解决方案。FemtoLAB配备高精度线性位移平台、高性能电流扫描仪和多功能微加工软件SCA等，是理想的飞秒激光微加工实验室。典型应用：- 表面微米和纳米结构- 雕刻- 钻孔- 激光照相和多光子聚合- 材料内折射率改性- 选择性薄层去除- 切削脆性材料- 波导结构加工- 可根据要求提供进一步开发 科研级飞秒激光微加工平台FemtoLAB是科学实验室的理想选择，可胜任各种定制任务和解决方案。我们的技术能力和应用经验可以优化FemtoLAB工作站，为用户节省宝贵的实验时间，并对用户进行全面培训。 科研级飞秒激光微加工平台FemtoLAB完整设备，含飞秒飞秒激光器激光微加工工作站FemtoLAB功能特性： - 高速精密微加工- 高端工业级飞秒激光器- 用亚微米分辨率制造难处理材料- 飞秒微机械加工模式下热影响区最小- 纳米定位精度- 可选扫描振镜，精确激光束引导- 灵活调节激光参数- 控制所有集成硬件设备的原始软件界面 WOP科研级实验室飞秒激光微加工平台FemtoLAB配置灵活性，系统允许在出现新要求时进一步扩展和升级。飞秒激光微加工系统FemtoLAB的技术指标依赖于最终用户的要求和任务。典型配置如下：参数 值 脉冲宽度200 fs - 10 ps重复频率1 kHz - 1 MHz平均功率高达20W脉冲能量最高2 mJ波长1030nm，515nm，343nm，258nm，206nm定位精度±250nm行程范围从25×25 mm到300×300 mm（根据要求可提供更大）主要组成部分：- 飞秒激光光源- 样品定位系统- 光束传输和扫描单元- 激光功率和偏振控制- 用于系统控制的软件（可选：根据要求自动对焦和视觉）- 样品架和特殊机械（可选：根据要求提供样品处理自动化）- 光学平台（可选）- 外壳（全部或部分）- 除尘装置如果用户已经拥有高能量高功率飞秒激光器，我们可以提供不含飞秒激光光源的微加工平台FEMTOLAB-KIT： 科研级实验室飞秒激光微加工平台FemtoLAB加工效果：玻璃基板烧蚀光纤钻孔 陶瓷激光划线激光切割 激光打标

更快更成熟的培养细胞和组织纳米仿生拓扑结构培养皿建构培养细胞和组织，以提高生理相关性。 与在常规培养皿中培养的细胞相比，在纳米仿生培养皿中培养的细胞表现出增强的结构和表型发育。纳米仿生地形诱导细胞骨架重组和细胞对齐。 NanoSurface仿生培养皿沿用标准的应用于高质量成像的1.5号玻璃底。单皿 35mm Ø dish (20mm Ø pattern area)6孔板 35mm Ø wells (20mm Ø pattern area) 24孔板 20mm Ø wells (full well area patterned)96孔板 5mm Ø wells (full well area patterned)No. 1.5 玻片NanoSurface纳米仿生拓扑培养皿快速建构和成熟以下众多细胞类型。 骨骼肌细胞平滑肌细胞内皮细胞人类胚胎干细胞诱导多功能干细胞间充质干细胞成纤维细胞上皮细胞癌细胞如果没有仿生表面形貌，心肌细胞在常规培养表面上呈现随机取向，紊乱的收缩模式和不成熟的功能表型。 仿生纳米级表面形貌模仿天然细胞外基质的对齐结构。纳米表面拓扑图案培养表面提供模拟天然细胞外基质的排列结构的细胞微环境，促进细胞结构和功能发育 原生心肌的基础基质具有对齐的结构 (标尺 10 µ m)。

纳米升降台,纳米升降平台由中国领先的进口光学精密仪器旗舰型服务商-孚光精仪进口销售,精通光学，服务科学，先后为北京大学,中科院上海光机所,中国工程物理研究院,航天3院,哈工大,南开,山东大学等单位提供优质进口的纳米升降台,纳米升降平台,精密升降台。这款纳米升降台是美国进口的短行程的精密升降台,Elevator Stage,纳米升降平台特别适合竖直的Z轴应用，它具有极佳的上下定位功能，超高分辨率，超高重复精度和机械稳定性。产品特色：这款纳米升降台采用高密度交叉滚珠导向系统用于竖直导向，确保最大的稳定性。单立柱式的X滚珠导向系统提供了适度的高刚性，使得这款纳米定位台具有极小的滞后和相当大的承载能力。纳米升降台应用：这款纳米定位台比较适合对Z轴垂直升降精度较高要求的应用。比如，光学成像系统中焦平面的准直，半导体测试，视频测量等。纳米升降台参数行程：4mm驱动系统：无刷伺服-丝杆驱动最大速度：20mm/s最大负载；10kgTTL分辨率：100nm, 50nm, 25nm, 12.5nm, 10nm, 1nm重复精度：5x分辨率

碳纳米管浆料高剪切研磨分散机，超高速碳纳米管浆料高剪切研磨分散机设备厂家，碳纳米管浆料研磨分散机,锂电池浆料研磨分散机,导电浆料研磨分散机,锂电池研磨分散设备IKN研磨分散机,锂电池浆料分散难点,研磨分散机在锂电池浆料分散中的优势。 碳纳米管导电浆料主要由碳纳米管、其他导电填料、分散助剂、和溶剂组成其质量百分比组成为:碳纳米管:0.5-15%其他导电物质0.1-2%,分散剂:0.1-5%,其余为溶剂。 该碳纳米管导电浆料制备方法为:先将分散助剂溶解在溶剂中然后在搅拌条件下加入碳纳米管和其他导电填料,待碳纳米管和其他导电填料充分浸润后,采用IKN研磨分散机对浆料进行研磨分散几小时后即可得到稳定分散的碳纳米管导电浆料。本发明方法简单不破坏碳纳米管结构和导电性,所制得的碳纳米管导电浆料具有优良的导电性,且性质稳定均一,静置3个月后,浆料稳定性 90%。对于碳纳米管浆料以及其他锂电池浆料的研磨分散普遍存在着2个难以解决的问题:1、研磨的细度,传统的设备研磨设备是通过刀头去磨细，这样经常会破坏碳纳米管结构和导电性,使物料变性。而IKN研磨分散机.细化物料更多的是通过物料与物料直接的撞击来完成研磨细化的功能，不会破坏物料结构。2、容易形成二团聚体在碳纳米管粒径细化之后，由于分子之间的作用力，小的物料又会二次团聚从而影响zui终产品的物料粒径以及分散的效果。IKN研磨分散机很好的克服了二团聚的现象 IKN研磨分散机是研磨机和分散机-体化的设备,在碳纳米管浆料粒径细化后瞬间通过分散工作腔进行分散避免二次团聚的现象。 超高速碳纳米管浆料高剪切研磨分散机设备厂家CMD2000系列研磨分散设备是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。 我们将三高剪切均质乳化机进行改装我们将三变跟为一然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)。 碳纳米管浆料研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。第1由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下凹槽在每都可以改变方向 第二由转定子组成， 分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。碳纳米管浆料研磨分散机的特点：①线速度很高剪切间隙非常小当物料经过的时候形成的摩擦力就比较剧烈结果就是通常所说的湿磨。②定转子被制成圆椎形具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。③定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离④在增强的流体湍流下凹槽在每都可以改变方向。⑤高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。碳纳米管浆料研磨分散机,锂电池浆料研磨分散机导电浆料研磨分散机,锂电池研磨分散设备锂电池浆料分散难点研磨分散机在锂电池浆料分散中的优势。

产品特点：金纳米螺旋标尺（L，R）是手性的纳米标记物，尤其适合于3D断层扫描，电子显微镜（EM）或冷冻电镜。我们的手性标记物显示纯手性（L或R），由于高对比度和金纳米颗粒的精准排列，可以很容易地被电镜检测到。金纳米螺旋标尺（L，R）是用DNA折纸技术制备，金纳米颗粒（10nm）被排列成纳米螺旋（螺距57nm 长110nm 直径34nm）。纳米标尺，AFM纳米标尺，原子力显微镜纳米标尺，共聚焦显微镜纳米标尺，超高分辨显微镜纳米标尺，SIM纳米标尺，STED纳米标尺，STORM纳米标尺，电镜纳米螺旋标尺，金纳米螺旋标尺，显微镜亮度灵敏度标尺，显微镜纳米标尺技术参数：在透射电镜载网中：样品放在干燥的透射电镜载网上使用，以提高由银增强放大了的螺旋效果。样本存储在石蜡膜覆盖的塑料孔中进行运输。保质期是6个月。在缓冲液中:该纳米螺旋储存在缓冲液（1X TE，11mM MgCl2）中运输。样本量约为30μL，这个量足以用于10个以上的TEM。样品保存于低温的保温盒中进行运输。适当的储存条件下（避光，4℃），保质期为3个月。

科研级飞秒激光微加工平台FemtoLAB 科研级飞秒激光微加工平台FemtoLAB是科学实验精密微加工的优秀解决方案。FemtoLAB配备高精度线性位移平台、高性能电流扫描仪和多功能微加工软件SCA等，是理想的飞秒激光微加工实验室。典型应用：- 表面微米和纳米结构- 雕刻- 钻孔- 激光照相和多光子聚合- 材料内折射率改性- 选择性薄层去除- 切削脆性材料- 波导结构加工- 可根据要求提供进一步开发 科研级飞秒激光微加工平台FemtoLAB是科学实验室的理想选择，可胜任各种定制任务和解决方案。我们的技术能力和应用经验可以优化FemtoLAB工作站，为用户节省宝贵的实验时间，并对用户进行全面培训。 科研级飞秒激光微加工平台FemtoLAB完整设备，含飞秒飞秒激光器激光微加工工作站FemtoLAB功能特性： - 高速精密微加工- 高端工业级飞秒激光器- 用亚微米分辨率制造难处理材料- 飞秒微机械加工模式下热影响区最小- 纳米定位精度- 可选扫描振镜，精确激光束引导- 灵活调节激光参数- 控制所有集成硬件设备的原始软件界面 WOP科研级实验室飞秒激光微加工平台FemtoLAB配置灵活性，系统允许在出现新要求时进一步扩展和升级。飞秒激光微加工系统FemtoLAB的技术指标依赖于最终用户的要求和任务。典型配置如下：参数 值 脉冲宽度200 fs - 10 ps重复频率1 kHz - 1 MHz平均功率高达20W脉冲能量最高2 mJ波长1030nm，515nm，343nm，258nm，206nm定位精度±250nm行程范围从25×25 mm到300×300 mm（根据要求可提供更大）主要组成部分：- 飞秒激光光源- 样品定位系统- 光束传输和扫描单元- 激光功率和偏振控制- 用于系统控制的软件（可选：根据要求自动对焦和视觉）- 样品架和特殊机械（可选：根据要求提供样品处理自动化）- 光学平台（可选）- 外壳（全部或部分）- 除尘装置如果用户已经拥有高能量高功率飞秒激光器，我们可以提供不含飞秒激光光源的微加工平台FEMTOLAB-KIT： 科研级实验室飞秒激光微加工平台FemtoLAB加工效果：玻璃基板烧蚀光纤钻孔 陶瓷激光划线激光切割 激光打标

更快更成熟的培养细胞和组织纳米仿生拓扑结构培养皿建构培养细胞和组织，以提高生理相关性。 与在常规培养皿中培养的细胞相比，在纳米仿生培养皿中培养的细胞表现出增强的结构和表型发育。纳米仿生地形诱导细胞骨架重组和细胞对齐。 NanoSurface仿生培养皿沿用标准的应用于高质量成像的1.5号玻璃底。单皿 35mm Ø dish (20mm Ø pattern area)6孔板 35mm Ø wells (20mm Ø pattern area) 24孔板 20mm Ø wells (full well area patterned)96孔板 5mm Ø wells (full well area patterned)No. 1.5 玻片NanoSurface纳米仿生拓扑培养皿快速建构和成熟以下众多细胞类型。 骨骼肌细胞平滑肌细胞内皮细胞人类胚胎干细胞诱导多功能干细胞间充质干细胞成纤维细胞上皮细胞癌细胞如果没有仿生表面形貌，心肌细胞在常规培养表面上呈现随机取向，紊乱的收缩模式和不成熟的功能表型。仿生纳米级表面形貌模仿天然细胞外基质的对齐结构。纳米表面拓扑图案培养表面提供模拟天然细胞外基质的排列结构的细胞微环境，促进细胞结构和功能发育 原生心肌的基础基质具有对齐的结构 (标尺 10 µ m)。

材料简介：三维石墨烯网络是在泡沫金属基底上通过化学气相沉积高温生长石墨烯薄膜层，借助泡沫基底的三维多孔骨架，生长成石墨烯的三维网络。三维石墨烯具有体表面积大，导电性佳，质量轻等特点。 应用领域：1）适用于超级电容、锂离子电池、铝电池、纳电池等电化学能源存储器件。2）适用于化学传感器、气体传感器领域。尺寸：5*10cm

三维石墨烯泡沫（1*1厘米）-三维独立石墨烯泡沫 3D Graphene Foam-3D Freestanding Graphene Foam尺寸：1*1厘米热释放带温度：120 °C

单分散星状介孔二氧化硅纳米球 Monodisperse Mesoporous Silica Nanosphere Stellate MSN制备方法：软化学单分散星状的介孔二氧化硅纳米球的的MSN平均尺寸：80 nm比表面积（BET）：大于500平方米/克。总体积：~ 1.4毫升/克孔径（MSN星状圆锥孔）：2.9 nm 孔径（MSN之间颗粒空隙填充）：50 nm

产品特点 Eachwave推出的新型无偏压高功率宽谱THz发射器是fs激光泵浦的太赫兹源，可以用各种激光器来泵浦（如波长在700-1600nm的低功率振荡器、或者放大器）。它是理想的近场成像THz源，我们同时有太赫兹近场探针可选。当然我们的THz发射器也可以应用于远场光谱的研究以及其他THz应用。我们的THz发射器是基于一个专利技术（德国专利号：DE102012010926 A1），利用双金属光栅结构实现无偏压的光学泵浦THz辐射。THz发射器具有一个很大的可激发面积，激发光的功率可以从5mW高至1W，并不会引起转换效率饱和的现象。主要特点： ——高的转换效率（得益于其先进的纳米级双金属结构设计）——高的辐射功率（得益于其大的可激发面积）——非常适用于TeraSpike微探针的THz源——无与伦比的简单易用——可以被当做点光源来使用，亦或者阵列辐射器——辐射出光具有线偏性——非常的耐用因为没有偏压——没有暗电流辐射特性和工作原理: 近红外或红外的飞秒（建议150fs）脉冲激发TeraBlast太赫兹发射器，发射出的太赫兹脉冲辐射为线性偏振状态。下图是利用我们的太赫兹近场探针（TD-800-X-HRS），通过时域扫描的方法，探测出的太赫兹发射器表面电场。明亮的高频太赫兹振荡部分被局限在几个毫米的的区域，而低频GHz频率则在更广泛的区域被辐射出来。 辐射场的形貌可以根据调节入射激发光束来轻松地改变。太赫兹激发方案: 测试样例 (TeraBlast TD-1550-L-165): 远场自由空间太赫兹时域谱测试，N2环境，探测端为400um厚度的GaP晶体，基于异步采样时域光谱技术详细参数(a) 370mW激发，利用热电探测器测量（Spectrum Detector Inc. SPI-D-62-THz) ； (b) 可根据客户需求定制更大激发面的天线。