样品杆等离子清洗机

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样品杆等离子清洗机相关的厂商

  • 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司
    OPS Plasma专注于等离子表面处理，集设备开发与设备制造、工艺开发与方案解决为一体，为各行业提供高效、节能、环保的等离子表面处理方案，包括等离子清洗、等离子活化、等离子改性、等离子接枝与聚合、等离子刻蚀、等离子沉积等。 OPS Plasma的创始人在德Fraunhofer Institute期间积累了丰富的设计开发经验，研发团队拥有10年以上的等离子系统设计经验、5年以上的等离子设备制造经验，是国内最大的等离子应用技术方案解决专家，不仅能为客户提供优质的等离子处理设备，还能为客户提供整套的解决方案和工艺指导。 OPS Plasma的制造团队多年从事等离子设备制造，成功开发出多款设备。设备采用具有独立知识产权的电极系统和进气系统，保证电场和气场的均匀分布，并完美地解决了真空动密封、真空冷却等一系列问题。 OPS Plasma的等离子设备广泛地应用在光学电子、太阳能、半导体、生物医疗、纳米材料、及通用工业领域，销往各大知名院校、科研机构和企业。在全国范围内超过100台实验设备和工业设备的良好运行，充分证明了OPS Plasma等离子系统的优越品质。 OPS Plasma致力于用国际的品质、国内的价格和优质的服务为全球各行业客户提供等离子处理设备和解决方案，成为全球行业领先的等离子应用技术方案解决专家。
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  • 华仪行（北京）科技有限公司（北京办事处）
    关于CIFCIF 来源于美洲，服务于中国，是一家集实验室仪器设备研发、制造、销售、服务、产品应用为一体的专业化集团公司，在半导体材料表面处理技术和无机样品前处理技术领域为客户提供先进的、高品质的实验仪器设备和应用工艺解决方案。CIF 中国总部坐落于北京国际企业孵化中心 (IBI)，系国家高新技术企业，公司具有自主进出口权，并已通过 ISO9001-2008 质量管理体系认证，全系列产品通过CE认证。CIF 自成立以来，始终坚持以科技创新和发展为宗旨，发扬“诚信、务实、协作、共赢”的企业精神 , 为包括我们的股东、员工、客户乃至商业伙伴在内的所有人提供创造和实现他们美好梦想的机会！CIF目前主要生产产品半导体材料表面处理仪器：等离子清洗机、紫外臭氧清洗机、匀胶机、烤胶机。无机样品前处理通用仪器：亚沸酸蒸清洗器、真空赶酸系统、酸纯化器、智能消解仪、恒温电热板、实验室废液收集系统。CIF发展历程2006年，CIF在美国加州洛杉矶注册成立赛福国际集团有限公司（CIF International Group Co.,Ltd）。最初是一家面向大学研究所销售仪器设备的供应商。2008年，CIF自主研发生产石墨电热板以来，先后研发生产全自动酸蒸逆流清洗器、酸纯化器、智能消解仪等前处理仪器设备。2010年，CIF经过多年不懈努力，掌握了等离子核心技术--等离子激发电源，自主研发生产材料表面处理仪器设备等离子清洗机。2014年，CIF在中国注册成立华仪行（北京）科技有限公司，正式进入中国市场拓展业务，主要负责仪器设备在中国市场的宣传、推广、销售、产品应用及服务工作。2015年，CIF自主研发生产专为处理粉体样品而设计转瓶等离子清洗机。2016年，CIF自主研发生产真空赶酸系统。2017年，CIF自主研发生产材料表面清洗设备，紫外臭氧清洗机（UVO）。2018年， CIF 在中国建厂设立独资子公司---赛福仪器承德有限公司（CIF Instruments Chengde Co., Ltd）(以下简称CIF Scientific)，部分研发制造业务移至中国，并增加实验室氟材料耗材的加工定制业务，目地是让实验室都用上最实惠的耗材。2019年，CIF自主研发生产匀胶机及电镜(SEM, FIB and TEM) 专用等离子清洗机等仪器设备。......
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  • 华仪行（北京）科技有限公司
    关于CIFCIF 来源于美洲，服务于中国，是一家集实验室仪器设备研发、制造、销售、服务、产品应用为一体的专业化集团公司，在半导体材料表面处理技术和无机样品前处理技术领域为客户提供先进的、高品质的实验仪器设备和应用工艺解决方案。CIF 中国总部坐落于北京国际企业孵化中心 (IBI)，系国家高新技术企业，公司具有自主进出口权，并已通过 ISO9001-2008 质量管理体系认证，全系列产品通过CE认证。CIF 自成立以来，始终坚持以科技创新和发展为宗旨，发扬“诚信、务实、协作、共赢”的企业精神 , 为包括我们的股东、员工、客户乃至商业伙伴在内的所有人提供创造和实现他们美好梦想的机会！CIF目前主要生产产品半导体材料表面处理仪器：等离子清洗机、紫外臭氧清洗机、匀胶机、烤胶机。无机样品前处理通用仪器：亚沸酸蒸清洗器、真空赶酸系统、酸纯化器、智能消解仪、恒温电热板、实验室废液收集系统。CIF发展历程2006年，CIF在美国加州洛杉矶注册成立赛福国际集团有限公司（CIF International Group Co.,Ltd）。最初是一家面向大学研究所销售仪器设备的供应商。2008年，CIF自主研发生产石墨电热板以来，先后研发生产全自动酸蒸逆流清洗器、酸纯化器、智能消解仪等前处理仪器设备。2010年，CIF经过多年不懈努力，掌握了等离子核心技术--等离子激发电源，自主研发生产材料表面处理仪器设备等离子清洗机。2014年，CIF在中国注册成立华仪行（北京）科技有限公司，正式进入中国市场拓展业务，主要负责仪器设备在中国市场的宣传、推广、销售、产品应用及服务工作。2015年，CIF自主研发生产专为处理粉体样品而设计转瓶等离子清洗机。2016年，CIF自主研发生产真空赶酸系统。2017年，CIF自主研发生产材料表面清洗设备，紫外臭氧清洗机（UVO）。2018年， CIF 在中国建厂设立独资子公司---赛福仪器承德有限公司（CIF Instruments Chengde Co., Ltd）(以下简称CIF Scientific)，部分研发制造业务移至中国，并增加实验室氟材料耗材的加工定制业务，目地是让实验室都用上最实惠的耗材。2019年，CIF自主研发生产匀胶机及电镜(SEM, FIB and TEM) 专用等离子清洗机等仪器设备。......
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样品杆等离子清洗机相关的仪器

  • SEM/TEM样品杆等离子清洗机 400-860-5168转3855
    Tergeo-EM 等离子清洗机 ● 集成直接浸泡和远程/Downstream清洗模式 ● 实时检测等离子体强度的等离子体传感器 ● 可毫秒级别短脉冲操作。 ● All-in-one实验室等离子蚀刻、处理和清洗系统。 ● 用于批量加工的大型样品室，带有矩形石英样品托盘 ● 双TEM 适配器，可配置为支持两个不同品牌的样品杆支持不同TEM/SEM系统Direct & downstream 清洗模式 敏感的样品如何用传统等离子清洗？ 通常需要很高的射频功率来点燃等离子体，但是一旦等离子被点燃，等离子就可以较低的射频功率维持。但是传统的等离子体清洗机很难自动、可靠地产生极弱的等离子体来处理诸如TEM碳膜和对热等敏感样的品。 为什么Tergeo EM可以轻松处理易破和热敏性样品？ Tergeo EM等离子清洗机集成SmartClean TM独特的等离子传感器，可以实时测量等离子强度，系统控制器不断地了解等离子体的状态。如果等离子体未能在低射频功率设置下点燃，系统将自动增加射频功率，直到等离子体点燃。一旦等离子体点燃，系统将立即将射频功率降低到配方设置。这一功能使Tergeo EM的射频功率比同产品功率低得多。 同系统中包含两种直接浸泡和远程Downstream清洗模式。远程Downstream清洗模式提供了一种温和的处理方法，可以显著减少传统直接模式等离子体系统中的样品加热、离子溅射问题。 系统还可选择脉冲模式操作，该模式能够可靠地产生平均功率小于0.25瓦的极弱等离子体。
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    厂商： 德国韦氏纳米系统有限公司
    品牌： PIE Scientific
    型号： Tergeo-EM
    价格： 5万 - 10万元
  • 样品杆清洁等离子清洗机 400-860-5168转3827
    Tergeo EM型SEM及TEM样品/样品杆清洁专用等离子清洁仪美国PIE Scientific专注研发先进的实验室用等离子仪器，用于SEM/TEM样品清洁、光刻胶蚀刻、等离子体增强沉积、表面处理与活化。我们的宗旨是：将半导体和核工程研究中开发的最新等离子技术集成到经济实用的实验室用等离子仪器。专为去除SEM & TEM样品的碳氢污染而设计。特有的双清洗模式（immersion和downstream）能够处理各种不同的样品，从严重污染的电子光学孔径光阑到各种脆弱易损样品，如石墨烯、碳纳米管、类金刚石碳膜以及多孔碳支持膜铜网上的TEM样品。石英样品托板上的孔洞可以安装标准SEM样品托。特别设计的适配器可以清洁不同厂家的TEM样品杆。特点：1. 系统具有双等离子源。浸入式等离子源用于主动表面处理、光刻胶蚀刻。远程式等离子源用于温和的污染清除以及脆弱易损样品的表面活化2. 13.56MHz高频射频发生器3. 7英寸触摸屏控制界面，全自动操作4. 标配75W版本，可选150W版本5. 标配2路气体输入，可选第三路气体输入6. 可选与FEI、JEOL、HITACHI等TEM样品杆配套的专用适配器7. AC输入：通用(110~230V, 50/60Hz)除了Tergeo EM型SEM & TEM样品清洁专用等离子清洁仪，另有Tergeo Basic基本型等离子清洁仪和Tergeo Plus型大腔室等离子清洁仪三、技术参数1、控制系统1）操作界面：7英寸电阻触摸屏操作界面，支持多种工作方式。 2）程序控制：可编程，总共有20个程序，每个程序有3个清洁步骤2、反应腔体1）腔体材质：圆柱形石英玻璃舱。2）腔体尺寸：内径110毫米，外径120毫米，深度280毫米，壁厚：5毫米。 3）前观测窗：前方开口，5毫米厚石英玻璃可视窗口，可观测内腔等离子状态，并带有防真空泄漏和避免高压的联锁装置，有效保护操作的安全性；3、射频电源 1）射频频率：13.56MHz 2）射频功率：标配0~75W；可选配0~150W。从0瓦到150瓦之间以1瓦间距连续可调，自动阻抗匹配。3）射频输出可以工作在脉冲方式，脉冲比可以从1/255调到255/255（连续输出）。 4、等离子源1）等离子强度探测器实时测量等离子源强度。2）电阻耦合电离方式。 3）外置电极设计，高压电极不合等离子接触以避免金属溅射造成的样品污染。5、气体控制 1）气路控制：标配一路MFC；可选配三路MFC； 2）质量流量计可以在0~100sccm之间控制气体流量； 3）一路(Venting and purging)气体入口用来快速给样品室放气和冲走残余处理气体。 4）自动放气流程控制可以保护真空泵不受影响。 5）高性能气压计可以测量1e-4 Torr到大气压之间的气压。 6）6mm气体接口。6、真空系统1）KF25法兰接口用来连接真空泵。 2）真空要求：抽速：1.7m3/h；3）最低气压：=200mTorr.
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    厂商： 迈可诺技术有限公司
    品牌： PIE Scientific
    型号： Tergeo EM
    价格： 面议
  • TEM专用等离子清洗机 400-860-5168转2856
    创新型设计完美全面的清洗解决方案。Evactron CombiClean 清洗系统为透射样品，样品杆以及透射极靴等其他分析设备提供了桌面式清洗平台，帮助客户清洗样品以及电镜部件，去除其存在的碳污染问题。同时也提供了外置等离子发生器用于电镜腔体清洗方案。系统操作简单，检测器可以智能控制多个等离子发生器单元，控制器自由切换可以通过不同发生器的工作模式。系统支持旋叶机械泵，从而防止油污染。提供干燥氮气保护环境，保证经等离子清洗过后的样品可以长期保存，此时不影响其他等离子发生器的使用。应用Evactron CombiClean 系统可以提供外置式等离子发生器，用于扫描电镜、透射电镜和双束电镜，同时也可以清洗透射样品杆以及气塞。结合使用Evactron TEM Wand透射电镜等离子清洗杆，可以清洗透射电镜样品、部件以及真空腔内部。系统特性系统通过内部的处理器，由MicroPirani 软件对于真空度以及功率进行智能控制。处理器可以对等离子发生器进行定时清洗控制以及氮气保护循环。系统保留操作日志。操作可以通过前置面板或者电脑完成。高真空的扫描电镜，聚焦离子束FIB系统，由于样品，操作，油污，FIB的气体注入系统带来的碳氢污染物会累积在样品室表面，以及探测器包括EDX窗口，进而影响系统分辨率，清晰度，真空度以及稳定性。Evactron等离子清洗机适用于任何扫描电镜以及XPS等其他任何真空腔体，她可以很好的解决这些困扰电镜使用者的污染问题.
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    厂商： 溢鑫科创科技集团
    品牌： XEI
    型号： Combiclean
    价格： 7万元
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样品杆等离子清洗机相关的资讯

  • 等离子清洗机的清洗过程指导
    等离子清洗机的清洗过程指导等离子清洗机 的清洗过程一般包括以下步骤：1. 准备工作：先将待清洗物放入等离子清洗室，并确保清洗室内没有杂物和污垢。2. 封闭清洗室：关闭清洗室的门和密封装置，确保清洗室密封。3. 抽气和抽真空：打开真空泵，将清洗室内的气体抽走，形成一定的真空度。真空度的选择根据清洗物的要求和等离子清洗机的规格来确定。4. 气体进入和等离子放电：在清洗室内引入清洗气体（如氧气、氮气等）并调整流量和压力。然后启动等离子发生器，产生等离子放电，形成气体等离子体。5. 清洗时间和功率：根据清洗物的材料和污染程度，设定适当的清洗时间和功率。清洗时间通常为几分钟到几十分钟，功率通常为几十瓦到几千瓦。6. 清洗结束和处理：清洗时间结束后，关闭等离子发生器和抽真空泵。待等离子体消失后，打开清洗室门，将清洗物取出。7. 清洗室清理和维护：清理清洗室内壁、电极和密封件，并检查设备的各种部件是否正常。需要注意的是，在进行等离子清洗时，应根据具体情况选择合适的清洗参数，如气体种类、流量、压力、功率等，在操作过程中要遵循设备使用说明书和安全操作规范，确保操作安全和清洗效果。
    时间： 2024-01-25
    作者： 浚和仪器
  • CIF发布CIF透射电镜样品杆清洗机新品
    CIF透射电镜样品杆清洗机CIF透射电镜（TEM）样品杆清洗机采用双等离子清洗源设计，自动切换，一机多用，清洗快速高效。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗。主要用于TEM透射电镜样品杆的等离子体清洗和真空检漏用途。产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 快速高效低损伤 技术参数产品型号CIF-TEM真空泵Agilent 、IDP-3涡轮式真空干泵入口压力1.0个大气压（0psig），出口压力1.4个大气压（6.5psig）抽速60L/min，极限真空3.3 x 10-1 mbarKF16入口接口等离子电源13.56MHz等离子射频电源，射频功率5-100W可调两种等离子体清洗源，原位等离子源和远程等离子源，自动匹配器清洗室清洗室尺寸(长X宽X高)150X150X150mm清洗数量可同时清洗3支TEM样品杆适配品牌THERMO FISHER（FEI）、日立HITACHI、捷欧路JEOL气体控制标配双路50毫升/分气体质量流量控制器（MFC），精确测量自动控制气体流量，不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制美国MKS公司925-12010皮拉尼真空计， 测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制，中英文互动操作界面电源220V，50/60Hz，300W质量保证二年质保，终身维护创新点：CIF透射电镜（TEM）样品杆清洗机采用双等离子清洗源设计，自动切换，一机多用，清洗快速高效、低等离子体轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗。核心部件采用国际一流品牌，保证设备优异的质量和稳定性。主要用于TEM透射电镜样品杆的等离子体清洗和真空检漏用途。CIF透射电镜样品杆清洗机
    时间： 2020-03-10
    作者： 新品发布
  • CIF发布CIF扫描电镜等离子清洗机新品
    CIF扫描电镜等离子清洗机CIF 扫描电镜（SEM）等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计，并可自动切换，一机多用。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗。主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。产品特点u 双等离子清洗源u 一机多用u 高效低损伤技术参数产品型号CIF-SEM法兰接口KF40工作气压0.3-3Pa等离子电源13.56MHz射频电源，射频功率5-100W可调，自动匹配器气体控制标配双路50毫升/分气体质量流量控制器（MFC），精确测量自动控制气体流量，不会受环境温度和压力变化影响气源选择根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择真空控制美国MKS公司925-12010皮拉尼真空计， 测量范围1E-5Torr真空保证真空计和电磁阀安全互锁操控方式7寸全彩触摸屏控制，中英文互动操作界面电源/功率220V，50/60Hz，300W可选配件可选氧气、氮气、氢气发生器， 氢气纯度﹥99.999％，输出流量0-300ml/min 质量保证二年质保，终身维护创新点：CIF 扫描电镜（SEM）等离子清洗机采用双等离子清洗源设计，自动切换，一机多用，清洗快速高效、低等离子体轰击损伤，核心部件采用国际一流品牌，保证设备优异的质量和稳定性。CIF扫描电镜等离子清洗机
    时间： 2020-04-27
    作者： 新品发布
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  • 如何去除透射样品腔长期累积的碳氢化合污染物？（透射等离子清洗机和等离子清洗透射样品杆的应用）

    如何去除透射样品腔长期累积的碳氢化合污染物？（透射等离子清洗机和等离子清洗透射样品杆的应用）

    透射系统拍高分辨，或者进行EELS等高端分析工作经常会遇到很麻烦的污染物，这些一部分是样品本身带有的可通过外置的等离子清洗机处理，另一部分也是现在比较难处理的就是透射系统样品腔内本身长期的碳氢化合物。等离子透射样品杆可以达到清洗效果，同时对样品以及透射系统本身没有任何的影响。 而非传统意义上等离子清洗用的是高能量的离子对样品特别是脆弱样品的破坏损伤，加热损伤等。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2011/07/201107062250_303575_1757238_3.jpg而透射使用的外置式等离子清洗机不但可以对市场上不同透射样品杆进行清洁外，还可以进行特殊样品的真空储存。这样怕氧化的样品或特殊样品不但可以进行等离子清洁外还可以进行真空保存。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2011/07/201107062257_303576_1757238_3.jpg

  • 【资料】等离子清洗机（Plasma Cleaner）常见三种用途

    Harrick等离子清洗机（Plasma Cleaner）常见三种用途 一、金属表面去油污并清洗　　金属表面常常会有油脂、油污等有机物及氧化层，在进行溅射、油漆、粘合、键合、焊接、铜焊和PVD、CVD涂覆前，需要用等离子处理来得到完全洁净和无氧化层的表面。在这种情况下的等离子处理会产生以下效果：1.1灰化表面有机层　　－表面会受到物理轰击和化学处理（氧 下图） 　　－在真空和瞬时高温状态下，污染物部分蒸发　　－污染物在高能量离子的冲击下被击碎并被真空泵抽出　　－紫外辐射破坏污染物　　因为等离子处理每秒只能穿透几个纳米的厚度，所以污染层不能太厚。指纹也适用。1.2氧化物去除　　金属氧化物会与处理气体发生化学反应（下图） 　　这种处理要采用氢气或者氢气与氩气的混合气体。有时也采用两步处理工艺。第一步先用氧气氧化表面，第二步用氢气和氩气的混合气体去除氧化层。也可以同时用几种气体进行处理。1.3焊接　　通常，印刷线路板(PCB)在焊接前要用化学助焊剂处理。在焊接完成后这些化学物质必须采用等离子方法去除，否则会带来腐蚀等问题。1.4键合　　好的键合常常被电镀、粘合、焊接操作时的残留物削弱，这些残留物能够通过等离子方法有选择地去除。同时氧化层对键合的质量也是有害的，也需要进行等离子清洗。二、等离子刻蚀物的处理　　在等离子刻蚀过程中，通过处理气体的作用，被刻蚀物会变成[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]（例如在使用氟气对硅刻蚀时，下图）。处理气体和基体物质被真空泵抽出，表面连续被新鲜的处理气体覆盖。不希望被刻蚀部分要使用材料覆盖起来（例如半导体行业用铬做覆盖材料）。　　等离子方法也用于刻蚀塑料表面，通过氧气可以灰化填充混合物，同时得到分布分析情况。刻蚀方法在塑料印刷和粘合时作为预处理手段是十分重要的，如POM 、PPS和PTFE。等离子处理可以大大地增加粘合润湿面积提高粘合强度。三、刻蚀和灰化处理聚四氟(PTFE)刻蚀　　聚四氟(PTFE)在未做处理的情况下不能印刷或粘合。众所周知，使用活跃的钠碱性金属可以增强粘合能力，但是这种方法不容易掌握，同时溶液是有毒的。使用等离子方法不仅仅保护环境，还能达到更好效果。（下图）　　　　　等离子结构可以使表面最大化，同时在表面形成一个活性层，这样塑料就能够进行粘合、印刷操作。　　　　　聚四氟(PTFE)混合物的刻蚀　　PTFE混合物的刻蚀必须十分仔细地进行，以免填充物被过度暴露，从而削弱粘合力。　　　　　　　处理气体可以是氧气、氢气和氩气。可以应用于PE、PTFE、TPE、POM、ABS和PP等。四、塑料、玻璃和陶瓷的表面活化和清洗　　塑料、玻璃、陶瓷与聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚四氟(PTFE)等等一样是没有极性的，因此这些材料在印刷、粘合、涂覆前要进行处理。同时，玻璃和陶瓷表面的轻微金属污染也可以用等离子方法清洗。等离子处理与灼烧处理相比不会损害样品。同时还可以十分均匀地处理整个表面，不会产生有毒烟气，中空和带缝隙的样品也可以处理。　　 不需要用化学溶剂进行预处理　　 所有的塑料都能应用　　 具有环保意义　　 占用很小工作空间　　 成本低廉　　等离子表面处理的效果可以简单地用滴水来验证，处理过的样品表面完全被水润湿。长时间的等离子处理（大于15分钟），材料表面不但被活化还会被刻蚀，刻蚀表面具有极小的表面接触角和最大润湿能力。五、等离子涂镀聚合　　　　　　在涂镀中两种气体同时进入反应舱，气体在等离子环境下会聚合。这种应用比活化和清洗的要求要严格一些。典型的应用是保护层的形成，应用于燃料容器、防刮表面、类似聚四氟(PTFE)材质的涂镀、防水镀层等。涂镀层非常薄，通常为几个微米，此时表面的疏水性非常好。常用的有3种情况　　 防水涂镀—环己物　　 类似PTFE材质的涂镀---含氟处理气体　　 亲水涂镀---乙烯醋酸 MYCRO（迈可诺）供稿

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样品杆等离子清洗机相关的耗材

  • 微波等离子体清洗器配件
    微波等离子体清洗器配件是目前最为先进的等离子体清洗机，采用微波能量生产等离子体，在氧气或氩气以1-5torr的压力流经样品室时，微波能会有效地激发等离子体。等离子体清洗机配件产生的等离子体是电中性的高度电离的气体，这种等离子流经污染表面与之发生反应，污染表面自好清洗而不影响材料的大部分特性。与其他等离子产生方法不同，这款微波等离子清洗器使用2.45GHz的微波能，具有可调的的功率占空比和模拟功率调节功能。功率可调范围高达10-550瓦。使用该产品，可以获得更高的气压，更高的功率和更高的温度，当然，您将获得以前从未实现的更高的反应速度。微波等离子体清洗器配件特点微波等离子清洗技术是一种革命性的清洗方法。微波等离子清洗器本身价格不高，安全而易于使用，而且还节省空间。这种等离子体清洗机,微波清洗器不产生垃圾，不排放有毒有害的溶解物或气体，不需要独立的操作空间。是一种远远比化学清洗方法安全经济环保的清洗方式。我们提供三种规格的微波等离子体清洗器，这三款等离子体清洗机,微波清洗器的区别主要在于耐温玻璃样品室的容积大小。第一种等离子体清洗机,微波清洗器的样品室是直径4.1’’x6’’长，第二种等离子体清洗器是8’’x6’’x2’’，第三种是9’’x7’’x3’’。具有长方形样品室的清洗器都配有水冷系统可以控制温度，这样就可以清洗更多种类的器具而不必单位热损伤。微波等离子体清洗器配件配置：1.水循环浴；2.双气真空流动控制器：可与微波等离子清洗器联合使用的独立的器件，它的作用是按不同比例混合两种气体。该控制器包括为真空泵和水循环浴提供的功率输出，两个流量（0-5SCFM）计，两个压力计(0-60帕)，一个真空压力计（0-30’’Hg）和一个开关；3.离子阱：该离子阱用于保护易损伤材料，如：激光二极管发光面，光刻胶等。该离子阱可以中和带电离子，从而只允许中性辐射物参与清洗使得易伤材料免于清洗伤害。
    供应商： 孚光精仪（中国）有限公司
    品牌： 孚光精仪
    价格： 0
  • 等离子清洗机（电镜专用）
    功能：主要用于除去透射电镜样品及样品杆上的污染，防止碳沉积以降低图像分辨率及对样品微区分析造成误判。还可利用该仪器清洗各类光阑等电子显微镜配件。特别适用于场发射扫描电镜和场发射透射电镜。外型尺寸: W 345mm, H 220 mm, D420 mm反应室尺寸: ? 80 mm, L270 mm气体供应: 流量控制型射频发生器: 40kHz/100 W真空泵: Leybold, Type S1.5 (1.5m3/h)控制方式: PCCE控制附件： TEM 专用舱门
    供应商： 上海尔迪仪器科技有限公司
    品牌： Diener
    价格： 面议
  • deconex 25 ORGANACID有机酸性中和清洗剂
    deconex 25 ORGANACID，有机酸性中和清洗剂，实验室清洗剂，机洗专用清洗剂，产品名称：deconex 25ORGANACID有机酸性中和清洗剂型 号：deconex 25O RGANACID品 牌：瑞士波洱Borer产品类型：机洗专用有机酸性中和清洗剂deconex25ORGANACID有机酸性中和清洗剂deconex 25 ORGANACID是一种弱酸性中和剂，不含表面活性剂，无磷，用于专用清洗机中清洗步骤后的中和过程。本品可以温和有效地去除清洗物品上的碱性残留物，在后续处理过程中，防止形成斑点和对材料造成不可逆的损伤。主要成分：有机酸理化参数:pH值(1%水溶液中):2.6生物降解率:90%deconex25ORGANACID有机酸性中和剂使用方法:稀释浓度：1-3m1/L(体积比)接触时间：2-5分钟清洗温度：20-50℃规格：5公斤10公斤以下产品适用于实验室手工浸泡清洗：货号产品名称简要应用描述包装规格500325.00-F10Wdeconex12Basic碱性浓缩液体、手工/超声清洗1.3kg500325.00-K05Wdeconex12Basic碱性浓缩液体、手工/超声清洗7kg518000.00-F10Wdeconex15PF-x碱性浓缩液体、手工/超声清洗1kg518000.00-K10Wdeconex15PF-x碱性浓缩液体、手工/超声清洗10kg518110.00-KK5WdeconexFORMULA1碱性浓缩液体、全自动机洗6kg518110.00-K10WdeconexFORMULA1碱性浓缩液体、全自动机洗12kg以下产品为自动机洗产品：货号产品名称简要应用描述包装规格519200.00-KK5Wdeconex 22LIQ-x碱性浓缩液体、全自动机洗6kg519200.00-K10Wdeconex 22LIQ-x碱性浓缩液体、全自动机洗12kg516900.00-KK5Wdeconex 22HPF-x碱性浓缩液体、全自动机洗6kg516900.00-K10Wdeconex 22HPF-x碱性浓缩液体、全自动机洗12kg518110.00-KK5Wdeconex FORMULA1碱性浓缩液体、全自动机洗6kg518110.00-K10Wdeconex FORMULA1碱性浓缩液体、全自动机洗12kg502100.00-KK5Rdeconex 25organacid酸性浓缩液体、全自动机洗中和剂5kg502100.00-K10Rdeconex 25organacid酸性浓缩液体、全自动机洗中和剂10kg502200.00-KK5Rdeconex 26Mineralacid酸性浓缩液体、全自动机洗中和剂5kg502200.00-K10Rdeconex 26Mineralacid酸性浓缩液体、全自动机洗中和剂10kg以下产品为实验室设备消毒和擦拭-适用于细胞培养客户：货号产品名称简要应用描述包装规格513200.00-S05Adeconex SOLARSEPT即用型仪器设备表面消毒剂0.5L以下产品适用于需真空密封设备，代理原有硅油适用。耐高低温。货号产品名称简要应用描述包装规格514215.00-CA15glisseal N真空润滑脂60g514205.00-D10Gglisseal N真空润滑脂1kg514310.00-CA15glisseal HV真空润滑脂60g514315.00-D10Gglisseal HV真空润滑脂1kg如何选择borerdeconex专业清洗剂：实验室类型主要污染物适合清洗剂清洗方式分析实验室多种复杂有机物，水溶性无机盐等deconex 12BASIC手工浸泡超声波清洗有机痕量分析实验室多种复杂有机物，水溶性无机盐等deconex 15PF-x手工浸泡超声波清洗制备实验室简单有机物，无机盐等deconex 15PF-x手工浸泡超声波清洗微生物实验室培养基，油脂，蛋白质等deconex 12BASIC手工浸泡超声波清洗环境和水质分析实验室金属氧化物，微量元素离子，简单有机物deconex 15PF-x手工浸泡超声波清洗石油化工实验室石油及其衍生产物deconex FORMULA1手工浸泡超声波清洗乳品厂实验室乳脂，蛋白，香料deconex 12 BASIC手工浸泡超声波清洗食品厂实验室油脂，淀粉，糖分deconex 12 BASIC手工浸泡超声波清洗啤酒厂实验室氨基酸，糖分等deconex 12 BASIC手工浸泡超声波清洗实验动物和畜牧业排泄物，食物残渣deconex 12 BASIC适合预清洗动物排泄物手工浸泡超声波清洗
    供应商： 北京莱博瑞杰科技有限公司
    品牌： 波洱
    价格： 面议
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