紫外曝光光刻系统

p　　6月21日，“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”国家科技重大专项(02专项)实施管理办公室组织专家在中国科学院长春光学精密机械与物理研究所召开了“极紫外光刻关键技术研究”项目验收会。评审专家组充分肯定了项目取得的一系列成果，一致同意项目通过验收，认为该项目的顺利实施将我国极紫外光刻技术研发向前推进了重要一步。/pp　　极紫外(Extreme Ultraviolet，EUV)光刻是一种采用波长13.5nm极紫外光为工作波长的投影光刻技术，是传统光刻技术向更短波长的合理延伸。作为下一代光刻技术，被行业赋予拯救摩尔定律的使命。极紫外光刻光学技术代表了当前应用光学发展最高水平，作为前瞻性EUV光刻关键技术研究，项目指标要求高，技术难度大、瓶颈多，创新性高，同时国外技术封锁严重。/pp　　长春光机所自上世纪九十年代起专注于EUV/X射线成像技术研究，着重开展了EUV光源、超光滑抛光技术、EUV多层膜及相关EUV成像技术研究，形成了极紫外光学的应用技术基础。2002年，研制国内第一套EUV光刻原理装置，实现了EUV光刻的原理性贯通。2008年国家“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”科技重大专项将EUV光刻技术列为“32-22nm装备技术前瞻性研究”重要攻关任务。长春光机所作为牵头单位承担起了“极紫外光刻关键技术研究”项目研究工作，成员包括中科院光电技术研究所、中科院上海光学精密机械研究所、中科院微电子研究所、北京理工大学、哈尔滨工业大学、华中科技大学。/pp　　项目研究团队历经八年的潜心钻研，突破了制约我国极紫外光刻发展的超高精度非球面加工与检测、极紫外多层膜、投影物镜系统集成测试等核心单元技术，成功研制了波像差优于0.75 nm RMS 的两镜EUV 光刻物镜系统，构建了EUV 光刻曝光装置，国内首次获得EUV 投影光刻32 nm 线宽的光刻胶曝光图形。建立了较为完善的曝光光学系统关键技术研发平台，圆满完成国家重大专项部署的研究内容与任务目标，实现EUV 光学成像技术跨越，显著提升了我国极紫外光刻核心光学技术水平。同时，项目的实施形成了一支稳定的研究团队，为我国能够在下一代光刻技术领域实现可持续发展奠定坚实的技术与人才基础。/pp　　验收会上，长春光机所所长贾平诚挚地感谢了与会专家及各合作单位对项目的大力支持。贾平指出从时机及技术难度方面考虑，EUV项目的布局正处于窗口期，希望国家给予持续稳定的支持。鼓励项目参研单位进一步发挥EUV学科优势，鼓足勇气并肩奋斗，在后续支持下取得更好的成果。/pp　　02专项总体组技术总师、中科院微电子所所长叶甜春做总结发言。叶甜春强调，在国际上EUV光刻大生产基地已经建立的形势下，我国EUV光刻研究要继续坚持下去，面向未来产业工程化需求，着力点要放在必须掌握的核心技术和有可能取得创新的突破点。此外，叶甜春评价光刻机队伍是承担最核心、最高端、最艰巨任务的队伍，也是专项团队中最有战斗力、最能抗压、最值得信任的主力部队。鼓励项目团队肩负重大任务的责任与使命感，继续坚持勇攀高峰。/pp　　02专项光刻机工程指挥部总指挥、前科技部副部长曹健林到会并致辞。作为国内最熟悉EUV光刻的领域专家，曹健林对我国EUV光刻技术能力的提升感到欣喜，他认为中国已初步具备光刻技术的研发能力，并向着产业化目标前进，30年前的“中国光刻梦”正在逐步变为现实，通过我国光刻技术研发能力的建设初步树立了坚持“中国光刻梦”的信心。/p

据红星新闻报道，全国人大代表、四川省工商联副主席，四川启阳汽车集团有限公司董事长王麒提交了《关于支持成都科学城加快布局建设天府（国家）实验室的建议》，建言聚焦空天科技、生命科学、先进核能、电子信息等关键领域推动国家实验室集中布局成都科学城，突破一批‘卡脖子’技术问题。王麒 （图源 红星新闻）其中，王麒建议国家发改委、科技部优先在成都科学城布局建设大科学装置、国家级大科学工程。“支持数千瓦极紫外自由电子激光光源及光刻验证装置、电磁驱动聚变大科学装置、超高速低真空磁浮交通及动模研究平台、超高通量多功能堆研究设施、跨尺度矢量光场时空调控验证装置布局成都科学城并纳入国家‘十四五’重大科技基础设施建设规划，打造更多抢占制高点的川版‘国之重器’，建设国际一流重大科技基础设施集群。”据了解，成都科学城科技创新项目重点项目“数千瓦极紫外自由电子激光光源及光刻验证装置”由中国工程物理研究院第十研究所承担，总投资约41亿元，拟通过“数千瓦极紫外自由电子激光光源及光刻验证装置”，建立大功率极紫外光源，通过光刻光源预处理系统及光刻验证系统，验证自由电子激光用于光刻的各种关键物理及工程问题，完成10nm节点光刻演示验证，建立首台千瓦极紫外光刻工程测试样机，为我国掌握大规模极紫外光刻（EUV）生产能力、突破芯片制造“卡脖子”问题提供条件。项目拟于2021年启动建设，2026年底完成验收。目前，极紫外光源是制约我国EUV光刻机的关键部分。而国内各种EUV光源的研究也在逐步进行中。而目前我国EUV光源受制于功率限制，无法应用于工业量产，而工业生产至少需要达到250W功率，ASML实验室已经达到了1kW的EUV光源功率。

p style="text-align: center "strong我国成功研制出世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备/strong/pp style="text-align: center "strong可加工22纳米芯片/strong/pp style="text-align: center "strongimg width="500" height="332" title="超分辨光刻装备核心部件纳米定位干涉仪以及精密间隙测量系统.jpg" style="width: 500px height: 332px " alt="超分辨光刻装备核心部件纳米定位干涉仪以及精密间隙测量系统.jpg" src="https://img1.17img.cn/17img/images/201811/uepic/630030e2-5fa9-438d-b88b-dcedfe27b36a.jpg" border="0" vspace="0"//strong/pp style="text-align: center "strong▲超分辨光刻装备核心部件纳米定位干涉仪以及精密间隙测量系统。/strong/pp　　军报记者成都11月29日电(吕珍慧、记者邹维荣)国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收，这是我国成功研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，span style="color: rgb(255, 0, 0) "光刻分辨力达到22纳米，结合多重曝光技术后，可用于制造10纳米级别的芯片。/span/pp style="text-align: center "img width="500" height="331" title="超分辨光刻设备核心部件超分辨光刻镜头.jpg" style="width: 500px height: 331px " alt="超分辨光刻设备核心部件超分辨光刻镜头.jpg" src="https://img1.17img.cn/17img/images/201811/uepic/1db46f1b-ecd9-405c-b92b-55165c103455.jpg" border="0" vspace="0"//pp style="text-align: center "strong▲超分辨光刻设备核心部件超分辨光刻镜头。/strong/pp　　中科院理化技术研究所许祖彦院士等验收组专家一致表示，该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限，建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线，绕过了国外相关知识产权壁垒。/pp style="text-align: center "img width="500" height="331" title="超分辨光刻设备加工的4英寸光刻样品.jpg" style="width: 500px height: 331px " alt="超分辨光刻设备加工的4英寸光刻样品.jpg" src="https://img1.17img.cn/17img/images/201811/uepic/a67133f0-7251-46a3-ba62-6cc159084915.jpg" border="0" vspace="0"//pp style="text-align: center "strong▲超分辨光刻设备加工的4英寸光刻样品。/strong/pp style="text-align: center "img width="500" height="332" title="采用超分辨光刻设备加工的超导纳米线单光子探测器.jpg" style="width: 500px height: 332px " alt="采用超分辨光刻设备加工的超导纳米线单光子探测器.jpg" src="https://img1.17img.cn/17img/images/201811/uepic/bfbf977d-f735-4c4a-ada2-968e62a904ea.jpg" border="0" vspace="0"//pp style="text-align: center "strong▲采用超分辨光刻设备加工的超导纳米线单光子探测器。/strong/pp　　光刻机是制造芯片的核心装备，我国在这一领域长期落后。它采用类似照片冲印的技术，把一张巨大的电路设计图缩印到小小的芯片上，光刻精度越高，芯片体积可以越小，性能也可以越高。但由于光波的衍射效应，光刻精度终将面临极限。/pp style="text-align: center "img width="500" height="332" title="中科院光电所科研人员展示利用超分辨光刻设备加工的超导纳米线单光子探测器.jpg" style="width: 500px height: 332px " alt="中科院光电所科研人员展示利用超分辨光刻设备加工的超导纳米线单光子探测器.jpg" src="https://img1.17img.cn/17img/images/201811/uepic/2b4c7150-dcc7-4844-9278-610ae7a5c3a4.jpg" border="0" vspace="0"//pp style="text-align: center "strong▲中科院光电所科研人员展示利用超分辨光刻设备加工的超导纳米线单光子探测器。/strong/pp　　为突破极限、取得更高的精度，国际上目前采用缩短光波、增加成像系统数值孔径等技术路径来改进光刻机，但也遇到装备成本高、效率低等阻碍。/pp　　项目副总师胡松介绍，中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备，打破了传统路线格局，形成了一条全新的纳米光学光刻技术路线，具有完全自主知识产权，为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性领域的跨越式发展提供了制造工具。/pp style="text-align: center "img width="500" height="331" title="项目副总设计师胡松研究员介绍超分辨光刻装备研制项目攻关情况.jpg" style="width: 500px height: 331px " alt="项目副总设计师胡松研究员介绍超分辨光刻装备研制项目攻关情况.jpg" src="https://img1.17img.cn/17img/images/201811/uepic/8f9b7048-0983-4614-ad32-83bac74326ce.jpg" border="0" vspace="0"//pp style="text-align: center "strong▲项目副总设计师胡松研究员介绍超分辨光刻装备研制项目攻关情况。/strong/pp style="text-align: center "strongimg width="500" height="331" title="中科院光电所科研人员操作超分辨光刻设备.jpg" style="width: 500px height: 331px " alt="中科院光电所科研人员操作超分辨光刻设备.jpg" src="https://img1.17img.cn/17img/images/201811/uepic/ae8c0ca4-deed-4fe3-8449-59092f2b080b.jpg" border="0" vspace="0"//strong/pp style="text-align: center "strong▲中科院光电所科研人员操作超分辨光刻设备。/strong/pp　　据了解，该光刻机制造的相关器件已在中国航天科技集团公司第八研究院、电子科技大学太赫兹科学技术研究中心、四川大学华西医院、中科院微系统所信息功能材料国家重点实验室等多家科研院所和高校的重大研究任务中取得应用。/pp style="text-align: center "img width="500" height="330" title="中科院光电所科研人员操作超分辨光刻设备2.jpg" style="width: 500px height: 330px " alt="中科院光电所科研人员操作超分辨光刻设备2.jpg" src="https://img1.17img.cn/17img/images/201811/uepic/0064094a-2a60-4744-9875-2b41b0f467e2.jpg" border="0" vspace="0"//pp style="text-align: center "strong▲中科院光电所科研人员操作超分辨光刻设备。/strong/pp /p

位于爱尔兰莱克斯利普(Leixlip)、投资70亿美元的Intel Fab 34晶圆厂迎来重要时刻：一台光刻胶显影设备(lithography resist track)缓缓进入工厂，这也是该厂的第一台巨型芯片制造工具。该设备来自Intel美国俄勒冈州工厂，搭乘飞机越过大西洋，来到了爱尔兰。这台设备将与EUV极紫外扫描仪搭档，首先为硅晶圆覆上精密的涂层，然后进入EUV扫描仪，进行曝光，接着晶圆回到光刻设备，再进行一系列的高精密光显影、清理操作。一座典型的晶圆厂包含大约1200台先进制造设备，大部分价值都在百元美元级别。Intel Fab 34晶圆厂2019年动工建设，计划2023年正式投产，将会把Intel在爱尔兰的产能翻一番，并为未来生产Intel 4工艺铺平道路——严格来说是Intel 7nm，但是官方重新命名，认为它可以媲美行业4nm水平。Alder Lake 12代酷睿、Raptor Lake 13代酷睿都是Intel 7工艺(10nm ESF)，Meteor Lake 14代酷睿和代号Granite Rapids的下下代至强都将用上Intel 4工艺。官方透露，新工艺研发进展顺利，芯片测试已经完美通过，SRAM、逻辑单元、模拟单元都符合规范，去年第二季度还早早完成了Meteor Lake计算单元模块的流片。Intel现阶段正在全球建设、升级晶圆厂，除了爱尔兰还有美国本土的亚利桑那州、新墨西哥州、俄勒冈州，以及马来西亚，投资上百亿美元，很快还会宣布在欧洲、美国的更多晶圆厂建设计划。

众所周知，制造7nm及以下工艺的芯片，需要用到EUV光刻机，而全球仅有ASML能够生产。ASML在2015年，就推出了第一代EUV光刻机WINSCAN NXE：3400B，之后在2019年推出了NXE：3400C，2021年推出了NXE：3600D。不过据称，NXE：3600D型号的EUV光刻机，支持的工艺可能仅到3nm，如果要制造2nm的芯片，光刻精度还要提升，需要新一代的High－NA极紫外光刻机才行。而光刻精度怎么提升，就是数值孔径的提升了， 前几代光刻机，比如3400B／C、3600D的数值孔径都是0．33NA的，解析度（精度）为13nm，单次构图间距为32nm到30nm。而要生产2nm的芯片，数值孔径要变为0．55NA，也就是解析度（精度）为8nm，这样可以更更快更好地曝光更复杂的集成电路图案，同时单次构图间距低于30nm。这种新的EUV光刻机叫做型号，就叫做EXE：5200，目前ASML已经有了规划，预计在2024年底，或者2025年交付。而基于0．55NA数值孔径的光刻机，光刻分辨率将允许芯片缩小1．7倍、同时密度增加2．9倍，其处理晶圆的能力是每小时处理220片12寸晶圆左右，真正用于制造3nm以下的芯片。一小时处理220片12寸的晶圆，其产能有多大？如果是苹果A16这样的芯片，一块晶圆可以切割600块左右，理论上一台这样的光刻机，一年可以就光刻10亿颗以上… … 至于价格方面，ASML表示，其0．55NA的下一代EUV光刻机单价将达到3亿多美元（约合20亿元人民币）。至于买家，当然只有台积电、三星、英特尔三家才有资格购买，其它的晶圆厂，能够买到0．33NA的EUV光刻机，就已经非常不错了，不要想这种0．55NA的。当然，如果不生产7nm及以下的晶圆，EUV光刻机都不需要，DUV就够了，更就不用纠结这3亿多美元一台的0．55NA的EUV光刻机了。

近日，微电子所集成电路先导工艺研发中心在极紫外光刻基板缺陷补偿方面取得新进展。 与采用波长193nm的深紫外（DUV）光刻使用的掩模不同，极紫外（EUV）光刻的掩模采用反射式设计，其结构由大约由40层Mo和Si组成的多层膜构成。在浸没式光刻技术的技术节点上，基板制造和掩模制造已足够成熟，掩模缺陷的密度和尺寸都在可接受的水平。但是在EUV光刻系统中，由于反射率及掩模阴影效应的限制，掩模基板缺陷是影响光刻成像质量、进而导致良率损失的重要因素之一。 基于以上问题，微电子所韦亚一研究员课题组与北京理工大学马旭教授课题组合作，提出了一种基于遗传算法的改进型掩模吸收层图形的优化算法。该算法采用基于光刻图像归一化对数斜率和图形边缘误差为基础的评价函数，采用自适应编码和逐次逼近的修正策略，获得了更高的修正效率和补偿精度。算法的有效应性通过对比不同掩模基板缺陷的矩形接触孔修正前后的光刻空间像进行了测试和评估，结果表明，该方法能有效地抑制掩模基板缺陷的影响，提高光刻成像结果的保真度，并且具有较高的收敛效率和掩模可制造性。 基于本研究成果的论文Compensation of EUV lithography mask blank defect based on an advanced genetic algorithm近期发表在《光学快报》期刊上[Optics Express, Vol. 29, Issue 18, pp. 28872-28885 (2021)，DOI: 10.1364/OE.434787]，微电子所博士生吴睿轩为该文第一作者。微电子所韦亚一研究员为该文通讯作者。此项研究得到国家自然科学基金、国家重点研究开发计划、北京市自然科学基金、中科院的项目资助。图1 (a)优化算法流程 (b)自适应分段策略样例 (c) 自适应分段的合并与分裂 图2 (a)对不同大小的基板缺陷的补偿仿真结果 (b) 对不同位置的基板缺陷的补偿仿真结果 (c) 对复杂图形的基板缺陷的补偿仿真结果 (d) 对不同位置的基板缺陷的补偿、使用不同优化算法，目标函数收敛速度的比较

据科技日报报道称，日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）官网最新报告，该校设计了一种极紫外（EUV）光刻技术，超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻设备可采用更小的EUV光源，其功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一，从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命。在传统光学系统中，例如照相机、望远镜和传统的紫外线光刻技术，光圈和透镜等光学元件以轴对称方式排列在一条直线上。这种方法并不适用于EUV射线，因为它们的波长极短，大多数会被材料吸收。因此，EUV光使用月牙形镜子引导。但这又会导致光线偏离中心轴，从而牺牲重要的光学特性并降低系统的整体性能。为解决这一问题，新光刻技术通过将两个具有微小中心孔的轴对称镜子排列在一条直线上来实现其光学特性。由于EUV吸收率极高，每次镜子反射，能量就会减弱40%。按照行业标准，只有大约1%的EUV光源能量通过10面反射镜最终到达晶圆，这意味着需要非常高的EUV光输出。相比之下，将EUV光源到晶圆的反射镜数量限制为总共4面，就能有超过10%的能量可以穿透到晶圆，显著降低了功耗。新EUV光刻技术的核心投影仪能将光掩模图像转移到硅片上，它由两个反射镜组成，就像天文望远镜一样。团队称，这种配置简单得令人难以想象，因为传统投影仪至少需要6个反射镜。但这是通过重新思考光学像差校正理论而实现的，其性能已通过光学模拟软件验证，可保证满足先进半导体的生产。团队为此设计一种名为“双线场”的新型照明光学方法，该方法使用EUV光从正面照射平面镜光掩模，却不会干扰光路。

一、项目基本情况1.项目编号：ZG-ZWG-2023168/2758-234ZGZB23168项目名称：哈尔滨工程大学X射线/紫外光电子能谱采购项目预算金额：900.000000 万元（人民币）最高限价（如有）：900.000000 万元（人民币）采购需求：X射线/紫外光电子能谱1套合同履行期限：合同签订后12个月内完成所有设备到货，所有设备调试完毕并具备验收条件本项目( 不接受 )联合体投标。2.项目编号：ZG-ZWG-2023066/2758-234ZGZB23066项目名称：哈尔滨工程大学聚焦离子束-电子束曝光系统(FIB-EBL)采购项目预算金额：880.000000 万元（人民币）最高限价（如有）：880.000000 万元（人民币）采购需求：聚焦离子束-电子束曝光系统(FIB-EBL)一套合同履行期限：合同签订后12个月内完成所有设备到货，所有设备调试完毕并具备验收条件本项目( 不接受 )联合体投标。二、获取招标文件时间：2023年11月06日 至 2023年11月13日，每天上午8:30至12:00，下午12:00至16:30。（北京时间，法定节假日除外）地点：黑龙江中冠项目管理有限公司（中国黑龙江省哈尔滨市道里区友谊西路2982号）；方式：拟参加本项目的潜在投标人，请于2023年11月06日至2023年11月13日，每天上午08时30分至下午16时30分到黑龙江中冠项目管理有限公司（中国黑龙江省哈尔滨市道里区友谊西路2982号）获取采购文件，采购文件不予邮寄；售价：￥500.0 元，本公告包含的招标文件售价总和三、对本次招标提出询问，请按以下方式联系。1.采购人信息名 称：哈尔滨工程大学　　　　　地址：哈尔滨市南岗区南通大街145号　　　　　　　　联系方式：王老师 0451-82519862　　　　　　2.采购代理机构信息名 称：黑龙江中冠项目管理有限公司　　　　　　　　　　　　地　址：中国黑龙江省哈尔滨市道里区友谊西路2982号　　　　　　　　　　　　联系方式：刘女士 0451-82663366转8008/8006　　　　　　　　　　　　3.项目联系方式项目联系人：刘女士电　话：　　0451-82663366转8008/8006

近日，科学仪器行业迎来了前所未有的利好消息。2022年9月13日，国务院常务会议决定对部分领域设备更新改造贷款阶段性财政贴息和加大社会服务业信贷支持，政策面向高校、职业院校、医院、中小微企业等九大领域的设备购置和更新改造。贷款总体规模预估为1.7万亿元。 2022年9月28日，财政部、发改委、人民银行、审计署、银保监会五部门联合下发《关于加快部分领域设备更新改造贷款财政贴息工作的通知》（财金〔2022〕99号），对2022年12月31日前新增的10个领域设备更新改造贷款贴息2.5个百分点，期限2年，额度2000亿元以上。因此今年第四季度内更新改造设备的贷款主体实际贷款成本不高于0.7%（加上此前中央财政贴息2.5个百分点）。这两大重磅政策提供极低利息的贷款给消费端提前进行设备购置和更新改造，推动我国仪器市场迎来新一波仪器采购大潮。仪器信息网注意到，10月份以来，各大高校发布了众多半导体设备采购意向。仪器信息网特汇总统计了光刻设备相关的采购意向，含激光直写设备和电子束曝光机，总预算超5亿元。光刻设备相关的采购意向汇总序号项目名称预算金额(万元)采购单位发布时间预计采购时间查看1电子束光刻机3000清华大学2022/10/7 14:09Nov-22意向原文2飞秒激光三维直写系统400清华大学2022/10/7 14:09Nov-22意向原文3激光直写设备600清华大学2022/10/7 14:09Nov-22意向原文4接触式光刻机700清华大学2022/10/7 14:09Nov-22意向原文5步进式光刻机3000清华大学2022/10/8 8:29Nov-22意向原文6自旋科技研究院购置电子束曝光系统项目498华南理工大学2022/10/8 16:35Nov-22意向原文7聚焦离子束-电子束曝光系统(FIB-EBL)820哈尔滨工程大学2022/10/9 17:08Nov-22意向原文8集成电路学院激光直写光刻机采购452.9中山大学2022/10/10 15:57Nov-22意向原文9集成电路学院接触式光刻机（微米级）采购357.7中山大学2022/10/10 15:57Nov-22意向原文10电子束光刻系统1200华南理工大学2022/10/10 17:23Nov-22意向原文11化学化工学院双光子三维激光直写系统设备采购项目400兰州大学2022/10/10 21:24Nov-22意向原文12电子束光刻系统1200华南理工大学2022/10/12 8:40Nov-22意向原文13电子与信息工程学院步进式光刻机采购项目4300中山大学2022/10/13 10:55Nov-22意向原文14电子与信息工程学院接触式曝光机采购项目330中山大学2022/10/13 10:55Nov-22意向原文15电子与信息工程学院无掩模板紫外光刻机采购项目216中山大学2022/10/13 10:55Nov-22意向原文16电子与信息工程学院无掩膜激光直写曝光机采购项目500中山大学2022/10/13 10:55Nov-22意向原文17中国药科大学微纳米光刻机（精密对位曝光系统）项目230中国药科大学2022/10/13 14:28Nov-22意向原文18光刻机3465北京化工大学2022/10/13 15:52Nov-22意向原文19微立体光刻精密加工系统260吉林大学2022/10/13 17:47Nov-22意向原文20材料学院紫外光刻机采购项目180中山大学2022/10/13 22:58Nov-22意向原文21扫描电子显微镜FEI Quanta450-电子束曝光升级模块147.6中山大学2022/10/13 22:58Nov-22意向原文22超高分辨率的电子束光刻（EBL）采购项目1600中山大学2022/10/14 9:01Nov-22意向原文23激光直写式光刻机160吉林大学2022/10/14 11:51Nov-22意向原文24激光无掩膜光刻系统200中山大学2022/10/14 16:27Dec-22意向原文25物理科学与技术学院紫外光刻机45兰州大学2022/10/14 16:51Nov-22意向原文26物理学院/部门+光刻机采购项目23兰州大学2022/10/14 16:51Nov-22意向原文27紫外掩膜曝光光刻机采购200中山大学2022/10/14 19:14Nov-22意向原文28分析测试中心无掩模激光直写系统采购项目460北京理工大学2022/10/17 13:59Dec-22意向原文29电子束光刻系统1200华南理工大学2022/10/18 8:25Nov-22意向原文30光刻机380华中科技大学2022/10/18 17:33Nov-22意向原文31无掩膜光刻200华中科技大学2022/10/18 17:33Nov-22意向原文32掩膜对准光刻机380华中科技大学2022/10/18 17:33Nov-22意向原文33电子束光刻机500山东大学2022/10/18 22:01Nov-22意向原文34分子束外延（MBE）系统真空电子束曝光（EBL）系统采购1800华南理工大学2022/10/19 8:23Nov-22意向原文35聚焦电子束光刻系统640东北师范大学2022/10/20 11:15Nov-22意向原文368寸光刻机600东南大学2022/10/20 16:00Nov-22意向原文37激光直写曝光系统450浙江大学2022/10/25 14:17Nov-22意向原文38DUV塔尔博特光刻680同济大学2022/10/25 20:43Dec-22意向原文39电子束光刻机3500同济大学2022/10/25 20:43Dec-22意向原文40激光直写设备750同济大学2022/10/25 20:43Dec-22意向原文41双面对准光刻机450同济大学2022/10/25 20:43Dec-22意向原文42光刻机420华中科技大学2022/10/28 14:30Dec-22意向原文43掩膜对准光刻机420华中科技大学2022/10/28 14:30Dec-22意向原文44电子束曝光系统297北京大学2022/10/28 15:04Dec-22意向原文45高分辨掩膜光刻机采购390西南大学2022/11/1 20:27Dec-22意向原文46中国科学院大学集成电路学院计算光刻软件采购项目140中国科学院大学2022/11/2 16:21Nov-22意向原文47超高精密微立体光刻加工系统279厦门大学2022/11/2 17:01Dec-22意向原文48双光子灰度对准光刻机690天津大学2022/11/3 13:24Dec-22意向原文49无掩膜光刻机320天津大学2022/11/3 13:24Dec-22意向原文50电子束曝光机维保160中国科学院微电子研究所2022/11/3 19:55Nov-22意向原文51光刻机360吉林大学2022/11/4 8:26Dec-22意向原文52物理学院原位光谱激光直写加工系统600北京航空航天大学2022/11/5 12:57Dec-22意向原文53高精度电子束曝光机870北京师范大学2022/11/7 18:55Dec-22意向原文54集成电路学院电子束曝光机采购1400中山大学2022/11/9 15:51Dec-22意向原文55TX-电子束曝光（EBL）1800华中科技大学2022/11/9 18:22Dec-22意向原文56TX-对准光刻与晶圆键合机490华中科技大学2022/11/9 18:22Dec-22意向原文57TX-高精度无掩膜光刻机500华中科技大学2022/11/9 18:22Dec-22意向原文58TX-晶圆划片道直写填充装备420华中科技大学2022/11/9 18:22Dec-22意向原文59TX-深紫外光刻机(DUV)4200华中科技大学2022/11/9 18:22Dec-22意向原文60激光直写光刻机400浙江大学2022/11/10 14:56Dec-22意向原文61面向国家“卡脖子”技术需求的工业芯片设计与制造全流程技术平台--X-射线衍射仪、紫外光刻机、步热分析仪500东北大学2022/11/10 18:35Dec-22意向原文62台式微纳结构高速直写系统180华东师范大学2022/11/11 8:46Nov-22意向原文

大连光源 　　1月15日，由中科院大连化学物理研究所和上海应用物理研究所联合研制的极紫外自由电子激光装置——大连光源，在经过3个多月的调试后，这个总长100米的大装置发出了世界上最强的极紫外自由电子激光脉冲，单个皮秒激光脉冲产生140万亿个光子，成为世界上最亮且波长完全可调的极紫外自由电子激光光源。　　中科院副院长王恩哥评价称：“大连光源是中科院乃至我国的又一项具有极高显示度的重大科技成果。装置中90%的仪器设备均由我国自主研发，标志着我国在这一领域占据了世界领先地位，为我国未来发展更新一代的高重复频率极紫外自由电子激光打下了坚实的基础。”　　给分子“拍个电影”　　自由电子激光是国际上最先进的新一代先进光源，也是当今世界先进国家竞相发展的重要方向，在科学研究、先进技术、国防科技发展中有着重要的应用前景。先进自由电子激光的发展在前沿科学研究中发挥着越来越重要的作用，特别是近十年来，自由电子激光技术的发展和突破为探索未知物质世界、发现新科学规律、实现技术变革提供了前所未有的研究工具。　　“自由电子激光能够给分子‘拍电影’，比如记录化学键断裂的动态过程，具有非常诱人的应用前景。”中科院上海应物所所长赵振堂说。　　而要拍好这部“电影”，离不开神奇的极紫外光。　　当波长短到100纳米附近时，一个光子所具备的能量就足以电离一个原子或分子而又不会把分子打碎，这个波段的光称为极紫外光。　　“在科学实验中，需要探测的原子或分子数量可能非常少，存在时间也非常短，普通的极紫外光源无法满足这个需求，必须要有高亮度的极紫外光源，即极紫外激光。”中科院大连化物所分子反应动力学国家重点实验室研究员戴东旭解释称，“极紫外激光只能在‘特殊物质’中产生，这个‘特殊物质’就是脱离原子核而单独存在的自由状态的电子。”　　但是，一台运行在极紫外波段的自由电子激光设备在世界上尚属空白。　　这让科学家感到，中国的机会来了。　　中国第一 世界最亮　　在国家自然科学基金委国家重大仪器专项资助下，由大连化物所和上海应物所联合研制的大连光源项目于2012年初正式启动，2014年10月正式在大连长兴岛开工建设，并于2016年9月底安装完成，首次出光。　　至此，大连光源成为我国第一台大型自由电子激光科学研究用户装置，是当今世界上唯一运行在极紫外波段的自由电子激光装置，也是世界上最亮的极紫外光源。　　光源的每一个激光脉冲可产生超过100万亿个光子，波长可在极紫外区域完全连续可调，具有完全的相干性 该激光可以工作在飞秒或皮秒脉冲模式，可以用自放大自发辐射或高增益谐波放大模式运行。在这样的极紫外光照射下的区域内，几乎所有的原子和分子都“无处遁形”。　　“大连光源属于第四代光源，在化学、能源、物理、生物、环境等重要研究领域有着广泛的应用，我国率先建成这一先进光源，对推动我国乃至世界在这些领域的研究发展有着极其重要的意义。”中科院院士、中科院大连化物所副所长杨学明说，“大连光源的成功研制也为我国未来发展X波段的自由电子激光打下了坚实基础。”　　例如，举国关注的雾霾问题，就可以利用大连光源来研究。大气中的化学物质与水分子作用后，形成分子团簇，这些团簇在生长过程中吸附大气中各种污染分子，生长为较大的气溶胶颗粒，并逐渐成长为雾霾。利用大连光源极紫外软电离技术，就可以研究雾霾的生长过程，从根本上理解雾霾形成的机理，为大气污染防治提供科学依据。　　在王恩哥看来，在当今世界，大科学工程对于科技发展起着越来越重要的推动作用。大连光源的建成出光，成为我国大科学工程的又一成功范例，将大大促进我国在能源、化学、物理、生物、材料、大气雾霾、光刻等多个重要领域研究水平的提升，为我国科技事业注入新的活力。　　一次握手 造就典范　　大连光源正式开工建设以来，在两年的时间里完成了基建工程以及主体光源装置的研制，并且在很短的时间内调试成功产生了世界上单脉冲最亮的极紫外激光，创造了我国同类大型科学装置建设的新记录。　　这一项目也开创了我国科学研究专家与大科学装置研制专家成功合作的先例，对于未来加快推动大科学装置在科学研究中的应用具有重要的现实意义。　　以科学目标为驱动，让大连光源成为我国大科学装置研制的典范。赵振堂告诉《中国科学报》记者，我国早期的大科学装置，往往都是先建好装置，再去找用户，看看哪些科学家能用。“但是大连光源把这个过程反了过来，是科学家先对科研有了需求，再找到工程团队来合作。这要求我们在建装置之前就充分调研，开工之前就要掌握装置的科学目标是什么。”　　大连化物所的长处是科学研究，而上海应物所团队在大科学装置建设方面积累了20年的经验，两个团队为了相同的梦想走到了长兴岛，合作顺利得出人意料。　　“合作、协同是中科院的优良传统。”赵振堂认为，“现在看来，打破研究所之间藩篱，整合各所力量，集各家之长来建大科学装置，是投入产出比最小、效率最高的一种方式。”　　接下来，大连化物所以及上海应物所的项目专家将进一步把大连光源建设成为高水平的实验研究用户装置，为我国乃至世界提供一个独特的科学研究装置。

光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠，又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。但这种光刻机主要用于工业生产，对于半导体器件等研发来说，先进的紫外光刻机显得昂贵且笨重，同时由于其对光刻速度不敏感，因此科研领域往往使用激光直写设备和电子束曝光机来处理光刻胶。但一直以来，对科研用光刻设备缺乏调查。1月22日，科技部和财政部联合发布《科技部 财政部关于开展2021年度国家科技基础条件资源调查工作的通知（国科发基〔2020〕342号）》，全国众多高校和科研院所将各种科学仪器上传共享，对其中光刻设备的统计分析或可一定程度反映科研用光刻设备的市场信息。小编特对其进行分类统计，供读者一阅。各省（直辖市/自治区）光刻设备分布各省（直辖市/自治区）光刻设备分布图根据统计数据，共享光刻设备的总数量为291台，涉及22省（直辖市/自治区）。北京、江苏、广东、上海为共享光刻设备最多的地区，其中北京的数量最多，达83台。北京共享科研光刻设备数量较多，主要是由于其实力强劲的高等院校较多，其科研经费充足，可以购买更多的设备。这四个地区的经济发展水平在全国名列前茅，而且半导体产业发达，对光刻设备的需求也更高。进一步统计发现，光刻设备主要分布于北京大学、中科院半导体研究所、中国科学技术大学和清华大学。不同类型光刻设备分布根据搜集到的数据可知，传统的紫外光刻机占据了主流，占比达58%。电子束曝光机和激光直写设备占比都为21%。电子束曝光机主要用于科研领域和掩模版制作，但由于其刻蚀速率太低，无法用于量产，因此主要用于科研或掩模版制作，但电子束曝光机是半导体制造的基础设备。虽然这其中紫外光刻机仍然占据主流，但与《2020光刻设备中标盘点：疫情之后，市场活力回升！ 》中的占比相比，其占比少得多，这主要由于科研对光刻速率要求不敏感，而电子束曝光机和激光直写设备可以在一定程度上满足科研需求。光刻设备品牌分布紫外光刻机品牌分布电子束曝光机品牌分布激光直写设备品牌分布从光刻设备的整体品牌分布图可以看到，德国SUSS的光刻设备占比最多达26%，其次为美国ABM和德国Raith分别为13%和9%。需要注意的是，Raith是电子束曝光机厂商。具体到传统紫外光刻机品牌分布可以发现，SUSS占比高达45%，ABM占比达22%，SUSS在科研用紫外光刻机占据主流。全球光刻巨头ASML、尼康和佳能都不在其中，这表明工业用光刻设备和科研用光刻设备的需求不同，厂商也有所不同。在电子束曝光机中，Raith占比达45%。在激光直写设备中，德国Heidelberg占比26%，虽然占比最高，但其未呈现出压倒性优势，而且国内设备厂商苏大维格在此类设备中也占据一定份额。以上三类设备中，只有激光直写设备中前排出现了国产品牌，这可能得益于我国先进的激光技术。光刻设备产地国家分布紫外光刻机产地分布电子束曝光机产地分布激光直写设备产地分布从光刻设备的产地分布可以看出，德国设备最受国内科研用户青睐，占比达45%，而国产设备仅占11%的份额。对于紫外光刻机来说，德国占比46%，美国25%。电子束曝光机的设备中，德日占据主流，德国主要是Raith设备较多，日本凭借其强大的电子显微镜技术也占据一定的市场份额，这主要是由于电子显微镜和电子束曝光机的技术有共通之处。虽然在激光直写设备中，德国设备占比仍然最多，但国产厂商也不甘落后达34%。不同于工业领域的日本厂商和荷兰ASML的垄断，科研领域光刻厂商中，德国企业实力雄厚，涌现出一批实力强大的企业。国产厂商整体虽然占比很低，但在激光直写设备中显示出了强大的活力。本次光刻设备中标盘点，涉及品牌有Raith、SUSS、ABM、Heidelberg、DMO、Nikon、EVG、JEOL、NBL等。其中，各品牌比较受欢迎的产品型号有：德国海德堡多功能无掩膜激光直写机/光刻机-DWL66+DWL66+ 激光光刻系统是具经济效益、具有高分辨率的图形发生器。适用于小批量掩膜版制作和直写需求。DWL66+拥有多种选配模块,例如:正面和背面对准系统；405nm和375nm波长的激光发生器；进阶选配：精度校准和自动上下板加载系统。单面/双面光刻机：EVG 620EVG620 是一款非常灵活和可靠的光刻设备，可配置为半自动也可以为全自动形式。EVG620既可以用作双面光刻机也可以用作150mm硅片的精确对准设备；既可以用作研发设备，也可以用作量产设备。精密的契型补偿系统配以计算机控制的压力调整可以确保良率和掩膜板寿命的大幅提升，进而降低生产成本。EVG620先进的对准台设计在保证精确的对准精度和曝光效果的同时，可以大幅提高产能。德国Raith高分辨电子束曝光机150 TwoRaith 150 Two作为高分辨电子束曝光系统，自推出以来全球销量不容忽视。该系统被广泛地用于研发和纳米技术中心，已证明了系统的24/7使用的稳定性。Raith 150 Two 可实现亚5nm的曝光结构，可处理8”晶元及以下样片。环境屏蔽罩保证了系统的热稳定性，提高设备对实验室环境的容忍度，即使在相对糟糕的实验室环境下，也能保证系统的正常稳定运行。德国 SUSS光刻机MA/BA6MA/BA6掩模和粘结对准器专为最大 150 mm 晶圆尺寸而设计。 MA/BA6用于MEMS 应用、光学元件和复合半导体生产。 它在研究与开发环境中的多方面应用领域非常有说服力，在生产环境中也同样优秀，这得益于其良好的工艺成果。此外，SUSS的MJB系列，ABM的ABM/6/350/NUV/DCCD/M等产品也广受欢迎。

光刻是将掩模版上的图形转移到涂有光致抗蚀剂（或称光刻胶）的硅片上，通过一系列生产步骤将硅片表面薄膜的特定部分除去的一种图形转移技术。光刻技术是借用照相技术、平板印刷技术的基础上发展起来的半导体关键工艺技术。随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2～3个数量级（从毫米级到亚微米级），已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术；使用波长已从4000埃扩展到 0.1埃数量级范围。光刻技术成为一种精密的微细加工技术。随着技术的发展，光刻技术不断推陈出新，出现了很多针对某几种用途的专门技术，在此特为大家盘点介绍一些光刻技术。掩模光刻掩膜光刻由光源发出的光束，经掩膜版在感光材料上成像，具体可分为接近、接触式光刻以及投影光刻。相较于接触式光刻和接近式光刻技术，投影式光刻技术更加先进，通过投影的原理能够在使用相同尺寸掩膜版的情况下获得更小比例的图像，从而实现更精细的成像。目前，投影式光刻在最小线宽、对位精度、产能等核心指标方面能够满足各种不同制程泛半导体产品大规模制造的需要，成为当前 IC 前道制造、IC 后道封装以及 FPD 制造等泛半导体领域的主流光刻技术。根据光源不同，掩模光刻机还可以分为紫外光源（UV）、深紫外光源(DUV)、极紫外光源（EUV）。为了提供波长更短的光源，极紫外光源（EUV）为业界采用。目前主要采用的办法是将二氧化碳激光照射在锡等靶材上，激发出13.5 nm的光子，作为光刻机光源。目前仅有由荷兰飞利浦公司发展而来的ASML（阿斯麦）一家可提供可供量产用的EUV光刻机。这是目前最先进的光刻技术。X射线光刻X射线因为波长很短，所以几乎没有衍射效应，所以很早就进入了光刻技术研发的视野内，并且在八十年代就有了X射线光刻。九十年代，IBM在美国佛蒙特州建了一条采用同步辐射光源的X射线光刻机为主力的高频IC生产线，美国军方为主要客户。而当年X射线光刻技术，是当时的下一代光刻技术的强有力竞争者。后来随着准分子激光和GaF透镜技术的成熟，深紫外光刻技术延续了下去，在分辨率和经济性上都打败了X射线光刻。X射线光刻就退出了主流光刻技术的竞争。现在用X射线光刻的，主要是LIGA技术，用来制造高深宽比结构的一种技术，可以制造出100:1的深宽比，应用于MEMS技术当中。由于X射线准直性非常好，传统的X射线光刻，是1:1复制的。掩模版使用的是硅梁支撑的低应力氮化硅薄膜，上面有一层图形化的金，作为掩蔽层。曝光方式采用扫描的方式，效率不高。X射线光源最大的优势在于他可以做出高深宽比的图形，但是最大的问题也是由于他的穿透性太强导致了无法用透镜进行放大和缩小，因此图形尺寸和掩模版的尺寸相同，所以X射线光刻过分依赖电子束光刻掩模版的精度，故目前没有大量普及。离子束光刻离子束投影曝光系统的结构和工作原理与光学投影曝光的结构与原理类似，所不同的是曝光粒子是离子、光学系统采用离子光学系统，而掩模版则由可通过和吸收离子的材料制备。离子束曝光掩模版通常采用Si材料制成投射/散射式的二相掩模版技术。离子束投射光学系统一般也采用4：1缩小的投射方式，透镜实际上是一个可对离子进行聚焦作用的多电极静电系统。常见的离子束光刻技术包括聚焦离子束光刻（FIB）和离子投影光刻（IPL）。FIB系统采用液态金属离子源，加热同时伴随着一定的拔出电压获得金属离子束，通过质量选择器来选择离子，通过电子透镜精细聚焦的金属离子，在偏转线圈的作用下，形成扫描光栅。离子束可通过溅射对样品进行表面成像。聚焦式离子束技术是利用静电透镜将离子束聚焦成非常小尺寸(与电子束直写光刻技术类似。不需要掩膜板，应用高能粒子朿直写。离子投影曝光( lPL)是将平行的离子束穿过掩膜，将缩小的招膜图形投射到基底上，使用PMMA光刻胶。当具有一定能量的离子撞击靶材表面时两者之间会发生一系列的交互作用,其中包括膨胀、刻蚀、沉积、铣削、注入、背散射和形核反应等。主要用于制作修复掩膜版和对晶直接光刻。但离子束光刻存在离子源制备，掩膜板畸变，衬底工艺损伤，效率低等问题，很难在生产中作为曝光工具应用，目前主要用作VISI中的掩模修补工具和特殊器件的修整。电子束曝光电子束曝光（EBL）始于上世纪60年代，是在电子显微镜的基础上发展起来的用于微电路研究和制造的曝光技术，是半导体微电子制造及纳米科技的关键设备、基础设备。电子束曝光是由高能量电子束和光刻胶相互作用，使胶由长（短）链变成断（长）链，实现曝光，相比于光刻机具有更高的分辨率，主要用于制作光刻掩模版、硅片直写和纳米科学技术研究。电子束曝光主要有可变矩形电子束曝光系统、电子束投影光刻技术、大规模平行电子束成像三种技术。电子束曝光是电子光学、机械、电子技术、计算机及半导体工艺集成，包含了检测与定位、环境控制、超高真空、计算机控制、系统控制软件、多功能图形发生器、激光定位工件台和电子光学柱8个子系统，其中电子光柱体、图形发生器和激光工件台是关键部件。纳米压印技术纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段，达到了超高的分辨率，有望在未来取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重要加工手段。纳米压印技术，是通过光刻胶辅助，将模板上的微纳结构转移到待加工材料上的技术。报道的加工精度已经达到2纳米，超过了传统光刻技术达到的分辨率。这项技术最初由美国普林斯顿大学的Stephen. Y. Chou（周郁）教授在20世纪90年代中期发明。由于纳米压印技术的加工过程不使用可见光或紫外光加工图案，而是使用机械手段进行图案转移，这种方法能达到很高的分辨率。报道的最高分辨率可达2纳米。此外，模板可以反复使用，无疑大大降低了加工成本，也有效缩短了加工时间。因此，纳米压印技术具有超高分辨率、易量产、低成本、一致性高的技术优点，被认为是一种有望代替现有光刻技术的加工手段。热探针扫描技术热扫描探针光刻（t-SPL）是近年来新开发出的一种光刻技术，其与当今的电子束光刻（EBL）相比具有更多的优势：首先，热光刻显改善了二维晶体管的质量，抵消了肖特基势垒，阻碍了金属与二维衬底交界处的电子流动；与电子束光刻（EBL）不同，热光刻技术使芯片设计人员能够轻松地对二维半导体进行成像，之后在需要的地方对电极进行图案化； 此外，热扫描探针光刻（t-SPL）制造系统有望在初期节省成本；最后，通过使用平行热探针，能够轻松地将该热制造方法推广到批量的工业生产当中。成本更低，有望成为当今电子束光刻的替代品。激光直写技术激光直写技术是一种近年来应用广泛的超精密加工技术。激光直写是利用强度可变的激光束对基片表面的抗蚀材料实施变剂量曝光，显影后在抗蚀层表面形成所要求的浮雕轮廓。激光直写系统的基本工作原理是由计算机控制高精度激光束扫描，在光刻胶上直接曝光写出所设计的任意图形，从而把设计图形直接转移到掩模上。激光直写技术主要用于制作平面计算全图、掩模、微透镜、微透镜阵列、Fresnel微透镜、Fresnel波带板、连续位相浮雕的闪耀光学元件等，制作工艺己经逐渐成熟。激光直写技术的发展趋势是从直角坐标写入系统到极坐标写入系统，直至多功能写入系统；从基片小尺寸到大尺寸，从平面写入到球面、柱面以及曲面；从利用光刻胶材料到聚合物以及其他特殊工艺材料；写入元件的特征尺寸从几百微米到亚微米；元件制作时间从几天到几小时甚至几分钟；从制作二值图样到写入连续浮雕轮廓 从光学元件到微电子、集成电路、集成光学器件等；从发达的国家到发展中国家，并己经应用到空间光学、光通讯、光学显示等领域，为DOE和微电子、微光学、微机械器件的制作提供了一种新的制作设备。多光子聚合光刻技术双光子聚合是物质在发生双光子吸收后所引发的光聚合过程。双光子吸收是指物质的一个分子同时吸收两个光子的过程，只能在强激光作用下发生，是一种强激光下光与物质相互作用的现象，属于三阶非线性效应的一种。双光子吸收的发生主要在脉冲激光所产生的超强激光的焦点处，光路上其他地方的激光强度不足以产生双光子吸收，而由于所用光波长较长，能量较低，相应的单光子过程不能发生，因此，双光子过程具有良好的空间选择性。一般利用双光子聚合制造3D打印机，可以实现突破传统光学衍射极限的增材制造。不过，华中科技大学的甘棕松教授发明的超分辨纳米光刻技术利用光刻胶双光子吸收特性，采用双束光进行光刻，一束为飞秒脉冲激光，经过扩束整形进入到物镜，聚焦成一个很小的光斑，光刻胶通过双光子过程吸收该飞秒光的能量，发生光物理化学反应引发光刻胶发生固化；另外一束为连续激光，同样经过扩束整形后，进入到同一个物镜里，聚焦形成一个中心为零的空心状光斑，与飞秒激光光斑的中心空间重合，光刻胶吸收该连续光的能量，发生光物理化学反应，阻止光刻胶发生固化。两束光同时作用，最终只有连续光空心光斑中心部位的地方被固化。甘棕松教授目前已经把空心光斑中心部位最小做到9nm，至此突破光学衍射极限的超分辨光刻技术在常规光刻胶上得以完美实现。光刻机国产化现状虽然各种光刻技术不断涌现，但相比于传统的紫外掩模光刻技术而言，大都在工业量产中都无法完全克服生产效率低、对准精度低、分辨率低等缺点。目前，应用较多的光刻技术主要为EUV、DUV等掩模光刻技术，用于工业量产，也是最受关注的光刻技术。公开资料显示，中国最强的光刻机生产商是上海微电子装备公司（SMEE），主要研发DUV光刻机，目前其最先进的SSA600/20光刻机分辨率可达90nm。上海微电子是国内唯一从事研发、生产以及销售高端光刻机的公司，也是全球第四家生产IC前道光刻机的公司。在2020年，金融局走访调研上海微电子时，上海微电子预计将于2022年交付首台28nm工艺国产沉浸式光刻机，国产光刻机将从此前的90nm制程一举突破到28nm制程。上海微电子在中端先进封装光刻机和LED光刻机领域技术领先，先进封装光刻机国内市场占有率高达80%、全球市场占有率达40%，LED光刻机市场占有率第一。实际上，02专项要求实现半导体设备28nm制程的国产化，目前国望光学的物镜、科益虹源的光源、华卓精科的双工件台、启尔机电的浸液系统等零部件都已实现突破，只差上海微电子光刻机集成。位于北京亦庄的国产验证28nm产线也预计明年投产，届时上海微电子的28nm光刻机有望导入产线，实现28nm光刻设备的国产化替代。此外，国产EUV量产型光刻机目前仍在开发中，中国科学院长春光学精密机械与物理研究所在2016年验收了原理技术样机，合工大已开发出DPP-EUV光源，但功率较低。电子束光刻目前国内主要由电工所在开发，但相比于国际厂商还存在差距。而纳米压印技术国内的主要厂商为青岛天仁微纳，现已成为纳米压印领域市场占有额超过95%的头部企业，建立了自主知识产权的核心技术与专利壁垒，设备销售遍布国内知名大学科研院所和企业。激光直写光刻设备主要国产厂商包括江苏速影、合肥芯碁等，与国际巨头Heidelberg、矽万等相比，技术差距正逐渐缩小。光刻设备的国产化不仅推动了半导体产业的进步，同时也推动了国产仪器市场的发展。笔者从其他渠道了解到，上海微电子也采购了某国产双频激光干涉仪。由于最早国产的先进前道光刻机由国企上海微电子（SMEE）开启研制，2007年上海微电子大量采用外国关键零部件集成了90 nm干式投影光刻机。后因《瓦森纳协定》的限制，关键部件被国外“卡脖子”而失败。随着国内仪器设备的技术进步，上海微电子通过采购国产零部件集成先进的光刻机，促进了国产仪器市场发展。目前，主流光刻设备厂商包括，ASML、Nikon、Canon、上海微电子、合肥芯碁、Heidelberg、江苏速影、矽万、SUSS、苏大维格、Veeco、光机所、EVG、ABM、苏州源卓、合肥芯硕、长春长光中天、中国电科、大族激光、中山新诺等。更多仪器请查看以下专场【光刻机】【电子束刻蚀】。

从原理角度讲，光谱仪器可以分为：吸收光谱(紫外吸收、可见吸收、紫外可见吸收、气相分子吸收、红外吸收、原子吸收等)、发射光谱(荧光、拉曼、微波等离子体等)、旋光光谱等 从应用角度讲，可分为分子光谱(红外、紫外、可见、紫外可见、旋光、气相分子、荧光、拉曼等)、原子光谱(原子吸收、原子荧光等)。　　据作者初步统计，目前国际上的光谱仪器达20多种。但是，使用最多、覆盖面最广、具有代表性的光谱仪器是紫外光谱、红外光谱、原子吸收光谱等。此外，如今的激光拉曼光谱和近红外光谱的发展也非常火爆。　 紫外分光光度计　　特别值得提出的是，目前在我国的应用领域中，覆盖面最广的紫外光谱仪器市场情况如下：排名居首的是岛津公司，居第二位的是国产的紫外仪器——北京普析通用，其紫外光谱仪器在中国市场上占比高于安捷伦、日立、珀金埃尔默等 可喜的是在我国应用领域，全球的紫外光谱仪器生产商所占市场的前10名中，我国占4名(40%)，这是一个很值得高兴的现象。北京得利特推出的 B1151紫外可见分光光度计内置微机，实现人机对话，操作简单﹑功能完善，可以广泛应用于石油﹑化工﹑医药﹑环保﹑大专院校﹑材料科学等各个领域，是科研﹑生产﹑教学不可缺少的分析测试仪器。仪器特点1、仪器内置微电脑，在面板上置有简单的操作键，LCD显示窗，无需PC控制，可独立操作2、仪器采用CT式光学系统,具有低杂散光优点。3、仪器有持久工作的稳定性和可靠性。4、仪器具有自动调校0%T和T等控制功能。5、仪器具有自动切换钨灯和氘灯功能。6、仪器样品室宽大，可选配多种附件。如配置微量样品架和微量样品池，对微量样品进行测试分析7、仪器备有标准RS-232C通讯口和并行打印口。8、LCD数字显示器可显示透射比、吸光度和浓度等参数以及波长读数，提高了仪器的读数准确性9、仪器备有标准RS-232通讯接口和并行打印口。可通过XIN MAO用户应用软件(需另购)和普通的装有Microsoft Windows系统的个人电脑联机，可实现光度测量、光谱扫描、定量测试、时间扫描及数据处理等功能，使分析工作更理想技术参数光学系统:单光束，1200条/毫米衍射光栅光谱带宽:4nm波长范围:200-1000nm波长精度:±0.5nm波长重复性:0.2nm波长可读性:0.1nm透射比准确度:±0.5%T透射比重复性:≤0.2%T杂散光:≤0.3%T Λ220nm﹑340nm基线直线型:±0.004A稳定性:≤0.004A/30min/500nm(after 30min warmup)测量范围:0-125%T、-0.097-2.70A、0-1999C光 源:钨灯﹑氘灯显 示:LCD（2*20带背光）数据输出:RS-232C分析软件:有检测器:硅光二极管比色皿架:10mm比色皿:石英比色皿10mm/2只﹑玻璃比色皿10mm/4只电 源:AC 220V/50Hz 300W外形尺寸:440mmⅹ370mmⅹ200mm重 量:17kg

2015年8月24日，上海——科学服务领域的世界领导者赛默飞世尔科技（以下简称：赛默飞）近日发布采用可见分光光度法把关零食蜜饯食用安全的解决方案，旨在帮助检测机构通过便捷易行的检测方法，快速测定蜜饯产品中的非法添加剂和重金属。近期多家媒体栏目曝光了山东、杭州等地部分工厂蜜饯生产加工过程中存在严重漏洞，沪上某知名零食生产商销售的蜜饯也遭到曝光。节目显示，多数出厂的蜜饯都是经过腌制的，而腌制的地方就是路边水泥池，现场曝光了路边一个大水泥池里泡着5万斤左右的桃肉。漂白蜜饯再次引起了大家的广泛关注。 国家一直都有相关的标准保证蜜饯的质量安全，GB/T10782-2006《蜜饯通则》和GB14884-2003《蜜饯卫生标准》对蜜饯质量安全指标及限制都有明确的要求。其中紫外可见分光光度计作为常规实验室分析仪器，以其灵敏度高、选择性好、准确度高等优势得到了广泛的应用。拥有70年光谱制造经验的赛默飞紫外-可见分光光度计广泛应用于科研、教学、食品安全监测、制药、水质检测、质量控制和临床医学等领域。其中Thermo ScientificTM GENESYS 10S 紫外-可见光分光光度计与Thermo ScientificTM EvolutionTM 201紫外-可见光分光光度计完全符合蜜饯质量安全检测的应用需求。检测方法：1.总砷1-1银盐法 试样经过消化后，以碘化钾、氯化亚锡将高价砷还原为三价砷，然后与锌粒和酸产生的新生态氢生产砷化氢，经过银盐溶液吸收后，形成红色胶状物，与标准系列比较定量。1cm比色皿，520nm处测吸光值。1-2 硼氢化物还原比色法 试样经消化后，其中砷以五价形式存在。当溶液氢离子浓度大于0.1mol/L时，加入碘化钾-硫脲并结合加热，能将五价砷还原为三价砷。在酸性条件下，硼氢化钾将三价砷还原为负三价，形成砷化氢气体，导入吸收液中呈黄色，黄色深浅与溶液中砷含量成正比。与标准系列比较定量。1cm比色皿，400nm处测吸光值。2.铜 二乙基二硫代氨基甲酸钠法，试样经消化后，在碱性溶液中铜离子与二乙基二硫代氨基甲酸钠生产棕黄色络合物，溶于四氯化碳，与标准系列比较定量。2cm比色皿，440nm处测吸光值。3.亚硫酸盐 盐酸副玫瑰苯胺法：亚硫酸盐与四氯化汞钠反应生产稳定的络合物，再与甲醛及盐酸副玫瑰苯胺作用生成紫红色络合物，与标准系列比较定量。1cm比色皿，550nm处测吸光值。4.铅 二硫腙比色法：试样经消化后，在pH8.5-9时，铅离子与二硫腙生成红色络合物，溶于三氯甲烷。加入柠檬酸铵、氰化钾和盐酸羟胺等，防止铁、铜、锌等离子干扰，与标准系列比较定量。1cm比色皿，510nm处测吸光值。5.食品添加剂 苋菜红铝色淀含量 将苋菜红铝色淀与已知含量的苋菜红标准品分别用水溶解后，在最大吸收波长处，分别测其吸光度，然后计算其含量的质量分数。6. 食品添加剂 柠檬黄含量 将试样与已知含量的柠檬黄标准品分别用水溶解，用乙酸铵溶液稀释定容后，在最大吸收波长处分别测其吸光度值，计算含量。7.食品添加剂 日落黄含量 将试样与已知含量的日落黄标准品分别用水溶解，用乙酸铵溶液稀释定容后，在最大吸收波长处分别测其吸光度值，计算含量。8.食品添加剂 亮蓝含量 将试样与已知含量的亮蓝标准品分别用水溶解，在最大吸收波长处分别测其吸光度值，计算含量。9.食品添加剂 诱惑红含量 将试样与已知含量的诱惑红标准品分别用水溶解，在最大吸收波长处分别测其吸光度值，计算含量。10.食品添加剂胭脂红含量 将试样与已知含量的标准品分别用水溶解，在最大吸收波长处分别测其吸光度值，计算含量。更多产品信息，请查看：www.thermoscientific.cn/products/uv-vis-vis-instrumentation.html -----------------------------------------------------------关于赛默飞世尔科技 赛默飞世尔科技（纽约证交所代码：TMO）是科学服务领域的世界领导者。公司年销售额170亿美元，在50个国家拥有约50,000名员工。我们的使命是帮助客户使世界更健康、更清洁、更安全。我们的产品和服务帮助客户加速生命科学领域的研究、解决在分析领域所遇到的复杂问题与挑战，促进医疗诊断发展、提高实验室生产力。借助于首要品牌Thermo Scientific、Applied Biosystems、Invitrogen、Fisher Scientific和Unity Lab Services，我们将创新技术、便捷采购方案和实验室运营管理的整体解决方案相结合，为客户、股东和员工创造价值。欲了解更多信息，请浏览公司网站：www.thermofisher.com赛默飞世尔科技中国 赛默飞世尔科技进入中国发展已有30多年，在中国的总部设于上海，并在北京、广州、香港、台湾、成都、沈阳、西安、南京、武汉、昆明等地设立了分公司，员工人数约3700名。我们的产品主要包括分析仪器、实验室设备、试剂、耗材和软件等，提供实验室综合解决方案，为各行各业的客户服务。为了满足中国市场的需求，现有8家工厂分别在上海、北京和苏州运营。我们在全国共设立了6个应用开发中心，将世界级的前沿技术和产品带给国内客户，并提供应用开发与培训等多项服务；位于上海的中国创新中心结合国内市场的需求和国外先进技术，研发适合中国的技术和产品；我们拥有遍布全国的维修服务网点和特别成立的中国技术培训团队，在全国有超过2000名专业人员直接为客户提供服务。我们致力于帮助客户使世界更健康、更清洁、更安全。欲了解更多信息，请登录网站：www.thermofisher.com

IC光刻胶开发一般来说会涉及研发设备和测试设备，其中研发设备主要就是以混配釜和过滤设备为主，此类设备需考虑纯度控制，设备内一般使用PFA内衬或PTFE涂层，避免金属离子析出。测试设备（必备的）ICP-MS、膜厚仪、旋涂机、显影器、LPC、质谱、GPC，另外关于光刻机也是核心部分。光刻胶是半导体产业重要的耗材，而有这样一家企业从事光刻胶研发多年，去年却因采购光刻机投入了人们的视野，登上了风口浪尖。苏州晶瑞化学股份有限公司（已更名为“晶瑞电子材料股份有限公司”）是一家微电子化学品及其它精细化工品生产商，公司的产品主要包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料以及锂电池粘结剂等，可应用于半导体、光伏太阳能电池、LED等相关行业，具体应用到下游电子信息产品的清洗、光刻、制备等工艺环节。其采购光刻机主要用于晶瑞化学集成电路用高端光刻胶研发项目。近日，仪器信息网从公开文件了解到该项目的相关信息，涉及工艺流程和仪器配置等信息，详情如下：项目主体工程研发方案建设项目工程一览表本项目主要生产设备一览表营运期工艺流程及产污分析：工艺流程及简述：本项目通过小试实验为晶瑞化学股份有限公司生产提供技术支撑，不产生具体产品，实验室在进行实验后得到的合成树脂与光产酸剂用于合成光刻胶，光刻胶性能测试结束后剩余物料作为危险废物委托有资质单位处理，不作为产品销售或外卖。1. 研发工艺流程图因研发中心项目每次开发过程中所使用的化学原料、可能发生的化学反应等均具有不确定性，因此研发中心项目的流程以实验研发中心为单元进行表示如下：本次研发中心项目工作流程图工艺流程描述研发中心项目具体操作流程如下：a、实验前风险评估：在此阶段科学家将对需进行的研究进行预研发风险分析，并通过相关的安全分析得出需研究项目的试验安全等级，确定试验过程中需采取的安全和环保措施。b、风险评估通过后将进入研发小试实验阶段：因研发中心项目每次实验需用到的物料和用量均无法事先设定，需根据具体的研发方向和实验要求来确定，因此研发中心项目的物料使用种类和使用量具有不确定性。但公司从环保角度考虑，研发中心项目各实验室均按标准化实验室进行建设，本次研究实验除光刻胶制备与测试在密闭的光刻机中进行，其他实验步骤均在实验室通风橱内进行，通风橱收集率为 90%，光刻机为密闭系统，产生的废气由单独的管道收集，收集率为 98%。收集后的废气经一套“蜂窝活性炭+袋式活性炭”两级活性炭处理装置处理后由 30m 高排气筒 P4 排放。研发中心项目实验过程得到的合成树脂与光产酸剂用于合成光刻胶，光刻胶性能测试结束后剩余物料均收集后作为危废委外处理，有妥善的处理处置方式。具体研发实验工艺：1、树脂合成工艺：树脂合成工艺流程树脂合成工艺流程简述如下：除氧：常温、常压下，向搭载机械搅拌、冷凝管和温度计的四口烧瓶中持续通入氮气，除去反应瓶中的氧气，氮气作为保护气体，可以保护后续反应不受氧气干扰。聚合反应：除氧后向四口烧瓶中依次加入反应所需单体，引发剂及适量溶剂后，将四口烧瓶置于油浴锅（加热辅材为硅油）中使用机械搅拌器搅拌至四口烧瓶中的物料搅拌成透明均一的溶液，于设定温度条件下油浴锅加热反应，红外监测反应进程。油浴加热为间接加热，使用硅油作为加热辅材，硅油的沸点高于100摄氏度，油浴加热所需的加热温度为 20~60 摄氏度，该温度下硅油几乎不产生油雾，反应在通风橱中进行。引发剂和溶剂的添加种类与添加量，单体的配比等根据设定的工艺路线及实验的测试结果进行优化。该过程使用的单体有：（A）丙烯酸酯类单体（甲基丙烯酸 5-氧代四氢呋喃-3-基酯，2-甲基 2-金刚烷基甲基丙烯酸酯，丙烯酸叔丁酯）；（B）马来酸酐；（C）降冰片烯；加入的溶剂为二氧六环；引发剂为：对甲基苯磺酸、偶氮二异庚腈、偶氮二异丁酸二甲酯、偶氮二异丁腈、过氧化苯甲酰，以及氨水。反应过程中无废液产生，反应装置使用自来水间接冷却。该反应过程产生G1-1 有机废气、G1-2 氨气。聚合反应方程式一次清洗、过滤、干燥：使用滴液漏斗将树脂溶液用丙酮稀释，通过滴液漏斗缓慢滴加到 5 倍用量纯水中，将上述混合物倒入布氏漏斗，并用真空泵抽滤，得到白色粉末产物，将得到的产物放置于 65 ℃ 烘箱烘 20h（仪器可定时，烘干结束后自动停止）。树脂沉淀过滤过程中，产生 S1-2 废滤材及 S1-2 清洗废液，均作为危废委托有资质单位进行处理。干燥过程产生 G1-2 有机废气。金属离子去除：将离子交换树脂填充到离子交换柱中。将醋酸丁酯和聚合物粉末于烧杯中溶解，并调节体系固含至 15-20 wt%。将树脂溶液直接倒入离子交换柱中，流经离子交换树脂，循环多次，ICP-MS 金属离子浓度低于 10 ppb。该过程产生固体 G1-3 有机废气、S1-3 离子交换树脂。二次清洗、过滤、干燥：将树脂溶液缓慢滴加到去 5 倍用量的纯水中（1L废水量），抽滤得到白色粉末状聚合物，将得到的产物放置于 65 ℃ 烘箱烘 20h（仪器可定时，烘干结束后自动停止），产生 S1-4 废液、S1-5 废滤材、G1-4 有机废气。水分测试：加入卡尔菲休试剂，使用水分仪检测水分含量至 2000ppm，该过程产生 G1-5 有机废气，S1-6 测试废液。理化性质测试：树脂经过真空干燥后，在测试实验室中使用四氢呋喃、DMF、四氢呋喃、重水、氘代丙酮、氘代氯仿、DMSO-d6、甘油、丙二醇甲醚醋酸酯、乙腈、丙酮、溴化钾、硝酸钾等溶剂对树脂的理化性质进行测试。通过核磁测试聚合物结构，通过凝胶渗透色谱测定聚合物分子量大小，该过程产生 G1-6 有机废气以及 S1-7 测试废液。2、光产酸剂制备工艺：光产酸剂制备工艺流程生产工艺流程简述如下：备料：光产酸剂制备研发实验常用的原料包括：对羟基苯磺酸钠、十二烷基苯磺酸、樟脑坤磺酸钠、和三苯基氯化硫鎓盐，二苯基氯化碘鎓盐、醋酸酐、间苯二酚等；溶剂包括：纯水、甲醇等；该工序产生 G2-1 有机废气。合成：将光产酸合成所需原料钠盐加入到搭载机械搅拌的四口烧瓶中，用水溶解。光产酸剂合成反应方程式萃取：通过滴液漏斗向烧瓶中缓慢滴加鎓盐溶液，于室温下反应 3-5 个小时。静止分层，除去上层水溶液，并继续用水洗涤 3 次，用甲醇萃取产物，该工序产生 S7 废液。该工序产生 S2-1 废液以及 G2-2 有机废气。干燥、过滤：用无水硫酸钠干燥甲醇萃取液 24h，然后过滤。该工序产生 S2-2硫酸钠以及 S2-3 废滤材。旋蒸：使用旋转蒸发仪将滤液旋蒸后得到产物光产酸剂。该过程产生 G2-3有机废气。3、光刻胶制备与测试：光刻胶制备与测试工艺流程该工艺全部在光刻机中进行，工艺流程简述如下：样品制备与测试：样品制备所用树脂为实验室自主研发合成，光致产酸剂为自主研发合成；所用溶剂包括：丙二醇甲醚醋酸酯、乳酸乙酯、二甲苯、γ -丁内酯、丁酮、丙二醇单甲醚、醋酸丁酯、石油醚、二甘醇单丁醚、甲基异丁基酮、DMAC、NMP等。调制时根据设定的工艺路线或前次的测试结果选择加入不同的树脂和溶剂。将所用的树脂与光致产酸剂、碱性添加物三辛胺等和溶剂按照一定的比例混合、溶解。样品调制用树脂主要包括：酚醛树脂、重氮萘醌磺酸酯、叠氮类化合物、甲醚化三聚氰胺等。光产酸剂有：三苯基硫鎓盐、二苯基碘鎓盐、三嗪类化合物等。样品制备过程中无化学反应发生，不产生污染物。过滤：使用漏斗等过滤仪器将样品过滤，该工序产生 S3-1 废滤材。光刻胶成膜、烘干：使用匀胶显影涂布机将调制好的光刻胶涂布在硅片上，涂布好的硅片用100℃热板烘干。涂布、烘干过程中光刻胶中的有机溶剂挥发产生 G3-1 有机废气；剩余的光刻胶报废处理，产生 S3-2 废光刻胶。冷却：将涂布、烘干后的硅片冷却至室温，该工序产生 G3-2 有机废气。光刻胶曝光显影：将冷却至室温的硅片放入曝光机内曝光。曝光结束后将硅片放入显影液中显影，显影后使用纯水清洗硅片即可得到微米或纳米级别图案。实验室常用的显影液包括：四甲基氢氧化铵、氢氧化钾、氢氧化钠溶液等，该工序产生 S3-3 碱性废液。成像测试：主要通过显微镜、椭偏仪等仪器观察光刻胶图形的成像效果。测试后产生 S3-4 废硅片。4、仪器清洁：仪器清洗工艺流程工艺流程简述如下：残余物溶解：加丙酮溶解仪器内残留的光刻胶或树脂，产生溶解废液 S4-1，丙酮挥发产生有机废气 G4-1；清洗溶剂：加少量纯水，清洗仪器内残留的废液，产生含有机溶剂的清洗废液 S4-2，丙酮挥发产生有机废气 G4-2；擦拭：使用无尘布蘸取少量丙酮擦拭干净仪器内壁，产生有机废气 G4-3。润洗：待仪器干燥后，使用纯水对仪器进行润洗，产生的 W1 润洗水排入污水管网；干燥：仪器清洗干净后放在置物架自然晾干或放入烘箱烘干。上述流程除光刻胶制备与测试在密闭的光刻机中进行，其他实验步骤均在实验室通风橱内进行。5、设备清洗设备清洗工艺流程使用纯水对设备进行清洗，使用的工段有：（1）显影工艺中对硅片进行喷淋清洗；（2）湿法曝光工段中作为镜头与硅片间的浸没液体；该工序产生清洗废液，作为危废委托有资质单位进行处理。纯水使用情况详情见下表：设备清洗用水汇总

p style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠，研发的技术门槛和资金门槛非常高。也正是因此，能生产高端光刻机的厂商非常少，到最先进的EUV光刻机就只剩下ASML。/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "据ASML之前公布资料显示，ASML 是全世界唯一一家使用极紫外EUV光源的光刻机制造商。EUV光源波长只有13.5 nm（接近X射线水平），远大于DUV光刻机的193nm，目前用于台积电最先进的5 nm生产线。相比之下，国内光刻机厂商则显得非常寒酸，处于技术领先的上海微电子装备有限公司已量产的最先进的SSA600/20型号前道光刻机采用了ArF准分子光源，即深紫外DUV光刻机，光刻分辨率只有90 nm。有消息称上海微电子即将于2021年，也就是几个月之后会交付首台国产的分辨率达28 nm的光刻机，目前国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "随着贸易战的愈演愈烈，美国对华为的打压也蔓延到了半导体领域，国内先进光刻机采购遭遇重大阻力。同时由于《瓦森纳协定》的限制，即使突破了技术，能够制造先进光刻机，其核心零部件的进口也可能会受到限制。/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "任正非最近也表示，“我们设计的先进芯片，国内的基础工业还造不出来，我们不可能又做产品，又去制造芯片”。面对先进光刻机受制于人的局面国产光刻机的研发牵动着国人的心，启动国产光刻机的研发已刻不容缓。于此同时，国内也不断传来关于光刻机研发的各种消息… … /span/pp style="text-align:center text-indent:29px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "strongspan style="font-size: 15px line-height: 150% font-family: 宋体 "网传华为自研光刻机/span/strongstrong/strong/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "今年以来，网上各路自媒体传出华为启动自研光刻机的消息，不过这些消息大都是捕风捉影，真实性存疑。其来源主要基于以下几个消息：/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "1、 华为申请光刻机专利。据了解，该专利名称是《一种光刻设备和光刻系统》，申请于2016年。/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "2、华为大批挖角上海微电子等企业的员工。不过后续相关消息称，华为只是少量挖掘，人员数量并不足以支撑研发。但这也让上海微电子（SMEE）未离职的前道部门工资奖金翻了一倍。根据相关消息，为激励员工，SMEE薪资大调整，前道各部门计划从今年9月开始实行12(基本工资)+2(个人绩效)+6-12(前道产品绩效)薪资结构了。相比于过去年薪12+2能拿到20多万，如果按时完成任务的话，现在加上奖金能拿到40多万。/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "3、华为招聘光刻工艺工程师。但从职位描述看，招聘的是研究2.5d tsv方面封装技术的工艺工程师，该技术会使用到光刻设备。华为芯片的封装测试是外包给封测厂进行的，该岗位可能是进行试验室封装技术的研发和经验积累，协助推动在封测厂的量产。目前我国缺少和亟待突破的是先进制程的前道光刻机。/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "业内人士表示，华为虽然技术研发能力，公司氛围都很强大，但光刻机技术门槛高，单打独斗很难成功。目前关于华为自研光刻机的消息虽然大都是捕风捉影，但是华为的研发实力也不容小觑，毕竟华为有强烈的需求，而余承东也表示华为将入局半导体设备。/span/pp style="text-align:center text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "strong02/strongstrongspan style="font-family: 宋体 "专项核心零部件研发进展/span/strong/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "9月16日，中科院院长白春礼在接受媒体采访时明确表示，中科院已成立光刻机攻关小组，争取在短时间内研制出国产高端光刻机。除此之外，中科院也针对“卡脖子”问题，列入了技术清单，并且均已成立研发小组。实际上中科院以及相关科研机构很早就介入了光刻机研发领域。/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "最早国产的先进前道光刻机由国企上海微电子（SMEE）开启研制，2007年上海微电子大量采用外国关键元器件集成了90 nm干式投影光刻机。后因《瓦森纳协定》的限制，关键部件被国外“卡脖子”而失败。上海微电子只能另辟蹊径，转入技术含量较低的后道封装光刻机和平板显示光刻机领域，占领了国内封装光刻机80%的市场。/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "面对国外封锁，国内科研机构开始发力，针对光刻机的核心零部件进行攻关。在“十二五”期间，著名的“02专项”即《极大规模集成电路制造技术及成套工艺》要求重点进行45-22纳米关键制造装备攻关，部分光刻机核心零部件也已实现了验收。国家02专项光刻机项目有多个部门参与，分别负责不同的子项。/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "strongspan style="font-family: 宋体 "双工件台系统完成验收/span/strong/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "双工件台，即在一台光刻机内有两个承载晶圆的工件台。两个工件台相互独立，但同时运行，一个工件台上的晶圆做曝光时，另一个工件台对晶圆做测量等曝光前的准备工作。当曝光完成之后，两个工件台交换位置和职能，如此循环往复实现光刻机的高产能。该项目由清华大学和北京华卓精科负责/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "2019年4月28日，清华成功研发光刻机双工件台掩模台系统α样机，并召开光刻机双工件台系统样机研发”项目验收会。研究团队历经5年完成了全部研究内容，突破了平面电机、微动台、超精密测量、超精密运动控制、系统动力学分析、先进工程材料制备及应用等若干关键技术，攻克了光刻机工件台系统设计和集成技术，通过多轮样机的迭代研发，最终研制出2套光刻机双工件台掩模台系统α样机，达到了预定的全部技术指标，关键技术指标已达到国际同类光刻机双工件台的技术水平。/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "该项目是02专项核心任务光刻机项目群中第一个通过正式验收的项目。项目完成使得我国成为世界少数可以研制光刻机双工件台这一超精密机械与测控技术领域尖端系统的国家之一。/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "strongspan style="font-family: 宋体 "“极紫外光刻关键技术研究”通过验收/span/strong/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "极紫外光刻是一种以13.5nm的EUV光为工作波长的投影光刻技术，目前最先进的芯片就是使用ASML的EUV光刻机制造。/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "2016年11月15日，由长春光机所牵头承担的国家科技重大专项02专项——“极紫外光刻关键技术研究”项目顺利完成验收前现场测试。在长春光机所、成都光电所、上海光机所、中科院微电子所、北京理工大学、哈尔滨工业大学、华中科技大学等参研单位的共同努力下，历经八年的戮力攻坚，圆满地完成了预定的研究内容与攻关任务，突破了现阶段制约我国极紫外光刻发展的核心光学技术，初步建立了适应于极紫外光刻曝光光学系统研制的加工、检测、镀膜和系统集成平台，为我国光刻技术的可持续发展奠定了坚实的基础。/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "2017年6月21日，中国科学院长春光学精密机械与物理研究所（现北京国望光学）牵头研发的“极紫外光刻关键技术”通过验收。突破了制约我国极紫外光刻发展的超高精度非球面加工与检测、极紫外多层膜、投影物镜系统集成测试等核心单元技术，成功研制了波像差优于0.75 nm RMS 的两镜EUV 光刻物镜系统，构建了EUV 光刻曝光装置，国内首次获得EUV 投影光刻32 nm 线宽的光刻胶曝光图形。/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "strongspan style="font-family: 宋体 "“超分辨光刻装备研制”通过验收/span/strong/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限，建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线，绕过国外相关知识产权壁垒。/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "利用研制成功的超分辨光刻装备已制备出一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片、超表面成像器件等，验证了该装备纳米功能器件加工能力，已达到实用化水平。不过需要注意的是，该设备为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性战略领域的跨越式发展提供了制造工具。简单来说，该设备主要应用于器件进行周期性的光刻，但无法应用于集成电路光刻。/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "strongspan style="font-family: 宋体 "其他项目紧锣密鼓进行中/span/strong/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "除了以上已经完成的02专项子项目，其他的项目也在紧锣密鼓进行中：/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "浙江大学流体动力与机电系统国家重点实验室和浙江启尔机电负责沉浸式光刻机的浸液系统，目前水平排名世界第三，前两名分别为阿斯麦、尼康；/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "中科院光电研究院负责准分子激光光源系统，由北京科益虹源负责产业转化，研究成果国产40W 4kHz ArF光源已经交付，是继美国Cymer公司（已于2013年被阿斯麦收购）、日本Gigaphoton 公司之后的全球第三；/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "物镜曝光系统方面，长春光机所应用光学国家重点实验室和国防科技大学光学精密工程创新团队负责；激光光源照明系统方面，中国科学院上海光学精密机械研究所负责。/span/pp style="text-align:center line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "strongspan style="font-family: 宋体 "其他团队光刻机研究进展/span/strong/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "据悉，武汉光电院甘棕松团队采用二束激光在自研的光刻胶上突破了光束衍射极限的限制，采用远场光学的办法，光刻出最小9纳米线宽的线段，实现了从超分辨成像到超衍射极限光刻制造的重大创新，研发出了双光束高分辨率激光直写光刻机。目前甘棕松团队正在做双光束超分辨率投影式光刻机大型工程机的研发。/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "需要注意的是一般投影式光刻机才可以进行有效率的芯片制造，而甘棕松团队的光刻机是直写式光刻机，无法实现大规模量产。一般来说，直写式光刻设备主要用于掩模版制作，如电子束刻蚀设备，其优点是分辨率高，缺点是速度慢，无法用于大规模量产。/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "据业内媒体消息披露，上海微电子将于2021年-2022年交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。这意味着我国的先进光刻机已经实现了技术突破，但可以实现更高制程的EUV光刻机仍然任重而道远。/span/pp style="text-indent:28px line-height:150%"span style="font-family: arial, helvetica, sans-serif "“我们从古以来，就有埋头苦干的人，有拼命硬干的人，有为民请命的人，有舍身求法的人，… … 虽是等于为帝王将相作家谱的所谓" 正史" ，也往往掩不住他们的光耀，这就是中国的脊梁… … ”伴随着国家队入场和科研人员的“负重前行”，相信不久的将来必能不断传出好消息。/span/ppbr//p

近日，上海交通大学发布招标公告，采购深紫外步进式光刻机，预算达3300万元。以下为公告详情：上海交通大学电子信息与电气工程学院深紫外步进式光刻机国际招标公开招标公告（重招）项目概况上海交通大学电子信息与电气工程学院深紫外步进式光刻机 招标项目的潜在投标人应在上海市共和新路1301号C座110室获取招标文件，并于2021年03月03日 09点30分（北京时间）前递交投标文件。一、项目基本情况项目编号：0834-2141SH21A033项目名称：上海交通大学电子信息与电气工程学院深紫外步进式光刻机预算金额：3300.0000000 万元（人民币）最高限价（如有）：3300.0000000 万元（人民币）采购需求：序号货物名称数量简要技术规格交货期交货地点1深紫外步进式光刻机1套曝光光源： 深紫外准分子激光，波长248nm。分辨率：£ 150nm（详见第八章）买方发出发货通知后4个月发货。关境外货物：CIP上海交通大学关境内货物：上海交通大学合同履行期限：买方发出发货通知后4个月本项目( 不接受 )联合体投标。

近年来，实现微纳尺度下的3D灰度结构在包括微机电（MEMS）、微纳光学及微流控研究领域内备受关注，良好的线性侧壁灰度结构可以很大程度上提高维纳器件的静电力学特性，信号通讯性能及微流通道的混合效率等。相比一些获取灰度结构的传统手段，如超快激光刻蚀工艺、电化学腐蚀或反应离子刻蚀等，灰度直写图形曝光结合干法刻蚀可以更加方便地制作任意图形的3D微纳结构。该方法中，利用微镜矩阵（DMD）开合控制的激光灰度直写曝光表现出更大的操作便捷性、易于设计等特点，不需要特定的灰度色调掩膜版，结合软件的图形化设计可以直观地获得灰度结构[1]。由英国皇家科学院院士，剑桥大学Russell Cowburn教授主导设计研制的小型无掩膜激光直写光刻仪（MicroWriter, Durham Magneto Optics），是一种利用图形化DMD微镜矩阵控制的直写曝光光刻设备。该设备可以在无需曝光掩膜版的条件下，根据用户研究需要，直接在光刻胶样品表面上照射得到含有3D灰度信息的曝光图案，为微流控、MEMS、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。此外，它还具备结构紧凑（70cm × 70cm X×70cm）、高直写速度，高分辨率（XY ~ 0.6 um）的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。目前在国内拥有包括清华大学、北京大学、中国科技大学、南京大学等100余家应用单位，受到广泛的认可和好评。结合MicroWriter的直写曝光原理，通过软件后台控制DMD微镜矩阵的开合时间，或结合样品表面的曝光深度，进而可以实现0 - 255阶像素3D灰度直写。为上述相关研究领域内的3D线性灰度结构应用提供了便捷有效的实验方案。图1 利用MicroWriter在光刻胶样品表面上实现的3D灰度直写曝光结果，其中左上、左下为灰度设计原图，右上、右下为对应灰度曝光结果，右上莲花图案实际曝光面积为380 × 380 um，右下山水画图案实际曝光面积为500 × 500 um 图2 利用MicroWriter实现的3D灰度微透镜矩阵曝光结果，其中SEM形貌可见其优异的平滑侧壁结构 厦门大学萨本栋微纳米研究院的吕苗研究组利用MicroWriter的灰度直写技术在硅基表面实现一系列高质量的3D灰度图形转移[2]，研究人员通过调整激光直写聚焦深度以及优化离子刻蚀工艺，获得具有良好侧壁平滑特征的任意3D灰度结构，其侧壁的表面粗糙度低于3 nm，相较此前报道的其他方式所获得的3D灰度结构，表面平滑性表现出显著的优势。MicroWriter的灰度曝光应用为包括MEMS，微纳光学及微流控等领域的研究提供了优质且便捷的解决方案。图3 利用MicroWriter激光直写在硅基表面实现图形转移过程示意图图4 利用MicroWriter激光直写曝光在硅基表面转移所得的3D灰度结构的实际测量结果与理论设计比较，其中图a中红色散点表示实际图形结构的纵向高度，黑色曲线为图案设计结果；图b中左为设计图形的理论各点高度，右为实际转移结果的SEM形貌结果，其中标准各对应点的实际高度。综上可以看出其表现出优异的一致性图5 利用AFM对抛物面硅基转移结构的测量与分析，可以看到起侧壁的表面平滑度可以小至3 nm以下，表现出优异的侧壁平滑性 利用MicroWriter激光直写曝光技术，不仅可以直接制备任意形状的硅基微纳灰度结构，而且可以将制备的3D结构作为模具、电镀模板或牺牲层来应用在其他材料上，如聚合物、金属或玻璃等。这种直观化的激光直写技术在诸多维纳器件研究领域中表现出显著的应用优势和开发前景。 参考文献：[1] Hybrid 2D-3D optical devices for integrated optics by direct laser writing. Light Sci. Appl. 3, e175 (2014)[2] Fabrication of three-dimensional silicon structure with smooth curved surfaces. J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS 15(3), 034503 相关参考：英国皇家科学院院士、剑桥大学教授Russell Cowburn介绍：https://www.phy.cam.ac.uk/directory/cowburnr

小编整理了2023年9月热度榜单，收录了9月最热门的5款紫外分光光度计仪器产品，供有采购此类仪器的用户参考。TOP1、T700/T600 系列紫外可见分光光度计品牌型号：普析通用 | T700/T600 价格：7万 - 10万生产商：北京普析通用仪器有限责任公司产品介绍：普析秉承“为了分析测试工作的高效、便捷、准确、可靠“的宗旨，隆重推出T600/T700系列紫外可见分光光度计。我们潜心研发，提高产品性能；加快扫描速度，减少客户等待时间；提升指标参数，减少系统误差；9.7寸彩色触屏为客户带来了友好新体验。仪器特点01 易于操作，自由扩展科学合理的流程设计，三次点击即可开始您的测量工作。仪器系统平台可扩展应用，实现在线教学、智能考核、水质检测等功能。可定制用户的专属方法，方法支持存储设备和网络形式移植。数据可导出至U盘，存储空间支持扩展。02 稳定的性能保障应用测试快速、可靠、误差小。2秒即可完成一次光谱扫描，光谱扫描速度达30000nm/min。-4～+4 Abs吸光度范围，无惧高浓度样品。最小光谱带宽0.2nm，轻松应对复杂样品的检测。仪器指标通过权威机构计量院测试，准确度I级。网口通讯，稳定迅速。03 美感与实用兼具的工业设计镜面外观，线条硬朗流畅。9.7寸电容触摸屏。漆面耐酸、碱和有机溶剂的腐蚀。样品池防打翻漏液，可轻松移出冲洗。 功能丰富、全面的可选附件主机快速选型表型号准双光束双光束5档可变狭缝固定狭缝彩色触控屏T700AS√√√T700A√√√T700S√√T700B√√T600AS√√√T600A√√√T600S√√T600B√√厂商简介：北京普析通用仪器有限责任公司，创立于 1991 年 , 是一 家集科学仪器研发、制造、销售和服务于一体的高新技术企 业。1996 年通过 ISO9001 质量管理体系认证；1999 年通过 ISO14001 环境管理体系认证；2017 年通过 ISO45001 职业 健康安全管理体系认证；获得全国分析检测人员能力培训委 员会（NTC）培训、考核双认证。自主研发制造的产品多次 获得国家重点新产品、国家火炬计划等多项殊荣，产品陆续 通过欧盟 CE 认证。TOP2、上海元析紫外可见分光光度计Q-6品牌型号：上海元析 | Q-6系列价格：15万 - 25万生产商：上海元析仪器有限公司产品介绍：四大产品优势多种附件可选 汞灯校准波长光谱带宽连续可调 快速响应Part1 匠心打造 品质积淀Q-6精选优质元件，配色舒适，从实用性、通用性、稳定性、灵活性等多方面研发理念出发，匠心打造，降低背景干扰，避免系统误差，提高分辨率；工艺精湛外壳采用精密注塑工艺，尺寸精度高，且能够保持长久尺寸稳定性，刚性加强，外观平滑，外形线条更流畅，仪器更耐用；节能环保精巧结构设计，安装空间浓缩，内置散热风扇更快达到热平衡，节能10%，光学稳定性强；稳定可靠内置氘灯、钨灯、汞灯三种光源，经测试，配置的汞灯波长稳定性高，不会因辐射强度的变化产生光谱不能正常分辨的问题，测试结果更准确，契合药典要求；独特C-T式双光束光学结构，不仅解决了传统光路导致的杂散光大、严重次级衍射的问题，还可以补偿慧差，优于0.01%的超低杂散光水平，保证全波段都有高分辨率；优异的镜片质量，镜片镀膜涂层，测量重复性更好；实时的暗电流自动校正技术，确保测量结果准确可靠；光学基座设计采取计算机仿真分析优化，即使车载环境测试光路系统仍不发生偏移；双光束光路系统既可以减少光源能量漂移的影响，还可以减少温度变化引起的溶液密度与折光率改变的影响；可完成多次拟合，曲线回归更加准确； 检测灵敏优质光电倍增管配置，增益范围宽，响应快，灵敏度高，特别适合于弱辐射能的检测； 带宽可调光谱带宽连续可调在实际测试中发挥极大优势，光谱带宽0.1nm~5nm连续可调，可变间隔为0.1nm，当RBW≤1时，该光谱仪器可满足99％的样品分析要求，且精度在99以上。Aobs/A RBWAobs为吸光度实际值 A为吸光度理论值 RBW=SBW/NBW多维测试附件扩展性能强，除固定样品架外，还有自动八联池、多功能自动进样器、恒温池架、光学积分球、镜面反射附件、可变光程样品架、可变角度固体样品架等专用附件可供选择，扩展了仪器的应用范围，兼顾了经典样品和个性化样品的测试需求；高效便捷从智能化操作出发，选配自动八联池，配合100位多功能自动进样器，完成高通量、高效、低误差检测；软件界面友好、可操作性强；软件遵循GLP/GMP规范，方便实现用户管理、日志记录及数据追踪等功能：独立的模块化设计，插座式氘灯和钨灯单元，换灯免光学调试，仪器维护更简便；配备易于取出和放入的大样品室，轻松更换样品；Part2 营造专业体验Q-6在品质上的革新，给用户提供专业化的操作体验，提升数据安全，提高智能化平台管理。 遵循GLP/GMP规范，方便实现用户管理、日志记录及数据追踪等功能用户管理界面允许管理员创建新用户，并进行权限管理；每个用户凭借相应账号和密码登录操作平台；可根据需要将操作员升级为管理员；日志管理界面日常操作记录均可自动记录；管理员可根据需求检索指定时间段的日志内容，也可将日志导出以相应格式保存；测量功能界面分析软件可实现光度测量、定量测量、光谱扫描、动力学分析等测量功能，同时具有强大的数据处理能力。光谱扫描界面有0.025 nm/0.05 nm/0.1 nm/0.2 nm/0.5 nm/1 nm/2 nm/5 nm八种扫描间隔可选，扫描速度四级可选，并覆盖多种测量模式（Abs、T%、E或R%），用户可根据需求进行峰谷检索，提取定向数据；光度测量界面用户可进行固定波长下的吸光度、透过率、反射率或能量测量；时间扫描界面用户可进行动力学相关分析，自定义扫描波长范围（波长起点及波长终点）、扫描间隔、测量模式；定量分析界面系统提供mg/l、ng/ml、ng/ml、mg/ml、mg/ml、mg/l、ppb、ppm、mol/l等多种浓度单位选择，满足了各种标准或药典的测试需求；系统自动记录光源累计使用时间，更换光源后一键清零恢复计时；通过软件控制，实现多功能自动进样器的定位、复位、进样、清洗等功能；Q-6仪器软件具有自动保存功能，自动保存测量数据到系统盘，用户也可以将文件保存到指定文件夹，避免错误操作导致数据丢失；软件直连打印机进行报告打印，支持报告预览；Part3 产品参数表光学系统双光束检测器PMT光源氘灯、钨灯、汞灯操作方式计算机控制光谱带宽0.1nm-5nm（以0.1nm间隔连续可调）波长示值误差±0.3nm波长重复性≤0.1nm光度重复性≤0.1%透射比示值误差±0.3 %杂散光≤0.01%（@220nm&360nm）基线平直度±0.0008Abs稳定性≤0.0001Abs/h电源AC 220 V/ AC 110 V，50/60Hz，500W尺寸大小 （L′W′H）500′550′260mm厂商简介：上海元析仪器有限公司（英文名称：SHANGHAI METASH INSTRUMENTS CO., LTD.）是专业从事实验室科学仪器研发、生产、销售和服务的高新技术企业,公司成立于2008年，总部位于上海市松江工业园区。公司高度重视技术创新，通过自主研发，掌握多项核心技术，已获得多项国家专利及软著证书。公司获“上海市专精特新企业“、“高新技术企业”、“2019年度科学仪器成长潜力企业”等多项荣誉称号。截至2020年11月，国内已在国内设立26个销售和服务网点，服务全国客户。同时，我们还是一个对国际市场非常重视的公司，我们的产品已经销往全球80多个国家和地区。TOP3、1901系列紫外可见分光光度计品牌型号：普析通用 | TU-1901/TU-1900价格：5万 - 7万生产商：北京普析通用仪器有限责任公司产品介绍：紫外可见分光光度计是一种历史悠久、覆盖面很广、使用很多的分析仪器，在有机化学、生物化学、药品分析、食品检验、医药卫生、环境保护、生命科学等各个领域的科研、生产工作中都得到了极其广泛的应用。北京普析通用仪器有限责任公司作为分析仪器的专业制造企业，多年的紫外分光光度计设计和制造经验在TU1901系列上得到了更充分地体现。TU-1901、TU-1900紫外可见分光光度计系列产品以其出色的技术指标和稳定可靠的工作特性，友好直观的显示界面，流畅的人机对话操作，成功实现了超高精度和可靠性测量的严格要求，能极大地满足最专业用户分析工作需要。技术参数：1、 波长范围： 190nm～900nm 2、 波长准确度：±0.3nm(开机自动校准) 3、 波长重复性：0.1nm 4、 光谱带宽： TU-1900：2nm TU-1901：0.1nm、0.2nm、0.5nm、1.0nm、2.0nm、5.0nm 5、 杂散光： ≤0.01%T(220nm,NaI； 340nm,NaNo2) 6、 光度方式： 透过率、吸光度、反射率、能量 7、 光度范围： -4.0～4.0Abs 8、 光度准确度：±0.002Abs(0～0.5Abs)；±0.004Abs(0.5～1.0Abs)；±0.3%T(0～100%T) 9、 光度重复性：0.001Abs(0～0.5Abs)；0.002Abs(0.5～1.0Abs)10、基线平直度：±0.001Abs11、基线漂移： 0.0004Abs/h(500nm, 0Abs预热2小时后) 12、光度噪声： ±0.0004Abs主要特点：1、强劲的仪器性能：极其优良的光学系统，先进的电子学系统，高水准的机械系统，保证了0.010%T的超低杂散光；2、稳定可靠的品质：双光束动态反馈比例记录测光系统保证了基线稳定性；氘灯、光电倍增管等关键器件均用进口件，保证仪器的稳定可靠和长寿命；3、精准的测量：采用进口优质全息光栅，进一步降低仪器的杂散光，使仪器分析更加准确；4、轻松高效的人机对话：基于WINDOWS环境设计的UVWin中文操作软件，提供了丰富的仪器控制和操作功能。简单易用，灵活高效，轻松满足使用者的分析要求；5、优异的可扩展性：有蠕动进样器、超微量池架、恒温池架、光学积分球、镜面反射、光纤附件和比色皿系列等大量用户可选专用附件，使仪器的应用范围大大扩展；6、简单方便设备维护：独特的插座式钨灯和氘灯，换灯时免去光学调试，使设备仪器调试、维护更加简便。厂商简介：北京普析通用仪器有限责任公司，创立于 1991 年 , 是一 家集科学仪器研发、制造、销售和服务于一体的高新技术企 业。1996 年通过 ISO9001 质量管理体系认证；1999 年通过 ISO14001 环境管理体系认证；2017 年通过 ISO45001 职业 健康安全管理体系认证；获得全国分析检测人员能力培训委 员会（NTC）培训、考核双认证。自主研发制造的产品多次 获得国家重点新产品、国家火炬计划等多项殊荣，产品陆续 通过欧盟 CE 认证。TOP4、日立UH4150紫外可见近红外分光光度计品牌型号：日立 | UH4150价格：面议生产商：日立科学仪器（北京）有限公司产品介绍：固体分析分光光度计专家U-4100，实现了进一步的技术提高, UH4150问世！现在，UH4150型分光光度计已经面世，秉承了U-4100的高度可靠性。U-4100已累计发售1,500*1多台。特点切换检测器波长时会产生小的信号差异,即使这样UH4150也可实现高精度的测定。安装在积分球上的多个检测器可在紫外-可见-近红外的波长范围内进行测定。由于使用日立专业的积分球结构技术和信号处理技术等，将检测器切换时（信号水平的差异）吸光度值的变化降到最小。 检测器切换时附近波长测定数据例
（金纳米棒的吸收光谱）日立高性能的棱镜-光栅双单色器系统可实现低杂散光和低偏振。UH4150采用棱镜-光栅（P-G）双单色器的光学系统，秉承U-4100光学系统的特点。 棱镜-光栅（P-G）系统与常见的光栅-光栅（G-G）系统相比,S和P偏振光强度没有大的改变。即使对于低透过率和反射率的样品，UH4150也可实现低噪音测定。平行光束可实现反射光和散射光的精确测定。入射角对固体样品镜面反射率的测定非常重要。对于会聚光束，由于入射角根据透镜的焦距等因素会不同，因此，像导电多层膜和棱镜等光学薄膜的模拟设计值将与实际测定值不同。但对于平行光束，相对于样品入射角始终相同，实现了高精度镜面反射率的测定。此外，平行光束可用于扩散率（雾度）的评价和透镜透过率的测定。镜面反射率测定示例可提供适合不同测定目的的多种检测器。可使用八种不同材料、尺寸和形状的积分球。*2*3检测器产品线采用全新人体工学设计。改进样品室门，提升操作性。为了便于更换样品和附件的操作，采用了符合人体工学的设计。兼容多种U-4100附件。通用附件适用于两种型号。U-4100型附件也可用在UH4150型*4由于附件可拆卸，适合更多的测定类型。比U-4100型更高的样品通量。在秉承U-4100型光学系统高性能的同时，UH4150提供更高通量的测定。之前型号的仪器在1 nm数据间隔下测定时，扫描速度必须是600 mm/min。UH4150型可在1,200 nm/min的扫描速度下以1 nm的间隔进行测定，显著缩短测定时间。*5 UH4150在约2分钟内可从240 nm测定到2,600 nm。对需要在紫外-可见-近红外波长范围内测定的样品，如太阳能反射材料，尤其有效。扫描速度为600 nm/min的太阳能反射材料的反射光谱扫描速度为1,200 nm/min的太阳能反射材料的反射光谱系统产品线积分球检测系统可使用各种60 mm积分球。选配件：150 mm积分球或角度连续可变绝 对反射附件（此处列出的是60 mm标准积分球）。直射光检测系统直射光检测器内置于分光光度计内。提供其他选配检测器替换直射光检测器, 如各种积分球和角度连续可变绝 对反射附件。应用范例微小样品透过率测定微小样品透过率测定附件可用于像微型玻璃和摄像镜头等样品的透过率测定。摄像镜头测定示例微小样品透过率测定（P/N 1J0-0204）规格掩膜类型适合样品尺寸3 mm 掩膜 （标配）5 - 20, 厚度等于或小于3 mm1 mm 掩膜 （选配）3 - 20, 厚度等于或小于3 mm* 更换光源掩膜必须要使用随附4-mm光源掩膜。漫反射率测定可将样品放在积分球后面（样品侧的入射角为0°）测定粉末等样品的漫反射率。二氧化钛漫反射率测定示例60 mm标准积分球（全反射和漫反射）（P/N 1J1-0120）规格入射角0°波长范围240 - 2,600 nm参数规格项目积分球检测系统直射光检测系统检测器 光电倍增管（UV-VIS） 和 冷却型PbS检测器（NIR）标准积分球（内涂层：BaSO4） 60 mm 标准积分球（4口）:反射样品上的入射角：样品侧：8º, 参比侧:0º 60 mm 标准积分球（4口）:反射样品上的入射角：样品侧和参比侧：10º 60 mm 标准全积分球（2口）高灵敏度积分球（内涂层：Spectralon®） 60 mm 高灵敏度积分球（4口）:反射样品上的入射角:样品侧：8º, 参比侧:0º 60 mm 高灵敏度全积分球（2口）直射光检测器设置波长范围175 - 3,300 nm单色器棱镜-光栅，双单色器，预单色器：使用棱镜的Littrow单色器，主单色器：使用衍射光栅的Czerny-Turner单色器（2个可切换的衍射光栅）数据处理单元PC操作系统：Windows® 7 专业版（32位或64位）操作环境温度15 - 35C°操作环境湿度25 - 80%（不结露，温度大于或等于30°时要小于或等于70%）外观尺寸，重量900（宽）×760（深）×1,180（高） mm， 160 kg *1:以 U-4000型和U-4100型合计，数据截止到2012年10月*2:积分球检测系统购买校准和性能检查用分光光度计时，必须包括任一个上述60 mm积分球。*3:直射光检测系统分光光度计内置的直射光检测器用于校准和性能检查。如需更换分光光度计内置的检测器，请购买任一个上述积分球检测器。*4:某些附件不通用。更换检测器相关附件时，必须进行调整或更换电缆。*5:请根据样品特性和测定目的设定适当的测定参数，包括扫描速度。*请向经销商咨询150mm标准、高灵敏度积分球或角度连续可变绝 对反射附件的系统规格。*本系统仅用于科研，不能用于任何动物或人类的治疗或诊断。厂商简介：日立科学仪器是日立集团旗下日立高新技术有限公司在北京设立的全资子公司。主要产品包括：扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）、聚焦离子束（FIB）、原子力显微镜（AFM）等表面科学仪器和前处理设备，以及各类液相色谱(LC)、荧光分光光度计（FL)、紫外分光光度计（UV）、原子吸收分光光度计（AAS）、电化学等分析仪器。为了更好地服务于中国广大的日立客户，公司目前在北京、上海、广州等十几个主要城市设立有分公司、办事处或联络处等分支机构，直接为客户提供快速便捷的、专业优质的各类相关技术咨询、应用支持和售后技术服务。TOP5、上海仪电分析-L9 紫外可见分光光度计（UV-VIS）品牌型号：仪电分析 | L9价格：4.32万生产商：上海仪电分析仪器有限公司产品介绍：技术指标： ● 测光方式： 双光束 ● 单色器： Czerny - Turner ● 焦距： 200mm ● 光栅： 1600 线/mm ● 检测器： 进口接收器 ● 光谱带宽： 0.5nm、1nm、2nm、4nm、5nm ● 波长设定： 触控屏输入 ● 波长范围： 190 ~ 1100nm ● 波长准确度： ±0.3nm（实测≤±0.2nm） ● 波长重复性： ≤ 0.1nm ● 波长扫描速度： 快、中、慢 ● 光源切换波长： 340nm ● 杂散光： ≤ 0.02%（在220nm处以NaI测定） （在360nm处以NaNO2测定） ● 光度范围： 0.0 ~ 200.0% T -0.301 ~ 4.000A 0.000 ~ 9999C ● 光度准确度： ±0.3%T ±0.002Abs（0 ~ 0.5A） ±0.004Abs（0.5 ~ 1A） ● 光度重复性： ≤ 0.15%T 0.001Abs（0 ~ 0.5A） 0.002Abs（0.5 ~ 1A）● 基线平直度： ≤ ±0.0008A ● 噪声： 0.1%T ● 基线漂移： 0.0003（A/h） 在波长 250nm 和 500nm 处测定（开机预热2小时）● 电源电压： AC220V±22V 50Hz±1Hz ● 功率： 200W主要特点： ● 全新的光学平台，使仪器的主机具有优良的光学性能和测 光性能，杂散光和噪声低，测光精度和稳定性高。● 独特的氘灯和钨灯安装，光源自动切换及自动查找理想位 置的工作方式，使用户操作仪器和维修替换光源更为方便、 正确和安全。 ● 先进的硬件和软件设计， 使仪器有强大的光谱数据处理 功能和储存功能。自动扫描测量光谱、多波长（1 ~ 3λ）测定、 动力学测定、1 ~ 3 次曲线拟合、1 ~ 4 阶导数光谱、存取打印 光谱图和分析数据。● 采用 8英寸彩色触控屏， 良好的人机对话界面，操作便捷。 ● 采用进口长寿命氘灯，进口OSRAM 钨灯 ● 带USB通讯口，可通过U盘直接导出数据，标配1cm比色 皿架。选 配： ● UVwin8 紫外光谱软件 ● 5cm或10cm比色皿架厂商简介：上海仪电分析仪器有限公司（原上海精密科学仪器有限公司分析事业部独立改制而成，其前身是上海分析仪器厂和上海第三分析仪器厂），系上海仪电控股（集团）公司的控股子公司，，上海首批高新技术企业。是国内最大的分析仪器制造公司之一。 主要产品有：气相色谱仪、液相色谱仪、可见分光光度计、紫外可见分光光度计、原子吸收分光光度计、荧光分光光度计、火焰光度计和监控系统集成等50余个品种的数字化、智能化分析仪器。公司产品广泛地应用和服务于石油化工、冶金、矿山、电站、环境保护、医疗卫生、科研、大专院校、食品饮料、日化用品、农业生产等行业，是必备的检测手段和科学实验的计量器具。紫外分光光度计简介：紫外可见分光光度计是基于紫外可见分光光度法原理，利用物质分子对紫外可见光谱区的辐射吸收来进行分析的一种分析仪器。无论在物理学、化学、生物学、医学、材料学、环境科学等科学研究领域还是化工、医药、环境监测等生产部门，都有着广泛的使用。紫外可见分光光度计是由光源、单色器、吸收池、检测器和信号显示系统五大结构部分组成。2023年9月紫外分光光度计仪器产品热度榜单就介绍到这里，点击查看更多紫外可见分光光度计产品。

详细信息 商丘师范学院光刻胶关键树脂材料研发基地建设项目-公开招标公告 河南省-商丘市 状态：公告 更新时间： 2023-08-09 项目概况 商丘师范学院光刻胶关键树脂材料研发基地建设项目招标项目的潜在投标人应在河南省公共资源交易中心（http://www.hnggzy.net）获取招标文件，并于2023年08月30日09时00分（北京时间）前递交投标文件。 一、项目基本情况 1、项目编号：豫财招标采购-2023-762 2、项目名称：商丘师范学院光刻胶关键树脂材料研发基地建设项目 3、采购方式：公开招标 4、预算金额：2,690,000.00元 最高限价：2690000元 序号 包号 包名称 包预算（元） 包最高限价（元） 1 豫政采(2)20231191-1 商丘师范学院光刻胶关键树脂材料研发基地建设项目 2690000 2690000 5、采购需求（包括但不限于标的的名称、数量、简要技术需求或服务要求等） 5.1设备名称：紫外可见分光光度计1台、激光粒度仪1台、差示扫描量热仪1台、旋转圆盘圆环电极装置1台、超纯水机1台、超净台1台、管式炉4台、氙灯光源2台、全玻璃自动微量气体分析系统1套等。5.2．资金来源：财政资金。5.3．交货期：自合同签订之日起100个日历日内。5.4．交货地点：采购人指定地点。5.5．质保期：进口设备免费质保 1年；国产设备免费质保 3 年。 6、合同履行期限：按合同约定 7、本项目是否接受联合体投标：否 8、是否接受进口产品：是 9、是否专门面向中小企业：否 二、申请人资格要求： 1、满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定； 2、落实政府采购政策满足的资格要求： 无 3、本项目的特定资格要求 3.1．单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商，全部或者部分股东（基金公司或者专业投资公司作为股东的除外）为同一法人、其他组织或者自然人的不同供应商，同一自然人在两个以上供应商任职的不同供应商，不得参加同一合同项下的投标。【提供在“国家企业信用信息公示系统”中查询打印的相关材料并加盖公章（需包含公司基本信息、股东信息及股权变更信息）】3.2．根据《关于在政府采购活动中查询及使用信用记录有关问题的通知》(财库[2016]125号) 和豫财购【2016】15号的规定，对列入失信被执行人、重大税收违法失信主体、政府采购严重违法失信行为记录名单的供应商，拒绝参与本项目政府采购活动。【资格审查时，采购人、采购代理机构通过“信用中国”网站（www.creditchina.gov.cn）、中国政府采购网（www.ccgp.gov.cn）等渠道查询相关主体信用记录,信用信息查询记录及相关证据与其他采购文件一并保存。查询时间：本项目评标结束之前】。 三、获取招标文件 1.时间：2023年08月10日 至 2023年08月16日，每天上午00:00至12:00，下午12:00至23:59（北京时间，法定节假日除外。） 2.地点：河南省公共资源交易中心（http://www.hnggzy.net） 3.方式：市场主体需要完成CA数字证书办理，凭CA密钥登陆河南省公共资源交易中心系统并在规定时间内按网上提示下载招标文件，获取招标文件后，供应商请到河南省公共资源交易中心网站下载最新版本的投标文件制作工具安装包，并使用安装后的最新版本投标文件制作工具制作电子投标文件。 4.售价：0元 四、投标截止时间及地点 1.时间：2023年08月30日09时00分（北京时间） 2.地点：河南省公共资源交易中心（http://www.hnggzy.net）”电子交易平台加密上传 五、开标时间及地点 1.时间：2023年08月30日09时00分（北京时间） 2.地点：河南省公共资源交易中心远程开标室(一)-6，郑州市经二路12号（经二路与纬四路向南50米路西）。 六、发布公告的媒介及招标公告期限 本次招标公告在《河南省政府采购网》《河南省公共资源交易中心网》《河南省电子招标投标公共服务平台》《河南省科教仪器设备招标有限公司》《商丘师范学院国有资产管理处（招投标工作办公室）》上发布， 招标公告期限为五个工作日 。 七、其他补充事宜 1、会议，开标采用“远程不见面”开标方式。投标人须在招标文件规定的投标截止时间前,登录远程开标大厅,在线准时参加开标活动，并在规定的时间内进行投标文件解密、答疑澄清等。具体操作流程及程序，请查阅河南省公共资源交易平台“办事指南”专区的《新交易平台使用手册》。）2、本项目落实政府采购政策：政府强制采购节能产品、支持创新、绿色发展、鼓励环保产品、扶持福利企业、促进残疾人就业、促进中小企业发展、支持监狱和戒毒企业等。 八、凡对本次招标提出询问，请按照以下方式联系 1. 采购人信息 名称：商丘师范学院 地址：商丘市平原路55号 联系人：庞老师 联系方式：0370-3057682 2.采购代理机构信息（如有） 名称：河南省科教仪器设备招标有限公司 地址：郑州市金水区顺河路11-1号（顺河路与凌云路交叉口南20米路东） 联系人：曾老师 联系方式：0371-66364470 3.项目联系方式 项目联系人：曾老师 联系方式：0371-66364470 × 扫码打开掌上仪信通App 查看联系方式 基本信息 关键内容：超纯水器,多气体分析仪,紫外分光光度,差示扫描量热,量热仪,光源 开标时间：2023-08-30 09:00 预算金额：269.00万元 采购单位：商丘师范学院 采购联系人：点击查看 采购联系方式：点击查看 招标代理机构：河南省科教仪器设备招标有限公司 代理联系人：点击查看 代理联系方式：点击查看 详细信息 商丘师范学院光刻胶关键树脂材料研发基地建设项目-公开招标公告 河南省-商丘市 状态：公告 更新时间： 2023-08-09 项目概况 商丘师范学院光刻胶关键树脂材料研发基地建设项目招标项目的潜在投标人应在河南省公共资源交易中心（http://www.hnggzy.net）获取招标文件，并于2023年08月30日09时00分（北京时间）前递交投标文件。 一、项目基本情况 1、项目编号：豫财招标采购-2023-762 2、项目名称：商丘师范学院光刻胶关键树脂材料研发基地建设项目 3、采购方式：公开招标 4、预算金额：2,690,000.00元 最高限价：2690000元 序号 包号 包名称 包预算（元） 包最高限价（元） 1 豫政采(2)20231191-1 商丘师范学院光刻胶关键树脂材料研发基地建设项目 2690000 2690000 5、采购需求（包括但不限于标的的名称、数量、简要技术需求或服务要求等） 5.1设备名称：紫外可见分光光度计1台、激光粒度仪1台、差示扫描量热仪1台、旋转圆盘圆环电极装置1台、超纯水机1台、超净台1台、管式炉4台、氙灯光源2台、全玻璃自动微量气体分析系统1套等。5.2．资金来源：财政资金。5.3．交货期：自合同签订之日起100个日历日内。5.4．交货地点：采购人指定地点。5.5．质保期：进口设备免费质保 1年；国产设备免费质保 3 年。 6、合同履行期限：按合同约定 7、本项目是否接受联合体投标：否 8、是否接受进口产品：是 9、是否专门面向中小企业：否 二、申请人资格要求： 1、满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定； 2、落实政府采购政策满足的资格要求： 无 3、本项目的特定资格要求 3.1．单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商，全部或者部分股东（基金公司或者专业投资公司作为股东的除外）为同一法人、其他组织或者自然人的不同供应商，同一自然人在两个以上供应商任职的不同供应商，不得参加同一合同项下的投标。【提供在“国家企业信用信息公示系统”中查询打印的相关材料并加盖公章（需包含公司基本信息、股东信息及股权变更信息）】3.2．根据《关于在政府采购活动中查询及使用信用记录有关问题的通知》(财库[2016]125号) 和豫财购【2016】15号的规定，对列入失信被执行人、重大税收违法失信主体、政府采购严重违法失信行为记录名单的供应商，拒绝参与本项目政府采购活动。【资格审查时，采购人、采购代理机构通过“信用中国”网站（www.creditchina.gov.cn）、中国政府采购网（www.ccgp.gov.cn）等渠道查询相关主体信用记录,信用信息查询记录及相关证据与其他采购文件一并保存。查询时间：本项目评标结束之前】。 三、获取招标文件 1.时间：2023年08月10日 至 2023年08月16日，每天上午00:00至12:00，下午12:00至23:59（北京时间，法定节假日除外。） 2.地点：河南省公共资源交易中心（http://www.hnggzy.net） 3.方式：市场主体需要完成CA数字证书办理，凭CA密钥登陆河南省公共资源交易中心系统并在规定时间内按网上提示下载招标文件，获取招标文件后，供应商请到河南省公共资源交易中心网站下载最新版本的投标文件制作工具安装包，并使用安装后的最新版本投标文件制作工具制作电子投标文件。 4.售价：0元 四、投标截止时间及地点 1.时间：2023年08月30日09时00分（北京时间） 2.地点：河南省公共资源交易中心（http://www.hnggzy.net）”电子交易平台加密上传 五、开标时间及地点 1.时间：2023年08月30日09时00分（北京时间） 2.地点：河南省公共资源交易中心远程开标室(一)-6，郑州市经二路12号（经二路与纬四路向南50米路西）。 六、发布公告的媒介及招标公告期限 本次招标公告在《河南省政府采购网》《河南省公共资源交易中心网》《河南省电子招标投标公共服务平台》《河南省科教仪器设备招标有限公司》《商丘师范学院国有资产管理处（招投标工作办公室）》上发布， 招标公告期限为五个工作日 。 七、其他补充事宜 1、会议，开标采用“远程不见面”开标方式。投标人须在招标文件规定的投标截止时间前,登录远程开标大厅,在线准时参加开标活动，并在规定的时间内进行投标文件解密、答疑澄清等。具体操作流程及程序，请查阅河南省公共资源交易平台“办事指南”专区的《新交易平台使用手册》。）2、本项目落实政府采购政策：政府强制采购节能产品、支持创新、绿色发展、鼓励环保产品、扶持福利企业、促进残疾人就业、促进中小企业发展、支持监狱和戒毒企业等。 八、凡对本次招标提出询问，请按照以下方式联系 1. 采购人信息 名称：商丘师范学院 地址：商丘市平原路55号 联系人：庞老师 联系方式：0370-3057682 2.采购代理机构信息（如有） 名称：河南省科教仪器设备招标有限公司 地址：郑州市金水区顺河路11-1号（顺河路与凌云路交叉口南20米路东） 联系人：曾老师 联系方式：0371-66364470 3.项目联系方式 项目联系人：曾老师 联系方式：0371-66364470

紫外可见分光光度计已经是分析工作者不可缺少的工具，为了追求高效率、低费用，高精度、低误差，满足广大客户要求，莱伯泰科仪器有限公司研发中心推出&ldquo 高效率通用型&rdquo 全自动紫外可见分光光度计。 全自动紫外可见分光光度计采用**的自动进样技术，所用的自动进样器是专为紫外分光光度计而配套设计的，使用者只需将仪器的进样管插入盛有式样的容器，通过点击鼠标，便可轻松地完成以前必须由人工完成的比色皿清空、加样等繁琐而机械的操作动作。 莱伯泰科全自动紫外的推出，轻松的实现了自动分析、流动进样、在线分析等技术，可以使我们的分析工作更加简单、快速和准确，可以减少分析工作者操作误差、节省时间、节省试剂，更加环保。 如有特殊需求，莱伯泰科仪器有限公司将依据自己强大的研发和应用技术优势，给用户提供特殊的解决方案。 详细信息请联系莱伯泰科当地办事处。

得利特技术组发现客户以及我们销售，有很多对于我们的水质分析仪器不是非常了解，所以想给讲一些分析仪器的发展史，本次就给说下关于紫外可见分光光度计的发展。 紫外-可见分光光度计是基于紫外可见分光光度法原理，利用物质分子对紫外可见光谱区的辐射吸收来进行分析的一种分析仪器。主要由光源、单色器、吸收池、检测器和信号处理器等部件组成。光源的功能是提供足够强度的、稳定的连续光谱。 紫外光区通常用氢灯或氘灯.见光区通常用钨灯或卤钨灯。单色器的功能是将光源发出的复合光分解并从中分出所需波长的单色光。色散元件有棱镜和光栅两种。可见光区的测量用玻璃吸收池，紫外光区的测量须用石英吸收池。 检测器的功能是通过光电转换元件检测透过光的强度，将光信号转变成电信号。常用的光电转换元件有光电管、光电倍增管及光二极管阵列检测器。 分光光度计的分类方法有多种：按光路系统可分为单光束和双光束分光光度计；按测量方式可分为单波长和双波长分光光度计；按绘制光谱图的检测方式分为分光扫描检测与二极管阵列全谱检测。 发展历史1852年，比尔(Beer)参考了布给尔(Bouguer)在1729年和朗伯(Lambert)在1760年所发表的文章，提出了分光光度的基本定律，即液层厚度相等时，颜色的强度与呈色溶液的浓度成比例，从而奠定了分光光度法的理论基础，这就是的比尔朗伯定律。1854年，杜包斯克(Duboscq)和奈斯勒(Nessler)等人将朗伯比尔定律应用于定量分析化学领域，并且设计了台比色计。1918年，美国国家标准局制成了台紫外可见分光光度计。此后，紫外可见分光光度计经不断改进，又出现自动记录、自动打印、数字显示、微机控制等各种类型的仪器，使分光光度法的灵敏度和准确度也不断提高，应用范围不断扩大。

什么是超微量紫外可见分光光度计?超微量紫外可见分光光度计是通过检测物质波长处或某一波长范畴内光的吸收度，对物质进行定量与定量分析的仪器设备，目前已成为现代分子生物学、药物学、食品科学等领域的常用仪器。因其具有样品用量小、检测速度快、全波长扫描、操作简便等特点，在我国的科研和工农业生产工作中使用非常广泛，特别是生物技术领域和样品量非常少的分析检测工作，发展和应用前景良好。超微量紫外可见分光光度计的应用有哪些？在生命科学应用方面主要包括：核酸定量分析（dsDNA、ssDNA、RNA、基因芯片、Oligo DNA、Oligo RNA测定）、核酸纯度分析测试、蛋白质定量分析（直接定量法、BCA法、Bradford法、Lowry法等）、动力学检测等。如何选择一款好用的超微量紫外可见分光光度计?检测结果稳定准确为保证测量结果的准确性和稳定性，波长准确度、波长重复性、光度准确度为主要参考指标。波长准确度即波长的现实检测值与理论值两者的差值，波长重复性是指数次波长测试数据的离散性，而光度准确度实质上就是光度的现实检测值与理论值两者的差值，差值越小则检测到的结果更具精确性与可靠性。操作快速便捷作为实验室日常使用的一款仪器，超微量紫外可见分光光度计使用频率高，长时间处于测量的工作状态，因此设备操作简单、无需等待、快速出结果等因素能够帮助实验人员节省实验时间，提高工作效率。应用覆盖广在满足常规蛋白浓度和核酸浓度、纯度检测的同时，对细胞浓度、染料浓度等应用有良好的扩展，同时满足波长覆盖范围广的科研需求以及对微量样品的分析，实现多功能覆盖的应用价值。迪澳生物致力于帮助用户解决实验室日常检测问题，推出了一款超微量紫外可见分光光度计Deaou-US200，可满足实验人员的多种应用需求。让检测更便捷 / 让医疗更精准

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一、项目基本情况　　项目编号：GXZC2022-J1-002004-GXJX　　项目名称：广西师范大学凝聚态物理科研设备采购项目　　采购方式：竞争性谈判　　预算总金额（元）：1511800　　采购需求：　　标项名称:广西师范大学凝聚态物理科研设备采购　　数量:1　　预算金额（元）:1511800　　简要规格描述或项目基本概况介绍、用途：无掩模板紫外光刻机、气相色谱仪、低温恒温器、1200℃双温区开启式管式炉等设备，如需进一步了解详细内容，详见竞争性谈判文件中《采购项目技术规格、参数及要求》。　　最高限价（如有）：1511800　　合同履约期限：自签订合同之日起120个日历日内必须到货，并全部安装调试合格完毕。　　本项目（否）接受联合体投标　　备注：/　　二、申请人的资格要求：　　1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定；　　2.落实政府采购政策需满足的资格要求：无　　3.本项目的特定资格要求：无　　三、获取采购文件　　时间：2022年07月11日至2022年07月15日，每天上午00:00至12:00，下午12:00至23:59（北京时间，法定节假日除外）　　地点（网址）：http://www.zcygov.cn（政采云平台）　　方式：供应商登录政采云平台https://www.zcygov.cn/在线申请获取采购文件（进入“项目采购”应用，在获取采购文件菜单中选择项目，申请获取采购文件）。如在操作过程中遇到问题或需技术支持，请致电政采云客服热线：400-881-7190 。　　售价（元）：0　　四、响应文件提交　　截止时间：2022年07月15日 09:30（北京时间）　　地点（网址）：通过“政采云”平台在线提交响应文件。　　五、响应文件开启　　开启时间：2022年07月15日 09:30（北京时间）　　地点：广西建信建设项目管理有限公司开标室（广西桂林市秀峰区翠竹路77号耀和荣裕写字楼2栋13楼）通过“政采云”平台在线解密开启。　　六、公告期限　　自本公告发布之日起3个工作日。　　七、其他补充事宜　　1.对在“信用中国”网站(www.creditchina.gov.cn)、中国政府采购网(www.ccgp.gov.cn)等渠道列入失信被执行人、重大税收违法案件当事人名单、政府采购严重违法失信行为记录名单及其他不符合《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定条件的供应商，不得参与政府采购活动。　　2.单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商，不得参加同一合同项下的政府采购活动。除单一来源采购项目外，为本采购项目提供整体设计、规范编制或者项目管理、监理、检测等服务的供应商，不得再参加该采购项目的其他采购活动。　　3.本项目需要落实的政府采购政策：　　3.1本项目非专门面向中小微企业采购，《政府采购促进中小企业发展管理办法》（财库[2020]46号）、《广西壮族自治区财政厅关于贯彻落实政府采购支持中小企业发展政策的通知》（桂财采〔2022〕31号）。　　3.2《关于政府采购支持监狱企业发展有关问题的通知》（财库[2014]68号）。　　3.3《关于促进残疾人就业政府采购政策的通知》（财库[2017]141号）。　　4.信息公告发布媒体：http://www.ccgp.gov.cn（中国政府采购网）、http://zfcg.gxzf.gov.cn（广西壮族自治区政府采购网）。　　5.响应文件解密：响应文件提交截止时间后，“政采云”平台自动提取所有供应商响应文件，各供应商须在提交响应文件截止后30分钟内（2022年7月15日9时30至10时00分)，登录“政采云”平台，通过“项目采购-开标评标”功能解密电子响应文件。若供应商在规定时间内无法解密或解密失败或超时解密的，系统默认自动放弃，响应文件按无效响应文件处理。　　6.本项目需要供应商代表在响应文件提交截止时间当天，按谈判小组要求及时登陆“政采云”平台等候在线谈判及提交最后报价。　　7.“政采云”平台在线响应（电子响应）相关事宜说明：　　7.1本项目实行全流程电子化采购，供应商通过“政采云”平台参与在线响应（电子响应），并应做好以下相关准备工作：①在“政采云”平台注册成为正式供应商（操作方法详见广西壮族自治区政府采购网—办事服务—办事指南）；②完成CA证书申领和绑定（费用由供应商自行承担，办理流程详见广西壮族自治区政府采购网—办事服务—下载专区，完成CA证书办理预计一周左右，建议供应商尽快办理）；③下载“广西壮族自治区全流程电子招投标项目管理系统--供应商客户端”（操作方法详见广西壮族自治区政府采购网—办事服务—下载专区，以下称“政采云电子投标客户端”）并安装成功，供应商应当在提交响应文件截止时间前在“政采云”平台完成的身份认证，确保能够对相关数据电文进行加密和使用电子签章；④自备计算机和网络设备并确保能接入互联网（费用由供应商自行承担，设备确保可进行视频通话和读取政采云CA证书）。因供应商未做好相关准备工作等自身原因导致无法参加本项目在线响应（电子响应）或响应失败的，造成的一切后果，由供应商自行承担。　　7.2在线响应（电子响应）具体操作流程参考《政府采购项目电子交易管理操作指南-供应商》（详见广西壮族自治区政府采购网—办事服务—下载专区-广西壮族自治区全流程电子招投标项目管理系统--供应商客户端）；如遇平台技术问题详询400-881-7190。　　7.3电子响应标文件的制作、加密、提交等相关事宜详见第二章“谈判供应商须知”。　　八、凡对本次招标提出询问，请按以下方式联系　　1.采购人信息　　名 称：广西师范大学　　地 址：广西桂林市雁山区雁中路1号　　项目联系人：辛裕煜　　项目联系方式：0773-3696563　　2.采购代理机构信息　　名 称：广西建信建设项目管理有限公司　　地 址：广西桂林市秀峰区翠竹路77号耀和荣裕写字楼2栋13楼　　项目联系人（询问）：邓桂艳　　项目联系方式（询问）：0773-2886298

您的实验数据完整吗？赛默飞紫外可见分光光度计安全管理/操作软件来帮忙？近期某知名药企（上市公司）收到美国食品药品监督管理局警示函，指出其实验数据完整性方面的不足，自该警示函出具之日起至整改获得FDA确认期间，其中相关产品将暂时不能进入美国市销售。这并不是今年发生的个例，近期大量关于电子记录的警告信将电子数据的完整性推到了风口浪尖成为制药行业的热门话题。近期随着FDA不断强化21CFR part11法规，电子数据完整性问题已经是中国药企缺陷问题中最常被提及的问题。5月26日新修订《计算机化系统》发布，也明确对权限管理、审计跟踪、电子数据的备份与恢复等内容进行了说明。如果您的实验室需要复合21CFR part11法规，赛默飞紫外可见分光光度计及其配套的安全管理/操作软件协助您轻松完成审核。Thermo Fisher scientific 紫外可见安全管理/操作软件分为两个部分，Thermo Security Administration 管理软件以及不同型号对应的安全管理操作软件，如Evolution300 对应的Vision security 软件及Evolution200系列对应的Insight security 软件等。这些软件能够为您提供高效的数据安全管理，使得您能轻松应对FDA 21 CFR part 11法规对于电子记录和电子签名的要求。赛默飞紫外可见安全管理/操作软件严格遵守产品开发过程，确保符合ISO9001认证，并与cGMP, GLP, GAMP设计、开发、制造指导方针保持一致。该系列软件满足以下特征：1. 严密的系统访问控制及多等级权限设置每个windows登陆账号对应一个使用者，打开软件时需要重新输入账号及对应的密码确保安全性。同时系统管理员可对windows用户账号进行3级以上的等级设置，如是否可以登录管理软件或操作软件，是否可以进行方法编辑等。2. 电子签名赛默飞紫外可见安全管理软件帮助您建立记录责任制，确保最高级别的数据完整度。管理员可以在管理软件中对电子签名进行设置，比如更改了文件数据后需要签名才能关闭软件等，有效防止了数据的篡改。3. 完整的审计追踪即使安全软件没有运行，所有与安全管理相关的文件依旧可以得到有效的追踪。赛默飞紫外可见安全管理/操作软件的数据追踪分为两个部分：（1） 光谱数据的处理历史信息，如：方法参数的更改、数据采集中发生的错误、数字签名历史等。这些历史信息中会包含操作者姓名、日期时间以及改变的原因，是不可编辑的，非管理员无法删除。（2） 事件记录，例如关联文件的编辑、删除、复制、黏贴，数据库的变更，安全软件的登陆、注销和失败登陆等。4. 灵活的数据存储、检索和输出选项对于数据的存储、检索和输出，赛默飞紫外安全管理/操作软件可以为您提供多种选项。（1） 自动保存-不需要操作人员的介入，数据可以自动进行保存。（2） 自动打印-该功能可自动将文件打印为Adobe PDF。指定输出文件夹-管理员制定所有工作簿、数据的存储文件夹，便于管理员的追踪。 5. 严密的数据安全保护管理员可以在安全管理/操作软件中指定如下内容：禁止文件覆盖、删除及重命名，自动保存原始数据，数据保存时需要进行数字签名，指定文件存储地址等。同时管理员可以对数据存储文件夹进行权限设置，使得非管理员无权限删除任何文件，确保数据的完整性。使用Thermo Scientific紫外可见分光光度计及安全管理/操作软件可有效保障您实验数据的完整性，满足FDA 21 CFR part 11法规对于电子记录和电子签名的要求。具体信息请联系赛默飞世尔科技有限公司授权代理商百道亨仪器设备（北京）有限公司 。

紫外可见分光光度计的应用发展很快，本文简单综述全球紫外可见分光光度计的应用及其最新进展。　　1、紫外可见分光光度计的应用现状　　紫外可见分光光度计的主要应用方面，简单综述如下：　　① 粮食系统：对维生素A、C、E、K、山梨酸、苯甲 酸、棉酸、甲脂、乙酸脂、胡萝卜素、烟酸、总氨基酸等的检测 对微量元素，例如： 钾、铁、硒、碘、铜、磷、锰等也可用紫外可见分光光度计检测 特别是对人体有毒有害的微量元素的检测工作中使用更加广泛。　　② 标准片测试：计量部门对在用的各类紫外可见分光光度计仪器的杂散光( SL)、光度准确度(PA) 等关键性能技术指标的检测，必须用比被检测仪器的档次高的紫外可见分光光度计，测试一块石英 片的SL和PA。然后用这块石英片作为二级标准检测被测的紫外可见分光光度计。　　③ 药检系统：我国和世界很多国家的药典，都明确规定许多药品，一定要用紫外可见分光光度计检测 它是药厂和药检系统必备的检测仪器(工具)。　　④ 石油工业：石油里一般都含有芳烃杂质，全世界基本上都用紫外可见分光光度计检测。　　⑤ 水质监测：水里的氨氮、亚硝酸盐致癌物质，一般都用紫外可见分光光度计检测。　　⑥ 环保系统：环境中的有害物质检测、环保材料的检测。　　⑦ 生命科学领域：蛋白质的测试波长为280nm、核酸的测试波长为260nm、氨基酸的测试波长为230nm、糖类的测试波长218nm、多糖的测试波长206nm等等，生命科学领域的这些物质的测试波长都在紫外区。　　⑧ 农药及其残留物：例如:粮食(大米、小麦中的氧化稀土)、食品添加剂(5,-鸟苷酸二钠)、蔬菜(亚硝酸盐、甲胺磷、西维因、氨氮、敌敌畏)、 瓜果、茶叶等的农残检测，大多用紫外可见分光光度计进行。据美国癌症研究中心报道，人类癌症的90%来自有机物(天然有机和金属有机) 其中农残为主。所以紫外可见分光光度计在农残的检测中非常有用。　　⑨ 渔业(水产品)质量控制：海水、淡水鱼类、贝类、虾类、海蜇类等中的苯、总三卤甲烷、甲苯基三唑、多氯联苯、氟、汞等，一般也是采用紫外可见分光光度计检测。　　紫外可见分光光度计的应用远不止这些 ，因为篇幅所限，本文不能做详细综述。对此感兴趣的读者，请参考本文的参考文献[1]、[2]。　　下面主要简单介绍近几年来，国内外紫外可见分光光度计应用的最主要的、最新的进展情况。　　2、多组分不经过分离，直接用紫外可见分光光度计进行分析测试　　&ldquo 褶合谱&rdquo (Convelution Spectrum)，是我国第二军医大学的吴玉田教授和他的同事们发明并成功的得到了应用的一种新技术 它的理论基础是化学计量学。&ldquo 褶合光谱&rdquo 本身是一种新型的软件包，将这个软件包与国产的TU-1901紫外可见分光光度计联用，使得一般常规紫外可见分光光度计只能得到一张紫外吸收谱图的分析检测工作，能得到600～1000张紫外吸收谱图，大大提高或增加了使用者所需要的信息量。　　&ldquo 褶合光谱&rdquo 法不需要对试样经过分离，可以直接用紫外可见分光光度计分析含有六个不同组分的试样。这一发明，对药物分析工作来讲，是一个重大的突破，引起了国内外广大药物分析家们的极大注意。吴玉田教授和我国某医院合作，用&ldquo 褶合光谱&rdquo 法，分析检测复方降压片中的六个组分，得到了非常令人满意的结果：维生素B6的回收率为99.83，精密度为0.16% 维生素B1的回收率为100.45，精密度为0.19% 利眠宁的回收率为99.49，精密度为10.43% 盐酸异丙嗪的回收率为100.44，精密度为0.18% 硫酸双肼肽嗪的回收率为99.31，精密度为0.09% 氢氯噻嗪的回收率为99.23，精密度为0.41%。这一工作(技术)在中国药分上发表后，引起了国内外广大药物分析的科技工作者极大的关注。　　但是，&ldquo 褶合光谱&rdquo 法作为一个软件包，它对紫外可见分光光度计主机的要求很高 最重要的是要求仪器的杂散光很小、光度噪声很小。&ldquo 褶合光谱&rdquo 软件包不能在质量不高的紫外可见分光光度计使用。　　3、新的&ldquo 高阶张量数据解析方法&rdquo 问世　　化学计量学是当前分析测试领域非常热门的学科，&ldquo 高阶张量数据解析方法&rdquo 就是化学计量学方法中的一种 &ldquo 高阶张量数据解析方法&rdquo 是国际上紫外可见分光光度计在应用方面的最新进展之一。&ldquo 高阶张量数据解析方法&rdquo 是由我国湖南大学的俞汝勤教授发明的一项国际领先的科研成果，已获国家自然科学奖。它主要用于复杂体系成分分析。　　复杂体系成分分析一直是分析化学研究的的前沿课题 俞汝勤教授采用紫外可见光谱分析法和电化学方法相结合，创造了&ldquo 高阶张量数据解析方法&rdquo ，并且用它对复杂体系进行研究，独创了多种新的化学计量学方法。在新药开发、疾病诊断、食品科学、产品质控、环境毒性分析等领域有广阔的应用前景。已在中药分析、癌症早期诊断中得到应用。　　4、&ldquo 数学仿真法&rdquo 问世　　近几年，中国的吴玉田教授又提出了&ldquo 数学仿真法&rdquo ，这一个具有独创性的分析方法 &ldquo 数学仿真法&rdquo 又称&ldquo 化学信息的数学修饰&rdquo 法，这是一个非常引人注目的、具有原创性的分析技术 从理念上有所创新 在技术上提出了&ldquo 数学仿真法&rdquo 即通过数学仿真，模拟向待测体系内添加新的化合物，改变和调动可能的干扰 使干扰在指定区域内符合被消除的条件。他们利用这种方法对血竭中龙血素的含量测定，得到了满意的结果。　　5、联用技术的大发展是紫外可见分光光度计应用的又一最新进展　　联用技术是目前分析测试领域值得非常注重的问题，往往一种技术解决不了的工作，几种技术联用，就可能在仪器和应用方面出现一大片新天地。紫外可见分光光度计与其它分析测试技术的联用，是目前世界上紫外可见分光光度计应用的最新进展之一。如，紫外可见分光光度计与HPLC联用；只要把HPLC的紫外检测器去掉，将紫外可见分光光度计接上一只微量流动池，连接到HPLC的色谱柱后，就组成了一个新的、完整的HPLC-紫外可见分光光度计分析系统。用它来作分析工作，能解决单台HPLC或单台紫外可见分光光度计不能解决的许多分析问题。因为，它可以弥补单台HPLC或单台紫外可见分光光度计的缺点。单台HPLC，其检测器的功能、光度准确度、一般都不如紫外可见分光光度计好。但是，紫外可见分光光度计与HPLC联用后，就可解决单台HPLC无法做到的分析工作。也能解决单台紫外可见分光光度计不能解决的分析工作。因为，单台紫外可见分光光度计，它本身没有分离功能，联用后，利用HPLC的高效分离功能，就更能发挥作用，会起到意想不到的分析效果。联用后，新系统的检测器的功能、光度准确度都将大大提高。　　同样，如果将紫外可见分光光度计与FIA(Flow injection analisis)联用，也能得到意想不到的分析测试结果。只要把FIA的检测器去掉，将紫外可见分光光度计接上一只微量流动池，连接到FIA的自动采样阀后，就组成了一个新的、完整的FIA-紫外可见分光光度计分析系统。用它来作分析工作，能解决单台FIA或单台紫外可见分光光度计不能解决的许多分析问题。因为，它可以弥补单台FIA或单台紫外可见分光光度计的缺点。单台FIA的检测器功能、光度准确度，一般都不如紫外可见分光光度计好。而单台紫外可见分光光度计没有富集功能。但是，紫外可见分光光度计与FIA联用后，就可弥补单台紫外可见分光光度计和单台FIA各自的缺点。既能解决单台FIA无法做到的分析工作，又能解决单台紫外可见分光光度计不能解决的分析工作，会收到意想不到的效果。　　还有目前比较受到青睐的LC-MS，它是将质谱计(MS)作为HPLC的检测器，充分利用HPLC的分离能力和MS能够定性定量的优点，组成一种优质的联用仪器，具有广阔的应用前景。　　6、积分光度法进入&ldquo 复兴&rdquo 时期　　所谓积分光度法，就是在常规的紫外可见分光光度计上加一个光学积分球，使得积分球附件，使得常规紫外可见分光光度计不能作或很难作的工作(不透明的固体样品、粉末样品、漫反射样品测试等)能够进行分析测试的一种光度方法。　　所谓光学积分球，就是把一根铝棒(一般是60～150mm内径)切成两半，然后将其挖成空心球，在球的内壁上涂上硫酸钡或燻上二氧化镁(厚度根据需要和制造工艺而定)；这时，在球心放上被测试的物质，则在球内壁的任何地方的漫反射强度都相等。这就是光学积分球的工作原理。　　为了测定粉末样品和不透明样品的镜反射、漫反射或颜色特性曲线等，往往需要在紫外可见分光光度计上安装漫反射检测附件&mdash &mdash 积分球。它可用来检测微弱透光或完全不透光的各类样品的紫外光谱，测量时把积分球置入样品室内。被测样品放进积分球中即可。　　下图是国外两种不同的光学积分球的外形：　　这种光学积分球的分析对象可以是：(1)具有平面的固体例如纸张、布、印刷品、陶瓷器以及玻璃等的色泽；(2)粉末样品，例如化学药品、化妆品、粘土以及颜料等的色泽；(3)柔软物质，例如奶油、果酱、化妆品以及染料等的色泽。　　典型的反射检测附件原理为：来自单色器的光束进入积分球，被反射镜导向不透明的样品上，部分光被样品吸收，其余光被反射，积分球把反射光导向光电检测器上进行检测，检测结果同样由记录器显示出来。　　基于多次漫反射(由朗伯涂层引起)的原理，积分球用于通过外部或内部的照射源而在空间上求辐射通量的积分。积分球的效率由若干因素决定，包括端口的大小和数量，挡板或屏的大小和位置，球体内含物的数量，最重要的是球体涂层的反射和散射特性必须是完美的漫反射。　　积分球的最初用法是测量电灯的几何全光通量。作为不同灯之间光通量输出的简单和快速的比较方法，这个技术起源于20世纪之交，由德国人Richard Ulbricht发明，所以也叫Ulbricht 球。它现在仍然被广泛应用于灯生产的质量控制。　　光学积分球利用Kulbelka-Munk方法，把漫反射率(Reflectance)转化为吸光度(Absorbance)，得到紫外-可见漫反射光谱。其具体计算公式为：　　Kulbelka-Munk方程：　　式中：F(R)为吸光度 R为漫反射率。　　从六十年代开始，因为航天事业的发展，人们非常重视积分光度法。当时主要是用积分光度法测试航天事业中的不透明材料。具体的说，就是用积分光度法研究太阳能谱的分布、测试太阳能谱的能量分布曲线、研究对太阳能谱产生吸收的物质。后来，人们上天了，但从天上取回来的是一些土壤。对人类有多大的关系，一时还不清楚。后来，人们开始把重点转向生命科学，积分光度法开始受到冷落。最近几年，航天技术又开始升温，人们对宇宙、对空间的研究又开始热起来了 同时，生命科学、材料科学又出现大发展，许多不透明的固体、粉末样品都无法用常规的紫外可见分光光度法来分析测试，因此，积分光度法又普遍受到人们的重视，积分光度法又成了热门技术，目前被人们称为&ldquo 复兴时期&rdquo 。　　目前国内外很多科学家非常重视光学积分球的应用，因此可以带积分球附件的仪器也不断推出 　　例如：美国PerkinElmer公司，推出了50mm的积分球；中国北京普析通用公司推出了带光学积分球的TU-1901紫外可见分光光度计；日本岛津推出了UV-3150 带积分球的紫外可见分光光度计；日本JASCO公司推出了带积分球的V550紫外可见分光光度计。美国PerkinElmer公司，50mm光学积分球的紫外可见分光光度计中国普析通用公司带光学积分球的TU-1901紫外可见分光光度计 岛津公司的UV-3150带积分球的紫外可见分光光度计、JASCO公司带积分球的V550紫外可见分光光度计　　目前，积分光度法正在材料科学、生命科学、航天技术等领域发挥着及其重要的作用。国际上许多科学家认为，积分光度法可以大大扩展紫外可见分光光度计的应用范围。科学家们正在进一步重视积分光度法。它是紫外可见分光光度计应用最新进展的重要内容之一。　　结束语　　1)紫外可见分光光度计虽说是一种成熟的、传统的、及普型的、基础型的、常规分析仪器，但是其发展空间仍然很大。目前我国对各类紫外可见分光光度计的需求量每年约9500台以上。作者预计，随着科学技术的发展，紫外可见分光光度计仪器和应用的发展速度只会加快，不会减慢；需求量会进一步增大。我们应该高度重视紫外可见分光光度计仪器及其应用的研发。　　2)紫外可见分光光度计目前的主要发展方向是：微型、微量、快速、专用；微型是便携式、现场检测的需要；微量是生命科学、医学、海洋科学等领域科研工作的需要(样品量很少、很贵)；快速是食品疾控、安全、应急现场检测的需要 专用是功能专一、但可靠性要求很高的在线自动检测的需要。　　3)目前，国际上的高端紫外可见分光光度计已经非常成熟，例如：PerkinElmer公司的Lambda950、Varian（现在的Agilent）公司的Cary6000i等就是。我国的紫外可见分光光度计近几年来已经有很大的突破，高端仪器也已经推出 例如：杂散光为4× 10-7的普析通用公司的T10等仪器就是。我国的紫外可见分光光度计仪器目前基本上能满足使用要求。但是，在工艺方面、附件方面、软件等方面与先进的发达国家相比，仍然存在差距。我们要看到差距，要努力赶超。特别在高端紫外可见分光光度计方面，我们目前还应该在立足国内的基础上，适当引进、消化、吸收国外的先进技术 我们既千万不能盲目乐观，又千万不能盲目排外。在紫外可见分光光度计仪器的研发方面，目前我国仍然应注意处理好普及和提高的关系：普及与提高还是应以普及为主，只能适当研发一些高端紫外可见分光光度计。因为最高端的紫外可见分光光度计，对绝大多数的常规分析测试的使用者没有意义，主要只能以此展示制造商的水平。　　4)可靠性是紫外可见分光光度计仪器发展的关键、核心和灵魂 评价紫外可见分光光度计仪器好坏的依据，主要是看可靠性、看分析测试数据准确与否。所以，我们在发展紫外可见分光光度计仪器时，要特别重视直接影响紫外可见分光光度计的可靠性、直接影响其分析测试误差的关键性能技术指标等关键问题。　　主要参考文献　　[1]李昌厚著，紫外可见分光光度计，北京：化学工业出版社，2005　　[2]李昌厚著，紫外可见分光光度计及其应用，北京：化学工业出版社，2010　　[3]李昌厚著，仪器学理论与实践，北京：科学出版社，2008　　[4]李昌厚著，高效液相色谱仪器及其应用，北京：科学出版社，2014　　[5] 文中涉及的有关仪器样本及其说明书　　(撰稿人：中国科学院上海生物工程研究中心 李昌厚教授)　　注:文中观点不代表本网立场,仅供读者参考　　盘点(1)：紫外可见分光光度计仪器技术新进展

在光电或建筑领域中，会有一些尺寸较大、形状不规则的样品，如滤光片、钢化玻璃等，以及一些需要在样品仓外部进行反应的液体样品，由于样品仓体积或样品支架不合适，测试它们的反射率和透过率给用户带来困难。建筑玻璃日立基于这类样品的测试，凭借专业的知识，开发了用于日立紫外可见近红外分光光度计UH4150直射光检测系统的光纤附件，可以将光引出样品仓，到达样品，通过光纤收集样品反馈的信号，利用检测器获得样品的反射率或透过率。具体如何利用从样品仓导出来的光，取决于客户自身的需求。光纤附件介绍这是用来连接光纤和UH4150直射光检测系统的附件，用于大尺寸样品的反射率和透过率测定。其主要部件是将光纤与UH4150主机连接的附件和光学系统，但不包括光纤和样品室部分。光纤附件** U-3900/U-3900H也可配置光纤附件 日立紫外分光光度计凭借优异的光栅技术，为客户带来更精准的解决方案，同时搭配多样化的定制附件，满足客户的特定需求。关于光纤附件的更多信息，请直接与我们联系。定制附件公司介绍：日立科学仪器（北京）有限公司是世界500强日立集团旗下日立高新技术有限公司在北京设立的全资子公司。本公司秉承日立集团的使命、价值观和愿景，始终追寻“简化客户的高科技工艺”的企业理念,通过与客户的协同创新，积极为教育、科研、工业等领域的客户需求提供专业和优质的解决方案。 我们的主要产品包括：各类电子显微镜、原子力显微镜等表面科学仪器和前处理设备，以及各类色谱、光谱、电化学等分析仪器。为了更好地服务于中国广大的日立客户，公司目前在北京、上海、广州、西安、成都、武汉、沈阳等十几个主要城市设立有分公司、办事处或联络处等分支机构，直接为客户提供快速便捷的、专业优质的各类相关技术咨询、应用支持和售后技术服务，从而协助我们的客户实现其目标，共创美好未来。

DR6000紫外可见光分光光度计是哈希公司2012年全新推出的第四代分光光度计产品，由德国设计和生产，具有优异的分析精度，实现了结果可靠与高效测量的完美统一。优异的分析精度全新的第四代DR6000分光光度计是在德国设计和生产的，无论是在常规的实验室分析工作中，还是在要求比较苛刻的光度测定应用中，都具有优异的分析精度。高效测量DR6000紫外可见光分光光度计实现了结果可靠与高效测量的统一。直观的菜单导航系统以及7英寸的彩色触摸屏使您通过几个简单的步骤输入和校准您自己的方法。为了帮助您节省时间，仪器内置了250多种预先编程设置好的方法，包括TOC、重金属和营养盐等参数。另有可选配应用包，包括对饮用水和啤酒等的分析，为您提供了更多的应用方案。快速扫描与简单的LIMS（实验室信息管理系统）结合，DR6000可以使实验室的分析效率达到最高值。优化时间管理无论是标准分析，还是特定的分析应用，DR6000优化的数据管理及简单的操作将会为您减少繁杂的常规工作，让您可以将宝贵时间分配到最重要的任务上。关于数据处理，DR6000有三个USB接口，并且具有以太网端口，可以快速的获取数据并进行实时的数据传输。DR6000与LIMS（实验室信息管理系统）是可以兼容的。此外，使用显示屏上直观的用户导航，可直接显示方法操作流程，使DR6000的操作更加简单。步骤清晰可追溯DR6000分析步骤是非常直观易用的。不仅如此，您还可以监测这些过程中的所有步骤&mdash &mdash 即使使用预制试剂测试也是如此，随时都可以访问校准数据、批次号、测量步骤以及原始数据。在大显示屏上，只需按下一个按键，就可以调用所有的数据并进行验证。由系统保证的高效和准确 只有完美的互动才能确保高效和准确&mdash &mdash 从DR6000的独立部件，到与您及您的实验室设备进行互动。哈希公司作为研发者、生产制造商及销售和服务伙伴，会为您提供一个完美高效的系统。配合即开即用型、高精度预制试剂，工作步骤将被大大减少，并与标准方法具有可比性ADDISTA标准溶液用于内部质量控制的认证滤光片用于消解的DRB200消解器用于连续分析的流通池模块应用软件扩展包，例如供饮用水和啤酒使用的软件包旋转适配器，例如供酶化学使用更多具体产品参数请见中国试剂网：www.reagent.com.cn

世界上第一台成熟的商品紫外可见分光光度计仪器，是由美国的Beckman公司，于1945年推出的(不是指粗糙的实验样机而是指成熟的商品仪器)。当时的仪器很简单、完全手动。随着科学技术的发展，紫外可见分光光度计仪器得到了飞速发展。目前，它已成为光学、机械学、电子学、计算机四为一体的、技术密集的、高科技产品。尤其是自动化程度，已发展到了令人赏心悦目的地步。特别是计算机和计算机软件更是千变万化，日新月异。目前，国际上许多高档紫外可见分光光度计，一开机仪器就进行全方位的自检 如果自检时发现何处有故障，则直接会显示在仪器的CRT上，一目了然的告诉使用者。在如何排除故障方面，使用者也能通过计算机查寻，计算机也能告诉使用者如何解决故障。在使用者碰到问题时，也可在仪器的计算机软件中找到答案。总之，紫外可见分光光度计的发展非常快。　　1、新型的紫外可见分光光度计不断涌现　　近年来，国内外的紫外可见分光光度计仪器生产厂商不断推出新的仪器；国外：美国的PerkinElmer公司、Varian（现在的Agilent）公司、澳大利亚的GBC公司、日本岛津公司、日立公司等都是如此。国内：中国的北京普析通用公司、北京瑞利公司(原北京第二光学仪器厂)、上海仪电公司(原上海分析仪器总厂或上海精科公司)、上海光谱公司、上海棱光公司、上海天美科学仪器有限公司、尤尼柯(上海)仪器有限公司、浙江福立公司等等，近几年都不断推出新的紫外可见分光光度计 从95年起，我国开始出现新的、高质量的紫外可见分光光度计仪器；当时的代表产品是TU-1221紫外可见分光光度计(双光束，杂散光0.05%,光度噪声± 0.0004Abs)。1997年推出更高档的紫外可见分光光度计，其代表产品是TU-1901紫外可见分光光度计(双光束, 杂散光0.01%,光度噪声± 0.0004Abs)。2002年，我国北京瑞利公司又推出UV-2100紫外可见分光光度计(双光束, 杂散光0.05%,)等等。　　目前国内外推出的最主要的、最新的紫外可见分光光度计仪器及其主要特点：　　1) 英国Unican公司推出了UV550双光束紫外可见分光光度计 该仪器的主要特点是：杂散光小，光度噪声小，光学元件镀SIO2保护膜，单色器经过三次密封，防潮、防灰尘较好。　　2) 中国北京普析通用公司批量推出TU-1950系列紫外可见分光光度计 该仪器的最大特点是：仪器为双光束类型、光谱带宽连续可调、杂散光小、光度噪声小，功能价格比高 它可以用来作食品、药物、农残(有机磷类、硝酸盐类农残)检测，又可作为一般的紫外可见分光光度计使用 它是国外同类同档次紫外可见分光光度计产品的质量，但只相当国外同类低档次产品的价格。它是一种深受国内外广大用户欢迎的、国内外同类同档次仪器的佼佼者!　　3) 中国上海仪电公司(原精科公司)推出了L5S和L6S紫外可见分光光度计 主要特点：L5S的杂散光达到0.03%T L6S的杂散光达到0.08%T、其光谱带宽从0.08nm-5nm连续可调。　　4) 中国上海光谱公司推出了SP-1900系列双光束紫外可见分光光度计，最大特点是：采用空间分隔双光束、非对称垂直式测量光路技术(专利技术)。该仪器性价比很高。　　5) 中国北京瑞利公司推出了2200紫外可见分光光度计 产品主要特点：该仪器的杂散光达到到十万分之一。采用了棱镜消杂散光的专利技术 采用凸轮换灯寻峰机构寻找光源能量最稳定的位置从而减低整机漂移和噪声 光谱带宽由0.1nm到5nm分6档可变，具有最小0.1nm光谱分辨率。　　6) 澳大利亚的GBC公司推出Citra40系列紫外可见分光光度计 该仪器的特点：杂散光为2&prime 10-6，光度噪声为0.00003A(RMS)，基线平直度为0.001Abs(噪声和基线平直度表示不够规范)。　　7) 美国PerkinElmer公司推出新型的Lambda900、Lambd950系列产品 主要特点：杂散光为8&prime 10-7，光度噪声为± 0.0002Abs (峰-峰值表示法)，基线平直度为0.0008Abs。它是目前国际上最高级的紫外可见分光光度计之一。有优异的光学性能、灵活的附件和独特的样品室设计，大大提高了分析效率，缩短了分析复杂样品所需的时间。　　8) 美国PerkinElmer公司推出了普及型的Lambda25,35,45系列产品，主要特点：杂散光和光度噪声都比较小。性价比较高，适于常规分析测试。　　9) 日本岛津推出UV-2600、UV-2700紫外可见分光光度计 杂散光达到5× 10-7 噪声达到其噪声达到± 0.00005(RMS、英文样本) 基线平直度± 0.0004(200&mdash 860nm 英文版样本)　　10)Varian（现在的Agilent）公司推出最新的紫外-可见-近红外分光光度计Cary4000/5000/6000i和DeepUV、Cary4000/5000/6000i。主要特点：采用多种专利技术 Cary公司认为这种最新的仪器，为研究级的紫外-可见-近红外分光光度计性能确立了新标准；其中，Cary6000i和DeepUV是世界首创；Cary6000i在近红外区采用InGaAs固体检测器，比国际上传统贯用的PbS检测器的灵敏度高10倍；DeepUV可检测到低至157nm的谱线。这两种紫外可见分光光度计，都是目前世界上最新、最高级的紫外可见分光光度计。　　11)2013年，中国北京普析通用公司推了出了高端的T10紫外可见分光光度计 T10的主要性能技术指标为：光度噪声达到± 0.0001Abs 基线平直度达到± 0.0003Abs 杂散光达到4× 10-7(为国际领先水平)。　　2、丰富、多彩、适用的附件令人眼花缭乱　　目前，国际上的紫外可见分光光度计附件的发展，已成为紫外可见分光光度计发展的主要内容之一 许多仪器，附件很多，而且一年一个样。从而大大促进了紫外可见分光光度计的大发展。如PerkinElmer公司的Lambda系列、Varian公司的Cary系列、岛津公司的UV-2600/2700 北京普析通用公司的TU-19系列、T10等紫外可见分光光度计，都带有多种附件 如：积分球、蠕动泵进样、长样品池架、试管架、镜面反射附件、微量样品池架、帕尔贴恒温附件、短光程样品池架、长样品池架、恒温池架、超微量样品池架、固体样品池架、浸入式光纤探测装置、反射式光纤探测装置、品种繁多的微量池等。真可谓应有尽有。就连北京普析通用的Pors-15便携式快速紫外可见光谱仪，也带有10种之多的附件。　　紫外可见分光光度计多一种附件就多一种功能、多一种适应性。纵观当今世界上的紫外可见分光光度计附件的发展，实在是令人眼花缭乱。这些附件大大方便了用户，是广大紫外可见分光光度计使用者所欢迎的，也是紫外可见分光光度计进展的重要内容之一。目前有些紫外可见分光光度计仪器，带有60多种附件 例如：日本岛津的UV-2700，带有60多种附件，使用者可以任意挑选，大大方便了各类使用者。　　3、紫外可见分光光度计正在向小型化(或微型化)、便携式等方向发展　　由于环境监测、野外现场分析测试、海洋深水中的分析测试等许多领域需要小型、便于携带、分析速度快的紫外可见分光光度计。因此，目前，国际上已有好多制造商正在研究开发适合于各种不同使用对象的小型紫外可见分光光度计。其中比较典型的代表有：　　1)美国的海洋光学公司(Ocean Optics )：前几年推出了PC2000型卡式光度计可插入PC机内工作。2001年又推出了USB接口的USB2000微型光度计，重量只有200克，采用2048位元的CCD检测器，最快积分时间只有3毫秒 后来又推出HR2000型高分辨率光纤光度计，将最高分辨率提高到了0.035 nm。但美国的海洋公司卡式光度计等只适用于可见光区域使用。美国海洋光学的几种微型光纤光度计如图1-1所示:图1-1 美国海洋光学的微型光纤光度计　　2) 美国CID公司(CID Inc.)：该公司专门从事植物研究相关产品开发，对现场应用尤为重视，他们开发的CI700型光纤光度计配合可选附件可用于植物叶片光谱测试等现场研究。如1-2所示。图1-2 美国CID公司的CI700光纤光度计　　3)美国HACH公司(HACH Inc.)是专门生产环境检测仪器的公司，Odyssey DR/2500及DR/2400分光光度计是Hach公司最重要的产品，它广泛应用于工业与市政领域，可以对饮用水、工业废水、锅炉用水和冷凝水进行实验室水质分析。该仪器采用了阵列式固体半导体检测器，内置光源与电源，DR/2400是DR/2500的便携式改进产品，Hach公司的产品在我国水质分析工作中广泛应用。DR/2400分光光度计的主要技术指标如下：　　波长范围：400～880nm 光谱带宽：4 nm ± 1 nm 波长准确度：± 1 nm 　　波长分辨率：1.0nm 扫描速度：200 nm/ 分钟 光学系统：同心光谱系统。　　美国HACH公司的DR/2400分光光度计如图1-3所示：图1-3 HACH公司的DR/2400光度计　　4) 美国这些小型化、便携式光谱仪器的共同特点是：体积小，检测速度快，配置灵活&mdash &mdash 可更换不同的光栅，不同的光源，不同的检测探头以适用不同的需求。但是本身都不具备图谱显示功能，需外接PC操作，不具备内置光源，需通过附件连接外置光源，使现场应用的方便性大打折扣。DR/2400虽然内置光源与电源，但其工作波段只能在可见区，而且没有光纤探头测量功能，只能用比色皿及比色管进行测试。　　5) 我国科技部第十个五年计划的科学仪器攻关项目中，提出了研发微型光谱仪的任务 北京普析通用公司承担了该任务，并研发成功Poes15便携式快速光谱仪。该仪器借鉴了国外有关产品的优点，同时根据用户的实际需求，研发了具有自己特点的新一代便携式光纤光谱仪 该仪器具有体积小、重量轻、功能全等特点。在国际上具有很大的竞争优势。北京普析通用公司开发的Poes15便携式快速光谱仪的主要特点如下：　　(1)独立操作它具备电源、光源、分光、光电转换及数据处理显示输出的全部功能，能够独立操作，是真正的便携式光谱仪。(2)配置齐全：便携式全谱仪除主机外配置了10几种附件，方便组成各种测量系统，大大扩展了仪器的应用范围。(3)功能齐全：主机具有光谱扫描、光度测量、定量测定、时间扫描、峰值检出等功能。(4)使用方便灵活：微电脑控制、LCD显示、触摸屏人机对话、能存储100条光谱图数据，满足野外作业要求。(5)SMA905光纤接口，可连接多种附件。RS232接口可与PC通讯。主机电池供电可8小时，能满足全天工作需求。(同时可用外电源供电)。快速测量，全波段扫描仅0.01s。Poes-15便携式快速紫外可见光谱仪的外形如图1-4所示。图1-4 Pors-15便携式快速紫外可见光谱仪　　(6) 中国普析通用公司推出了新型的T6紫外可见分光光度计，主要特点：SL非常小，达到0.05%T (220nm NaI)；优于全世界所有的同类同档次的紫外可见分光光度计；自动化程度很高：自动波长定位、自动波长校正、自动多联池移动、自动光源切换；国内首创步进电机细分技术：电机直接驱动光栅和光源镜，但波长准确度达到± 1nm；波长重复性0.2nm；工业化设计，全部模具加工，装拆仪器不用螺丝刀，直接用手拧即可；扫描速度可达7000nm/min；平台式设计；可以与PC机联机。支持微型、喷墨、激光等打印机。这种新型紫外可见分光光度计，有极高的性能价格比。　　(7)几种便携式光谱仪比较(表1-1)型号PORS15USB2000HR2000PC2000CI700厂家中国 北京通用普析美国海洋光学美国海洋光学美国海洋光学美国CID单色器凹面平场平面平面平面平面光源内置外置外置外置外置数据处理内置PC机PC机PC机PC机显示内置LCDPC机PC机PC机PC机光纤接口SM905SM905SM905SM905SM905检测器NMOSCCDCCDCCDCCD特点全集成USB接口高分辨率卡式叶片测试　　①表1-1列出了国内外几种便携式光谱仪的比较。其中北京普析通用公司采用凹面平场光栅及内置光源等，体现了全集成的特点。优于平面光栅和普通氘灯(体积大，功率一般在30W左右 体积和功耗原因不能作为内置光源使用)。　　②我国近几年先后推出很多小型或超小型的紫外可见分光光度计，但在体积、功能、分析速度、附件等方面还有不少缺点。Pors-15快速便携式紫外可见光谱仪，很好的解决了这些缺点 它可广泛的应用于环境科学、食品科学、生命科学、农业科学等领域的快速检测，具有极其广泛的应用前景。特别是北京普析通用公司围绕Pors-15便携式快速紫外可见光谱仪，成功的开发出了适合中国国情的水质4参数(COD、氨氮、六价铬、氰化物)专用检测方法和专用试剂，并在我国的有些地方得到成功的应用(见表1-2、表1-3)。表1-2 环境中的水质检测 {C}{C}{C}{C}{C}{C} 表1-3 白酒中甲醇的检测　　表1-3所列的测定结果表明：这批北京红星二锅头酒中甲醇浓度为0.0441mg/mL，即4.41mg/100mL。国标规定饮用酒中甲醇浓度限量为低于0.04g/100mL(即40mg/100mL)，因此，这批北京红星二锅头酒的甲醇含量合格。　　此外，Pors-15快速便携式紫外可见光谱仪，在疾控系统的消毒类、毒理类、食品类、化妆品类、公共场所类、免疫预防类、饮水涉水类、病媒防治类等领域的应用，也已引起我国广大科技工作者的高度重视。　　③美国海洋光学公司的便携式光谱仪器(可见光区使用)和哈希公司的便携式光谱仪器也有许多优点，也有广泛的应用前景。　　4、紫外可见分光光度计正在向多功能方向发展　　一机多用也是广大使用者关注的问题之一；紫外可见分光光度计的功能增多或一机多用，是目前国际上紫外可见分光光度计发展的又一个动向。岛津的UV-1240紫外可见分光光度计具有多种功能，既可作常规紫外可见分光光度计使用，又可作水质、生物酶分析的专用仪器使用，做到了一机多用。李昌厚研究组研制的MUV-1型超小型多功能紫外可见分光光度计，既可作常规的小型紫外可见分光光度计使用，又可作核酸蛋白分析仪使用，还可作HPLC紫外分光检测器和流动注射分析仪的紫外分光检测器使用。真正实现了一机多用。还有，李昌厚研究组研研制的UV/FL紫外可见分光/荧光光度计(原南京分析仪器厂投产)，也是一种紫外、荧光一机两用的新型紫外可见分光光度计，它只需8微升试样，就可得到紫外光谱和总荧光量两种数据。该仪器已获得国家发明奖。（撰稿人：中国科学院上海生物工程研究中心 李昌厚教授）注:文中观点不代表本网立场,仅供读者参考　　盘点(2)：紫外可见分光光度计仪器技术新进展