紫外曝光光刻系统

紫外曝光机配件非常适合对紫外光敏感层的处理，是理想的紫外掩曝光机系统和掩模准直机，适合光学，生物，微纳科技，光刻等领域需要1-2掩膜的应用。 紫外曝光机配件特点 1)完美的单色曝光，曝光带宽小于10nm 2)冷紫外曝光，衬底环境温度实时控制，从而实现均匀曝光，消除热效应； 3）超强的功率密度 4） 紫外LED寿命更长，高达10000小时； 5）方便用户使用的触摸屏配置； 6） 不需要预热； 7）计算机控制紫外光源强度调节； 8）自动晶圆装载和卸载功能； 9）超低能耗； 紫外曝光机配件参数 分辨率：2微米 发射光谱：365+/-5nm, 385+/-5nm 4英寸晶圆照明： 25mW/cm^2 +/-10% 暴晒时晶圆温度加热:1摄氏度 暴晒循环：1秒~18小时 记忆的曝光循环数： 10个 功率：180W 重量：8.2kg尺寸: 260x260x260mm^2电源： 110V/230v50Hz

特点：• 用于亚微米精细结构加工、掩膜板制作、激光干涉曝光等• 感光波段：Broadband UV、i-line(365nm)、g-line(436nm)• 高分辨率、高对比度、优异的结构稳定性，可用于亚微米精 细结构的加工旋涂曲线： 应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于集成电路加工、lift-off工艺、激光干涉曝光等• 感光波段：i-line(365nm)、g-line(436nm)• 化学放大胶，具有非常高的灵敏度• 高分辨率、高对比度• 可得到undercut结构，用于lift-off工艺 旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 紫外正胶，用于单层lift-off工艺等• 感光波段：Broadband UV、i-line(365nm)、g-line(436nm)• 在金属和氧化物等衬底表面有很好的粘附性能• 通过普通的单层工艺，即可实现lift-off剥离工艺 旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于掩膜板制作、精细结构加工、激光干涉曝光等• 感光波段：Broadband UV、i-line(365nm)、g-line(436nm)• 可得到非常薄且均匀的膜• 高灵敏度、高分辨率• 良好的粘附能力，可用于耐干法和湿法刻蚀工艺 旋涂曲线：应用实例： 欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，又翻译为抗蚀剂、光阻等。广泛应用于集成电路(IC)，封装(Packaging)，微机电系统(MEMS)，光电子器件光子器件(Optoelectronics/Photonics)，平板显示器(LED,LCD,OLED)，太阳能光伏(Solar PV)等领域。 德国ALLRESIST公司是从事光刻用电子化学品研发、生产和销售的专业公司，有丰富的经验和悠久的传统。可以为您提供各种标准工艺所用的紫外光刻胶，电子束光刻胶（抗蚀剂）以及相关工艺中所需要的配套试剂。 北京汇德信科技有限公司作为德国ALLRESIST的国内独家代理经销商，为国内用户提供高品质的光刻胶以及配套服务。 产品类型： 1.紫外光刻胶（Photoresist） 各种工艺：喷涂专用胶，化学放大胶，lift-off胶，图形反转胶，高分辨率胶，LIGA用胶等。 各种波长: 深紫外(Deep UV)、I线(i-line)、G线(g-line)、长波(longwave)曝光用光刻胶。 各种厚度: 光刻胶厚度可从几十纳米到上百微米。 2. 电子束光刻胶（电子束抗蚀剂）（E-beam resist） 电子束正胶：PMMA胶，PMMA/MA聚合物， LIGA用胶等。 电子束负胶：高分辨率电子束负胶，化学放大胶（高灵敏度电子束胶）等。 3. 特殊工艺用胶（Special manufacture/experimental sample） 电子束曝光导电胶，耐酸碱保护胶，全息光刻用胶，聚酰亚胺胶（耐高温保护胶）等特殊工艺用胶。 4. 配套试剂（Process chemicals） 显影液、除胶剂、稀释剂、增附剂（粘附剂）、定影液等。 产品特点1. 光刻胶种类齐全，可以满足多种工艺要求的用户。产品种类包含：各种厚度的紫外光刻胶（正胶或负胶），lift-off工艺用胶，LIGA用胶，图形反转胶，化学放大胶，耐刻蚀保护胶，聚酰亚胺胶，全息曝光用胶，电子束光刻胶（包含PMMA胶、电子束负胶、三维曝光用胶（灰度曝光用胶）、混合曝光用胶等）2. 光刻胶包装规格灵活多样，适合各种规模的生产、科研需求。 包装规格包含：250毫升、1升、2.5升等常规包装，还提供试验用小包装，如30毫升、100毫升等。3. 交货时间短。我们每个月20号左右都会向德国厂商下订单，产品将于第二个月中旬到货，您可以根据实际情况，合理安排采购时间。具体的订购情况，请联系我们的销售人员。 4. 可以提供高水准的技术咨询服务，具有为客户开发、定制特殊复杂工艺用光刻产品的能力5. 储存条件：密闭储存在容器中并置于避光、干燥阴凉、通风良好之处。储存在适当的温度下。详情请联系我们的销售人员。 欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 紫外负胶（厚胶），适用于 LIGA 及 MEMS应用• 涂胶厚度 10μm@1000rpm， 可提供更高厚度（200μm）• SX AR-N 4600-10 : 结构稳定性好、重复性好，厚度可达几百 微米，适用于永久保留胶体结构的应用• SX AR-N 4650-10 : 容易去胶，适合于电铸工艺 旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

秒激光直写光刻系统配件是专业为微纳结构的激光蚀刻而设计的激光直写光刻机，基于多光子聚合技术，适合市场上的各种光刻胶，能够以纳米精度和分辨率微纳加工各种三维结构。秒激光直写光刻系统配件特点激光光刻机3D模型制备直写光刻机直接激光刻划 激光光刻机整套系统到货即可使用激光光刻机提供100nm-10um的分辨率直写光刻机超小尺寸 激光光刻机3D模型的制备 这套三维光刻机由激光微加工系统软件控制，简单的3D模型通过这种软件即可生成，对于比较复杂的3D模型，用户可以通过Autodesk, AutoCAD等软件制作，然后导入到三维光刻机的软件中，这个软件支持.stl, dxf等格式的文件用于3D结构的制造。 激光光刻机激光直接读写 这套激光光刻机由飞秒激光光源，精密的3轴定位台和扫描镜组成。首先，待刻录的图形通过激光光刻机精密的激光聚焦系统直接从CAD设计中导入到光刻胶上。聚合物的双光子或多光子吸收用于形成高质量表面的3D结构。100nm的尺寸可自形成结构，200nm-10um尺寸的结构可以控制并重复，这套激光蚀刻机提供纳米尺度分辨率和对聚合物的广泛选择，从而可以适合微纳光学,微流体,MEMS,功能表面制作等各种应用. 与CAD设计等同的3D结构形成后，未固化的光刻胶剩余物由有机溶剂洗掉,这样只留下蚀刻的微纳结构呈现在基板上。 激光光刻机后续工序： 在所需的微纳结构形成后，它被浸入到几种不同的溶剂中，以除去蚀刻过程中留下的液态聚合物。激光光刻机全部过程都是自动化的，重要参数可以根据要求而设定：浸入时间,温度等.对于特殊的样品或加工对象，可以使用紫外光或干燥机处理。秒激光直写光刻系统配件应用 ?激光光刻机用于纳米光子器件（三维光子晶体） ? 三维光刻机用于微流控芯片 ? 三维光刻机用于微光学（光学端面微结构制作） ? 激光光刻机制作机微机械 ?激光蚀刻机制作微型光机电系统 ? 激光光刻机,三维光刻机用于生物医学

紫外分光光度计配件和欧洲进口的双光束分光光度计,它提供8个比色皿自动扫描,紫外-可见双光束自动扫描的高精度分光光度计,使用全新的光学系统设计,可对微量样品进行优化和可重。紫外分光光度计配件特色它提供8个比色皿自动扫描测量范围是190-1100nm是紫外-可见双光束自动扫描的高精度分光光度计并能够以0.5nm,1.0nm,2.0nm和5.0nm不同带宽精确测量具有准确可靠的实验数据紫外分光光度计配件应用药品检测，临床分析石化分析，化学和生物化学分析，DNA/RNA分析食品检测农业分析紫外分光光度计配件特点UVD 3200 使用全新的光学系统设计，可对微量样品进行优化和可重复性的分析测量。取样光束和参考光束在同一采样空间使得数据扫描更宽更长，从而获得更多数据具有优良的稳定性和高分辨率UVD 3200的具有一个大LCD显示屏，可显示各种测量结果内置了通用的软件应用程序，可与计算机连接进行光谱和光度数据的处理。双光束分光光度计特点： 理想的基线稳定性： 双光束动态反馈比例记录测光系统系统加上合理的设计，电子控制，确保仪器的高度稳定性。高分辨率： 独特的光学设计的全输全反射同时满足需求的双光束光学和仪器提高能源的光，以减少噪音，并保证较高的分辨率。自动连续测量：自动8比色皿固定架提供8个样品自动连续测量，一键操作可测量6个样品。用户友好光源： 氘灯和钨灯的更换光源方便，简化维护，并减少操作错误。显示方便： 使用较大的LCD显示屏显示光度参数和光谱曲线。多功能应用： 在Windows平台的应用软件提供了丰富的操作和数据处理设施，充分代表的现代计算机技术的魅力。计算机系统是可选的（不含税）。紫外分光光度计软件规格 光度测量：测量选定波长的透过率或吸光度并进行k因子计算。光谱扫描：扫描选定波长的透过率和吸光度，并具有峰值锁定模式。定量分析：标准曲线回归，直接确定样品浓度。

Made in UK, 英国EM Resist Ltd出品的光刻胶（1%-17% PMMA、SML系列电子束曝光阻剂），PMMA是常用的普通正阻剂；SML系列阻剂是高分辨率高深宽比的正阻剂。高档的SML正阻剂特点：无需邻近效应校正，低加速电压下也能使用，可提高EBL设备能力并制作出传统PMMA做不出来的新颖微纳器件，特别适合科研应用；有SML50、SML100、SML300、SML600、SML1000、SML2000等系列型号（数字表示光刻胶涂布厚度）。[资料]PMMA (Polymethyl – Methacrylate；聚甲基丙烯酸甲酯；positive tone, polymer chain scission type for Electron beam, DUV, x-ray and multi-level lithography) is a widely used, versatile resist that is used for many imaging (and non-imaging) micro-electronic applications as well as a protective coating for wafer thinning, a bonding adhesive and as a sacrificial layer, but is commonly used as a high resolution positive resist for direct write with e-beam. EM Resist Ltd specialises in electron beam lithography resists and applications. We develop and manufacture electron beam resists in a purpose built clean-room facility to ensure maximum quality and performance.Our products and expertise are the result of many years research by experienced physicists and material scientists in both academia and industry. EM Resist products are provided in a clean room compatible box, if you need Material Safety Data Sheets, Process Information, Example design files and other useful information, please contact with our Chinese Distributor(www.tansi.com.cn).PMMA Product Options. First,select which solvent(Anisole or Chlorobenzene) best suits your application. Second,select which solid percentage(1%-17%, 20nm-3500nm) of thickness required.Third,choose a volume to suit your usage needs.

安捷伦的自动溶出度测试解决方案是基于 Agilent 8453 分光光度计、 紫外-可见 ChemStation 软件以及由计算机控制的取样系统和溶出仪来实现。多家溶出度仪制造商提供紫外-可见 ChemStation 溶出度仪驱动。8453 自动化系统提供整个溶解运行序列的控制，包括测试准备和净化。可在线得到测试结果，具有分析多组分配方的能力。使用一台 8453 系统可以自动控制多达 4 台溶出度仪。安全软件包提供 21 CFR Part 11 法规认证所必需的工具。 开放式系统架构能够提供适用于几乎所有溶出度仪的接口。 可从手动进样离线分析扩展到全自动在线系统。 采用平行进样系统实现短于 2 分钟的快速测量周期。 良好实验室规范 (GLP) — 内置的测试和验证工具满足欧洲和美国药典的各项要求。 利用用户自定义的质量控制限值和结果进行在线测试，测试结果以表格和图示显示。 离线评估验收标准，其中可结合最多 4 次运行的结果。

特点：• 用于耐刻蚀工艺、电镀、LIGA、MEMS等• 感光波段：Broadband UV、i-line(365nm)、g-line(436nm)• 涂胶厚度从几微米到上百微米，覆盖能力好，图形边缘陡直• 3220透明度高，100μm胶厚(多层涂胶工艺)也可正常曝光 • 具有良好的耐干法和湿法刻蚀能力 旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

安捷伦的自动溶出度测试解决方案是基于 Agilent 8453 分光光度计、 紫外-可见 ChemStation 软件以及由计算机控制的取样系统和溶出仪来实现。多家溶出度仪制造商提供紫外-可见 ChemStation 溶出度仪驱动。8453 自动化系统提供整个溶解运行序列的控制，包括测试准备和净化。可在线得到测试结果，具有分析多组分配方的能力。使用一台 8453 系统可以自动控制多达 4 台溶出度仪。安全软件包提供 21 CFR Part 11 法规认证所必需的工具。 开放式系统架构能够提供适用于几乎所有溶出度仪的接口。 可从手动进样离线分析扩展到全自动在线系统。 采用平行进样系统实现短于 2 分钟的快速测量周期。 良好实验室规范 (GLP) — 内置的测试和验证工具满足欧洲和美国药典的各项要求。 利用用户自定义的质量控制限值和结果进行在线测试，测试结果以表格和图示显示。 离线评估验收标准，其中可结合最多 4 次运行的结果。

特点：• 用于高灵敏度电子束曝光、混合曝光等• 感光波段：e-beam、deep UV(248 nm)• 紫外曝光波段： 负胶：248nm~265nm & 290nm~330nm • 化学放大胶，高灵敏度• 良好的耐干法刻蚀能力旋涂曲线：应用实例： 欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

紫外可见分光光度计配件是全球领先的进口分光光度计，操作简单，精密可靠，提供190-1100nm的光谱范围，杂散光仅为0.05%T，具有广阔的应用领域。紫外可见分光光度计配件应用药品检测，临床分析石化分析，化学和生物化学分析，DNA/RNA分析食品检测农业分析紫外可见分光光度计配件特点超大LCD显示屏（128x64Dots)系统可存储测试结果,200组数据，100个标准曲线可存储到内存中，方便加载或调阅具有突然断电的数据保存功能自动设定波长钨灯可单独关闭以延长寿命预准直设计方便更换灯泡超大样品室，可容纳5-100mm光程比色皿紫外可见分光光度计参数波长范围：190-1100nm光谱带宽：2nm光学系统：单光束，光栅1200线/mm波长精度：10.5nm波长重复精度：0.3nm光度精度：=10.5%T 或10.003A@1A光度范围：-0.3-3A， 0-200%T，0-9999Conc杂散光：=0.05%T@220nm,360nm稳定度：10.002A/h@500nm标准样品室：标准10mm光程比色皿电力要求：AC110/220V 50/60Hz尺寸：470x370x180mm重量：14kg孚光精仪是全球领先的进口科学仪器和实验室仪器领导品牌服务商，产品技术和性能保持全球领先,拥有包括分光光度计,紫外可见分光光度计在内的全球最为齐全的实验室和科学仪器品类，世界一流的生产工厂和极为苛刻严谨的质量控制体系，确保每个一产品是用户满意的完美产品。我们海外工厂拥有超过3000种仪器的大型现代化仓库，可在下单后12小时内从国外直接空运发货，我们位于天津保税区的进口公司众邦企业（天津)国际贸易公司为客户提供全球零延误的进口通关服务。更多关于紫外可见分光光度计参数，紫外可见分光光度计价格等诸多信息，孚光精仪会在第一时间更新并呈现出来，了解更多内容请关注孚光精仪官方网站方便获取！

特点：• 用于高分辨电子束曝光、混合曝光等• 感光波段：e-beam、deep UV(248 nm)、i-line(365 nm)• 紫外曝光波段： 负胶：248nm~365nm• 高分辨率(30nm)，高对比度 • 良好的耐干法刻蚀能力旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

无掩模光刻机配件具有无掩模技术的便利，大大提高影印和新产品研发的效率，节省时间，是全球领先的无掩模光刻系统。无掩模光刻机配件特色尺寸：925x925x1600mm直接用375nm或405nm紫外激光把图形写到光胶衬底上内置计算机控制接口激光光源：375nm或405nm视频辅助定位系统自动聚焦设置无掩模光刻机配件参数线性写取速度：500mm/s重复精度： 100nm晶圆写取面积：1—6英寸衬底厚度：250微米-10毫米激光点大小：1-100微米准直精度：500nm

LED紫外固化灯配件，紫外固化光源，LED紫外硬化灯，紫外硬化光源是全球领先的LED紫外固化光源系统。LED紫外固化灯配件功能紫外单波长输出，是理想的高功率LED单波长紫外光源，它消除了无用光辐射，特别是红外线辐射，非常适合高精度和高灵敏度样品或工件使用。具有超长寿命和强度特点，长达20000小时工作寿命中，光强基本在同一水平。内置温度控制系统保证了光强的连续性，不需要每天检查。标准输出波长为365nm, 385nm, 390-420nm,455nm,465nm等，其它波长可定制输出没有损害性热光，输出光学不含有加热成分光，热效应最小化，物体表面温度变化非常微小LED紫外固化灯配件应用医疗处理，消毒，紫外胶固化，紫外墨水变干，LCD,PCB曝光，大面积紫外辐射LED紫外固化灯配件参数发射窗口尺寸：60x60mm波长：365mm光强：2W/cm^2工作距离：=2mm尺寸：120x112x165mm重量：约1kg功率消耗：450W孚光精仪是全球领先的进口科学仪器和实验室仪器领导品牌服务商，产品技术和性能保持全球领先,拥有包括比色箱,色彩分析仪器在内的全球最为齐全的实验室和科学仪器品类，世界一流的生产工厂和极为苛刻严谨的质量控制体系，确保每个一产品是用户满意的完美产品。我们海外工厂拥有超过3000种仪器的大型现代化仓库，可在下单后12小时内从国外直接空运发货，我们位于天津保税区的进口公司众邦企业（天津)国际贸易公司为客户提供全球零延误的进口通关服务。关于进口精密比色计特点,进口精密比色计价格的更多消息，孚光精仪将在第一时间更新并呈现，想了解更多内容，关注孚光精仪等你来体验！

超快非晶硅激光刻膜机配件是特别为太阳能产业光伏工业而设计的整套晶圆激光加工系统。可用于光伏电池激光加工,去除氮化硅膜氮化硅膜蚀刻,晶圆边缘隔离，有可以当作激光刻膜机,激光划片机使用。 提供如下四合一服务：SiNx/SiO2去除,去除二氧化硅,去除氮化硅 边缘隔离晶圆 背接触激光烧结和激光刻槽 激光打标 其中紫外飞秒激光用于SiNx/SiO2的选择性烧蚀或切除(氮化硅膜蚀刻),配备的紫外飞秒激光可以非常精密地剥蚀SiNx(去除氮化硅膜),同时在Si层的直接或热效应降低到最低，从而增加载流子寿命（少子寿命）,避免微裂纹。而配备的1064nm的纳秒激光工作非常稳定而快速，将用于晶片的快速激光边缘隔离，激光打标和激光烧结。 非晶硅激光刻膜机配备自动处理和扫描系统，支持5’’和6’’直径的硅晶片加工。同时配备机械视觉系统以随时调节激光束扫描,保持高度重复性和可靠性。配1级激光安装防护装置和灰尘消除系统，营造无尘加工环境，以保证飞秒激光的精密烧蚀和热效应影响的最小化。 非晶硅激光刻膜机配件特色 配备的激光器处理能力高达800个晶片/小时或350000px/s 加工量为425个晶片/小时,优化后可用于2.5MW/a产品的生产线 适用5' ’和6' ' 硅晶片 紫外飞秒激光和红外纳秒激光光源 机械视图系统可调节激光扫描场 精密激光光束定位 激光划线激光剥蚀激光熔化 为用户提供了无银敷金属技术生产太阳能电池 成功地装配到生产能力高达2.5MWp/a的生产线上。 使用飞秒激光对晶圆wafer的发射端进行介电层（SiNx)的选择性移除。SiNx厚度为50-90nm,覆盖发射端，必须精确移除而不伤害发射层。一种应用是消蚀SiNx层的同时，也产生bus bars和fingers开口，下一步,这些开口将被镍覆盖，这样就形成了高质量的前接触。它使用振镜扫描器控制激光束切割发射端，独具的机械视图功能能够探测晶圆位置。

多探头紫外辐照计 型号：ZRX-29332 紫外线包括UVA波段(320nm-380nm),UVB波段（280nm-320nm）和UVC波段（200nm-280nm）。UVA波段主要用于光固化,光刻曝光,紫外光源,集成电路光刻等行业；UVC波段，又称为短波灭菌紫外线。紫外线杀菌灯发出的就是UVC短波紫外线。多探头紫外辐照计是款可测试UVA,UVB,UVC各种波段紫外辐射照度的多通道紫外辐射照度计,可用于污水处理杀菌灯检测,电焊弧光检测,紫外老化实验箱检测等。采用数字探头，插拔式设计，仪器智能判断探头的型号。同时可以支持7种不同的紫外探头。ZRX-29332多探头紫外辐照计主机参数 1.仪器重量：约320克 2.主机尺寸：长125mm × 宽72mm × 14.5mm 3.电池：2节AAA碱性干电池。 4.探头连接方式：推拉自锁（卡扣式）目前ZRX-29332根据不同行业测量需求，提供了7种探头供选择： 1.P254探头：大率254nm杀菌灯强度检测。 1）光谱响应： 230nm-280nm λp = 254nm 2）量程范围：0 -200000 uW/cm2 3）分辨率：0.1μW/cm2 4）测量度：±10 % 5）测试光孔直径：￠10 6）探头尺寸：直径46mm×厚16.1mm 2.P254-WP防水探头：水处理杀菌灯强度检测。 1）光谱响应： 230nm-280nm λp = 254nm 2）量程范围：0 -200000 uW/cm2 3）分辨率：0.1 uW/cm2 4）测量度：±10 % 5）测试光孔直径：￠10mm 6）探头尺寸：直径50mm×厚20mm 7）防水深度：1米 3.P297探头：UVB光源强度检测。 1）光谱响应：280nm-320nm 适用于297nm,308nm,313nm等波长的UVB光源测量。 2）量程范围：0-200000uW/cm2 3）测量度：±10 % 4）分辨率：0.1 uW/cm2 5）测试光孔直径：￠10 6）探头尺寸：直径46mm×厚16.1mm4.P365L探头：通用UVA光源强度检测。 1）光谱响应：260nm-400nm λp =365nm 2）量程范围：0-200000uW/cm2 3）测量度：±10 % 4）分辨率：0.1 uW/cm2 5）测试光孔直径：￠10 6）探头尺寸：直径46mm×厚12.2mm 　　5.P420L探头：通用UVA+UVV光源强度检测。 1）光谱响应：340nm-420nm λp= 395nm 2）量程范围：0-200000uW /cm2 3）测量度：±10 % 4）分辨率：0.1 uW /cm2 5）测试光孔直径：￠9.2 6）探头尺寸：直径46mm×厚14.6mm 　　6.E365探头：压汞灯固化率、能量检测。 1）光谱响应：320nm-400nm λp =365nm 2）率量程范围：0 - 2000mW/cm2 3）能量测量范围：0--- 999999mJ/cm2 4）测量度：±10 % 5）分辨率：0.01 mW/cm2 6）测试光孔直径：￠9.2 7）探头尺寸：直径46mm×厚14.6mm　　7.E395探头：UV LED固化率、能量检测。 1）光谱响应：340nm-420nm λp= 395nm 2）量程范围：0-20000mW/cm2 3）能量测量范围：0--- 999999mJ/cm2 4）测量度：±10 % 5）分辨率：0.1 mW/cm2 6）测试光孔直径：￠9.2 7）探头尺寸：直径46mm×厚14.6mm

安捷伦紫外-可见分光光度计比色池和备件按照 ISO 9001 认证标准制造。此外，每个安捷伦紫外-可见分光光度计比色池都带有一份分析证书，符合诸如 NIST、GLP、GMP 和 NAMAS 的严格规定，以便您放心使用。这章节内容将帮助您选择能满足您独特应用需求的比色池。您也可以了解如何通过选择合适的分光光度计、管线、接头和溶出度测试备件提高您实验室的效率。

飞秒激光微加工系统配件是美国制造商专业为大学和研究机构而研发的世界级领先产品，具有超高的精度和灵活性和多功能性，非常适合实验室多通途飞秒激光科学研究和微加工研究。 我们专注于超快激光的研究和应用，在全球率先开发出成熟的飞秒激光微细加工系统配件，使得超快激光技术在实验室中成熟，并成功用于工业生产，专业为科研机构的实验室而设计，配备高达纳米精度和分辨率的线性定位平台，配备超高性能的扫描振镜以及多功能的控制软件。 我们提供的参数配置是激光脉宽200fs--10ps,重复频率1-1000KHz, 平均功率高达12W， 波长1030nm, 515nm, 343nm, 258nm。 科研级微加工系统满足了科研人员的诸多应用，它可以直接安装到光学平台上，大大节省实验时间，并能够快速培训新操作人员。是科研机构进行激光微加工实验的不二选择。 这套系统是各种研究所进行激光微加工实验的理想选择。我们经验丰富的工程师可以与国内广大研究所合作，把我们的经验和知识与您共享，为您提供优质的用户定制化服务和产品。 提供的系统搭建服务： 1）提供精密的用户定制化的目标定位系统，还可以提供软件。 2）对飞秒激光器和定位系统进行集成和同步控制 3）提供用户友好界面的软件用于各种激光扫描和定位系统。 为工业/科研用户提供的定制化服务： 1）为广大客户提供用户定制化的飞秒激光微加工解决方案 2）如果您已经有飞秒激光器，我们可以为您提供自动化控制和同步控制以及精密定位等服务。 飞秒激光微细加工系统配件特色： *高速微加工 *亚微米分辨率处理高度复杂样品 *飞秒微加工模式对加工区的热影响最小化 * 纳米精度的定位 * 精密激光束传导系统 * 非常方便改变激光参数 * 软件控制所有的硬件 飞 飞秒激光微加工系统软件控制功能： * 控制XYZ定位平台 *控制扫描振镜 * 控制激光参数 * 控制机械视图 * 偏振态 * 控制激光在工作区的功率 应用 * 表面微结构加工，微纳结构加工，微结构构造，微纳结构构造； * 透明材料的折射率改变； * 太阳能面板加工； * 2.5D铣销加工 * 三维多光子聚合 * 光致刻蚀； * 激光划线 飞秒激光加工案例参考 强劲优势： * 高达4倍频的4种波长激光光源 * 改变聚焦光学器件 * 定位聚焦光束 × 自动聚焦光束到样品表面 * 自动确认样品的倾斜程度 * 对加工过程进行成像监控

安捷伦的自动溶出度测试解决方案是基于 Agilent 8453 分光光度计、 紫外-可见 ChemStation 软件以及由计算机控制的取样系统和溶出仪来实现。多家溶出度仪制造商提供紫外-可见 ChemStation 溶出度仪驱动。8453 自动化系统提供整个溶解运行序列的控制，包括测试准备和净化。可在线得到测试结果，具有分析多组分配方的能力。使用一台 8453 系统可以自动控制多达 4 台溶出度仪。安全软件包提供 21 CFR Part 11 法规认证所必需的工具。 开放式系统架构能够提供适用于几乎所有溶出度仪的接口。 可从手动进样离线分析扩展到全自动在线系统。 采用平行进样系统实现短于 2 分钟的快速测量周期。 良好实验室规范 (GLP) — 内置的测试和验证工具满足欧洲和美国药典的各项要求。 利用用户自定义的质量控制限值和结果进行在线测试，测试结果以表格和图示显示。 离线评估验收标准，其中可结合最多 4 次运行的结果。

特点：• 用于消除电子束曝光、SEM成像、FIB等工艺中的荷电效应• 通过旋涂的方式涂胶，操作简单• 涂胶厚度：40nm @ 4000rpm• 电子束曝光后可溶于水，非常容易去除，且不损伤衬底材料 • 对紫外光、电子束不敏感，无需黄光室 5090.02，适于PMMA、CSAR 62、 HSQ等； 5091.02，适于酚醛树脂基电子束光刻胶，如AR-N 7520导电性：[注]导电胶电阻测量实验结果：胶层越薄，电阻越大，导电性降低。 应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

特点：• 用于三维电子束曝光、混合曝光等• 感光波段：e-beam、deep UV(248 nm)• 紫外曝光波段： 负胶：248nm~265nm & 290nm~330nm • 化学放大胶，高灵敏度，低对比度( 1)• 良好的耐干法刻蚀能力旋涂曲线：应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

安捷伦Cary紫外-可见和紫外-可见-近红外分光光度计备件订货信息： 可换端头和其它备件 不锈钢探头的头适用于两类不锈钢浸入式探头——探头主体是不锈钢（部件号7910035700）或具有可换头的的不锈钢探头（部件号7910036500）。 Torlon 探头的头适用于探头主体为Torlon 的探头（部件号7910032600）或具有可换头的Torlon 光纤探头（部件号7910035100）。它们具有单杆设计以减少泡沫的形成。头的直径是7.9 毫米并且可在温度高达85 °C 的条件下进行操作。订货信息：

特点：• 用于耐刻蚀工艺、电镀、LIGA、MEMS等• 感光波段：Broadband UV、i-line(365nm) g-line(436nm)、 e-beam、X-ray、synchrotron• 涂胶厚度从几微米到上百微米不等• 覆盖能力强，分辨率高，图形边缘结构陡直• 化学放大胶，具有非常高的灵敏度• 可得到undercut结构，用于lift-off工艺• 可替代SU8胶 旋涂曲线： 应用实例：欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

上海屹持光电技术有限公司专业提供各种微纳结构加工服务典型案例： FIB加工微纳结构 紫外光刻微纳结构单晶硅反应离子刻蚀图片 ICP 刻蚀微纳结构 纳米压印点线图微流控细胞打印 EBL 刻写微纳阵列 FIB 用于器件电极沉积 激光直写图案激光直写器件微纳结构加工主要设备1，电子束曝光系统；2，聚焦离子束/ 扫描电子显微镜双束系统；3，双面对准接触式紫外光刻机；4， 单面对准紫外光刻机；5，金属高密度等离子体刻蚀机；6，硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机；7，反应等离子体刻蚀机；8，纳米压印机。

1、分析、定性： 　凡对紫外光敏感的物体，均可在ZF-401紫外线检测仪上进行分析，定性。但各种物质对紫外线波长的敏感又不同，故您在定货时，请选择您需要的，适合您工作的波长（254nm,310nm,365nm）如果您对物质敏感的波长不熟悉时，您可将以上三种波长的灯管都订上货，以便在研究时有充分的选择，免走弯路，而完成神圣的事业。另外选择合适的透射紫外线滤色片的面积，也很重要，如果紫外线滤色片面积大，而您的分析物小时，多余的紫外光将会炽坏你的面部和眼晴。如果紫外线滤色片的面积小而你的分析物大时，就没有充足的紫外光源通过您的分析物致使您的研究达不到预期效果（紫外线滤色片面积下祥）。 2、一般文献图表和纸层纸样的拍摄： 　先把随机所附的有机玻璃罩在仪器上放平，然后把要拍的样纸放在该罩上，打开可见光源开关，调节两侧光源位置和角度；相机安装在相机托架上，校正焦距、光圈、即可进行曝光拍摄。 3、DNA RNA电脉胶的拍摄 　向外移开两侧白炽灯，移开底座上的有机玻璃罩，把样品胶（如经EB染色的需装上红色滤色镜）直接放在紫外线滤色片上，在可见光下调好焦距（焦距略高于样品胶1-2mm），曝光时间自己掌握，关掉白炽灯，打开紫外灯，在暗下待紫外光稳定后即可拍摄。照相后，如发现有灯管影同时出现在底片上时，应考虑将短波紫外灯管换成波长较长的。例如：254nm换成310nm或365nm的灯管。

DR5000紫外可见光实验室分光光度计 hach(哈希)dr5000 提供了240 多种分析方法和化学试剂 HACH的DR5000 UV-VIS实验室分光光度计能够测试多种参数。同时HACH公司也能为您提供这些测试所需的所有的化学试剂 hach(哈希)dr5000 易于增加新的测试方法 一旦HACH公司发布了新的测试方法，DR5000分光光度计即可通过U 盘进行更新。 hach(哈希)dr5000 自动检索并运行分析方法 DR5000分光光度计有20 多种使用条形码的预置测试方法。DR5000能够自动读取条形码并检索合适的测试方法。测试时间大大缩短，同时也减少了可能发生的错误，从而提高了测试的效率，并增强了测试结果的可靠性。 稳定、准确 DR5000分光光度计的设计确保了测量结果的准确和稳定，并能保证测试结果的重现性。 可使用多种样品池 DR5000分光光度计的一个独立的多样品池适配器可以容纳5个普通的样品瓶，同时包括一个5cm路径长度的样品池。此外，可选的Pour-ThruTM 样品池工具非常适合于快速液体方法。如果需要增加测量的样品量，集成的圆盘存取元附件可以容纳7 个1cm的矩形样品池。 大触摸屏显示和界面 DR5000 分光光度计的大触摸屏显示使用直观、设计更人性化 专门为DR5000 分光光度计设计的TNTplus&trade 试剂 在DR5000分光光度计上使用TNTplusTM 试剂时，具有如下特点： ● 自动检索分析方法：DR5000分光光度计能自动读取条形码，调用合适的测量方法，进行测量。 ● 无需试剂空白。 ● 更加准确&mdash &mdash DR5000 分光光度计能在5 秒钟内进行10 个吸光率的测量，用平均值表示结果。 技术参数 操作模式 透光率（％），吸光度和浓度 光源 钨灯（可见光），氘灯（紫外光） 预置程序 240 多种用户程序 50 种 数据存储 2000 点 扫描数据存储 20 个扫描数据 输出能力 .csv（逗号分离数值）格式文件 波长范围 190～1100nm 波长准确度 ± 1nm 波长分辨率 0.1nm 波长校准 自动 波长选择 自动：仅限于选定的方法 手动 从触摸屏上选取，不包括存储的方法 扫描速度 每分钟一个完整的扫描，1nm 光谱带宽 2nm 光学量程 ± 3.0A 光学准确度 在0.0～0.5 A 时，为5mA；在0.50～2.0A 时，为1％ 光学线性 在2A 时，偏差小于5％ 大于2A 时，偏差小于或等于1％ 散射光 在220nm 处，大于3.3Abs 外壳等级 IP32 多种语言界面 英语、西班牙语、法语、德语、意大利语、葡萄牙语、汉语、韩语、日语、泰语、荷兰语、瑞典语、波兰语、丹麦语、匈牙利语、捷克语和俄语。 操作温度 0～40℃ 操作湿度 最大相对湿度为90％，无冷凝 存储要求 － 25℃～60℃，最大相对湿度为80%，无冷凝 电源100～120V 或200～240V；50/60Hz，自动转换 接口 USB 1.1 连接 USB Master 2 × USB Slave 1 × 样品池 1 × 1-cm，2 × 1-cm，5 × 1-cm，13 和16mm 圆形，AccuVac 1-in. 圆形，1-in. 圆形，1-in. 方形，玻璃的和塑料的，Pour －ThruTM 1-in 路径长度。 附件 1cm 样品池的进样系统内部的样品转换器（圆盘型）（7个矩形样品池，1 × 1-cm）Pour-ThruTM 样品池 打印机 USB（PCL 打印机） 个人电脑连接 USB 外部键盘 USB 外部条形码读取器 USB 串行接口 USB 到RS232 适配器 尺寸450 × 200 × 500mm 重量 15.5kg