紫外曝光光刻系统

横向赛曼石墨炉原子吸收光谱法在紫外正型光刻胶中的应用摘 要：随着电子技术的飞速发展，对紫外正型光刻胶的质量提出了极高的要求。因为紫外正型光刻胶中钙、铬、铜、铁、钾、镁、钠、镍、铅、锌的存在将严重影响器件的成品率、可靠性和电化学性。因此建立准确、快速的分析方法有一定的意义。对于光刻胶中金属的检测方法，有电感耦合等离子体-质谱法（ICP-MS）、电感耦合等离子体发射光谱法（ICP-AES），但是这两种方法光刻胶都需要经过湿法消解或者干法灰化后才可以进样。湿法消解或者干法灰化容易引起易挥发元素的损失，同时存在容器污染，酸基体或者其他试剂的污染，本底较高等问题。本文提出了用石墨炉原子吸收法（GFAA）直接测定紫外正型光刻胶中十种金属元素的方法，本方法不经任何化学处理和富集，减少了中间过程，避免了样品被污染。详细描述了仪器最佳条件选择、控制空白，建立标准曲线、加标回收、测定检出限的方法。钙、铬、铜、铁、钾、镁、钠、镍、铅、锌的检出限分别为0.07ng/ml、0.03ng/ml、0.15ng/ml、0.15ng/ml、0.01ng/ml、0.03ng/ml、0.05ng/ml、0.36ng/ml、0.14ng/ml、0.02ng/ml。石墨炉原子吸收法（GFAA）需要选择合适的溶剂稀释光刻胶，考虑到试剂对光刻胶的溶解性，试剂本身空白值的大小等因素，我们最终选择丙二醇甲醚醋酸脂（PGMEA）做稀释剂，稀释样品后直接进样。关键字：紫外正型光刻胶、金属、石墨炉原子吸收绪 论：光刻胶(又称光致抗蚀剂)是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X射线等光源的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。主要用于集成电路和半导体分立器件的微细加工，同时在平板显示、LED、倒扣封装、磁头及精密传感器等制作过程中也有着广泛的应用。由于光刻胶具有光化学敏感性，可利用其进行光化学反应，将光刻胶涂覆在半导体、导体和绝缘体上，经曝光、显影后留下的部分对底层起保护作用，然后采用蚀刻剂进行蚀刻就可将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工的衬底上。因此光刻胶是微细加工技术中的关键性化工材料。随着集成电路（IC）存储容量的逐渐增大，存储器电池的蓄电量需要尽能的增大，因此氧化膜变得更薄，而紫外正型光刻胶中的碱金属杂质(Na、[/size

光刻工艺光刻是用光刻胶、掩模和紫外光进行微制造 ,工艺如下 :(a)仔细地将基片洗净;(b)在干净的基片表面镀上一层阻挡层 ,例如铬、二氧化硅、氮化硅等;(c) 再用甩胶机在阻挡层上均匀地甩上一层几百 A厚的光敏材料——光刻胶。光刻胶的实际厚度与它的粘度有关 ,并与甩胶机的旋转速度的平方根成反比;(d) 在光掩模上制备所需的通道图案。将光掩模复盖在基片上,用紫外光照射涂有光刻胶的基片,光刻胶发生光化学反应;(e)用光刻胶配套显影液通过显影的化学方法除去经曝光的光刻胶。这样，可用制版的方法将底片上的二维几何图形精确地复制到光刻胶层上；(f) 烘干后 ,利用未曝光的光刻胶的保护作用 ,采用化学腐蚀的方法在阻挡层上精确腐蚀出底片上平面二维图形。掩模制备用光刻的方法加工微流控芯片时 ,必须首先制造光刻掩模。对掩模有如下要求：a.掩模的图形区和非图形区对光线的吸收或透射的反差要尽量大;b.掩模的缺陷如针孔、断条、桥连、脏点和线条的凹凸等要尽量少;c.掩模的图形精度要高。通常用于大规模集成电路的光刻掩模材料有涂有光胶的镀铬玻璃板或石英板。用计算机制图系统将掩模图形转化为数据文件，再通过专用接口电路控制图形发生器中的爆光光源、可变光阑、工作台和镜头，在掩模材料上刻出所需的图形。但由于设备昂贵，国内一般科研单位需通过外协解决，延迟了研究周期。由于微流控芯片的分辨率远低于大规模集成电路的要求，近来有报道使用简单的方法和设备制备掩模，用微机通过CAD软件将设计微通道的结构图转化为图象文件后，用高分辨率的打印机将图象打印到透明薄膜上，此透明薄膜可作为光刻用的掩模，基本能满足微流控分析芯片对掩模的要求。湿法刻蚀在光刻过的基片上可通过湿刻和干刻等方法将阻挡层上的平面二维图形加工成具有一定深度的立体结构。近年来，使用湿法刻蚀微细加工的报道较多，适用于硅、玻璃和石英等可被化学试剂腐蚀的基片。已广泛地用于电泳和色谱分离。湿法刻蚀的程序为 :(a) 利用阻挡层的保护作用，使用适当的蚀刻剂在基片上刻蚀所需的通道 ;(b) 刻蚀结束后 ,除去光胶和阻挡层，即可在基片上得到所需构型的微通道；(c)在基片的适当位置(一般为微通道的端头处)打孔，作为试剂、试样及缓冲液蓄池。刻有微通道的基片和相同材质的盖片清洗后，在适当的条件下键合在一起就得到微流控分析芯片。玻璃和石英湿法刻蚀时，只有含氢氟酸的蚀刻剂可用，如HF/HNO3，HF/ NH4。由于刻蚀发生在暴露的玻璃表面上，因此，通道刻的越深，通道二壁的不平行度越大 ,导至通道上宽下窄。这一现象限制了用湿法在玻璃上刻蚀高深宽比的通道。等离子体刻蚀等离子体刻蚀是一种以化学反应为主的干法刻蚀工艺，刻蚀气体分子在高频电场作用下，产生等离子体。等离子体中的游离基化学性质十分活泼，利用它和被刻蚀材料之间的化学反应，达到刻蚀微流控芯片的目的。等离子体刻蚀已应用于玻璃、石英和硅材料上加工微流控芯片 , 如石英毛细管电泳和色谱微芯片。先在石英基片上涂上一层正光胶 (爆光后脱落的光胶)，低温烘干后，放置好掩模，用紫外光照射后显影，在光胶上会产生微结构的图象。然后用活性CHF3等离子体刻蚀石英基片 ,基片上无光胶处会产生一定的深度通道或微结构。这样可产生高深宽比的微结构。近来，也有将等离子体刻蚀用于加工聚合物上的微通道的报道。http://www.whchip.com/upload/201610/1477271936108203.jpg

各位兄弟姐妹， 我们实验室买了一台紫外光刻机，但是没有买配的真空泵，我需要采购一台用来吸掩膜板和基片的吸气泵，请问买什么类型，多大力量的合适。有没有在用的告知一下效果？

各位老师，同学。文献介绍说金属粉末颗粒分散在photo-resist solution AZ135O中，80℃+5h的加加热条件，然后凝结，光刻胶可以包裹颗粒。用于制备微米级粉末的TEM试样。在网上查了一下，紫外光刻胶，说AZ系列是国外的，所以请问各位，为了实现我的目的，是否有同类型的国产的紫外光刻胶可以代替AZ135O。谢谢

光刻加工工艺中为了图形转移，辐照必须作用在光刻胶上，通过改变光刻胶材料的性质，使得在完成光刻工艺后，光刻版图形被复制在圆片的表面。而加工前，如何选用光刻胶在很大程度上已经决定了光刻的精度。尽管正性胶的分辨力是最好的，但实际应用中由于加工类型、加工要求、加工成本的考虑，需要对光刻胶进行合理的选择。 划分光刻胶的一个基本的类别是它的极性。光刻胶在曝光之后，被浸入显影溶液中。在显影过程中，正性光刻胶曝过光的区域溶解得要快得多。理想情况下，未曝光的区域保持不变。负性光刻胶正好相反，在显影剂中未曝光的区域将溶解，而曝光的区域被保留。正性胶的分辨力往往是最好的，因此在IC制造中的应用更为普及，但MEMS系统中，由于加工要求相对较低，光刻胶需求量大，负性胶仍有应用市场。　　光刻胶必须满足几个硬性指标要求：高灵敏度，高对比度，好的蚀刻阻抗性，高分辨力，易于处理，高纯度，长寿命周期，低溶解度，低成本和比较高的玻璃化转换温度（Tg）。主要的两个性能是灵敏度和分辨力。大多数光刻胶是无定向的聚合体。当温度高于玻璃化转换温度，聚合体中相当多的链条片以分子运动形式出现，因此呈粘性流动。当温度低于玻璃化转换温度，链条片段的分子运动停止，聚合体表现为玻璃而不是橡胶。当Tg低于室温，胶视为橡胶。当Tg高于室温，胶被视为玻璃。由于温度高于Tg时，聚合体流动容易，于是加热胶至它的玻璃转化温度一段时间进行退火处理，可达到更稳定的能量状态。在橡胶状态，溶剂可以容易从聚合体中去除，如软烘培胶工艺。但此时胶的工作环境需要格外关注，当软化胶温度大于Tg时，它容易除去溶剂，但也容易混入各种杂质。一般来说，结晶的聚合体不会用来作为胶，因为结晶片的构成阻止均一的各向同性的薄膜的形成。　　感光胶的主要成分是树脂或基体材料、感光化合物以及可控制光刻胶机械性能并使其保持液体状态的溶剂。树脂在曝光过程中改变分子结构。感光化合物控制树脂定相的化学反应速度。溶剂使得胶能在圆片上旋转擦敷并形成薄瞙。没有感光化合物的光刻胶称为单成分胶或单成分系统，有一种感光剂的情形下，称为二成分系统。因为溶剂和其他添加物不与胶的感光反应发生直接关系，它们不计入胶的成分。　　在曝光过程中，正性胶通过感光化学反应，切断树脂聚合体主链和从链之间的联系，达到削弱聚合体的目的，所以曝光后的光刻胶在随后显影处理中溶解度升高。曝光后的光刻胶溶解速度几乎是未曝光的光刻胶溶解速度的10倍。而负性胶，在感光反应过程中主链的随机十字链接更为紧密，并且从链下坠物增长，所以聚合体的溶解度降低。见正性胶在曝光区间显影，负性胶则相反。负性胶由于曝光区间得到保留，漫射形成的轮廓使显影后的图像为上宽下窄的图像，而正性胶相反，为下宽上窄的图像。微流控芯片刻蚀如何选择光刻胶呢？一般来说线宽的用正胶,线窄的用负胶! 相对而言，正性光刻胶比负性的精度要高，负胶显影后图形有涨缩，负性胶限制在2~3μm.，而正性胶的分辨力优于0.5μm 导致影响精度，正性胶则无这方面的影响。虽然使用更薄的胶层厚度可以改善负性胶的分辨率，但是薄负性胶会影响针孔。同种厚度的正负胶，在对于抗湿法和腐蚀性方面负胶更胜一筹，正胶难以企及。汶颢科技提供AZ、SU_8、及其他系类光刻胶的供应与技术参数。注意事项：①若腐蚀液为碱性，则不宜用正性光刻胶；②看光刻机型式,若是投影方式,用常规负胶时氮气环境可能会有些问题③负性胶价格成本低，正性胶较贵；④工艺方面：负性胶能很好地获得单根线，而正性胶可获得孤立的洞和槽；⑤健康方面：负性胶为有机溶液处理，不利于环境；正性胶属于水溶液，对健康、环境无害。

请教各位专家：为什么我们的紫外可见分光光度计（尤尼柯）在扫描系统基线和自动校准满刻度的时候，仪器噪声特别大！是什么原因造成的？请专家帮忙解释一下？在此感激不尽~

[size=6][b][size=5][font=宋体]我要投稿摘[/font][font='Times New Roman','serif'] [/font][font=宋体]要：[/font][font='Times New Roman','serif'][/font][/size][/b][/size][size=4][font=宋体]随着电子技术的飞速发展，对紫外正型光刻胶的质量提出了极高的要求。因为紫外正型光刻胶中钙、铬、铜、铁、钾、镁、钠、镍、铅、锌的存在将严重影响器件的成品率、可靠性和电化学性[/font][/size][sup][size=4][font='Times New Roman','serif'][1][/font][/size][/sup][size=4][font=宋体]。因此建立准确、快速的分析方法有一定的意义。对于光刻胶中金属的检测方法，有电感耦合等离子体[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']-[/font][/size][size=4][font=宋体]质谱法（[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif'][url=https://insevent.instrument.com.cn/t/yp][color=#3333ff]ICP-MS[/color][/url][/font][/size][size=4][font=宋体]）[/font][/size][sup][size=4][font='Times New Roman','serif'][2,3][/font][/size][/sup][size=4][font=宋体]、电感耦合等离子体发射光谱法（[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']ICP-AES[/font][/size][size=4][font=宋体]），但是这两种方法光刻胶都需要经过湿法消解或者干法灰化后才可以进样。湿法消解或者干法灰化容易引起易挥发元素的损失，同时存在容器污染，酸基体或者其他试剂的污染，本底较高等问题。本文提出了用石墨炉[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]法（[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']GFAA[/font][/size][size=4][font=宋体]）直接测定紫外正型光刻胶中十种金属元素的方法，本方法不经任何化学处理和富集，减少了中间过程，避免了样品被污染。详细描述了仪器最佳条件选择、控制空白，建立标准曲线、加标回收、测定检出限的方法。钙、铬、铜、铁、钾、镁、钠、镍、铅、锌的检出限分别为[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.07ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.03ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.15ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.15ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.01ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.03ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.05ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.36ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.14ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]、[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']0.02ng/ml[/font][/size][size=4][font=宋体]。[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif'][/font][/size][size=4][font=宋体]石墨炉[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Wp][color=#3333ff]原子吸收[/color][/url]法（[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']GFAA[/font][/size][size=4][font=宋体]）需要选择合适的溶剂稀释光刻胶，考虑到试剂对光刻胶的溶解性，试剂本身空白值的大小等因素，我们最终选择丙二醇甲醚醋酸脂（[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif']PGMEA[/font][/size][size=4][font=宋体]）做稀释剂，稀释样品后直接进样。[/font][/size][size=4][font='Times New Roman','serif'][/font][/size]

[color=#000000]国产电子束光刻机实现自主可控，是实现我国集成电路产业链自主可控的重要一环。近日，松山湖材料实验室精密仪器联合工程中心产业化项目研发再获新突破：项目团队成功研制出[b]电子束光刻系统[/b]，在全自主电子束光刻机整机的开发与产业化过程中取得阶段性进展，初步实现了电子束光刻机整机的自主可控，标志着[b]国产电子束光刻机研发与产业化迈出关键一步。[/b][/color][color=#000000]电子束光刻是利用聚焦电子束对某些高分子聚合物（电子束光刻胶）进行曝光并通过显影获得图形的过程，而产生聚焦电子束并让聚焦电子束按照设定的图形扫描的仪器就叫做电子束光刻机。它是推动我们当前新材料、前沿物理研究、半导体、微电子、光子、量子研究领域的重要手段之一。此前，全球电子束光刻机市场高度集中，主要由美日企业垄断，我国尚未掌握该领域核心技术，装备长期依赖进口。[/color][color=#000000]松山湖材料实验室精密仪器研发团队作为首批入驻实验室的团队之一，专注于材料和半导体领域的精密加工、表征和测量设备研发。团队负责人许智已从事相关研究近20年，参与承担多项国家重点研发计划专项工作及国家重大科研装备研制项目，近5年带领产业化团队研发的精密仪器成果转化填补多项国产空白，产值超亿元，产品出口美国、英国、德国、澳大利亚。[/color][color=#000000]为了研制具有自主知识产权的电子束光刻机整机，精密仪器研发团队在松山湖材料实验室完成一期项目研发并成立产业化公司后，带资回到实验室进入“滚动发展”模式：产业化公司东莞泽攸精密仪器有限公司与实验室共同投资2400万元进行第二阶段研发，目标是打造集科研与产业化为一体的电子束装备技术创新基地。通过深入开展电子束与新材料交叉领域的前沿技术研发，实现关键装备和共性技术的自主可控，切实提升我国在电子束加工与制备领域的整体创新能力和产业竞争力。[/color][color=#000000]目前，东莞泽攸精密仪器有限公司已基于自主研制的扫描电镜主机，完成电子束光刻机工程样机研制，并开展功能验证工作。通过对测试样片的曝光生产，可以绘制出高分辨率的复杂图形，朝着行业先进水平稳步前进。该成果标志着泽攸科技在电子束光刻机关键技术和整机方面的自主创新能力获得重大提升。下一步，团队及产业化公司将持续完善电子束光刻机的性能指标，使其达到批量应用及产业化的要求。[/color][来源：松山湖材料实验室][align=right][/align]

光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，不同光刻机的成像比例不同，有5:1，也有4:1。然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图（即芯片）。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片，线路图的层数越多，也需要更精密的曝光控制过程。现在最先进的芯片有30多层。http://www.whchip.com/upload/201608/1471850877761920.png 上图是一张光刻机的简易工作原理图。下面，简单介绍一下图中各设备的作用。测量台、曝光台：承载硅片的工作台，也就是本次所说的双工作台。光束矫正器：矫正光束入射方向，让激光束尽量平行。能量控制器：控制最终照射到硅片上的能量，曝光不足或过足都会严重影响成像质量。光束形状设置：设置光束为圆型、环型等不同形状，不同的光束状态有不同的光学特性。遮光器：在不需要曝光的时候，阻止光束照射到硅片。能量探测器：检测光束最终入射能量是否符合曝光要求，并反馈给能量控制器进行调整。掩模版：一块在内部刻着线路设计图的玻璃板，贵的要数十万美元。掩膜台：承载掩模版运动的设备，运动控制精度是nm级的。物镜：物镜由20多块镜片组成，主要作用是把掩膜版上的电路图按比例缩小，再被激光映射的硅片上，并且物镜还要补偿各种光学误差。技术难度就在于物镜的设计难度大，精度的要求高。硅片：用硅晶制成的圆片。硅片有多种尺寸，尺寸越大，产率越高。题外话，由于硅片是圆的，所以需要在硅片上剪一个缺口来确认硅片的坐标系，根据缺口的形状不同分为两种，分别叫flat、notch。内部封闭框架、减振器：将工作台与外部环境隔离，保持水平，减少外界振动干扰，并维持稳定的温度、压力。

[font=微软雅黑, sans-serif]一具体原因：样品室放入空白后做基线记忆，噪声较大，紫外区尤甚。[/font][font=微软雅黑, sans-serif]原因：比色皿表面或内壁被污染、使用了玻璃比色皿或空白样品对紫外光谱的吸收太强烈，使放大器超出了校正范围。[/font][font=微软雅黑, sans-serif]检查：将波长设定为250nm，先在不放任何物品的状态下调零，然后将空比色皿插入样品道一侧，此时吸光值应小于0.07Abs；如果大于此值，有可能是比色皿不干净或使用了玻璃比色皿；同样方法也可判断空白溶液的吸光值大小。[/font][font=微软雅黑, sans-serif][/font][font=微软雅黑, sans-serif]处置：更换比色皿；更换空白液[/font]二[align=left][font=&][color=#ff0000][b]紫外区噪声大的另一个重要原因是氘灯能量下降，尤其是采用半导体硅光二极管作为检测器的的中低档的仪器上尤为明显。[/b][/color][/font][font=&]这是因为：半导体二极管检测器的灵敏度特性在紫外区极低；这就是该检测器的一个短板。关于该类型检测器的灵敏度特性曲线见下图所示：[/font][img=,288,281]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2022/06/202206221219214905_2223_1602290_3.jpg!w288x281.jpg[/img][font=&]从上图可以看出：该类型检测器的灵敏度在紫外区极低，也就是信噪比最差的区域；280nm处世最低波长点；而900nm是灵敏度最高点。所以此类检测器的动态范围不是很宽的。但是其检测器的价格便宜且不怕室内光引起的“曝光”。[/font][font=&]而光电倍增管检测器的灵敏度特性曲线见下图：[/font][img=,399,487]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2022/06/202206221230448573_4784_1602290_3.jpg!w399x487.jpg[/img][font=&]从上图可以看出光电倍增管的灵敏度在紫外区是比较高的，400nm处是一个最高点；但是其后在800nm处却成了一个衰减的拐点，所以要想检测大于1100nm以上的波长的样品，只能使用硫化铅检测器了。但是作为紫外——可见分光光度计，大部分样品的检测波长范围均在900nm以下居多，偶尤其是紫外区居多。为此，一般高档仪器的检测器均使用光电倍增管的初衷亦在于此。但是由于该检测器灵敏度较高，因此很怕被直接曝光而造成灵敏度的下降。为了防止曝光故在样品室的入光口均设置了光闸；只有当样品是的盖子合上以后，光闸才能被开启。[/font]三[font=&][b][color=#ff0000]紫外区噪声大还有一个常见的故障，那就是光路中的带通滤光器（片）表面受潮或受到腐蚀，从而造成透过率下降所致，[/color][/b]见下图：[/font][img=,690,517]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2022/06/202206231528480916_2678_1602290_3.jpg!w690x517.jpg[/img][font=&]从上图可以看出，紫色和蓝色的带通光片是负责400nm以下光谱通过的。如果这两片滤光片表面受潮便可以引起透过率下降，从而造成信噪比下降，于是噪声便随之加大。解决办法：需要用专用研磨膏打磨抛光。四[font=&][color=#ff0000][b]样品的浓度过高或者前处理不彻底致使溶液里的悬浮物颗粒过多过大，均可造成噪声大。[/b][/color][/font]五[font=&][color=#ff0000][b]另外，光学反射镜（例如光源镜）表面劣化或者光学透镜（例如石英窗）表面不洁，均可造成噪声大。[/b][/color][/font][/font][/align]

[align=center][font='方正小标宋简体'][size=29px]紫外可[/size][/font][font='方正小标宋简体'][size=29px]-[/size][/font][font='方正小标宋简体'][size=29px]见分光光度计[/size][/font][/align][align=center][font='方正小标宋简体'][size=29px]使用心得[/size][/font][/align][align=left][/align][align=left][font='仿宋'][size=21px]TU-1950紫外可[/size][/font][font='仿宋'][size=21px]-[/size][/font][font='仿宋'][size=21px]见分光光度计[/size][/font][font='仿宋'][size=21px]是实验室常规分析仪器，操作简单，性能还是比较稳定的。我们中心2017年购置，到现在6年了，一直没有出现故障，可是最近突然出现了问题。[/size][/font][/align][align=left][font='仿宋'][size=21px]一开始是做熟肉中亚硝酸盐时平行样品和加标回收都不好，平行样品实测差超过20%，回收率只做到72%，之前平行样品实测差一般都在5%以内，回收率在90%以上。但标准曲线线性还可以。接连复查了两次，结果都不太好。一直以为是实验过程中操作有问题，根本没有怀疑仪器出现故障。恰恰此时，接到省职防院水溶液中氨的质控考核样品，使用纳氏试剂分光光度法测定。加完试剂显色稳定后进行比色，在调零时发现调零后示值不稳定，会从0.000跳到0.001或0.002，比色池盖子掀起来和盖下去示值相差比较大，同一样品比色完毕接着重复比色示值相差也比较大，标准曲线低浓度比色示值甚至跳管，较高浓度的吸光值反而低。我们怕环境湿度大对仪器有影响（之前的岛津紫外出现过湿度大无法开机现象），又持续开机预热，除了开着空调除湿，还开了除湿机，又反复试了几次，仪器校准能顺利通过，但仪器示值依然不稳。这才确定是仪器出了问题。[/size][/font][font='仿宋'][size=21px]咨询工程师，怀疑是滤光片雾化。工程师过来后，先排除了氘灯和钨灯的问题，又做了波长校正和暗电流校正，打开仪器查看滤光片，有些许雾化，不影响使用。工程师忙了整整一个上午，对仪器进行了深度的维护，再测试，发现仪器示值稳定了。[/size][/font][/align][align=left][font='仿宋'][size=21px]通过这次[/size][/font][font='仿宋'][size=21px]紫外可[/size][/font][font='仿宋'][size=21px]-[/size][/font][font='仿宋'][size=21px]见分光光度计[/size][/font][font='仿宋'][size=21px]故障的排除，我们得到了很多启示，在仪器使用过程中一定要注意维护以延长其使用使用寿命。在[/size][/font][font='仿宋'][size=21px]TU-1950紫外可[/size][/font][font='仿宋'][size=21px]-[/size][/font][font='仿宋'][size=21px]见分光光度计[/size][/font][font='仿宋'][size=21px]使用过程中一定要注意的问题：[/size][/font][/align][align=left]1、 [font='仿宋'][size=21px]仪器每次使用完毕需要认真用棉签或棉球擦拭干净比色池和比色架，保持比色系统洁净无尘无污染；[/size][/font][/align][align=left]2、 [font='仿宋'][size=21px]使用完擦拭干净的比色池旁边放一小包用纱布包着的硅胶防潮；[/size][/font][/align][align=left]3、 [font='仿宋'][size=21px]每次比色完毕后拿出比色皿，把波长调至660nm，使螺杆归位后再关机；[/size][/font][/align][align=left]4、 [font='仿宋'][size=21px]每半年或一年做一次波长校正和暗电流校正，波长校正时比色池不放比色皿，暗电流校正时样品路要放遮光皿。[/size][/font][/align][align=left][font='仿宋'][size=21px] 这是我在使用[/size][/font][font='仿宋'][size=21px]TU-1950紫外可[/size][/font][font='仿宋'][size=21px]-[/size][/font][font='仿宋'][size=21px]见分光光度计[/size][/font][font='仿宋'][size=21px]的[/size][/font][font='仿宋'][size=21px]一些心得，大家有什么不同看法或好的建议，我们可以交流讨论。[/size][/font][/align]

紫外分光光度计根本作业原理和红外光谱仪类似，使用必定频率的紫外可见光照耀被剖析的有机物质，导致分子中价电子的跃迁，它将有挑选地被吸收。一组吸收随波长而改变的光谱，反映了试样的特征。在紫外可见光的范围内，关于一个特定的波长，吸收的程度正比于试样中该成分的浓度，因而测量光谱可以进行定性剖析，而且根据吸收与已知浓度的标样的对比，还能进行定量剖析。　　紫外-可见分光光度计　　紫外-可见分光光度计的类型很多，但可概括为三种类型，即单光束分光光度计、双光束分光光度计和双波长分光光度计。　　1、单光束分光光度计　　经单色器分光后的一束平行光，轮番经过参比溶液和样品溶液，以进行吸光度的测定。这种简便型分光光度计结构简略，操作方便，维修容易，适用于惯例剖析。　　2、双光束分光光度计　　经单色器分光后经反射镜分解为强度持平的两束光，一束经过参比池，一束经过样品池。光度计能主动对比两束光的强度，此比值即为试样的透射比，经对数变换将它变换成吸光度并作为波长的函数记载下来。　　双光束分光光度计通常都能主动记载吸收光谱曲线。由于两束光一起别离经过参比池和样品池，还能主动消除光源强度改变所导致的差错。　　3、双波长分光光度计　　由同一光源宣布的光被分红两束，别离经过两个单色器，得到两束不同波长1和2 的单色光;使用切光器使两束光以必定的频率替换照耀同一吸收池，然后经过光电倍增管和电子控制系统，最后由显示器显示出两个波利益的吸光度差值。关于多组分混合物、混浊试样(如生物组织液)剖析，以及存在布景搅扰或共存组分吸收搅扰的情况下，使用双波长分光光度法，通常能进步办法的灵敏度和挑选性。使用双波长分光光度计，能取得导数光谱。　　经过光学系统变换，使双波长分光光度计能很方便地转化为单波长作业方式。假如能在1和2处别离记载吸光度随时刻改变的曲线，还能进行化学反应动力学研讨.

仪器名称：紫外/可见分光光度计系统仪器型号：Lambda 25 生产厂家：perkinElmer使用方法：开机步骤1 开光谱仪电源2 开计算机电源3 在文件管理器中用鼠标指按UV WinLab图标，此时出现UV WinLab的应用窗口，仪器已准备好，可选用适当方法进行分析操作。2 方法：在分析中必须对分光光度计设定一些必要的参数，这些参数的组合就形成一个“方法”。Lambda系列UV WinLab软件预设四类常用方法。1）扫描（SCAN）,用以进行光谱扫描。2）时间驱动（TIME DRIVER）,用以观察一定时间内某种特定波长处纵坐标值的变化，如酶动力学。3）波长编程（WP）用以在多个波长下测定样品在一定时间内的纵坐标值变化，并可以计算这些纵坐标值的差或比值。4）浓度（CONC）用以建立标准曲线并测定浓度。2.1 进入所需方法，在方法窗口中选择所需方法的文件名。2.2 方法的设定 2.2.1 扫描、波长编程及时间驱动 各项方法可根据显示的参数表，逐项按需要选用或填入，并可参考提示。 2.2.2 浓度 浓度方法窗口下方标签较多，说明做浓度测定时需要参数较多。用鼠标指按每一标签，可翻出下页，其上有一些需要测定的参数。必须逐页设定。3 工具条 3.1 SETUP 当所需的各项参数都已在参数中设好后，必须用鼠标指按SETUP，才能将仪器调整到所设状态。 3.2 AUTOZERO 用鼠标指按此键，分光光度计即进行调零（在光谱扫描中则进行基线校正）。 3.3 START 用鼠标指按此键，光度计即开始运行所设定的方法。4 方法运行 4.1 扫描，时间驱动，波长编程 方法选好后，先放入参比溶液，按AUTOZERO键，进行自自动校零或背景校正结束后再放入样品，按START，分光光度计即开始进行，同时屏幕上出现图形窗口，将结果显示出来。

紫外分光光度计特点和主要用途： 紫外可见光谱仪涉及的波长范围是0.2--0.8微米（对应波数50000-12500厘米-1），它在有机化学研究中得到广泛的应用。通常用作物质鉴定、纯度检查，有机分子结构的研究。在定量方面，可测定结构比较复杂的化合物和混合物中各组分的含量，也可以测定物质的离解常数，络合物的稳定常数，物质分子量鉴别和微量滴定中指示终点以及在高效液相色谱中作检测器等。紫外分光光度计产品优点：. 采用1200条/mm高性能光栅。新型的光源控制系统，使仪器光源切换更快速。. 精确的2nm带宽，使测试数据更准确。使用进口长寿命光源，使仪器光源切换更快速。. 特有的波长控制系统，使波长精度更高。改良的光学系统，使测试更准确。. 采用进口的光点转换器，使仪器的灵敏度更高。. 新型的微电脑数据处理系统。使仪器的使用更简便，稳定性也很好。. 可选配各类附件，使仪器的扩展性更好。紫外分光光度计原理 紫外分光光度计就是利用物质对不同波长光的选择性吸收现象对物质进行定性和定量分析，通过对吸收光谱的分析，判断物质的内部结构及化学组成的原理，将传统的设计制造经验与现代精密光学和最新微电子等高新科学技术合理地结合在一起，研制开发的具有当代先进水平的新型分光光度计。是化工、医疗、生化、冶金、轻工、材料、环保、食品，制药以及教学等行业的必备仪器。采用经改良的低杂散光，高分辨率的单光束光路以及简捷、可靠的结构设计，使仪器具有良好的单色性、稳定性、重现性和精确的测量读数。仪器的光谱带宽可满足大多数分析测试项目的要求。

紫外及可见光分光光度计的可测波长范围为200一1000 nm，也有波长范围为200- 400 nm的[url=http://www.chinanoted.com/]紫外分光光度计[/url]，但前者较为普遍。紫外及可见光分光光度计的构造原理与可见光分光光度计(如721型分光光度计)相似。由于玻璃吸收紫外光，因此单色器要用石英棱镜或光栅。(一)光a(light source)有钨丝灯及氢灯(或氛灯)两种。可见光区(360一1000 nm)使用钨丝灯 紫外光区 (200一360 nm)则用氢灯或氛灯。(二)吸收池(absorption cell)由于玻璃吸收紫外光.吸收池要用石英材质。(三)检浏器(detector)检侧器使用两只光电管，一为氧化艳光电管，用于625一1000 nm波长范围 另一只是锑艳光电管，用于200一625 nm波长范围。光电倍增管亦为常用的检测器，其灵敏度比一般的光电管高2个数量级。图8一22是紫外及可见光分光光度计原理图。[img=,452,200]http://www.yi7.com/file/upload/201201/10/15-02-26-80-3596.jpg[/img]紫外及[url=http://www.chinanoted.com/]可见光分光光度计[/url]分单光束和双光束型。单光束型仪器使用前一般需要预热以使仪器稳定，缺点是难以消除与补偿由于光源与电子测量系统不稳定等所引致的误差。双光束型仪器能够消除与补偿由于光源、电子测量系统不稳定等所引致的误差，所以其测盘的精确度就提高了。双光束型仪器的工作原理如图8一23所示。[img]http://www.yi7.com/file/upload/201201/10/15-02-26-97-3596.jpg[/img]其工作原理可描述为:由光源(钨丝灯氘灯，根据波长而变换使用)发出的光经人口狭缝及反射镜反射至石英棱镜或光栅，色散后经过出口狭缝而得到所需波长的单色光束。然后由反射镜反射至由马达转动的调制板及扇形镜上。当调制板以一定转速旋转时，时而使光束通过，时而挡住光束，因而调制成一定频率的交变光束。之后扇形镜在旋转时，将此交变光束交替地投射到参比溶液(空白溶液)及试样溶液上，后面的光电倍增管接受通过参比溶液及为试样溶液所减弱的交变光通量，并使之转变为测量信号。此信号经放大并用解调器分离及整流，然后以电位器自动平衡此两直流信号的比率，并依照记录器记录得到吸收曲线。

那位高人有紫外可见分光光度计在公安，刑警系统等方面应用的资料呢？麻烦您支持俺一些，可发邮件给我olina.zhang410@yahoo.com.cn.非常感谢！！

氙灯紫外分光光度计的优点1. 氙灯紫外光度计无需预热，直接测量，可以节省大量的操作时间2. 氙灯紫外光度计扫描速度特别快，因此非常适合快速波长样品扫描的客户3. 氙灯紫外光度计连续工作时间长，10亿次闪烁的脉冲氙灯可持续使用7年4. 氙灯紫外光度计的用氙灯做光源，测量范围190nm~1100nm,不需要进行灯源转换5. 氙灯紫外光度计可以进行样品池开盖检测，一个是使用起来比较方便，另外最重要的是解决了特大样品和异形样品的用户的检测难题。6. 氙灯紫外光度计的多波长测量十分精确真实7. 氙灯紫外光度计的模块化、低能耗、低电压的移动适配系统，可以进行移动分析和现场分析8. 氙灯紫外光度计的能量非常强，因此可以测定光敏感度比较弱的样品，使得超微量样品的测量变得轻而易举9. 氙灯紫外光度计低耗环保节能，没有次生污染，并且智能化程度非常高，面板可以进行直接操控。10. Windows CE6.0操作系统，内置USB2.0、以太网接口、WIFI网卡，兼容各类应用软件。仪器可连接电脑、打印机、手机、Pad等数码产品。用户无需外设电脑，通过7英寸彩色触摸屏体验强大的应用分析功能11. 强大的数据存储功能，可储存200万条以上的分析测试数据。http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif

最近公司想另购一台紫外可见分光光计，性能好，稳定。其它一些具体要求：至少带双光束光学系统；能放10~100mm比色皿；配有软件可储存数据及打印报告等一些基本功能。拜托大家有好的意见共享下，谢谢

爱丁堡仪器实时双光束紫外可见分光光度计DS5

紫外分光光度计组成的简介紫外分光光度计 1．光源：钨灯或卤钨灯——可见光源 350～1000nm氢灯或氘灯——紫外光源 200～360nm 2．单色器：包括狭缝、准直镜、色散元件其中色散元件：1.棱镜——对不同波长的光折射率不同分出光波长不等距2.光栅——衍射和干涉分出光波长等距3．吸收池：玻璃——能吸收UV光，仅适用于可见光区石英——不能吸收紫外光，适用于紫外和可见光区要求：匹配性（对光的吸收和反射应一致）4．检测器：将光信号转变为电信号的装置1）光电池2）光电管3）光电倍增管4）二极管阵列检测器5．记录装置：讯号处理和显示系统

紫外—可见分光光度分析法一、基本要求掌握：本章要求掌握分光光度法的特点、基本原理、测定方法及计算方法；分子吸收光谱与电子跃迁类型，物质对光的选择吸收与吸收光谱曲线，摩尔吸收系数与吸收系数，吸光度与透光度，偏离朗伯-比尔定律的原因；掌握显色反应条件及光度测量条件的选择；掌握紫外—可见分光光度计的主要部件，各部件的作用及仪器原理，主要类型及特点；掌握差示分光光度法的原理、特点。理解：物质分子结构与紫外吸收光谱的关系，吸收波长位移与分子结构变化的关系；紫外—可见分光光度定量分析影响结果准确度的各种因素。了解：了解紫外—可见分光光度法测定灵敏度和选择性的途径；双波长分光光度法等其它分光光度法定量测定的方法；紫外—可见分光光度法在有机化合物的结构解析方面的作用及在其他方面的应用。二、 基本概念与重点内容A概述 1．紫外—可见分光光度法的特点 灵敏度与准确度较高；选择性较好；设备简单、操作简便。 2．分光光度法的发展过程 目视比色法 光电比色法 分光光度法 3． 分子的紫外—可见吸收光谱 分子的紫外—可见吸收光谱是基于物质分子吸收紫外辐射或可见光，其外层电子跃迁而成，又称分子的电子跃迁光谱。紫外—可见分光光度法是基于物质分子的紫外—可见吸收光谱而建立的一种定性、定量分析方法。4． 光的基本性质 5．物质对光的吸收及吸收光谱6．紫外—可见吸收光谱与电子跃迁类型7．生色团与助色团B 光的吸收定律1．光吸收的基本定律（朗伯-比尔定律）2．吸光度与透光率、百分透光率之间的关系3．工作曲线的绘制与应用4．吸光系数、摩尔吸光系数和桑德尔灵敏度5． 偏离朗伯-比尔定律的因素C紫外-可见分光光度计1． 分光光度计的主要部件2． 在紫外和可见光区进行测量时，分别选择何种光源3． 单色器的主要元件 光栅；棱镜4． 分光光度计中的检测器类型早期：光电池；光电管；光电倍增管。 5．紫外-可见分光光度计的类型及特点D显色测定试样的制备和光度测定条件的选择、1．显色反应及其影响因素2．测定读数误差和测定条件的选择 5．入射波长的选择E 分光光度定量测定方法与其他应用 1．单组分的测定 通常采用 A-C 标准曲线法定量测定。 2.多组分的同时测定 3．紫外可见吸收光谱在有机化合物结构解析中的作用 了解共轭程度、空间效应、氢键等；可对饱和与不饱和化合物、异构体及构象进行判别。在有机化合物结构解析中，紫外可见吸收光谱没有红外吸收光谱提供的结构信息多。 4．紫外—可见吸收光谱中有机物发色体系信息分析的一般规律

这两天在做方法，同一种东西，一个用紫外分光光度计做，另一个显色，用可见光分光光度计做，有点感想和疑惑，现在写出来，大家共同探讨。背景：使用同一台分光光度计，里面有两个灯，分别作紫外和可见光，用的是一个石英比色皿，流动泵。1.可见光的结果很稳定，紫外的波动很大，稀释效应很明显。不知道大家是用紫外的时候有这种现象么，总的来说，要做仲裁方法，还是可见光得更好，更稳定，紫外的要差很多。2.紫外的也有优点，那就是实验过程大大简化了，因为不需要显色这个步骤了，更能节约时间，相对来说，虽然可见光的结果稳定，但过程复杂了很多，如何取舍，也是个问题。3.不知道不同的紫外分光光度计之间的系统差别大么，和可见光的光度计的系统误差相比，哪个更大？4.要做好紫外，需要注意哪些方面？

上海精科紫外可见分光光度计（UV754N版本1.6）说明书

[color=red]Vip用户 format 在 紫外－可见分光光度计版 被 shime 禁止发帖 7 天，被封原因：在紫外版灌水，行为非常恶劣。系统将会在 2005-4-5 自动解封，如有什么意见，请在投诉建议版投诉，特此通告！！ --------仪器论坛管理员[/color]

紫外可见分光光度分析基础知识总结绝大多数的物质都有其本身的特征光谱，利用物质的特征光谱对光的吸收来测量物质的含量可称为比色分析和分光光度分析。承担这些分析的仪器有光电比色计、紫外可见分光光度计、红外分光光度计及原子吸收分光光度计。液相色谱仪中的紫外检测器实际上就是一种特殊的紫外分光光度计，其工作原理与紫外分光光度计完全相同。紫外分光光度分析的特点 灵敏度高，最小检测浓度约10－5～10 －6mol/L相当于1ppm 准确度高，相对误差约2％～3％ 操作简便、分析速度快，一个分析结果约 应用广泛，有机物和无机物均可分析 缺点：对复杂有机物的分析能力