当前位置: 仪器信息网 > 行业主题 > >

薄膜反射测量系统

仪器信息网薄膜反射测量系统专题为您提供2024年最新薄膜反射测量系统价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括薄膜反射测量系统参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的薄膜反射测量系统您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合薄膜反射测量系统相关的耗材配件、试剂标物,还有薄膜反射测量系统相关的最新资讯、资料,以及薄膜反射测量系统相关的解决方案。

薄膜反射测量系统相关的仪器

  • 薄膜太阳电池QE测试专用系统 SCS10-Film适用范围: 非晶硅薄膜电池、CIGS 薄膜电池、CdTe 薄膜电池、非晶/ 微晶双结薄膜电池、非晶/ 微晶/微晶锗硅三结薄膜电池等光谱范围:300~1700nm电池结构:单结、多结太阳电池可测参数:光谱响应度、外量子效率、反射率、透射率、内量子效率、短路电流密度可测样品面积:300mm×300mm● 集成一体化turnkey系统● 大面积薄膜电池测试专用● 超大样品室,光纤传导● 背面电极快速连接● 反射率、内外量子效率同步测试● 快速高效售后服务 SCS10-Film系统规格 光源150W高稳定性氙灯,光学稳定度≤0.4%,光纤传导测试光斑尺寸2mm~10mm可调单色仪三光栅DSP扫描单色仪波长范围300nm~1700nm波长准确度±0.2nm(@1200g/mm,500nm)扫描间隔最小可达0.1nm,默认设置10nm输出波长带宽0.1nm~10nm可调,默认设置5nm多级光谱滤除装置根据波长自动切换,消除多级光谱的影响光调制频率4~400Hz标准探测器进口Si光电探测器,含校正测试报告数据采集装置灵敏度直流模式:100nA;交流模式:2nV测量重复精度0.6%( 400~1000nm范围0.3%)测量速度单次光谱响应扫描 1min 完整流程扫描 5min(扫描间隔10nm)样品加持探针样品台,156mm×156mm,特殊样品台可定制*Mapping扫描速度:20点/s(@0.5mm step)分辨率:0.5mm仪器尺寸主机:;样品室:控制机柜:800mm×600mm×1300mm计算机及软件系统含工控计算机、显示器、鼠标、键盘,正版windows 7操作系统,系统软件安装光盘
    留言咨询
  • 太阳能电池量子效率测试系统——SolarCellScan100系列系统功能系统可以实现测试太阳电池的:光谱响应度、外量子效率、内量子效率、反射率、透射率、短路电流密度、量子效率Mapping、反射率Mapping。系统适用范围1、适用于各种材料的太阳电池包括:单晶硅Si、多晶硅mc-Si、非晶硅α-Si、砷化镓GaAs、镓铟磷GaInP、磷化铟InP、锗Ge、碲化镉CdTe、铜铟硒CIS、铜铟镓硒CIGS、染料敏化DSSC、有机太阳电池Organic Solar Cell、聚合物太阳电池Polymer Solar Cell 等2、适用于多种结构的太阳电池包括:单结Single junction、多结multi junction、异质结HIT、薄膜thin film、高聚光HPV 等不同材料或不同结构的太阳电池,在测试过程中会有细节上的差异。比如说:有机太阳电池的测试范围主要集中在可见光波段,而GaAs 太阳电池的测试范围则很可能扩展到红外1.4um 甚至更长波段;单晶硅电池通常需要测内量子效率,而染料敏化太阳电池通常只需要测外量子效率;有机太阳电池测试通常不需要加偏置光,而多结非晶硅薄膜电池则需要加偏置光……SolarCellScan100 通过主机与各种附件的搭配,可以实现几乎所有种类电池的测试。这种模块化搭配的方式,适合科研用户建立测试平台。 选型列表:型号名称和说明主机SCS1011太阳能电池量子效率测量系统,含直流、交流测量模式,氙灯光源SCS1012太阳能电池量子效率测量系统,含直流测量模式,氙灯光源SCS1013太阳能电池量子效率测量系统,含直流、交流测量模式,溴钨灯光源SCS1014太阳能电池量子效率测量系统,含直流测量模式,溴钨灯光源SCS1015太阳能电池量子效率测量系统,含直流、交流测量模式,氙灯溴钨灯双光源SCS1016太阳能电池量子效率测量系统,含直流测量模式,氙灯溴钨灯双光源附件QE-A1偏置光附件,150W氙灯QE-A2偏置光附件,50W溴钨灯QE-B1标准太阳电池(单晶硅)QE-B1-SP标准太阳电池QE-B2标准铟镓砷探测器(800-1700nm,含标定证书)QE-B3标准硅探测器(300-1100nm,含标定证书)QE-B4标准铟镓砷探测器(800-2500nm,含标定证书)QE-B7透过率测试附件(300-1100nm)QE-B8透过率测试附件(800-1700nm)QE-BVS偏置电压源(±10V可调)QE-C2漫反射率测试附件(300-1700nm)QE-C7标准漫反射板QE-D1二维电动调整台QE-D2手动三维调整台QE-IV-Convertor短路电流放大器专用机型介绍系统功能部分太阳能应用方向的研究人员需要测量量子效率,但本身却不是光电测量方面的行家,卓立汉光在测量平台SolarCellScan100的基础上,进一步开发出以下几套极具针对性的专用机型配置,方便客户使用。以下的专用配置也适合产业化的工业客户使用。1、通用型太阳电池QE测试系统SCS100-Std系统特点符合IEC60904-8国际标准;测量结果高重复性;内外量子效率测量功能;快速导入参数功能;适用于科研级别小样品测试适用范围: 晶体硅电池、非晶硅薄膜电池、染料敏化电池、CdTe薄膜电池、CIGS薄膜电池等; 光谱范围: 300~1100nm; 电池结构: 单结太阳电池; 可测参数: 光谱响应度、外量子效率、内量子效率、反射率、短路电流密度; 可测样品面积: 30mm×30mm 2.通用型太阳电池QE测试系统SCS100-Exp系统特点符合IEC60904-8国际标准;测量结果高重复性;高度自动化测量;双光源设计;红外光谱范围扩展;薄膜透过率测试功能;小面积、大面积样品测试均适用;适用范围: 晶体硅电池、非晶硅薄膜电池、染料敏化电池、有机薄膜电池、CdTe薄膜电池、CIGS薄膜电池、三结砷化镓GaAs电池、非晶/微晶薄膜电池等; 光谱范围: 300~1700nm; 电池结构: 单结、多结太阳电池; 可测参数: 光谱响应度、外量子效率、内量子效率、反射率、透射率、短路电流密度; 可测样品面积: 156mm×156mm以下 3.晶体硅太阳电池测试专用系统 SCS100-Silicon系统特点集成一体化turnkey系统晶体硅电池测试专用内外量子效率测试快速Mapping扫描功能快速高效售后服务适用范围: 单晶硅电池、多晶硅电池 光谱范围: 300~1100nm 电池结构: 单结太阳电池 可测参数: 光谱响应度、外量子效率、反射率、内量子效率、短路电流密度、*量子效率Mapping、*反射率mapping 可测样品面积: 156mm×156mm 4.薄膜太阳电池QE测试专用系统 SCS100-Film系统特点集成一体化turnkey系统;大面积薄膜电池测试专用;超大样品室,光纤传导;背面电极快速连接;反射率、内外量子效率同步测试;快速高效售后服务。适用范围: 非晶硅薄膜电池、CIGS薄膜电池、CdTe薄膜电池、非晶/微晶双结薄膜电池、非晶/微晶/微晶锗硅三结薄膜电池等; 光谱范围: 300~1700nm ; 电池结构: 单结、多结太阳电池; 可测参数: 光谱响应度、外量子效率、反射率、透射率、内量子效率、短路电流密度; 可测样品面积: 300mm×300mm 5.光电化学太阳电池测试专用系统 SCS100-PEC系统特点光电化学类太阳电池专用配置方案;直流测量模式;低杂散光暗箱;电解池样品测试附件;经济型价格适用范围: 染料敏化太阳电池; 光谱范围: 300~1100nm; 电池结构: 光电化学相关的纳米晶太阳电池; 可测参数: IPCE; 可测样品面积: 50mm×50mm
    留言咨询
  • 透射、反射/吸收光谱测量系统介绍 透射、反射/吸收率是光学元件(如光学材料、滤光片、镀膜等)与多种生活材料(玻璃、布料、汽车贴膜等)的重要光学特性指标,我公司ZLX-AS系列 透射、反射/吸收光谱测量系统正是针对此应用需求,而设计的高集成度,自动化的测量系统,它能帮助研发人员或品管人员在实验室轻易、快捷的完成透射率/反射率的光谱测试。系统组成:光源系统+分光系统+样品检测系统+数据采集及处理系统+软件系统+计算机系统■ ZLX-AS系列吸收、透射/反射光谱测量系统
    留言咨询
  • 薄膜的光学特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射测量系统可以用来进行10nm~250µ m的膜厚分析测量,对单层膜的分辨率为0.1nm。根据测量软件的不同,可以分析单层或多层膜厚。产品特点 1、可分析单层或多层薄膜2、分辨率达0.1nm3、适合于在线监测操作理论最常用的两种测量薄膜的特性的方法为光学反射和透射测量、椭圆光度法测量。NanoCalc利用反射原理进行膜厚测量。查找n和k值可以进行多达三层的薄膜测量,薄膜和基体测量可以是金属、电介质、无定形材料或硅晶等。NanoCalc软件包含了大多数材料的n和k值数据库,用户也可以自己添加和编辑。应用NanoCalc薄膜反射材料系统适合于在线膜厚和去除率测量,包括氧化层、中氮化硅薄膜、感光胶片及其它类型的薄膜。NanoCalc也可测量在钢、铝、铜、陶瓷、塑料等物质上的抗反射涂层、抗磨涂层等。
    留言咨询
  • 光反射薄膜测厚仪原产国:美国薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉,干涉的发生与膜厚及折光系数等有关,因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、精确且快速的光学薄膜厚度测量技术,我们的薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。该产品是一款价格适中、功能强大的膜厚测量仪器,近几年,每年的全球销售量都超过200台。根据型号不同,测量范围可以从10nm到250um,它最高可以同时测量4个膜层中的3个膜层厚度(其中一层为基底材料)。该产品可应用于在线膜厚测量、测氧化物、SiNx、感光保护膜和半导体膜。也可以用来测量镀在钢、铝、铜、陶瓷和塑料等上的粗糙膜层。 应用领域理论上讲,我们的光干涉膜厚仪可以测量所有透光或半透光薄膜的厚度。以下为我们最熟悉的应用领域(半导体薄膜,光学薄膜涂层,在线原位测量,粗糙或弧度表面测量):□ 晶片或玻璃表面的介电绝缘层(SiO2, Si3N4, Photo-resist, ITO, ...);□ 晶片或玻璃表面超薄金属层(Ag, Al, Au, Ti, ...);□ DLC(Diamond Like Carbon)硬涂层;SOI硅片;□ MEMs厚层薄膜(100μm up to 250μm);□ DVD/CD涂层;□ 光学镜头涂层;□ SOI硅片;□ 金属箔;□ 晶片与Mask间气层;□ 减薄的晶片( 120μm);□ 瓶子或注射器等带弧度的涂层;□ 薄膜工业的在线过程控制;等等… 软件功能丰富的材料库:操作软件的材料库带有大量材料的n和k数据,基本上的常用材料都包括在这个材料库中。用户也可以在材料库中输入没有的材料。软件操作简单、测速快:膜厚测量仪操作非常简单,测量速度快:100ms-1s。软件针对不同等级用户设有一般用户权限和管理者权限。软件带有构建材料结构的拓展功能,可对单/多层薄膜数据进行拟合分析,可对薄膜材料进行预先模拟设计。软件带有可升级的扫描功能,进行薄膜二维的测试,并将结果以2D或3D的形式显示。软件其他的升级功能还包括在线分析软件、远程控制模块等。
    留言咨询
  • 耐驰 NanoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 应用领域:可测量基片上金属、陶瓷、聚合物薄膜的热物性参数,如热扩散系数、热导率、吸热系数和界面热阻。 耐驰 NanoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 产品特点:- 精确的微米级薄膜导热测量方法- 可提供RF测量模式(后加热-前检测)和FF测量模式(前加热-前检测)- Nano TR遵循国际校准标准 耐驰 NanoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 技术参数:Nano TR温度范围RT,RT … 300°C(选配)测量模式RF/FF样品尺寸10×10 … 20×20mm薄膜厚度30nm … 20μm(取决于样品种类和测量模式)热扩散系数0.01 … 1000mm2/s主激光脉冲宽度 1ns光束直径 100μm激光功率 100mW详细参数,敬请垂询 *价格范围仅供参考,实际价格与配置、汇率等若干因素有关。如有需要,请向当地销售咨询。我们讲竭尽全力为您制定完善的解决方案。
    留言咨询
  • 薄膜计量光谱反射仪 400-860-5168转5919
    RM 1000 和 RM 2000 光谱反射仪可测量表面光滑或粗糙的平面或弯曲样品的反射率。使用SENTECH FTPadv Expert软件计算单膜或层叠的厚度、消光系数和折射率。厚度分别为 2 nm 和 50 μm (RM 2000) 或 100 μm (RM 1000) 的单片、层叠和基板可以在 UV-VIS-NIR 光谱范围内进行分析。主要功能与优势突破折光率测量的极限SENTECH反射仪通过样品的高度和倾斜调整以及光学布局的高光导率,具有精密的单光束反射率测量功能,允许对n和k进行可重复的测量,在粗糙表面上进行测量,以及对非常薄的薄膜进行厚度测量。紫外到近红外光谱范围马币 1000 410 纳米 – 1000 纳米马币 2000 200 纳米 – 1000 纳米高分辨率映射RM 1000 和 RM 2000 反射仪可选配 x-y 成像台和成像软件以及用于小光斑尺寸的物镜。灵活性和模块化SENTECH RM 1000 和 RM 2000 代表我们的反射仪。桌面设备包括高度稳定的光源、带有自动准直望远镜和显微镜的反射光学器件、摄像机、高度和倾斜度可调的样品平台、光谱光度计和电源。它可以选配 x-y 成像台和成像软件,以及用于第二种光斑尺寸的物镜。除了薄膜厚度和光学常数外,薄膜的组成(例如氮化镓上的AlGaN,硅上的SiGe),增透膜(例如在纹理硅太阳能电池上,紫外线敏感的GaN器件)以及小型医疗支架上的涂层都可以通过我们的反射仪进行测量。这些反射仪支持微电子、微系统技术、光电子、玻璃涂层、平板技术、生命科学、生物技术等领域的应用。用于我们的反射仪 RM 1000 / 2000 的综合性、以配方为导向的 SENTECH FTPadv EXPERT 软件包括测量设置、数据采集、建模、拟合和报告。已经内置了一个包含预定义、客户验证和即用型应用程序的广泛数据库。“自动建模”选项允许从光谱库中自动选择样本模型。基于SENTECH在椭圆偏振光谱方面的专业知识,庞大的材料库和各种色散模型使我们的光谱反射仪能够分析几乎所有的材料和薄膜。操作员可以很容易地使用新的光学数据更新数据库。SENTECH通过椭圆偏振光谱法测量具有未知光学特性的新材料,为客户提供支持。
    留言咨询
  • FTPadv Expert薄膜测量软件具有FTPadv标准软件中包含的用户友好和以配方为导向的操作概念。突出显示拟合参数、测量和计算的反射光谱以及主要结果的光学模型同时显示在操作屏幕上。主要功能与优势n、k 和厚度的测量该软件包设计用于 R(λ) 和 T(λ) 测量的高级分析。多层分析可以测量单层薄膜和层叠的每一层的薄膜厚度和折射率。大量的色散模型集成色散模型用于描述所有常见材料的光学特性。通过使用快速拟合算法改变模型参数,将计算出的光谱调整为测量的光谱。灵活性和模块化SENTECH FTPadv Expert 软件包用于光谱数据的高级分析,根据反射和透射测量结果确定薄膜厚度、折射率和消光系数。它扩展了SENTECH FTPadv薄膜厚度探头的标准软件包,适用于更复杂的应用,包括光学特性未知或不稳定的材料。可以在光滑或粗糙、透明或吸收性基材上测量单个透明或半透明薄膜的薄膜厚度、折射率和消光系数。该软件允许分析复杂的层堆栈,并且可以确定堆栈的每一层的参数。我们的FTPadv Expert薄膜测量软件具有FTPadv标准软件中包含的用户友好和以配方为导向的操作概念。突出显示拟合参数、测量和计算的反射光谱以及主要结果的光学模型同时显示在操作屏幕上。该软件包包括一个大型且可扩展的材料库,该库基于表格材料文件以及参数化色散模型。FTPadv Expert 软件可选用于膜厚探头 FTPadv,以及反射仪 RM 1000 和 RM 2000 软件包的一部分。
    留言咨询
  • 耐驰 PicoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 应用领域:可测量基片上金属、陶瓷、聚合物薄膜的热物性参数,如热扩散系数、热导率、吸热系数和界面热阻。 耐驰 PicoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 产品特点:- 精确的纳米级薄膜导热测量方法- 可提供RF测量模式(后加热-前检测)和FF测量模式(前加热-前检测)- Pico TR遵循国际校准标准 耐驰 PicoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 技术参数:Pico TR温度范围RT,RT … 500°C(选配)测量模式RF/FF样品尺寸10×10 … 20×20mm薄膜厚度10 … 900nm(取决于样品种类和测量模式)热扩散系数0.01 … 1000mm2/s主激光脉冲宽度 0.5ps光束直径 45μm激光功率 20mW详细参数,敬请垂询 *价格范围仅供参考,实际价格与配置、汇率等若干因素有关。如有需要,请向当地销售咨询。我们讲竭尽全力为您制定完善的解决方案。
    留言咨询
  • 反射高能电子衍射仪(ReflectionHigh-Energy Electron Diffraction)是观察晶体生长最重要的实时监测工具。它可以通过非常小的掠射角将能量为10~30KeV的单能电子掠射到晶体表面,通过衍射斑点获得薄膜厚度,组分以及晶体生长机制等重要信息。因此反射高能电子衍射仪已成为MBE系统中监测薄膜表面形貌的一种标准化技术。  R-DEC公司生产的反射式高能电子衍射仪,以便于操作者使用的人性化设计,稳定性和耐久性以及拥有高亮度的衍射斑点等特长得到日本国内及海外各研究机构的一致好评和认可。用于有机薄膜晶体结构检测。世界首创!欢迎来电询问详细技术资料!
    留言咨询
  • 台式薄膜探针反射仪 FTPadvFTPadv是一种具有成本效益的台式反射膜厚仪解决方案,它具有非常快速的厚度测量。在100毫秒以内进行测量,其精度低于0.3nm,膜厚范围在50 nm -25 μm。为了便于分光反射测量操作,该仪器包括了范围广泛的预定配方。 简易的膜厚测量通过选择合适的配方,FTPadv反射仪以小于100ms的测量速度、精度小于0.3nm、厚度范围为50nm-25μm的精度进行厚度测量。 独特的自动建模通过测量反射光谱和光谱数据库的比较,将测量误差减到很小。 光谱椭偏SE为基础的材料数据库基于SENTECH精确的椭偏光谱测量的大型材料库为测量新材料的光学常数提供了配方。 应用二十年来,SENTECH已经成功地销售了用于各种应用的薄膜厚度探针FTPadv。这种台式反射仪的特点是不管在低温或高温下,在工业或研发环境中,都能通过远程或直接控制,对小样品或大样品进行实时或在线厚度测量。 台式反射仪FTPadv精确、可重复地测量反射和透明衬底上透明和弱吸收膜的厚度和折射率。FTPadv可以结合在显微镜上,或者配备有稳定的光源,用于测量厚度达到25 μm (根据要求可更厚)的膜层。更具备了从SENTECH光谱椭偏仪经验中受益的预定义的、经由客户验证的、以及随时可以使用的应用程序的广泛数据库。 FTPadv的特征在于对来自叠层样品的任何膜层的厚度进行测量,使得FTPadv成为膜厚测量的理想成本效益的解决方案。用于工艺控制的FTPadv包括具有采样器的光纤束、具有卤素灯的稳定光源以及FTP光学控制站。局域网连接到PC允许了远程控制的FTPadv在工业应用,如恶劣环境,特殊保护空间或大型机械。 反射仪FTPadv带有大量预定义的配方,例如半导体上的介质膜、半导体膜、硅上的聚合物、透明衬底上的膜、金属衬底上的膜等等。独特的自动建模,这特性允许通过与光谱库的快速比较来检测样本类型。该反射仪将操作误差减到很小。用光学反射法测量膜厚从未如此容易。 SENTECH FTPadv菜单驱动的操作软件允许单层和叠层结构的厚度测量,具有极好的操作指导。此外,它还具有强大的分析工具和出色的报告输出功能。附加的自动扫描软件可用于控制电动样品台。将软件升级到用于反射测量的高级分析的软件包FTPadv EXPERT,即可应用于具有未知或不恒定光学特性的材料。因此,单层薄膜厚度测量以及折射率和消光系数分析是可实现的。 SENTECH FTPadv菜单驱动的操作软件允许单层和叠层结构的厚度测量,具有极好的操作指导。此外,它还具有强大的分析工具和出色的报告输出功能。附加的自动扫描软件可用于控制电动样品台。将软件升级到用于反射测量的高级分析的软件包FTPadv EXPERT,即可应用于具有未知或不恒定光学特性的材料。因此,单层薄膜厚度测量以及折射率和消光系数分析是可实现的。
    留言咨询
  • 热反射(Thermo-Reflectance)方法基于超高速激光闪射系统,可测量基片上金属、陶瓷、聚合物薄膜的热物性参数,如:热扩 散系数、导热系数、吸热系数(Thermal Effusivity)和界面热阻。由于激光闪射时间仅为纳秒(ns)量级,甚至可达到皮秒(ps) 量级,此系统可测量厚度低至 10nm 的薄膜。同时,系统提供不同的测量模式,以适应不同的基片情况(透明 / 不透明)。 NETZSCH TR 特性:• 该方法符合日本国家标准:• JIS R 1689:通过脉冲激光热反射方法测量精细陶瓷薄膜的热扩散系数;• JIS R 1690:陶瓷薄膜和金属薄膜界面热阻的测量方法 。发展简史1990 年,日本产业技术综合研究所/日本国家计量院(AIST/NMIJ)发明热反射法,测量薄膜导热性能。2008 年,AIST 设立 PicoTherm 公司。2010 年,PicoTherm 公司推出纳秒级热反射系统 NanoTR。2012 年,PicoTherm 公司推出皮秒级热反射系统 PicoTR。2014 年,PicoTherm 公司和 NETZSCH 公司建立战略合作。由 NETZSCH 负责 PicoTherm 产品在全球的销售和服务。技术背景激光闪射法 -最主流的材料热扩散系数测试方法在现代工业中,关于材料的热性能、特别是热物理性能的相关知识变得日益重要。在这里我们可以举出一些典型领域,例如应用于高性能缩微电子器件的散热材料,作为持续能源的热电材料,节能领域的绝热材料,涡轮叶片中所使用的热障涂层(TBC),以及核工厂的安全操作,等等。在各种热物性参数之中,导热系数显得尤其重要。可以使用激光闪射法(LFA)对材料的热扩散系数/导热系数进行测定。这一方法经过许多年的发展已广为人知,可以提供可靠而精确的数据结果。样品的典型厚度在 50um 至 10mm 之间。NETZSCH 是一家世界领先的仪器制造厂商,提供一系列的热物性测试仪器,特别是激光闪射法导热仪。这些 LFA 系统在陶瓷,金属,聚合物,核研究等领域得到了广泛应用。热反射法 -测试厚度为纳米级的薄膜材料的热扩散系数随着电子设备设计的显著进步,以及随之而来的对有效的热管理的需求,在纳米级厚度范围内进行精确的热扩散系数/导热系数测量已经变得越来越重要。日本国家先进工业科学与技术研究所(AIST),在上世纪 90 年代初即已响应工业需求,开始研发“脉冲光加热热反射法”。于 2008 年成立了 PicoTherm 公司,同时推出了纳秒级的热反射仪器“NanoTR”与皮秒级的热反射仪器“PicoTR”,这两款仪器可对薄膜的热扩散系数进行绝对法的测量,薄膜厚度从数十微米低至纳米级范围。2014 年,NETZSCH 日本分公司成为了 PicoTherm 公司的独家代理。与我们现有的 LFA 仪器相结合,NETZSCH 现在可以提供从纳米级薄膜、到毫米级块体材料的全套的测试方案。为什么需要测试薄膜?薄膜的热性能与块体材料的热性能不同纳米级薄膜的厚度通常小于同类块体材料典型的晶粒粒径。由此,其热物理性能与块体材料将有着显著的不同。测量模式超快速激光闪射法 -RF 模式:后部(Rear)加热 / 前部(Front)探测可测试热扩散系数与界面热阻纳米级薄层与薄膜的热透过时间极短,传统的激光闪射法(LFA)使用红外测温,采样频率相对较低,已不足以有效地捕捉纳米级薄膜的传热过程。因此需要一种新的更快速的检测方式,可以克服经典的激光闪射法的技术局限。这一被称为超快速激光闪射法的技术,其典型模式为后部加热/前部探测方法。这一方式的测量结构与传统的 LFA 方法相同:样品制备于透明基体之上,测量方向为穿过样品厚度、与样品表面垂直。由加热激光照射样品的下表面,由探测激光检测样品上表面的传热温升过程。随着样品检测面的温度逐渐上升,其表面热反射率会相应发生变化。使用探测激光按一定采样频率对检测面进行照射,利用反射率的变化可获取检测面的温度上升曲线。基于该曲线进行拟合计算,可得到热扩散系数(如下图所示)。这里,金属薄膜(Mo)的热扩散系数测量结果为 15.9 mm2/s。时间域热反射法 -前部加热 / 前部探测(FF)测定热扩散系数与吸热系数除了 RF 方法之外,测量也可以使用前部加热/前部探测(FF)的结构进行。“Front”一词这里指的是沉积于基体上的薄膜的外表面,而“Rear”一词指的是薄膜与基体接触的一面。在 FF 测量配置中(如下图所示),加热激光与探测激光处于样品的同一面。加热激光加热的是薄膜的前表面的一个直径为几十微米的区域,探测激光则指向同一位置,观察在照射之后表面温度的变化。这一方法可以应用于非透明基体上的薄层材料,即 RF 方法不适合的场合。在下图的示例中,使用 FF 模式,金属薄膜(Mo)的热扩散系数测量结果为 16.1 mm2/s。结果证明了 RF 与 FF 模式之间结果高度的一致性(偏差2%)。NanoTR 原理NanoTR 具有先进的信号处理技术,可以进行高速的测量。测试过程中,一束脉冲宽度 1ns 的激光脉冲被周期性(间隔20us)地照射到样品的加热面上。使用探测激光记录检测面相应的温度响应。通过在极短时间内进行大量的重复测试,对重复信号进行累加,可以获得优异的信噪比。通过软件,仪器可以方便地在 RF 与 FF 两种测试方式之间进行切换,由此适合于各种类别的样品。NanoTR 遵从 JIS R 1689,JIS R 1690 标准,提供具有热扩散时间标准值的薄膜标样(RM1301-a),使结果具有 SI 可回溯性。该标样由 AIST 提供。PicoTR 原理对于皮秒级热反射分析仪 PicoTR,照射到样品的加热面上的是脉冲宽度仅为 0.5ps 的激光脉冲,重复周期为 50ns。使用探测激光,记录检测面相应的温度响应。PicoTR 允许用户在 RF 与 FF 两种模式之间进行自由切换。PicoTR 符合 JIS R 1689,JIS R 1690 标准。技术参数仪器型号NanoTRPicoTR温度范围RT,RT … 300°C(选配)RT,RT … 500°C(选配)测量模式RF/FFRF/FF样品尺寸10 × 10mm … 20 × 20mm10 × 10mm … 20 × 20mm薄膜厚度30nm … 20μm (取决于样品种类和测量模式)10nm … 900nm (取决于样品种类和测量模式)热扩散系数0.01 … 1000mm2/s0.01 … 1000mm2/s主激光脉冲宽度 1ns 光束直径 100μm 激光功率 100mW脉冲宽度 0.5ps 光束直径 45μm 激光功率 20mW
    留言咨询
  • UV3 CMOS 紫外光谱系统, (紫外氙灯+紫外光谱仪+探头)它结合了CMOS紫外光谱仪和氙气光源,以实现经济高效的解决方案。CMOS紫外光谱仪组合氙光源来自JPN的CMOS探测器来自美国/德国的硬件1.集成的紫外光谱系统,它提供了一个完整的解决方案,将CMOS光谱仪与氙灯相结合,方便用户测量2.稳定的紫外线测量,高性能氙气闪烁灯,特别是在紫外线区域,使其测量稳定3.低成本,整个集成系统降低复杂性, 是一个完整的紫外测量方案.UVS3系列亮点CMOS探测器在UV紫外段性能良好高灵敏度在紫外线区域波长范围180-500nm,200-400nm信噪比800:1 *snr=(信号-噪声)/偏差集成氙气光源降低系统复杂度具成本效益的紫外线光谱系统支持扩展SDK,支持二次开发SMA905光接口完整的UVS3系统测量附件,如流通池USB接口用途紫外分光光度计紫外光谱测量紫外光谱仪紫外吸收光谱法紫外吸光度,吸光度测量透射率,透射系数测量水质,总氮测量吸光度计算,浓度计算使用朗伯比尔定律,可以计算液体的浓度或者含量蛋白质浓度测量定量分析测量应用举例一:膜厚测量薄膜干涉测厚是一种非接触式测量薄膜厚度的方法。它利用光的干涉原理,通过测量干涉光的波长变化来确定薄膜的厚度。薄膜干涉色测量法:薄膜受到入射光的照射后,反射光根据薄膜的厚度和折射率的不同而产生干涉色。利用干涉色的变化可以确定薄膜的厚度。测试步骤软件控制氙灯关闭,采集光谱设备电子噪声软件控制氙灯打开,用反射探头采集光谱信号,通过测量反射光的强度变化,并利用干涉公式计算薄膜的厚度薄膜干涉测厚方法具有测量快速、高精度、非接触等优点,广泛应用于半导体制造、光学材料、涂层工艺等领域.
    留言咨询
  • 产品简介:TF200薄膜厚度测量系统利用薄膜干涉光学原理,对薄膜进行厚度测量及分析。用从深紫外到近红外可选配的宽光谱光源照射薄膜表面,探头同位接收反射光线。TF200根据反射回来的干涉光,用反复校准的算法快速反演计算出薄膜的厚度。测量范围1nm-3mm,可同时完成多层膜厚的测试。对于100nm以上的薄膜,还可以测量n和k值。产品型号TF200-VISTF200-EXRTF200-DUVTF200-XNIR主要特点快速、准确、无损、灵活、易用、性价比高应用领域半导体(SiO2/SiNx、光刻胶、MEMS,SOI等)LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亚酰胺ITO等)LED (SiO2、光刻胶ITO等)触摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率测试等)汽车(防雾层、Hard Coating DLC等)医学(聚对二甲苯涂层球囊/导尿管壁厚药膜等) 波长范围380-1050nm380-1700nm190-1100nm900-1700nm厚度范围50nm-40um50nm-300um1nm-30um10um-3mm准确度(取决于材料0.4%或2nm之间取较大者)2nm2nm1nm10nm精度0.2nm0.2nm0.2nm3nm入射角90°90°90°90°样品材料透明或半透明透明或半透明透明或半透明透明或半透明测量模式反射/透射反射/透射反射/透射反射/透射光斑尺寸(可选微光斑附件。)2mm2mm2mm2mm是否能在线是是是是扫描选择XY可选XY可选XY可选XY可选
    留言咨询
  • 自动绝对反射率测量系统可以测量绝对反射率和透射率,也可同时改变样品的入射角。 适用于测量太阳能电池元件、半导体、薄膜、光学元件、光学器件等各种固态样品的光谱特性和膜厚。 通过旋转样品台来设置入射角,通过滑动积分球来控制光接收角。 此外,入射角和接收角可以在异步模式下单独设置。 此外,还可以通过指定 P 和 S 偏振并任意设置偏振片的角度来研究样品的偏振特性。&bull 样品室及内部结构图中显示了自动绝对反射率测量单元的内部图 1 和图 2。 通过旋转样品台和检测器,可以改变入射角和光接收角, 样品台和检测部分由PC控制,透射率和绝对反射率可以在同一系统中进行评估。&bull 防窥视膜的视角测量随着在智能手机或其他设备屏幕上的防窥膜具有盲人状结构,其中透明层和遮光层交替排列,因此无法从左右、顶部和底部等看到屏幕。 由于这种结构,视角会随着着色层的高度和间距而变化。 评估此类结构的视角和透射率的最佳方法是使用绝对反射率测量单元,该单元可以将样品旋转到指定角度并测量光谱。在这里,我们介绍了测量智能手机防窥视膜透射光谱的角度依赖性的结果(产品规格:65度视角)。 图 4 显示了以 60 度间隔对入射角 &minus 60~20度进行光谱测量获得的间隔数据,图 5 显示了 550 nm 处透射率的角度依赖性。 从图4可以看出,在±32.5度左右的薄膜标称视角下,透光率约为5%,几乎没有透光
    留言咨询
  • Mprobe 20 薄膜测量系统 (单点测量)姓名:魏工(David)电话:(微信同号)邮箱:MProbe 20是一款用于薄膜厚度测量的桌面系统,在世界范围内有成千上万的应用。它测量薄膜厚度和折射率只需鼠标点击。厚度从1nm 1mm,包括多层膜层,可以快速和可靠地测量。不同的MProbe 20模型主要由光谱仪的波长范围和分辨率来区分,这又决定了可以测量的材料的厚度范围和类型。该测量技术基于光谱反射率,具有快速、可靠、无损等特点。Mprobe 20 产品实图:Mprobe 20 不同配置与厚度范围:包括:主单元(包括光谱仪、光源、光控制器、微处理器)SH200A样品台,带对焦镜头,可微调光导纤维反射探头TFCompanion -RA软件、USB适配器(授权密钥)、USB记忆棒附带软件发行、用户指南等资料根据型号和黑色吸收体的不同,校准装置(裸硅片和/或石英板和/或铝镜)测试样品200nm的氧化硅或PET薄膜,视型号而定USB或LAN线(用于连接主机和PC)24VDC电源适配器(110/220V)核心指标:精度:0.01nm或0.01%(在200nm的氧化物上测量100次)精度:1nm或0.2%(依赖于filmstack)稳定性: 0.02nm或0.2%(每天测量20天)光斑大小: 1毫米样本尺寸:= 10mm参见下面小册子中MProbe 20薄膜厚度测量系统可用配置的详细规格波长选配清单:MProbe 20 波长范围规格厚度范围VIS400nm -1100nmF3 Ariel Spectrometer, 2048/4096 pix cmos, 16 bit ADC, 5W Tungsten-Halogen lamp10nm – 75 μmUVVISSR200nm -1100nmF4 Spectrometer, 2048 pix (backthinned),16 bit ADC 20W TH lamp, 30W Deuterium short-ark lamp1nm -75μmVISHR700nm-1700nmF4 Spectrometer, 2048 pix (backthinned),16 bit ADC, 5W TH lamp 1μm-400μmNIR900nm-1700nmF4 spectrometer, InGaAs detector 512 pix., 16 bit ADC, 5W TH lamp50nm – 85μmUVVisF200nm -800nmF4 spectrometer, Si detector 2048 pixels ccd, 16 bit ADC, 10W Xe flash lamp1nm – 5μmUVVISNIR200nm-1700nmF4 Spectrometer, 2048pix (backthinned),16 bit ADC 20W TH lamp, 30W Deuterium short-ark lamp. F4spectrometer, InGaAs detector 512 pix., 16 bit ADC, 5W TH lamp1nm -75μmNIRHR200nm -1100nmF4 spectrometer, InGaAs detector 512 pix., 16 bit ADC, 5W TH lamp or SLDoption 10μm-1800μm (glass)4μm-400μm (Si)
    留言咨询
  • 时域热反射测量系统 (TDTR 测试系统)飞秒激光时域热反射测量技术,即Time-domain Thermoreflectance, TDTR 是一种基于飞秒超快激光抽运探测(pump-probe)技术的导热测量技术。相比于其他导热测量技术,目前TDTR技术因其可以测量纳米薄膜热导率和界面热阻以及非接触式测量特性而具有独特优势。我司新推出的时域热反射测量系统可用于测量金属薄膜、块体或液体的热导率、界面热阻等多项热物性参数,薄膜测量厚度可达纳米量级!在微纳结构新材料的研发与分析等方面得以越来越广泛的应用。 系统通过利用飞秒激光照射样品表层金属薄膜,令薄膜吸收能量并将其转化为热能, 从而传导给样品,并随时间尺度逐渐向样品传递。金属薄膜表面温度随时间回落,从而影响到其反射率。届时再通过测量另一束探测激光的反射强度曲线,通过后续一系列的解调分析,即可得到金属薄膜温度随时间的变化,进而获得被测样品的导热特性和相关热物性参数等。产品特点:超快动态测量过程,nm级厚度样品测量各项异性热导率测量纳米材料界面热阻材料(石墨烯合金等界面热阻测量)高温高压外场测量(Gpa 高压环境 1000℃ 外场环境兼容)本系统采用了长行程线性位移台,可以实现较高时间分辨率的热响应测量;双波长激光分别进行泵浦和探测,降低了加热和探测过程之间的干扰;调制和锁相的使用进一步保证了微小热响应信号的捕捉和测量;ccd显微可视技术则能够精确控制具有微观结构样品的测量。关键核心技术高分辨率时域热反射技术双波长抽运探测技术调制锁相放大技术光路共享CCD显微可视技术高集成度分体式模块化设计高灵活度样品位设计可测材料:块体材料薄膜材料可测参数:热导率热扩散率吸热系数界面热阻应用:材料分析薄膜的热物性参数测量系统规格:热导率测量范围 0.1~2,000 Wm-1K-1热扩散率测量范围0.05~1,000 mm2s-1可测薄膜厚度 >10 nm吸热系数 500~50,000 Jm-2K-1s-0.5
    留言咨询
  • 太阳能电池量子效率测试系统——SolarCellScan100系列系统功能系统可以实现测试太阳电池的:光谱响应度、外量子效率、内量子效率、反射率、透射率、短路电流密度、量子效率Mapping、反射率Mapping。系统适用范围1、适用于各种材料的太阳电池包括:单晶硅Si、多晶硅mc-Si、非晶硅α-Si、砷化镓GaAs、镓铟磷GaInP、磷化铟InP、锗Ge、碲化镉CdTe、铜铟硒CIS、铜铟镓硒CIGS、染料敏化DSSC、有机太阳电池Organic Solar Cell、聚合物太阳电池Polymer Solar Cell 等2、适用于多种结构的太阳电池包括:单结Single junction、多结multi junction、异质结HIT、薄膜thin film、高聚光HPV 等不同材料或不同结构的太阳电池,在测试过程中会有细节上的差异。比如说:有机太阳电池的测试范围主要集中在可见光波段,而GaAs 太阳电池的测试范围则很可能扩展到红外1.4um 甚至更长波段;单晶硅电池通常需要测内量子效率,而染料敏化太阳电池通常只需要测外量子效率;有机太阳电池测试通常不需要加偏置光,而多结非晶硅薄膜电池则需要加偏置光……SolarCellScan100 通过主机与各种附件的搭配,可以实现几乎所有种类电池的测试。这种模块化搭配的方式,适合科研用户建立测试平台。 选型列表:型号名称和说明主机SCS1011太阳能电池量子效率测量系统,含直流、交流测量模式,氙灯光源SCS1012太阳能电池量子效率测量系统,含直流测量模式,氙灯光源SCS1013太阳能电池量子效率测量系统,含直流、交流测量模式,溴钨灯光源SCS1014太阳能电池量子效率测量系统,含直流测量模式,溴钨灯光源SCS1015太阳能电池量子效率测量系统,含直流、交流测量模式,氙灯溴钨灯双光源SCS1016太阳能电池量子效率测量系统,含直流测量模式,氙灯溴钨灯双光源附件QE-A1偏置光附件,150W氙灯QE-A2偏置光附件,50W溴钨灯QE-B1标准太阳电池(单晶硅)QE-B1-SP标准太阳电池QE-B2标准铟镓砷探测器(800-1700nm,含标定证书)QE-B3标准硅探测器(300-1100nm,含标定证书)QE-B4标准铟镓砷探测器(800-2500nm,含标定证书)QE-B7透过率测试附件(300-1100nm)QE-B8透过率测试附件(800-1700nm)QE-BVS偏置电压源(±10V可调)QE-C2漫反射率测试附件(300-1700nm)QE-C7标准漫反射板QE-D1二维电动调整台QE-D2手动三维调整台QE-IV-Convertor短路电流放大器专用机型介绍系统功能部分太阳能应用方向的研究人员需要测量量子效率,但本身却不是光电测量方面的行家,卓立汉光在测量平台SolarCellScan100的基础上,进一步开发出以下几套极具针对性的专用机型配置,方便客户使用。以下的专用配置也适合产业化的工业客户使用。1、通用型太阳电池QE测试系统SCS100-Std系统特点符合IEC60904-8国际标准;测量结果高重复性;内外量子效率测量功能;快速导入参数功能;适用于科研级别小样品测试适用范围: 晶体硅电池、非晶硅薄膜电池、染料敏化电池、CdTe薄膜电池、CIGS薄膜电池等; 光谱范围: 300~1100nm; 电池结构: 单结太阳电池; 可测参数: 光谱响应度、外量子效率、内量子效率、反射率、短路电流密度; 可测样品面积: 30mm×30mm 2.通用型太阳电池QE测试系统SCS100-Exp系统特点符合IEC60904-8国际标准;测量结果高重复性;高度自动化测量;双光源设计;红外光谱范围扩展;薄膜透过率测试功能;小面积、大面积样品测试均适用;适用范围: 晶体硅电池、非晶硅薄膜电池、染料敏化电池、有机薄膜电池、CdTe薄膜电池、CIGS薄膜电池、三结砷化镓GaAs电池、非晶/微晶薄膜电池等; 光谱范围: 300~1700nm; 电池结构: 单结、多结太阳电池; 可测参数: 光谱响应度、外量子效率、内量子效率、反射率、透射率、短路电流密度; 可测样品面积: 156mm×156mm以下 3.晶体硅太阳电池测试专用系统 SCS100-Silicon系统特点集成一体化turnkey系统晶体硅电池测试专用内外量子效率测试快速Mapping扫描功能快速高效售后服务适用范围: 单晶硅电池、多晶硅电池 光谱范围: 300~1100nm 电池结构: 单结太阳电池 可测参数: 光谱响应度、外量子效率、反射率、内量子效率、短路电流密度、*量子效率Mapping、*反射率mapping 可测样品面积: 156mm×156mm 4.薄膜太阳电池QE测试专用系统 SCS100-Film系统特点集成一体化turnkey系统;大面积薄膜电池测试专用;超大样品室,光纤传导;背面电极快速连接;反射率、内外量子效率同步测试;快速高效售后服务。适用范围: 非晶硅薄膜电池、CIGS薄膜电池、CdTe薄膜电池、非晶/微晶双结薄膜电池、非晶/微晶/微晶锗硅三结薄膜电池等; 光谱范围: 300~1700nm ; 电池结构: 单结、多结太阳电池; 可测参数: 光谱响应度、外量子效率、反射率、透射率、内量子效率、短路电流密度; 可测样品面积: 300mm×300mm 5.光电化学太阳电池测试专用系统 SCS100-PEC系统特点光电化学类太阳电池专用配置方案;直流测量模式;低杂散光暗箱;电解池样品测试附件;经济型价格适用范围: 染料敏化太阳电池; 光谱范围: 300~1100nm; 电池结构: 光电化学相关的纳米晶太阳电池; 可测参数: IPCE; 可测样品面积: 50mm×50mm
    留言咨询
  • 用于非接触式测量的薄膜表征系统我们提供完整的薄膜厚度测量系统系列,可测量 5 nm 至 200 µ m 的厚度,用于分析单层和/或多层薄膜在不到一秒的时间内完成。 StellarNet 薄膜反射测量系统由与反射探头和光源耦合的紧凑型 USB 光谱仪组成。光学特性通过反射获得,厚度通过检测样品镜面反射率的正弦条纹图案来测量。有多种薄膜系统可满足您的薄膜和/或光学测量要求。TF-VIS –(厚度范围:10nm-75um 波长范围:400nm -1000 nm)大多数半透明或微吸收薄膜都可以快速可靠地测量:氧化物、氮化物、光刻胶、聚合物、半导体(Si、aSi、polySi)、硬质涂层(SiC、DLC)、聚合物涂层(Paralene、PMMA、聚酰胺)、金属薄膜等等。应用包括 LCD、FPD:ITO、单元间隙、聚酰胺。光学涂层:介质滤光片、硬度涂层、减反射涂层半导体和电介质:氧化物、氮化物、OLED 堆栈。TF-UVVIS-SR –(厚度范围:1nm- 75um 波长范围:200nm -1000nm)允许测量低至 1nm 的更薄薄膜用紫外-可见光。 UV-VIS 光谱仪和 UV-VIS 光源的硬件升级。光纤必须通过 -SR(耐日晒性)来增强,以便传输和收集额外的紫外线信号。
    留言咨询
  • 厂家正式授权代理商:岱美有限公司联系电话:,(贾先生)联系地址:北京市房山区启航国际3期5号楼801公司网址:ThetaMetrisis是一家私有公司,成立于2008年12月,位于希腊雅典,是NCSR' Demokritos' 的微电子研究所的第一家衍生公司。ThetaMetrisis的核心技术是白光反射光谱(WLRS),它可以在几埃到几毫米的超宽范围内,准确而同时地测量堆叠的薄膜和厚膜的厚度和折射率。 FR-Mic: 微米级薄膜表征-厚度,反射率,折射率及消光系数测量仪一、产品简介: FR-Mic 是一款快速、准确测量薄膜表征应用的模块化解决方案,要求的光斑尺寸小到几个微米,如微图案表面,粗糙表面及许多其他表面。它可以配备一台专用计算机控制的 XY 工作台,使其快速、方便和准确地描绘样品的厚度和光学特性图。o 实时光谱测量o 薄膜厚度,光学特性,非均匀性测量,厚度映射o 使用集成的, USB 连接高品质彩色摄像机(CCD)进行成像 二、应用领域 o 大学 & 科研院所o 半导体(氧化物、氮化物、硅、电阻等)o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材(衬底)上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学( parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求,请与我们取得联系) 三、产品特点o 单点分析(无需预设值)o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k,颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数 FR-Scanner 自动化超高速精准薄膜厚度测量仪 一、产品简介: FR-Scanner 是一种紧凑的台式工具,适用于自动测绘晶圆片上的涂层厚度。FR-Scanner 可以快速和准确测量薄膜特性:厚度,折射率,均匀性,颜色等。真空吸盘可应用于任何直径或其他形状的样片。 独特的光学模块可容纳所有光学部件:分光计、复合光源(寿命10000小时)、高精度反射探头。因此,在准确性、重现性和长期稳定性方面保证了优异的性能。FR-Scanner 通过高速旋转平台和光学探头直线移动扫描晶圆片(极坐标扫描)。通过这种方法,可以在很短的时间内记录具有高重复性的精确反射率数据,这使得FR-Scanner 成为测绘晶圆涂层或其他基片涂层的理想工具。测量 8” 样片 625 点数据60 秒 二、应用领域o 弯曲基材(衬底)上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学( parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 半导体生产制造:(光刻胶, 电介质,光子多层结构, poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值)o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k,颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数FR-Scanner: 自动化超高速薄膜厚度测量仪 FR-pOrtable:一款USB驱动的薄膜表征工具 一、产品简介: FR-pOrtable 是 一 款独 特 的 便 携 式 测 量 仪器 , 可 对 透 明 和 半 透明 的 单 层 或 多 层 堆 叠薄 膜 进 行 精 确 的 无 损(非接触式)表征。使用 FR-pOrtable,用户可以在 380-1020nm 光谱范围内进行反射率和透射率测量及薄膜厚度测量。二、应用领域o 大学 & 科研院所o 半导体(氧化物、氮化物、硅、电阻等)o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材(衬底)上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学( parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求,请与我们取得联系) 三、应用领域 FR-pOrtable的紧凑尺寸以及定制设计的反射探头以及宽带长寿命光源确保了高精度和可重复的便携式测量。 FR-Portable既可以安装在提供的载物台上,也可以轻松转换为手持式厚度测量工具。放置在待表征的样品上方即可进行测量。 FR-Portable是用于工业环境(如R2R、带式输送机等)中涂层实时表征的可靠而精确的测厚仪。四、产品特点o 一键分析 (无需初始化操作)o 动态测量o 测量光学参数(n & k, 颜色),膜厚o 自动保存演示视频o 可测量 600 多种不同材料o 用于离线分析的多个设置o 免费软件更新服务 五、技术参数FR-pRo: 按需可灵活搭建的薄膜特性表征工具一、产品简介: FR-pRo 是一个模块化和可扩展平台的光学测量设备,用于表征厚度范围为1nm-1mm 的涂层.FR-pRo 是为客户量身定制的,并广泛应用于各种不同的应用 。 FR-pRo 可由用户按需选择装配模块,核心部件包括光源,光谱仪(适用于 200nm-2500nm 内的任何光谱系统)和控制单元,电子通讯模块此外,还有各种各种配件,比如:? 用于测量吸收率/透射率和化学浓度的薄膜/试管架,? 用于表征涂层特性的薄膜厚度工具,? 用于控制温度或液体环境下测量的加热装置或液体试剂盒,? 漫反射和全反射积分球通过不同模块组合,最终的配置可以满足任何终端用户的需求 二、应用领域o 弯曲基材(衬底)上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学( parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )O 半导体生产制造:(光刻胶, 电介质,光子多层结构, poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值)o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k,颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数
    留言咨询
  • 反射式膜厚测量仪 400-860-5168转3181
    产品特点: ? 非接触式、不破坏样品的光干涉式膜厚计。? 高精度、高再现性测量紫外到近红外波长反射率光谱,分析多层薄膜厚度、光学常数(n:折射率,k消光系数)。? 宽阔的波长测量范围。(190nm-1100nm)? 薄膜到厚膜的膜厚测量范围。(1nm~250μm)? 对应显微镜下的微距测量口径。产品规格: 标准型厚膜专用型膜存测量范围1nm~40μm0.8μm~250μm波长测量范围190~1100nm750~850nm感光元件PDA 512ch(电子制冷)CCD 512ch(电子制冷)PDA 512ch(电子制冷)光源规格D2(紫外线)、12(可见光)、D2+12(紫外-可见光)12(可见光)电源规格AC 100V±10V 750VA(自动样品台规格)尺寸4810(H)×770(D)×714(W)mm(自动样品台规格之主体部分)重量约96kg(自动样品台规格之主体部分) 应用范围: FPD -LCD、TFT、OLED(有机EL)半导体、复合半导体 -矽半导体、半导体镭射、强诱电、介电常数材料资料储存 -DVD、磁头薄膜、磁性材料光学材料 -滤光片、抗反射膜平面显示器 -液晶显示器、膜膜电晶体、OLED薄膜 -AR膜其他 -建筑用材料测量范围: 玻璃上的二氧化钛膜厚、膜质分析
    留言咨询
  • 反射式膜厚测量仪 400-860-5168转1545
    产品特点: ? 非接触式、不破坏样品的光干涉式膜厚计。? 高精度、高再现性测量紫外到近红外波长反射率光谱,分析多层薄膜厚度、光学常数(n:折射率,k消光系数)。? 宽阔的波长测量范围。(190nm-1100nm)? 薄膜到厚膜的膜厚测量范围。(1nm~250μm)? 对应显微镜下的微距测量口径。产品规格: 标准型厚膜专用型膜存测量范围1nm~40μm0.8μm~250μm波长测量范围190~1100nm750~850nm感光元件PDA 512ch(电子制冷)CCD 512ch(电子制冷)PDA 512ch(电子制冷)光源规格D2(紫外线)、12(可见光)、D2+12(紫外-可见光)12(可见光)电源规格AC 100V±10V 750VA(自动样品台规格)尺寸4810(H)×770(D)×714(W)mm(自动样品台规格之主体部分)重量约96kg(自动样品台规格之主体部分) 应用范围: FPD -LCD、TFT、OLED(有机EL)半导体、复合半导体 -矽半导体、半导体镭射、强诱电、介电常数材料资料储存 -DVD、磁头薄膜、磁性材料光学材料 -滤光片、抗反射膜平面显示器 -液晶显示器、膜膜电晶体、OLED薄膜 -AR膜其他 -建筑用材料测量范围: 玻璃上的二氧化钛膜厚、膜质分析
    留言咨询
  • 反射/透射率积分球应用领域:材料的反射率/透射率测量不透明物体的反射率测试 浑浊样品的透射率测试颜色属性测试反射系统设计红外反射反射率与角度的关系 Labsphere的反射/透射率积分球可用于各种媒介的反射率和透射率测量。积分球内部涂料有两种选择:Spectraflect涂料,在300 – 2400 nm波长范围内效果较好;Infragold涂料适用于波长0.7 - 20 μm范围。 RT积分球有5个1英寸开口,可容纳样品和9°反射光束,在球的顶部有一个0.5英寸探测器口,镜面光束光阱用于去除镜面反射光束。 RTC积分球在RT积分球内增加了一个中心安装的样品架,用户可以针对一定角度测量反射率和透射率。积分球有5个开口可调节样品,顶部的中心安装平台装有参考光束,积分球底部有一个0.5英寸的探测器端口。 RT积分球和RTC积分球均能做任何几何角度测量。RT积分球可以测量镜面反射的9°/h结构和排出镜面反射9°/d结构;RTC除上述功能外还可测量变角度入射情况下的反射率。 积分球的开口处采用刀刃结构有助于收集大角度散射,挡板采用最小化设计,使得探测器能够非常大程度地看到球内壁表面。探测器口位于球的顶部和底部,使用挡板遮挡防止样品和参考口光束直接照射。RT-060-SF及RT-060-IG反射/透射率测试积分球 Labsphere的RT-060-XX积分球有5个1英寸的开口容纳样品和9°双光束结构结构中参考光束,也包括用于9°单光束结构测量中的端盖。两个1英寸的样品支架用于安装样品和反射/透射率标准板。积分球顶部具有0.5英寸的探测口,探测罩用以限制探测器视场范围。镜面光阱去除镜面反射光束。 积分球适合于镜面测量,包括非镜面反射测量,前散射和背散射测量,以及混浊或散射样品的透射率的测量。积分球的开口处采用刀刃形式有助于收集宽角度散射,阻挡效应可以最小化,允许有效的积分。为了保证高积分球效率,总开口面积应小于积分球表面积的5%。每个积分球拥有一个支架配件,由支杆底座和1/4-20支架组成,方便调节积分球的高度。 RTC-060-SF 和 RTC-060-IG反射率透射率积分球增加了中心样品架,方便用户测量反射率与辐射入射角度的关系,一些情况下,还能测透射率与辐射入射角度的关系。 RTC-060-IG 积分球具有5个开口来容纳样品和参考光束:三个1英寸、两个1.25英寸的开口。中心样品台安装在积分球的顶部,0.5英寸探测口在积分球底部。探测罩用于限制探测视场范围。 RTC 系列积分球配件包括四个样品架: 一个中心样品架,两个1.25英寸直径样品架和一个1英寸用于进一步灵活备用。中心样品架允许各种样品反射率与入射角度变化的测量。积分球包括颚式中心样品架,同时夹式和槽式中心样品架可供选择。颚式可以夹住1英寸*2英寸,最厚达0.38英寸的样品。夹式中心样品架设计用于薄膜或硬度不能承受颚式样品架的样品。夹式中心样品架可以夹住样品尺寸最大为1.50"x 2"x 0.125”的样品。槽式样品架为12.5平方毫米容器,可以承装液体和粉末,用于测试吸收和散射特性。订购信息及规格
    留言咨询
  • 薄膜测量仪 400-860-5168转4585
    总部位于德国柏林科技园区的SENTECH仪器公司,已成为光伏生产设备世界市场之 一.我们是一家快速发展的中型公司,拥有60多名员工,他们是我们有价值的资产我们団 队的每个成员都为公司的成功做出贡献,我们总是在寻找与我们志同道合的新工作伙伴,我 们诚挚期待您的加入。薄膜测量仪器反射膜厚仪RM 1000和RM 2000扩展折射率指数测量极限我们的反射仪的特点是通过样品的高度和倾斜调整进行精确的单光束反射率测量,光学布局的高光导允许对n和kffl 行重复测量,对粗糙表面进行测量以及对非常薄的薄膜进行厚度测量. 紫外-近红外光谱葩围 RM 1000 430 nm-930 nm RM 2000 200 nm - 930 nm 高分辨率自动扫描 反射仪RM 1000和RM 2000可以选配x-y自动扫描台和自动扫描软件、用于小光斑尺寸的物镜和摄像机。综合薄膜测量软件FTPadv Expert宽光谱范围和高光谱精度 SENresearch4.0光谱椭偏仪覆盖宽的光谱范围,从190 nm(深紫外)到3500 nm(近红外)。 傅立叶红外光谱仪FTIR提供了高光谱分辨率用以分析厚度高达200|jm的厚膜。 没有光学器件运动(步进扫描分析器原理) 为了获得测量结果,在数据采集过程中没有光学器件运动。步进扫描分析器(SSA)原理是SENrsearch4.0光谱椭偏仪的一个独特特性。 双补偿器2C全穆勒矩阵测量 通过创新的双补偿器2C设计扩展了步进扫描分析器SSAJ京理,允许测量全穆勒矩阵。该设计是可现场升 级和实 现成本效益的附件。 SpectraRay/4综合椭偏仪软件 SpectraRay/4是用于先进材料分析的全功能软件包,SpectraRay/4包括用于与引导图形用户界面进 行研究的交互 模式和用于常规应用的配方模式.激光椭偏仪SE400adv亚埃精度稳定的氣氤激光器保证了 0.1埃精度的超薄单层薄膜厚度测量。 扩展激光欄偏仪的极限 性能优异的多角度手动角度计和角度精度优越的激光椭偏仪允许测量单层薄膜和层叠膜的折 射率、消光系数和膜厚. 高速测量 我们的激光椭偏仪SE 400adv的高速测量速度使得用户可以监控单层薄膜的生长和终点检 测,或者做样品均匀性的自动扫描。综合薄膜测量软件FTPadvExp测量n, k,和膜厚 该软件包是为R(入)和T(入)测量的高级分析而设计的。 查层膜分析 可以测量单个薄膜和层畳膜的每一层的薄膜厚度和折射率. 大量色散模型 集成的色散模型用于描述所有常用材料的光学特性。利用快速拟合算法,通过改变模型参数 将计算得到的光谱调整到实测光谱。
    留言咨询
  • 优秀的可见光透射率/反射率测量系统集成的可见光光谱分析仪集成的氙灯,或者卤钨灯,作为光源内置探头可以实现纺织品颜色检测纺织品透过率检测眼镜透过率检测半导体膜厚检测LED灯泡检测等应用举例一:布料反射率测量案例测试系统搭建如上图测试要求,计算近红外区域780-880nm的反射率和可见光区域610-710nm的反射率之比1. 左边是卤钨灯350-2500nm光源,光源由德国进口的灯泡2. 中间是反射式积分球,3. 右侧是采用日本进口滨松探测器的光谱仪器 SPM3-350-1050,波长范围350-1050nm,分辨率最小0.6nm,美国产进口600线光栅4. 搭配电脑,数据通过USB采集测试一过程1. 关闭光源,采集光谱设备电子噪声2. 打开光源,设置1000ms曝光时间,放置白板,采集参比光谱3. 移除白板,放置被测物,采集被测物光谱,坐标轴X轴为光谱波长, Y轴为波长对应的反射率应用举例二:高分子材料/纳米材料相对石英的反射率测量测试一过程1. 关闭光源,采集光谱设备电子噪声2. 打开光源,设置500ms曝光时间,放置白板,采集参比光谱3. 移除白板,放置被测物,采集被测物光谱,此数据表明,样品1和样品2的反射光谱, 样品1(下面一条曲线),350-1000nm范围反射率72%, 样品2(上面一条曲线),350-1000nm范围反射率 82%,坐标轴X轴为光谱波长, Y轴为波长对应的反射率测试二过程,相对于黑板1. 关闭光源,采集光谱设备电子噪声2. 打开光源,设置500ms曝光时间,放置黑板,采集参比光谱3. 移除黑板,放置被测物,采集被测物光谱,此数据表明,样品1和样品2的反射光谱, 样品1(上面一条曲线),350-1000nm范围相对于黑板的反射率, 样品2(下面一条曲线)相对于黑板的反射率,坐标轴X轴为光谱波长, Y轴为波长对应的是被测物相对黑板的反射率应用举例三:薄膜材料的透射率测量测试一过程1. 关闭光源,采集光谱设备电子噪声2. 打开光源,设置500ms曝光时间,放置白板,采集参比光谱3. 移除白板,放置被测物,采集被测物薄膜的光谱
    留言咨询
  • Filmetrics F20台式薄膜厚度测量系统 世界上最畅销的台式薄膜厚度测量系统只需按下一个按钮,您在不到一秒钟的同时测量厚度和折射率。设置同样简单, 只需插上设备到您运行Windows&trade 系统计算机的USB端口, 并连接样品平台 , F20已在世界各地有成千上万的应用被使用. 事实上,我们每天从我们的客户学习更多的应用.选择您的F20主要取决於您需要测量的薄膜的厚度(确定所需的波长范围)包含的内容:集成光谱仪/光源装置FILMeasure 8 软件FILMeasure 独立软件 (用于远程数据分析)SS-3 样品平台 及對應 光纤电缆参考材料厚度标准整平滤波器 (用于高反射基板)备用灯型号规格型号厚度范围*波长范围F2015nm - 70µ m380-1050nmF20-EXR15nm - 250µ m380-1700nmF20-NIR100nm - 250µ m950-1700nmF20-UV1nm - 40µ m190-1100nmF20-UVX1nm - 250µ m190-1700nmF20-XT0.2µ m - 450µ m1440-1690nmF3-sX 系列10µ m - 3mm960-1580nm取决于薄膜种类额外的好处:每台系统內建超过130种材料库, 随着不同应用更超过数百种应用工程师可立刻提供帮助(周一 - 周五)网上的 “手把手” 支持 (需要连接互联网)硬件升级计划常见的选购配件:SampleCamStageBase-XY10-Auto-100mm多厚度硅基上的二氧化硅标准可追溯的 NIST 厚度标准接触探头携带箱
    留言咨询
  • FR-pOrtable:一款精准&性价比高的薄膜表征设备 FR-pOrtable(便携式FR) 是一款独特设备,为精准测试单层或者 多层的透明和半透明的薄膜的光学特性提供了关键解决方案。使用 者可以在350nm-1000nm的特殊光谱范围内完成薄膜反射比的测试。 特征分析: FR-pOrtable是由一个微型3648像素16位分辨率的光谱仪和一个 高稳定的白炽灯和LED组成的混合光源组成的,光源的平均寿命 20000h。其紧凑型的设计和定制的反射探头保证了性能测试的高精准性以及可重复性。并且,既可以安装在台面上,又可以转化为手持式的厚度测试仪,轻松实现便携实时操作。性能分析:1、 USB接口供电,无需电源线。2、 真正的便携,用探头检测样品。3、 采用软塑料头,适合野外应用。4、 占地小,可以在办公室内表征薄膜特性。5、 市场最低价。软件:FR-Monitor软件系统提供了多种应用和多种功能的能力。它不但能够实时的监测吸光率,透射率和反射率光谱,而且也包含了用于精准测试独立的薄膜厚度(10nm到100μm)和光学常数(n&k)的白光反射光谱法(WLRS)运算(ThetaMetrisis TM),支持(在透明或者部分透明或者全反射的衬底上)多层薄膜(10层)的测试。不需要高深的光学知识,只要有基本的电脑技巧、一台电脑,轻松实现膜厚测量!用户评论暂无评论发评论问商家白光干涉测厚FR-pOrtable的工作原理介绍白光干涉测厚FR-p
    留言咨询
  • 薄膜分析系统 400-860-5168转1729
    仪器简介:高级薄膜测定系统 NKD-8000系统综合了光学、电子学和高级分析软件,是目前测定多层薄膜和基片的折射率、吸收系数和厚度最精确、最易用的系统。NKD-8000系列产品具有全自动、可同时测定透过光谱和反射光谱,入射光角度从0° 到90° 连续改变。对分光光谱仪而言,这是一项前所未有的新功能,使得NKD-8000适用于最具挑战性的光学测量。对多层薄膜和基片的n、k和d的测定变得准确、快捷。技术参数:光谱范围 NKD-8000 350nm&mdash 1000nm ( 标准模式 ) NKD-8000v 280nm&mdash 1000nm ( 紫外增强型) NKD-8000r 800nm&mdash 1700nm ( 红 外 型 ) NKD-8000w 350nm&mdash 1700nm (宽光谱 型 ) NKD-8000e 350nm&mdash 2200nm (超宽光谱 型 ) 注:宽光谱型提供两个检测器,可以覆盖350nm到1000nm和800nm到1700nm或2200nm (仅适用nkd-8000e),但二者不能同时用。 获得数据时间 2&mdash 10分钟,这取决于光谱范围和不同选件 数据分析时间 5秒&mdash 5分钟,取决于数据的复杂程度 光谱分辨率 1nm或2nm (可选) 光源 NKD-8000v 150W 氙弧灯 其他 高稳态100W石英钨卤灯 样品尺寸 10× 10mm到200× 250mm标准系统,100mm 直径样品的扫描台 层数 至多5层,两个未知参数 薄膜厚度范围 1nm到25um,取决于角度、偏振和波长 1nm 需要增加椭偏模块 基片 透明、半透明或半吸收或半导体 材料 电介质、高聚物、半导体和金属 精确度 对于半吸收薄膜 典型 最大 薄膜厚度 <1% <3% 折射率 <0.1% <1% 消光系数 <1% <3% 对于金属薄膜 薄膜厚度 <1% <3% 折射率 <1% <3% 消光系数 <1% <3% 重现性 透射率 <0.01% <0.1% 反射率 <0.01% <1% 折射系数 <0.01% <0.1% 入射光角度 30° 、50° 或70° (标准单元)或由客户指定的从 20° 到70° 连续可变(可变角版本)或3个位置角度 样品上的光斑尺寸 5mm(标准系统),250um(选件) 电源 220V,50Hz,2A 或110V,60Hz,3A 外观尺寸 890× 540× 720mm 重量 105Kg 选件 多角度,可变角度,X-Y样品扫描台,多种标准尺寸品架。样品观测显微镜。手动或全软件控制的偏振选件(s-、p-或非偏振)。样品加热台。台式机或工业PC。主要特点:主要特点 ◆ 可测定波长范围从280nm到2300nm的透射和反射光谱 ◆ 在同一区域可同时测定T和R值 ◆ 可对折射率(n),吸收系数(k) 和厚度(d)进行准确测定 ◆ 样品可在X-Y扫描台上进行扫描 ◆ 入射光角度可以是固定角度、多角度和从0° 到90° 的连续变化的角度 ◆ 可用s-、p-或非偏振光作为入射光对T和R进行测定 ◆ 可对透明基片进行测定且不需要对样品进行前处理 ◆ 内建的材料数据库 ◆ 密封的样品室 ◆ 可选择散射模式 ◆ 具有在线或离线分析功能 对T和R同时测定 KD-8000系统在同一个光斑处,同时对透过光谱和发射光谱进行测定,保证了两套数据具有直接的相关性。通过测定这些光谱,全自动的控制和分析软件系统可以从中得到n、k和d值。而且所有这些都源自同一次测定。不同散射模式的选择使得对宽广范围材料的分析成为可能,而且用户可以选择缺省模式或者高级分析模式。 功能强大的Pro-OptixTM控制和分析软件系统包括一个可编辑的数据库,它允许对材料进行预先定义,以提高分析速度。该软件的其他特点包括颜色的匹配和太阳光的计算以及金属薄膜的算法。样品可以是透明的、不透明的或者半吸收的而无需对它们特殊处理。 NKD-8000是唯一一款能全部提供上述功能的分光型光学薄膜分析系统,它为薄膜表征设立了一个标准。 可变的入射光角度 ①反射光检测 ②光束管 ③Y轴坐标 ④透射光检测器 ⑤Z轴坐标 ⑥X轴坐标 ⑦样品台 ⑧马达驱动的可变角度选择装置 NKD-8000系统提供可变的角度选择装置,它提供完全马达驱动的,可由PC机控制入射光的角度,入射角度从从0° 到90° 可自由选择。 通过使用分析软件中的集成工具就可实现对T和R的s-偏振光谱和p-偏振光谱进行独立分析或二者一起分析。 通过作为选件的X-Y扫描台可以对大尺寸样品进行扫描,样品在X、Y两个方向上的最大行程是100mm,同时保持入射光斑始终位于行程的中间。 在测定时有许多样品架备选,它们可以夹持不同类型尺寸的样品。全PC控制使这种方法对整个样品的数据收集和分析变得简单、准确和快捷。 多个角度 如果在应用中只需一些不连续的入射光角度,那么多角度选件可以提供一个满意的解决方案。从0° 到90° ,用户可自定义三个入射光角度。 附件 热台:可控制样品温度至150度,测定变温下的T和R,对测定光学涂层和基体的光谱位移十分有用。 显微镜/相机:对样品进行显微分析。 微光斑附件:将入射光斑聚焦至200微米,特别适合表征微小样品和局部区域。
    留言咨询
  • F10-AR薄膜厚度测量系统易于使用而且经济有效地分析减反涂层和镜头上的硬涂层F10-AR 是为简便而经济有效地测试眼科减反涂层设计的第一台仪器。 虽然价格大大低于当今绝大多数同类仪器,应用几项独家先进技术, F10-AR 使线上操作人员经过几分钟的培训,就可以进行厚度测量。在用户定义的任何波长范围内都能进行最低、最高和平均反射测试。我们有专门的算法对硬涂层的局部反射失真进行校正。 我们独有的 AutoBaseline 能极大地增加基线间隔,提供比其它光纤探头反射仪高出五倍的精确度。利用可选的 UPG-F10-AR-HC 软件升级能测量 0.25-15um 的硬涂层厚度。 在减反层存在的情况下也能对硬涂层厚度进行测量。无须处理涂层背面我们独一无二的探头设计能抑制 1.5mm 厚基板 98% 的背面反射,使用更厚的镜头抑制的更多。就像我们所有的台式仪器一样,F10-AR 需要连接到您装有 Windows 计算机的 USB 端口上并在数分钟内即可完成设定。包含的内容:集成光谱仪/光源装置FILMeasure 8 软件FILMeasure 独立软件 (用于远程数据分析)CP-1-1.3 探头BK7 参考材料整平滤波器 (用于高反射基板)备用灯额外的好处:每台系统內建超过130种材料库, 随着不同应用更超过数百种应用工程师可立刻提供帮助(周一 - 周五)网上的 “手把手” 支持 (需要连接互联网)硬件升级计划常见的选购配件:UPG-F10-AR-HC 硬涂层厚度测量升级软件透射测量升级软件携带箱
    留言咨询
  • 汽车玻璃透反射测量系统简介该系统是集成光谱仪、反射光源、透射光源、CCD、高精度模组、运动控制软件为一体的自动化测试系统,应用于车载玻璃的反射率,透过率测试及获取相应状态下的色坐标。1、 系统主要测试参数玻璃反射率,透过率数据及相应状态下的色坐标等数据2、 系统特点&bull 采用高精度运动模组,直线位移精度±0.01mm,旋转精度优于0.1°&bull 支持大尺寸玻璃、模组测试&bull 支持直屏、曲屏测量&bull 通过标准白板标定反射率测量&bull 支持数据溯源&bull 可根据阈值自动判断OK/NG3、测试原理
    留言咨询
Instrument.com.cn Copyright©1999- 2023 ,All Rights Reserved版权所有,未经书面授权,页面内容不得以任何形式进行复制