求购玻璃的薄膜蒸发设备和配套的分子蒸馏设备183-07043628
如题,二者在使用上有什么区别?比如,乙醇的不挥发物测定,用玻璃蒸发皿还是陶瓷蒸发皿?
旋转蒸发仪也是在负压条件下进行蒸馏提纯实验的,其自身只可以用来进行浓缩、结晶、分离、回收等,在负压条件下进行旋转,形成薄膜,同时再蒸出溶媒冷凝回收。在众多的实验仪器设备中,给旋转蒸发仪做提纯实验提供负压条件的设备是哪种设备? 众多实验仪器设备有循环水真空泵、玻璃反应釜、高低温一体机、高压反应釜、磁力搅拌器、真空干燥箱、低温冷却液循环泵和鼓风干燥箱等,这些设备中,可以抽真空的唯有循环水真空泵。循环水真空泵是以循环水为工作流体的,采用射流技术产生负压而设计的一种新型真空抽气泵,它不仅是一种真空抽气装置,同时还能向反应装置中提供循环冷却水。长城是专业生产现代合成化工、生物制药和新材料制备等行业使用的仪器设备,如:玻璃反应釜、真空干燥箱、旋转蒸发仪、鼓风干燥箱、循环水真空泵等设备。
用玻璃板制备的荧光薄膜怎么用荧光分光光度计测量激发和发射呀,看到文献上能做,但是没有具体的方法,求助各位大神
在玻璃上制备了一层二氧化钛薄膜,现在想测试薄膜的光吸收和反射!目前有的仪器是Lambda 950,第一次接触,具体操作不会。还有就是:测试之前要扫基线,是不是要放一块玻璃来扫基线?另外薄膜的大小对测试是不是有影响,我用的1*1cm2的薄膜,用空白玻璃扫了下基线,测出来的曲线和文献上有差别,不知道是什么原因,恳请高手指点一二,谢谢了!!!急~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~
玻璃片上的聚合物薄膜,如何用尼高力5700(标配)测其红外光谱,哪位能指教?多谢了!!!
今天做个水中全盐量试验,标准中要求用瓷蒸发皿,我们没有只好用玻璃蒸发皿代替,不知会影响到检测结果吗?
我要半定量检测固定在薄膜上的生物分子,用红外测不出来特征的化学键,可能是量太少,有文献在玻璃表面固定上这种生物分子,然后用紫外测出其吸光度,进行了半定量检测,所以我想把薄膜镀在玻璃表面,然后固定生物分子,再用紫外进行检测,不知行得通否,需要注意什么问题,有人用类似的方法做过没有?我下星期准备尝试一下,呵呵
20世纪50年代初,第一个真正意义的薄膜包衣片在美国诞生了。从那时算起,薄膜包衣技术已经经历了半个世纪的发展。而我国起步较晚,20世纪70年代末,才陆续出现少数医药研究单位和药厂研制的各种包衣液和薄膜包衣工艺,并逐渐推广应用。到了20世纪90年代中期,我国才逐渐出现了薄膜包衣技术“热”。但是从整体上看,这项技术在我国的发展仍然比较缓慢。许多制药企业由于技术上的原因,在应用上仍旧存在着不少问题。在片心表面通过喷雾的方法均匀地喷上一层比较稳定的高分子聚合物衣料,形成数微米厚的塑性薄膜层,使之达到一定的预期效果,这一工艺过程称为薄膜包衣。应用薄膜包衣技术是制药行业的需求和发展趋势。有些人认为薄膜包衣片没有糖衣片好,没有糖衣片那么光亮,事实上薄膜包衣与传统的包糖衣技术相比,有许多优点,如包衣耗时短,更能防潮、避光,药物稳定性更强等。包薄膜衣必须改变过去包糖衣的观念,这一点非常重要。一直以来,一些制药企业把薄膜包衣技术简单地看做是片剂生产中的独立环节,包薄膜衣就像包糖衣一样只是单纯包衣。其实,并不是那么简单。作为一项新技术,包薄膜衣对片心的要求相对于包糖衣而言要严格得多,片的硬度要求较高,而且它对各个工序之间的相互配合、生产过程中的一系列技术指标及要求的调整和相互配套都有所要求。所以,必须本着科学、求实的态度来对待薄膜包衣技术的引进及应用,只有这样,包出的片才能达到理想的效果。良好的片心质量对薄膜包衣起到决定性的影响。有时片心的机械质量太差,就根本无法进行薄膜包衣,即使勉强进行,衣膜质量也很难保证。在所有影响片心机械性能的因素当中,片的硬度和脆碎度最为重要,而脆碎度又比硬度显得更为突出。一般而言,适合包薄膜衣的中药片硬度应该在5kg/cm3,西药片硬度应该在4kg/cm3左右。如何检查呢?最简单的方法是硬度计检测;或将一素片垂直向上抛2米,使之自由落地,两次以上不断裂者为硬度合格。检查脆碎度的简单方法是用手指用力刮片的边缘或片的表面,没有片粉脱落者为宜;另一个方法是将30片左右的素片置于250ml的玻璃杯中,用力摇两分钟左右,以片的表面、片的边缘不磨损者为宜。对于吸湿性大的素片,硬度要求则更高。应用薄膜包衣技术进行包衣时,不管是采用高效包衣机、流化床包衣机,还是发行的糖衣锅进行包衣,都应遵照如下原则:一是片心硬度要够硬,否则开始包衣时,片心与锅壁反复摩擦,将会出现松片、麻面等现象;二是片床温度要保持恒定;三是设备中溶剂蒸发量与喷液过程中带入的溶剂量要保持平衡,即溶剂蒸发与喷液速率处于动态平衡。片面平整、细腻的关键在于整个过程中要掌握锅温、喷量、转速三者之间的关系,这是薄膜包衣操作过程中的重中之重。操作时,包衣液的雾化程度直接影响包衣所成衣膜的外观质量,而喷液的雾化效果直接由雾化压力以及雾化系统决定。喷雾开始时,掌握喷速和吹热风温度的原则是:使片面略带湿润,又要防止片面粘连,温度不宜过度过低。若温度过高,则干燥太快,成膜容易粗糙,片色不均;若温度过低,或喷速过快,则会使锅内湿度过度高,很快就会出现片的粘连等现象。锅的转速与包衣操作之间的关系是:转速低,衣膜附着力强;转速高,衣膜附着力差,易剥落。包衣过程中,温度过低,喷量过大,片子流动滞留,则有可能会出现粘片现象。这时可加大转速使其改善,必要时还可适当调节温度和喷量、喷程等加以克服。在使用包衣粉质量不变的情况下,包衣操作中常出现的问题及解决的方法如下:1、粘片:主要是由于喷量太快,违反了溶剂蒸发平衡原则而使片相互粘连。出现这种情况,应适当降低包衣液喷量,提高热风温度,加快锅的转速等。2、出现“桔皮”膜:主要是由于干燥不当,包衣液喷雾压力低而使喷出的液滴受热浓缩程度不均造成衣膜出现波纹。出现这种情况,应立即控制蒸发速率,提高喷雾压力。3、“架桥”:是指刻字片上的衣膜造成标志模糊。解决的办法是:放慢包衣喷速,降低干燥温度,同时应注意控制好热风温度。4、出现色斑:这种情况是由于配包衣液时搅拌不匀或固体状特质细度不够所引起的。解决的方法是:配包衣液时应充分搅拌均匀。5、药片表面或边缘衣膜出现裂纹、破裂、剥落或者药片边缘磨损:若是包衣液固含量选择不当、包衣机转速过快、喷量太小引起的,则应选择适当的包衣液固含量,适当调节转速及喷量的大小;若是片心硬度太差所引起,则应改进片心的配方及工艺。6、衣膜表现出现“喷霜”:这种情况是由于热风湿度过高、喷程过长、雾化效果差引起的。此时应适当降低温度,缩短喷程,提高雾化效果。7、药片间有色差:这种情况是由于喷液时喷射的扇面不均或包衣液固含量过度或者包衣机转速慢所引起的。此时应调节好喷枪喷射的角度,降低包衣液的固含量,适当提高包衣机的转速。8、衣膜表面有针孔:这种情况是由于配制包衣液时卷入过多空气而引起的。因而在配液时应避免卷入过多的空气。薄膜包衣技术在中药制药中的应用薄膜包衣是一种新型的包衣工艺,指在片芯之外包上比较稳定的薄层聚合物衣膜。自30年代以来就陆续出现了有关薄膜包衣的研究指导,但由于当时薄膜材料、包衣工艺和设备等条件尚不能适应生产要求,实际应用受到一定的限制。到了50年代,美国雅培药厂(AbbottLab)首先生产出新型的薄膜片剂,并用“Filmtab”商标取得专利。经过近40年的研究发展,生产设备和工艺的不断改进和完善,高分子薄膜材料的相继问世,使薄膜包衣技术得到了迅速发展,尤以日本的薄膜包衣技术发展得最快,已有80%片剂改为薄膜包衣。薄膜包衣工艺可广泛用于片剂、丸剂、颗粒剂,特别对吸温性强、易开裂、易退色的中药片剂更显示其优越性。进入90年代,薄膜包衣技术在中药行业有了一定发展,主要用于片剂的薄膜包衣。薄膜包衣与包糖衣比较,主要有以下优点:(1)时间较短(包一锅片剂只需2小时左右,而包一锅糖衣片需要约16小时),操作简便,干燥速度快,药物受热影响小,有利于提高药品的质量。(2)薄膜包衣工艺节约劳动力(1~2名操作工人)、厂房及设备(只需一间标准厂房及一台包衣锅),节约材料,所以成本较低,而前期投入也十分有限。(3)应用薄膜包衣工艺的片剂仅使片芯重增加2%~4%,而糖衣片剂(其中主要辅料成分是国外已淘汰的滑石粉)往往可使片芯重量增大50%~100%。(4)薄膜包衣工艺能减少工作场所的粉尘飞扬,有利于环保和劳动保护,亦可节约包装材料等。(5)应用薄膜包衣工艺的片剂压在片上的标志在包薄膜衣后仍清晰可见,便于患者辨别和使用。(6)薄膜包衣的片剂坚固耐磨,不易开裂;薄膜包衣材料有优异的物理性能,大多数材料均能抗湿抗热,可提高产品质量,延长产品的有效期。(7)薄膜包衣有众多的材料可供选择。除了能达到一般的包衣目的外,还可通过选择薄膜材料和设计包衣处方,使形成的包衣膜在一定的pH范围内溶解或崩解;也可控制膜的渗透性,使所包的药物在体内通过扩散作用陆续释放出来,达到定时、定位释放药物的目的。这是薄膜包衣具有广泛发展前途的一个重要原因。(8)生产工艺过程和材料用量可以标准化基于以上因素,国际上已基本淘汰了糖衣片,取而代之以薄膜包衣片,国内也在加速这个进程。目前,我国的中药薄膜包衣工艺的应用尚处在起步阶段,国内中药片剂主要还是以糖衣片为主,薄膜包衣的市场前景十分广阔,所以薄膜包衣技术的进一步的研究开发和提高,应引起我们的重视.
公司里德国Heidolph的旋转蒸发仪蒸发装置的玻璃碎了,问供应商买要近万元,有没有那位知道哪个国产厂家可以做的啊?
在玻璃基板上生成了介孔氧化硅薄膜,在XRD上看到了衍射峰,证明是存在介孔结构存在。由于本人第一次接触TEM,虽然看了一些关于透射电镜的资料,但问了测试中心,需要我自己制备测试样,请问如何制备测透射电镜的样品!由于临近放假,所以请求大家尽快给点意见,谢谢!
溶剂辅助蒸发玻璃仪器的旋钮材料是什么呀?
实验室有一台,970CRT荧光分光光度计,目前在做石英玻璃上的荧光薄膜,想用这个仪器去测。请教两个问题,这台仪器可以测薄膜的荧光吗,能测的话,具体的操作步骤是什么呢,用过将石英玻璃插入比色皿中去测荧光,但是光谱上会有发射的荧光峰,怎么消除玻璃带来的反射峰呢,谢谢大家啦
适用于高分子化合物的红外光谱测定。将样品溶于挥发性溶剂后倒在洁净的玻璃板上,在减压干燥器中使溶剂挥发后形成薄膜,固定后进行测定。
一、搪玻璃设备的性能、安装、使用、保管 1、搪玻璃性能 搪玻璃设备是将含硅量高的资釉喷涂于金属铁胎表面,通过900℃左右的高温焙烧,使瓷釉密着于金属铁胎表面而制成。因此,它具 有类似玻璃的化学稳定性和金属强度的双重优点。 搪玻璃设备广泛适用于化工、医药、染料、农药、有机合成、石油、食品制造和国防工业等工业生产和科学研究中的反应、蒸发、 浓缩、合成、聚合、皂化、磺化、氯化、硝化等,以代替不锈钢和有色金属设备。 耐腐蚀性:对于各种浓度的无机酸、有机酸、有机溶剂及弱碱等介质均有极强的抗腐性。但对于强碱、氢氟酸及含氟离子介质以及 温度大于180℃,浓度大于30%的磷酸等不适用。 耐冲击性:耐机械冲击指标为220-10-3J,使用时避免硬物冲击。 绝缘性:瓷面经过20KV高电压试验的严格检验。 耐温性:耐温急变,冷冲击110℃,热冲击120℃2、搪玻璃设备的安装1)搬运: 搬运时只允许罐耳受力(指非包装时),不允许滚动及用撬杠,避免震动、碰撞,严禁接管管箍、卡子等易损部件受力。2)吊装: 吊装时必须在规定部位(如夹套接管、罐耳等)挂网丝绳。(罐盖上的吊环只作吊罐盖使用),不能与任何物体相碰,稳吊轻放。3)组装前检查: 组装前,检查人员应穿洁净软底胶鞋进入容器内检查搪玻璃层有无异常现象。4)法兰的安装: 在拧紧法兰螺栓时,应按沿对角线成对地逐渐拧紧、用力要均匀,不应一次完全拧紧,避免因受力不匀而造成搪玻璃层破裂而影响 使用寿命。5)卡子的安装: 应先检查卡子是否完整,数量是否符合规定,安装时要保证距均等,松紧适度确保运转安全及密封可靠。6)搅拌器的安装: a、先将搅拌器放入罐内(罐底铺设软垫),然后将罐盖吊至预定位置,同时将密封件套入搅拌轴,再将搅拌器提升与减速机输出轴 连接,锁紧防松装置。 b、调整搪玻璃反应釜搅拌轴与密封件的同轴度及垂直度,达到技术规定的要求后使搅拌轴缓慢转动,当运转灵活,无异常现象时,才准再试开启 电动机按纽,直至运转正常(此段时间不宜过长)。7)衬垫的选择: 必须根据介质的类别、浓度、温度进行选择,衬垫本身的性质和使用方法,应适用于工艺要求,我厂目前供应的衬垫有石棉橡胶、 橡胶外包聚四氟乙烯可供用户选择。8)施焊: a、严禁在搪玻璃罐外壁表面施焊。 b、在夹套上焊接接管、罐耳、罐座时,一律使用电焊、并采取冷却措施,绝对不准使用气焊。 c、在搪玻璃层临近空间部位施焊时,应将搪玻璃表面、罐口、管口盖严,避免电焊渣飞溅,损坏搪玻璃面。3、搪玻璃设备的使用 在使用中注意: 1)严防任何金属硬物掉进容器,碰伤搪玻璃。 2)尽量避免冷罐时加热料,热罐时加冷料。由于突然改变温度,形成内应力,影响使用寿命。 3)操作运转在使用夹套设备时,应徐徐进行加压、升温,一般先通入0.1MPa(表压)压力蒸汽,保持15分钟后,再缓缓升压、升温 (升压速度以每10分钟升0.1MPa压力为宜),在到罐的操作压力为止,不管加热或冷却应在允许温度范围内进行,我厂设备使用温 度0~200℃,温差热冲击120℃,冷冲击110℃。超过上述使用温度范围,订货合同中注明,另行设计制造。 4)出料:出料时,如出料阀,出料管堵塞,一律用非金属工具轻轻捅开,不得碰敲。 5)在使用中严防夹套内进入酸液,以防止搪玻璃层金属吸氢反应,引起搪玻璃层磷爆。 6)清洗:清洗罐内部时,不能使用金属器具,而且对粘结在罐内面上的物料必须清洗及时、彻底。4、搪玻璃设备的保管 保管要妥善,应置于库内,如置于室外时,应有防雨措施,严防雨淋,尤其寒冷地区,在冬季前必须清除罐内、夹套内、管内的积 水、避免因结冰膨胀,引起玻璃面损坏,在保管内,应防止硬物磨擦、冲击、碰撞。
我现在在导电玻璃基底上沉积了一层微米级的有机薄膜,我想通过透射电镜看这层薄膜的截面相结构,现在我就不知道如何制作该截面样品,请各位高手朋友告诉我如何制作?先在这里谢谢啦!
请问:玻璃基片上ZnO:AL薄膜的xrd图中,一般文献说衍射峰在34.4度,为什么我测的是33度左右.哪位知道原因?
iS10红外光谱仪内置聚乙烯薄膜和NG11玻璃,可以定期自校。但这个标准片的有效期是多久的呢?
有两台IKA的旋转蒸发,放气的磨口玻璃旋塞转不动了,请大神指教,不胜感激!
摘要: 借助于不同的色散公式, 运用改进的单纯形法拟合分光光度计测得的透过率光谱曲线, 来获得薄膜的光学常数和厚度。用科契公式分别对电子束蒸发的T i O 2和反应磁控溅射的S i3 N 4,以及用德鲁特公式对电子束蒸发制备的I T O薄膜进行了测试, 结果表明测得的光学常数和厚度, 与已知的光学常数以及台阶仪测得的结果具有很好的一致性。这种方法不仅简便, 而且不需要输人任何初始值, 具有全局优化的能力, 对厚度较薄的薄膜也可行。采用不同的色散公式可以获得各种不同薄膜的光学常数和厚度, 这在光学薄膜、 微电子和微光机电系统中具有实际的应用价值。
旋转蒸发和真空抽滤那个玻璃器皿内壁变黄了,用乙醇泡清洁不干净,大家有什么好办法?
小弟急求带薄膜附件或者有平行光路的XRD设备,或者能在小角下,样品平面(fai平面)能转动的XRD设备?
我的样品如下:中间是50μm厚的金属,50μm厚塑料薄膜把金属包裹在里面。测试需求:检测包裹金属的塑料薄膜有没有穿孔。请高手指点方法或者设备,先谢谢了!
有什么设备可以将玻璃磨薄并可以抛光磨面?
在基膜上做聚酰胺薄膜,又把这种复合膜在玻璃板上粘贴,整个玻璃板放在溶剂里,再面把基膜溶解掉。请问我用红外怎么检测基膜是否完全溶解,或者有残留。这个制样方面希望大家给出宝贵意见。我想用刀刮下来,然后用溶剂溶解,在涂覆在溴化钾上面,不知道行不。非线性的聚酰胺只能溶胀的吧。前提是我不可以重新制作薄膜,只有现有的在溶剂中浸泡过的复合膜。谢谢大家。
[em06] 我现在在对一个样品进行微生物方法学验证, 采用的是平皿法计数.结果表明只是对金黄色葡萄球菌有抑制性,现在想采用薄膜过滤法,请问我只需要对金黄色葡萄球菌进行检测?还是其他几种菌也需要同时进行检测?我觉得05版药典上关于微生物方法学验证薄膜过滤法写的不是很具体 请问微生物方法学验证薄膜过滤法具体操作方法是什么呢?
溅射制膜的过程:气体辉光放电、等离子体、靶、溅射、沉积到衬底(一)与蒸发法相比,溅射沉积的主要特点:①沉积原子能量高,因此薄膜的组织更致密,附着力也可以得到明显改善;②制备合金膜时,其成分的控制性能好;③靶材可以是极难熔的材料;④可利用反应溅射技术,从金属无素靶材制备化合物薄膜;⑤由于被沉积的原子均携带有一定的能量,因而有助于改善薄膜对于复杂形状表面的覆盖能力,降低薄膜表面的粗糙度。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151100_555534_2989334_3.jpghttp://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif(二)溅射沉积分类主要的溅射方式可以根据其特征分为四种:(1)直流溅射;(2)射频溅射;(3)磁控溅射;(4)反应溅射。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151102_555536_2989334_3.jpg图1 不同溅射方法的靶电流密度和靶电压的比较http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif(1)直流溅射直流溅射又称为阴极溅射或二极溅射图2直流溅射沉积装置示意图,其典型的溅射条件为:工作气压10Pa,溅射电压3000V,靶电流密度0.5mA/cm2,薄膜的沉积速率低于0.1μm/min直流溅射过程中常用Ar作为工作气体。工作气压是一个重要参数,它对溅射速率以及薄膜的质量都有很大影响直流溅射设备的优点和缺点:优点:简单缺点:使用的气体压力高,溅射速率较低,这不利于减小气氛中的杂质对薄膜的污染以及溅射效率的提高。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151105_555538_2989334_3.jpg图2直流溅射沉积装置示意图http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif(2 )射频溅射直流溅射要求靶材有较好的导电性,可以很大方便地沉积各类合金膜。对于导电性很差的非金属材料的溅射,我们需要一种新的溅射方法—射频溅射。射频溅射是适于各种金属和非金属材料的一种溅射沉积方法射频场对于靶材的自偏压效应。在衬底或薄膜本身是绝缘体的情况下,采取对其施加一个射频电压的方法,也可以起到对其施加负偏压的作用。(3)磁控溅射相对于蒸发沉积来说,一般的溅射沉积方法具有两个缺点。第一,溅射方法沉积薄膜的沉积速度较低;第二,溅射所需的工作气压较高 这两个缺点的综合效果是气体分子对薄膜产生污染的可能性较高。而磁控溅射技术:沉积速度较高,工作气体压力较低。工作原理:磁场对电弧运动有一定的约束作用(绕磁场螺旋前进);(1)电子的电离效率高,有效提高了靶电流密度和溅射效率,(2)较低气压下溅射原子被气体分子散射的几率较小(三)气体放电是离子溅射过程的基础(1)首先介绍直流电场作用下的物质的溅射现象预抽真空,充入适当压力的惰性气体,如Ar气,10-1~10Pa;在正负电极间外加电压的作用下,电极间的气体原子将被大量电离;Ar—→Ar++e,Ar+被电场加速后射向靶材,撞击出靶材原子(分子),靶材原子脱离靶时仍具有一定能量,飞向衬底,电子被电场加速飞向阳极;http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151107_555542_2989334_3.jpg图3直流气体放电体系模型及伏安特性曲线http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif电压进一步增大,发生极板两端电压突然降低,电流突然增大,并同时出现带有颜色的辉光,此过程称为气体的击穿;击穿后气体的发光放电称为辉光放电;这时电子和正离子是来源于电子的碰撞和正离子的轰击,即使自然游离源不存大,放电也将继续下去。而且维持辉光放电的电压较低,且不变,此时电流的增大显然与电压无关,而只与阴极板上产生辉光的表面积有关;正常辉光放电的电流密度与阴极材料和形状、气体种类和压强有关;由于正常辉光放电时的电流密度仍比较小,所以在溅射方面均是选择在非正常辉光放电区工作。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151110_555543_2989334_3.jpg图4示意性地画出了在离子轰击条件下,固体表面可能发生的物理过程http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/07/201507151111_555544_2989334_3.jpg图5所示,不同能量离子与固体表面相互作用的过程不同当离子入射到靶材上时,对于溅射过程来说,比较重要的过程有两个:其一是物质的溅射;其二是二次电子发射:二次发射电子在电场作用下获得能量,进而参与气体分子的碰撞,并维持气体的辉光放电过程。http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gifhttp://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif (四)合金的溅射和沉积用溅射法沉积合金膜,比蒸发法易于保证薄膜的化学配比;溅射过程中入射离子与靶材之间有很大的能量传递。因此,溅射出的原子将从溅射过程中获得很大的动能,其数值一般可以达到5~20eV;一方面,溅射原子具有很宽的能量分布范围,其平均能量约为10eV左右;另一方面,随着入射离子能量的增加,溅射离子的平均能量也有上升的趋势;溅射过程还会产生很少的溅射离子,它们具有比溅射出来的原子更高的能量。能量较低的溅射离子不易逃脱靶表面的鞘层电位的束缚,将被靶表面所俘获而不能脱离靶材;由蒸发法获得的原子动能一般只有0.1eV,两者相差两个数量级;在溅射沉积中,高能量的原子对于衬底的撞击一方面提高了原子自身在薄膜表面的扩散能力,另一方面也会引起衬底温度的升高。
【专家讲座】:薄膜材料的纳米力学行为表征【讲座时间】:2016年03月30日 14:00【主讲人】:宋双喜 毕业于上海交通大学材料学,2005年进入田纳西大学诺克斯维尔分校深造,2009年获得材料学博士并进入Hysitron公司担任Application Scientist,2013年受聘上海交通大学特别副研究员,2014年获得上海市浦江人才计划。研究领域包括材料力学行为,金属玻璃等,以第一作者发表SCI论文10篇,总引用400多次。【会议简介】纳米压痕技术的诞生与薄膜材料的发展密不可分。上世纪80年代,随着薄膜技术的不断发展以及在半导体领域的广泛应用,厚度在微米级甚至纳米级的薄膜有着大量的市场需求,而这些薄膜的微观力学行为表征备受关注。传统的力学性能测试方法已无法满足微米、纳米尺度薄膜材料的表征,因此纳米压痕技术的出现弥补了这一领域的空白,之后的二十多年有关纳米压痕理论及利用纳米压痕来进行纳米力学行为表征的相关研究呈指数增长,相关技术也相继应用于各种新兴工业领域。而不断出现的纳米力学表征新技术,与人类不断推进探究材料微观性能的极限,两者相辅相成,成为当今科研前沿领域的一种新模式。本次Hysitron公司举办的网络研讨会主要针对薄膜材料领域介绍相关的纳米力学行为表征方法如薄膜材料的基底效应、残余应力、硬度与弹性模量表征、含时塑性表征、粘附力表征及其他先进纳米力学行为表征及其主要应用范例。-------------------------------------------------------------------------------1、报名条件:只要您是仪器网注册用户均可报名参加。2、报名截止时间:2016年03月30日 13:304、报名参会:http://www.instrument.com.cn/webinar/Meeting/meetingInsidePage/18895、报名及参会咨询:QQ群—171692483http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/01/201701191701_668519_2507958_3.jpg
我国薄膜太阳能电池装备“破冰” 太阳能电池产业化有望提速 8日,中国首台代表国际尖端水平的薄膜太阳能电池关键生产设备——等离子体增强型化学气相沉积设备(PECVD)在上海成功下线,这被视为中国在新能源高端装备领域取得的“零的突破”。“中国造”的PECVD性能领先于国外同类产品,价格大幅低于后者,国内薄膜太阳能电池产业化进程有望提速。 PECVD首次“国产化”:薄膜太阳能电池产业化有望加速 创造这一突破的是注册在浦东张江高科技园区的理想能源设备公司。据该公司总经理钱学煜介绍,一片“1.1米×1.4米”的普通平板玻璃完成导电层覆膜后,进入PECVD反应腔,完成化学气象材料叠层结构的覆膜,厚度增加了两个微米,即成为转化率可达10%的薄膜太阳能电池。 2009年8月,留美博士钱学煜与20多名曾在国际一流企业有过丰富经验的设备、工艺和管理专家成立理想能源公司。一年多里,该公司相继完成了PECVD首台机的研发、中试、下线,并申请了10多项核心技术专利。 据介绍,该设备采用了创新的超高频射频技术,精密的真空和温度控制技术,快速的自动传输技术以及多腔多片的反应腔系统等,大大提高了产能,其产品性能优于国际一流设备,但价格远低于同等的进口设备。 钱学煜说:“从国外进口一台这样的设备要两三亿元人民币,我们自己生产的大概只需一亿元左右。一台设备年产能约有15兆瓦,三台设备便可组成一条年产能近50兆瓦的生产线。” 工业和信息化部装备工业司副司长李东表示,高端薄膜太阳能电池关键生产设备的研制成功,为中国新能源产业下一步的发展奠定了坚实基础。
旋转蒸发仪旋转蒸发器主要用于医药、化工和生物制药等行业的浓缩、结晶、干燥、分离及溶煤回收。其原理为:在真空条件下,恒温加热,使旋转瓶恒速旋转,物料在瓶壁形成 大面积薄膜,高效蒸发。溶煤蒸气经高效玻璃冷凝器冷却,回收于收集瓶中,大大提高蒸发效率,特别选用于对高温容易分解变性的生物制品的浓缩提纯。优点:蒸发速度相对较快样品量大控制水浴温度可控制热量输入真空度可控制整个过程可见,好控制缺点:只能处理单一样品需要清洗玻璃装置密封件寿命有限,需要定期更换样品会泄露到空气中,造成污染冷冻干燥机冷 冻干燥机是将含水物品预先冻结,然后将其水分在真空状态下升华而获得干燥物品的一种技术方法。经冷冻干燥处理的物品易于长期保存,真空冷冻干燥机加水后能 恢复到冻干前的状态并保持原由的生化特性。广泛应用于药品、生物制品、化工及食品工业,对于热敏物质如抗菌素、疫苗、血液制品、酶激素和其它生物制品,冷 冻干燥技术更能显示其优越性。优点:安全水分去除率非常高真空度低,可精确控制样品温度低,适用于温度敏感性样品可保持样品性状、复溶性好搁板加热温度可精确控制缺点:速度慢,一般需要过夜处理购买成本较高样品需事先冷冻(来源:实验之家)