玻璃等离子处理仪

玻璃光学等离子清洗机作为重要的材料表面改性方法,可以应用于玻璃光学领域,处理温度可以低至80℃、50℃以下,低的处理温度可以确保对样品表面不造成热影响.玻璃光学等离子清洗机技术规格书 深入表面 魅力科学（1）产品简述 （1.1）等离子清洗的作用等离子清洗的作用原理主要是：（A）对材料表面的刻蚀作用--物理作用等离子体中的大量离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子，作用到固体样品表面，不但清除了表面原有的污染物和杂质，而且会产生刻蚀作用，将样品表面变粗糙，形成许多微细坑洼，增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。（B）激活键能，交联作用等离子体中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的键能在0~10eV，因此等离子体作用到固体表面后，可以将固体表面的原有的化学键产生断裂，等离子体中的自由基与这些键形成网状的交联结构，大大地激活了表面活性。（C）形成新的官能团--化学作用如果放电气体中引入反应性气体，那么在活化的材料表面会发生复杂的化学反应，引入新的官能团，如烃基、氨基、羧基等，这些官能团都是活性基团，能明显提高材料表面活性。 （1.2）大气低温等离子清洗的优势等离子清洗作为重要的材料表面改性方法，已经在众多领域广泛使用。与传统的一些清洗方法，如超声波清洗、UV清洗等，具有以下优点：（A）处理温度低处理温度可以低至80℃、50℃以下，低的处理温度可以确保对样品表面不造成热影响。 （B）处理全程无污染等离子清洗机本身是很环保的设备，不产生任何污染，处理过程也不产生任何污染。可以与原有生产流水线搭配，实现全自动在线生产，节约人力成本。（C）处理效果稳定等离子清洗的处理效果非常均匀稳定，常规样品处理后较长时间内保持效果良好。 （D）可以完美搭配自动化流水线，提高生产效率根据用户现场需求，配置最优的流水线生产方案，大大提高生产效率。 （1.2）产品原理等离子清洗机的结构主要分为三大组成部分，分别是高压激励电源、等离子发生装置喷枪、控制系统。 （A）高压激励电源：等离子体的产生需要高压激励，大气低温等离子采用中频电源进行激励，频率在10-40KHz。高压则在4-10KV。参数根据样品实际情况可进行调节，已达到最优的改性效果。（B）等离子发生装置喷枪：大气低温等离子发生装置喷枪，可分为射流直喷和旋转直喷两种，区别在于处理面积不同。（C）控制系统：控制系统作用在于控制整个大气低温等离子清洗设备的运行，以及整体系统的保护。达因特简介　　达因特智能科技，致力于为用户提供表面性能处理及检测整体解决方案，自主研发生产及销售等离子清洗设备、接触角测量仪、全自动百格刀、表面洁净度仪、达因笔等表面性能处理及检测产品。公司由多年从事表面性能研究的团队组成，立志发展民族工业品牌。坚守持续创新的宗旨，达因特智能科技通过不懈努力和过硬的产品品质，以及专业优质的服务，已经赢得国内外广大用户的一致认可。不但产品系列完善齐全，达因特还具有严格的产品生产标准，高精度的数控加工机床等精密生产设备、还有进口的质量检测工具，以及科学规范的管理体系，确保提供给用户的每一套产品都是精益求精。　　至今，达因特的产品已经广泛应用汽车制造、手机制造、玻璃光学、材料科学、电子电路、印刷造纸、塑料薄膜、包装技术、医疗医用、纺织工业、新能源技术、航天军工、手表首饰等等领域。达因特将继续孜孜不倦，为“向全球提供最具性价比的表面性能处理及检测整体解决方案”的奋斗目标而不懈努力！ （2）技术规格系统标准配件设备尺寸160W * 500D * 400Hmm重量20KG输入电源220V，50/60Hz功率1000W可调高压频率10-40KHz保护防护过载保护、短路保护、断路保护、温度保护远程控制本地控制与远程控制均可喷枪选择直喷喷枪2mm、5mm磁悬浮旋转电机喷枪50mm、70mm （3）性能优势（1）德国电路技术：采用德国高压激励电源电路技术，产生高密度等离子体，确保出众的清洗效果。 （2）全面安全防护：温度安全防护功能，过载防护功能，气压失常防护功能，短路断路报警防护功能，各种误操作保护功能。（3）独有放电技术：特殊处理及特殊结构的放电装置，确保形成稳定均匀的等离子体。 （4）搭配流水线生产：根据用户现场需求，配置最优的流水线生产方案，大大提高生产效率。（5）优质产品部件：产品全部部件采用国内外顶尖优质部件，确保设备性能优越 （6）低温清洗：满足不同场合温度要求，不对清洗产品造成温度影响（7）精密数控加工：进口精密CNC数控机床加工工艺，并配备进口三坐标测量仪进行质量监控

等离子体清洗好处,对PTFE进行等离子活化处理,蚀刻工艺,为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺,并得到了应用,等离子体清洗与其它清洗方式对比表.等离子体清洗好处：　１、其除去了有机层（含碳污染物），其会受到例如， 氧气 和空气的化 腐蚀，通过超压吹扫，将其从表面去除。　　　通过等离子体中的高能量粒子，脏污会转化为 稳定的小型分子 ，并借此将其移除，处理过程中脏污的厚度只允许达到 几百纳米 ，因为等离子的清除速度仅能够达到每次几 nm。　　　脂肪含有诸如锂化合物之类的成分。仅能够除去其 有机成分 。这一点同样适用于指纹。故此，建议戴手套。　２、还原氧化物　　　金属氧化物会和工艺气体发生化学反应。作为工艺气体，使用了氢气和氩气或氮气的混合物。等离子体射流的热效应可能会导致进一步的氧化。故此建议在惰性气体环境下进行处理。常压等离子激活处理主要用于哪些方面？　　这种技术非常适用于以下工艺过程：　１、在粘合之前对塑料进行局部的等离子活化处理 　２、在粘合、植绒、印刷（例如，汽车行业中的橡胶型材）之前，对弹性体进行等离子活化处理　３、在粘合或者粘接之前，对金属和陶瓷表面进行局部的等离子活化处理　４、极为适合在直接于移印机中移印之前，对塑料零部件进行处理。用常压等离子体进行活化处理能够为我们带来哪些主要优势？　技术适用于在线工艺，例如，在对连续型橡胶型材、软管进行印刷、胶粘，植绒或者涂层之前进行等离子活化。　等离子体清洗与其它清洗方式对比表：应用用途和特性低压等离子体的优点低压等离子体的缺点常压等离子体的优点常压等离子体的缺点普通的等离子体生成 在等离子腔体室中均匀分布等离子体，腔室体积可变复杂的真空技术，在线等离子处理应用受到一定的限制可以直接在输送带上进行等离子处理，适用于在线处理，无需任何真空技术由于等离子体激发原理的原因，等离子处理痕迹有限，处理较大的对象的时候，必须使用多个喷嘴对金属进行处理可对易氧化的对象进行等离子清洗进行微波激发的时候，对象上可能会相应产生能量，这会造成对象过热对铝进行等离子处理的时候，可以生成很薄的氧化层对易氧化的对象进行等离子清洗，受到一定的限制对聚合物弹性体进行处理无法对PTFE进行等离子活化处理，蚀刻工艺，为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺，并得到了应用某些材料需要用到较大型的泵，以便达到必须的工艺压力无法对连续型对象进行预处理，工艺时间很短等离子射流的温度为约 200 - 300 °C。必须对表面的工艺温度进行很好的调节，以防止着火（很薄的材料）3D对象对等离子体腔室中的所有对象进行均匀处理。即使是中空腔室也可以从内部进行处理（例如，点火线圈、水箱等） 未知可进行局部表面处理（例如，粘结槽口）需要使用复杂的多关节型机器人技术。常压等离子体的间隙渗透性受到一定的限制散装部件通过转鼓法可以对散装部件进行均匀的等离子处理。零部件的件数和体积可以有所不同其仅能够使用转鼓的 1/3 体积（建议）可以直接在输送带上处理对象对象必须极为精确的定位在输送带上电子，半导体技术借助低压等离子体对电子元件、电路板和半导体部件进行等离子处理是先进的技术。未知金属或者 ITO 触点可在粘接处理之前进行等离子预处理（例如，LCD、TFT 和芯片的生产）涂层工艺生成均匀的涂层。研发了很多 PECVD 和 PVD 工艺，并得到了应用可能会造成等离子体腔室的污染具有很多的工业用途尚不具有任何的工业用途

普特勒等离子清洗机综合应用领域等离子表面处理这门工艺现在正应用于LCD、LED、IC，PCB，SMT、BGA、引线框架、平板显示器的清洗和蚀刻等领域。、等离子表面清洗过的IC可显著提高焊线邦定强度，减少电路故障的可能性；溢出的树脂、残余的感光阻剂、溶液残渣及其他有机污染物暴露于等离子体区域中，短时间内就能清除。PCB制造商用等离子处理来去除污物和带走钻孔中的绝,缘物。对许多产品，不论它们是应用于工业还是电子、航空、健康等行业，其可靠性很大一部分都依赖于两个表面之间的粘合强度。不管表面是金属、陶瓷、聚合物、塑料或是其中的复合物，经过等离子处理以后都能有效地提高粘合力，从而提高最终产品的质量。等离子表面处理在提高任何材料表面活性的过程中是安全的、环保的、经济的。 金属陶瓷、塑料、橡胶、玻璃等表面常常会有油脂油污等有机物及氧化层，在进行粘接绑定油漆键合焊接铜焊和PVD、CVD涂覆前，需用等离子表面处理来得到完全洁净和无氧化层的表面。等离子表面清洗技术在半导体行业、航空航天技术、精密机械、汽车工业、医疗、塑料、考古、印刷、纳米技术、科研开发、液晶显示屏、电子电路、通讯及手机零部件等广泛的行业中有着不可替代的应用。

北京中海时代科技公司提供等离子plasma表面处理设备，致力于压电低温等离子体表面清洗处理、表面活化改性领域多年，应用领域 接合技术 小批量生产加工 医疗和牙科技术 实验室的研发设备 原型和样品模型制造 生产流程的开发和优化 微生物、微流体以及食品生产 优势 可替换模块功率密度非常高 压电直接放电控制 小体积紧凑型便捷 气体分子的激发是高效而安全的 注重产品的可用性以及界面友好性 潜在用途精细清洁 杀菌消毒和祛除异味提高材料表面润湿性各种基础材料表面的活化加工处理 优化黏合、喷漆、印刷以及涂层处理工艺 塑料、玻璃、陶瓷、金属、半导体、天然纤维以及复合材料的表面加工处理技术参数供电电源：110-240伏 / 50-60 赫兹交流电功耗：18 瓦重量：110 克产品组成：手持式设备带电源线，集成风扇音量：45 分贝等离子体温度：不超过 50 摄氏度加工处理速度：5 平方厘米/秒加工处理距离：2 – 10 毫米加工处理宽度：5 – 29 毫米过程控制：秒表、定时器、节拍器

我公司新研发的《低温等离子表面处理机》是采用德国先进技术、在国内生产、机子内部好多器件是在国外采购，对是现在等离子表面处理机行业的高新技术产品。我公司等离子处理机应用领域广泛：可应用于刹车片处理。糊盒、湖箱、光缆厂、电缆厂、制鞋厂的鞋底与鞋帮得粘接、汽车玻璃涂覆膜之前的清洁，经过等离子机处理，使其更容易粘接牢固、汽车灯上的粘接工作、玻璃与铁的粘接、纺织、塑胶、纸张、印刷及光电材料还是金属等, 都能经由等离子处理技术，能充分满足后续制程的要求(如涂装、贴合、印刷)主要应用于印刷包装行业，直接与全自动糊盒机联机使用。主要用来对覆膜、uv上光、高分子、金属、半导体、橡胶、pcb电路板等各类复杂材料进行表面处理，杜绝开胶问题。在光缆电缆的应用去除毛刺、增大附着力、使字体更清晰、喷码等方面的应用。还可以清晰玻璃：去除油污、灰尘等以达到清晰的效果。还可以应用到汽车玻璃封条的粘接、经过等离子机处理可使玻璃张力增大；故玻璃封条粘接会更加牢固。经等离子处理机处理后可使物体表面改性，从而达到要处理的效果。也是糊盒机开胶克星。产品特点1，改性仅发生在材料的表面层，不影响基体同有性能，且处理均匀性好:2，作用时间短( 几秒到几十秒)，温度低，效率高: 3，对所处理的材料无严格要求，具有普遍适应性:4，不产生污染，无需进行废液，废气的处理，节省能源，降低成木:几何形状无限制:大或小，简单或复杂，部件或纺织品，均可处理5，工艺简单，操作方便。6，大幅提高表面的润湿性能，形成活性的表面7，不需要消耗其他能源(如煤气)，启动仪需220V电源和压缩空气。低温等离子表面处理、宽幅等离子表面清洗机、精密玻璃表面清洗、塑胶表面活化、复合材料表面改性应用领域★ 光电及电子行业应用 各种玻璃表面清洗，提高玻璃表面亲水性，优化玻璃镀膜、印刷、粘合及喷涂等工艺； 柔性和非柔性印刷电路板触点清洁、LED 荧光灯“触点”清洁及提高表面点胶的牢固性； 电子元件、PCB 清洗、IC 等表面清洁、活化增强绑定性等； LCD 端子贴合前等离子清洗；★ 汽车行业应用 汽车 EPDM 密封条、植绒和涂层前预处理替代使用底涂； 汽车车灯底座、沟槽、刹车片、保险杠等粘接、喷涂前等离子预处理； 汽车防扎轮胎打胶前预处理； 新能源汽车锂电池极片焊接、包膜前表面活化、清洗等；★ 塑料行业应用 PP、PVC、PET、PC、PE、 PTFE 等各类塑材料喷涂，印刷，电镀，粘接和植绒的前处理。 各种塑料、硅胶、橡胶、金属等材料喷涂，印刷，电镀，粘接前表面改性、去除表面污染物等； 手机、电脑、玩具等塑料外壳印字、喷漆前预处理，提高表面附着力； 塑料化妆品瓶印字前预处理，提高表面附着力可防字脱落提高产品质量；★ 包装行业应用 专业提高覆膜纸、上光纸、磨光、金银卡、镀铝纸、UV、OPP、PP、PET 等彩盒、彩箱表面糊盒的牢固性；奶粉罐、饮料罐焊接前等离子预处理等；★ 印刷及喷码行业应用 对塑料、金属、玻璃等复合材料表面移印、丝印、喷码前等离子预处理，提高材料表面对油墨的附着力； PE、PTFE、硅橡胶电线电缆喷码前处理； PVC、PET、ABS 智能卡片喷码前预处理；★ 家电行业应用 日用品、家电产品表面涂装、喷涂、粘结前等离子活化，提高产品表面附着力、接合力等。 养生壶发热盘等离子清洗增强胶水的粘接力、牢固度等；

冷等离子发生器水处理气泡反应器绿色能源应用北京中海时代科技有限公司提供等离子plasma表面处理设备，致力于压电低温等离子体表面清洗处理、表面活化改性领域多年，等离子表面处理技术已被广泛应用到工业、新能源、化学、科研等行业。我们为您提供优化的等离子表面处理解决方案。 气体催化反应： 氨气高效生产 气体液化催化 二氧化碳甲烷化 甲烷的干法重整 液体催化反应： 水处理 生物质转化配套反应器：气体转换反应器水处理气泡反应器水处理玻璃反应器性能特点 ◆ 操作参数范围大 ◆ 激发冷等离子体 ◆ 可进行生物催化应用 ◆ 可进行气体催化应用 ◆ 可进行液体催化应用 ◆ 控制放电时间到秒级 ◆ 可运行多个放电反应器 ◆ 可互换反应器的多种应用 ◆ 按下按钮即可产生等离子体 ◆ 与水反应器配套催化产生等离子体气泡 ◆ 操作可使用空气、气体、活性水、溶液

等离子体清洗好处,对PTFE进行等离子活化处理,蚀刻工艺,为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺,并得到了应用,等离子体清洗与其它清洗方式对比表.等离子体清洗好处：　１、其除去了有机层（含碳污染物），其会受到例如， 氧气 和空气的化 腐蚀，通过超压吹扫，将其从表面去除。　　　通过等离子体中的高能量粒子，脏污会转化为 稳定的小型分子 ，并借此将其移除，处理过程中脏污的厚度只允许达到 几百纳米 ，因为等离子的清除速度仅能够达到每次几 nm。　　　脂肪含有诸如锂化合物之类的成分。仅能够除去其 有机成分 。这一点同样适用于指纹。故此，建议戴手套。　２、还原氧化物 　　　金属氧化物会和工艺气体发生化学反应。作为工艺气体，使用了氢气和氩气或氮气的混合物。等离子体射流的热效应可能会导致进一步的氧化。故此建议在惰性气体环境下进行处理。常压等离子激活处理主要用于哪些方面？　　这种技术非常适用于以下工艺过程：　１、在粘合之前对塑料进行局部的等离子活化处理　２、在粘合、植绒、印刷（例如，汽车行业中的橡胶型材）之前，对弹性体进行等离子活化处理　３、在粘合或者粘接之前，对金属和陶瓷表面进行局部的等离子活化处理　４、极为适合在直接于移印机中移印之前，对塑料零部件进行处理。 用常压等离子体进行活化处理能够为我们带来哪些主要优势？　技术适用于在线工艺，例如，在对连续型橡胶型材、软管进行印刷、胶粘，植绒或者涂层之前进行等离子活化。　等离子体清洗与其它清洗方式对比表：应用用途和特性低压等离子体的优点低压等离子体的缺点常压等离子体的优点常压等离子体的缺点普通的等离子体生成在等离子腔体室中均匀分布等离子体，腔室体积可变复杂的真空技术，在线等离子处理应用受到一定的限制可以直接在输送带上进行等离子处理，适用于在线处理，无需任何真空技术由于等离子体激发原理的原因，等离子处理痕迹有限，处理较大的对象的时候，必须使用多个喷嘴对金属进行处理 可对易氧化的对象进行等离子清洗进行微波激发的时候，对象上可能会相应产生能量，这会造成对象过热对铝进行等离子处理的时候，可以生成很薄的氧化层对易氧化的对象进行等离子清洗，受到一定的限制对聚合物弹性体进行处理无法对PTFE进行等离子活化处理，蚀刻工艺，为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺，并得到了应用某些材料需要用到较大型的泵，以便达到必须的工艺压力无法对连续型对象进行预处理，工艺时间很短等离子射流的温度为约 200 - 300 °C。必须对表面的工艺温度进行很好的调节，以防止着火（很薄的材料）3D对象对等离子体腔室中的所有对象进行均匀处理。即使是中空腔室也可以从内部进行处理（例如，点火线圈、水箱等）未知可进行局部表面处理（例如，粘结槽口）需要使用复杂的多关节型机器人技术。常压等离子体的间隙渗透性受到一定的限制散装部件 通过转鼓法可以对散装部件进行均匀的等离子处理。零部件的件数和体积可以有所不同其仅能够使用转鼓的 1/3 体积（建议）可以直接在输送带上处理对象对象必须极为精确的定位在输送带上电子，半导体技术借助低压等离子体对电子元件、电路板和半导体部件进行等离子处理是先进的技术。未知 金属或者 ITO 触点可在粘接处理之前进行等离子预处理（例如，LCD、TFT 和芯片的生产）涂层工艺生成均匀的涂层。研发了很多 PECVD 和 PVD 工艺，并得到了应用可能会造成等离子体腔室的污染具有很多的工业用途尚不具有任何的工业用途

等离子体表面处理（也称为大气等离子体）改善了聚合材料，橡胶，金属，玻璃，陶瓷等的润湿性能。修改难以粘合的材料的分子以获得更好的粘附性，而不会对表面造成伤害。等离子体表面处理（也称为大气等离子体）改善了聚合材料，橡胶，金属，玻璃，陶瓷等的润湿性能。修改难以粘合的材料的分子以获得更好的粘附性，而不会对表面造成伤害。等离子处理非常适用于三维塑料件，薄膜，橡胶型材，涂层纸板和较厚的材料，如泡沫和实心材料片材。该技术在许多工业领域，包括医疗，汽车，包装，FPC，手机和聚合物薄膜都是有效的。 通常，泡沫，玻璃，塑料片和波纹材料具有较差的润湿性，需要用到等离子表面处理，常规的应用有：1、塑料片通常需要在整理应用前进行表面处理。2、玻璃表面的疏水性质引起许多粘合困难。3、在涂装，印刷或涂布之前，很多材料通常需要微处理。由于它们的材料组成和不平坦的表面，波纹塑料板和壁板抵抗后处理应用。等离子处理系统通过成熟的技术来处理这些问题，来实现高性能和高效的生产是可以的，因为我们的电晕和等离子体系统增加了油墨，涂料和粘合剂与基材的粘结。等离子清洗系统专为电晕处理多达3mm厚度和660 mm宽的塑料片而设计。 它非常适合生产线或手动处理站，用于简单，基于配方的操作，产生大量的等离子体，来增加表面性能活化处理效果，从而在基材和油墨，层压板，涂料和粘合剂之间形成牢固的粘合。 该系统可以在印刷或层压之前进行设置，也可以作为独立的手动系统使用。通过高能量电晕场。 内置传感器自动告知系统何时打开和关闭治疗。 过程控制界面提供均匀，可靠和可重复的表面处理。目 前，达因特已经创建了大气和真空两类不同的等离子处理专用系统，用于表面处理厚度达到2米宽的厚和敏感材料，如板，玻璃，挤压中空板，泡沫，蜂窝材料和印刷电子。 线性等离子体系统可以配置为产生无电位处理，防止对精细基板和嵌入式电路造成损坏。在电晕和等离子体表面处理系统中提供先进的技术，为客户提供真正，经济高效的粘合，印刷和涂层应用解决方案。1、 通过研究，专业知识，创新和经验将优质的产品带到国内市场。2 、提供全系列的标准和定制产品，以满足客户的需求，无论项目的规模和范围如何。3 、通过认真协作，优质的产品和优质的服务建立积极的，长期的客户关系。4 、培养在职业，道德和安全环境中提供员工工作满意度的工作环境。 当需要将塑料材料粘合到金属或其他塑料上时，要在塑料，硅胶，橡胶，玻璃或复合材料表面上印刷或涂层，则成功的结果取决于对该表面的粘合性。等离子体表面处理改变了表面（人眼不可见），并改善了许多应用的粘合。粘合强度依赖于一种特定的性能：表面能或张力。

Europlasma 低压等离子表面处理, 活化改性设备 CD 1000上海伯东代理比利时 Europlasma 等离子表面处理设备 CD 1000, 智能操作简单, 等离子腔容积 490 L, 标准 3个托盘设计, 可按需定制, PLC 控制, 方便集成于 ERP 系统, 适用于 PCB, 子组件或完全组装生产. 根据样品应用可选择 Nanofics@ 或无卤素涂层技术 PlasmaGuard 工艺, 实现样品表面的等离子活化改性, 超亲水纳米涂层 WCA10, 超疏水疏油涂层 WCA 120, 满足样品防水, 亲水, 疏油, 防腐, 等离子活化等功能.Europlasma 低压等离子表面处理设备 CD 1000 参数腔室材料：铝有效尺寸：1000 x 700 x700mm容积：490L舱门：装有可视窗口标准托盘：3至5个 尺寸:858 x 672mm真空度测量皮拉尼真空计真空泵干式真空泵泵组频射发生器根据客户应用需求定制控制系统PLC 可实现下列功能1. 17 英寸触摸屏, 自动控制反应过程 2. 根据处理材料设定不同的处理工艺参数 3. 测定真空泵压力, 抽真空时间, 充气速度, 工作压力, 处理时间. 温度. 频射发生器输入电压等指标 4. 监测所有的运行指标, 保证各项参数在设定范围之内 5. 设定操作进入密码.6. 可定制 ERP, SAP 系统接口电源380V AC, 三相，50Hz, 40A反应气体气体输入端口, 含气体流量控制器 (MFC), 最多可以 5个 MFC, 可多种工艺气体混合气体输入直径1/4英寸（6.45mm） 管道, 输入压力:1Bar尾气排放直径 28mm 输出端口, VOC 尾气处理装置性能急停开关 真空泵保护锁 高温保护锁 CE认证. Europlasma 低压等离子表面处理, 活化改性设备适用于涂覆如下产品:1. 可穿戴电子设备: 蓝牙耳机, 助听器, 手环, 手表等2. 薄膜: 锂电池行业, 精密仪器等3. 无纺布和功能性纺织物: 运动户外产品4. 无卤素 PCB 元器件5. 医用器材: 医用导管, 口罩, 针座活化, 人体植入,细胞培养瓶活化.Europlasma 在 PCB 生产领域的应用: 通过使用无卤素涂层技术 PlasmaGuard, 实现 PCB 防水.1. 多层板生产中内层的处理2. 高厚径比板的处理3. 微孔, 埋孔, 盲孔, 激光钻孔板的处理4. 使用新型树脂材料板的处理5. 铁弗龙基材板的处理 (只能用等离子技术处理)6. 软板的处理7. 成板焊接前处理Europlasma 在生物医疗活化的应用: 通过使用 Nanofics@, 实现超亲水特性 WCA＜10° 1. 对产品表面预清洁: O2 等离子体可以吸附附着在产品表面的微小颗粒物及其他污染物, 通过真空泵把混合气体抽出真空腔, 达到预清洁的效果2. 减小产品表面张力, 使得产品的水接触角明显减小, 匹配合适的等离离子能量和浓度, 可以做到产品表面水接触角 WCA＜10°, 3. O2 等离子体在产品表面发生化学反应, 产品表面可以增加很多功能性官能团, 包括羟基 (-OH ), 羧基 ( -COOH ), 羰基 ( -CO- ）, 氢过氧基 (-OOH ) 等, 这些活性官能团在细胞培养过程中可以提高反应速度和活性.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

宽幅线性等离子清洗机SPK500S技术规格书 深入表面 魅力科学（1）产品简述（1.1）等离子清洗的作用等离子清洗的作用原理主要是：（A）对材料表面的刻蚀作用--物理作用等离子体中的大量离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子，作用到固体样品表面，不但清除了表面原有的污染物和杂质，而且会产生刻蚀作用，将样品表面变粗糙，形成许多微细坑洼，增大了样品的比表面。提高固体表面的润湿性能。（B）激活键能，交联作用等离子体中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的键能在0~10eV，因此等离子体作用到固体表面后，可以将固体表面的原有的化学键产生断裂，等离子体中的自由基与这些键形成网状的交联结构，大大地激活了表面活性。（C）形成新的官能团--化学作用如果放电气体中引入反应性气体，那么在活化的材料表面会发生复杂的化学反应，引入新的官能团，如烃基、氨基、羧基等，这些官能团都是活性基团，能明显提高材料表面活性。 （1.2）大气线性等离子清洗的优势等离子清洗作为重要的材料表面改性方法，已经在众多领域广泛使用。与传统的一些清洗方法，如超声波清洗、UV清洗等，具有以下优点：（A）处理温度低处理温度可以低至80℃、50℃以下，低的处理温度可以确保对样品表面不造成热影响。（B）处理全程无污染等离子清洗机本身是很环保的设备，不产生任何污染，处理过程也不产生任何污染。可以与原有生产流水线搭配，实现全自动在线生产，节约人力成本。（C）处理效果稳定等离子清洗的处理效果非常均匀稳定，常规样品处理后较长时间内保持效果良好。（D）可以完美搭配自动化流水线，提高生产效率根据用户现场需求，配置最优的流水线生产方案，大大提高生产效率。 （1.2）产品原理等离子清洗机的结构主要分为三大组成部分，分别是高压激励电源、等离子发生装置喷枪、控制系统。（A）高压激励电源：等离子体的产生需要高压激励，大气线性等离子采用射频电源进行激励，频率为13.56MH，激励均匀稳定。参数根据样品实际情况可进行调节，已达到最优的改性效果。（B）等离子发生装置喷枪：大气线性等离子发生装置采用进口设计的放电装置，放电效果均匀，处理高度高。（C）控制系统：控制系统作用在于控制整个大气线性等离子清洗设备的运行，以及整体系统的保护。 （1.3）晟鼎简介晟鼎精密，致力于为用户提供表面性能处理及检测整体解决方案，自主研发生产及销售等离子清洗设备、接触角测量仪、全自动百格刀、表面洁净度仪、达因笔等表面性能处理及检测产品。公司由多年从事表面性能研究的团队组成，立志发展民族工业品牌。坚守持续创新的宗旨，晟鼎精密通过不懈努力和过硬的产品品质，以及专业优质的服务，已经赢得国内外广大用户的一致认可。不但产品系列完善齐全，晟鼎精密还具有严格的产品生产标准，高精度的数控加工机床等精密生产设备、还有进口的质量检测工具，以及科学规范的管理体系，确保提供给用户的每一套产品都是精益求精。至今，晟鼎精密的产品已经广泛应用汽车制造、手机制造、玻璃光学、材料科学、电子电路、印刷造纸、塑料薄膜、包装技术、医疗医用、纺织工业、新能源技术、航天军工、手表首饰等等领域。晟鼎精密将继续孜孜不倦，为“向全球提供最具性价比的表面性能处理及检测整体解决方案”的奋斗目标而不懈努力！ （2）技术规格基本参数设备尺寸1750L * 1200W * 1500Hmm重量100KG输入电源220V，50/60Hz功率600W保护防护过载保护、短路保护、断路保护、温度保护电源参数电源功率600W可调电源频率13.56MHz放电装置参数有效处理宽度500mm处理高度5mm其它参数传送带传输速度0-60mm/s可调气路控制Ar、O2、N2，三路可选PLC控制西门子、松下系列（3）性能优势（1）德国电路技术：采用德国高压激励电源电路技术，产生高密度等离子体，确保出众的清洗效果。（2）全面安全防护：温度安全防护功能，过载防护功能，气压失常防护功能，短路断路报警防护功能，各种误操作保护功能。（3）独有放电技术：特殊处理及特殊结构的放电装置，确保形成稳定均匀的等离子体。（4）搭配流水线生产：根据用户现场需求，配置最优的流水线生产方案，大大提高生产效率。（5）优质产品部件：产品全部部件采用国内外顶尖优质部件，确保设备性能优越（6）线性清洗：满足不同场合温度要求，不对清洗产品造成温度影响（7）精密数控加工：进口精密CNC数控机床加工工艺，并配备进口三坐标测量仪进行质量监控.

德国Diener electronic GmbH + Co. KG公司成立于1993年，专业从事等离子表面处理设备的研发与生产， Diener等离子清洗机可用于清洗、刻蚀、磨砂和表面准备等。可选择40kHz/80kHz/100kHz、13.56MHz和2.45GHz三种射频发生器，以适应不同的清洗效率和清洗效果需要。等离子产品线包含标准及特种设备，涵盖所有等离子表面处理应用领域,同时该公司接受非标定制及样品批量处理服务。Diener等离子清洗机 ZEPTO W6主要应用领域： 1、半导体元件、印刷线路板的清洗。 2、高分子材料表面修饰 3、生物芯片、微流控芯片的清洗 4、芯片、电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片等的清洗 5、各种形状的人工晶体、ATR元件、天然晶体和宝石的清洗。 6、光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片的清洗。 7、各种陶瓷、金属基片上的残留凝胶等杂质的清洗。 8、各种医疗器材和仪器的清洗。 9、增加复合材料、生物分子材料表面的结合力。 参数：1. 手动控制运行模式2. 常用工作气体空气、氩气、氮气或混合气体等3. 功能：表面清洁、激活及改性4. *发生器、控制器及舱体一体设计，根据工艺要求不同，可在主机上完成功率、气体流量的设置5. 双路工作气体，浮球气体流量计 6. *高硼硅玻璃反应舱，Dia.:160mm*L180mm，容积为4L7. *高周波射频频率13.56MHz 0~300W 功率连续可调8. 电极材质为铝/不锈钢,覆盖玻璃舱体外周,保证产生均匀的等离子体,分布精度+/-2%9. 外形尺寸：W425*D450*H185mm10. 电源电压：单相AC230V 16AOPTION：1.石英腔体2.发生器40kHz,0~100W3.石英舟4.真空计5.计时器6.真空泵：油泵/干泵

德国Diener electronic GmbH + Co. KG公司成立于1993年，专业从事等离子表面处理设备的研发与生产， Diener等离子清洗机可用于清洗、刻蚀、磨砂和表面准备等。可选择40kHz/80kHz/100kHz、13.56MHz和2.45GHz三种射频发生器，以适应不同的清洗效率和清洗效果需要。等离子产品线包含标准及特种设备，涵盖所有等离子表面处理应用领域,同时该公司接受非标定制及样品批量处理服务。Diener等离子清洗机 ZEPTO W6主要应用领域： 1、半导体元件、印刷线路板的清洗。 2、高分子材料表面修饰 3、生物芯片、微流控芯片的清洗 4、芯片、电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片等的清洗 5、各种形状的人工晶体、ATR元件、天然晶体和宝石的清洗。 6、光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片的清洗。 7、各种陶瓷、金属基片上的残留凝胶等杂质的清洗。 8、各种医疗器材和仪器的清洗。 9、增加复合材料、生物分子材料表面的结合力。 参数：1. 手动控制运行模式2. 常用工作气体空气、氩气、氮气或混合气体等3. 功能：表面清洁、激活及改性4. *发生器、控制器及舱体一体设计，根据工艺要求不同，可在主机上完成功率、气体流量的设置5. 双路工作气体，浮球气体流量计 6. *高硼硅玻璃反应舱，Dia.:160mm*L180mm，容积为4L7. *高周波射频频率13.56MHz 0~300W 功率连续可调8. 电极材质为铝/不锈钢,覆盖玻璃舱体外周,保证产生均匀的等离子体,分布精度+/-2%9. 外形尺寸：W425*D450*H185mm10. 电源电压：单相AC230V 16AOPTION：1.石英腔体2.发生器40kHz,0~100W3.石英舟4.真空计5.计时器6.真空泵：油泵/干泵

Colibr是一种台式等离子系统，专为表面清洁，改性和活化而设计。它可以在不同的材料上运行，如金属，塑料，陶瓷，纸张等。用户友好的控制界面使Colibrì 成为小型生产或研发环境的简单通用解决方案。工作原理Colibrì系统完全由微控制器控制。 利用该系统，可以简单地通过执行可由用户编辑的9个配方中的一个来执行处理。 使用高精度针阀，将受控的气流引入处理室。 将低频信号（50kHz）施加到腔室内的电极，这与气体分子相互作用从而触发等离子体。 产生的等离子体提供与待处理基板表面的单层相互作用的反应离子物质。 通过对工艺参数（气体流量，信号强度，持续时间......）进行处理，可以改变生成的过程。产品功能?台式等离子系统，简单通用?最多可处理十种不同的可编辑配方?一致结果的一致性?长期可靠性?使用主要品牌组件技术规格尺寸 宽 x 长 x 高 450 x 370 x 180 mm净重 16 Kg （不含真空泵）净空 右，左，前 - 600mm，后 - 300mm

PlasmaDyne Pro 1000s Treating System 大气等离子体处理系统 采用大气等离子技术处理各种表面，如塑料，橡胶，玻璃，金属，纸板和复合材料。大气等离子体清洗去除杂质及表面有机污染物并改变基质分子结构，重新构造表面的化学性质，从而在基材与粘合剂，涂料，层压材料，涂料和油墨之间形成强大的粘合，提高表面能量。PlasmaDyne Pro 1000s采用大气等离子技术处理各种表面，如塑料，橡胶，玻璃，金属，纸板和复合材料。大气等离子体清洗去除杂质及表面有机污染物并改变基质分子结构，重新构造表面的化学性质，从而在基材与粘合剂，涂料，层压材料，涂料和油墨之间形成强大的粘合，提高表面能量。处理头内的高压电流通过加压将等离子体施加到基底上，针对各种应用调整功率及处理水平，固定处理头的宽度为10-12 mm。 可定制一个或多个固定或旋转头，可作为独立单元或合并到其他生产线中运行，先进的控制系统确保均匀的可重复性的表面处理工作。功能和特点：1．可调节的功率水平高达600W（以达到理想的处理水平 - 提高功率，提高抗性基板的表面能力，或降低精密基板的功率）。2.一个或多个固定处理头的标准独立单元包括紧凑，耐用的焊接和粉末涂层钢柜和控制系统，前门控制面板，侧面远程连接器，高压变压器，和处理头的空气供应系统。3.彩色触摸显示屏，用于监控所有系统参数，包括故障排除和提供故障日志并下载功能。4.结构紧凑，经济实惠。5.工作场所安全，不产生臭氧。6.紧凑的设计可轻松集成到新的或现有的生产线中。7.配备活动配件，可提供3/8“至1/2”的处理带或5/8“，1 1/2”，2的扩展宽度，带有旋转/宽喷嘴选项。8.独立的供气系统使用直流，低压的自动鼓风机，以避免其他系统产生的压缩空气污染。9.低/高等离子处理水平报警，以确保一致的质量结果。如果处理过程中受到损害，系统将停止运行。10.完全可定制，可满足您独特的表面处理应用，最多可配置20个处理头。PlasmaDyne易于使用，操作具有成本效益，可靠且安全。易于集成和操作 - 可轻松集成到机械臂或往复机上，更直观，提高生产率。减少停机时间和维护 - 最小元件和先进的组件相结合，意味着更平稳的操作和更长的系统寿命。专为快速更换应用而设计 - 轻松编程和调整配置可大限度地减少停机时间。环保 - 无需使用有毒的底漆和溶剂，减少VOC排放。便于使用紫外线技术。节省成本的耐用性和灵活性 - 这意味着对导电，半导电和非导电区域进行低维护和均匀处理。PlasmaDyne专为快速更换和产品定位而设计，可大限度地减少停机时间，同时提供一致的处理。 PlasmaDyne的旋转头可处理更广泛的区域，大气等离子体可为您的应用提供表面功能。有多种旋转头可供选择。 PlasmaDyne的固定头在机械臂的帮助下可处理狭窄的凹槽

FOR SURFACE MODIFICATION - CLEANING - ACTIVATION - ETCHING - DEPOSITION表面改性（亲水性和赤水性），等离子清洁，等离子活化，刻蚀以及反应离子刻蚀，等离子沉积等应用 GlowResearch是美国著名的真空系统解决方案供应商，其旗下的OptiGlow和AutoGlow全自动多功能等离子表面处理系统应用于小型生产及研发实验室的使用和发展历史已经超过了20年，随着研发提升及软硬件更新，现在的系统不但拥有使用的高稳定性和高效率外，其集成化设计和友好操作界面使得用户上手操作及参数调整都非常简易。其全球客户群已经超过了3000多套，遍布欧美各大著名的微纳米加工实验室及化学生物实验室，著名包括莱斯大学，麻省理工学院，哈佛大学，尤利希中心，法国生物化学与生物分子研究中心，法国应用光学研究所，德国生物技术研究所，德国航空航天研究所，德国马普所，英国国家工程实验室等等。射频等离子体是最广泛使用和通用性好的等离子体技术，它应用于医疗和半导体的宽广领域内。在通用工业/医疗行业，需要清洁、涂覆或化学改性的材料表面被浸入到射频等离子体的能量环境中，除了射频等离子体的强烈的化学作用外，其定向效应也起到了一个重要的作用。携带动量的粒子到达材料表面后可以物理地去除更加化学惰性的表面沉淀物（如金属氧化物和其它无机物沉淀）以及交联聚合物以锁定等离子体的处理。AutoGlow—高纯度石英样品室和石英样品托，3个气体流量质量控制器，150mm基底尺寸，13.56 MHz射频激发等离子体可变功率从10到300W，全自动协调校准，压力可读，氮气清洗，CE认证标识。电容耦合的，只需按一个按钮便可全自动操作整个处理流程。使用在等离子清洁，键合前处理包括活化胺化产生官能团, 刻蚀薄膜，去除有机物，光刻胶灰化等。桌面紧凑式设计，最低可在10W功率运行。 AutoGlow 200—可以处理200mm基底（8寸晶圆），和反应离子刻蚀RIE(可选ICP电感耦合等离子体源）和等离子体处理。3个气体流量质量控制器–氧气，氩气或氟化气体（CF4或SF6）, 13.56 MHz射频激发等离子体可变功率从10到600W，全自动协调校准，，压力可读，氮气清洗，CE认证标识，高品质铝样品室。使用在等离子清洁，键合前处理包括活化胺化产生官能团, 刻蚀薄膜，去除有机物，光刻胶灰化等。桌面紧凑式设计，最低可在10W功率运行。具有观察窗用来监控OES发射光谱和处理终点检测。 Rice University has an AutoGlow in the Halas Research Lab. The system is used for removal of polymer resists for applications in plasmonics and nanophotonics and prepare samples for surface-enhanced molecular spectroscopy. Harvard University’s AutoGlow system in the Gordon McKay lab. The system is used for organic removal, surface modification and serves the needs of several researchers working on DNA research and human genome sequencing. Pictured is the AutoGlow at the Microsystems Technology Lab at MIT. This AutoGlow is used for Photoresist removal, cleaning and surface modification. This lab does research in MEMS, BioMEMS, Nanotechnology and Photonics. 全自动控制系统可以使用户轻松进行操作处理样品, 一旦系统检测真空达到预设真空值后, 便自动开启并控制气体流量进入, 这个过程不需要任何其他操作因素. 系统也可配置两路或三路气源和同时使用不同比例的混合气源（比例可以任意调整）然后通过一个额外的阀门来自动调整任意比例两种不同混合气源.系统特别设计用于等离子体表面处理包括光刻胶灰化, 有机物去除, 清洗, 活化, 改性, 沉积和刻蚀, 具有功能多, 易操作性强, 全自动化无需调试, 可靠性高, 低成本等优点, 广泛应用于半导体制造, 微电子加工, 生命科学制造和前处理等. 可适用多种工艺气体, 如氩气Ar, 氧气, 空气及氟化合物如CF4或SF6, 通过两个气体质量流量控制气体以及特殊阀门控制任意气体混合比例. 除了结构紧凑和集成度高外, 出色的射频激发等离子体配合出色的工艺控制, 失效保护系统和数据采集系统使其很容易使用在实验室和生产环境中。 湿法刻蚀的缺点在于各向同性横向侧面刻蚀和垂直刻蚀是一致的速度。干法刻蚀的目的在于制作一个各向异性刻蚀-意味着刻蚀是定向的。一个各向异性刻蚀性能对于一个好的微纳图形转移是至关重要的。反应离子刻蚀RIE就是这种标准的干法刻蚀方式。RIE典型的反应气体是O2 和 CF4. 功能一：Plasma Cleaning等离子清洗： 应用于： - 金属表面超精细清洗 - 塑料与弹性体表面处理 - 一般玻璃表面陶瓷表面处理和清洗 - 去除样品表面氧化物和碳污染物 功能二：Plasma Surface Activation等离子表面活化功能三：Plasma Coating 等离子镀膜功能四：Plasma Surface Etching 等离子表面刻蚀-POM、PTFE、PEP、PFA -PTFE部件 -构建硅基结构 -光刻胶灰化

产品型号：GSL1100X-PJF 等离子表面处理仪产品简介：GSL1100X-PJF 等离子表面处理仪是一种紧凑的大气离子表面处理喷射系统，主要由射频发生器、离子束头组成。喷射的离子束流能在较低的温度和没有真空条件下，迅速活化和清理材料表面。例如单晶片、光学元件、塑料等广泛的材料。 为了获得高质量的外延薄膜或者光学涂层，预先进行表面处理可以得到显著的效果。主要特点：操作简单、安全，高速处理物件表面； 不需要真空、不需要腔室； 手提式、可以现场使用、成本低； 重量轻、结构紧凑。技术参数：输入电源：110/220,50/60Hz,小于1000W 输出频率：20-23KHz 离子束头：包括2个离子束头，圆头10-12mm,矩形头15-18mm 输入气体压力和工作气氛：最小0.275兆帕，工作气氛可以是空气、氮气、氩气、混合气体（不要使用易燃易爆气体）； 等离子工作压力：0.048兆帕-0.068兆帕； 工作环境：温度 42° C；湿度&le 40%RH；没有易燃气体； 外形尺寸：380 (宽) × 210 (高) × 500 (长) mm； 净重：10公斤；产品证书：CE认证具体信息请点击查看：

Europlasma 低压等离子表面处理, 活化改性设备 CD 600 PLC上海伯东代理比利时 Europlasma 等离子表面处理设备 CD 600 PLC, 智能操作简单, 等离子腔容积 216 L , 适用于实验室和科研. 根据样品应用可选择 Nanofics@ 或无卤素涂层技术 PlasmaGuard 工艺, 实现样品表面的等离子活化改性, 超亲水纳米涂层 WCA 10°, 超疏水疏油涂层 WCA 120°, 满足样品防水, 亲水, 疏油, 防腐, 等离子活化等功能.Europlasma 低压等离子表面处理, 活化改性设备 CD 600 PLC 规格腔室材料: 铝内部尺寸: 600 x 600 x 600 mm.容积：216L舱门: 装有可视窗口标准样品托盘: 5个 标准尺寸: 552 x 522 x 40 mm.真空度测量2个皮拉尼真空计真空泵干式真空泵泵组, 抽速 480 立方米每小时频射发生器根据客户应用需求定制控制系统PLC 可实现下列功能17 英寸触摸屏, 自动控制反应过程 根据处理材料设定不同的处理工艺参数 测定真空泵压力, 抽真空时间, 充气速度, 工作压力, 处理时间. 温度.频射发生器输入电压等指标 监测所有的运行指标, 保证各项参数在设定范围之内 设定操作进入密码.电源380V AC, 三相, 50Hz, 40A反应气体一个气体输入端口,含气体流量控制器（MFC）气体输入直径1/4英寸（6.45mm） 管道, 输入压力:1Bar尾气排放直径 28mm 输出端口性能急停开关 真空泵保护锁 高温保护锁 CE认证.Europlasma 低压等离子表面处理, 活化改性设备适用于涂覆如下产品:1. 可穿戴电子设备: 蓝牙耳机, 助听器, 手环, 手表等2. 薄膜: 锂电池行业, 精密仪器等3. 无纺布和功能性纺织物: 运动户外产品4. 无卤素 PCB 元器件5. 医用器材: 医用导管, 口罩, 针座活化, 人体植入,细胞培养瓶活化.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

等离子体清洗好处,对PTFE进行等离子活化处理,蚀刻工艺,为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺,并得到了应用,等离子体清洗与其它清洗方式对比表.等离子体清洗好处：　１、其除去了有机层（含碳污染物），其会受到例如， 氧气 和空气的化 腐蚀，通过超压吹扫，将其从表面去除。　　　通过等离子体中的高能量粒子，脏污会转化为 稳定的小型分子 ，并借此将其移除，处理过程中脏污的厚度只允许达到 几百纳米 ，因为等离子的清除速度仅能够达到每次几 nm。　　　脂肪含有诸如锂化合物之类的成分。仅能够除去其 有机成分 。这一点同样适用于指纹。故此，建议戴手套。　２、还原氧化物　　　金属氧化物会和工艺气体发生化学反应。作为工艺气体，使用了氢气和氩气或氮气的混合物。等离子体射流的热效应可能会导致进一步的氧化。故此建议在惰性气体环境下进行处理。常压等离子激活处理主要用于哪些方面？　　这种技术非常适用于以下工艺过程：　１、在粘合之前对塑料进行局部的等离子活化处理 　２、在粘合、植绒、印刷（例如，汽车行业中的橡胶型材）之前，对弹性体进行等离子活化处理　３、在粘合或者粘接之前，对金属和陶瓷表面进行局部的等离子活化处理　４、极为适合在直接于移印机中移印之前，对塑料零部件进行处理。用常压等离子体进行活化处理能够为我们带来哪些主要优势？　技术适用于在线工艺，例如，在对连续型橡胶型材、软管进行印刷、胶粘，植绒或者涂层之前进行等离子活化。　等离子体清洗与其它清洗方式对比表：应用用途和特性低压等离子体的优点低压等离子体的缺点常压等离子体的优点常压等离子体的缺点普通的等离子体生成 在等离子腔体室中均匀分布等离子体，腔室体积可变复杂的真空技术，在线等离子处理应用受到一定的限制可以直接在输送带上进行等离子处理，适用于在线处理，无需任何真空技术由于等离子体激发原理的原因，等离子处理痕迹有限，处理较大的对象的时候，必须使用多个喷嘴对金属进行处理可对易氧化的对象进行等离子清洗进行微波激发的时候，对象上可能会相应产生能量，这会造成对象过热对铝进行等离子处理的时候，可以生成很薄的氧化层对易氧化的对象进行等离子清洗，受到一定的限制对聚合物弹性体进行处理无法对PTFE进行等离子活化处理，蚀刻工艺，为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺，并得到了应用某些材料需要用到较大型的泵，以便达到必须的工艺压力无法对连续型对象进行预处理，工艺时间很短等离子射流的温度为约 200 - 300 °C。必须对表面的工艺温度进行很好的调节，以防止着火（很薄的材料）3D对象对等离子体腔室中的所有对象进行均匀处理。即使是中空腔室也可以从内部进行处理（例如，点火线圈、水箱等） 未知可进行局部表面处理（例如，粘结槽口）需要使用复杂的多关节型机器人技术。常压等离子体的间隙渗透性受到一定的限制散装部件通过转鼓法可以对散装部件进行均匀的等离子处理。零部件的件数和体积可以有所不同其仅能够使用转鼓的 1/3 体积（建议）可以直接在输送带上处理对象对象必须极为精确的定位在输送带上电子，半导体技术借助低压等离子体对电子元件、电路板和半导体部件进行等离子处理是先进的技术。未知金属或者 ITO 触点可在粘接处理之前进行等离子预处理（例如，LCD、TFT 和芯片的生产）涂层工艺生成均匀的涂层。研发了很多 PECVD 和 PVD 工艺，并得到了应用可能会造成等离子体腔室的污染具有很多的工业用途尚不具有任何的工业用途

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享受高达每分钟7,000埃的快速剥离速度，同时实践对工程师和操作员而言更安全的绿色制造。无需有毒化学物质，RFS系列可为各种应用提供较低的拥有成本和灵活的等离子功率设置。此外，RFS系列提供精确的温度控制，以实现均匀，可重复的结果。下游过程不提供等离子体充电。当准备好进行大规模生产时，您可以无缝过渡到我们的大批量自动化EcoClean系统。强大的清洁功能可去除光致抗蚀剂，聚酰亚胺和BCB；具有温和的Descum功能

C6L是一种按键控制的台式等离子处理系统，非常适用于多种材料的表面活化、清洁和改性，包括聚合物、金属、玻璃和陶瓷。提供单进气口或双进气口版本以及机载气体混合气管，能够处理多种气体以进行优化处理，包括空气、氧气、氢气、氩气、氮气和许多其他气体。&bull 等离子体清洗&bull 等离子表面活化以提高附着力&bull 等离子蚀刻&bull PDMS 和微流体设备&bull PEEK 和其他工程聚合物&bull 聚四氟乙烯&bull 金属&bull 陶瓷&bull 玻璃和光学器件 系统规格参数：&bull 射频电源：40KHz / 0-200W 可选装：13.56MHz / 100W 无需匹配&bull 不锈钢真空舱： Φ200mm×L200mm 约6L、可选石英舱体&bull 电极：高级网状一对一均匀性电极&bull 托盘：185×190×3 mm&bull 机箱规格：W552×H350×D380mm &bull 控制系统：手动控制&bull 真空泵：抽速 约4m3/h&bull 处理气体：1气路 、可选配2路&bull 自由设置参数：处理时间、功率、气体

设备介绍：微波等离子清洗机的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看，等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被激发为等离子态；气相物质被吸附在固体表面；被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子解析形成气相；反应残余物脱离表面。设备特点：微波等离子清洗机技术的最大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。微波等离子清洗机还具有以下几个特点：容易采用数控技术，自动化程度高；具有高精度的控制装置，时间控制的精度很高；正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证；由于是在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被二次污染设备应用：微波等离子清洗系统广泛应用于晶圆、玻璃基板、陶瓷基板、IC载板、引线框架、IGBT模块、带治具的MEMS传感器、射频器件等领域的表面处理

产品名称：等离子薄膜溅射仪 GSL-1100X-SPC-12产品简介：GSL-1100X-SPC-12型等离子薄膜溅射仪是为扫描电镜和电子探针等进行试样制备的设备，可进行真空蒸碳、真空镀膜和离子溅射，它也可以在高纯氩气的保护之下进行多种离子处理。用本设备处理的试样既可用于样品的外貌观察又可以进行成分分析，尤其是成分的定量分析更为适宜。本仪器装有分子泵，分子泵系统特别适用于对真空要求高、真空环境好的用户选用。 我公司供应的产品符合国家有关环保法律法规的规定（含采购商ISO14000环境体系要求），不会造成环境污染； 该产品符合采购商OHSMS18000职业安全健康管理体系标准的要求，不会对接触产品的人员健康造成损害！主要特点：抽速快，操作简便，真空度高，安全可靠技术参数：●试样处理室 （1）钟罩：内径250mm× 高度340mm （2）玻璃处理室： 玻璃罩 A：内径88mm× 高度140mm 玻璃罩 B：内径88mm× 高度57mm （3）试样台：直径40mm（最大） （4）试样旋转：电动 （5）挡板：电动 （6）蒸发加热器：可同时安装两个加热器 ●真空系统 （1）抽气系统：由分子泵、机械泵组成的高真空机组 （2）真空检测：热偶计、冷规 （3）常用真空度：1.3× 10-2 ~6× 10-3Pa （4）操作：手动 ●处理电源 （1）高压电源：DC3千伏10mA连续可变，用表指示。 （2）低压电源：AC10V100A连续可变，电流用表指示。 （3）电源要求：AC220V 50HZ 10A ●气体要求 氩气纯度99.9%（对样品有特殊要求时可使用） ●冷却要求 本系统采用F100/110F―普通轴承风冷涡轮分子泵，其冷却方式为风扇强制风冷和通水冷却两种，当工作环境低于32℃时，可采用风冷冷却，当工作环境温度高于32℃时，则必须采用水冷。重量：约150公斤 体积：L800mm× W560mm× H1340mm可选配件：氧化铝坩埚，石英坩埚，真空泵等具体信息请点击查看：

GIGAbatch 310M等离子系统：GIGAbatch 310M等离子系统 是 GIGAbatch 产品系列中的入门级型号。作为最小的系统，GIGAbatch 310M具有较高的性价比，凭借先进的等离子技术以及经济实惠等优点，它是实验室和大学的理想之选。然而，即使是基础版本，它也可用于使用 MFC 气体管道和 600 W 发生器，执行手动和自动等离子处理。基础版本的桌面型；为第二个气体管道提供空间。腔室最多可容纳 25 片直径为 150 毫米的晶圆，可以使用石英舟批量处理，或使用带有特殊装载装置进行单片处理。各种个性化配置的配件：具有特殊密封材料的配置，带冷却板和循环冷却器的腔室可用于从晶圆上去除 SU-8。GIGAbatch 360/380M等离子系统：GIGAbatch 360M 和 380M等离子系统，是专为满足低要求的小批量生产而设计。 GIGAbatch 360M版本有一个直径为 245 mm的工艺室，最多可容纳 50 片直径为 150 mm的晶圆。而GIGAbatch 380M版本的腔室内径为 300 mm，最多可容纳 25 片直径为 200 mm 的晶圆。该系统的基础版本是一款落地式设备，带有喷涂面板、可调节支脚和脚轮。它配有一个输出功率为 1000 W 的发生器、两个 MFC 气体管道、晶圆温度监控和一个终点侦测系统。此外，它还包括一个固定晶圆和基板的装置，可安装在腔体室内门上，并可根据客户具体要求进行设计。也可按客户需求提供：过程压力 (DSC) 的主动控制装置、法拉第笼、额外的气体管道、不同尺寸基板或晶圆的装载装置、陶瓷工艺室、使用含氟工艺气体运行的特殊密封件。GIGAbatch 360/380P等离子系统：GIGAbatch 360P 和 380P等离子系统，可满足半导体行业苛刻的要求，该系统使用相同的腔室几何结构。 GIGAbatch 360P型号的腔室直径为 245 mm，最多可容纳 50 片直径为 150 mm 的晶圆。而GIGAbatch 380P 型号的腔室内径为 300 mm，可容纳 25 片直径为 200 mm 的晶圆。与 M 系列系统的不同之处在于 P 系统满足 100 级洁净室兼容性的要求。特别注意生产线对避免颗粒物和金属污染的要求。该系统基础版本包括：带有不锈钢镶板、可调节脚和脚轮的落地式设备、带有一个输出功率为 1000 W 的发生器、两个带波纹管阀的气体管道和 MFC、具有晶圆温度监控和终点侦测系统、工艺室门具有电机驱动装置，可配备用于固定各种尺寸的石英舟的装置，石英舟安装在腔室门内部，并根据客户具体要求进行设计。也可按要求提供：过程压力 (DSC) 的主动控制装置、法拉第笼、不同尺寸基板或晶圆的装载装置陶瓷工艺室、使用含氟工艺气体运行的特殊密封件、P 型号可配备自动装载装置，可独立从晶圆盒中装载晶圆。

Aurora Z10冷等离子体种子处理仪统提供“Activated Air”活性气体，就像雷击周围的空气一样，可以改善种子健康，提高整体植物产量。冷等离子体种子活化过程的核心优势是提高发芽的一致性和发芽率以及幼苗的生长速度，这反过来又提高了种植者的产量和产量。该系统是移动的，需要外部电源和互联网连接。系统通过云连接，远程机器监控易于掌控整个活化过程。特点：&minus CEA的先进种子健康系统，冷等离子体促进种子健康和作物产量&minus 仅使用空气和电力，不添加化学物质&minus 低工作功耗（200W）&minus 专为垂直农场和温室设计规格：样品仓：10L处理量：2升（1公斤）的种子10.4英寸触摸显示屏远程监控控制超低功耗小于200w重量：143Kg

北京中海时代科技公司提供等离子plasma表面处理设备，致力于压电低温等离子体表面清洗处理、表面活化改性领域多年，等离子表面处理技术已被广泛应用到工业、医疗、科研等行业。我们为您提供可靠的等离子表面处理解决方案。性能特点 手持操作 专为敏感基材设计 等离子功率密度高 高效激发冷等离子体 产生温度 50 °C冷等离子体

北京中海时代科技公司提供等离子plasma表面处理设备，致力于压电低温等离子体表面清洗处理、表面活化改性领域多年，等离子表面处理技术已被广泛应用到工业、医疗、科研等行业。我们为您提供可靠的等离子表面处理解决方案。 德国瑞龙进口手持常压等离子体表面处理仪活化清洗处理机优势 无需化学处理或机械处理 高效脉冲大气等离子体手持装置对大型部件灵活操作和完善品质 优化地易于使用和为操作者的安全 手推车设计方便工业环境的各处使用 完全自动的空气压缩机供应集成在设备内部 双手操作和信号灯先进保护和提醒操作者和第三方 特征 独立的单位 单人易搬运 无需配备PLC只需要电源插座 强大和易于使用 没有压缩空气或质量流量控制要求 不同工艺/基板/几何图形皆可表面处理可实行的应用 活化表面能 杀菌和消毒 涂层和喷涂 超精细清洗 去除氧化物 粘接预处理 应用以下工序预处理 胶粘 印刷 印染 铸造 层压 发泡 涂层 清洗 键合 密封

德国Diener低压等离子清洗机 Tetra45 德国原装进口特点： 单层处理，腔体深度接受定制，Max.1200mm 使用PCCE/Full PC软件,拥有更精确的工艺参数控制功能 铝制腔体适用于半导体封装工艺 应用： 各种材料表面有机物与无机物的去除 IC/LED封装，BGA/CSP/COB基板处理 Wafer去胶和蚀刻 印刷基板镀层前处理 LED\光学\氟化材料\镜头等处理 塑料\橡胶\陶瓷\玻璃表面改性 技术参数：型号Tetra45 PCCETetra45 FULL PC控制模式手动和自动显示3.5’’TFT (7’’ optional)15’’ 软件Windows PCCE Soft Window Full PC真空计PID控制，数字显示真空计量程0~9.99mbar发生器*113.56MHz 0~600W工艺气路2pcs MFC/ O2、Ar、N2、He冲洗气路1pc泄气气路1pc腔体材质铝合金腔体尺寸*2W572 mm x D650 mm x H125 mm，约45L腔体门铝合金带观察窗托盘：旋转托盘 直径 Max.550mm外形尺寸W850 mm x D800 mm x H1700 mm电源3P,AC400V 16A真空泵*3Leybold D65C 注：*1可以选配发生器2.45GHz 0~850W或者100kHz/0-500W *2腔体深度接受定制，Max.1200mm*3可以选配干式真空泵KASHIYAMA NEODRY36E

价格货期电议Europlasma 无卤素纳米防水涂层设备 CD 1000上海伯东代理比利时 Europlasma 推出世界上无卤素等离子纳米涂层 PECVD 设备, 提供消费电子产品超薄等离子防水涂层解决方案!, 可以用在产品表面, 比如电路板, 电子元件等. 满足 AR 眼镜, 耳机, 手机, 运动手表等消费电子 IPX7 等级甚至以上防水要求!Nanofics@ 是由比利时 Europlasma 公司研发的纳米级 (涂层厚度小于 100纳米) 功能镀层技术, 通过在材料浅表面实现低压等离子表面聚合或者原子层沉积, 从而赋予材料新的功能, 不影响材料本身的性能, 对三维结构以及复杂形状的材料表面都可实现均匀性涂覆, 实现防水, 防油. Europlasma 提供消费电子产品超薄等离子防水涂层解决方案!Europlasma 无卤素纳米防水涂层设备 CD 1000, 等离子腔容积 490 L, 标准 3个托盘设计, 可按需定制, PLC 控制, 方便集成于 ERP 系统, 适用于 PCB, 子组件或完全组装设备.腔室材料：铝有效尺寸：1000 x 700 x700mm容积：490L舱门：装有可视窗口标准托盘：3个 尺寸:858 x 672mm真空度测量皮拉尼真空计真空泵干式真空泵泵组频射发生器根据客户应用需求定制控制系统PLC 可实现下列功能：自动控制反应过程 根据处理材料设定不同的处理工艺参数 测定真空泵压力, 抽真空时间, 充气速度, 工作压力, 处理时间. 温度.频射发生器输入电压等指标 监测所有的运行指标, 保证各项参数在设定范围之内 设定操作进入密码.电源380V AC, 三相，50Hz, 40A反应气体一个气体输入端口,含气体流量控制器（MFC）气体输入直径1/4英寸（6.45mm） 管道, 输入压力:1Bar尾气排放直径 28mm 输出端口性能急停开关 真空泵保护锁 高温保护锁 CE认证. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东罗女士:上海伯东版权所有, 翻拷必究！

低温等离子清洗机,达因特厂家生产,用于清洗的等离子体处理在医疗器械和许多工业中有许多好处，等离子体清洗可以通过标准化学聚合技术产生类似的性质。在低温等离子体发生器中的物理过程的研究中，研究紊流，对电弧的影响，及允许能达到电场强度的最高值，在很大程度上决定了建立大功率等离子体发生器的可能性，等离子体发生器和电流在气流中理论研究可以用两种方式进行，完全的分析解，导电气体的议程和某些相应关系考虑平均参数的紊流。最初在等离子体发生器中紊流流动的计算表明，随着电流的增加，即在等离子体发生器管道中放热的增加，此时的电场强度越来越接近于在 层流中的电场强度，到现在还弄不清楚的是，这是与实际的层流流动相联系，这是仅在数值上一致。当这个分子迁移的过程开始大大的超过涡流，我们认为紊流流动的层流化是一种物理现象，为了弄清楚实际上电弧的存在是否促进了分子迁移过程的增加，需要探讨在等离子体发生器中圆管道的定场流动。由于电弧放电的区域开成了热解离的等离子体混合物，所以存在离子和自由碳原子，而且碳可以沉积在电弧发生器的内表面，因此就存在一种阴极材料的自稳定过程，这个过程产生时，碳的离子流在电场力的作用下发生运动。而碳的反方向流动是在阴极表面的蒸发，这样它们之间就建立发动态平衡，在工业设备上，这个工况的实现就使得电极的连续运行时间大大增加，实验证明靠近阴极表面的流场显著影响了电极的工况，所以数学模拟的主要目的是研究气体动力学的详细图像以及它们对靠近阴极区域的过程的影响，这里必须弄清楚一个条件，即如何实现阴极的自恢复过程，同时要解释等离子体发生器的工况特性和结构对这些过程的影响，必须考虑化学激活等离子体，而且还包括对流换热和等离子体气体流动的特性，因这它们也发生在等离子体发生器的流动过程中。用于清洗的等离子体处理在医疗器械、电子和许多工业中有许多好处。沉积是用来将薄膜均匀地应用到基材上，从而在广泛的最终用途产品中呈现出独特的独特的表面特性，而不是天然地发生在原始基材的物理行为中。等离子体清洗机（或辉光放电清洗合）利用等离子体源产生气体放电，以激活或裂解气体或液体单体，通常含有乙烯基，以引发聚合。由这种技术形成的聚合物通常高度分枝，高度交联，并牢固地附着在固体表面上。这个过程的最大优点是聚合物可以直接连接到所需的表面，而链的生长，减少了其他涂层过程，如接枝所需的步骤。这是非常有用的无针孔涂层的几纳米到许多微米厚度与溶剂不溶性聚合物。等离子体清洗可以通过标准化学聚合技术产生类似的性质。适当控制等离子体参数可以保持单体的特性，从而产生具有预期功能特性的薄膜。官能团如羧基胺或非常有用，当接枝膜随后到或作为生物相容性表面。等离子聚合物有助于消除弹性体的粘性，可用于将表面由疏水改为亲水，反之亦然。当聚合物沉积在其它聚合物上时，等离子体聚合物作为屏障层非常有用。由于等离子体清洗直接从单体沉积，因此没有由于湿化学合成或溶剂而产生的废物流。等离子清洗可以精确控制薄膜厚度。达因特 等离子体清洗机产品系列增加了蒸汽输送能力，使液体单体前体可以被加热成蒸汽并通过蒸汽流量控制器传递到真空室。气态单体将通过标准质量流量控制器（MFC）传递到腔室，在前驱体单体传递到腔室之后，等离子体能量被接通，激发单体，引发聚合过程。聚合物在腔室内部的所有表面上形成，包括待处理的部分。这样的结果是非常均匀的膜处理过的部分，使在角落和缝隙，不会容易沉积，如果使用聚合物沉积的替代形式。