反应过程进料系统

[color=#444444]最近用[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Yp][color=#3333ff]液质[/color][/url]检测AIBA（偶氮二异丁脒盐酸盐，温度较高易分解），遇到的情况是，液相其实主要是用来进料，不分离，然后做的检测发现质谱图没有我的东西，也没有合成的原料（由于做的优化工艺，反应应该未完全反应，应存在原料），我的疑问主要是，这个进料过程或者检测过程是不是要升温，可能产物分解了，因为百度了[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Yp][color=#3333ff]液质联用[/color][/url]的进料方式有多种（例如直接液相进料、喷雾进料，气化进料），所以觉得是不是检测时升温雾化、气化了之类的。还是说[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Yp][color=#3333ff]液质[/color][/url]其实就是直接进料呢？还有一个疑问是，盐酸盐需不需要加上盐酸计算分子量？[/color]

对于特定的反应过程，反应器的选型需综合考虑技术、经济及安全等诸方面的因素。 　　反应过程的基本特征决定了适宜的反应器形式。例如气固相反应过程大致是用固定床反应器、流化床反应器或移动床反应器。但是适宜的选型则需考虑反应的热效应、对反应转化率和选择率的要求、催化剂物理化学性态和失活等多种因素，甚至需要对不同的反应器分别作出概念设计，进行技术的和经济的分析以后才能确定。 除反应器的形式以外，反应器的操作方式和加料方式也需考虑。例如,对于有串联或平行副反应的过程,分段进料可能优于一次进料。温度序列也是反应器选型的一个重要因素。例如，对于放热的可逆反应，应采用先高后低的温度序列，多级、级间换热式反应器可使反应器的温度序列趋于合理。反应器在过程工业生产中占有重要地位。就全流程的建设投资和操作费用而言，反应器所占的比例未必很大。但其性能和操作的优劣却影响着前后处理及产品的产量和质量，对原料消耗、能量消耗和产品成本也产生重要影响。因此，反应器的研究和开发工作对于发展各种过程工业有重要的意义。

第一章 外延在光电产业角色近十几年来为了开发蓝色高亮度发光二极管，世界各地相关研究的人员无不全力投入。而商业化的产品如蓝光及绿光发光二级管ＬＥＤ及激光二级管ＬＤ的应用无不说明了Ⅲ－Ⅴ族元素所蕴藏的潜能，表１－１为目前商品化ＬＥＤ之材料及其外延技术，红色及绿色发光二极管之外延技术大多为液相外延成长法为主，而黄色、橙色发光二极管目前仍以[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]外延成长法成长磷砷化镓ＧａＡｓＰ材料为主。ＭＯＣＶＤ机台是众多机台中最常被使用来制造ＬＥＤ之机台。而ＬＥＤ或是ＬＤ亮度及特性的好坏主要是在于其发光层品质及材料的好坏，发光层主要的组成不外乎是单层的ＩｎＧａＮ／ＧａＮ量子井Ｓｉｎｇｌｅ Ｑｕａｎｔｕｍ Ｗｅｌｌ或是多层的量子井Ｍｕｌｔｉｐｌｅ Ｑｕａｎｔｕｍ Ｗｅｌｌ，而尽管制造ＬＥＤ的技术一直在进步但其发光层ＭＱＷ的品质并没有成正比成长，其原是发光层中铟Ｉｎｄｉｕｍ的高挥发性和氨ＮＨ３的热裂解效率低是ＭＯＣＶＤ机台所难于克服的难题，氨气ＮＨ３与铟Ｉｎｄｉｕｍ的裂解须要很高的裂解温度和极佳的方向性才能顺利的沉积在ＩｎＧａＮ的表面。但要如何来设计适当的ＭＯＣＶＤ机台为一首要的问题而解决此问题须要考虑下列因素：１要能克服ＧａＮ 成长所须的高温２要能避免ＭＯ Ｇａｓ金属有机蒸发源与ＮＨ３在预热区就先进行反应３进料流速与薄膜长成厚度均。一般来说ＧａＮ的成长须要很高的温度来打断ＮＨ３之Ｎ－Ｈ的键解，另外一方面由动力学仿真也得知ＮＨ３和ＭＯ Ｇａｓ会进行反应产生没有挥发性的副产物。了解这些问题之后要设计适当的ＭＯＣＶＤ外延机台的最主要前题是要先了解ＧａＮ的成长机构，且又能降低生产成本为一重要发展趋势。第二章 MOCVD之原理ＭＯＣＶＤ反应为一非平衡状态下成长机制，其原理为利用有机金属化学[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]沉积法ｍｅｔａｌ－ｏｒｇａｎｉｃ ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ＭＯＣＶＤ是一种利用[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]反应物，或是前驱物ｐｒｅｃｕｒｓｏｒ和Ⅲ族的有机金属和Ⅴ族的ＮＨ３，在基材ｓｕｂｓｔｒａｔｅ表面进行反应，传到基材衬底表面固态沉积物的制程。ＭＯＣＶＤ 利用[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]反应物间之化学反应将所需产物沉积在基材衬底表面的过程，蒸镀层的成长速率和性质成分、晶相会受到温度、压力、反应物种类、反应物浓度、反应时间、基材衬底种类、基材衬底表面性质等巨观因素影响。温度、压力、反应物浓度、反应物种类等重要的制程参数需经由热力学分析计算，再经修正即可得知。反应物扩散至基材衬底表面、表面化学反应、固态生成物沉积与气态产物的扩散脱离等微观的动力学过程对制程亦有不可忽视的影响。ＭＯＣＶＤ 化学反应机构有反应气体在基材衬底表面膜的扩散传输、反应气体与基材衬底的吸附、表面扩散、化学反应、固态生成物之成核与成长、气态生成物的脱附过程等，其中速率最慢者即为反应速率控制步骤，亦是决定沉积膜组织型态与各种性质的关键所在。ＭＯＣＶＤ对镀膜成分、晶相等品质容易控制，可在形状复杂的基材衬底上形成均匀镀膜，结构密致，附着力良好之优点，因此ＭＯＣＶＤ已经成为工业界主要的镀膜技术。ＭＯＣＶＤ制程依用途不同，制程设备也有相异的构造和型态。整套系统可分为1.进料区进料区可控制反应物浓度。气体反应物可用高压气体钢瓶经ＭＦＣ 精密控制流量，而固态或液态原料则需使用蒸发器使进料蒸发或升华，再以Ｈ２、Ａｒ等惰性气体作为ｃａｒｒｉｅｒ而将原反应物带入反应室中。2.反应室反应室控制化学反应的温度与压力。在此反应物吸收系统供给的能量，突破反应活化能的障碍开始进行反应。依照操作压力不同，ＭＯＣＶＤ 制程可分为Ｉ 常压ＭＯＣＶＤ ＡＰＣＶＤｉｉ低压ＭＯＣＶＤ ＬＰＣＷＤｉｉｉ超低压ＭＯＣＶＤ ＳＬＣＶＤ。依能量来源区分为热墙式和冷墙式，如分如下（Ⅰ）热墙式由反应室外围直接加热，以高温为能量来源（ＩＩ）等离子辅助ＭＯＣＶＤ（ＩＩＩ）电子回旋共振是电浆辅助（Ⅳ）高周波ＭＯＣＶＤ（Ⅴ）Ｐｈｏｔｏ－ＭＯＣＶＤ（Ⅵ）ｏｔｈｅｒｓ其中（ＩＩ）至（ＶＩ）皆为冷墙式3.废气处理系统通常以淋洗塔、酸性、碱性、毒性气体收集装置、集尘装置和排气淡化装置组合成为废气处理系统，以吸收制程废气，排放工安要求，对人体无害的气体。一般来说，一组理想的ＭＯＣＶＤ 反应系统必需符合下列条件ａ．提供洁净环境。ｂ反应物于抵达基板衬底之前以充分混合，确保膜成分均匀。ｃ．反应物气流需在基板衬底上方保持稳定流动，以确保膜厚均匀。ｄ．反应物提供系统切换迅速能长出上下层接口分明之多层结构。ＭＯＣＶＤ近来也有触媒制备及改质和其它方面的应用，如制造超细晶体和控制触媒得有效深度等。在可预见的未来里，ＭＯＣＶＤ制程的应用与前景是十分光明的。

反应釜加热冷却控温系统传统串通开槽控温装置的主要缺点是： 1 、油浴槽体积大 　　油浴槽主要作用有两个： 　　A.盛放导热介质 　　B.导热介质有热胀冷缩的物理特性，槽体相当于膨胀容器。 　　反应釜加热冷却控温系统开槽的系统控制外循环比如夹套反应的时候，反应釜的体积越大夹套的体积越大，整个系统的导热介质越多，加热和降温过程中浓缩变化越大，油浴，水浴槽体积要求越大。 整个系统的温度变化过程中的热量负载为整个系统导热油总量(主要)+反应釜体内的反应物，水浴，油浴槽的体积越大用于釜体内的有效功率越小，釜体内反应物升温和降温的速度响应及速率越慢。 反应釜的控温，是靠反应釜夹套的导热油的温度变化来控制釜体内的温度，系统导热介质越多，有效的功率用于釜体内的越少，控温的速度越慢。 2、 水汽的吸收 　　当低温反应时，开槽油浴的表面温度很低，很容易吸收空气中的水汽在压缩机的蒸发器表面结冰，冰是很好的绝热器，压缩机的蒸发器被绝热而无法导热，这样压缩机无法冷却导热介质从而无法降低釜体内的温度。 3、 油雾 　　当高温反应时，导热油会挥发到实验室的空气中而冷凝在家具的表面，堵塞通风橱的过滤器，由于导热油的闪点不同，有些可以引起燃烧和爆炸，导热油只能在闪点以下5度使用，所以导热油的使用温度范围比较有限，所以高温时需要一种介质，低温是需要更换另一种介质，另外高温时导热油很容易褐化和氧化。所以需要定期更换导热油，使用成本比较高。4、加热和冷却需要人工进行切换，容易出现误操作，出现事故。快速升降温系统产品实现了精确控制反应的温度：特点如下 1、配备加热冷却一体容器，换热面积大， 升温和降温的速率很快，导热油的需求量也比较小。2、可实现连续升降温，采用高温高压下运行压缩机技术，可从200度直接开启压缩机制冷，提高能效比。 3、整个循环是密闭的，高温时没有油雾挥发，导热油不会被氧化和褐化；低温时不会吸收空气中的水汽；延长了导热油的寿命。 4、具有自我诊断功能、冷冻机过载保护、高压压力开关、过载继电器、热保护装置等多种安全保障机能，充分保证使用安全；5、温度自适应控制 　 适应控制系统在控制工艺(如化学反应工艺)的过程中，持续不断的调节PID参数来给予工艺最好的控制温度和响应时间，这种过程是通过有效的多方位的测定温度，温度变化和温度变化的速率来实现的。 6、带有矫正外循环和内循环温度探头PT100的功能。 7、采用无CFC和HCFE制冷剂。8、 精确控制化学反应的速度。●　反应釜加热冷却控温系统整个系统的液体循环是密闭的，系统带有膨胀容器，膨胀容器和液体循环是绝热的，并不参与液体循环，只是机械的连接，不管液体循环的温度是高温还是低温膨胀容器中的介质低于60度 。 ●　反应釜加热冷却控温系统整个液体循环是密闭的系统，低温时没有水汽的吸收，高温时没有油雾的产生，导热油可以很广的工作温度；同一台机器，同一种导热介质可以实现-100度到200度的控温。 制冷量1KW～80KW 范围 ●　反应釜加热冷却控温系统整个循环系统中没有使用机械的和电子的阀。

各位大虾， 最近在寻找关于UV原油进料检验方面相关资料，有哪位大虾用过红外光谱扫描来进行UV原油进料检验的？？还请指教。 万分感激！

仪器仪表中自动化系统的组成 自动化系统由生产装置和自动化装置两大部分构成。 1.生产装置 在自动化系统中，将需要控制其工艺参数的生产设备或机器叫做被控对象。如化工生产中的各种塔器、反应器、换热器、泵和压缩机以及各种容器、贮槽都是常见的被控对象，而输送流体用的管道也可以是一个被控对象。在复杂的生产设备中。如精馏塔、吸收塔等，在一个设备上可能有多个控制系统。这时在确定被控对象时，就不一定是生产设备的整个装置。如一个梢馏塔，往往塔顶需要控制温度、压力.塔底又需要控制温度和塔釜液位等.而塔中部还需要控制进料量，在这种情况下.就只有将塔的某一与控制有关的相应部分作为该控制系统的被控对象。 2.自动化装置 自动化装置是实现化工生产过程自动化的工具，主要包括现场仪表、控制装置和显示装置。 (1)现场仪表 现场仪表指安装在生产装置上的检测仪表和执行器。 检洲仪表是生产过程中信息获得的工其，利用声、光、电、磁、热辐射等手段来实现对温度、压力、流量、物位、成分等工艺参数的侧旦。包括各种变盆的传感器和变送器。 执行器是直接改变生产变量信息执行的工具。它依据调节仪表的调节信息或操作人员的指令，将信号或指令转换成位移，以实现对生产过程中的某些参数的控制。执行器由执行机构与调节阀两部分组成.执行机构按能源划分有气动执行器、电动执行器和液动执行器。 (2)控制装置控制装置是生产过程信息处理的工具。它将检测仪表获得的信息，根据工艺要求进行各种运算，然后输出控制信号。控制装置包括气动电动模拟量控制器、可编程调节器、可编程控制器、计算机控制装置等多种类型。 (3)显示装置 显示装置是显示被测参数数据倍息的工具。它通过图表、数字、指示等方式将被侧参数等工艺状态信息显示出来，供操作人员了解生产过程状态。由于显示仪表处于控制系统的闭环回路之外，所以在分析、描述及绘制自动化系统时，常常不涉及。 显示仪表根据显示方式可分为:模拟显示、数字显示和屏幕显示。另外，显示仪表根据功能不同，也可分为指示仪表和记录仪表.其中记录仪表又可分为有纸记录仪表和无纸记录仪表。 http://www.china-1718.com/File/2011-11-01-14-29-39.jpg 如图1-1所示的自动化系统为燕汽加热器温度控制系统。图中热汽加热器为生产装里，温度检测变送器、温度控制器、执行器等构成自动化装置。当进料流量或温度等因素引起出口物料温度变化

本人在做气体分离，最近在考察进料气中含有水汽的情况。原料气经过鼓泡器带入水汽进入膜分离组件，渗透侧气体经过He气吹扫进入岛津GC-2014色谱（进入色谱前未加任何干燥装置），检测器为TCD检测。这两天发现，在渗透侧气体含有微量水汽时，色谱出峰非常混乱，基线也非常不平。考虑过进色谱前加干燥器，但是顾虑到干燥装置会吸附渗透侧气体。请问有谁遇到同样的情况吗？

[color=#444444]本人目前在做有关烯烃的羰基化反应，用[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相色谱[/url]检测产物。 不知道什么原因，色谱图中CO和H2的峰面积反应后比反应前不降反增。大家能不能提几个出现这种问题的原因。合成气和烯烃按4：1进料。转化率50%。[color=#444444]H2和CO是用MFC进样，觉得应该没问题，考虑会不会泵送的丁烯量不够？[/color][/color]

[b][color=#cc0000]【采购管理系统】：[/color][color=#cc0000]采购管理系统是通过采购申请、采购订货、进料检验、仓库收料、采购退货、购货发票处理、供应商管理、价格及供货信息管理、订单管理，以及质量检验管理等功能综合运用的管理系统，对采购物流和资金流的全部过程进行有效的双向控制和跟踪，实现完善的企业物资供应信息管理。采购管理系统可以有效的为企业提供进出库的便捷方式，并且可以通过平常的系统录入可以进行直观的展示。[/color][/b]

原子化过程中的化学反应 试液在火焰原子化过程中，伴随着一系列反应，在这些反应中较为重要的是离解、电离、化合和还原等反应，它们不仅决定了火焰中试样的原子化效率，而且决定了火焰原子化过程中化学干扰的程度。 1﹑原子化过程中的化学反应 ⑴离解反应 火焰中存在的金属化合物，通常以双原子分子或三原子分子存在，多原子或有机金属化合物通常在火焰中不稳定的，在雾珠脱剂过程中即被分解成简单分子化合物，在火焰中，当火焰温度达到化合物的离解能时，大多数双原子或三原子分子也不稳定，它们反生离解，形成自由原子。 MX←→M+X 此时，火焰中自由原子浓度取决于该金属化合物在火焰中的离解度α。 α=[M]/（[M]+[MX]） 式中[M]表示火焰中已离解成金属原子的浓度；[MX]表示还未离解的分子浓度。 在稳定的火焰温度下，金属原子与MX分子间达到平衡，根据质量作用定律，可得： α=1/[1+[X]/Kd] 式中[X]是火焰中非金属原子的浓度，Kd是离解平衡常数。由此可见，Kd越大，[X]越小，则离解度*越大，火焰中存在的自由金属原子浓度就越高。若[X]＜ Kd则α≈1，即被测元素几乎全部离解为基态原子；若[X]＞Kd，则*≈0，化合物几乎不离解，一般情况*介于这两种极限情况之间，即0＜α＜1。 对于给定[X]和火焰温度，Kd的值主要取决于化合物MV的离解能，一般情况下；当离解能小于3.5evMX，火焰中不稳定，易发生离解，而离解能大于5?ev时,在火焰中较稳定,难以离解。

抗生素发酵系统工艺配管设计1 　简述 大多数抗生素初级原料药的生产均是通过生物发酵,然后经分离精制而成。提炼生产与一般的化学制药以至化工生产在管路配置的工艺要求是一致的:即保证工艺物料流程顺畅。发酵生产由于生产过程是连续的,且需满足菌种的正常生长、生产要求的环境条件如温度、PH、溶解氧及限制杂菌生长等,因而其管路系统配置有其特殊性,本文将就工艺物料管道、无菌空气系统、灭菌蒸汽系统及阀门选用谈一下自己的设计体会2 　工艺物料管路 微生物发酵是抗生素生产的龙头。目前,抗生素发酵生产的基本工艺一般为:冷冻孢子→斜面培养→摇瓶培养→种子罐种子培养(一般1～3 级) →发酵罐发酵。发酵终了,放罐至提炼。从菌种分离培养开始至发酵放罐的整个生产过程中应始终保持在最适宜的生成环境中,杂菌的存在不利于抗生素菌种生长及整个发酵的生产,因而,发酵系统的无菌保证成了该部分管路设计的基本要求之一。发酵厂房的工艺物料管路按其用途分为培养基进料系统管路、移种系统管路和补料系统管路三种。下面对以上三种管路基本要求分别加以说明。2. 1 　培养基进料管路 第一级种子罐培养基量较少时有时直接在罐内配制培养基。当种子罐和发酵罐培养基量较大一些,一般在配料罐内配制好后用泵输送至罐内。由于培养基消毒灭菌分为连消和实消两种,因而决定了进料管道的配置不同。所谓连消,是指培养基连续进入消毒塔与饱和蒸汽直接混合,瞬时加热至130 ℃左右,经维持罐保温5～8 分钟即达灭菌效果,再经冷却后进而已空罐消毒的种子罐或发酵罐。实消是指将培养基直接打入罐内,然后通入饱和蒸汽使罐内物料温度升到121 ℃左右,罐内保温保压约30 分钟,使培养基连同罐体一起被灭菌。此种方法所需蒸汽负荷较大,但流程较短,操作也较简单,现抗生素行业实消较为常用。不过,许多厂家采取先于配料池中预热物料,再进入罐内实消的做法,以降低较为集中的蒸汽负荷。然而,由于输料离心泵汽蚀现象的存在使得配料池升温不可能太高,这对于降低蒸汽高峰负荷作用有限。若在输料泵后设预热器,可使物料温度升至85～90 ℃再进入罐内实消,这不仅降低了蒸汽负荷,而且由于取消了配料池内的蒸汽系统,改善了配料室环境。早期的进料方式实罐消毒时多为人工手持软管通过人孔加料,近年来随着抗生素发酵罐容积的增大,培养基量也较大,且一般为预热后物料,故多采用固定管路进料。进料管路有时配在罐体上封头,有时位于罐体下部与放料管路共用一个管口,但不论从上部还是下部接管,实罐消毒时的培养基进料管道与罐体连接部分应能保证与罐体同时消毒为无菌状态。2. 2 　移种管路 一级种子罐一般在罐体上封头开接种口接种,该接种口设计时一般为带盖管口,接种时将盖打开,用酒精擦拭消毒或用火焰灭菌后将摇瓶种子液直接倒入罐内。从一级种子罐至次级种子罐及至发酵罐间移种管道,其配置方式一般为管路两端均设置双阀,并于两阀之间接入灭菌蒸汽和放净口,接种管路靠近罐体的阀门与罐体内物料同时灭菌,操作时,灭菌蒸汽从双阀之间进入罐体。每一次种子罐间及种子罐至发酵罐移种操作前,均需对移种管路进行灭菌。2. 3 　补料管路 多数抗生素发酵过程中需向发酵罐中补充培养基或对生产过程影响较大的物料,以满足菌种生产所需的碳源、氮源、葡萄糖等养分及维持PH 恒定和消除泡沫等。由于发酵生产是连续的,多个发酵罐的补料管道一般由补料主管道上接出,而系统主管不可能随每一个发酵罐放罐终止运行,一般在几个罐批后定期灭菌或根据生产情况需要消毒灭菌时才进行补料管道灭菌。因而,补料管道配管时设计时一般采用分支管路设隔断阀的方式进行分割,这样既保证管道能随罐体一起灭菌,又要保证管道单独灭菌操作时不至影响发酵罐的正常生产。

试液在火焰原子化过程中，伴随着一系列反应，在这些反应中较为重要的是离解、电离、化合和还原等反应，它们不仅决定了火焰中试样的原子化效率，而且决定了火焰原子化过程中化学干扰的程度。 1﹑原子化过程中的化学反应 ⑴离解反应 火焰中存在的金属化合物，通常以双原子分子或三原子分子存在，多原子或有机金属化合物通常在火焰中不稳定的，在雾珠脱剂过程中即被分解成简单分子化合物，在火焰中，当火焰温度达到化合物的离解能时，大多数双原子或三原子分子也不稳定，它们反生离解，形成自由原子。MX←→M+X此时，火焰中自由原子浓度取决于该金属化合物在火焰中的离解度?。?=[M]/（[M]+[MX]）式中[M]表示火焰中已离解成金属原子的浓度；[MX]表示还未离解的分子浓度。 在稳定的火焰温度下，金属原子与MX分子间达到平衡，根据质量作用定律，可得：?=1/[1+[X]/Kd] 式中[X]是火焰中非金属原子的浓度，Kd是离解平衡常数。由此可见，Kd越大，[X]越小，则离解度*越大，火焰中存在的自由金属原子浓度就越高。若[X]＜ Kd则?≈1，即被测元素几乎全部离解为基态原子；若[X]＞Kd，则*≈0，化合物几乎不离解，一般情况*介于这两种极限情况之间，即0＜?＜1。 对于给定[X]和火焰温度，Kd的值主要取决于化合物MV的离解能，一般情况下；当离解能小于3.5evMX，火焰中不稳定，易发生离解，而离解能大于5?ev时,在火焰中较稳定,难以离解。

有没有哪位老师解读一下这个化学反应过程？[img]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2021/04/202104250229220387_9047_3451261_3.png[/img]

哪位老兵有塑料件进料检验的相关标准、检测项目和实验仪器的资料，请帮忙上传一个，我们正在对入厂的塑料件建立物性检验标准。先谢谢了！

在制药化工行业中，反应釜温度控制系统是经常需要使用的，但是由于反应釜温度控制系统存在一定的空气、氢气、氮气、润滑油蒸汽等一些气体，这些气体是不利于反应釜温度控制系统运行的，那么到底是怎么一回事呢？反应釜温度控制系统中这些杂质气体是使制冷系统冷凝压力升高，从而使冷凝温度升高，压缩机排气温度升高，耗电量增加，制冷效率降低，同时由于排气温度过高可能导致润滑油碳化，影响润滑效果，严重时会烧毁制冷压缩机电机。反应釜温度控制系统中的这些气体产生可能是漏入的空气，可能是在充注制冷剂、加注润滑油的时候，外界空气趁机进入，或者反应釜温度控制系统密封性不严密导致空气进入系统内部。此外，冷冻油的分解、制冷剂不纯以及金属材料的腐蚀等原因也会产生气体。当然，无锡冠亚在反应釜温度控制系统上采用的是全密闭的循环系统，避免这些空气进入反应釜温度控制系统中。一般来说，反应釜温度控制系统中的气体表现在反应釜温度控制系统压缩机的排气压力和排气温度升高，冷凝器(或储液器)上的压力表指针剧烈摆动，压缩机缸头发烫，冷凝器壳体很热；反应釜温度控制系统蒸发器表面结霜不均匀，反应釜温度控制系统存在大量气体时，因装置的制冷量下降而使环境温度降不下来，压缩机运转时间长，甚至因高压继电器动作而使压缩机停车。反应釜温度控制系统是否存在这些气体的话，可以用压力表实测制冷系统的冷凝压力与当时环境气温下的饱和压力作比较。如果实测压力大于环境温度下的饱和压力，则说明该系统中含有气体了。如果发现了反应釜温度控制系统中存在上述的这些气体的话，就需要及时排除这些气体，及时解决故障。

日前，美国著名的迈阿密大学的科学家们发现了一种可以控制3D打印对象制定部位的化学成分以及3D位置，这对3D打印来说，又增加了一个新的纬度。迈阿密大学科学家们设计的装置可以控制光聚合混合物的3D位置和单体成分随着3D打印技术的不断发展，人们对其的认识也越来越深，克服当前3D打印的局限性成为目前行业首先面临的最大困难。如果估计不错的话，它们应该能够打印不同的聚合物并使他们聚合在一起，独立控制它们的位置，能够兼容精细的有机物和生物活性材料。据了解，这支由Adam Braunschweig领导的迈阿密大学的研究团队设计出了这样的一个系统，该西通首次使用了基于溶液的模式反应（patterning reactions）。它结合了1平方厘米的平行尖端阵列、微流体和光化学聚合反应，使刷状聚合物在玻璃表面上生长。这个工艺只需要几个步骤，无需使用高能激光束就可以达到亚微米的分辨率。另外，组成该聚合反应的几个部分--单体、光引发剂和溶剂--会流入拥有一个尖端阵列的微流控室。每个阵列大约有1.5万个聚二甲基硅氧烷的角锥状物以80微米的间隔排列，会使光线照到它们身上，这种光会启动反应，在下面的表面上制作刷状聚合物的图案。如果要用不同的化合物成分组成相邻的图案，只需移动这些尖端即可。然后再将新的单体溶液引入这些微流控室，并重复这一过程。据Braunschweig称，尖端位置控制着打印对象细部的位置，光照射时间决定着聚合反应的程度，也就是对象高度，而单体标识决定着化学成分。该项目的负责人Braunschweig认为，这种4D打印技术的发展潜力巨大，在基因芯片、蛋白质阵列和刺激相应面方面都有很好的应用前景。研究团队的最终目标是重新具有结构复杂性和化学性能的生物接口，比如大面积的细胞表面：“未来还需要走的路很长，但那是我们工作的动力。”这篇研究论文被发表在《Polymer Chemistry》杂志上，其标题为《在一个大规模并行流入式光化学微反应器里进行的4D聚合物打印优化（Optimization of 4D polymer printing within a massively parallel flow-through photochemical microreactor）》。（汶颢芯片www.whchip.com）

清洗马弗炉的操作过程1．开炉前应检查煤气管道阀门密封性和煤气管路上的压力不能低于规定值。2．空炉试验推杆机构、拉杆机构以及提升机构工作情况。3．把压紧弹簧松开到规定的尺寸范围。4．调节好水封的水位，打开通水封排出燃烧管的阀门，关闭通水封的阀门。5．将进料端的炉门关闭，打开出料端的炉门察看，当煤油喷出形成雾状流动的方向正常后再关闭炉门。6．将进料室的燃烧嘴点着。7．废气应经不通水封的阀门排出。8．间断生产首先把炉罐渗碳。9．零件放置时，零件与零件之间距离不少于5毫米；零件边缘不超出底板长度和规定的高度。10．要快速开关进料门和出料门，但推拉杆的速度要平稳。11．零件在预冷室的位置应正对热电偶的下面。12．炉内只许装满24块底盘，继续进料必须先拉后推。13．停炉时要把各炉区降到同样的温度后，再开始自然降温。

[B]石墨炉升温过程：[/B]实际分析的试样，为复杂体系，从进样到形成自由原子，经历溶剂蒸发、基体挥发或热解破坏、留下被测元素的盐或其它的形态，再在高温下解离，还原实现原子化。[B]原子化过程主要发生的化学反应[/B]1.金属盐的分解反应硝酸盐受热分解，产生氧化物。若被测元素卤化物的蒸发热小于卤化物和碳化物的解离能，在发生其它反应前，先以卤化物的形式蒸发，导致被测元素挥发损失。2.氧化物和金属的热蒸发2.1氧化物蒸汽压高，蒸发热小鱼氧化物和碳化物的解离能，则以氧化物分子蒸发进入[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]，[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp]气相[/url]温度不足以分解氧化物，产生分子吸收，导致被测元素挥发损失。2.2氧化物解离能低，先于氧化物蒸发而发生氧化物分解，由金属汽化形成自由原子。3.氧化物的热分解是被测元素化合物实现原子化的基本方式之一。石墨炉内的环境有利于MO,MOH的分解。4.金属氧化物还原易形成难解离氧化物的元素B、Ti、V、Mo等，还原反应是主要原子化反应。5.碳化物的生成碳化物生成是造成某些元素（B、Si、V、Nb、Ta、W等）原子化效率很低的重要原因。碳化物的形成引起分析信号峰变宽和拖尾。[B]个人查阅资料后的一点总结，欢迎大家就具体实例进行讨论。[/B]

核磁在检测反应过程我觉得存在处理问题和氘代试剂污染问题，是否还不如液相来的好些，并且核磁在检测过程中如果出现大量的生成物质不是很好辨认谱图？

总氮的测定过程中，过硫酸钾是否反应完全怎么进行判断，因为如果不反应完全，对测定结果会有很大的影响！

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【题名】： DAF溶气释放反应系统的开发研究【期刊】：【年、卷、期、起止页码】：【全文链接】：https://cdmd.cnki.com.cn/Article/CDMD-10076-1011040157.htm

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