高真空磁控溅射仪

自从2020年Quantum Design中国子公司将英国Moorfield nanotechnology公司生产的台式高精度薄膜制备与加工系统引进国内市场以来受到了国内科研工作者的广泛关注。Moorfield Nanotechnology推出的台式设备体积小巧但性能可以和大型设备相媲美，并且自动化程度高、操作简单、性能可靠、配置灵活。设备所具有的这些优点正是现代实验所需要的。Moorfield Nanotechnology长期收集用户的需求并对产品线进行不断的优化丰富，以满足各种个性化的实验需求。近年来，越来越多的前沿研究中需要用到多种薄膜制备手段，而传统的设备往往只有一种薄膜制备功能，制备一个样品就需要先后在不同的设备中进行操作，并且容易对样品的性质造成破坏。针对这样的需求，Moorfield Nanotechnology公司全新推出了台式高精度溅射与热蒸发系统——nanoPVD ST15A。该系统可以集成金属/绝缘体溅射、金属热蒸发、有机物蒸发功能，在同一台设备中可以实现多种制备手段的组合，将薄膜制备带入了新的高度。系统通过7英寸触摸屏控制，自动化程度高，各种制备方式可以自由切换，甚至可以同时进行。用户可以通过灵活的制备手段在在同一台设备中制备不同的薄膜或者是复合薄膜。nanoPVD ST15A外观图设备技术特点☛ 台式设备配置灵活☛ 磁控溅射、热蒸发、有机物蒸发☛ 三种制备手段可灵活组合☛ 可制备金属、有机物、电介质薄膜☛ 多达3个流量计控制过程气体☛ 高精度自动气压控制选件☛ 全自动触屏操作系统☛ 基片大至4英寸☛ 可选基片加热☛ 本底真空5 × 10-7 mbar☛ 可选共溅射（蒸发）功能☛ 可选晶振膜厚标定功能☛ 定义保存多个制备程序☛ 全面的安全性设计☛ 超净间兼容☛ 稳定的性能左：nanoPVD ST15A 双蒸发源与磁控溅射组合，右：系统的样品台与挡板背景介绍Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司，成立25年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术，拥有雄厚的技术实力，推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。Moorfield公司近十年来与曼彻斯特大学诺奖技术团队紧密合作，推出的台式高精度薄膜制备与加工系列产品由于其体积小巧、性能优异、易于操作更是受到很多科研单位的赞誉。这些设备已经进入了欧洲多所科研院所的实验室，诸如曼彻斯特大学、剑桥大学、帝国理工学院、诺森比亚大学、巴斯大学、埃克塞特大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学、西班牙光子科学研究所、英国国家物理实验室等单位都是Moorfield Nanotechnology的用户和长期合作者。诸多的用户与合作者让产品的性能和设计理念得到了高速发展，并迈入全球化的进程。Quantum Design中国子公司与Moorfield Nanotechnology正式合作，作为中国的代理和战略合作伙伴，为中国用户提供高性能的设备与优质的服务。除了台式设备之外我们还提供多种大型设备和定制服务。目前国内已有包括清华大学、西湖大学、大连理工大学、广东工业大学、中科院等多个单位采购了不同型号的Moorfield高性能薄膜制备与加工设备。产品链接1、台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD

一、项目基本情况项目编号：0705-2240 02012003项目名称：上海期智研究院磁控溅射仪采购预算金额：300.0000000 万元（人民币）最高限价（如有）：300.0000000 万元（人民币）采购需求：包件号项目数量简要技术规格备注1磁控溅射仪1套配置304L不锈钢超高真空不锈钢反应腔体，预留RHEED、RGA等接口，后续可按需升级。沉积腔室可升级集成9个2英寸超高真空溅射靶枪。预算：人民币300万元。 合同履行期限：交货期：收到预付款后8到10个月内。本项目( 不接受 )联合体投标。二、申请人的资格要求：1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定；2.落实政府采购政策需满足的资格要求：（1） 投标人应为符合《中华人民共和国招标投标法》规定的独立法人或其他组织；（2） 投标人应为投标产品的制造商或其合法代理商，代理商投标应提供投标产品的制造商针对本项目的唯一授权；（3） 投标人须在投标截止期之前在国家商务部认可的机电产品招标投标电子交易平台（以下简称机电产品交易平台，网址为：http://www.chinabidding.com）上完成有效注册；（4） 本项目不允许联合体投标；（5） 本项目不允许分包和转包（代理商中标后提供由其投标文件中承诺的投标产品制造商生产的产品不视为转包）。 3.本项目的特定资格要求：（1） 投标人应为符合《中华人民共和国招标投标法》规定的独立法人或其他组织；（2） 投标人应为投标产品的制造商或其合法代理商，代理商投标应提供投标产品的制造商针对本项目的唯一授权；（3） 投标人须在投标截止期之前在国家商务部认可的机电产品招标投标电子交易平台（以下简称机电产品交易平台，网址为：http://www.chinabidding.com）上完成有效注册；（4） 本项目不允许联合体投标；（5） 本项目不允许分包和转包（代理商中标后提供由其投标文件中承诺的投标产品制造商生产的产品不视为转包）。三、获取招标文件时间：2022年08月02日 至 2022年08月09日，每天上午8:30至11:00，下午13:00至17:00。（北京时间，法定节假日除外）地点：上海国际招标有限公司电子采购平台方式：电子发售售价：￥500.0 元，本公告包含的招标文件售价总和四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点提交投标文件截止时间：2022年08月31日 09点30分（北京时间）开标时间：2022年08月31日 09点30分（北京时间）地点：上海国际招标有限公司电子采购平台五、公告期限自本公告发布之日起5个工作日。六、其他补充事宜供应商首次注册应按要求提供《供应商注册专用授权函和承诺书》（可从供应商注册页面下载）和营业执照等扫描件，供应商应当提前准备，尽早办理，以免影响领购招标文件。已注册的潜在投标人可从网站采购公告栏的相应公告或者网站上方“SITC电子采购平台”中进入在线领购招标文件流程。若公告要求提供其他领购资料的，潜在投标人应当上传相关资料的原件扫描件，否则招标代理有权拒绝向其出售招标文件。无需提供领购资料的项目，潜在投标人提交领购申请并支付费用到账后即可下载电子招标文件。项目经理会将纸质招标文件快递给潜在投标人，电子发票将发至投标人登记的邮箱。七、对本次招标提出询问，请按以下方式联系。1.采购人信息名 称：上海期智研究院     地址：上海市徐汇区云锦路701号40-41层        联系方式：徐瑞；021-54652653      2.采购代理机构信息名 称：上海国际招标有限公司            地 址：中国上海延安西路358号美丽园大厦14楼            联系方式：胡羡聪、刘洲烨；86-21-32173682            3.项目联系方式项目联系人：胡羡聪、刘洲烨电 话：  86-21-32173682

p style="text-align: justify text-indent: 2em "span style="text-indent: 28px "薄膜沉积是集成电路制造过程中必不可少的环节，传统的薄膜沉积工艺主要有物理气相沉积（/spanspan style="text-indent: 28px "PVD/spanspan style="text-indent: 28px "）、化学气相沉积（/spanspan style="text-indent: 28px "CVD/spanspan style="text-indent: 28px "）等气相沉积工艺。物理气相沉积/spanspan style="text-indent: 28px "(Physical Vapour Deposition/spanspan style="text-indent: 28px "，/spanspan style="text-indent: 28px "PVD)/spanspan style="text-indent: 28px "技术是在真空条件下，采用物理方法，将材料源/spanspan style="text-indent: 28px "——/spanspan style="text-indent: 28px "固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。/span/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。/pp style="text-align: justify text-indent: 2em "仪器信息网近期特对一年内的spanPVD/span设备的中标讯息整理分析，供广大仪器用户参考。span style="color: rgb(127, 127, 127) font-size: 14px "（注：本文搜集信息全部来源于网络公开招投标平台，不完全统计分析仅供读者参考。）/span/pp style="text-align: center text-indent: 0em "span style="text-align: center "img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 240px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/a2ad4457-7ade-41a5-b0c8-6b0bfc0f3001.jpg" title="1.png" alt="1.png" width="400" height="240" border="0" vspace="0"/ /span/pp style="text-align: center "strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"各月中标量占比/span/strong/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "span2019/span年span10/span月至span2020/span年span9/span月，根据统计数据，spanPVD/span设备的总中标为span218/span台，涉及金额上亿元。span2019/span年span10/span月至span12/span月，平均中标量约span25/span台每月。span2020/span上半年，由于疫情影响，span1/span月至span4/span月中标市场持续低迷，平均中标量约span5/span台每月，其中二月份无成交量。随着国内疫情稳定以及企业复产复工和高校复学的逐步推进，spanPVD/span设备中标市场活力回升，从二月份到七月份中标量不断增长，其中span7/span月spanPVD/span中标量达span27/span台。第三季度的spanPVD/span设备采购基本恢复正常，平均中标量约span24/span台每月。/pp style="text-align:center"img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 252px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/98f0aae5-cd0b-4c37-a638-6e07e56be8b6.jpg" title="2.png" alt="2.png" width="400" height="252" border="0" vspace="0"//pp style="text-align: center "strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"采购单位性质分布/span/strong/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "从spanPVD/span设备的招标采购单位来看，高校是采购的主力军，采购量占比高达span68%/span，而企业和科研院所的采购量分别占比span12%/span和span19%/span。值得注意的是，企业和科研院所采购设备的单价较高，集中于高端设备，高校采购低端设备比例略高。企业方面的采购单位主要为电子产业，高校方面的采购单位以大学为主。/pp style="text-align:center"img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 265px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/16cf7cf8-1078-4811-92cb-06cb57740068.jpg" title="3.png" alt="3.png" width="400" height="265" border="0" vspace="0"//pp style="text-align: center "strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"招标单位地区分布/span/strong/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "本次盘点，招标单位地区分布共涉及span25/span个省份、自治区及直辖市。广东、北京、浙江、江苏和湖北为spanPVD/span设备采购排名前span5/span的地区，其中广东的采购量最大，达span32/span台。在这些地区中，上海、浙江和江苏的spanPVD/span设备采购以高校为主力，北京以科研院所和高校采购为主力，只有湖北以企业采购为主。这主要是因为湖北武汉聚集了国内一批半导体企业，如武汉天马微电子有限公司和湖北长江新型显示产业创新中心有限公司，致力于打造“中国光谷”。/pp style="text-align:center"img style="max-width: 100% max-height: 100% width: 400px height: 233px " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/35dfbb36-d83c-4bcf-894d-3a587cdd8da8.jpg" title="4.png" alt="4.png" width="400" height="233" border="0" vspace="0"//pp style="text-align: center "strongspan style="font-family:' 微软雅黑' ,sans-serif color:#444444"不同类型spanPVD/span设备占比/span/strong/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "spanPVD/span设备种类繁多，包含了磁控溅射、蒸发镀膜、真空镀膜等类型。根据搜集到的中标数据可知，磁控溅射占据了中标spanPVD/span设备的主流、高达span72%/span的spanPVD/span设备采购为磁控溅射。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多种材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪span 70 /span年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。/pp style="text-indent: 28px text-align: justify "本次spanPVD/span设备中标盘点，涉及品牌有泰科诺、spanKurt J. Lesker/span、创世威纳、spanMoorfield/span、spanLeica/span、合肥科晶、spanVEECO Instruments Inc./span、spanTeer Coatings Ltd./span、spanQUORUM/span、span style="font-size:15px"Syskey/spanspan style="font-size:15px"、spanApplied Materials ,lnc./span、spanULVACInc/span、株式会社昭和真空/span等。/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px"其中，各品牌比较受欢迎的产品型号有：/span/pp style="text-align: center text-indent: 0em "img style="max-width:100% max-height:100% " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/08db5967-4529-4f60-88a7-518f97a384c8.jpg" title="5.jpg" alt="5.jpg"//pp style="text-align: center text-indent: 0em "strongspana href="https://www.instrument.com.cn/netshow/sh102205/C242800.htm"span style="font-size:15px"span三靶射频磁控溅射镀膜仪/span/span/a/span/strong/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px"这是一款小型台式span3/span靶等离子溅射仪span(/span射频磁控型span)/span，配有三个span1/span英寸的磁控等离子溅射头和射频（spanRF/span）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索，它是一款廉价并且高效的实验帮手。这款span1/span英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜，所以并不需要太高的真空度。/span/pp style="text-align: center text-indent: 0em "img style="max-width:100% max-height:100% " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/c7c1521d-c5b9-4668-b178-66ac2ce7cd98.jpg" title="6.jpg" alt="6.jpg"//pp style="text-align: center text-indent: 0em "strongspana href="https://www.instrument.com.cn/netshow/sh101374/C191053.htm"span style="font-size:15px"span双靶磁控溅射仪/span/span/a/span/strong/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px" /spanspan style="font-size: 15px "双靶磁控溅射仪是沈阳科晶自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。/spanspan style="font-size: 15px "VTC-600-2HD/spanspan style="font-size: 15px "双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪，一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜，一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。/span/pp style="text-indent: 0em text-align: center "img style="max-width:100% max-height:100% " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/2ed2b9b6-bb58-4779-ab5e-aa97cdaaaa2b.jpg" title="7.jpg" alt="7.jpg"//pp style="text-align: center text-indent: 0em "strongspana href="https://www.instrument.com.cn/netshow/SH104149/C283599.htm"span style="font-size:15px"span科特莱思科热阻蒸发镀膜系统/span/span/a/span/strong/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px"这款仪器由预真空进样室（可选）前开门蒸发腔体、冷凝泵和干泵、多个热阻蒸发源或spanOLED/span低温蒸发源、span6”/span基片、基片旋转、基片偏压（可选）、离子源清洗基片（可选）、基片加热span1000/span度span(/span可选span)/span等部分构成。晶振沉积速率及膜厚控制可选择系统手动或自动控制等方式，能够沉积金属、半导体和绝缘材料，还可沉积多层膜及合金薄膜。/spanspan style="font-size: 15px " /span/pp style="text-indent: 29px text-align: justify "span style="font-size:15px"点击此处进入/spanspana href="https://www.instrument.com.cn/list/sort/241.shtml"span style="font-size:15px"span【span半导体行业专用仪器span】/span/span/span/span/a/spanspan style="font-size:15px"专场，获取更多产品信息。/span/pp style="text-indent: 29px text-align: center "span style="font-size:15px"更多资讯请扫描下方二维码，关注【材料说】/span/pp style="text-indent: 28px text-align: center "img style="max-width:100% max-height:100% " src="https://img1.17img.cn/17img/images/202012/uepic/2a630f7c-a2f9-4376-bd8c-911592840aa9.jpg" title="材料说.jpg" alt="材料说.jpg"//p

一、项目基本情况项目编号：0664-2260SUMEC787D项目名称：东南大学微纳系统国际创新中心磁控溅射镀膜仪采购预算金额：260.0000000 万元（人民币）最高限价（如有）：260.0000000 万元（人民币）采购需求：东南大学微纳系统国际创新中心采购磁控溅射镀膜仪 一套本项目接受进口产品。合同履行期限：合同签约后12个月到货安装调试合格。本项目( 不接受 )联合体投标。二、申请人的资格要求：1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定；2.落实政府采购政策需满足的资格要求：本项目若符合扶持福利企业、促进残疾人就业、支持中小微企业、支持监狱和戒毒企业等政策， 将落实相关政策。3.本项目的特定资格要求：（1）供应商必须是所投产品的制造商或代理商，若投标人不是投标产品制造商的，投标人必须具有下列授权文件之一（本条只适用于进口产品）：a.供应商必须提供制造商出具的授权函正本； b.制造商的国内全资子公司出具的授权函正本； c.制造商对授权的区域代理商出具的授权函复印件及该区域代理商出具的授权函正本； d.投标人取得的产品代理证书复印件(正本备查)。4.拒绝下述供应商参加本次采购活动：（1）供应商单位负责人为同一人或者存在直接控股、管理关系的不同供应商，不得参加同一合同项下的政府采购活动。（2）凡为采购项目提供整体设计、规范编制或者项目管理、监理、检测等服务的供应商，不得再参加本项目的采购活动。（3）供应商被“信用中国”网站（www.creditchina.gov.cn）、“中国政府采购网"(www.ccgp.gov.cn)列入失信被执行人、税收违法黑名单、政府采购严重违法失信行为记录名单。三、获取招标文件时间：2023年01月05日 至 2023年01月11日，每天上午9:00至11:00，下午14:00至17:00。（北京时间，法定节假日除外）地点：线上方式：在线获取售价：￥600.0 元，本公告包含的招标文件售价总和四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点提交投标文件截止时间：2023年01月29日 09点30分（北京时间）开标时间：2023年01月29日 09点30分（北京时间）地点：南京市长江路198号苏美达大厦辅楼303会议室,五、公告期限自本公告发布之日起5个工作日。六、其他补充事宜申请人的资格要求：1、满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定：（1）具有独立承担民事责任的能力（提供法人或者其他组织的营业执照，自然人的身份证明）；（2）具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度（提供参加本次政府采购活动前半年内（至少一个月）的会计报表或者上一年度的财务审计报告，成立不足一年的提供开标前六个月内的银行资信证明原件。）；（3）具有履行合同所必需的设备和专业技术能力（根据项目需求提供履行合同所必需的设备和专业技术能力的证明材料）； （4）有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录（提供参加本次政府采购活动前半年内（至少一个月）依法缴纳税收和社会保障资金的相关材料）；（5）参加政府采购活动前三年内，在经营活动中没有重大违法记录（提供参加本次政府采购活动前3年内在经营活动中没有重大违法记录的书面声明）（格式见后附件）。（6）法律、行政法规规定的其他条件。2、凭以下材料获取：（1）获取采购文件材料：1、营业执照【复印件加盖公章，扫描件】2、介绍信或者法定代表人授权书【原件加盖公章，扫描件，开具日期不得早于公告日期】3、委托代理人身份证【复印件加盖公章，扫描件】4、采购文件获取登记表word版【详见招标公告附件】（2）凡有意参加本次采购活动的供应商必须提供第（1）条规定证件登记并获取，不按规定获取的视为获取失败。3、我司提供了在线获取采购文件服务，操作流程如下：（1）、用微信关注我司公众号“苏美达达天下”。（2）、进入公众号-“在线服务”-“在线购标”。（3）、输入本项目的项目编号，举例：0664-2260SUMEC787D，点击查询。添加您所要获取的采购文件到购物车，输入投标单位名称、领购人信息以及发票信息，提交订单并确认微信支付，支付完成后将报名材料扫描件和登记表word版一并发至采购代理机构联系人：焦立阳，邮箱：jiaoly_work@163.com 即可，我们将会把采购文件电子版发送到领购人的邮箱。注意事项：（1）确保领购人邮箱真实准确无误，电子版采购文件将发送到此邮箱。（2）目前标书费发票支持开标现场领取或者顺丰到付。（3）“苏美达达天下”付款平台填写的投标单位名称必须与开票信息一致。如不一致投标人自行承担后果。请认真填写领购人信息及发票信息。（4）非采购代理机构或平台公司原因，发票一经开具不予退换。4、疫情防控期间注意事项（本项目采取在线流程）：在线流程：因疫情原因，本项目进行线上开标，请供应商尽量提前准备投标文件，以便及时送达代理机构指定的地点。供应商按照不见面开标通知（附件1）的要求参加开标会议。如因投标文件未及时送至代理机构造成的后果由供应商自负。七、对本次招标提出询问，请按以下方式联系。1.采购人信息名称：东南大学地址：南京市玄武区四牌楼2号联系方式：技术咨询：微纳系统国际创新中心：贺老师 电话：025-83792632 分机号8806； 实验室与设备管理处：刘加彬 电话：025-83792693。2.采购代理机构信息名称：苏美达国际技术贸易有限公司地址：南京市长江路198号苏美达大厦联系方式：项目联系人：杨 扬、焦立阳 电话：025-84532455、025-845324523.项目联系方式项目联系人：杨 扬、焦立阳电话：025-84532455、025-84532452

项目编号：N5101012023000011项目名称：红外光谱仪、磁控溅射镀膜机、X-射线衍射仪采购项目采购方式：公开招标预算金额：2,400,000.00元采购需求：详见采购需求附件合同履行期限：采购包1：自合同签订生效后起10日内采购包2：自合同签订生效后起10日内采购包3：自合同签订生效后起10日内本项目是否接受联合体投标：采购包1：不接受联合体投标采购包2：不接受联合体投标采购包3：不接受联合体投标8a69c98f85909e000185957d38207018.docx

据广州南沙发布消息，6月28日，广州市南沙区在明珠湾大桥桥面举办重大项目集中签约动工竣工（投产）暨明珠湾大桥通车活动。76个项目于当天集中签约、动工竣工（投产），涵盖新能源汽车、芯片等先进制造产业。在当天的签约仪式上，10个重点项目分两批进行现场签约，总投资额160亿元，达产产值796亿元，其中包括湾区半导体高端设备智造基地。据介绍，湾区半导体高端设备智造基地是先导集团拟在南沙投资建现代化的半导体设备产业园，项目建成后拥有生产各类镀膜沉积设备、磁控溅射设备、离子蚀刻设备及交钥匙工程的综合生产能力。先导集团目前已掌握核心专利和工艺技术，项目产品将拥有100%自主产权，满足半导体产业链国产化替代的需求。广州南沙发布消息指出，目前，南沙正积极促进第三代半导体与新能源汽车产业的融合创新，成立第三代半导体创新中心，形成以晶科电子、芯粤能、爱思威为代表，以联晶智能、芯聚能为龙头的从晶圆生产到芯片设计、封装及应用的第三代半导体全产业链，为将来三千亿级新能源汽车产业集群发展提供“芯”能量。

近年来，随着量子材料研究的兴起对薄膜制备方法的需求更加的多样化，而传统的薄膜制备设备往往只有一种薄膜制备功能，制备一个样品就需要先后在不同的设备中进行操作，并且容易对样品的性质造成破坏，也需要更多的科研经费投入。英国Moorfield Nanotechnology公司立足于多种成熟的薄膜制备设备，并长期收集用户的需求并对产品线进行不断的优化丰富，以满足各种个性化的实验需求。针对目前日趋多样化的需求，Moorfield Nanotechnology公司全新推出了台式高精度溅射与热蒸发系统——nanoPVD ST15A。该系统可以集成金属/绝缘体溅射、金属热蒸发、有机物蒸发功能，在同一台设备中可以实现多种制备手段的组合，将薄膜制备带入了新的高度。有别于传统台式系统仅用于制备电极等简单用途，nanoPVD ST15A系统是真正的学术研究级设备，可以制备多种高质量的薄膜样品。体统通过7英寸触摸屏控制，自动化程度高，各种制备方式可以自由切换。用户可以通过灵活的制备手段在在同一台设备中制备不同的薄膜或者是复合薄膜。nanoPVD ST15A外观图设备技术特点☛ 台式设备配置灵活☛ 磁控溅射、热蒸发、有机物蒸发☛ 三种制备手段可灵活组合☛ 可制备金属、有机物、电介质薄膜☛ 多达3个流量计控制过程气体☛ 高精度自动气压控制选件☛ 全自动触屏操作系统☛ 基片大至4英寸☛ 可选基片加热☛ 本底真空5 × 10-7 mbar☛ 可选共溅射（蒸发）功能☛ 可选晶振膜厚标定功能☛ 定义保存多个制备程序☛ 全面的安全性设计☛ 超净间兼容☛ 稳定的性能左：nanoPVD ST15A 双蒸发源与磁控溅射组合，右：系统的样品台与挡板 背景介绍Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司，成立25年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术，拥有雄厚的技术实力，推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。Moorfield公司近十年来与曼彻斯特大学诺奖技术团队紧密合作，推出的台式高精度薄膜制备与加工系列产品由于其体积小巧、性能优异、易于操作更是受到很多科研单位的赞誉。这些设备已经进入了欧洲多所科研院所的实验室，诸如曼彻斯特大学、剑桥大学、帝国理工学院、诺森比亚大学、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学、西班牙光子科学研究所、英国国家物理实验室等单位都是Moorfield Nanotechnology的用户和长期合作者。诸多的用户与合作者让产品的性能和设计理念得到了高速发展，并迈入全球化的进程。Quantum Design中国子公司与Moorfield Nanotechnology正式合作，作为中国的代理和战略合作伙伴，为中国用户提供高性能的设备与优质的服务。除了台式设备之外我们还提供多种大型设备和定制服务。目前国内已有包括清华大学、西湖大学、大连理工大学、广东工业大学、中科院等多个单位采购了不同型号的Moorfield高性能薄膜制备与加工设备。

为了支撑集成电路产业快速发展，集成电路高端装备制造已经上升为国家战略。破解集成电路产业“卡脖子”问题，一大关键是实现高端装备制造的自主可控。（1）自主创新面向后摩尔时代集成电路领域高水平科技自立自强的重大需求，亟需打破垄断、突破相关高端装备关键制造技术。北京航空航天大学赵巍胜教授团队创新突破超高精度复杂薄膜制备、多靶超高真空共溅射技术，超高真空下超快磁光测量技术，离子束调控设备高真空集成、离子束能量连续精确调节技术，超高真空互联和无磁传输技术，研制全球首套原子尺度界面自旋电子的原位实时表征与调控系统，应用于自旋芯片相关技术研究，并对关键技术突破进行产业化应用推广。超高真空磁控溅射设备（2）追求卓越团队从2017年开始进行自旋芯片制造和测试核心设备工程化开发：超高真空磁控溅射设备，薄膜沉积精度达到单原子层级别；多物理场高分辨率磁光克尔显微镜，关键技术指标如磁场反应特征时间达到400 ns；晶圆级磁光克尔测试仪可用于自旋芯片生产过程中的晶圆薄膜性质精确表征。系列自旋芯片材料制备和表征仪器的研制成功和推广应用，填补了相关领域的空白，促进了我国自旋芯片和集成电路产业的独立自主发展。晶圆级磁光克尔测试仪（3）产学研结合目前团队基于技术推广应用，联合致真精密仪器（青岛）有限公司和合肥致真精密设备有限公司两家仪器设备公司，完成超高真空高精度磁控溅射仪等3类设备的研制和量产，相关成果已应用于清华大学、中科院物理所、北京超弦存储器研究院、中国电科集团、电子科技大学、上海科技大学、中国计量大学、吉林大学等行业顶尖单位，实现了集成电路领域若干“卡脖子”设备的国产替代，推动了自旋芯片产业发展，取得了显著的经济效益和社会效益，累计创造经济产值7000余万元。2023年10月，“原子尺度界面自旋电子的原位实时表征与调控系统”项目荣获中国仪器仪表学会科技进步一等奖。

近日，广东监管局披露了关于广东汇成真空科技股份有限公司（以下简称：汇成真空）辅导备案登记受理信息，其辅导机构为东莞证券，已于6月21日办理了辅导备案登记。资料显示，汇成真空是一家面向全球的真空应用解决方案提供商，研发、生产和销售各类真空设备、半导体设备、电子生产设备、光电设备、光伏设备、动力电池设备及产品相关配件的国家高新技术企业，专注设备与产品的相关制造工艺和应用技术、控制软件、工艺流程控制软件及相关生产自动化软件的研发、应用，并提供技术转让、技术咨询和技术服务。今年4月，汇成真空与中科院兰州化学物理研究所、中国科学宁波材料技术与工程研究所合作的“面向5G高频高速覆铜板用大面积柔性纳米薄膜镀膜设备研发及产业化”项目完成签约，此项目针对5G高频高速小型、轻量及薄型化柔性覆铜板工艺需求，开发出大面积柔性纳米薄膜等离子体磁控溅射镀膜设备与工艺，实现装备产业化。在5G技术带动下，电子资讯工业近几年来在中国的迅速发展，结合各种相关产业，已经成为中国最为蓬勃发展、举足轻重的新兴产业，汇成真空多年来坚持自主研发，在光学薄膜设备、功能涂层设备、柔性薄膜设备、大面积镀膜设备等领域拥有多项PVD专利技术，此次与中科院兰州化学物理研究所、中国科学宁波材料技术与工程研究所共同研发合作，建设“面向5G高频高速覆铜板用大面积柔性纳米薄膜镀膜设备研发及产业化”的项目，推动传统覆铜板产品结构面向5G时代需求的转型升级发展。

高熵合金通常被定义为含有5个以上主元素的固溶体，并且每个元素的摩尔比为5~35%，具有优异的力学、耐高温、耐磨、耐蚀、抗辐照等性能，在较多领域展现出发展潜力。中国科学院兰州化学物理研究所环境材料与生态化学研究发展中心副研究员高祥虎、研究员刘刚带领的科研团队，通过组分调控、构型熵优化和结构设计，制备出系列高熵合金基高温太阳能光谱选择性吸收涂层。　　前期，研究人员设计出一种由红外反射层铝、高熵合金氮化物、高熵合金氮氧化物和二氧化硅组成的彩色太阳能光谱选择性吸收涂层，其吸收率可达93.5%，发射率低于10%。研究人员发现，单层高熵合金氮化物陶瓷具有良好的本征吸收特性，因此制备出结构简单的涂层。以高熵合金氮化物作为吸收层，SiO2或Si3N4作为减反射层得到的涂层吸收率可达92.8%，发射率低于7%，并可在650°C的真空条件下稳定300小时。　　近期，为进一步提升涂层吸收能力，研究人员选用不锈钢作为基底，低氮含量高熵合金薄膜作为主吸收层，高氮含量高熵合金薄膜作为消光干涉层，SiO2、Si3N4、Al2O3作为减反射层，形成了从基底到表面光学常数逐渐递减的结构（图1）。研究通过光学设计软件（CODE）进行优化，利用反应磁控溅射的方法制备，提高了制备效率。涂层吸收率可达96%，热发射率被抑制到低于10%。研究人员通过时域有限差分法（FDTD）研究了涂层光吸收机制。长期热稳定性研究表明，高熵合金氮化物吸收涂层在600°C真空条件下，退火168小时后仍保持良好的光学性能；计算涂层在不同工作温度和聚光比的光热转化效率发现，当工作温度为550°C、聚光比为100时，涂层的光热转化效率可达90.1%。该图层显示出优异的光热转换效率和热稳定性（图2）。　　研究人员将吸收涂层沉积在不同基底材料上制备的涂层依然保持优异的光学性能，并在铝箔上实现了涂层的大规模制备。对不同入射角的吸收谱图研究发现，吸收涂层在入射光角度为0-60°的范围内具有良好的吸收率。研究人员模拟太阳光对吸收器表面进行照射，在太阳光照射下，涂层表面的温度超过100℃，表明该材料在界面水蒸发研究领域具有重要应用价值。　　相关研究成果发表在Journal of Materials Chemistry A、Solar RRL、Journal of Materiomics上。上述工作开发出兼具优异光学性能和耐高温性能的高温太阳能光谱选择性吸收涂层，拓展了高熵合金在新能源材料领域的功能应用。研究工作得到中科院青年创新促进会、中科院科技服务网络计划区域重点项目和甘肃省重大科技项目的支持。图1.光学模拟结合磁控溅射方法制备太阳能光谱选择性吸收涂层图2.光谱选择性吸收机制和热稳定性研究

Chemker 耐腐蚀真空泵浦 / 高真空 / 低噪音 一次满足常用实验室真空过滤等◆ 溶剂纯化 将化学溶液中的精细颗粒或杂质，经滤膜等多孔性材料阻挡去除而得到澄清目标液，称为溶剂纯化，常见于精密仪器上机分析的前处理。 化学溶液、溶剂的负压过滤常以耐腐蚀真空帮浦进行，减缓化学蒸气对泵浦的侵蚀，也藉由负压加快整体过滤速度。◆ 旋转浓缩是一种适合大体积、单一样品的分离与纯化方法。其作用原理为同时调降真空度、增加蒸发面积及温度控制，连续、大量的蒸馏出易挥发性溶剂。但蒸馏出的溶剂若不加以搜集则容易逸散于空气中危害人体及环境，因此可搭配冷凝设备回收蒸馏出的溶剂，如循环式冷凝器等。 回转浓缩机的作用物质以溶剂及化学物质为主，因此帮浦的挑选以聚四氟乙烯(PTFE)制成的耐腐蚀帮浦为最佳选择。帮浦规格的挑选，如流量应与样品瓶容积呈正比；最大真空的要求则依溶剂及其沸点不同而有很大的差异，因此真空控制器的搭配能帮助您精准的控制真空度避免突沸，大幅缩短处理时间。◆ 真空烘箱利用真空降低水或溶剂的沸点并搭配温度加热，能在较低温度下得到较高的干燥效率，特别适合热敏性、易分解、易氧化物质的干燥。泵浦的挑选依溶液(水或溶剂)种类、目标物质的耐受温度、干燥程度及烘箱的尺寸而有不同。目标物质的耐受温度愈低则应选择较高真空的机种以降低沸点；而泵浦流量则与欲干燥的蒸气量及烘箱的体积容积呈正比。

x射线多层膜在静态和超快x射线衍射中的应用x射线光学组件类型根据x射线和物质作用的不同原理和机制，目前主流的x射线光学组件可以大致分为四类：以滤片、窗片、针孔光阑为代表的吸收型组件；基于反射，全反射原理的各种镜片以及毛细管、波导等反射型器件，还有基于折射原理的各种复折射镜。而本文的主题多层膜镜片，其底层原理和晶体、光栅、波带片一样，都是基于衍射原理。吸收型反射型折射型衍射型滤片窗口针孔/光阑镜片：kb、wolter、超环面镜… … 毛细管：玻璃毛细管、金属镀层毛细管复折射镜：抛物面crl、菲涅尔crl、马赛克crl、… … 晶体光栅多层膜波带片多层膜的原理和工艺一般来说，反射型镜片存在“掠射角小、反射率低”的问题。而多层膜镜片则是通过构建多个反射界面和周期，并使反射界面等周期重复排列，相邻界面上的反射线有相同的相位差，就会发生干涉，如果相位差刚好为2pi的整数倍，则会干涉相长，得到强反射线。从布拉格公式可以看出：多层膜就是通过对d值的控制，来实现波长选择的人工晶体。而在工艺实现方面，目前制备x射线多层膜镜的主要工艺有：磁控溅射、电子束蒸镀、离子束蒸镀。一般使用较多的是磁控溅射或离子束镀膜工艺，即在基板上交替沉积金属和非金属层，通过选择材料，控制镀膜的厚度及周期的选定，实现对硬x射线到真空紫外波段的光的调制。上图为来自德国incoatec的四靶材磁控溅射镀膜系统。可实现多种膜系组合的高精度镀膜。[la/b4c]40 多层膜b-kα（183ev）用多层膜，d：10nm单层膜厚：1-10nm0.x nm的镀膜精度tem: 完美的镀层界面frank hertlein, a.e.m. 2008上图为40层la-b4c多层膜的剖面透射电镜图像和选区电子衍射，弥散的衍射环说明膜层是非晶结构。同时可以明显看到：周期为10nm的膜层界面非常清晰和规则。这套镀膜系统可获得0.x nm的镀膜精度。多层膜的特点示例—单色和塑形多层膜最显著的特点和优势在于可以通过基底的面型控制和镀层的膜厚控制，将x光的塑形和单色统一起来。当然，这是以精度极高的镀膜工艺为前提。下图的数据展示了进行梯度渐变镀膜时，从镜片一端到另一端镀膜的周期设计数值 vs. 实际工艺水平。可以看到：长度为150mm的基底上，单层镀膜膜厚需要控制在3.8-5.7nm，公差需要在1%以内。相当于在1500公里的长度上，厚度起伏要控制mm水平。这是非常惊人的原子层级的工艺水平。frank hertlein, a.e.m. 2008通过面型控制来实线x射线的塑形；通过极高精度的膜厚控制实现2d值渐变—继而实现单色；0.x nm尺度的镀膜误差——需要具备原子层级的工艺水平！多层膜的特点示例—带宽和反射率除了可以通过曲面基底和梯度镀膜实现对x光的塑形和单色，还可通过对膜层材料、膜厚、镀膜层数等参数的设计和控制，来实现带宽和反射率的灵活调整。如窄带宽的高分辨多层膜，以及宽带宽的高积分反射率多层膜。要实现高分辨：首先要选择对比度较低的镀膜材料，如be、c、b4c、或al2o3；其次减小膜的厚度，多层膜的厚度降为10~20å；最后增加镀膜层数，几百甚至上千。from c. morawe, esrf多层膜的特点示例—和现有器件的高度兼容左侧: [ru/c]100, d = 4 nm r 80% for 10 e 22 kev中间: si111 δorientation0.01°右侧: [w/si]100, d = 3 nm r 80% for 22 e 45 kevdcmm at sls, switzerland, m. stampanoni精密、灵活的膜层设计和镀膜控制镀膜材料的组合搭配；d/2d值的设计和控制；带宽和反射率的灵活调整。和现有器件的高度兼容多层膜主流应用方向目前，多层膜的主流应用方向和场景主要有：粉末、x射线荧光、单晶衍射以及同步辐射的单色、衍射、散射装置搭建。粉末衍射x射线荧光单晶衍射同步辐射基于dac的原位高压静态x射线衍射典型的静高压研究中，常利用金刚石对顶砧来获得一些极端条件。在极端的高压、高温下，利用x射线来诊断新的物相及其演化过程是重要的研究手段。x-ray probe利用金刚石对顶砧可以获得极端条件(数百gpa, 几千°c) 利用x射线探针来诊断和发现新物相；由于对x光源、探测器以及实验技术等方面的苛刻要求，尤其是需要将微束的x光，精准的穿过样品而不打到封垫上。长期以来，基于dac的x射线高压衍射实验只能在同步辐射实现。但同步辐射有限的机时根本无法满足庞大的用户需求。不能在实验室进行基于dac的x射线高压衍射实验和样品筛选，一直是广大高压科研群高压衍射实验室体的一大痛点。以多层膜镀膜工艺为技术核心，将多层膜镜片与微焦点x光源耦合，我们可以为科研用户提供单能微焦斑x射线源，使得在实验室实现高压衍射成为可能。下图是利用mo靶（左）和ag靶（右）单能微焦斑x射线源获得的dac加载下的lab6样品的衍射图。曝光时间300s，探测器为ip板，样品和ip板距离为200mm。可以看到：300s曝光获得的衍射数据质量是可接受的。特别地，对于银靶，由于其能量更高，可以压缩倒易空间，在固定的2thelta角范围内，可以获得更多的衍射信息，这对于很多基于dac的静高压应用来说非常有吸引力。dac加载下的lab6样品的衍射数据：多层膜耦合mo靶（左）和ag靶（右）曝光时间300s，探测器为ip板，样品和ip板距离为200mmbernd hasse, proc. of spie vol. 7448, 2009 (doi: 10.1117/12.824855)基于激光驱动超快x射线衍射在利用激光驱动的x射线脉冲进行超快时间分辨研究中，泵浦探针是常用的技术手段。脉宽为几十飞秒的入射激光经分束后，一路用于激发超快x射线脉冲，也就是探针光；另一路经倍频晶体倍频作为泵浦光。通过延时台的调节，控制泵浦激光和x射线探针到达样品的时间间隔，可实现亚皮秒量级时间分辨的测量。而在基于激光驱动的超快x射线衍射实验中，如何提升样品端的光通量？如何获得低发散角的单色光束？如何抑制飞秒脉冲的时间展宽？如何同时兼顾以上的实验要求？都是需要考虑的问题。很多时候还需要兼顾多个技术指标，所以我们非常有必要对各类光学组件和x射线飞秒脉冲源的耦合效果和特点有一个比较清晰的认知。四种光学组件和激光驱动x射线源的耦合效果对比首先我们先对弯晶、多层膜镜、多毛细管和单毛细管四种组件的聚焦效果有个直观的了解。以下是将四种光学组件和激光驱动飞秒x射线源耦合，然后进行了对比。四种光学组件在聚焦和离焦位置的光斑：激光参数：800nm/1khz/5mj/45fs源尺寸：10um 打靶产额：4*109 photons/s/sr这是四种组件的理论放大倍率和实测聚焦光斑的对比。可以看到：弯晶和多层膜的工艺控制精度很高，实测光斑和理论值比较接近。而毛细管的大光斑并不是工艺精度的误差，而是反射型器件的色差导致的，不同能量的光都会对聚焦光斑有贡献，导致光斑较大。而各种组件的工艺误差，导致的强度不均匀分布，则是在离焦位置处的光斑中得到较为明显的体现。ge(444)双曲弯晶多层膜镜片单毛细管多毛细管放大倍率1270.7收集立体角 (sr)+---++反射率--+++-有效立体角 (sr)---+++1维会聚角 (deg)+---++耦合输出通量(ph/s)---+++聚焦尺寸 (μm)2332155105光谱纯度好好差差时间展宽 (fs)++++--激光参数：800nm/1khz/5mj/45fs打靶产额：4*109 photons/s/sr等级: ++ + - --利用针孔+sdd，在单光子条件下，测量有无光学组件时的强度和能谱，可以推演出相应的技术参数。这里我们直接给出了核心参数的总结对比。其中，大多数用户最为关注，同时也是对于实验最为重要的，主要是有效立体角、输出光通量、光谱纯度和时间展宽。可以看到：典型的有效收集立体角在-4、-5sr的水平，而在样品上的输出光通量在5-6次方每秒这样的水平。但是需要指出的是：毛细管并不具备单色的能力，虽然有效立体角大，但输出的是复色光。对于时间展宽的比较，很难通过实验手段获得测量精度在几十到百飞秒水平的结果，所以主要通过理论分析和计算来获得。对于同为衍射型组件的ge(444)双曲弯晶和多层膜镜片，光程差引入项主要是x光在组件内的贯穿深度。对于ge(444)，8kev对应的布拉格角约为70度，x光的衰减长度约为28um，对应的时间展宽约90fs。对于多层膜镜片，因为它属于掠入射型的衍射组件，x光的衰减长度在um量级，对应的时间展宽甚至可以到10fs水平，因此这里的数据相对比较保守的。而对于毛细管这种反射型器件，光程差引入项主要是毛细管的长度差。对于单毛细管，光程差在10fs水平，对于多毛细管，位于中心区域和边缘的子毛细管长度是有较大的差异的，光程差可达ps水平。小结1. 弯晶：单色性好、时间展宽较小、有效立体角小、输出通量低；2. 多层膜：单色性好、时间展宽较小、有效立体角大、kα输出通量高；3. 单毛细管：复色、时间展宽很小、有效立体角大、复色光通量高；4. 多毛细管：复色、时间展宽较大、有效立体角最大、复色光通量最高。每一种光学组件都有其适用的场景，对于非单色的超快应用，如超快荧光、吸收谱，毛细管可能更为合适，而对于追求单色的超快应用，如超快衍射，多层膜是比较好的选择，兼顾了单色性、时间展宽和有效立体角（输出通量）三个核心指标！如果您有任何问题，欢迎联系我们进行交流和探讨。北京众星联恒科技有限公司致力于为广大科研用户提供专业的x射线产品及解决方案服务！

为优化政府采购营商环境，提升采购绩效，《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2020〕10号）等有关规定要求各预算单位按采购项目公开采购意向，内容应包括采购项目名称、采购需求概况、预算金额、预计采购时间等。近两年来，各大高校、科研院所等纷纷在相关平台公布本单位政府采购意向。中国科学院半导体研究所以国家重大需求为导向，开展前沿基础和应用技术研究，拥有2个国家级研究中心、3个国家重点实验室、2个院级实验室，并设有半导体集成技术工程研究中心、光电子研究发展中心、半导体照明研发中心、全固态光源实验室和元器件检测中心等，与地方政府、科研机构、大学和企业等共建了近40个联合实验室，在半导体领域取得了一系列科研成果，培养了一批批优秀人才。成果的产出和人才的培养都离不开仪器的支持，中国科学院半导体研究所每年都会投入一定的经费采购科学仪器，以建立具有国际先进水平的实验研究和测试平台。为方便仪器信息网用户及时了解仪器采购信息，本文特对中国科学院半导体研究所2022年1至12月政府采购意向进行了整理汇总。共收集到41个采购项目，预算金额相加达1.7亿元，采购品目涉及高分辨场发射透射电子显微镜、扫描电子显微镜、双腔分子束外延系统、金属有机气相化学沉积、高真空化学沉积系统、高分辨X射线衍射仪等多种仪器类型。中国科学院半导体研究所2022年政府采购意向汇总表序号项目名称预算金额（万元）采购日期项目详情1超低振动无液氦闭循环低温恒温器1802月详情链接2矢量超导磁体1902月详情链接3反应磁控溅射系统2933月详情链接4反应磁控溅射光学膜镀膜机2453月详情链接5低温真空面内磁场旋转探针台1004月详情链接6低温PL mapping测试设备230.025月详情链接7高分辨场发射透射电子显微镜8005月详情链接8双腔分子束外延系统（MBE）19835月详情链接9扫描电子显微镜（SEM）418.15月详情链接10ICP刻蚀机3555月详情链接11离子束沉积系统7005月详情链接12超高精密加工飞秒激光光源1665月详情链接13微光红外显微镜2805月详情链接14可调谐飞秒光参量放大器1515月详情链接15光/电芯片贴片键合系统1795月详情链接16高精度光路偏振综合测试系统1106月详情链接17金属有机气相化学沉积（MOCVD）16596月详情链接18超声扫描显微镜1206月详情链接19参数曲线跟踪仪1206月详情链接20窄线宽激光器自动光学耦合机1156月详情链接21高性能计算集群9006月详情链接22高分辨X射线衍射仪2306月详情链接23MOCVD外延生长设备15006月详情链接2467G矢量网络分析仪2297月详情链接25闭式冷却塔3907月详情链接26高分辨X射线衍射仪2207月详情链接27蝶形管壳密封机1217月详情链接28高温气相外延系统1707月详情链接29高分辨场发射透射电子显微镜7009月详情链接30高真空化学沉积系统16009月详情链接31微区荧光测试系统2579月详情链接32基于宽谱光源的光纤电流传感装置测试系统1609月详情链接33人才配套支撑6009月详情链接34变温变磁场输运测量系统1809月详情链接35扫描电子显微镜5309月详情链接36低温半导体参数综合测试设备162.810月详情链接37磁控溅射设备18010月详情链接38高分辨X射线衍射仪229.6410月详情链接39逻辑分析仪15010月详情链接40晶圆表面缺陷扫描测试系统17210月详情链接41高分辨X射线衍射仪22012月详情链接

产品介绍AFM5300E配置专业的真空腔体，可在环境控制条件下原位对样品微观尺度的形貌及物性进行观测分析。真空环境下可大幅降低氧化、水膜吸附等对样品真实情况的影响；真实测量特殊条件下材料的性能。让研究达到常规原子力显微镜无法企及的高度和深度。产品特点1、环境控制：具备常温大气，高真空、高低温、气氛、液相、湿度等环境功能；2、多功能配置：接触式，轻敲式，SIS（样品智能扫描）等工作模式，能进行三维形貌，电磁及机械力学性能观察分析，独有的极高分辨的SNDM（扫描非线性介电显微镜）；3、操作便捷：激光器/样品移动螺杆置于真空腔外；触点式控温台/扫描器设计；4、真空转移：一体化提供离子研磨仪、高分辨扫描电镜、可控环境原子力显微镜，使用真空转移盒可保护样品在各个设备间转移测量，避免大气暴露； 5、高分辨：真空下极高的相位及磁畴分辨能力。 公司介绍：日立科学仪器（北京）有限公司是世界500强日立集团旗下日立高新技术有限公司在北京设立的全资子公司。本公司秉承日立集团的使命、价值观和愿景，始终追寻“简化客户的高科技工艺”的企业理念,通过与客户的协同创新，积极为教育、科研、工业等领域的客户需求提供专业和优质的解决方案。 我们的主要产品包括：各类电子显微镜、原子力显微镜等表面科学仪器和前处理设备，以及各类色谱、光谱、电化学等分析仪器。为了更好地服务于中国广大的日立客户，公司目前在北京、上海、广州、西安、成都、武汉、沈阳等十几个主要城市设立有分公司、办事处或联络处等分支机构，直接为客户提供快速便捷的、专业优质的各类相关技术咨询、应用支持和售后技术服务，从而协助我们的客户实现其目标，共创美好未来。

材料决定科技发展的上限，而国家重点实验室作为我国的科创“国家队”，无疑要承担起原始创新和关键核心技术领域突破的重任。现如今，我国材料科学领域的国家重点实验室一共有21个，分属于20个高校及科研院所，归属于教育部、工信部、中科院、河北省科技厅等4个部门。这些材料类的国家重点实验室涉及的研究领域有复合材料、高分子材料、超硬材料、粉末冶金材料、发光材料、光电材料、固体润滑材料、硅材料、金属材料、晶体材料、硅酸盐建筑材料、陶瓷材料等、信息功能材料、亚稳材料等，详情如图1所示：图1我国材料领域国家重点实验室名单详情做材料研究，仪器不仅不可或缺，对仪器的质量和创新的要求也更高。据了解，仅2020年上半年，就有20家国家重点实验室采购了近150类仪器设备。那么对于在材料领域耕耘的国家重点实验室，常用的主要仪器设备都有哪些呢？仪器信息网特汇总分析了上述实验室的主要仪器设备明细，现正式绘制并推出我国材料领域国家重点实验室仪器配置清单，供读者参考（注：文中标出的数字为该类仪器在对应国家重点实验室的型号种类数，并不是该类仪器的数量）。综合分析各大材料类国家重点实验室的仪器配置清单可以看出，分析材料微观形貌的扫描电子显微镜成为材料研究“国家队”当之无愧的左膀右臂。根据上述统计，有11家材料领域国家重点实验室配备有扫描电子显微镜。仅武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室就配置有5种不同型号的场发射扫描电子显微镜。紧随扫描电镜其后的最高频配置仪器是X射线衍射仪，上述统计中，共有10家国家重点实验室配置了该类仪器。另外，显微镜家族的其他成员也高频出现，扫描探针显微镜、原子力显微镜、透射电子显微镜在各国家重点实验室中的配置频率也分列3至5位。在材料领域国家重点实验室高频配置的仪器名单如下（点击仪器名称进入相关仪器专场了解详情）：扫描电子显微镜X射线衍射仪扫描探针显微镜原子力显微镜透射电子显微镜试验机硬度计差示扫描量热仪傅里叶变换红外光谱仪同步热分析仪荧光光谱仪紫外可见分光光度计X射线光电子能谱仪电化学综合测试仪红外光谱仪激光导热仪激光粒度分析仪密度测定仪我国材料领域各国家重点实验室的仪器配置详情汇总如下：武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类场发射扫描电子显微镜5惰性气体操作系统1脉冲激光沉积设备1扫描电子显微镜4惰性气体纯化仪(手套箱)1喷雾干燥机1X射线衍射仪2放电等离子烧结系统1喷雾热分解设备1放电等离子烧结装置2傅里叶变换红外光谱仪1热等静压烧结炉1燃料电池测定系统2高效液相/凝胶渗透色谱1热电效率测定装置1ARES高级扩展流变仪(电磁流变仪)1高性能双面对准光刻机1热压烧结炉1超高真空磁控溅射镀膜设备1高真空热压烧结炉1三维光学轮廓仪1超声波扫描显微镜1高真空双室镀膜设备1扫描探针显微镜1大尺寸高温化学气相沉积系统1核磁共振波谱仪1石英微天平分析仪1大尺寸块体材料热电性能快速扫描测试装置1霍尔效应测试仪1手套箱-蒸镀膜系统1大型熔体旋甩超快冷却系统1激光导热仪1双加热模式高温快速压力烧结系统1低温激光导热仪1晶体结构及物相分析系统1涂布机1低温真空探针台1精密平面磨削机1微波电磁参数测试系统1低压气压烧结炉1精密数控平面磨床1下降式高真空温梯炉1电输运性质测量系统1冷等静压机1氧氮分析仪1圆二色谱仪1原子层沉积系统1液态急冷非晶纳米晶制备系统1液相色谱-四级杆-飞行时间串联质谱仪1原位漫反射傅里叶变换红外光谱仪1武汉理工大学硅酸盐建筑材料国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类X射线衍射仪2高速离心喷雾干燥机1扫描探针显微镜1付立叶红外光谱分析仪2固体核磁共振波谱仪1时间分辨荧光光谱仪1热常数分析仪2光电测试系统1水泥熟料烧成与性能检测系统13D喷釉打印机1光学薄膜分析系统1伺服液压沥青混合料动态测试系统1YAG宽光谱激光器1红外热像仪1台阶仪（轮廓仪）1比表面孔径分析仪1激光共聚焦显微镜1弯曲梁流变仪1玻璃强化飞秒激光加工及检测系统1激光共聚焦显微拉曼光谱仪1微机控制电子万能试验机1差示扫描量热仪1集料图像测量系统1维氏硬度计1场发射环境扫描电镜1挤出机械（真空压力系统）1析晶炉1超景深三维显微镜1结构扫描仪1旋转式压实仪1磁控溅射仪1控制温度吸附氧化化学仪1压汞仪1等离子电炉1沥青多功能试验仪1荧光性能测试系统1等离子体增强化学气相沉积设备1沥青多全自动组分分析仪1原子吸收光谱仪1低场核磁仪1纳米压痕仪1约束可调单轴温度-应力实验机1电化学综合测试仪1气体吸附分析仪1粘滞系数测试仪1动态剪切流变仪1气体吸附仪1紫外可见近红外分光光度计1动态力学分析仪1全自动混凝土冻融仪1自动热喷涂系统1动态疲劳试验加载系统1全自动显微硬度仪1高分辨三维X射线显微成像系统1非接触式高温显微镜综合分析仪1热分析系统1热重红外联用分析仪1吉林大学超硬材料国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类600MHz超导傅立叶变换宽腔高功率固体核磁共振谱仪1高压超快光谱测试系统1两面顶Walker型6-8压机1X射线衍射仪1高压霍尔效应测试系统1六面顶液压机1场发射扫描电子显微镜1高压三级联拉曼光谱仪1热灯丝金刚石薄膜沉积系统1场发射透射电子显微镜1高压时间分辨光谱测试系统1热膨胀仪1单晶X射线衍射仪1高压荧光光谱分析系统1双束电子显微镜1刀具检测系统1高压原位低温磁电测量系统1显微共聚焦高压拉曼光谱仪1电输运测量型金刚石对顶砧压机1高压原位低温磁光实验测试系统1新一代大型超高压产生装置1电子探针1高压原位精密聚焦显微激光加温系统1真空镀膜设备1多面砧大腔体压机1高压阻抗测量系统1震动样品磁强计1高品级立方氮化硼膜外延生长实验平台1铰链式六面顶液压机1综合热分析仪1高温高压布里渊散射系统1金刚石刀具刃磨设备1综合物理测试系统1高温激光热导仪1宽波段显微光路高压真空红外光谱仪1中南大学粉末冶金国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类真空热压机（炉）1碳/硫分析仪1真空粉末挤压成形机1真空气压烧结炉1自动比表面分析仪1金相实验室制样设备（4台件）4氮/氧分析仪1万能金相显微镜──图相分析仪1中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类全自动四站比表面积及孔径分析仪1高性能计算服务器扩充（开放共享型）1高分辨活体动物X射线断层扫描系统1全自动压汞仪1TEM低温样品杆、电和力性能原位测试样品杆1多功能生物分子成像仪1zeta电位/粒度分析仪1高真空温控型纳米热电多参量原位表征系统1多功能酶标仪1电化学综合工作站1虚拟仿真三维可视化软件及X射线源1流式细胞仪1离心/重力沉降粒度仪1化学气相沉积炉真空系统1低能离子减薄仪1台式扫描电镜1连续式氮化铝粉体合成炉1氩离子截面抛光仪1多功能烧结炉1复合型激光加热浮区晶体生长炉1超高温强度试验机1智能烧结炉1高通量材料合成/检测系统1卷对卷磁控溅射镀膜设备1超高温炉1连续氧化铝纤维制备设备1热蒸发、磁控溅射及靶材制备系统1结构功能一体化多层陶瓷复合材料制备装置1固态输运高温气相沉积系统1多功能复合表面改性系统1高真空气压烧结炉设备1活塞-圆筒高温超高压装置1电学性能测试综合装置1颗粒增强化学气相沉积系统1织构化新材料合成用强磁场设备1火焰环境高温拉伸/蠕变测试仪1MCR301流变仪1中科院兰州物理化学研究所固体润滑国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类原子力显微镜4非接触式光学轮廓仪1石英晶体微天平分析仪1红外光谱仪2高分辨X射线衍射仪1双模式三维表面轮廓仪1扫描电子显微镜2高温原位材料结构分析系统1台阶膜厚仪1X荧光能谱仪1高压差示扫描量热仪1同步热分析仪1测量显微镜1激光动态散射仪1透射电子显微镜1电化学独立扫描隧道探针显微镜系统1气相色谱质谱联用仪1显微共焦拉曼光谱仪1多功能电子能谱仪1热分析仪1紫外可见分光分度计1非接触三维表面轮廓仪1扫描探针显微镜1紫外可见光谱仪1浙江大学硅材料国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类扫描探针显微镜1原子力显微镜1傅里叶红外光谱仪1周期式脉冲电场激活烧结系统1热台偏光显微系统1微波光电导衰减寿命测试仪1振动样品磁强计1近场光学显微镜1变温高磁场测试系统1针尖增强半导体材料光谱测试系统1光度式椭圆偏振光谱仪1同步热分析仪1低维硅材料的原位扫描隧道显微分析系统1高真空热压烧结炉1铸造炉1热常数分析仪1等离子体增强化学气相沉积法1扫描电子显微镜1超高温井式冷壁气密罐式炉系统1磁控溅射镀膜系统1高分辨透射电子显微镜1角分辨X射线光电子能谱仪1深能级瞬态谱仪1西安交通大学金属材料强度国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类疲劳试验机7冲击试验机1纳米显微力学探针系统1扫描电子显微镜6倒置金相显微镜1纳米压痕动态测量系统1电子拉伸试验机3电化学综合测试系统1纳米压痕仪1透射电子显微镜3电液伺服动静试验机1热重同步差热分析仪1X-射线衍射仪1傅里叶变换红外光谱仪1扫描电镜纳米力学测量系统1X-射线应力仪1固体薄膜zeta电位及粒度分析仪1双束显微镜1凹坑仪1光纤激光器1透射电镜1半导体特性分析系统及纳米探针台1聚集离子束联用纳米力学测量系统1微小力试验机1彩色3D激光显微镜1可控温拉伸机1荧光光谱仪1差热分析仪1纳米操纵仪1原子力显微镜1超高温持久蠕变试验机1纳米力学测量系统1真空沉积炉应力测试系1超声相控阵检测系统1纳米探针增强拉曼光谱仪1真空摩擦仪1真空三体磨损试验机1东华大学纤维材料改性国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类双折射检查仪9超景深显微镜1热台偏光显微镜1密度测定仪6超声波细胞粉碎机1热重红外联用仪1声速取向测定仪6单丝纱线强伸度仪1熔喷无纺布机1宝石显微镜5电化学综合测试仪1扫描电子显微镜1差示扫描量热仪5电脑平板硫化机1色差仪1平板硫化机4电子万能材料试验机1上吹薄膜机组1微型注塑机4纺丝机1数字式电导仪1傅立叶红外光谱仪3复丝纱线强伸度仪1数字式粘度计1接触角测定仪3干燥牵伸定型一体化设备1双料筒毛细管流变仪1结晶速度测量仪3高聚物扭矩流变仪1双螺杆纺丝机1偏振显微镜3高温荷软测试仪1双螺杆挤出机1微型共混仪3高阻仪1双折射检查仪J1半自动压力成型机2光谱分析仪1双组份复合纺丝机1玻璃软化温度实验装置2恒温震荡器1水份测定仪1差热分析仪2激光粒度分析仪1塑料成型注射机1差热膨胀仪2接触角测量仪1塑料成型注塑机1单丝纤维强伸度仪2解偏振测试仪1塑料硬度计1复丝氨纶弹性仪2介电常数仪1酸度计1固体密度仪2金相镶嵌机1同步热分析仪1光学解偏振仪2进口紫外分光光度仪1微电脑相位差测试仪1光学轮廓仪2静电纺丝机1微粒粒径测试仪1缕纱测长机2抗热震性试验机1微喷射式自由成型系统1凝胶渗透色谱仪2可塑性测定仪1微型机控制纤维缠绕机1强力测试仪2快速水份测定仪1微型台式双螺杆挤出机1热重分析仪2拉挤成型机1纤维细度仪1熔融指数测试仪2冷场发射扫描电子显微镜1氙灯耐气候老化试验箱1熔体流动速率测试仪2冷冻超薄切片机1显微热分析仪1湿法纺丝机2冷离子体改性处理仪1显微硬度计1数码偏光显微镜2冷热台显微镜1橡胶密炼机1梯温析晶炉实验装置2炼胶机1肖氏硬度计1万能材料试验机2流变仪1小型共混挤出机及注塑机1万能制样机2洛氏硬度计1小型挤出机1微控电子万能试验机2毛细管流变仪1旋转式粘度计1织物厚度仪2密度测定仪1旋转粘度计1智能液体密度仪2纳米粒度与电位分析仪1压差法水分测定仪1自动电位滴定仪2凝胶色谱仪1荧光/磷光/发光光度计1X射线光电子能谱仪1偏振数码显微镜1荧光显微镜1摆锤冲击仪1平板导热仪1原子力显微镜1表面处理仪1平行牵伸机1匀胶机1玻璃应力与退火实验仪1全数字化核磁共振谱仪1粘度仪1布洛维硬度计1全液压四缸精密注塑机1振动样品磁强计1布氏硬度计1热变形维卡软化点温度仪1浊度分析仪1材料烧结温度测定仪1热导仪1紫外分光光度仪1材料应力与退火温度测定仪1热机械分析仪1紫外光刻机1缠绕机1热老化试验箱1紫外可见分光光度计1场发射透射电子显微镜1热膨胀仪1紫外可见近红外分光光度计1自动比表面和空隙度分析仪1北京科技大学新金属材料国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类高温原位疲劳试验机2多功能X射线衍射仪1热力模拟试验机1磁质伸缩参数自动测量仪1腐蚀疲劳裂痕测试系统1蠕变持久试验机1材料疲劳试验机1高频疲劳试验机1软磁材料磁性测量系统1差扫描热分析仪1高温电子万能试验机1扫描电镜1场发射高分辨透射电子显微镜1高温硬度计1双光束紫外可见分光光度计1超声波材料弹性常数测量仪1高真空单辊旋淬系统1物理模拟试验机1单室磁控溅射系统1局部电极三维原子探针系统1雾化沉积成形系统1电子探针显微分析仪1聚焦离子束场发射扫描双束电镜1显微维氏硬度计1定向凝固及区域熔炼定向凝固系统1纳米力学探针1永磁不同温度特性测量系统1清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类矢量网络分析仪4傅里叶变换红外光谱仪1切/磨/抛体机1X射线衍射仪3高温力学试验机（动态）1全光纤太赫兹时域光谱仪1Zeta电位仪2高温力学试验机（静态）1软磁材料B-H分析仪1高温综合热分析仪2高温热分析仪1三维扫描测振仪1精密阻抗分析仪2高温热机械分析仪1扫描探针显微镜1BET比表面分析仪1高温热膨胀仪1射频辉光放电光谱仪1S参数网络分析仪1光电子光谱仪1数字光学显微镜1半导体特性分析系统1激光导热仪1台阶仪1场发射扫描电子显微镜1激光粒度仪1太赫兹时域光谱仪1沉降粒度仪1介电频谱温谱分析系统1铁电分析仪1冲击试验机1精密器件图示分析仪1椭偏仪1等离子清洗仪1聚焦离子束显微镜1维氏硬度计1低温综合物性测试系统1宽频介电阻抗谱仪1稳态瞬态荧光光谱仪1多功能离子减薄仪1拉曼光谱仪1显微硬度计1多功能氩离子刻蚀/镀膜仪1离子溅射/蒸碳镀膜仪1压电材料多场测试系统1多样品温谱频谱测试系统1离子溅射镀膜仪1压汞仪1真密度仪1紫外/可见/近红外光谱仪1燕山大学亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类扫描电子显微镜2离子溅射仪1傅立叶红外/拉曼光谱仪1X射线荧光光谱仪1热膨胀分析仪1环境气氛球差校正场发射透射电子显微镜1X射线衍射仪1北京化工大学有机无机复合材料国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类平板硫化机3辊筒式磨耗机1双辊炼塑机1双辊开炼机2可在线多段取料双螺杆挤出机1水平/垂直燃烧测定仪1万能材料试验机2冷等离子体表面改性装置1无转子硫化仪1密炼机1门尼黏度测定仪1橡胶动态压缩疲劳机1阿克隆磨耗机1盘式硫化仪1橡胶复合挤出机1超高阻计1气透性仪1橡胶滚动阻力测定仪1单螺杆挤出机1三辊研磨机1橡胶加工分析仪1动态力学分析仪1数字式直流电桥1橡胶摩擦磨损测定仪1氧指数测定仪1橡胶曲挠疲劳机1华南理工大学制浆造纸工程国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类离子色谱仪2动态渗透分析仪1生化分析仪1纳米微射流均质机2高压液相色谱仪1实验室用压力盘磨机1气相色谱-质谱联用仪2光学性能测试仪1数字式纸页撕裂度仪1液相色谱仪2光泽度测定仪1双夹头耐折度仪1L&W厚度仪1红外光谱仪1透湿性测试仪1L&W白度仪1环压强度测定仪1弯曲挺度测定仪1L&W抗张强度仪1火焰原子吸收光谱仪1微波合成仪1L&W耐破度测定仪1激光粒度分析仪1微细胶粘物分析系统1L&W撕裂度仪1近红外光谱仪1卧式湿扩张强度测试仪1L&W透气度仪1卡伯值自动检测仪1纤维筛分仪1L&W压溃测试仪1颗粒电荷分析仪1压差法气体渗透仪1lGT印刷适性仪1可勃吸水性测试仪1压光机1比表面积孔径分析仪1快速卤素水分测试仪1研究级体视显微镜1表面抗水动态渗透分析仪1拉伸压缩材料试验机1研究级正置显微镜1别克式平滑度仪1量热仪1音盆杨氏模量与损耗因数测定系统1残余油墨/白度测定仪1零距抗张强度测试仪1印刷适性仪1残余油墨测定仪1流动电位法ZETA电位仪1荧光光谱仪1层间结合强度仪1纳米纤维膜性能测试仪1元素分析仪1超高压纳米均质机1耐折度仪1原子力显微镜1尘埃匀度仪1凝胶成像系统1粘胶物测定仪1粗糙度和透气度测定仪1凝胶色谱仪1纸张表面粗糙度测定仪1蛋白纯化系统1气相色谱仪1纸张表面匀度及墨斑分析系统1电脑柔软度仪1切割式研磨仪1转子粘度计1顶空气相色谱仪1三离子束切割仪1浊度仪1动态滤水分析仪1扫描电镜1紫外-可见分光光度计1华南理工大学发光材料与器件国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类超纯水系统2QE-R太阳能电池光谱响应量测系统1凝胶渗透色谱仪1探测器光谱响应度测试系统1纳秒瞬态吸收光谱系统1高温凝胶渗透色谱仪1光致发光量子效率测试系统1瞬态荧光光谱测试系统1扫描隧道显微镜1电致发光效率及分布角测试系统1开尔文探针台1热重分析仪1高纯水系统1台阶仪1差示扫描量热仪1小型等离子清洗机1分光辐射度计1高分辨超导核磁共振谱仪1150W太阳光模拟器1光刻机1液相色谱质谱联用仪1纯水系统1X射线衍射仪1离子淌度高清质谱仪1手套箱蒸镀系统1多靶磁控溅射镀膜机1单晶X射线衍射仪1探针式表面轮廓仪1原子力显微镜1小角X射线散射仪1紫外可见分光光度计1荧光光谱仪1微波反射光电测试系统设备1飞秒光学参量振荡装置1紫外-可见光-近红外分光光度仪1电子顺磁共振(EPR)波谱仪1阻抗分析仪1圆偏振荧光光谱仪1有机真空沉积系统1瞬态荧光光谱仪1高效液相色谱仪1激光分子束外延系统1山东大学晶体材料国家重点实验室仪器类型型号种类仪器类型型号种类仪器类型型号种类X射线单晶衍射仪1场发射高分辨透射电镜1热机械分析仪1X射线光电子能谱仪1多功能X射线衍射仪1热重/差热分析仪1Ｘ射线荧光光谱仪1傅立叶变换红外-拉曼光谱仪1扫描电子显微镜1半导体测试仪1高分辩X射线衍射仪1扫描探针显微镜1波导棱镜耦合仪1激光热导仪1荧光分光光度计1差热扫描量热仪1全自动高精度折射率测量仪1紫外可见分光光度计1以上为16大材料领域国家重点实验室的仪器配置清单。另外，中山大学光电材料与国家重点实验室、上海交通大学金属复合材料国家重点实验室、西北工业大学凝固技术国家重点实验室、四川大学高分子材料工程国家重点实验室、中科院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室这个5个材料领域国家重点实验室的仪器配置清单在公开平台无法查询，仪器信息网也将进一步关注各国家重点实验室接下来的动态。

热电材料能够实现热电转换，具有安全、节能、环保等优点，近年来备受关注，许多学者也围绕其开展了大量的研究工作。在本文，仪器信息网为大家盘点了热电材料研究实验室常用的制备与表征仪器清单。国内研究热电材料的课题组众多，在小编的雷达范围内，整理归纳了其中四个课题组的仪器展示表格：1.中国科学院上海硅酸盐研究所热电转换材料与器件研究课题组；2.中国科学院金属研究所热电材料与器件课题组；3.同济大学材料科学与工程学院热电课题组；4.哈尔滨工业大学（深圳）材料科学与工程学院热电材料课题组。一、中国科学院上海硅酸盐研究所热电转换材料与器件研究课题组（课题组长：史迅研究员；副组长：柏胜强高级工程师；科研队伍：陈立东研究员、姚琴副研究员、瞿三寅副研究员、仇鹏飞副研究员等）该课题组主要从事高性能热电材料的设计、制备与性能优化以及高性能热电器件的设计、制造与集成方面的研究，主要内容包括：1.声子液体电子晶体材料 (类液态材料)；2.类金刚石结构；3.笼状化合物；4.有机热电材料和有机/无机复合热电材料；5.热电薄膜与微型热电薄膜器件；6.高性能热电器件设计与制造技术；7.热电空调/发电系统设计与集成技术；8.热电材料与器件测量技术。课题组仪器设备展示Seebeck系数和电阻测试系统（ZEM-3）布劳恩手套箱RS50/500型管式炉纳博热（ Nabertherm）LH15/13型箱式炉 放电等离子体快速烧结设备激光导热仪 霍尔系数测试设备电导率及塞贝克系数测试设备 X射线广角/小角衍射设备MSP（Modified Small Punch）试验装置二、中国科学院金属研究所热电材料与器件课题组（课题组长：邰凯平研究员；小组成员：康斯清工程师）该课题组长期从事功能材料设计、制备和性能表征方面的研究工作，以界面性质对材料物理、化学性能调控作用的共性基础科学问题为研究主线，主要研究内容包括：低维热电材料；多物理外场耦合仿真环境原位透射电镜表征；纳米结构抗辐照损伤材料。在原位透射电镜技术领域的成果被Science（350，9886，2015）、Chem Rev（116，11061，2016）、Adv Mater（02519，2016）等期刊评述为近十年来纳米材料原位电镜表征技术领域的关键研究成果，并被编入电子显微学教科书“Transmission Electron Microscopy”（Page 48，Springer，Heidelberg，2016）。课题组仪器设备展示多靶磁控溅射沉积系统-1多靶磁控溅射沉积系统-2热电性能测试设备ALD原子层沉积系统等离子体处理/原位TEM样品杆预抽系统Hall测试系统AFM红外成像显微镜微束/飞秒激光微纳加工系统紫外光刻机电子束/热蒸发镀膜系统3Omega频域法热导率测试系统稳态法热导率测试系统球型焊线机高温管式炉红外快速退火炉自主研制的各种类型原位仿真环境（JEOL/FEI）TEM样品杆三、同济大学材料科学与工程学院热电课题组（课题组长：裴艳中教授；小组成员：李文副教授）该研究小组主要针对当前热电材料转换效率较低这一技术瓶颈，从热电材料所涉及的基本物理及化学问题出发，设计和开发出高转换效率热电材料和器件。立足于前期工作的基础之上，今后具体的研究对象主要集中在半导体材料，研究内容主要包括：1.先进的材料制备方法；2.电、热、光、磁及微观结构的表征方法；3.能源材料性能所隐含的基本物理及化学问题；4.理论指导下的新型能源材料设计和开发；5.其它应用背景的半导体新材料的研究与开发。课题组仪器设备展示自主研制设备霍尔系数/塞贝克系数/电阻率同步测试 2个样品同时测试，300~900K，磁场1.5T塞贝克系数/电阻率同步测试系统 2个样品同时测试，300~1100K室温塞贝克系数测试系统Oxford低温（1.5~400K）与强磁场（12T）综合物理性能（Nernst，Seebeck，Hall系数与电/热导率）测试系统电弧熔炼系统电弧熔炼系统高温热压系统（升温速率＞1000C/min）封装系统材料生长炉商业设备台式扫描电镜&能谱XRDFTIR红外光谱仪声速测定仪激光导热仪惰性气氛手套箱高温熔融炉四、哈尔滨工业大学（深圳）材料科学与工程学院热电材料课题组（课题组长张倩教授，学术顾问刘兴军教授）该课题组正式成立于2016年秋。主要研究方向为：热电半导体能源材料的电声输运调控、热电器件的设计与效率提升，柔性可穿戴发电与制冷器件。采用与相图工程和机器学习相结合的手段，优化传统热电材料，开发新型热电材料，促进热电发电与制冷的大规模商业应用进程。课题组仪器设备展示材料制备系统电弧熔炼炉高频悬浮熔炼炉立式真空管式炉微型金属熔炼炉双工位真空手套箱真空封管系统热压烧结系统放电等离子烧结SPS3D打印机多靶磁控溅射镀膜仪电子束蒸发镀膜仪高温箱式炉高能球磨机井式炉金相研磨抛光机金刚石线切割机性能测试系统激光导热仪-LFA 457差示扫描量热仪-DSC 404同步热分析仪-STA 2500热机械分析仪-TMA 457电阻率/温差电动势测试仪-CTAUV-vis-NIR变温霍尔测试系统变温红外光谱仪发电效率特性测定装置接触电阻测试平台焊接平台需要说明的是，以上仪器设备展示仅根据各课题组网站信息整理，并非各课题组实验室仪器的全部配置。因此，小编特整理了热电材料研究实验室常用的制备与表征仪器清单，供君参考。热电材料研究实验室仪器配置清单热电材料制备常用仪器电子天平马弗炉/电阻炉/管式炉/实验炉鼓风/真空干燥箱材料生长炉磁力搅拌器球磨机超声波清洗机放电等离子烧结SPS离心机悬浮熔炼炉/电弧熔炼炉石墨磨具原子层沉积系统真空/惰性气氛手套箱电子束/热蒸发镀膜设备恒温油浴/水浴锅退火炉游标卡尺3D打印机切割机研磨抛光机热电材料表征常用仪器X射线衍射仪赛贝克系数/电阻率测试系统X射线光电子能谱仪霍尔系数测试设备热重分析仪介电性能测试系统扫描电子显微镜热电转换效率测量系统透射电子显微镜电/热导率测试系统电子探针分析仪声速测定仪热膨胀仪红外光谱仪显微硬度仪热机械分析仪激光热导仪焊接平台差热扫描热量仪综合物理性能测试系统【近期网络会议推荐】3月23日“热电材料表征与检测技术”主题网络研讨会免费报名听会链接：https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/2021RD/

近日，中国政府采购网公开了一批高校2021年4月政府采购意向，仪器信息网特对仪器设备相关采购意向进行了汇总，供仪器设备厂商参考。以下为22所高校2021年4月仪器设备采购意向详情，采购需求项目197项，采购预算总额超过3.4亿元。采购意向仪器包括扫描电镜、透射电镜、原子力显微镜、扫描探针显微镜、电化学工作站、离子色谱仪、X射线衍射仪、荧光光谱仪、红外光谱仪、PCR、流式细胞仪、液质、气质、热重分析仪、激光粒度仪、光刻机等，详情如下：序号采购单位采购项目预算金额（万元）采购需求概况1合肥工业大学场发射透射电子显微镜915详见项目详情2南开大学离子淌度飞行时间质谱联用系统430详见项目详情脉冲激光沉积系统310详见项目详情3东北大学实时3D、生理学病人虚拟教学平台170详见项目详情4中山大学等离子增强化学气相沉积系统153详见项目详情金属有机化合物化学气相沉积195详见项目详情综合光电测试系统165详见项目详情电子顺磁共振波谱仪192详见项目详情激光显微共焦拉曼光谱仪380详见项目详情聚合物 3D 打印系统150详见项目详情双电源型等离子放电烧结系统144详见项目详情中红外光电流测试系统143详见项目详情扫描光电化学显微镜133详见项目详情电化学工作站（配测试电脑）19详见项目详情自对焦显微拉曼成像光谱仪38详见项目详情电化学综合分析仪35详见项目详情旋转流变仪（中高黏度）46详见项目详情电化学工作站85.76详见项目详情场发射扫描电镜、台式扫描电子显微镜419详见项目详情激光光镊测量系统131详见项目详情高通量台式全自动扫描电镜能谱一体机（飞钠电镜）120详见项目详情热压罐成型系统（三）30详见项目详情热压罐成型系统（一）170详见项目详情多通道电化学测试系统62详见项目详情旋转流变仪（中低黏度）46详见项目详情弯曲梁流变仪43详见项目详情X 射线衍射仪76详见项目详情257nm 固体激光器、213nm 皮秒激光器111详见项目详情X 射线衍射仪180详见项目详情X 射线衍射仪140详见项目详情电化学工作站6详见项目详情激光导热仪120详见项目详情电化学综合测试系统45详见项目详情197nm 固体激光器65详见项目详情扫描开尔文探针显微镜37.5详见项目详情扫描探针显微镜99详见项目详情制冷光纤光谱仪36详见项目详情高真空热阻蒸发薄膜沉积系统36详见项目详情高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统150详见项目详情傅里叶红外光谱仪37.6详见项目详情磁控溅射薄膜沉积系统35详见项目详情变温电阻率-热释电-热激励电流测试系统、高低温介电测试系统、铁电测试仪、变温准静态d33 测试系统125详见项目详情电感耦合等离子体发射光谱仪68详见项目详情脉冲激光沉积(PLD)系统 (脉冲激光沉积真空腔体)165详见项目详情显微拉曼光谱系统40详见项目详情荧光光谱仪35.5详见项目详情高灵敏度荧光光谱仪125详见项目详情等离子增强原子层沉积系统135详见项目详情傅里叶红外光谱55详见项目详情低温强磁场光学平台230详见项目详情氢气发生器150详见项目详情金属有机无化学沉积设备加热和温控系统130详见项目详情中红外至太赫兹近场稳态/瞬态光谱与成像系统600详见项目详情实时荧光定量PCR仪52详见项目详情超纯水机48详见项目详情荧光定量PCR仪22详见项目详情5北京化工大学X射线光电子能谱仪420详见项目详情6四川大学华西医院微滴式数字PCR仪160详见项目详情流式细胞分选仪195详见项目详情高内涵细胞成像分析系统420详见项目详情7北京理工大学电感耦合等离子体质谱仪（先进材料实验中心建设项目）147.4详见项目详情8天津大学天津大学材料学院激光选区熔融增材制造系统（金属3D打印机）350详见项目详情9武汉大学上转化全光谱共聚焦显微成像系统212详见项目详情超高真空扫描隧道/原子力显微镜系统430详见项目详情10兰州大学重大突发公共卫生事件应急处理实训环境监测设备购置63.49详见项目详情重大突发公共卫生事件应急处理实训临床检验设备购置40.3详见项目详情重大突发公共卫生事件应急处理实训显微镜购置24.2详见项目详情重大突发公共卫生事件应急处理实训离心机设备购置23.1详见项目详情重大突发公共卫生事件应急处理实训生物医学设备购置102.4详见项目详情重大突发公共卫生事件应急处理实训光学分析设备购置68详见项目详情重大突发公共卫生事件应急处理实训分析辅助设备购置68.0524详见项目详情数码互动式显微镜采购40详见项目详情永停滴定仪采购15详见项目详情差示扫描量热分析仪13详见项目详情傅里叶变换红外光谱仪15详见项目详情气相色谱仪采购66详见项目详情全自动多级展开仪12详见项目详情11复旦大学低温超高真空扫描隧道显微镜系统（超高真空稀释制冷低温恒温仪组件）360详见项目详情12西北工业大学六英寸键合机410详见项目详情强电磁场环境综合物性测量系统380详见项目详情高超声速流动测试系统（层析粒子图像测速系统）280详见项目详情超高温热机械疲劳测试系统230详见项目详情磁控溅射设备110详见项目详情SEM原位力学测试系统140详见项目详情材料缺陷演化评估系统120详见项目详情放电等离子烧结炉350详见项目详情13清华大学激光器噪声/线宽测试仪购置120详见项目详情转盘式共聚焦显微成像系统360详见项目详情高通量成像筛选设备156详见项目详情单光子自适应高速三维显微成像系统330详见项目详情Focused Ion beam215详见项目详情14厦门大学热重红外质谱联用系统135详见项目详情微型双螺杆挤出机118详见项目详情锥形量热仪138详见项目详情15西南大学多角度激光光散射-凝胶色谱联用仪120详见项目详情超高效液相色谱-四级杆飞行时间质谱联用仪350详见项目详情16上海交通大学显微操作系统220详见项目详情组织病理设备110详见项目详情PCR仪及成像系统150详见项目详情400M核磁共振波谱仪300详见项目详情聚焦离子束扫描电镜微纳加工站和电子直读相机1495详见项目详情扫描电镜样品制备系统256详见项目详情透射电镜制样系统605详见项目详情X射线光电子能谱仪530详见项目详情XRD系统120详见项目详情17西安交通大学椭偏仪130详见项目详情离子色谱仪112详见项目详情18复旦大学半导体器件参数分析仪 150详见项目详情8英寸半自动探针台320详见项目详情芯片安全性测试与侧信道分析平台190详见项目详情基于深度学习的芯片安全分析平台240详见项目详情400兆核磁共振波谱仪230详见项目详情19山东大学高压原位反应X射线衍射仪141详见项目详情红外激光扫描上转换显微镜165详见项目详情拉曼-荧光寿命-光电流成像测量系统170详见项目详情20湖南大学步进式光刻机系统650详见项目详情21华中科技大学快速扫描傅里叶变换热红外辐射仪130详见项目详情台式无掩膜光刻机150详见项目详情真空封装键合机360详见项目详情22浙江大学高能量短脉冲染料激光器113详见项目详情反应离子刻蚀机196详见项目详情电子束曝光机1200详见项目详情电子束蒸发镀膜机105详见项目详情等离子体刻蚀机250详见项目详情Waters液质联用仪Xevo TQD190详见项目详情23南京大学聚焦离子束扫描电镜双束系统420详见项目详情24北京大学质谱仪116详见项目详情25西南交通大学轨道交通关键材料及结构多功能摩擦磨损试验台347详见项目详情机车车辆螺栓紧固件松动特性试验系统115详见项目详情26中南大学粉末冶金研究院X射线衍射仪采购项目200详见项目详情粉末冶金研究院化学气相沉积炉采购项目210详见项目详情高性能复杂制造国家重点实验室紫外激光晶圆高精密切割系统采购项目500详见项目详情27华中师范大学2021年度化学实验室设备购置460详见项目详情2021年度基础物理实验室设备购置116详见项目详情28江南大学非损伤微测系统120详见项目详情29西安电子科技大学超高真空脉冲激光沉积系统320详见项目详情铁电器件刻蚀机460详见项目详情半导体特性分析仪140详见项目详情铁电器件图形光刻系统122详见项目详情激光导热仪335详见项目详情超高温辐射加热真空（充气）环境力学性能试验系统150详见项目详情30北京林业大学全波长荧光酶标仪28.5详见项目详情元素分析仪79详见项目详情三维激光扫描仪62详见项目详情红外热像流速仪12详见项目详情纳米粒径及电位分析仪器40详见项目详情动态热机械分析仪78详见项目详情差示扫描量热仪（带高压盘套装）59详见项目详情流式细胞仪45详见项目详情倒置荧光显微镜22详见项目详情二氧化碳培养箱4.9详见项目详情洁净工作台1.5详见项目详情激光粒度仪38详见项目详情荧光光谱仪24详见项目详情热重分析仪40详见项目详情高效液相色谱色谱仪28详见项目详情反应离子刻蚀系统45详见项目详情比表面和孔径分析仪92详见项目详情TA-AR流变仪ARES-G251详见项目详情酶标仪4.8详见项目详情全自动真空管式炉5.4详见项目详情超景深体视显微系统90.5详见项目详情扫描电镜384详见项目详情透射电镜（含制样附件）232详见项目详情X射线光电子能谱仪（XPS）350详见项目详情纳米压痕仪210详见项目详情激光共聚焦拉曼显微镜200详见项目详情18角度激光光散射系统246详见项目详情锥形量热仪130详见项目详情低场核磁在线变温成像与分析系统100详见项目详情原子力显微镜185详见项目详情三重四级杆液相色谱质谱联用仪225详见项目详情XRD射线衍射仪112详见项目详情同位素质谱仪334详见项目详情热重-红外光谱分析仪116详见项目详情多功能进样三重四极杆气质联用仪128详见项目详情粒子图像测速仪系统110详见项目详情液态水同位素分析仪110详见项目详情31四川大学流式细胞仪（分选）300详见项目详情环境扫描电镜210详见项目详情高速高分辨激光拉曼光谱仪205详见项目详情激光3D打印机425详见项目详情激光扫描显微镜190详见项目详情32重庆大学稳定同位素比质谱仪250详见项目详情高性能动态试验机250详见项目详情定向热转化反应-气液固相原位在线表征系统198详见项目详情

一、项目基本情况 项目编号：青海百鑫公招（货物）2023-025项目名称：青海大学盐湖化工大型系列研究设施设备购置项目 预算金额（元）：24000000.00最高限价（元）：包1:3680000.00；包2：5050000.00；包3：6100000.00；包4：2940000.00；包5：2760000.00；包6：3470000.00；采购需求： 标项一 标项名称: 青海大学盐湖化工大型系列研究设施设备购置项目-包1 数量: 不限 预算金额（元）：3680000.00 简要规格描述或项目基本概况介绍、用途： 购置薄膜拉伸试验机、原位光谱电化学测试系统、气锁（扫描电镜升级）、等离子清洗仪（扫描电镜升级）、STEM探头（扫描电镜升级）各1台（套）。 备注： / 标项二 标项名称: 青海大学盐湖化工大型系列研究设施设备购置项目-包2 数量: 不限 预算金额（元）：5050000.00 简要规格描述或项目基本概况介绍、用途： 购置快速全自动多功能高性能X射线光电子能谱仪、超滑性能测试系统各1台（套）。 备注：/ 标项三 标项名称: 青海大学盐湖化工大型系列研究设施设备购置项目-包3 数量: 不限 预算金额（元）：6100000.00 简要规格描述或项目基本概况介绍、用途： 购置高辉度微焦斑转靶X射线单晶衍射仪、台式冻干机各1台（套）。 备注：/ 标项四 标项名称: 青海大学盐湖化工大型系列研究设施设备购置项目-包4 数量: 不限 预算金额（元）：2940000.00 简要规格描述或项目基本概况介绍、用途：购置多功能机械研磨抛光一体机、氩离子抛光仪、等温滴定微量热仪各1台（套） 备注：/ 标项五 标项名称: 青海大学盐湖化工大型系列研究设施设备购置项目-包5 数量: 不限 预算金额（元）：2760000.00 简要规格描述或项目基本概况介绍、用途： 购置高真空非晶跃迁沉积系统、真空热压烧结炉、高真空磁控溅射薄膜沉积系统、太阳能电池伏安特性测量系统、太阳能电池量子效率测量系统、热电材料测试系统各1台（套）。 备注：/ 标项六 标项名称: 青海大学盐湖化工大型系列研究设施设备购置项目-包6 数量: 不限 预算金额（元）：3470000.00 简要规格描述或项目基本概况介绍、用途： 高温万能试验机（环境箱，视频引伸计）、显微硬度试验机（带自动测量）、生态气象站、稳态表面光电压谱仪、电致化学发光检测仪、全自动稀释配标仪、三联旋转蒸发系统各1台（套），哈氏合金反应釜2台、防爆冰箱6台。 备注：/ 合同履约期限：标项 1、2、3、4、5、6，进口产品90个工作日内，国产产品60个工作日内。其中快速全自动多功能高性能X射线光电子能谱仪和高辉度微焦斑转靶X射线单晶衍射仪供货期为8个月，高真空磁控溅射薄膜沉积系统供货期为4-6个月，气锁（扫描电镜升级）、等离子清洗仪（扫描电镜升级）、STEM探头（扫描电镜升级）、多功能机械研磨抛光一体机（扫描制样）、氩离子抛光仪的供货期为6个月，高真空非晶跃迁沉积系统和真空热压烧结炉的供货期为4个月。本项目（否）接受联合体投标。 二、获取招标文件 时间：2023年05月04日至2023年05月09日，每天上午00:00至12:00，下午12:00至23:59（北京时间，法定节假日除外） 地点：政采云平台线上获取方式：供应商登录政采云平台https://www.zcygov.cn/在线申请获取采购文件（进入“项目采购”应用，在获取采购文件菜单中选择项目，申请获取采购文件），具体方式请咨询线上电子化交易系统：咨询电话：政采云400-811-7190.《青海省政府采购网》下载招标文件。（提示：请潜在供应商报名前务必完成网上企业注册及CA锁办理等手续；具体操作详见附件操作指南） 售价（元）：0 三、对本次采购提出询问，请按以下方式联系 1.采购人信息 名 称：青海大学 地 址：青海省西宁市城北区宁大路251号 联系方式：0971-5125883项目联系人：王老师 2.采购代理机构信息 名 称： 青海百鑫工程监理咨询有限公司 地 址：青海省西宁市西川南路76号万达中心1号楼31层13107室 联系方式：0971-4511712 项目联系人：张忠贤

薄膜沉积是半导体制造工艺中的一个非常重要的技术，其是一连串涉及原子的吸附、吸附原子在表面扩散及在适当的位置下聚结，以渐渐形成薄膜并成长的过程。在一个新晶圆投资建设中，晶圆厂80%的投资用于购买设备。其中，薄膜沉积设备是晶圆制造的核心步骤之一，占据着约25%的比重。薄膜沉积工艺主要分为物理气相沉积和化学气相沉积两类。物理气相沉积(Physical Vapour Deposition，PVD)技术指在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积原理可大致分为蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀，具体又包含有MBE等各种镀膜技术。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。随着技术的发展，PVD技术也不断推陈出新，出现了很多针对某几种用途的专门技术，在此特为大家盘点介绍各种PVD技术。真空蒸发镀膜技术真空蒸发(Vacuum Evaporation) 镀膜是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质，使之升华，蒸发粒子流直接射向基片，并在基片上沉积形成固态薄膜，或加热蒸发镀膜材料的真空镀膜方法。其物理过程为：采用几种能源方式转换成热能，加热镀料使之蒸发或升华，成为具有一定能量(0.1~0.3eV) 的气态粒子(原子、分子或原子团)；离开镀料表面，具有相当运动速度的气态粒子以基本上无碰撞的直线飞行输运到基体表面；到达基体表面的气态粒子凝聚形核生长成固相薄膜；组成薄膜的原子重组排列或产生化学键合。电子束蒸镀技术电子束蒸镀（Electron Beam Evaporation）是物理气相沉积的一种。与传统蒸镀方式不同，电子束蒸镀利用电磁场的配合可以精准地实现利用高能电子轰击坩埚内靶材，使之融化进而沉积在基片上。电子束蒸镀常用来制备Al、CO、Ni、Fe的合金或氧化物膜，SiO2、ZrO2膜，抗腐蚀和耐高温氧化膜。电子束蒸镀与利用电阻进行蒸镀最大的优势在于：可以为待蒸发的物质提供更高的热量，因此蒸镀的速率也更快；电子束定位准确，可以避免坩埚材料的蒸发和污染。但是由于蒸镀过程中需要持续水冷，对能量的利用率不高；而且由于高能电子可能带来的二次电子可能使残余的气体分子电离，也有可能带来污染。此外，大多数的化合物薄膜在被高能电子轰击时会发生分解，这影响了薄膜的成分和结构溅射镀膜技术溅射镀膜技术是用离子轰击靶材表面，把靶材的原子被击出的现象称为溅射。溅射产生的原子沉积在基体表面成膜称为溅射镀膜。通常是利用气体放电产生气体电离，其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶体，击出阴极靶体原子或分子，飞向被镀基体表面沉积成薄膜。射频溅射技术射频溅射是溅射镀膜技术的一种。用交流电源代替直流电源就构成了交流溅射系统，由于常用的交流电源的频率在射频段，如13.56MHz，所以称为射频溅镀。在直流射频装置中，如果使用绝缘材料靶，轰击靶面的正离子会在靶面上累积，使其带正电，靶电位从而上升，使得电极间的电场逐渐变小，直至辉光放电熄灭和溅射停止。所以直流溅射装置不能用来溅射沉积绝缘介质薄膜。磁控溅射技术磁控溅射技术属于PVD（物理气相沉积）技术的一种，是制备薄膜材料的重要方法之一。它是利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点，将离子引向被溅射的物质制成的靶电极（阴极），并将靶材原子溅射出来使其沿着一定的方向运动到衬底并在衬底上沉积成膜的方法。磁控溅射设备使得镀膜厚度及均匀性可控，且制备的薄膜致密性好、粘结力强及纯净度高。该技术已经成为制备各种功能薄膜的重要手段。离子镀膜技术离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜新技术，将各种气体放电方式引入到气相沉积领域，整个气相沉积过程都是在等离子体中进行，其中包括磁控溅射离子镀、反应离子镀、空心阴极放电离子镀（空心阴极蒸镀法）、多弧离子镀（阴极电弧离子镀）等。离子镀大大提高了膜层粒子能量，可以获得更优异性能的膜层，扩大了“薄膜”的应用领域。是一项发展迅速、受人青睐的新技术。广义来讲，离子镀膜的特点是：镀膜时，工件（基片）带负偏压，工件始终受高能离子的轰击。形成膜层的膜基结合力好、膜层的绕镀性好、膜层组织可控参数多、膜层粒子总体能量高，容易进行反应沉积，可以在较低温度下获得化合物膜层。多弧离子镀(MAIP)多弧离子镀是采用电弧放电的方法，在固体的阴极靶材上直接蒸发金属，蒸发物是从阴极弧光辉点放出的阴极物质的离子，从而在基材表面沉积成为薄膜的方法。多弧离子镀与一般的离子镀有着很大的区别。多弧离子镀采用的是弧光放电，而并不是传统离子镀的辉光放电进行沉积。简单的说，多弧离子镀的原理就是把阴极靶作为蒸发源，通过靶与阳极壳体之间的弧光放电，使靶材蒸发，从而在空间中形成等离子体，对基体进行沉积。分子束外延（MBE）分子束外延（MBE）是新发展起来的外延制膜方法，是一种在晶体基片上生长高质量的晶体薄膜的新技术。在超高真空条件下，由装有各种所需组分的炉子加热而产生的蒸气，经小孔准直后形成的分子束或原子束，直接喷射到适当温度的单晶基片上，同时控制分子束对衬底扫描，就可使分子或原子按晶体排列一层层地“长”在基片上形成薄膜。该技术的优点是：使用的衬底温度低，膜层生长速率慢，束流强度易于精确控制，膜层组分和掺杂浓度可随源的变化而迅速调整。用这种技术已能制备薄到几十个原子层的单晶薄膜，以及交替生长不同组分、不同掺杂的薄膜而形成的超薄层量子显微结构材料。分子束外延不仅可用来制备现有的大部分器件，而且也可以制备许多新器件，包括其它方法难以实现的，如借助原子尺度膜厚控制而制备的超晶格结构高电子迁移率晶体管和多量子阱型激光二极管等。我们在公车上看到的车站预告板，在体育场看到的超大显示屏，其发光元件就是由分子束外延制造的。脉冲激光沉积（PLD）脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被称为脉冲激光烧蚀（pulsed laser ablation，PLA），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。由脉冲激光沉积技术的原理、特点可知，它是一种极具发展潜力的薄膜制备技术。随着辅助设备和工艺的进一步优化，将在半导体薄膜、超晶格、超导、生物涂层等功能薄膜的制备方面发挥重要的作用；并能加快薄膜生长机理的研究和提高薄膜的应用水平，加速材料科学和凝聚态物理学的研究进程。同时也为新型薄膜的制备提供了一种行之有效的方法。激光分子束外延（L-MBE）激光分子束外延技术（L-MBE）是近年来发展起来的一项新型薄膜制备技术，是将分子束外延技术与脉冲激光沉积技术的有机结合，在分子束外延条件下激光蒸发镀膜的技术。L- MBE结合了PLD的高瞬时沉积速率（不需要考虑成分挥发时的热平衡问题等等）及MBE的实时检测功能，是一种改良的MBE方法。近年来，薄膜技术和薄膜材料的发展突飞猛进，成果显著，在原有基础上，相继出现了离子束增强沉积技术、电火花沉积技术、电子束物理气相沉积技术和多层喷射沉积技术等。目前，芯片制造过程中关键的PVD设备主要包括硬掩膜（Hard Mask ）PVD设备、铜互联（CuBS）PVD 以及铝衬垫（Al PAD）PVD，主要使用溅射镀膜技术。目前，主流物理气相沉积厂商包括，北方华创、合肥科晶、中科科仪、SPTS、ULVAC、Applied Materials、Optorun、那诺-马斯特、IHI Corporation、Lam Research、Semicore Equipment、Veeco Instruments、Oerlikon Balzers、Mustang Vacuum Systems、Singulus Technologies、KurtJ.Lesker、博远微纳、汇成真空、佛欣真空、北京丹普、九鼎精密、意力博通、CHA Industries、Angstrom Engineering、Denton Vacuum、Mantis、沈阳科学仪器有限公司等。更多仪器请查看以下专场【物理气相沉积】、【激光脉冲沉积】、【分子束外延】。

p　　近日，中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室金春水研究团队在极紫外多层膜膜厚分布超高精度控制研究方面取得新进展：通过采用遗传算法，实现了Φ200mm曲面基底上极紫外多层膜膜厚分布控制精度优于± 0.1%，镀膜引起的不可补偿面形误差小于0.1nmRMS，相关指标达到国际先进水平。相关结果在线发表于近期的Optics Letters(dx.doi.org/10.1364/OL.40.003958)上。/pp　　极紫外多层膜反射镜是极紫外光刻系统的核心光学元件。极紫外光刻系统需要高性能的极紫外多层膜，包括高反射率、低应力、高稳定性和高均匀性。对于极紫外光刻系统中的投影物镜，必须对镀制在其上的极紫外多层膜进行超高精度的膜厚分布控制，以便实现波长匹配和减小镀膜引起的面形误差。/pp　　该研究团队采用遗传算法，完成了磁控溅射源特性参数的反演和用于控制膜厚分布的公转调速曲线的反演，避免了直接测量磁控溅射速率空间分布的繁琐过程，减少了极紫外多层膜膜厚控制工艺的迭代次数，大大降低了获得超高膜厚分布精度极紫外多层膜反射镜的工艺成本。/pp　　该工作得到了“国家科技重大专项-02专项”项目经费的支持。/pp style="text-align: center "img src="http://img1.17img.cn/17img/images/201512/insimg/23f88bde-dfca-408c-bbba-0cd143198760.jpg" title="W020151215486777681302.png" width="600" height="225" border="0" hspace="0" vspace="0" style="width: 600px height: 225px "//pp style="text-align: center "长春光机所极紫外多层膜膜厚分布超高精度控制研究获进展/ppbr//p

近日，中山大学公开了一系列2021年4月政府采购意向，仪器信息网特对仪器类进行了汇总。共收集到中山大学4月仪器类采购意向68项，总预算金额约8550万。中山大学4月仪器采购意向汇总表序号采购项目名称采购品目采购需求预算金额(万元)1等离子增强化学气相沉积系统A02052402真空应用设备详情链接1532金属有机化合物化学气相沉积A02052403真空检测设备详情链接1953综合光电测试系统A02100301显微镜详情链接1654电子顺磁共振波谱仪A02100406波谱仪详情链接1925激光显微共焦拉曼光谱仪A02100303物理光学仪器详情链接3806聚合物3D打印系统A0201060199其他打印设备详情链接1507双电源型等离子放电烧结系统A02100502非金属材料试验机详情链接1448中红外光电流测试系统A02110101数字仪表及装置详情链接1439扫描光电化学显微镜A02100301显微镜详情链接13310电化学工作站（配测试电脑）A02100401电化学分析仪器详情链接1911自对焦显微拉曼成像光谱仪A02100303物理光学仪器详情链接3812电化学综合分析仪A02100401电化学分析仪器详情链接3513旋转流变仪（中高黏度）A02100502非金属材料试验机详情链接4614电化学工作站A02100401电化学分析仪器详情链接85.7615场发射扫描电镜、台式扫描电子显微镜A02100305电子光学及离子光学仪器详情链接41916激光光镊测量系统A02100304光学测试仪器详情链接13117高通量台式全自动扫描电镜能谱一体机（飞钠电镜）A02100305电子光学及离子光学仪器详情链接12018热压罐成型系统（三）A02050902锻压机械设备详情链接3019热压罐成型系统（一）A02050902锻压机械设备详情链接17020多通道电化学测试系统A02100401电化学分析仪器详情链接6221旋转流变仪（中低黏度）A02100502非金属材料试验机详情链接4622弯曲梁流变仪A02100502非金属材料试验机详情链接4323X射线衍射仪A02100405射线式分析仪器详情链接7624257nm固体激光器、213nm皮秒激光器A02100309激光仪器详情链接11125X射线衍射仪A02100405射线式分析仪器详情链接18026X射线衍射仪A02100405射线式分析仪器详情链接14027电化学工作站A02100401电化学分析仪器详情链接628激光导热仪A02100403热学式分析仪器详情链接12029电化学综合测试系统A02100401电化学分析仪器详情链接4530197nm固体激光器A02100309激光仪器详情链接6531扫描开尔文探针显微镜A02100305电子光学及离子光学仪器详情链接37.532扫描探针显微镜A02100305电子光学及离子光学仪器详情链接9933制冷光纤光谱仪A02100303物理光学仪器详情链接3634高真空热阻蒸发薄膜沉积系统A02052402真空应用设备详情链接3635高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统A02052402真空应用设备详情链接15036傅里叶红外光谱仪A02100303物理光学仪器详情链接37.637磁控溅射薄膜沉积系统A02052402真空应用设备详情链接3538变温电阻率-热释电-热激励电流测试系统、高低温介电测试系统、铁电测试仪、变温准静态d33测试系统A02100299其他电工仪器仪表详情链接12539电感耦合等离子体发射光谱仪A02100303物理光学仪器详情链接6840脉冲激光沉积（PLD）系统（脉冲激光沉积真空腔体）A02052402真空应用设备详情链接16541显微拉曼光谱系统A02100303物理光学仪器详情链接4042荧光光谱仪A02100303物理光学仪器详情链接35.543高灵敏度荧光光谱仪A02100303物理光学仪器详情链接12544等离子增强原子层沉积系统A02052402真空应用设备详情链接13545傅里叶红外光谱A02100303物理光学仪器详情链接5546激光共聚焦显微镜（倒置型）A02100301显微镜详情链接25047全自动数字玻片扫描系统A02100301显微镜详情链接19948激光共聚焦显微镜（正置型）A02100301显微镜详情链接25049激光共聚焦显微镜（多光谱）A02100301显微镜详情链接49050低温强磁场光学平台A02100303物理光学仪器详情链接23051中红外至太赫兹近场稳态/瞬态光谱与成像系统A02100304光学测试仪器详情链接60052实时荧光定量PCR仪A02100604生物、医学样品制备设备详情链接5253超纯水机A02100416分析仪器辅助装置详情链接4854荧光定量PCR仪A02100604生物、医学样品制备设备详情链接2255低温强磁场综合物性测量仪A021127综合测量仪详情链接18056多场作用时间分辨微区电子发射系统A02100309激光仪器详情链接35057分析型高效液相色谱仪A02100408色谱仪详情链接82.558紫外可见分光光度计A02100303物理光学仪器详情链接97.559旋转蒸发仪A02100499其他分析仪器详情链接1360旋转蒸发仪（500L）（大型旋转蒸发仪）A02100499其他分析仪器详情链接4461冷冻真空干燥器A02100603试验箱及气候环境试验设备详情链接7262毛细管电泳仪A02100401电化学分析仪器详情链接6063台式高速冷冻离心机A02052501离心机详情链接24064定量PCR仪A02100499其他分析仪器详情链接9065多功能移液器A02100499其他分析仪器详情链接6066半制备型高效液相色谱仪A02100408色谱仪详情链接4067正置显微镜A02100301显微镜详情链接16268全电动荧光体视显微镜A02100301显微镜详情链接96

随着材料科学的蓬勃发展，尤其是高水平的量子材料研究与应用对薄膜材料、二维材料的制备和高精度加工要求越来越高。一套完整流程的薄膜制备与加工设备购置成本通常要在几百万到上千万元。此外，大型设备操作繁复，存放空间大、日常维护成本高，给科研人员带来了很大挑战。依赖于共享方案的科研平台由于设备预约周期长，会大大减慢科研进度。为了快速、低成本的实现高质量的材料制备与加工，让科研计划进入快车道。英国Moorfield Nanotechnology公司与多所名校以及获得诺贝尔奖的课题组长期合作，推出了一系列高性能台式设备, 专门用于各种薄膜材料的高质量制备和加工。该系列产品具有体积小巧、快速制备样品、灵活配置方案等特点，一经推出即受到包括剑桥大学、帝国理工、英国物理实验室等科研单位的青睐。从多功能金属、缘材料溅射到有机物、金属热蒸发；从高质量石墨烯CVD快速制备到高质量碳纳米管CVD趋向生长；从样品、衬底的热处理到单层二维材料的软刻蚀与缺陷加工。Moorfield系列产品已经获得欧洲用户的广泛认可，产品质量与性能完全可以媲美大型设备，一些方面甚至远超大型设备。台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD专为高水平学术研究研发的小型物理气相沉积设备。该系列产品包含磁控溅射、金属/有机物热蒸发系统。这些设备不仅体积小巧而且性能，能够快速实现高质量纳米薄膜、异质结的制备，通常在大型设备中才有的共溅射、反应溅射、共蒸发功能也可在该系列产品上实现。台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVD系统采用低热容的样品台可在2分钟内升温至1000℃并控温，该装置采用了冷壁技术，样品生长完毕后可以快速降温，正是因为这些条件可以让用户在30分钟内即可获得高质量的石墨烯。nanoCVD具有压强自动控制系统，可以的控制石墨烯生长过程中的气氛条件。用户通过触屏进行操作，更有内置的标准石墨烯生长示例程序供用户参考。非常适合需要持续快速获取高质量石墨烯用于高质量学术研究的团队。目前，埃克塞特大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学等很多全球著名的高校都是该系统的用户。台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVD台式超二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度，而目前传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。为了解决目前微纳加工中常用的刻蚀系统功率较大、难以精细控制的问题，nanoETCH系统对输出功率的分辨率可达毫瓦量，可实现二维材料超逐层刻蚀、层内缺陷制造，以及对石墨基材或衬底等的表面处理。台式超二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH台式气氛\压力控制高温退火系统—ANNEALMoorfield专门为制备高质量的样品而推出的台式气氛\压力控制高温退火系统，不仅可以满足从高真空到各种气氛的退火需求，还能对气压和温度进行控制，从而为二维材料、基片等进行可控热处理提供重要保障。该系统颠覆了传统箱式、管式炉的粗放退火方式，开创了退火的新篇章。台式气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL多功能高磁控溅射喷金仪—nanoEMnanoEM是Moorfield Nanotechnology为SEM、TEM样品的表面导电处理以及普通样品的高质量电生长而设计的金属溅射系统。系统配备SEM样品托、TEM样品网、普通薄膜样品等多种专用样品台。虽然该系统主要为溅射金属而设计，但是该设备的性能已经达到了高质量薄膜样品的制备标准。通过选择不同的配置可以兼顾样品的表面导电处理、电制备与学术研究型薄膜样品的制备。多功能高磁控溅射喷金仪—nanoEMMoorfield高性能台式薄膜制备与加工设备以超高质量、亲民的价格快速实现您的科研方案，想获取更多详细信息吗？还等什么，现在就联系我们吧！

第三届“信立方杯”微课大赛火热招募中！（点击报名）面向全国高等院校、科研单位的精英教师们，第三届“信立方杯”微课大赛现已开启报名通道！无论您是科研实验领域的专家，还是教学一线的骨干，都可将您日常积累的宝贵实验方法和仪器使用心得，浓缩成5分钟以内的视频作品，与我们一同分享您的智慧与经验。（点击图片直达第三届微课大赛官网）专家评审，权威认证 大赛将由评审委员会，从专业性、创新性、视频内容及呈现等多方面对参赛作品进行严格评选。优秀作品将荣获一等、二等、三等奖项；同时将通过大众网络投票活动，与专家评审分数相结合，共同角逐“十佳主讲老师”的殊荣。最高奖金高达1万元，期待您的精彩表现！往届佳作，熠熠生辉下面与你一起分享第二届微课大赛电镜组别的微课视频~作品名称：透明薄膜样品的价带铺测试方法 （点击题目查看视频）作品讲师：段建霞 清华大学分析中心作品简介：作品以 ITO为基底的透明薄膜样品，介绍价带谱的检测方法，包括样品制备和安装注意事项、XPS 价带谱和 UPS 谱测试中的高度调节技巧和参数设置方法以及 XPS 价带谱和 UPS 谱结果对比。透明薄膜样品在测量价带谱时存在对焦困难的问题，因此透明薄膜样品的高度调节技巧非常重要。作品名称：扫描电镜不导电样品磁控溅射镀膜仪常见问题解决（点击题目查看视频）作品讲师：李丽 南京理工大学作品简介：本作品主要从两大方面介绍磁控溅射镀膜仪：1.简易演示真空磁控溅射镀膜过程。这点也是仪器培训中学员最需要了解并最感兴趣。 2.介绍常见问题和解决办法：真空问题、Ar气进气排气、靶材、成膜厚度、溅射速率。作品名称：激光扫描共聚焦显微镜应用技术（点击题目查看视频）作品讲师：周静 四川大学分析测试中心作品简介：激光共聚焦扫描显微镜是近代最先进的细胞生物医学分析手段之一。与传统荧光显微镜相比，共聚焦显微镜能得到更清晰的样品图像。它不仅可观察固定的细胞、组织切片，还可对活细胞的结构、分子、离子进行实时动态地观察和检测。作品名称：原子力显微镜的表面电势模式（点击题目查看视频）作品讲师：郭航 西安交通大学作品简介：本节微课主要介绍了原子力显微镜的表面电势模式，它主要用于研究材料微区形貌和表面电势分布图像，这里介绍了其工作原理和应用。作品名称：透射电镜中的选区电子衍射技术（点击题目查看视频）作品讲师：李雷 武汉大学作品简介：选区电子衍射技术是透射电子显微学中的一个重要组成部分，不仅可以用于对微区的样品进行结构表征，也可以辅助分析样品的生长方向，样品的结晶性等。同时由于在拍摄选区衍射时使用发散的电子束，对样品的辐照损伤较低，因此可以使用该技术对样品的结构演变进行原位表征。作品名称：透射电镜EDS元素面分布分析的工作原理（点击题目查看视频）作品讲师：王延茹 中国科学技术大学作品简介：本视频首先介绍了该方法的定性依据，即特征X射线的产生原理，随后展示了这种分析方法的工作过程，包括电子束的工作状态、原始数据记录方式、后期软件数据提取步骤等，基于这些讲解得出在进行EDS面分布分析时，只要保留原始数据谱图中出峰的元素可随时提取其面分布结果。最后拓展介绍了EDS线分析的工作过程作品名称：信号探测器对扫描电镜成像效果的影响（点击题目查看视频）作品讲师：王佳伟 西安交通大学作品简介：扫描电镜因其分辨率高、制样简单、扩展性强等特点，是常用的显微成像设备之一。电镜利用电子与物质相互作用产生的信号，经计算拟合后模拟出样品形貌。因此，电镜成像效果受捕获信号的类型影响。本作品介绍了扫描电镜中常见的3种信号探测器，讨论了其信号来源，并对不同类型信号成像的效果进行对比，从而说明信号探测器对扫描电镜成像效果的影响。作品名称：高粘性液体的冷冻透射电镜样品制备（点击题目查看视频）作品讲师：童慧敏 西安交通大学作品简介：随着科学研究的不断深入，冷冻透射电镜的研究领域不再仅仅局限于生物医学领域，而是朝着水环境有机及其复合体系、电子束敏感材料体系等等交叉学科领域不断护展。本作品着眼于一类特殊样品-高粘性液体样品，重点研究其冷冻样品制样法，通过对制样参数的不断优化，得到最优化的制样方法一一涂样冷冻制样法，并结合冷冻透射电镜成功观察到了此类液体的微观结构。作品名称：电镜超薄切片制样技术分享（点击题目查看视频）作品讲师：董鑫 中山大学测试中心作品简介：在透射电镜的样品制备方法中,超薄切片技术是最基本､ 最常用的制备技术，主要步骤包括包埋聚合､ 切片、捞片等步骤。作品主要内容是围绕透射电镜样品制备的技术展开，介绍超薄切片制样技术的规范化制备方法、分享样品表征的案例，清晰真实地展示出样品从切片到电镜表征的全流程。作品名称：如何获得质量更高的扫描电镜样品（点击题目查看视频）作品讲师：周雨萌 大连理工大学作品简介：电镜制样过程常常会对表征结果的真实性带来影响。在拍电镜的过程中可能会遇到：想要拍EBSD时由于样品表面划痕、应力过多而造成解析率较低；想拍截面时，剪刀等工具会造成界面变形、污染、膜层界面不清晰等等从而影响结果。为此我们介绍一种前处理制样设备——氩离子抛光仪，可以有效地消除划痕，减小应力损伤，氧化、污染、变形的可能性，制备得到高质量的平整表面。同时可控的低温还可以用来抛光一些敏感材料。（点击图片直达第三届微课大赛官网）

应用电子显微镜高分辨本领和高放大倍率，对物体组织形貌和结构特征进行分析和研究的近代材料物理测试方法。但样品的制作直接影响着结果的准确性，所以制作满足要求的样品就成了整个试验的重点。现将一些常见电镜制样方法简介如下。透射电镜（TEM）TEM放大倍数可达近百万，可以看到在光学显微镜下无法看清的0.1~0.2nm的细微结构。它的样品制备工作量非常大，约占全部测试工作的半数以上或90%以上，是十分关键的。图 透射电镜样品台常用样品台分为两种：顶入式样品台和侧插式样品台顶入式样品台要求样品室空间大，一次可放入多个（常见为6个）样品网，样品网盛载杯呈环状排列，使用时可以依靠机械手装置进行依次交换。优点：每观察完多个样品后，才在更换样品时破坏一次样品室的真空，比较方便、省时间。缺点：但是需要的空间过大，使样品远离下方物镜，不宜减小物镜焦距而影响电镜分辨力。侧插式样品台样品台制成杆状，样品网载放在前端，只能盛放1～2个铜网。优点：样品台体积较小且占用空间较少，可布置于物镜内上部，利于提高电镜分辨率。缺点：不可能一次投入多个样品网中，每换一个样品都要打破一次样品室内真空，稍有不方便。支撑网的选择：支撑网有多种材质如Cu、Ni、Be、尼龙等，选择时要与待分析样品的成分分开。图 筛网尺寸制备原则• 简单• 不破坏样品表面• 获得尽量大的可观测薄区主要制备方法• 支持膜法：• 复型法：• 超薄切片法：• 薄膜试样（电解双喷减薄，离子减薄，FIB等）1. 支持膜法适用范围：纳米颗粒（防止样品从铜网缝隙中漏出）支持膜种类：• 微栅膜• FIB微栅膜• 纯碳微栅膜• 多孔碳膜• Quantifoil规则多孔膜• C-flat纯碳多孔支持膜等图 筛网尺寸制备过程：• 制备支持膜：在铜网上覆盖一层有机膜后喷碳• 选择分散剂：根据样品性质选择，常用无水乙醇• 分散：使用超声波或搅拌将粉末分散成悬浮液液滴上支持膜（两种方法）：（a）滴样：用镊子将覆盖支持膜的铜网夹住，并用滴管向支持膜上滴入数滴悬浮液，使其保持夹持状态直至干燥为止（推荐）（b）捞取：用镊子夹持载网浸入溶液捞取液滴（缺点：双面挂样制备关键和注意事项：• 样品粉末能否在支持膜上均匀分布• 确保实验过程中未带入污染物2.复型法基本原理：利用电子束透明膜（碳、塑料、氧化物薄膜）复制材料表面或者断口形态的间接试样制备方法。适用范围：在电镜中易起变化的样品和难以制成薄膜的试样。样品要求：非晶态、分子尺寸小、导电性、导热性良好，耐轰击，有足够的强度和刚度。复型法分类：塑料一级复型、碳一级复型、塑料-碳二级复型、萃取复型。（1）塑料一级复型样品上滴特定溶液，溶液在样表面展平，多余的用滤纸吸掉，溶剂蒸发后样品表面留下一层100nm左右的塑料薄膜。图 塑料一级复型（2）碳一级复型利用真空镀膜装置将碳膜蒸镀于试样表面，将试样置于真空镀膜装置内，将试样置于所配的分离液内经电解或者化学分离得到分离碳膜便可应用于分析。图 碳一级复型（3）萃取复型图 萃取复型（4）塑料-碳二级复型通俗地说，塑料的一级复型中又制造出碳复型即为二级复型。分辨率相当于塑料的一级复型，对试样无损害，耐电子束辐照，复型带重金属投影。图 碳二级复型3. 超薄切片法适用范围：生物组织、较软的无机材料等。1.取材 2.固定 3.漂洗 4.乙醇或丙酮系列脱水 5.渗透 6.包埋 7.聚合 8.修块 9.切片 10.捞片染色 11.电镜观察注意事项：• 迅速：最短时间内取样,投入固定液• 体积小：所取样品体积不超过1mm3• 轻：轻轻操作，使用锋利器械，避免拉、锯、压• 准确：所取部位有代表性• 低温：在0～4℃内操作4.离子剪薄法适用范围：用于非金属材料或非均匀金属制备过程：• 预处理：按预定取向切割成薄片，机械抛光减薄到几十μm，把边长/直径切割至3mm。• 装入离子轰击装置：• 抛光：获得平坦而宽大的薄区。图 离子剪薄法5.电解双喷减薄法适用范围：只能制备金属试样，首选大块金属。样品准备：• 磨抛厚度均匀，避免穿孔偏• 样品保证清洁• 多准备一些试样，试合适的条件制备步骤：• 样品接正极、电解液接负极，电解液从两侧喷向样品• 样品穿孔后，自动停机• 获得中间薄，边缘厚，呈面窝状的TEM薄膜样品电解液选择：根据样品；不损伤仪器优点：条件易控制，快速，重复性好，成功率较高。图 电解双喷减薄法原理图6. 聚焦离子束法（FIB）适用范围：适用于半导体器件的高精度切割与线路修复。原理：采用从液态金属镓中提取离子束，并通过调节束流强度对指定区域进行快速精细处理。方法：铣削阶梯法，削薄法（H-bar）铣削阶梯法：• 预处理：铣削出两个反向的阶梯槽，中间留出极薄的TEM试样• 标记：刻蚀出定位标记• 定位：用离子束扫描定位标记，确定铣削区域• 铣削：自动或手动完成铣削加工图 铣削阶梯法制备的样品TEM照片削薄法（H-bar）：• 使用机械切割和研磨等方法将试样做到50-100μm厚• 使用FIB沉积一层Pt保护层• 使用FIB铣削掉两侧的材料图 削薄法工作示意图扫描电镜（SEM）扫描电镜样品制备比透射电镜样品制备简单，无需包埋和切片。样品要求：样品须为固体；达到无毒、无放射性、无污染、无磁性、无水分、组分稳定。制备原则：• 表面受到污染的试样，要在不破坏试样表面结构的前提下进行适当清洗，然后烘干；• 新断开的断口或断面，一般不需要进行处理，以免破坏断口或表面的结构状态；• 要侵蚀的试样表面或断口应清洗干净并烘干；• 磁性样品预先去磁；• 试样大小要适合仪器专用样品座尺寸。常用方法：块状样品块状导电材料：无需制样，用导电胶把试样粘结在样品座上，直接观察。块状非导电（或导电性能差）材料：先使用镀膜法处理样品，以避免电荷累积，影响图像质量。图 块状样品制备示意图粉末样品直接分散法：• 双面胶粘于铜片表面，借助棉球使被测样品颗粒直接撒布于其上，并用洗耳球对样品进行轻吹以去除粘附的、没有被牢固地固定的粒子。• 将装有颗粒的玻璃片翻起，对着已准备好的试样台用小镊子或者玻璃棒轻敲，使细颗粒能够均匀地落入试样台上。超声分散法：将少量颗粒放入烧杯内，加乙醇适量，超声震荡5分钟，然后用滴管加入铜片内，使其自然干燥。镀膜法真空镀膜真空蒸发镀膜法（简称真空蒸镀）就是将蒸发容器内需要成膜的原材料在真空室内进行加热，将蒸发容器内的原子或分子气化并从表面逸出，一种形成蒸气流并将其射入固体（称为衬底或基片）的表面以冷凝成固态薄膜的工艺。离子溅射镀膜原理：离子溅射镀膜在局部真空溅射室内辉光放电生成正向气体离子；在阴极（靶）与阳极（试样）之间电压加速时，荷正电离子轰击阴极表面并原子化阴极表面材料；生成的中性原子，向四面八方飞溅，射落在样品表面，从而在样品表面生成了均匀的薄膜。特点：• 对任何待镀材料来说，溅射都是可能的，只要它能够制成靶材即可（适用于难蒸发材料和不容易获得高纯度化合物的相应薄膜材料的制备）；• 溅射所获得的薄膜和基片结合较好；• 消耗贵金属少，每次仅约几毫克；• 溅射工艺具有良好的可重复性，膜厚可控，同时能在大范围基片表面得到厚度均一的膜。• 溅射方法：直流溅射、射频溅射、磁控溅射、反应溅射。1．直流溅射图 直流溅射沉积装置示意图已经很少使用了，由于沉积速率过低~0.1μm/min、基片加热、靶材导电、直流电压和气压都必须很高。优点：装置简单，容易控制，支模重复性好。缺点：工作气压高（10-2Torr）,高真空泵不起作用；沉积速率低，基片升温高，只能用金属靶（绝缘靶导致正离子累积）2．射频溅射图 射频溅射工作示意图射频频率：13.56MHz特点：• 电子作振荡运动，延长了路径，不再需要高压。• 射频溅射可制备绝缘介质薄膜• 射频溅射的负偏压作用，使之类似直流溅射。3．磁控溅射原理：用磁场使电子移动方向发生变化，电子移动轨迹被束缚与拉长，工作气体中电子电离几率增加，电子能量得到高效利用。由此使得正离子轰击靶材产生的靶材溅射变得更高效，可以在更低气压下溅射，而被正交电磁场捆绑的电子则会被束缚于靶材周围，仅能在它们能量消耗殆尽后沉积下来的基片中溅射。图 磁控溅射原理示意图特点：低温，高速，有效解决了直流溅射中基片温升高和溅射速率低两大难题。缺点：• 靶材利用率低（10%-30%），靶表面不均匀溅射；• 反应性磁控溅射中的电弧问题；• 薄膜不够均匀• 溅射装置比较复杂反应溅射溅射气体添加氮气、氧气、烷类等少量反应气体，反应气体和靶材原子共同沉积于衬底上，对于某些不容易发现块材而制造靶材的物质，或者溅射时薄膜成分易偏离靶材原成分，均可用此法进行。反应气体：O2，N2，NH3，CH4，H2S等镀膜操作将制备完成的样品台放置在样品托上，放入离子溅射仪，加盖，旋紧螺丝并开启电源抽真空。当真空趋于稳定时，在5 X10-1mmHg左右，按下“启动”键，用调节针阀把电流调节到6~8mA,开始镀金，镀金1分钟后即自动停止镀金，关好电源、打开顶盖螺丝、放掉气体、取下试样即成。图 Cressington 108Auto高性能离子溅射仪冷冻电镜制样冷冻电镜是扫描电镜超低温冷冻制样传输技术（Cryo-SEM）可以实现液体，半液体和电子束敏感样品的直接观测，例如生物和高分子材料。样品经超低温冷冻，断裂和镀膜制样（喷金/喷碳）后可由冷冻传输系统置于电镜中的冷台上（温度可至-185°C）观察。适用范围：塑料，橡胶及高分子材料，组织化学，细胞化学等样品制备要求：能够保持本身的结构，又能抗脱水和电子辐射方法：（a）通过快速冷冻使含水样品中的水处于玻璃态，也就是在亲水的支持膜上将含水样品包埋在一层较样品略高的薄冰内。图 液氮冷冻（b）采用喷雾冷冻装置（spray-freezing equipment），结合基质混合冷冻技术（spray-freezing），可在极短时间内将两种溶液（如受体和配体）混合（ms量级），然后快速冷冻。图 喷雾冷冻装置金相制样金相分析是材料研究领域中非常重要的一个环节，也是材料内部组织研究的一种主要方法。利用定量金相学原理通过对二维金相试样磨面或者薄膜进行金相显微组织测量与计算，确定合金组织在三维空间中的形态，进而建立合金成分，组织与性能之间定量关系。制样过程：样品切割、镶嵌样品、机械制样、检验样品样品切割方法：金相最适合的切割方法是湿式切割轮切割法。优点：所造成的损伤与所用的时间相比是最小的切割片的选择：主要依据材料的硬度和韧性进行选择。图 砂轮片的选择• 陶瓷和烧结碳化物：金刚石切割片• 钢铁材料：氧化铝（Al2O3）切割片和CBN切割片• 有色金属：碳化硅（SiC）切割片镶嵌样品金相样品镶嵌技术（以下简称镶样）是将试样尺寸小或形状不规则造成研磨抛光痛苦时镶嵌或夹持，以便于试样抛磨，提高工作效率和实验精度的一种工艺方法。镶样一般分为冷镶和热镶。冷镶应用：对于温度和压力极为敏感材料、和微裂纹试样要进行冷镶，会使试样组织不发生改变。图 冷镶示意图冷镶材料：一般包括环氧树脂、丙烯酸树脂、聚脂树脂。• 环氧树脂：收缩率低，固化时间长；边缘保护好，用于真空浸渍，适用于多孔性材料；• 丙烯酸树脂：黄或白，固化时间较短，适合批量大、形状不规整样品镶样；对于含裂纹或者孔隙的试件渗透性更好；尤其是对印刷电路板的封装；• 聚酯树脂：黄色、透明、固化时间较长；适用于大批量无孔隙的试样制样，适用期长；真空浸渍：多孔材料（如陶瓷或热喷涂层）需真空浸渍。树脂能增强这些脆弱材料并能尽量减少制备缺陷（例如抽出，开裂或未开孔等）。只有环氧树脂由于其低粘度、低蒸汽压的性质，才能在真空浸渍中使用。荧光染料和环氧树脂可以被混合以方便地发现荧光灯中所有被充填的孔隙。图 冷镶制样 图片来源：司特尔公司热镶应用：适用于低温及压力不大的情况下不发生变形的样品。图 热镶示意图镶材料：目前，通常多用塑料做镶嵌材料。镶嵌材料包括热凝性塑料（如胶木粉），热塑性塑料（如聚氯乙烯），冷凝性塑料（环氧树脂加固化剂）和医用牙托粉与牙托水。胶木粉不透光、色泽多样、且较坚硬、样品不易倒角、但抗强酸、强碱耐腐蚀性较差。聚氯乙烯呈半透明或透明状，抗酸碱耐腐蚀性能良好，但柔软。热镶试样图片来源：司特尔公司机械制样机械制样可分两种操作：研磨和抛光1.研磨研磨的终极目标就是要得到损伤最小的平表面。这些小损伤会在后续抛光中短时间内被去除。研磨分为粗磨和细磨两个过程。• 粗磨粗磨过程就是把全部试样表面变成一个类似的面，用比较粗的固定研磨颗粒就能快速磨去材料。• 精磨 精磨会使样品有些微变形，但这些变形在抛光过程中就会消除掉。2.抛光抛光就像研磨，还得除去前道工序造成的伤害。它可以分为金刚石抛光与氧化物抛光两大工序。• 金刚石抛光唯有把金刚石当作研磨料来抛光才有可能在最快的时间内得到最佳研磨平面。其原因是金刚石非常坚硬，几乎能切割所有的物质和相态。• 氧化物抛光 对于特别软、韧性的样品，须采用氧化物抛光法。抛光在抛光布上完成。金刚石抛光时还须用到润滑剂。研磨和抛光设备检验样品打磨后的检测部位变的发亮，在观察组织的时候需要先将试样的检测部位腐蚀掉，做好之后使用酒精冲淋，使用吹风机吹扫。

微塑料通常被定义为尺寸小于5 mm的塑料碎片，在海洋、陆地、淡水系统中均有所发现，对环境安全和生物健康均有一定程度的影响。更令人担忧的是，微塑料通过机械磨损、光降解和生物降解等作用会进一步分解，形成尺寸更小的微塑料甚至是纳米塑料。它们的危害可能更大，因为它们可以穿过生物膜并容易在不同组织间转移，如果吸入空气中的微纳塑料甚至可以穿过肺组织。据已有的研究显示，应用在微塑料检测的传统技术仅能检测到10 μm 左右的大小，远远不能满足当前和未来研究的需要。因此，迫切需要开发适用于小尺寸微纳塑料的检测新方法。表面增强拉曼光谱（SERS）技术是一种强有力的基于拉曼光谱的原位分析技术。一般来说，分子的拉曼效应很弱。然而，当这些分子被吸附在贵金属（例如金和银）的粗糙表面时，分子的拉曼效应会大大提高。甚至可以在单分子水平上获得高灵敏度。在我们之前的研究工作中，首次报道利用SERS技术实现了环境纳米塑料的检测（EST, 2020, 54(24): 15594）。但是，采用的商业化Klarite基底的高昂成本使其不适宜广泛大规模的应用。因此，本研究利用一种低成本的具有大量有序的V型纳米孔阵列的阳极氧化铝（AAO）模板，通过磁控溅射或离子溅射将金纳米粒子沉积在模板上，开发得到用于小尺寸微纳塑料检测的 SERS 基底（AuNPs@V-shaped AAO SERS substrate）。由于AAO模板中纳米孔阵列特殊的V型结构以及有序规则的排列，使得AuNPs@V-shaped AAO SERS基底可以提供大量“热点”和额外的体积增强拉曼效应，在检测微塑料时表现出高 SERS 灵敏度。图1 摘要图本研究首先使用不同尺寸（1 μm、2 μm和5 μm）的聚苯乙烯（PS）和聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）两种标准样品在AuNPs@V-shaped AAO SERS基底和硅基底上进行检测，并计算相应的增强因子（图2、图3）。结果显示，单个PS和PMMA两种颗粒在硅基底上均不能检测到1 μm的尺寸大小，且其他尺寸的拉曼信号强度也相对较弱。而在AuNPs@V-shaped AAO SERS基底上，在相同的检测条件下，各尺寸的单个PS和PMMA颗粒的拉曼信号强度大大增强，且1 μm的PS和2 μm的PMMA都有拉曼信号检出。增强因子的计算结果显示，使用AuNPs@V-shaped AAO SERS基底检测单个微塑料颗粒可获得最大20倍的增强效果。此外，通过比较磁控溅射和离子溅射两种沉积方式所分别形成的基底检测微塑料的拉曼光谱结果和增强因子计算结果，我们可以得出磁控溅射所形成的基底具有更好的检测性能。这个结果可以联系到SERS基底的扫描电镜表征结果（图4）进行解释，磁控溅射所形成的金纳米层更加细腻平整，而离子溅射所形成的金纳米层出现了一定的团聚，导致形貌结构较为粗糙，因此信号强度有所减弱。图2：PS的拉曼检测。（a）不同尺寸的单个PS颗粒在硅基底上的拉曼光谱；（b）显微镜下不同尺寸的单个PS颗粒在硅基底上的形态分布；（c）不同尺寸的单个PS颗粒在离子溅射形成的SERS基底上的拉曼光谱；（d）不同尺寸的单个PS颗粒在磁控溅射形成的SERS基底上的拉曼光谱；（e）显微镜下不同尺寸的单个PS颗粒在磁控溅射形成的SERS基底上的形态分布；（f）显微镜下不同尺寸的单个PS颗粒在离子溅射形成的SERS基底上的形态分布；（g）增强因子的箱线图。图3：PMMA的拉曼检测。（a）不同尺寸的单个PMMA颗粒在硅基底上的拉曼光谱；（b）显微镜下不同尺寸的单个PMMA颗粒在硅基底上的形态分布；（c）不同尺寸的单个PMMA颗粒在离子溅射形成的SERS基底上的拉曼光谱；（d）不同尺寸的单个PMMA颗粒在磁控溅射形成的SERS基底上的拉曼光谱；（e）显微镜下不同尺寸的单个PMMA颗粒在磁控溅射形成的SERS基底上的形态分布；（f）显微镜下不同尺寸的单个PMMA颗粒在离子溅射形成的SERS基底上的形态分布；（g）增强因子的箱线图。图4：AAO模板和SERS基底的扫描电镜表征。（a）空白的AAO模板；（b）经过离子溅射形成的SERS基底；（c）经过磁控溅射形成的SERS基底；（d）（e）微塑料标准样品在基底上的形态分布。之后，本研究采集了雨水作为大气样品，对基底检测实际样品的能力进行了测试。采集到的雨水样品经过过滤、消解等前处理后，被滴加在基底上进行后续的拉曼检测，获得若干疑似微塑料的拉曼光谱。通过将这些采集到的拉曼光谱与标准微塑料样品的拉曼光谱进行比对，找到了雨水样品中所含有的微纳塑料颗粒，证实了大气中微塑料颗粒的存在以及基底检测实际样品的能力。图5：雨水样品的检测。（a）在基底上发现的疑似微塑料颗粒，尺寸约为2 μm × 2 μm；（b）疑似微塑料颗粒的拉曼光谱。该研究了提出了一种新型的适用于环境微纳塑料检测的低成本SERS基底，具备热点均一、增强效果好的优点，有望推广到环境各介质中微纳塑料的检测，为尺寸更小的纳米塑料检测分析提供了新方法。

半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，常见的半导体材料有硅、锗以及化合物半导体，如砷化镓等 也可以通过掺杂硼、磷、锢和锑制成其它化合物半导体。其中硅是最常用的一种半导体材料。　　半导体广泛应用于集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域。半导体领域的科技竞争对于世界各国而言都具有重要的战略意义。仪器信息网特对半导体领域国家重点实验室仪器配置情况进行盘点。　　半导体领域国家重点实验室有哪些?半导体领域国家重点实验室半导体国家重点实验室依托单位实验室主任半导体照明联合创新国家重点实验室半导体照明产业技术创新战略联盟李晋闽半导体超晶格国家重点实验室中国科学院半导体研究所王开友高功率半导体激光国家级重点实验室长春理工大学马晓辉电子薄膜与集成器件国家重点实验室电子科技大学李言荣专用集成电路与系统国家重点实验室复旦大学严晓浪集成光电子学国家重点实验室清华大学、吉林大学、中国科学院半导体研究所罗毅硅材料国家重点实验室浙江大学钱国栋　　半导体照明联合创新国家重点实验室　　为培育战略性新兴产业，整合业内技术、人才、信息等资源，实现投入少、回报高、见效快的技术创新模式，提升我国半导体照明产业自主创新能力和速度，在科技部、财政部等六部门联合发布的《关于推动产业技术创新战略联盟构建的指导意见》指导下，根据科技部要求试点联盟积极探索整合资源，构建产业技术创新平台的精神，在基础司和政策法规司的共同推动下，于2012年1月正式批复依托半导体照明产业技术创新战略联盟建设半导体照明联合创新国家重点实验室。　　这是我国第一个依托联盟建立的国家重点实验室，是一个体制机制完全创新的公共研发平台，始终坚持以产业价值为核心价值的理念，以产业技术创新需求为基础，以完善技术创新链为目标，企业以项目资金投入，科研机构、大学和其他社会组织以研发人员和设备的使用权投入，充分利用和整合现有资源，探索形成多种形式的政产学研用协同创新模式，推动建立基础研究、应用研究、成果转化和产业化、先进技术标准研制紧密结合、协调发展机制探索持续性投入机制，逐步形成可持续发展的开放的、国际化的非营利研究实体，成为半导体照明的技术创新中心、人才培养中心、标准研制中心和产业化辐射中心。2013年1月实验室在荷兰设立其海外研发实体机构—“半导体照明联合创新国家重点实验室代尔夫特研究中心”，成为中国首个在海外建立分中心的国家重点实验室。半导体照明联合创新国家重点实验室仪器配置清单半导体照明联合创新国家重点实验室仪器配置五分类血液分析仪制备液相全自动生化分析仪激光共聚焦显微镜液相色谱/三重串联四极杆质谱联用系统分析液相圆二色谱仪LED照明灯具全部光通量在线加速测试设备部分光通量加速寿命在线测试评估系统高温试验箱LFC(LightFluxColor)光度色度测试系统半导体分立器件测试仪微波式打胶机化学清洗工作台感应耦合等离子刻蚀机ICP电子束蒸发台(金属)电子束蒸发台(ITO)电镀台快速合金炉石墨烯生长系统台阶仪激光晶圆划片设备裂片机激光剥离机键合机水平减薄机单面研磨机数控点胶机喷射式点胶机光学镀膜系统超声波金丝球压焊机LED全光功率测试系统LED自动分选机热特性测试设备半导体参数测试仪低温强磁场物性测试系统(EMMS)LED光电综合测试系统LED抗静电测试仪激光纳米粒度及Zeta电位测试仪LED照明产品光电热综合测试高频小信号测试系统紫外LED光谱功率测试系统手动共晶焊贴片机荧光光谱仪(PI)高速自动固晶机自动扩膜机全自动晶圆植球机倒装机高精度快速光谱辐射计近紫外-可见-红外光谱测试系统热电性能分析仪氢化物气相外延荧光光谱仪(PL)X射线衍射仪(XRD)扫描电子显微镜(SEM)手动共晶焊贴片机(UDB-141)激光晶圆划片设备电子束蒸发台(金属)等离子体增强化学气相沉积PECVD光刻机MOCVD数据定时脉冲发生器频谱分析仪光源光色电综合测试系统超声波扫描显微镜漏电流测试仪智能数字式灯头扭矩仪逻辑分析仪　　半导体超晶格国家重点实验室　　半导体超晶格国家重点实验室于1988年3月由国家计委组织专家论证并批准后开始筹建，1990年开始对外开放，1991年11月通过了由国家计委组织的验收委员会验收。现任实验室主任为王开友研究员。实验室学术委员会主任为高鸿钧院士。　　实验室以研究和探索半导体体系中的新现象和新效应为主要目标，通过对固体半导体中的电子、自旋和光子的调控，探索其在电子/自旋量子信息技术、光电子及光子器件中的潜在应用，从最基础的层面上提升我国电子、光电子、光子信息技术的创新能力，提升我国在半导体研究领域的国际竞争力。实验室先后有5位成长为中国科学院院士、12位成长为国家杰出青年基金获得者。为我国半导体科学技术的跨跃式发展做出重要贡献。　　实验室现有人员中包括研究员26人、高级工程师1人和管理人员1人，其中4位中国科学院院士、9位国家杰出青年基金获得者、3位优秀青年科学基金获得者、1位北京杰出青年基金获得者。　　自成立以来，实验室承担了近百个科技部、基金委和科学院的重大和重点项目，取得了可喜的科研成果，获得国家自然科学奖二等奖5项 黄昆先生获得2001年度国家最高科学技术奖。2004年半导体超晶格国家重点实验室被授予国家重点实验室计划先进集体称号。实验室具有良好的科研氛围、科研设备和环境条件，拥有雄厚的科研积累和奋发向上的科研团队，并多次获得国家自然基金委员会的创新研究群体科学基金。　　实验室每年可接收40名硕士、博士研究生和博士后。现有研究生和博士后100余人。　　*半导体超晶格国家重点实验室仪器配置情况未公布　　高功率半导体激光国家级重点实验室　　高功率半导体激光国家重点实验室成立于1997年，由原国防科工委和原兵器工业总公司投资建设，经过二十年的发展建设，实验室已经成为我国光电子领域的重要研究基地和人才培养基地之一。现有科研、办公面积3800平方米，超净实验室面积为1500平方米 生产开发平台面积为600平方米，其中超净实验室面积为200平方米。　　现有博士学位授权一级学科2个、硕士学位授权一级学科2个、国防特色学科1个、博士后科研流动站1个。实验室有研究人员36人，其中双聘院士1人、教授9人、副教授10人，博士生导师10人，科技部重点研发计划总体专家1人，国家奖评审专家1人，国防科学技术奖评审专家1人，吉林省长白山学者1人。实验室现有MBE、MOCVD等先进的半导体材料外延生长设备，SEM、XRD、PL等完善的材料分析检测手段，电子束蒸发、磁控溅射、芯片解理、贴片、激光焊接、平行封焊、综合测试等工艺设备，设备资产1.2亿元，为光电子领域的相关研究提供了一流的条件支撑。　　在半导体激光研究方向上，高功率半导体激光国家重点实验室代表着国家水平，研制的半导体激光器单管输出功率大于10瓦、光纤耦合模块大于100瓦、以及高频调制、脉冲输出等半导体激光器组件，技术处于国内领先水平 在基础研究领域，深入开展了GaSb材料的外延生长理论及技术研究，研究成果达到国际先进水平 在半导体激光应用基础技术研究领域，坚持以满足武器装备应用为目标，研制的驾束制导半导体激光发射器成功用于我军现役主战坦克武器系统，实现了驾束制导领域跨越式发展 研制的激光敏感器组件已经用于空军某型号末敏子弹药中，并将在多个武器平台上推广应用。近年来，实验室在国内外重要学术刊物上发表论文600余篇，出版专著7部，获国家、省部级奖励40余项，申请发明专利50余项，鉴定成果40余项，对我国的国防武器装备发展作出了重要贡献。高功率半导体激光国家级重点实验室仪器配置清单高功率半导体激光国家级重点实验室仪器配置感应耦合等离子体刻蚀扫描电子显微镜光刻机磁控溅射镀膜机等离子体增强化学气相沉积系统X射线双晶衍射仪光刻机快速图谱仪电化学C-V分布测试仪,PN4300,英国伯乐光荧光谱仪特种光纤熔接机丹顿电子束镀膜机SVT超高真空解理机光谱分析仪莱宝电子束镀膜机半导体激光器芯片贴片机金属有机化合物化学气相沉淀（MOCVD）磁控溅射台　　电子薄膜与集成器件国家重点实验室　　电子薄膜与集成器件国家重点实验室是以教育部新型传感器重点实验室、信息产业部电子信息材料重点实验室和功率半导体技术重点实验室为基础于2006年7月建立的。　　目前，实验室紧密围绕国家IT领域的战略目标，立足于电子信息材料与器件的发展前沿，坚持需求与发展并举、理论与实践并重，致力于新型电子薄膜材料与集成电子器件的研究和开发，促进材料—器件—微电子技术的交叉和集成。　　实验室现有研究人员80人，管理人员6人，技术人员3人 客座研究人员18人。在固定研究人员中已形成以陈星弼院士为带头人的一支以45岁左右为核心、35岁左右为主力的骨干研究队伍。队伍中包括了中国科学院院士1人，中国工程院院士1人，国家自然基金委创新团队2个，国防科技创新团队1人，教育部创新团队2人，博导58人。实验室拥有1个国家重点学科、5个博士点以及5个硕士点，已具备每年250名左右硕士生、40名左右博士生、20名左右博士后的人才培养规模。　　实验室覆盖了微电子学与固体电子学、电子材料与元器件、材料科学与工程、材料物理化学、材料学5个博士点学科，拥有电子科学与技术、材料科学与工程2个博士后流动站，其中微电子学与固体电子学为国家重点学科。实验室面积近4000m2，拥有仪器设备500余套，价值8000余万人民币。已初步建成具有国际水平的“材料与器件制造工艺平台”、“微细加工平台”、“电磁性能测试与微结构表征平台”和“集成电路设计平台”，具备承担国家重大基础研究项目的能力。　　近5年，实验室科研工作硕果累累。目前，实验室共承担包括国家自然基金、973、863等各类项目在内的民口纵向项目和校企合作项目等科技项目共约200余项，总经费达2亿元，其中，2009年的科研经费超过7000万元。科研成果获国家级奖励7项，省部级奖24项，市级奖5项，申请发明专利150余项，获得包括美国发明专利在内的专利授权40余项，发表学术论文1000余篇，出版学术专著和教材7部。取得了包括“新耐压层与全兼容功率器件”等一系列标志性成果。实验室坚持面向社会，服务社会，致力于科研成果的推广和应用，“半导体陶瓷电容器”、“功率铁氧体及宽频双性复合材料”、“集成电路系列产品”等科研成果的成功转化，企业取得4亿多元的直接经济效益及良好的社会效益。　　*电子薄膜与集成器件国家重点实验室仪器配置情况未公布　　专用集成电路与系统国家重点实验室　　专用集成电路与系统国家重点实验室(复旦大学)于1989年经国家计委批准建设，1995年9月正式通过国家验收。实验室依托复旦大学国家重点一级学科“电子科学与技术”，以及“微电子学与固体电子学”与“电路与系统”两个国家重点二级学科。　　实验室面向集成电路国际主流的学术前沿问题和国家集成电路产业发展的重大需求，聚焦高能效系统芯片及其核心IP设计，开展数字、射频与数模混合信号集成电路设计创新研究，同时进行新器件新工艺和纳米尺度集成电路设计方法学的研究。形成国际领先并满足国家战略需求的标志性创新成果，使实验室成为我国在集成电路设计方向上科学研究、技术创新与高层次人才培养具有国际重要影响力的基地，为我国集成电路产业尤其是集成电路设计产业的跨越式发展做出重大贡献。　　瞄准国际集成电路发展前沿，面向国家重大需求，面向国民经济主战场，紧紧围绕主要研究方向，实验室承担了大量国家863计划、973计划、国家科技重大专项、国家自然科学基金、国防预研项目、省部级项目以及各类国际合作项目，在国际重要刊物和国际会议上发表大量高质量学术论文，获得多项授权发明专利，荣获多项国家级二等奖、省部级一等奖、二等奖等奖项。　　实验室现有固定人员68人，其中，教授(研究员)43人，包括中国工程院院士1人，国家千人计划入选者5人，国家青年千人2人，国家杰出基金获得者4人，长江学者特聘教授2人、IEEEFellow1人。在实验室现有固定人员中，有多名国家和部委聘任的科技专家，包括1名国家“核心电子器件、高端通用芯片及基础软件产品”科技重大专项专家，2名国家“极大规模集成电路装备和成套工艺”科技重大专项专家，4名科技术“863”计划专家库专家。按照“创新团队+优秀研究小组”的建设思路，打造了实验室年轻化、团队化、国际化的研究队伍。　　实验室拥有器件与工艺子平台环境和集成电路设计环境。器件与工艺子平台现有千级净化面积约600平方米，百级净化面积100平方米，配备了价值近1亿元的设备，具有开展先进纳米CMOS器件和工艺的研发能力。集成电路设计环境已可提供Cadence、MentorGraphics、Synopsys、Altera、Xilinx等著名国际公司软件环境，提供相应的标准化仿真模型，支持教学、科研、产品设计与制造。实验室平台本着“集中、共享、升级、开放”的原则为实验室的科学研究服务。　　实验室积极开展多渠道学术交流，承办ICSICT、ASICON等多个重要国际会议，参加学术会议并做特邀报告，积极开展国际科技合作和交流。依托“重点实验室高级访问学者基金”和设立开放课题，吸引国内外高水平研究人员来实验室开展合作研究，加强了实验室研究的前瞻性和国际化程度。专用集成电路与系统国家重点实验室仪器配置清单专用集成电路与系统国家重点实验室仪器配置热阻蒸发镀膜设备化学气相沉积系统全自动探针台存储器参数测试系统半导体存储器参数测试仪扫描探针显微镜手动探针台电学测试系统台阶分析仪芯片测试系统柔性四件组装加工手套箱大面积柔性三维光刻柔性电子制造设备亚微米级贴片设备无线和微波频段测试系统激光键合设备台式扫描式电子显微镜柔性四件电化学加工测试平台高性能频谱分析仪高性能频谱分析仪等离子刻蚀系统实验室电路板快速系统（激光机）射频探针台原位纳米力学测试系统超低温手动探针台智能型傅立叶红外光谱分析仪显微喇曼/荧光光谱仪数字电视芯片测试系统气相沉积系统薄膜沉积系统化学气相沉积系统超高真空激光分子束系统原子层淀积系统矢量网络分析仪微波退火设备准分子气体激光器高精密电学测试探针台纳米热分析系统信号源分析仪频谱分析仪X射线衍射仪矢量网络分析仪矢量信号源实时示波器椭圆偏振光谱仪硬件加速仿真验证仪频谱分析仪矢量信号发生器矢量信号分析仪铜互连超薄籽晶层集成溅射和测试系统半导体晶片探针台互连铜导线成分分析仪化学气相沉积系统低介电常数介质电容（K值）测试设备微细加工ICP刻蚀机快速热退火系统探针测试台半导体参数分析仪白光干涉仪桌上型化学机械抛光设备纳米压印设备原子层淀积系统高精度探针台探针测试台纳米器件溅射仪存储薄膜溅射仪原子层化学气相沉淀系等离子反应离子刻蚀机物理气相淀积系统等离子体增强介质薄膜化学机械抛光系统铜电镀系统　　集成光电子学国家重点实验室　　集成光电子学国家重点实验室成立于1987年，1991年正式对外开放。现由吉林大学和中国科学院半导体研究所两个实验区联合组成。在1994年、2004年国家重点实验室建立十周年以及二十周年总结表彰大会上，被评为“国家重点实验室先进集体“，并获“金牛奖”。在2002年、2007年、2012年信息领域国家重点实验室评估中，连续三次被评为“优秀实验室”，2017年被评为“良好实验室”。　　研究方向包括有机光电器件、宽禁带半导体材料与器件、超快光电子、纳米光电子、能源光电技术五个研究方向。实验室重点研究基于半导体光电子材料、有机光电子材料、微纳光电子材料的各种新型光电子器件以及光子集成器件和芯片，研究上述器件及芯片在光纤通信系统与网络、信息处理与显示中的应用技术。研究内容为：半导体光电子材料(包括低维量子结构材料)、有机光电子材料、微纳光电子材料 新型光电子器件物理(包括器件结构设计与模拟) 基于上述材料的光电子集成器件的制作工艺及其功能芯片集成技术 光电子器件及芯片在光通信、光互连、光显示、光电传感方面应用技术研究。　　*集成光电子学国家重点实验室仪器配置情况未公布　　浙江大学硅材料国家重点实验室　　1985年，在浙江大学半导体材料研究所的基础上，由原国家计委批准建设硅材料国家重点实验室(原名高纯硅及硅烷国家重点实验室)，88年正式对外开放。是国内最早建立的国家重点实验室之一。以重点实验室为依托的浙江大学材料物理与化学学科(原半导体材料学科)一直是全国重点学科，1978年获批国内首批硕士点(半导体材料)，1985年获批国内第一个半导体材料工学博士点。　　从上世纪50年代开始，浙江大学在硅烷法制备多晶硅提纯技术、掺氮直拉硅单晶生长技术基础研究等取得系列重大成果，在国际上占有独特的地位 同时，实验室一直坚持“产、学、研”紧密结合，培育出浙江金瑞泓科技股份有限公司等国内硅材料的龙头企业，取得显著经济效益。自上世纪90年代以来，实验室研究方向不断拓宽。目前，实验室以硅为核心的半导体材料为重点，包括半导体硅材料、半导体薄膜材料、复合半导体材料以及微纳结构与材料物理等研究方向。　　2013年至2017年期间，实验室共获得国家自然科学二等奖2项，国家技术发明二等奖2项，浙江省科学技术(发明)一等奖5项，技术发明一等奖1项。江西、湖北省科学技术进步(技术发明)一等奖各1项(合作)，教育部自然科学二等奖1项，浙江省科学技术进步二等奖2项。发表SCI检索论文1996篇，获得授权国家发明专利492项，国际专利5项。已成为国家在本领域的科学研究、人才培养和国际交流的主要基地之一。　　浙江大学硅材料国家重点实验室仪器配置清单　　硅材料国家重点实验室仪器配置扫描探针显微镜周期式脉冲电场激活烧结系统振动样品磁强计针尖增强半导体材料光谱测试系统低维硅材料的原位扫描隧道显微分析系统热常数分析仪超高温井式冷壁气密罐式炉系统角分辨X射线光电子能谱仪原子力显微镜热台偏光显微系统近场光学显微镜光度式椭圆偏振光谱仪高真空热压烧结炉等离子体增强化学气相沉积法磁控溅射镀膜系统深能级瞬态谱仪傅里叶红外光谱仪微波光电导衰减寿命测试仪变温高磁场测试系统同步热分析仪铸造炉扫描电子显微镜高分辨透射电子显微镜　　　除了上述国家重点实验室，还有新型功率半导体国家实验室以及光伏技术国家重点实验室等企业国家重点实验室。　　此外，还有中科院半导体材料科学重点实验室、宽带隙半导体技术国家重点学科实验室、光电材料与技术国家重点实验室、发光材料与器件国家重点实验室、发光学及应用国家重点实验室等半导体领域相关的实验室等。中国科学院半导体材料科学重点实验室仪器配置清单中国科学院半导体材料科学重点实验室仪器配置1.量子点、量子级联工艺线分子束外延生长系统（MBE）掩膜对准曝光机表面轮廓测量系统双腔室PECVD/电子束蒸发镀膜真空蒸发台等离子体去胶机精密研磨抛光系统快速热处理设备高分辨光学显微镜清洁处理湿法腐蚀金丝球焊机高精度粘片机傅立叶变换远红外光谱仪拉曼光谱仪原子力显微镜数字源表（吉时利2601）电化学CV测试系统2.PIC工艺线仪器设备MOCVDICPPECVD光刻机蒸发台磁控溅射反应离子刻蚀设备台式扫描电子显微镜Maping微区荧光光谱仪X射线双晶衍射高分辨XRD测试系统解理烧结机镀铟管芯测试设备激光加工机PIC测试:探针座+探针变温测试频谱仪矢量网络分析测试自相关仪脉冲宽度测试FROG激光线宽测试Rin测试远场测试PIV测试传输损耗测量光纤光谱仪3.GaN基微电子器件工艺线MOCVD设备变温霍尔测试系统非接触方块电阻测试系统台阶仪表面平整度测试系统光学显微镜高分辨XRD测试系统光电效率测试系统高温恒温箱快速退火炉磁控溅射PECVDICP光刻系统4.材料生长与制备工艺线磁控溅射离子束溅射CVD系统旋涂机、热板、快速退火碳化硅外延设备原子层沉积分子束外延低压液氮灌装石墨烯外延炉分子束外延设备CBE快速热退火炉退火炉MOCVDHVPE快速退火炉真空烘烤MBEMP-CVD阻蒸电子束蒸发联合镀膜机箱式退火炉低维材料生长、器件制备平台分子束外延设备MBE5.材料测试与表征原子力显微镜傅里叶红外光谱量子效率测试电池I-V测试霍尔测试仪探针台四探针测试仪光栅光谱仪变温测试台半导体参数测试仪3000V、500A深能级缺陷测量系统霍尔测试深紫外光致发光光谱阴极荧光光谱近紫外－可见－近红外光致发光光谱变温霍尔半导体发光器件测试紫外可见分光光度计荧光光谱仪太阳能电池I-V测试系统电化学工作站四探针测试台偏振调制光谱测试系统(陈涌海)微区RDS测试系统光电流测试系统红外光栅光谱仪（0.8-5μm）激光参数测试系统傅立叶变换红外光谱仪傅立叶变换中红外光谱仪宽带隙半导体技术国家重点学科实验室仪器配置清单宽带隙半导体技术国家重点学科实验室仪器配置晶片生长系统MOCVD非接触迁移率测量系统霍尔效应测试系统非接触式方块电阻测试仪微波等离子化学气相沉积系统半导体器件分析仪光谱椭偏仪镜像显微镜.金属镀膜系统高分辨X射线衍射仪拉曼光谱仪脉冲激光沉淀系统电子束蒸发台磁控溅射镀膜机高速电子束蒸发台LED显微镜台阶仪快速热退火炉等离子去胶机高温快速退火炉反应离子刻蚀等离子增强原子层沉淀系统等离子增强化学气相淀积感应耦合等离子体刻蚀机研磨抛光机高低温烘胶机光刻机接触式紫外光刻机电子束直写光刻机探针台半导体参数测试仪微波测试探针台DRTS测试仪扫描式电子显微镜微波大功率晶体管老化系统微波功率测试系统分子束外延设备　　综合来看，光刻机、化学气相沉积设备、电镜（尤其是扫描电镜和原子力显微镜）、X射线衍射、磁控溅射仪、半导体参数测试仪、能谱仪、探针测试台、刻蚀设备、光谱测试设备、蒸发镀膜设备、椭偏仪、分子束外延设备等仪器配置频率较高。　　信息统计来源于各国家重点实验室官网，部分实验室罗列仪器设备较全，部分实验室仅罗列了最主要或特色的仪器设备，因此结果仅供参考。另外其中有些仪器类型可能存在并列或包含关系，并未进行详细区分。

一、纳米颗粒膜制备日前，由英国著名的薄膜沉积设备制造商Moorfield Nanotechnology公司生产的套纳米颗粒与磁控溅射综合系统在奥地利的莱奥本矿业大学Christian Mitterer教授课题组安装并交付使用。该设备由MiniLab125型磁控溅射系统与纳米颗粒溅射源共同组成，可以同时满足用户对普通薄膜和纳米颗粒膜制备的需求。集成了纳米颗粒源的MiniLab125磁控溅射系统 传统薄膜材料的研究专注于制备表面平整、质地致密、晶格缺陷少的薄膜，很多时候更是需要制备沿衬底外延生长的薄膜。然而随着研究的深入，不同的应用方向对薄膜的需求是截然不同。在表面催化、过滤等研究方向，需要超大比表面积的纳米薄膜。在这种情况下，纳米颗粒膜具有不可比拟的优势。而传统的磁控溅射在制备纯颗粒膜方面对于粒径尺寸，颗粒均匀性方面无法实现控制。气相沉积法、电弧放电法、水热合成法等在适用性、操作便捷性、与传统样品处理的兼容性等方面不友好。在此情况下，Moorfield Nanotechnology推出了与传统磁控溅射和真空设备兼容的纳米颗粒制备系统。不同条件制备的颗粒粒径分布（厂家测试数据）不同颗粒密度样品（厂家测试数据）纳米颗粒制备技术特点：▪ 纳米颗粒的大小1 nm-20 nm可调；▪ 多可达3重金属，可共沉积，可制备纯/合金颗粒；▪ 材料范围广泛，包括Au、Ag、Cu、Pt、Ir、Ni、Ti、Zr等▪ 拥有通过控制气氛制造复合纳米粒子的可能性（类似于反应溅射）▪ 的纳米颗粒层厚度控制，从亚单层到三维纳米孔▪ 纳米颗粒结构——结晶或非晶、形状可控纳米颗粒膜的应用方向：▪ 生命科学和纳米医学： 癌症治疗、药物传输、抗菌、抗病毒、生物膜▪ 石墨烯研究方向：电子器件、能源、复合材料、传感器▪ 光电研究：光伏研究、光子俘获、表面增强拉曼▪ 催化：燃料电池、光催化、电化学、水/空气净化▪ 传感器：生物传感器、光学传感器、电学传感器、电化学传感器 二、无机无铅光伏材料下一代太阳能电池的大部分研究都与铅-卤化物钙钛矿混合材料有关。然而，人们正不断努力寻找具有类似或更好特性的替代化合物，想要消除铅对环境的影响，而迄今为止，这种化合物一直难以获得。因此寻找具有适当带隙范围的无铅材料是很重要的，如果将它们结合起来，就可以利用太阳光谱的不同波长进行发电。这将是提高未来太阳能电池效率降低成本的关键。近期，牛津大学的光电与光伏器件研究组的Henry Snaith教授与Benjamin Putland博士研究了具有A2BB’X6双钙钛矿结构的新型无机无铅光伏材料。经过计算该材料具有2 eV的带隙，可用做光伏电池的层吸光材料与传统Si基光伏材料很好的结合，使光电转换效率达到30%。与有机钙钛矿材料相比，无机钙钛矿材料具有结构稳定使用寿命更长的优势。而这种新材料的制备存在一个问题，由于前驱体组分的不溶性和复杂的结晶过程容易导致非目标性的晶体生长，因此难以通过传统的水溶液法制备均匀的薄膜。Benjamin Putland博士采用真空蒸发使这些问题得以解决。使用Moorfield Nanotechnology的高质量金属\有机物热蒸发系统，通过真空蒸发三种不同的前驱体，研究人员成功沉积制备出了所需要的薄膜。真空蒸发具有较高的控制水平和可扩展性，使得材料的工业化制备成为可能。所制备的薄膜在150℃退火后，XRD图。所制备的薄膜在150℃退火后，表面SEM图 三、Moorfield 薄膜制备与加工系统简介Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司，成立二十多年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术，拥有雄厚的技术实力，推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。高精度薄膜制备与加工系统 – MiniLab旗舰系列和nanoPVD台式系列是英国Moorfield Nanotechnology公司经过多年技术积累与改进的结晶。产品的定位是配置灵活、模块化设计的PVD系统，可用于高质量的科学研究和中试生产。设备的功能和特点：▪ 蒸发设备：热蒸发（金属）、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发▪ 磁控溅射：直流&射频溅射、共溅射、反应溅射▪ 兼容性：可与手套箱集成、满足特殊样品制备▪ 其他功能设备：二维材料软刻蚀、样品热处理▪ 设备的控制：触屏编程式全自动控制

中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所（以下简称“苏州纳米所”）近日在中国政府采购网上发布2022年仪器采购意向，总采购预算高达8253万元，拟采购仪器品类包括HF/XeF2气相刻蚀设备、MBE-原位生长动力学研究设备、常压金属有机物化学气相沉积设备、超高真空管道、磁控溅射设备、低温强磁场综合物性测试设备、电子束蒸发台、多源有机蒸发镀膜设备、镜面反射吸收红外-程序升温脱附设备（原位红外吸收光谱）、镜面反射吸收红外-程序升温脱附设备（原位红外吸收光谱）-真空腔体、临时键合解键合机、脉冲激光沉积设备、湿氧氧化炉、原位Mask器件级图案化分子束外延设备、原位扫描电子显微镜、原位扫描电子显微镜-真空腔体、真空解离与钝化设备、准原位光谱系统。预计采购时间在2022年6月、10月和12月。其中12月采购仪器最多，拟采购15台（套）仪器；而6月和10月将分别采购2台（套）仪器和1台（套）仪器。从仪器采购需求上看，多数拟采购仪器应用于半导体研究领域。苏州纳米所由中国科学院与江苏省人民政府、苏州市人民政府和苏州工业园区于2006年共同创建，定位于纳米技术的应用基础研究和产业化，前瞻布局了电子信息、纳米材料、生物医学等重点研究领域，建设了纳米真空互联实验站、纳米加工平台、测试分析平台、生化平台4个集科研攻关与公共服务于一体的公共技术平台；密切围绕重点攻关领域，产出了一批原创性科技成果，自主研发了一系列仪器设备，形成了具有自身特点的科研体系。中科院苏州纳米所2022年仪器采购意向序号采购项目名称采购品目采购需求概况（点击查看）预算金额(万元)预计采购日期1临时键合解键合机A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情4502022年6月2湿氧氧化炉A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情4502022年6月3电子束蒸发台A02100499-其他分析仪器详见项目详情1902022年10月4常压金属有机物化学气相沉积设备A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情13742022年12月5磁控溅射设备A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情7322022年12月6真空解离与钝化A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情555.362022年12月7原位Mask器件级图案化分子束外延设备A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情8972022年12月8低温强磁场综合物性测试设备A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情4402022年12月9HF/XeF2气相刻蚀设备A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情2002022年12月10脉冲激光沉积设备A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情312.392022年12月11原位扫描电子显微镜A02100399-其他光学仪器详见项目详情2802022年12月12原位扫描电子显微镜-真空腔体A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情1802022年12月13镜面反射吸收红外-程序升温脱附设备（原位红外吸收光谱）A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情2502022年12月14镜面反射吸收红外-程序升温脱附设备（原位红外吸收光谱）-真空腔体A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情235.942022年12月15多源有机蒸发镀膜设备A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情3152022年12月16准原位光谱系统A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情3412022年12月17MBE-原位生长动力学研究设备A032199-其他电工、电子专用生产设备详见项目详情6002022年12月18超高真空管道A02052401-真空获得设备详见项目详情4502022年12月

仪器是科学创新的重要基础和条件，科学发现不仅仅需要理论创新，还需要依靠仪器进行实验观察和检测。中科院宁波材料所，作为新材料及相关领域的重要研究基地和技术提供者，至2021年12月底，共承担了各类科研项目5300多项，累计发表论文7200多篇，累计申请专利近5200件，授权专利近2700件，这一系列成果的取得离不开仪器的支持。为进一步开展科研，中科院宁波材料所于近日公布了一批仪器类政府采购意向，采购项目涉及高温凝胶色谱、扫描探针显微镜、核酸质谱分析系统、Micro-CT、核磁共振波谱仪、3D金属打印机等，预算金额相加达1.02亿元，预计采购时间为2022年6-11月。中科院宁波材料所2022年6-11月政府采购意向汇总表序号采购项目预算金额（万元）预计采购日期项目详情1超高真空多靶磁控溅射系统1996月详情链接2高温凝胶色谱1806月详情链接3真空压力浸渍炉一台2156月详情链接4高频矢量网络分析仪2506月详情链接5扫描探针显微镜SPM/AFM1796月详情链接6氧氮氢分析仪1106月详情链接7全电动磁场成型压机1996月详情链接8微束定点离子刻蚀修复系统3646月详情链接9涵道测试大功率直流电源86.36月详情链接10地面综合测试直流电源526月详情链接11涵道风扇测力试验台906月详情链接12三轴转台836月详情链接13无人机测控系统4006月详情链接14AVDIM管理软件656月详情链接15地面综合测试设备3506月详情链接16混合动力综合能源试车台及管理系统60011月详情链接17发动机15011月详情链接18发电机10011月详情链接19电池20011月详情链接20综合控制器10011月详情链接21飞控系统12011月详情链接22组合导航系统6011月详情链接23海水电解10 kW设备20010月详情链接24Power-to-X(P2X)-高通量测试分析系统15010月详情链接25千克级装填量固定床催化加氢装置20010月详情链接26小面积燃料电池评价系统17510月详情链接27全尺寸燃料电池评价系统19210月详情链接28热熔挤压机18510月详情链接29核酸质谱分析系统37010月详情链接30超灵敏蛋白组学检测系统26010月详情链接31Micro-CT32010月详情链接32600MHz（低温）核磁共振波谱仪99010月详情链接33等温滴定微量热仪11510月详情链接34自动化飞秒瞬态吸收光谱仪44610月详情链接35双通道型台式三维原子层沉积系统23410月详情链接36X射线吸收精细结构谱仪36810月详情链接37岱山液态聚碳硅烷工程化装置35010月详情链接38无液氦综合物性测量系统50010月详情链接39互联磁控溅射系统22010月详情链接40X射线机29810月详情链接41中型3D金属打印机40010月详情链接42100L聚酯反应系统10310月详情链接

为优化政府采购营商环境，提升采购绩效，《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2020〕10号）等有关规定要求各预算单位按采购项目公开采购意向，内容应包括采购项目名称、采购需求概况、预算金额、预计采购时间等。近两年来，各大高校、科研院所等纷纷在相关平台公布本单位政府采购意向。中国科学院光电技术研究所（简称光电所）始建于1970年。建所以来，围绕国家重大战略需求，聚焦世界科技前沿开展光电领域基础性、前瞻性、颠覆性的创新研究，逐步成为国家科技战略体系中不可或缺的光电科技力量。光电所建有微细加工光学技术国家重点实验室、中国科学院光束控制重点实验室、中国科学院自适应光学重点实验室、中国科学院空间光电精密测量技术重点实验室，和光电工程总体研究室等10个创新研究室，以及中科院成都几何量及光电精密机械测试实验室；还建有精密机械制造、先进光学研制、轻量化镜坯研制、光学工程总体集成、质量检测等5个研制中心，以及科技信息中心等技术保障中心。目前承担有国家重点研发计划、自然科学基金、部委重大重点项目及企业委托开发项目研究，研究水平居国内领先或国际先进。成果的产出离不开仪器的支持，中国科学院光电技术研究所每年都会投入一定的经费采购科学仪器，以建立具有国际先进水平的实验研究和测试平台。为方便仪器信息网用户及时了解仪器采购信息，本文特对中国科学院光电技术研究所2022年政府采购意向进行了整理汇总。共收集到16个仪器采购项目，预算金额相加为1.0248亿元，采购品目涉及磁控溅射、匀胶机、共聚焦显微镜、套刻精度检测设备、光学系统辐射定标系统、力矩测量系统、抛光机等多种仪器设备类型。序号采购项目名称采购品目预算金额(万元)预计采购日期项目详情1亚分辨辅助图形（SRAF）添加软件A021006992256月详情链接2光学邻近效应修正（OPC）验证软件A021006992706月详情链接3磁控溅射A0210069914606月详情链接4套刻精度检测设备A0210069928006月详情链接5大口径光学系统辐射定标系统A033499其他专用仪器仪表5606月详情链接6微干扰力-力矩测量系统A033499其他专用仪器仪表1706月详情链接7大口径高精度匀胶机A033499其他专用仪器仪表8806月详情链接8φ800真空光管A033499其他专用仪器仪表7756月详情链接9大口径清洗设备A033499其他专用仪器仪表5386月详情链接10空间环境辐照模拟仿真试验系统A021099其他仪器仪表5406月详情链接11光学级聚酰亚胺薄膜真空流延成膜设备A033499其他专用仪器仪表4306月详情链接126轴光学抛光中心A021099其他仪器仪表4506月详情链接13球面数控抛光机A021099其他仪器仪表3306月详情链接14光学中继通道检测装置A021099其他仪器仪表2406月详情链接15大口径共聚焦显微镜A021006994308月详情链接16环境监测数据综合分析系统A021006991508月详情链接