高真空离子溅射仪

（1）在较长时间抽真空后，E-1010离子溅射仪的泵中的油大量进入样品室，然后漏进仪器里面，求原因？（2）仪器里面的油无法全部清理干净，继续进行喷镀，会有危险吗？

（1）在较长时间抽真空后，日立E-1010离子溅射仪的泵中的油大量进入样品室，然后漏进仪器里面，求原因？（2）仪器里面的油无法全部清理干净，继续进行喷镀，会有危险吗？

我们的离子溅射仪在每次换Pt靶材之后总是会出问题，会提示你由于真空度的原因或者chamber内contamination的原因不能进行discharge，为什么呢？各位有没有遇到过此类问题呀？检查真空度也达到了要求，内部也擦过很多了，貌似也擦干净了吧，还是不行。http://simg.instrument.com.cn/bbs/images/brow/emyc1010.gif

真空镀膜机可以做Au-Pd、Au、Pt-Pd和Pt；离子溅射仪：环形电极，二极管放电模式。大概分别需要银子？！谢谢！

求可以做真空磁溅射的地方。价格合理 质量可靠

主要介绍了真空的基本概念，测量方法，以及连续溅射系统的构成等。

有谁用过北京意力博通的ETD800小型离子溅射仪？这个好像是最新型号的溅射仪。北京意力博通有好几个型号的溅射仪。

真空磁溅射镀膜是否一定要在超净室中操作。放在普通房间行吗

我公司是真空磁控溅射氧化铟锡的生产厂家，大概原理是在真空状态下，在溅射靶材铟锡合金上施加负电压，充入溅射气体氩和反应气体氧，铟锡金属原子被溅射出后与氧发生反应成氧化铟锡，在我们实际应用中需要监控铟锡金属原子被溅射出后与氧发生反应时的光谱，以便更好的控制氧气输入的流量。请问有没有相宜的检测和监控设备？jyapu@sohu.com

小型离子溅射仪，电压可调，使用简单！

（一）溅射和辉光放电　　具有足够能量的带电粒子或中性粒子碰撞物体表面时，可把能量传递给表面的原子。只要表面原子获得的能量大于本身的电离能，就能摆脱周围原子的束缚而离开物体表面，这种现象称为溅射。 　　辉光放电是在真空度为几百帕(Pa)的真空中，在两个电极之间加上高压时产生的放电现象。 　　辉光放电现象的特性是：辉光的分布不均匀；电压降绝大部分落在克鲁克斯暗区；各区域随真空度和电流的改变而变化，也随着两极间距离的改变而变化。（二）阴极溅射当真空室内的真空度为13Pa时，在阴阳两电极间加上一定的电压，气体发生自激放电，从阴极发射出的原子或原子团可沉积在阳极或真空室的壁上。这种溅射称为阴极溅射。

各位大侠，我想购买离子溅射仪，不知什么型号的好用。兼顾SEM样品喷金以及镀制金电极。不知各位有何建议。网上找到的几个型号：中科仪的 SBC-12和同创业的JS-1600科晶的 spc-12有使用过的朋友们不吝赐教。谢谢！

有谁用过北京意力博通的 ETD-800型全自动离子溅射仪？这个好像是最新型号的溅射仪，还是全自动的。北京意力博通有好几个型号的溅射仪。

我想买一台进口离子溅射仪，麻烦各位大虾能提供一些品牌和联系方式。谢谢！

扫描电镜使用离子溅射仪进行镀金处理，但不知道铂金还是黄金好，有没有懂的大神从各自的优缺点帮我分析下

各位大神，能推荐一款比较好用的离子溅射 仪吗，用于钨灯丝扫描电镜中的。如果要采购离子溅射仪主要关注哪些要点呢。

今天发现我们的离子溅射仪的金靶掉了，其实也只是一圈很窄的地方都被烧没了，剩下了很多也不能用了打算买一个，人家说纯度5个9的金450元1克……感觉剩了很多就不能用了挺可惜的有没有什么方法可以让这个不总是这样消耗呢？

单位准备买个离子溅射仪，做场发射扫描电镜喷金用的，请大家推荐一下。

有谁知道日本的E-1030的离子溅射仪的仪器参数吗？比如喷金速率，溅射面积等等。谢谢大家！！

日立E-1010离子溅射仪使用的时候，电流很小。调到high，旋钮也是扭到最大，电流始终都在10左右。而且在喷的过程中，电流逐渐减小。怎么样可以让电流大起来？因为送样的人要求电流达到20……拜托各位大侠了！

日立E-1030 离子溅射仪器 参数，急求，谢谢，还有沉积速率一般是多少？谢谢http://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09505.gif

当前，制备非晶的方法主要有淬火法和气相沉积法。快冷法又分为铸膜法和甩带法，适合于制备大块非晶。气相沉积法分为真空蒸发法、化学气相沉积法、脉冲激光沉积法和磁控溅射法。~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~磁控溅射法制备非晶样品有其独特的有点，下面主要介绍下磁控溅射制备非晶样品的原理。电子在电场E的作用下，在飞向基板的过程中与氩气原子发生碰撞，使其电离出氩离子和一个新的电子，电子飞向基片，氩离子在电场作用下飞向阴极靶，并以高能量轰击靶的表面，使靶材发生溅射。在溅射的过程中，溅射离子，中性的靶原子或分子即可在基片上沉积形成膜。综上所述，磁控溅射的基本原理就是以磁场来改变原子的运动状态，并束缚和延长原子的运动轨迹，从而提高电子对工作气体的电离几率和有效地运用了电子的能量。这也体现了磁控溅射低温、高效的原理。常用的TEM样品以TEM载网为基片。TEM载网是直径为3nm，厚为20μm，网格间距为80μm，最底下一层铜或者钼，上面覆盖一层约为5nm厚的无定形碳作为支撑膜。利用磁控溅射法制备沉积的薄膜就沉积在这种TEM载网的无定形碳的支撑膜上，为了减少非弹性散射对衍射数据的影响，在实验过程中尽可能制备厚度比较小的薄膜厚度，约为15nm-20nm，这样制得的样品就可以直接在透射电子显微镜中进行直接的表征。

0.1mm厚的离子溅射Pt靶材能用多长时间？

质谱仪器真空系统主要包含如下一些部件:真空泵、真空计和真空阀。[b]1.真空泵[/b]真空泵是获得真空的设备。市场上真空泵种类很多简单地可将其划分为低真空泵和高真空泵两大类。低真空泵又称前级真空泵，既可用于真空腔室的预抽真空，又可作为高真空泵的前级泵提供高真空泵正常工作所需要的前级真空；高真空泵包括扩散泵、涡轮分子泵、钛升华泵、溅射离子泵、吸气剂泵、低温泵等，负责真空系统里高真空的抽取。高真空泵启动的一个共同点是不在常压下启动，需要在一定的真空条件下启动。因此在一个真空系统中，低真空泵和高真空泵常常配合使用，共同完成抽取和保持系统真空的任务171现在一些真空仪器厂商根据市场，也已推出了将低真空泵和高真空泵功能组合在一起的真空机组，用来满足各类分析仪器对真空的需求。[b]2.真空计[/b]真空计是测量真空的设备。真空计又可分为绝对真空计和相对真空计，前者直接测量空间内气体的压强，后者通过与压强有关的物理量间接地测量空间内气体的压强。按照真空计的不同原理与结构可细分为静态变形真空计、压缩式真空计、热传导真空计、电离真空计、气体放电真空计、辐射真空计等。真空阀是使真空隔离和保持的常用组件。下面简单介绍部分常用的真空组件。[b]（1）扩散泵[/b]扩散泵是通过加热使高闪点的泵油蒸发，形成高速气流从喷口喷出。由于油气喷口设计在靠近泵的进气口，且使油气向侧下喷出，因此进入泵内的气体分子会往高速油气流中扩散被带走，当气流到达由冷却水冷却的泵壁后，又会凝结成液体流回蒸发器，油气中因冷凝析出的气体分子就会在出气口处被前级泵抽出即扩散泵是靠油的蒸发、喷射、凝结重复循环来实现抽气任务的。扩散泵具有无噪声、无震动和成本不高等优点，但其极限真空偏低，且使用过程中易造成系统油气污染，现在很多新型质谱仪器上已不再使用。[b]（2）涡轮分子泵（turbo pump）[/b]是通过高速旋转的多级涡轮转子叶片和静止涡轮叶片的组合进行抽气的，在分子流区域内对被抽气体产生很高的压缩比，从而获得所需要的真空性能，对被抽气体无选择性、无记忆效应，操作简单、使用方便。[b]（3）钛升华泵[/b]主要依靠电子轰击或通电加热使吸气材料升温，达1200～1500℃时它将不断升华并沉积在水冷泵壁内表面，形成新鲜的活性膜层而不断地吸收和“掩埋”气体分子。对活性气体主要是形成固化化合物，对惰性气体主要是“掩埋”。[b]（4）溅射离子泵[/b]溅射离子泵是靠电磁场的作用产生潘宁放电而使气体分子电离，利用电离产生的离子高速轰击阴极钛板引起钛原子溅射，连续制造活性吸气膜使电离了的气体分子收附于其中达到抽气效果的真空泵。[b]（5）吸气剂泵[/b]利用能够吸收气体的物质来获得真空的装置（常用来作吸气剂的物质为锆铝、锆石墨、锆钒铁等）。工作过程:首先将锆铝吸气剂加热至激活（900℃）形成活性表面，然后降温至工作温度（400℃）即可吸气。吸气机理:①化学吸收，锆铝吸气剂与其接触的活性气体如O2、CO、CO2、N2、烃类化合物发生化学反应，生成稳定的化学物；②化学吸附，锆铝吸气剂和一些气体如氢在一定温度下生成氢化物，温度稍高时，气体从表面层扩散入内层成为溶解于锆铝吸气剂合金晶格内的固溶体；③物理吸附，锆铝吸气剂的多孔表面依靠范德华力使气体分子附着在表面和孔隙中（注:物理吸附的气体在温度升高时便可很快释放）[b]（6）低温泵[/b]利用20K以下的低温表面冷凝容器中的气体和水蒸气而获得真空的设备。利用泵体内温度不同的两级低温板（65K、1K）来冷凝吸附真空系统中的气体分子及水分子达到使系统获得高真空。第一级低温板温度保持在65K（-08℃）左右，主要用于冷凝吸附真空系统中的水分子；第二级低温板温度为15K（-28℃），主要用于冷凝吸附真空系统中的气体分子（H2、N2、Ar）。低温泵主要由制冷循环系统和低温泵泵体两部分组成；制冷系统使用高纯氦气作为制冷剂，对环境无害，工作安全性好。[b]（7）机械泵[/b]机械泵是运用机械方法不断地改变泵内吸气空腔的体积，使被抽容器内气体的体积不断膨胀，从而获得真空的装置。它可以直接在大气压下开始工作，极限真空度一般为1.33～1.33×10[sup]-2[/sup]pa，抽气速率与转速及空腔体积的大小有关，一般在每秒几升到每秒几十升之间。[b]（8）全量程冷阴极真空规[/b]这是一种全量程的新型冷阴极真空规，它集成了两个独立的真空测量系统（Pirani Cold Cathode冷阴极电离真空计系统），测量范围为5×10[sup]-9 [/sup]1000mbar（1bar＝10[sup]5[/sup]Pa），真空技术在20世纪得到迅速发展，并有广泛的应用。20世纪初，旋转式机械泵、皮氏真空计、扩散泵、热阴极电离真空计等真空获得和真空测量设备的相继出现，为质谱技术的发展创造了条件。接着，油扩散泵、涡轮分子泵、离子泵、低温泵等新型真空获得设备的出现，促使真空技术进入超高真空时代，质谱仪器的性能指标也得到了显著提高

[size=3][font=SimSun]在真空实用技术中，真空的获得和测量是两个最重要的方面，在一个真空系统中，真空获得的设备和测量仪器是必不可少的。目前常用的真空获得设备主要有[/font][u][color=red][font=SimSun]旋片式机械真空泵、油扩散泵、涡轮分子泵、离子溅射泵、升华泵等[/font][/color][/u][font=SimSun]。真空测量仪器主要有[/font][font=Times New Roman]U[/font][font=SimSun]型真空计、热传导真空计、电离真空计等。随着电子技术和计算机技术的发展，各种真空获得设备向高抽速、高极限真空、无污染方向发展。各种真空测量设备与微型计算机相结合，具有数字显示、数据打印、自动监控和自动切换量程等功能。本附件详细地介绍了上述内容，欢迎各位下载，交流。[/font][/size]

如题，离子溅射仪（俗称镀金仪）是配套电镜最常用的制样设备，不过一直不懂为什么镀膜时候是紫色光？ 大侠们能否帮忙解答一下，给大家科普下，多多谢谢！

大家好我是萌新，之前我导下单了一台离子溅射仪让我镀银测消光，但是只有一开始效果还不错，后面都不是很行，我推测是银靶材表面氧化了。所以我用砂纸打磨后用酒精湿巾擦，效果还是一般，各位能分析一下是什么原因吗，或者告诉我镀银怎么处理氧化的问题，或者教教我砂纸打磨具体要打磨哪些部分，蟹蟹

我们的喷金仪是SBC-12小型离子溅射仪　 型号:SBC-12　 现在金霸击穿了，想定购一个，从公司定购很慢的，现在急需，不知道大家都是从哪里购买金霸，提供一个电话看看别人家都是多少钱，最好上海有这样的公司就不至于耽误使用了

看了一份资料说质谱仪要求高真空的理由的，其中几点不理解，请高人解答。理由：1.离子的平均自由行程必须大于离子源到收集器的飞行路程。2.离子源内高的气压可能引起高达数千伏的加速电压放电。3.电离盒内的高气压导致离子—分子反应，改变质谱图样。